JP2014229492A - Electron gun and radiation generating device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子銃、及び放射線発生装置に関する。 The present invention relates to an electron gun and a radiation generator.
X線源などの放射線発生装置は、電子銃と、電子銃からの電子ビームが照射されるターゲットとを備えている。電子銃は、例えば下記特許文献に開示されているように、電子(熱電子)を放出可能なカソードと、カソードを支持して加熱するヒータと、ヒータを支持する支持電極とを備えている。 A radiation generating apparatus such as an X-ray source includes an electron gun and a target irradiated with an electron beam from the electron gun. As disclosed in, for example, the following patent document, the electron gun includes a cathode capable of emitting electrons (thermoelectrons), a heater that supports and heats the cathode, and a support electrode that supports the heater.
例えば電子銃に対する外力の作用によりカソード及びヒータの少なくとも一方の位置が変化すると、電子ビームの進行方向が変化したり、カソードが十分に加熱されなくなったりする可能性がある。その結果、電子銃及び放射線発生装置の性能が低下する可能性がある。 For example, if the position of at least one of the cathode and the heater changes due to the action of an external force on the electron gun, the traveling direction of the electron beam may change or the cathode may not be sufficiently heated. As a result, the performance of the electron gun and the radiation generator may be reduced.
本発明は、性能の低下が抑制される電子銃及び放射線発生装置を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide an electron gun and a radiation generation apparatus in which a decrease in performance is suppressed.
本発明に係る電子銃は、熱電子を放出可能であり、所定軸と直交する電子放出面を有する第1部分、及び前記所定軸と直交する面内における外形が前記第1部分よりも小さい第2部分を含むカソードと、前記第2部分を支持するヒータと、を備え、前記ヒータは、前記第2部分の少なくとも一部が配置される凹部を有する。 An electron gun according to the present invention is capable of emitting thermoelectrons, and has a first portion having an electron emission surface orthogonal to a predetermined axis, and an outer shape in a plane orthogonal to the predetermined axis smaller than that of the first portion. A cathode including two portions and a heater supporting the second portion, the heater having a recess in which at least a part of the second portion is disposed.
本発明によれば、ヒータの凹部にカソードの第2部分の少なくとも一部が配置されることにより、ヒータに対するカソードの位置の変化が抑制される。凹部の内面とカソード(第2部分)の表面とが接触することにより、例えばその内面と交差する方向に関するカソードの位置の変化が抑制される。また、凹部の内面とカソードの表面とが接触することにより、カソードとヒータとの接触面積が大きくなり、カソードとヒータとの間の摩擦力が大きくなる。これにより、ヒータに対するカソードの位置の変化が抑制される。また、カソードとヒータとの接触面積が大きくなると、カソードはヒータで効率良く加熱される。したがって、性能の低下が抑制される。また、本発明によれば、第2部分がヒータで支持され、第2部分よりも大きい第1部分に電子放出面が設けられる。これにより、第1部分の電子放出面から多くの熱電子が安定して放出される。 According to the present invention, the change in the position of the cathode with respect to the heater is suppressed by disposing at least a part of the second portion of the cathode in the recess of the heater. When the inner surface of the recess comes into contact with the surface of the cathode (second portion), for example, a change in the position of the cathode with respect to the direction intersecting the inner surface is suppressed. Further, the contact area between the inner surface of the recess and the surface of the cathode increases the contact area between the cathode and the heater, and the frictional force between the cathode and the heater increases. Thereby, the change of the position of the cathode with respect to a heater is suppressed. Further, when the contact area between the cathode and the heater is increased, the cathode is efficiently heated by the heater. Accordingly, a decrease in performance is suppressed. According to the present invention, the second portion is supported by the heater, and the electron emission surface is provided in the first portion larger than the second portion. Thereby, many thermoelectrons are stably emitted from the electron emission surface of the first portion.
本発明に係る電子銃において、前記ヒータは、前記所定軸と直交する面内の第1軸と平行な方向に関して前記所定軸の一側と他側とのそれぞれに配置され、前記第2部分を挟んで支持する2つのヒータを含み、前記凹部の内面は、前記面内の前記第1軸と直交する第2軸と平行な方向に関して前記所定軸の一側の前記第2部分の表面の少なくとも一部、及び他側の前記第2部分の表面の少なくとも一部のそれぞれに接触してもよい。第1軸と平行な方向に関して所定軸(カソード)の一側及び他側のそれぞれにヒータが配置されることにより、その第1軸と平行な方向に関するカソードの位置の変化が抑制される。第2軸と平行な方向に関して所定軸(カソード)の一側及び他側の第2部分の表面の少なくとも一部がヒータで支持されることにより、その第2軸と平行な方向に関するカソードの位置の変化が抑制される。また、2つのヒータによって第2部分の表面の少なくとも4つの部位が支持されることにより、並進方向に関するカソードの変位のみならず、回転方向に関するカソードの変位も抑制される。 In the electron gun according to the present invention, the heater is disposed on each of one side and the other side of the predetermined axis with respect to a direction parallel to the first axis in a plane orthogonal to the predetermined axis, and the second portion is Two heaters sandwiched and supported, and an inner surface of the recess is at least a surface of the second portion on one side of the predetermined axis with respect to a direction parallel to a second axis perpendicular to the first axis in the surface You may contact a part and at least a part of the surface of the second part on the other side. By arranging the heaters on one side and the other side of the predetermined axis (cathode) with respect to the direction parallel to the first axis, a change in the position of the cathode with respect to the direction parallel to the first axis is suppressed. The position of the cathode in the direction parallel to the second axis by supporting at least a part of the surface of the second part on one side and the other side of the predetermined axis (cathode) with respect to the direction parallel to the second axis. The change of is suppressed. In addition, since at least four portions of the surface of the second portion are supported by the two heaters, not only the displacement of the cathode in the translation direction but also the displacement of the cathode in the rotation direction is suppressed.
本発明に係る電子銃において、前記第2部分は、前記所定軸と実質的に平行で前記所定軸の周囲に配置され、前記凹部の内面の少なくとも一部が接触する第1表面と、前記所定軸と平行な軸と交差する第2表面と、を含み、前記ヒータは、前記凹部の外側に配置され、前記第2表面の少なくとも一部が接触する外面を有してもよい。第1表面が凹部の内面で支持されることにより、例えば所定軸と直交する面内におけるカソードの変位が抑制される。また、所定軸と平行な軸と交差する第2表面がヒータの外面で支持されることにより、例えば所定軸と平行な方向に関するカソードの変位が抑制される。 In the electron gun according to the present invention, the second portion is disposed substantially around the predetermined axis in parallel with the predetermined axis, and the first surface with which at least a part of the inner surface of the recess contacts, and the predetermined portion A second surface intersecting an axis parallel to the axis, and the heater may be disposed outside the recess and have an outer surface that contacts at least a part of the second surface. By supporting the first surface with the inner surface of the recess, for example, the displacement of the cathode in a plane orthogonal to the predetermined axis is suppressed. Further, the second surface intersecting the axis parallel to the predetermined axis is supported by the outer surface of the heater, so that, for example, the displacement of the cathode in the direction parallel to the predetermined axis is suppressed.
本発明に係る電子銃において、前記第2部分は棒状であり、前記第2部分の一端部が前記第1部分と接続され、前記カソードは、前記第2部分の他端部に接続され、前記所定軸と直交する面内における外形が前記第2部分よりも大きい第3部分を含んでもよい。第2部分の一端部側に第1部分が配置され、第2部分の他端部側に第3部分が配置されることにより、一端部側と他端部側との質量(重量)のバランスが向上する。これにより、外力が作用しても、例えば回転方向に関するカソードの変位が抑制される。 In the electron gun according to the present invention, the second part is rod-shaped, one end of the second part is connected to the first part, the cathode is connected to the other end of the second part, A third portion having an outer shape in a plane perpendicular to the predetermined axis may be included that is larger than the second portion. The first portion is disposed on one end portion side of the second portion, and the third portion is disposed on the other end portion side of the second portion, so that the mass (weight) balance between the one end portion side and the other end portion side is increased. Will improve. Thereby, even if an external force acts, for example, the displacement of the cathode in the rotation direction is suppressed.
本発明に係る電子銃において、前記ヒータを支持する支持電極を備え、前記支持電極の支持面は、前記ヒータが接触する第1領域と、前記第1領域とは異なる方向を向き、前記ヒータが接触する第2領域と、を含んでもよい。これにより、支持電極に対するヒータの位置の変化が抑制される。例えば、支持電極の第1領域とヒータとが接触することにより、第1領域と交差する方向に関するヒータの位置の変化が抑制される。支持電極の第2領域とヒータとが接触することにより、第2領域と交差する方向に関するヒータの位置の変化が抑制される。また、並進方向に関するヒータの変位のみならず、回転方向に関するカソードの変位も抑制される。また、ヒータの位置の変化が抑制されることにより、そのヒータに支持されるカソードの位置の変化も抑制される。 The electron gun according to the present invention includes a support electrode that supports the heater, and a support surface of the support electrode faces a first region that the heater contacts and a direction different from the first region, and the heater A second region in contact with the second region. Thereby, the change of the position of the heater with respect to a support electrode is suppressed. For example, when the first region of the support electrode is in contact with the heater, a change in the position of the heater in the direction intersecting the first region is suppressed. When the second region of the support electrode is in contact with the heater, a change in the position of the heater in the direction intersecting the second region is suppressed. Further, not only the displacement of the heater in the translation direction, but also the displacement of the cathode in the rotation direction is suppressed. In addition, since the change in the position of the heater is suppressed, the change in the position of the cathode supported by the heater is also suppressed.
本発明に係る電子銃は、熱電子が放出されるカソードと、前記カソードを支持するヒータと、前記ヒータを支持する支持電極と、を備え、前記支持電極の支持面は、前記ヒータが接触する第1領域と、前記第1領域とは異なる方向を向き、前記ヒータが接触する第2領域と、を含む。 An electron gun according to the present invention includes a cathode from which thermal electrons are emitted, a heater that supports the cathode, and a support electrode that supports the heater, and the support surface of the support electrode is in contact with the heater. A first region and a second region facing a direction different from the first region and contacting the heater.
本発明によれば、ヒータと接触する支持電極の支持面が、第1領域と、第1領域とは異なる方向を向く第2領域とを含み、それら第1領域及び第2領域のそれぞれがヒータに接触するため、支持電極に対するヒータの位置の変化が抑制される。例えば、支持電極の第1領域とヒータとが接触することにより、第1領域と交差する方向に関するヒータの位置の変化が抑制される。支持電極の第2領域とヒータとが接触することにより、第2領域と交差する方向に関するヒータの位置の変化が抑制される。また、並進方向に関するヒータの変位のみならず、回転方向に関するカソードの変位も抑制される。また、ヒータの位置の変化が抑制されることにより、そのヒータに支持されるカソードの位置の変化も抑制される。したがって、性能の低下が抑制される。 According to the present invention, the support surface of the support electrode in contact with the heater includes the first region and the second region facing in a direction different from the first region, and each of the first region and the second region is a heater. Therefore, the change in the position of the heater with respect to the support electrode is suppressed. For example, when the first region of the support electrode is in contact with the heater, a change in the position of the heater in the direction intersecting the first region is suppressed. When the second region of the support electrode is in contact with the heater, a change in the position of the heater in the direction intersecting the second region is suppressed. Further, not only the displacement of the heater in the translation direction, but also the displacement of the cathode in the rotation direction is suppressed. In addition, since the change in the position of the heater is suppressed, the change in the position of the cathode supported by the heater is also suppressed. Accordingly, a decrease in performance is suppressed.
本発明に係る電子銃において、前記支持面は、凹面を含んでもよい。凹面を含む支持面でヒータが支持されることにより、ヒータの変位が抑制され、そのヒータに支持されるカソードの変位も抑制される。 In the electron gun according to the present invention, the support surface may include a concave surface. Since the heater is supported by the support surface including the concave surface, the displacement of the heater is suppressed, and the displacement of the cathode supported by the heater is also suppressed.
本発明に係る電子銃において、前記カソードの前記ヒータに支持される部位とは異なる部位を支持する支持部材を有してもよい。カソードが、ヒータのみならず支持部材にも支持されることにより、カソードの位置が良好に固定される。 The electron gun according to the present invention may include a support member that supports a portion of the cathode that is different from the portion supported by the heater. Since the cathode is supported not only by the heater but also by the support member, the position of the cathode is fixed well.
本発明に係る電子銃において、前記第2部分は、孔部を有し、前記支持部材の少なくとも一部は、前記孔部に配置されてもよい。これにより、カソードと支持部材との相対位置の変化が抑制され、カソードの位置が良好に固定される。 In the electron gun according to the present invention, the second portion may have a hole, and at least a part of the support member may be disposed in the hole. Thereby, the change of the relative position of a cathode and a supporting member is suppressed, and the position of a cathode is fixed favorably.
本発明に係る放射線発生装置は、上記いずれかの電子銃と、前記電子銃からの電子ビームが照射されるターゲットと、を備える。 A radiation generating apparatus according to the present invention includes any one of the above electron guns and a target irradiated with an electron beam from the electron gun.
本発明によれば、電子銃の性能の低下が抑制されるため、その電子銃を備える放射線発生装置の性能の低下も抑制される。 According to the present invention, since the decrease in the performance of the electron gun is suppressed, the decrease in the performance of the radiation generating apparatus including the electron gun is also suppressed.
本発明に係る電子銃及び放射線発生装置によれば、性能の低下が抑制される。 According to the electron gun and the radiation generation apparatus according to the present invention, performance degradation is suppressed.
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下で説明する各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。 Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited thereto. The requirements of the embodiments described below can be combined as appropriate. Some components may not be used.
以下の説明においては、XYZ直交座標系を設定し、このXYZ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。所定面内の一方向をX軸方向、所定面内においてX軸方向と直交する方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向のそれぞれと直交する方向をZ軸方向とする。また、X軸、Y軸、及びZ軸まわりの回転(傾斜)方向をそれぞれ、θX、θY、及びθZ方向とする。X軸は、YZ平面と直交する。Y軸は、XZ平面と直交する。Z軸は、XY平面と直交する。XY平面は、X軸及びY軸を含む。YZ平面は、Y軸及びZ軸を含む。XZ平面は、X軸及びZ軸を含む。 In the following description, an XYZ orthogonal coordinate system is set, and the positional relationship of each part will be described with reference to this XYZ orthogonal coordinate system. One direction in the predetermined plane is defined as the X-axis direction, the direction orthogonal to the X-axis direction in the predetermined plane is defined as the Y-axis direction, and the direction orthogonal to each of the X-axis direction and the Y-axis direction is defined as the Z-axis direction. Further, the rotation (inclination) directions around the X axis, Y axis, and Z axis are the θX, θY, and θZ directions, respectively. The X axis is orthogonal to the YZ plane. The Y axis is orthogonal to the XZ plane. The Z axis is orthogonal to the XY plane. The XY plane includes an X axis and a Y axis. The YZ plane includes a Y axis and a Z axis. The XZ plane includes an X axis and a Z axis.
<第1実施形態>
第1実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係る電子銃1の一例を示す図である。電子銃1は、電子(熱電子)を放出可能なカソード2と、ウェーネルト電極3と、アノード4とを備えている。カソード2とウェーネルト電極3とアノード4とは、共通の軸Jに沿って配置される。本実施形態において、軸Jは、Z軸と平行である。軸Jは、電子銃1の中心軸を含む。ウェーネルト電極3及びアノード4は、カソード2よりも+Z側に配置される。
<First Embodiment>
A first embodiment will be described. FIG. 1 is a diagram illustrating an example of an electron gun 1 according to the present embodiment. The electron gun 1 includes a
ウェーネルト電極3は、カソード2からの電子が通過可能な開口(通路)3Kを有する。ウェーネルト電極3は、開口3Kの中心と軸Jとが一致するように配置される。アノード4は、カソード2からの電子が通過可能な開口(通路)4Kを有する。アノード4は、開口4Kの中心と軸Jとが一致するように配置される。
The Wehnelt electrode 3 has an opening (passage) 3K through which electrons from the
カソード2は、電子を発生可能な電子源である。カソード2は、加熱されることにより電子(熱電子)を放出可能である。カソード2は、熱電子放出特性を有する希土類六ホウ化物で形成される。カソード2は、六ホウ化ランタン(LaB6)を含んでもよいし、六ホウ化セリウム(CeB6)を含んでもよい。
The
ウェーネルト電極3は、カソード2から放出された電子を集束する。アノード4は、カソード2から放出された電子を加速する。カソード2から放出された電子は、カソード2とアノード4との間の電場により加速される。カソード2から放出された電子が集束され、加速されることにより、電子銃1から電子ビームが射出される。
The Wehnelt electrode 3 focuses the electrons emitted from the
電子(電子ビーム)の少なくとも一部は、軸Jに沿って進行する。本実施形態において、電子(電子ビーム)は、+Z方向に進行する。本実施形態において、+Z方向(+Z側)は、電子ビームの進行方向である。−Z方向(−Z側)は、電子ビームの進行方向の逆方向である。 At least a part of the electrons (electron beam) travels along the axis J. In the present embodiment, electrons (electron beams) travel in the + Z direction. In the present embodiment, the + Z direction (+ Z side) is the traveling direction of the electron beam. The −Z direction (−Z side) is the reverse direction of the traveling direction of the electron beam.
電子銃1は、カソード2を支持するヒータ5と、ヒータ5を支持する支持電極6と、支持電極6を支持する絶縁部材7とを備えている。
The electron gun 1 includes a
ヒータ5は、カソード2を支持する。ヒータ5の少なくとも一部は、カソード2と接触する。ヒータ5は、カソード2を加熱可能である。ヒータ5は、通電可能な部材である。ヒータ5は、炭素(グラファイト)を含む部材である。ヒータ5に電流が通されると、ヒータ5の温度が上昇する。これにより、ヒータ5によってカソード2が加熱される。
The
カソード2は、2つのヒータ5に挟まれて支持される。ヒータ5は、軸Jに対して一側(+X側)及び他側(−X側)のそれぞれに配置される。以下の説明において、カソード2を挟む2つのヒータ5のうち一方のヒータ5を適宜、第1ヒータ51と称し、他方のヒータ5を適宜、第2ヒータ52と称する。本実施形態において、第1ヒータ51、カソード2、及び第2ヒータ52は、X軸方向に配置される。第1ヒータ51の少なくとも一部は、カソード2の+X側に配置される。第2ヒータ52の少なくとも一部は、カソード2の−X側に配置される。第1ヒータ51と第2ヒータ52とは、カソード2を挟んで支持する。
The
支持電極6は、ヒータ5を支持する。支持電極6の少なくとも一部は、ヒータ5と接触する。支持電極6は、第1ヒータ51及び第2ヒータ52のそれぞれを支持するように、2つ設けられる。以下の説明において、第1ヒータ51を支持する支持電極6を適宜、第1支持電極61と称し、第2ヒータ52を支持する支持電極6を適宜、第2支持電極62と称する。第1支持電極61とカソード2との間に第1ヒータ51が配置される。第2支持電極62とカソード2との間に第2ヒータ52が配置される。第1ヒータ51、カソード2、及び第2ヒータ52は、第1支持電極61と第2支持電極62とに挟まれて支持される。支持電極6に電流が通されると、電気抵抗が高いヒータ5が発熱(ジュール発熱)する。ヒータ5が発熱することによって、カソード2が加熱される。
The support electrode 6 supports the
図2は、本実施形態に係るカソード2の一例を示す斜視図である。図3は、本実施形態に係るヒータ5の一例を示す斜視図である。図4は、2つのヒータ5(第1ヒータ51及び第2ヒータ52)によって第2部分12が支持されている状態の一例を示す正面図である。図5は、図4のA−A線矢視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of the
カソード2は、電子(熱電子)が放出される電子放出面8を有する第1部分11と、ヒータ5に支持される第2部分12とを含む。本実施形態において、電子放出面8は、平面(平坦)である。カソード2は、電子放出面8とXY平面とが平行となるように、ヒータ5に支持される。カソード2は、電子放出面8と軸J(Z軸)とが直交するように、ヒータ5に支持される。
The
軸Jと直交するXY平面内において、第2部分12の外形は、第1部分11の外形よりも小さい。XY平面内における第1部分11の外形は、円形である。電子放出面8は、円形である。第1部分11は、プレート状(円板状)である。第1部分11は、電子放出面8の反対方向を向く面9を有する。電子放出面8は、+Z方向を向く。面9は、−Z方向を向く。カソード2は、電子放出面8の中心と軸Jとが一致するように、ヒータ5に支持される。
In the XY plane orthogonal to the axis J, the outer shape of the
第2部分12は、棒状である。本実施形態において、第2部分12は、円柱状である。XY平面内における第2部分12の外形は、円形である。カソード2は、棒状の第2部分12の長手方向と平行な軸と軸Jとが一致するように、ヒータ5に支持される。XY平面内において、第1部分11の外形は、第2部分12の外形よりも大きい。第2部分12は、第1部分11に対して、電子放出面8が面する空間とは反対側の空間(面9が面する空間)に配置される。第2部分12は、第1部分11に対して−Z側に配置される。第2部分12は、第1部分11の面9に接続されるように配置される。
The
第2部分12の表面は、軸Jの周囲に配置される表面145と、電子放出面8の反対方向を向く表面21とを含む。以下の説明において、表面145を適宜、側面145、と称し、表面21を適宜、下面21、と称する。側面145は、Z軸(軸J)と実質的に平行である。Z軸(軸J)と実質的に平行とは、Z軸(軸J)と完全に平行である状態を含む。また、Z軸(軸J)と実質的に平行とは、Z軸(軸J)に対して、例えば1度以上10度以下で傾斜している状態を含む。下面21は、−Z方向を向く。本実施形態において、下面21は、XY平面と実質的に平行である。
The surface of the
ヒータ5は、第2部分12の少なくとも一部が配置される凹部30を有する。凹部30は、内面35を有する。内面35の少なくとも一部は、第2部分12の側面145と接触可能である。カソード2の少なくとも一部と接触可能なヒータ5の内面35は、カソード2を支持する支持面として機能する。
The
内面35は、第1内面351と、第1内面351とは異なる方向を向く第2内面352とを含む。第1内面351と第2内面352とは、Y軸方向に配置される。第1内面351及び第2内面352はそれぞれ、平面(平坦)である。第1内面351の外形と第2内面352の外形とは、実質的に等しい。本実施形態において、第1内面351の外形及び第2内面352の外形はそれぞれ、長方形である。第1内面351及び第2内面352のそれぞれは、Z軸(軸J)と実質的に平行に配置される。第1内面351及び第2内面352のそれぞれは、XZ平面(YZ平面)に対して傾斜する。第1内面351と第2内面352とがなす角度は、180度よりも小さい。本実施形態において、凹部30は、所謂、三角溝を含む。第1内面351及び第2内面352のそれぞれは、側面145と対向可能である。
The
ヒータ5は、凹部30(内面35)の外側に配置される外面31を有する。外面31は、凹部30(内面35)に対して+Y側及び−Y側のそれぞれに配置される。外面31は、YZ平面と実質的に平行である。
The
図4及び図5に示すように、第2部分12の少なくとも一部が凹部30に配置される。ヒータ5は、第2部分12を支持する。第1ヒータ51及び第2ヒータ52は、第2部分12を挟んで支持する。第1ヒータ51は、軸Jの+X側に配置される。第2ヒータ52は、軸Jの−X側に配置される。第1ヒータ51及び第2ヒータ52は、第1ヒータ51の凹部30と第2ヒータ52の凹部30とが対向するように配置される。第2部分12は、第1ヒータ51の凹部30と第2ヒータ52の凹部30との間に配置される。第1ヒータ51の凹部30と第2ヒータ52の凹部30との間に第2部分12が配置されている状態において、第1ヒータ51の外面31と第2ヒータ52の外面31とが間隙を介して対向する。
As shown in FIGS. 4 and 5, at least a part of the
図5に示すように、第1ヒータ51と第2ヒータ52との間に、第2部分12が配置される第1間隙(第1空間)41と、第2部分12が配置されない第2間隙(第2空間)42とが形成される。第1間隙41は、第1ヒータ51の内面35と第2ヒータ52の内面35との間の空間を含む。第2間隙42は、第1ヒータ51の外面31と第2ヒータ52の外面31との間の空間を含む。第2間隙42は、Y軸方向に関して第1間隙41の両側(+Y側及び−Y側)に形成される。X軸方向に関して、第2間隙42の寸法W2は、第1間隙41の寸法W1よりも小さい。
As shown in FIG. 5, a first gap (first space) 41 in which the
第1ヒータ51及び第2ヒータ52それぞれの第1内面351及び第2内面352は、第2部分12の側面145と接触可能である。第1ヒータ51の第1内面351と第2内面352とは、側面145と同時に接触可能である。第2ヒータ52の第1内面351と第2内面352とは、側面145と同時に接触可能である。
The first
本実施形態において、凹部30の内面35は、Y軸方向に関して軸Jの一側(+Y側)の第2部分12の側面145の少なくとも一部、及び他側(−Y側)の第2部分12の側面145の少なくとも一部のそれぞれに接触する。本実施形態において、第1ヒータ51の第1内面351が、軸Jに対して−Y側であって+X側の側面145の部位401と接触する。第1ヒータ51の第2内面352が、軸Jに対して+Y側であって+X側の側面145の部位402と接触する。第2ヒータ52の第1内面351が、軸Jに対して+Y側であって−X側の側面145の部位403と接触する。第2ヒータ52の第2内面352が、軸Jに対して−Y側であって−X側の側面145の部位404と接触する。本実施形態において、第1ヒータ51及び第2ヒータ52の第1内面351は、側面145と線接触する。第1ヒータ51及び第2ヒータ52の第2内面352は、側面145と線接触する。第2部分12は、部位401、部位402、部位403、及び部位404とは別の部位において、ヒータ5と接触しない。
In the present embodiment, the
図4に示すように、ヒータ5(第1ヒータ51及び第2ヒータ52)は、第2部分12と接触し、第1部分11とは接触しない。第2部分12がヒータ5に支持されている状態において、ヒータ5は、第1部分11の面9と離れる。
As shown in FIG. 4, the heater 5 (the first heater 51 and the second heater 52) is in contact with the
次に、本実施形態に係るカソード2を備える電子銃1の動作の一例について説明する。支持電極6に電流が通されると、ヒータ5が発熱する。ヒータ5が発熱することによって、カソード2が加熱される。カソード2が加熱されると、カソード2の電子放出面8から電子(熱電子)が放出される。カソード2から放出された電子は、ウェーネルト電極3及びアノード4によって集束及び加速され、電子ビームとなって対象物に照射される。
Next, an example of the operation of the electron gun 1 including the
電子放出面8は、第2部分12よりも大きい第1部分11に設けられる。電子放出面8の面積が大きいので、その電子放出面8から多くの電子が放出可能である。ヒータ5は、第1部分11とは接触せず、第1部分11から離れて配置される。ヒータ5は、電子放出面8からの電子の放出が阻害されないように、第2部分12を支持する。これにより、電子放出面8からの電子の放出が安定して行われる。
The
ヒータ5の凹部30に第2部分12の少なくとも一部が配置されることにより、カソード2の位置が固定される。電子銃1に、例えば衝撃、振動などに起因する外力が作用した場合でも、ヒータ5に対するカソード2の位置の変化が抑制される。また、凹部30の内面35と第2部分12の側面145とが接触することにより、カソード2とヒータ5との接触面積が大きくなり、その結果、カソード2とヒータ5との間の摩擦力が大きくなる。本実施形態においては、4つの部位401、部位402、部位403、及び部位404において、カソード2とヒータ5(第1ヒータ51及び第2ヒータ52)とが接触する。そのため、ヒータ5に対するカソード2の位置の変化が抑制される。
By disposing at least a part of the
また、カソード2とヒータ5との接触面積が大きくなると、カソード2はヒータ5で効率良く加熱される。また、カソード2とヒータ5との接触面積が大きいので、例えば加熱などによりカソード2が消耗(蒸発)しても、カソード2とヒータ5とは長期間接触し続けることができる。
When the contact area between the
本実施形態においては、凹部30の内面35は、第1内面351と第2内面352とを含む。第1内面351及び第2内面352と第2部分12とが接触することによって、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZ方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。このように、本実施形態においては、X軸、Y軸、及びZ軸の3つの並進方向に関するカソード2の位置の変化が抑制されるとともに、θX、θY、及びθZの3つの回転方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。
In the present embodiment, the
図5などを参照して説明したように、本実施形態においては、軸Jの周囲の4つの部位401、部位402、部位403、及び部位404において、内面35と側面145とが接触(線接触)する。これにより、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向にカソード2の位置の変化が十分に抑制される。
As described with reference to FIG. 5 and the like, in the present embodiment, the
また、本実施形態によれば、第1ヒータ51と第2ヒータ52との間の第1間隙41に第2部分12が配置され、Y軸方向に関して第1間隙41の両側(+Y側及び−Y側)に、第1間隙41よりも小さい第2間隙42が形成される。これにより、第1間隙41に配置されている第2部分12が、第1間隙41の外側に移動することが抑制される。したがって、カソード2の位置が変化したり、第1ヒータ51と第2ヒータ52との間からカソード2が脱落したりすることが抑制される。
Further, according to the present embodiment, the
以上説明したように、本実施形態によれば、カソード2の位置が変化することが抑制される。また、カソード2が第1ヒータ51と第2ヒータ52との間から脱落することが抑制される。本実施形態において、カソード2は、第2部分12と、その第2部分12の一端部側に配置され、第2部分12よりも大きい第1部分11とを含み、第2部分12がヒータ5によって支持される。そのため、カソード2が十分に保持されないと、カソード2が動いてしまう可能性が高くなる。例えば、第2部分12の一端部側と他端部側との重量のバランスにより、カソード2が回転方向に変位(回転)してしまう可能性が高くなる。本実施形態によれば、ヒータ5に凹部30が形成され、その凹部30に第2部分12の少なくとも一部が配置されるので、カソード2の位置が良好に固定される。
As described above, according to this embodiment, the change in the position of the
また、本実施形態によれば、ヒータ5は、例えば電子放出面8の中心と軸Jとが一致し続けるように、カソード2を支持可能である。また、ヒータ5は、電子放出面8がXY平面に対して傾斜しないように、カソード2を支持可能である。そのため、例えば電子ビームの進行方向の変化が抑制される。また、カソード2とヒータ5との接触面積が大きいので、ヒータ5によってカソード2が効率良く加熱される。また、カソード2とヒータ5との接触面積が大きいので、加熱などによりカソード2の一部が消耗しても、カソード2とヒータ5とは長期間接触し続けることができる。そのため、電子銃1の性能の低下が抑制され、電子銃1の長寿命化及び信頼性の向上を図ることができる。
Further, according to the present embodiment, the
<第2実施形態>
第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略又は省略する。
Second Embodiment
A second embodiment will be described. In the following description, the same or equivalent components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is simplified or omitted.
図6は、凹部30Bを有するヒータ5Bの一例を示す斜視図である。図7は、2つのヒータ5Bで第2部分12が支持されている状態の一例を示す断面図である。ヒータ5Bの凹部30Bは、内面35Bを有する。内面35Bは、XZ平面と平行な第1内面351Bと、XZ平面と平行であり、間隙を介して第1内面351Bと対向する第2内面352Bと、YZ平面と平行であり、第1内面351Bと第2内面352Bとを結ぶ第3内面353Bとを含む。本実施形態において、凹部30Bは、所謂、方形溝を含む。図7に示すように、2つのヒータ5Bは、第2部分12を挟んで支持する。第1ヒータ51Bの内面35Bは、軸Jよりも+X側に配置される。第2ヒータ52Bの内面35Bは、軸Jよりも−X側に配置される。第1ヒータ51Bの内面35Bは、軸Jよりも−Y側の側面145の部位401と、軸Jよりも+Y側の側面145の部位402と、部位401と部位402との間の部位405とに接触する。第2ヒータ52Bの内面35Bは、軸Jよりも+Y側の側面145の部位403と、軸Jよりも−Y側の側面145の部位404と、部位403と部位404との間の部位406とに接触する。内面35Bは、部位401、部位402、部位403、部位404、部位405、及び部位406のそれぞれにおいて、側面145と線接触する。なお、本実施形態において、内面35Bは、部位401〜部位406の少なくとも一つと接触しなくてもよい。例えば、内面35Bは、部位405及び部位406の一方又は両方と接触しなくてもよい。図6及び図7に示す例においても、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。
FIG. 6 is a perspective view showing an example of a
図8は、2つのヒータ5Cで第2部分12が支持されている状態の一例を示す断面図である。図8に示すように、ヒータ5Cの凹部30Cの内面35Cが、側面145の部位401〜部位410と接触(線接触)してもよい。部位401〜部位410は、軸Jを囲むように配置される。図8に示す例においても、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of a state in which the
図9は、2つのヒータ5Dで第2部分12が支持されている状態の一例を示す断面図である。図9に示すように、ヒータ5Dの凹部30Dの内面35Dのほぼ全部の領域が、側面145と接触してもよい。内面35Dのほぼ全部の領域が側面145と接触するように、凹部30D及び第2部分12の形状が定められる。ヒータ5Dと第2部分12との接触面積が大きいので、大きな摩擦力が得られる。また、ヒータ5Dによりカソード2は効率良く加熱される。図9に示す例においても、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of a state in which the
<第3実施形態>
第3実施形態について説明する。図10は、本実施形態に係るヒータ5Eの一例を示す斜視図である。図11は、2つのヒータ5Eで第2部分12が支持されている状態の一例を示す断面図である。ヒータ5Eは、凹部30Eを有する。凹部30Eの内面35Eは、凹面を含む。内面35Eは、曲面を含む。内面35Eは、Z軸(軸J)と平行である。内面35Eは、軸Jの周囲の一部に配置される。
<Third Embodiment>
A third embodiment will be described. FIG. 10 is a perspective view showing an example of the
図11に示すように、XY平面内において、内面35Eの曲率は、第2部分12の側面145の曲率よりも小さい。内面35Eの一部と側面145とが接触する。第1ヒータ51Eと第2ヒータ52Eとの間に、第2部分12が配置される第1間隙41Eと、第2部分12が配置されない第2間隙42Eとが形成される。第2間隙42Eは、Y軸方向に関して第1間隙41Eの両側(+Y側及び−Y側)に形成される。X軸方向に関して、第2間隙42Eの寸法W2は、第1間隙41Eの寸法W1よりも小さい。
As shown in FIG. 11, the curvature of the
本実施形態においても、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するカソード2の位置の変化が抑制される。なお、第1ヒータ51E及び第2ヒータ52Eの弾性変形の範囲内で、第1ヒータ51Eと第2ヒータ52Eとが第2部分12を挟む力を強くしてもよい。例えば、内面35Eと側面145との接触面積が大きくなるように、弾性変形の範囲内で、第1ヒータ51Eと第2ヒータ52Eとが第2部分12に押し付けられてもよい。また、第1ヒータ51E及び第2ヒータ52Eによる第2部分12の支持が安定するように、弾性変形の範囲内で、第1ヒータ51Eと第2ヒータ52Eとが第2部分12を挟んでもよい。
Also in the present embodiment, the change in the position of the
<第4実施形態>
第4実施形態について説明する。図12は、本実施形態に係る2つのヒータ5Fでカソード2Fの第2部分12Fが支持されている状態の一例を示す斜視図である。図13は、本実施形態に係るヒータ5Fの一例を示す斜視図である。
<Fourth embodiment>
A fourth embodiment will be described. FIG. 12 is a perspective view showing an example of a state in which the
図12に示すように、本実施形態において、第2部分12Fの表面は、Z軸(軸J)と実質的に平行で、軸Jの周囲に配置される側面145Fと、Z軸と交差する第1面151と、Z軸と交差する第2面152とを含む。Z軸(軸J)と実質的に平行とは、Z軸(軸J)と完全に平行である状態を含む。また、Z軸(軸J)と実質的に平行とは、Z軸(軸J)に対して、例えば1度以上10度以下で傾斜している状態を含む。側面145Fは、第1側面153と、Z軸方向に関して第1側面153の一側(+Z側)及び他側(−Z側)のそれぞれに配置される第2側面14とを含む。第1側面153は、Z軸(軸J)と実質的に平行であり、軸Jの周囲に配置される。第2側面14は、Z軸(軸J)と実質的に平行であり、軸Jの周囲に配置される。軸Jに対する放射方向に関して、軸Jと第1側面153との距離は、軸Jと第2側面14との距離よりも短い。すなわち、第2部分12Fにおいて、第1側面153を含む部分は、第2側面14を含む部分よりも細い。換言すれば、XY平面内において、第1側面153の外形は、第2側面14の外形よりも小さい。
As shown in FIG. 12, in the present embodiment, the surface of the
第1面151は、第1側面153の+Z側の第2側面14と第1側面153とを結ぶように配置される。本実施形態において、第1面151は、Z軸と直交する。第1面151は、XY平面と平行である。第1面151は、−Z方向を向く。第2面152は、第1側面153と第1側面153の−Z側の第2側面14とを結ぶように配置される。本実施形態において、第2面152は、Z軸と直交する。第2面152は、XY平面と平行である。第2面152は、+Z方向を向く。第1面151と第2面152とは間隙を介して対向する。第1面151と第2面152とは平行である。XY平面内において、第1面151及び第2面152のそれぞれは環状(リング状)である。なお、第1面151及び第2面152の一方又は両方が、XY平面に対して傾斜してもよい。なお、第1面151及び第2面152の一方又は両方が、曲面を含んでもよい。
The
本実施形態において、第2部分12Fは、凹部10Fを有する。凹部10Fは、軸Jを囲むように形成される。凹部10Fは、内面15Fを有する。内面15Fは、第1面151、第2面152、及び第1側面153を含む。
In the present embodiment, the
図12及び図13に示すように、ヒータ5Fは、第2部分12Fの少なくとも一部が配置される凹部30Fを有する。凹部30Fは、内面35Fを有する。本実施形態において、凹部30Fは、所謂、方形溝を含む。なお、凹部30Fが、所謂、三角溝を含んでもよい。
As shown in FIGS. 12 and 13, the
ヒータ5Fは、凹部30F(内面35F)の外側に配置され、第1面151の少なくとも一部が接触する第1外面37Fと、第2面152の少なくとも一部が接触する第2外面38Fとを有する。第1外面37Fは、+Z方向を向く。第1外面37Fは、XY平面と平行である。第2外面38Fは、−Z方向を向く。第2外面38Fは、XY平面と平行である。カソード2Fの少なくとも一部と接触可能なヒータ5Fの第1、第2外面37F、38Fは、カソード2Fを支持する支持面として機能する。なお、第1外面37F及び第2外面38Fの一方又は両方が、XY平面に対して傾斜してもよい。なお、第1外面37F及び第2外面38Fの一方又は両方が、曲面を含んでもよい。
The
本実施形態において、ヒータ5Fは、少なくとも一部が第2部分12Fの凹部10Fに配置される凸部36Fを有する。凸部36Fに、+Z方向を向く第1外面37Fと、−Z方向を向く第2外面38Fとが配置される。また、凸部36Fは、第1外面37Fと第2外面38Fとを結ぶ第3外面39Fを有する。
In the present embodiment, the
図12に示すように、凹部30Fの内面35Fの少なくとも一部が、第2側面14と接触する。内面35Fと第2側面14とは、例えば線接触する。また、凹部30Fに第2部分12Fの少なくとも一部が配置された状態で、ヒータ5Fの凸部36Fの少なくとも一部が、第2部分12Fの凹部10Fに配置される。凸部36Fの少なくとも一部が凹部10Fに配置された状態において、第1外面37Fと第1面151とが接触し、第2外面38Fと第2面152とが接触する。凸部36Fの少なくとも一部が凹部10Fに配置された状態において、凸部36F(ヒータ5F)の少なくとも一部と第1側面153とが接触(線接触)する。
As shown in FIG. 12, at least a part of the
以上説明したように、本実施形態によれば、第2側面14が凹部30Fの内面35Fと接触することにより、少なくともXY平面におけるカソード2Fの変位(X軸、Y軸、及びθZ方向に関する変位)が抑制される。また、θX、θY方向に関するカソード2Fの変位も抑制される。また、第1面151がヒータ5Fの第1外面37Fと接触し、第2面152がヒータ5Fの第2外面38Fと接触することにより、少なくともZ軸方向に関するカソード2Fの変位が抑制される。また、θX及びθY方向に関するカソード2Fの変位も抑制される。また、ヒータ5F(凸部36F)の少なくとも一部が第1側面153と接触することによっても、カソード2Fの変位が抑制される。
As described above, according to the present embodiment, the
なお、本実施形態において、凹部10Fに配置された凸部36Fが、第1側面153と接触しなくてもよい。
In the present embodiment, the
図14は、本実施形態に係る2つのヒータ5Gでカソード2Fの第2部分12Fが支持されている状態の一例を示す斜視図である。図15は、本実施形態に係るヒータ5Gの一例を示す斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view showing an example of a state in which the
カソード2Fの第2部分12Fに凹部10Fが形成される。第2部分12Fの表面は、第1側面153及び第2側面14を含む側面145Fと、Z軸と交差する第1面151及び第2面152とを含む。凹部10Fの内面15Fは、第1面151、第2面152、及び第1側面153を含む。
A
図14及び図15に示すように、ヒータ5Gは、第2部分12Fの少なくとも一部が配置される凹部30Gを有する。凹部30Gは、内面35Gを有する。内面35Gは、凹面を含む。内面35Gは、曲面を含む。
As shown in FIGS. 14 and 15, the
ヒータ5Gは、凹部30G(内面35G)の外側に配置され、第1面151の少なくとも一部が接触する第1外面37Gと、第2面152の少なくとも一部が接触する第2外面38Gとを有する。第1外面37G及び第2外面38Gのそれぞれは、XY平面と平行である。なお、第1外面37G及び第2外面38Gの一方又は両方が、XY平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
The
ヒータ5Gは、少なくとも一部が第2部分12Fの凹部10Fに配置される凸部36Gを有する。凸部36Gに、+Z方向を向く第1外面37Gと、−Z方向を向く第2外面38Gとが配置される。また、凸部36Gは、第1外面37Gと第2外面38Gとを結ぶ第3外面39Gを有する。
The
図14に示すように、凹部30Gの内面35Gの少なくとも一部が、第2側面14と接触する。内面35Fと第2側面14とは、例えば線接触する。また、凹部30Gに第2部分12Gの少なくとも一部が配置された状態で、ヒータ5Gの凸部36Gの少なくとも一部が、第2部分12Fの凹部10Fに配置される。凸部36Gの少なくとも一部が凹部10Fに配置された状態において、第1外面37Gと第1面151とが接触し、第2外面38Gと第2面152とが接触する。凸部36Gの少なくとも一部が凹部10Fに配置された状態において、凸部36Gの第3外面39Gの少なくとも一部と第1側面153とが接触(線接触)する。
As shown in FIG. 14, at least a part of the
図14及び図15に示す例においても、カソード2Fの変位が抑制される。なお、図14及び図15に示す例において、凹部10Fに配置された凸部36G(第3外面39G)が、第1側面153と接触しなくてもよい。
Also in the example shown in FIGS. 14 and 15, the displacement of the
<第5実施形態>
第5実施形態について説明する。図16は、本実施形態に係る2つのヒータ5Hでカソード2Hの第2部分12Hが支持されている状態の一例を示す斜視図である。図17は、本実施形態に係るヒータ5Hの一例を示す斜視図である。
<Fifth Embodiment>
A fifth embodiment will be described. FIG. 16 is a perspective view showing an example of a state in which the
図16に示すように、本実施形態において、第2部分12Hの表面は、軸Jの周囲に配置される側面145Hと、Z軸と交差する第1面151Hとを含む。側面145Hは、第1側面153Hと、Z軸方向に関して第1側面153Hの一側(+Z側)及び他側(−Z側)のそれぞれに配置される第2側面14Hとを含む。第1側面153Hは、軸Jに対する放射方向に関して外側に向かって−Z方向に傾斜する。第1側面153Hは、曲面を含む。第1側面153Hは、軸Jの周囲に配置される。第2側面14Hは、Z軸(軸J)と実質的に平行であり、軸Jの周囲に配置される。軸Jに対する放射方向に関して、軸Jと第1側面153Hとの距離は、軸Jと第2側面14Hとの距離よりも短い。
As shown in FIG. 16, in the present embodiment, the surface of the
第1面151Hは、第1側面153Hの+Z側の第2側面14Hと第1側面153Hとを結ぶように配置される。本実施形態において、第1面151Hは、Z軸と直交する。第1面151Hは、XY平面と平行である。第1面151Hは、−Z方向を向く。XY平面内において、第1面151Hは、環状(リング状)である。第1側面153Hの−Z側の端部と第1側面153Hの−Z側の第2側面14Hとが結ばれる。
The
本実施形態において、第2部分12Hに、軸Jを囲む凹部10Hが形成される。凹部10Hは内面15Hを有する。内面15Hは、第1面151H、及び第1側面153Hを含む。
In the present embodiment, a
図16及び図17に示すように、ヒータ5Hは、第2部分12Hの少なくとも一部が配置される凹部30Hを有する。凹部30Hは、内面35Hを有する。内面35Hは、曲面を含む。軸Jに対する第1側面153Hの傾斜角度と、軸Jに対する内面35Hの傾斜角度とは、等しい。第1側面153Hは、内面35Hのほぼ全部の領域と接触可能である。
As shown in FIGS. 16 and 17, the
ヒータ5Hは、凹部30H(内面35H)の外側に配置され、第1面151Hの少なくとも一部が接触する外面37Hを有する。外面37Hは、+Z方向を向く。外面37Hは、XY平面と平行である。
The
図16に示すように、内面35Hのほぼ全部の領域と第1側面153Hとが接触し、外面37Hの少なくとも一部と第1面151Hとが接触する。内面35Hと第1側面153Hとが接触し、外面37Hと第1面151Hとが接触するように、凹部30H及び第2部分12H(凹部10H)の形状が定められている。
As shown in FIG. 16, almost the entire area of the
以上説明したように、本実施形態においては、内面35Hと第1側面153Hとが接触し、外面37Hと第1面151Hとが接触するので、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するカソード2Hの変位が抑制される。
As described above, in the present embodiment, since the
なお、本実施形態において、内面35Hの全部の領域が第1側面153Hと接触しなくてもよい。内面35Hの一部の領域と第1側面153Hとが接触し、内面35Hの一部の領域と第1側面153Hとが離れてもよい。
In the present embodiment, the entire area of the
図18は、本実施形態に係るヒータ5Jの一例を示す図である。ヒータ5Jは、図16に示したカソード2Hの第2部分12Hを支持可能である。第2部分12Hは、2つのヒータ5Jで挟まれて支持される。ヒータ5Jは、第2部分12Hの少なくとも一部が配置される凹部30Jを有する。凹部30Jは、内面35Jを有する。内面35Jは、第1内面351Jと、第1内面351Jとは異なる方向を向く第2内面352Jとを含む。第1内面351J及び第2内面352Jのそれぞれは、平面(平坦)である。軸Jに対する第1側面153Hの傾斜角度と、軸Jに対する第1内面351Jの傾斜角度と、軸Jに対する第2内面352Jの傾斜角度とは、等しい。第1内面351Jと第2内面352Jとは、第1側面153Hと同時に接触可能である。第1内面351Jと第1側面153Hの一部とが線接触する。第2内面352Jと第1側面153Hの一部とが線接触する。図18に示すヒータ5Jを用いて第2部分12Hを支持することによっても、カソード2Hの変位が抑制される。
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of the
<第6実施形態>
第6実施形態について説明する。図19は、2つのヒータ5Hでカソード2Hbが支持されている状態の一例を示す断面図である。カソード2Hbは、図16を参照して説明したような凹部10Hを有する。ヒータ5Hは、図16及び図17を参照して説明したような凹部30Hを有する。
<Sixth Embodiment>
A sixth embodiment will be described. FIG. 19 is a cross-sectional view showing an example of a state in which the cathode 2Hb is supported by two
本実施形態において、カソード2Hbを支持する支持部材19が設けられる。支持部材19は、カソード2Hbのヒータ5Hに支持される部位とは異なる部位を支持する。ヒータ5Hは、凹部10Hの内面15Hに接触し、その内面15Hを支持する。すなわち、カソード2Hbにおいてヒータ5Hに支持される部位は、内面15H(凹部10H)である。支持部材19は、内面15Hとは異なるカソード2Hbの一部を支持する。
In the present embodiment, a
支持部材19は、第2部分12Hbを支持する。支持部材19は、内面15Hとは異なる第2部分12Hbの一部を支持する。支持部材19は、第1部分11とは接触しない。支持部材19の少なくとも一部は、電子放出面8とは反対方向を向く第2部分12Hbの下面21と対向するように配置される。支持部材19は、下面21と接触するように配置されてもよい。
The
本実施形態において、第2部分12Hbは孔部20を有する。なお、孔部を、凹部と称してもよいし、開口と称してもよい。孔部20は、下面21に形成される。支持部材19の一部は、孔部20に配置される。支持部材19は、孔部20の内面に接触し、その孔部20の内面を支持する。
In the present embodiment, the second portion 12Hb has a
本実施形態において、支持部材19は、円錐状の部材である。孔部20の形状は、孔部20の内面の少なくとも一部と支持部材19とが接触するように定められている。
In the present embodiment, the
本実施形態において、カソード2Hbは、2つのヒータ5H及び支持部材19で支持される。そのため、カソード2Hbの位置が良好に固定される。本実施形態においては、下面21に形成された孔部20に支持部材19が配置される。これにより、支持部材19は、少なくともXY平面内におけるカソード2Hbの移動を抑制可能である。
In the present embodiment, the cathode 2Hb is supported by the two
なお、本実施形態において、支持部材19が複数設けられてもよい。その複数の支持部材19で、カソード2Hbの複数の部位のそれぞれが支持されてもよい。なお、カソード2Hbに孔部20が形成されなくてもよい。支持部材19は、孔部20が形成されていない下面21を支持してもよい。
In the present embodiment, a plurality of
なお、本実施形態においては、カソード2Hbを支持部材19で支持することとしたが、図4などを参照して説明したカソード2がヒータ及び支持部材19で支持されてもよいし、図12などを参照して説明したカソード2Fがヒータ及び支持部材19で支持されてもよい。
In the present embodiment, the cathode 2Hb is supported by the
<第7実施形態>
第7実施形態について説明する。図20は、2つのヒータ5でカソード2Kが支持されている状態の一例を示す図である。カソード2Kは、電子放出面8を有する第1部分11Kと、軸Jと直交するXY平面内における外形が第1部分11Kよりも小さい第2部分12Kと、XY平面内における外形が第2部分12Kよりも大きい第3部分13Kとを含む。第2部分12Kは、凹部を有しない。ヒータ5は、例えば図3などを参照して説明したような凹部30を有する。第2部分12Kの少なくとも一部は、ヒータ5の凹部30に配置される。第1部分11Kは、第2部分12Kの一端部(+Z側の端部)と接続される。第3部分13Kは、第2部分12Kの他端部(−Z側の端部)と接続される。第1部分11K及び第3部分13Kはそれぞれ、プレート状である。XY平面内において、第1部分11Kの外形と第3部分13Kの外形とは実質的に等しい。Z軸方向に関して、第1部分11Kの寸法と第3部分13Kの寸法とは実質的に等しい。カソード2Kの重心Gは、Z軸方向に関する第2部分12Kの中心と一致する。第1ヒータ51及び第2ヒータ52は、Z軸方向に関して第2部分12Kの中心を挟むように支持する。第1ヒータ51と第2ヒータ52との間にカソード2Kの重心Gが位置するように、カソード2Kが第1ヒータ51及び第2ヒータ52によって支持される。
<Seventh embodiment>
A seventh embodiment will be described. FIG. 20 is a diagram illustrating an example of a state in which the
カソード2Kの重心Gは、第1ヒータ51が接触するカソード2Kの第1接触面と、第2ヒータ52が接触するカソード2の第2接触面との間に位置する。第1接触面は、第1ヒータ51からの力が作用する面(作用面、支持面)である。第2接触面は、第2ヒータ52からの力が作用する面である。重心Gは、第1接触面の中心(支持点)と、第2接触面の中心(支持点)との間に位置する。
The center of gravity G of the
本実施形態において、第1ヒータ51及び第2ヒータ52よりも+Z側に配置される第2部分12の寸法Hcと、第1ヒータ51及び第2ヒータ52よりも−Z側に配置される第2部分12の寸法Hdとは、実質的に等しい。
In the present embodiment, the dimension Hc of the
図20に示す例においては、第2部分12Kの一端部側に第1部分11Kが配置され、第2部分12Kの他端部側に第3部分13Kが配置されており、一端部側と他端部側との質量(重量)のバランスが向上する。また、第1ヒータ51と第2ヒータ52との間にカソード2Kの重心Gが位置するようにカソード2Kが第1ヒータ51及び第2ヒータ52で支持されることにより、外力が作用しても、回転方向(例えばθX方向)に関するカソード2Kの変位(回転、傾斜)が抑制される。また、第1ヒータ51と第2ヒータ52との間にカソード2Kの重心Gが位置するようにカソード2Kを第1ヒータ51及び第2ヒータ52で支持する場合、Z軸方向に関するカソード2Kの寸法が大きくなることが抑制される。例えば、寸法Hdが大きくなることが抑制される。
In the example shown in FIG. 20, the
また、図20に示す例においては、第1部分11Kの電子放出面8の反対方向を向く第3部分13Kの面22が、電子放出面として利用可能である。例えば第1部分11Kの電子放出面8が劣化した場合、第3部分13Kの面22が電子放出面として利用されてもよい。
In the example shown in FIG. 20, the surface 22 of the
なお、上述の第1〜第6実施形態で説明したような、第3部分を有しないカソードについても、2つのヒータの間にカソードの重心Gが位置するように、そのカソードを2つのヒータで支持することにより、そのカソードの変位が抑制される。 Note that, as described in the first to sixth embodiments, the cathode having no third portion is also provided with two heaters so that the center of gravity G of the cathode is located between the two heaters. By supporting, the displacement of the cathode is suppressed.
なお、図20に示したカソード2Kが、図19などを参照して説明した支持部材19で支持されてもよい。カソード2Kを支持部材19で支持する場合、第3部分13Kの面22に、支持部材19の少なくとも一部が配置される孔部20が形成されてもよいし、孔部20が形成されなくてもよい。
The
なお、上述の各実施形態において、ヒータに支持される第2部分は、角柱状(例えば四角柱状)でもよい。すなわち、XY平面内において、第2部分の外形が多角形(例えば四角形)でもよい。 In each of the embodiments described above, the second portion supported by the heater may have a prismatic shape (for example, a quadrangular prism shape). That is, the outer shape of the second portion may be a polygon (for example, a quadrangle) in the XY plane.
<第8実施形態>
第8実施形態について説明する。図21は、本実施形態に係る支持電極6L、ヒータ5L、及びカソード2Lの一例を示す正面図である。図22は、図21のB−B線矢視図である。図23は、本実施形態に係る支持電極6L及びヒータ5Lの一例を示す斜視図である。なお、図1などに示したように、Z軸方向に関して支持電極はヒータよりも長い(大きい)場合がある。本実施形態においては、ヒータと接続される支持電極の一部を模式的に図示する。
<Eighth Embodiment>
An eighth embodiment will be described. FIG. 21 is a front view illustrating an example of the
本実施形態において、カソード2Lは、棒状である。カソード2Lは、ヒータ5Lに支持される部分(第2部分)12Lと、部分12Lの+Z側に配置され、XY平面内における外形が部分12Lよりも小さい先端部分111Lとを含む。先端部分111Lは、円錐状である。先端部分111Lが電子放出面8Lを有する。電子放出面8Lは、軸Jに対して傾斜する斜面を含む。なお、電子放出面8Lが曲面を含んでもよい。カソード2Lの部分12Lは、円柱状である。なお、電子放出面8Lが、XY平面と平行な平面でもよい。なお、カソード2Lが、上述の各実施形態で説明したような第1部分及び第2部分を有してもよい。なお、カソード2Lが、例えば図12、図16などを参照して説明したような、ヒータの少なくとも一部が配置される凹部を有してもよい。なお、カソード2L(部分12L)が角柱状(例えば四角柱状)でもよい。すなわち、XY平面内において、カソード2Lの外形が多角形(例えば四角形)でもよい。
In the present embodiment, the
カソード2Lを支持するヒータ5Lは、凹部を有しない。カソード2Lが対向するヒータ5Lの支持面50は、平面(平坦)である。カソード2Lは、2つのヒータ5Lに挟まれて支持される。なお、ヒータ5Lに、上述の各実施形態で説明したような、カソードの少なくとも一部が配置される凹部が形成されてもよい。換言すれば、ヒータ5Lの支持面50が、上述の各実施形態で説明したような、凹部の内面を含んでもよいし、凹部の外側の外面を含んでもよい。
The
支持電極6Lは、ヒータ5Lが対向する支持面60を有する。支持面60の少なくとも一部は、ヒータ5Lと接触可能である。支持電極6Lの支持面60は、第1支持面(第1領域)601と、第1支持面601とは異なる方向を向く第2支持面(第2領域)602とを含む。第1支持面601及び第2支持面602のそれぞれは、ヒータ5Lと接触可能である。第1支持面601と第2支持面602とは、ヒータ5Lと同時に接触可能である。
The
第1支持面601と第2支持面602とは、Y軸方向に配置される。第1支持面601及び第2支持面602はそれぞれ、平面(平坦)である。第1支持面601の外形と第2支持面602の外形とは、実質的に等しい。本実施形態において、第1支持面601及び第2支持面602の外形はそれぞれ、長方形である。第1支持面601及び第2支持面602はそれぞれ、Z軸(軸J)と実質的に平行に配置される。第1支持面601及び第2支持面602はそれぞれ、XZ平面(YZ平面)に対して傾斜する。第1支持面601と第2支持面602とがなす角度は、180度よりも小さい。
The
支持面60の中心(中央)は、支持面60の周縁領域よりも、ヒータ5Lから離れている。支持面60は、ヒータ5Lに対して凹む凹面を含む。支持電極6Lは、ヒータ5Lに対して凹む凹部63を有する。凹部63の内面は、支持面60を含む。
The center (center) of the
ヒータ5Lは、支持面60が対向可能な対向面70を有する。対向面70は、支持面50の反対方向を向く。支持面60は、対向面70の少なくとも一部と接触する。支持面60は、対向面70を支持する。対向面70を、被支持面70と称してもよいし、接触面70と称してもよい。本実施形態において、支持面60のほぼ全部の領域と対向面70とが接触するように、ヒータ5L及び支持電極6Lそれぞれの形状が定められている。対向面70は、支持面60の第1支持面601が接触する第1対向面701と、第2支持面602が接触する第2対向面702とを含む。
The
対向面70の中心(中央)は、対向面70の周縁領域よりも、支持電極6Lに近い。対向面70は、支持電極6Lに対して突出する凸面を含む。ヒータ5Lは、支持電極6Lに対して突出する凸部73を有する。凸部73の外面は、対向面70を含む。
The center (center) of the facing
図21及び図22に示すように、凸部73が凹部63に配置され、第1支持面601と第1対向面701とが接触し、第2支持面602と第2対向面702とが接触する。2つの支持電極6Lは、2つのヒータ5L、及びそれら2つのヒータ5Lに挟まれているカソード2Lを挟んで支持する。
As shown in FIGS. 21 and 22, the
以上説明したように、本実施形態によれば、ヒータ5Lと接触する支持電極6Lの支持面60が、第1支持面601と、第1支持面601とは異なる方向を向く第2支持面602とを含み、それら第1、第2支持面601、602のそれぞれがヒータ5Lに接触するため、支持電極6Lに対するヒータ5Lの位置の変化が抑制される。例えば、支持電極6Lの第1支持面601とヒータ5Lとが接触することにより、第1支持面601と交差する方向に関するヒータ5Lの位置の変化が抑制される。支持電極6Lの第2支持面602とヒータ5Lとが接触することにより、第2支持面602と交差する方向に関するヒータ6Lの位置の変化が抑制される。本実施形態においては、少なくともX軸、Y軸、θX、θY、及びθZ方向に関するヒータ5Lの変位が抑制される。また、支持面60と対向面70との接触面積が大きいため、支持面60と対向面70との摩擦力により、Z軸方向に関するヒータ5Lの変位も抑制される。すなわち、本実施形態においては、X軸、Y軸、Z軸、θX、θY、及びθZの6つの方向に関するヒータ5Lの変位が抑制される。また、ヒータ5Lの位置の変化が抑制されることにより、そのヒータ5Lに支持されるカソード2Lの位置の変化も抑制される。
As described above, according to the present embodiment, the
図24は、支持電極6M及びヒータ5Mの一例を示す斜視図である。支持電極6Mは、凹部63Mを有する。ヒータ5Mは、凸部73Mを有する。凹部63Mの内面は、ヒータ5Mを支持する支持電極6Mの支持面60Mを含む。凸部73Mの外面は、支持面60Mの少なくとも一部と接触するヒータ5Mの対向面70Mを含む。
FIG. 24 is a perspective view showing an example of the
支持電極6Mの支持面60Mは、第1支持面601Mと、第1支持面601Mとは異なる方向を向く第2支持面602Mと、第1支持面601M及び第2支持面602Mとは異なる方向を向く第3支持面603Mとを含む。第1支持面601M、第2支持面602M、及び第3支持面603Mのそれぞれは、ヒータ5Mと同時に接触可能である。
The
第1支持面601Mと第2支持面602Mと第3支持面603Mとは、Y軸方向に配置される。第3支持面603Mは、第1支持面601Mと第2支持面602Mとの間に配置される。第1支持面601M、第2支持面602M、第3支持面603Mはそれぞれ、平面(平坦)である。第1支持面601M、第2支持面602M、第3支持面603Mの外形はそれぞれ、長方形である。第1支持面601M、第2支持面602M、第3支持面603Mはそれぞれ、Z軸(軸J)と実質的に平行に配置される。第1支持面601M及び第2支持面602Mはそれぞれ、XZ平面(YZ平面)に対して傾斜する。第3支持面603Mは、YZ平面と平行である。 The first support surface 601M, the second support surface 602M, and the third support surface 603M are arranged in the Y-axis direction. The third support surface 603M is disposed between the first support surface 601M and the second support surface 602M. The first support surface 601M, the second support surface 602M, and the third support surface 603M are each flat (flat). The outer shapes of the first support surface 601M, the second support surface 602M, and the third support surface 603M are each rectangular. The first support surface 601M, the second support surface 602M, and the third support surface 603M are each disposed substantially parallel to the Z axis (axis J). The first support surface 601M and the second support surface 602M are inclined with respect to the XZ plane (YZ plane). The third support surface 603M is parallel to the YZ plane.
ヒータ5Mの対向面70Mは、第1支持面601M、第2支持面602M、及び第3支持面603Mがそれぞれ接触する第1対向面701M、第2対向面702M、及び第3対向面703Mを含む。支持面60Mのほぼ全部の領域と対向面70Mとが接触するように、ヒータ5M及び支持電極6Mそれぞれの形状が定められている。凸部73Mが凹部63Mに配置され、対向面701Mのそれぞれが、第1対向面701M、第2対向面702M、及び第3対向面703Mと接触する。これにより、支持電極6Mは、ヒータ5Mの変位を抑制しつつ、ヒータ5M及びカソード2Lを支持可能である。
The opposing surface 70M of the
図25は、支持電極6N及びヒータ5Nの一例を示す斜視図である。支持電極6Nは、凹部63Nを有する。ヒータ5Nは、凸部73Nを有する。ヒータ5Nを支持する支持電極6Nの支持面60Nは、凹部63Nの内面163と、凹部63Nの外側の外面164とを含む。図25に示す例において、凹部63Nの内面163は、XZ平面と平行な第1内面601Nと、XY平面と平行であり、間隙を介して第1内面601Nと対向する第2内面602Nと、第1内面601Nと第2内面602Nとを結ぶ第3内面603Nとを含む。第3内面603Nは、YZ平面と平行である。外面164は、凹部63Nの+Y側及び−Y側のそれぞれに配置される。外面164は、YZ平面と平行である。支持面60Nに接触するヒータ5Nの対向面70Nは、凸部73Nの外面165と、凸部73Nに対して+Y側及び−Y側に配置される面166とを含む。凹部63Nに凸部73Nが配置される。これにより、凹部63Nの内面163と凸部73Nの外面165とが接触する。また、凹部63Nに凸部73Nが配置された状態において、外面164と面166とが接触する。図25に示す例においても、支持電極6Nは、ヒータ5Nの変位を抑制しつつ、ヒータ5N及びカソード2Lを支持可能である。
FIG. 25 is a perspective view showing an example of the
図26は、支持電極6P及びヒータ5Pの一例を示す斜視図である。図26に示すように、支持電極6Pの支持面60Pは、曲面を含む。支持面60Pは、Z軸(軸J)を平行である。支持面60Pは、軸Jを囲むように曲がっている。支持面60Pは、異なる方向を向く複数の領域を有する。支持電極6Pに支持されるヒータ5Pは、支持面60Pのほぼ全部の領域と接触可能な対向面70Pを有する。図26に示す例においても、支持電極6Pは、ヒータ5Pの変位を抑制しつつ、ヒータ5P及びカソード2Lを支持可能である。
FIG. 26 is a perspective view showing an example of the
図27は、支持電極6Q及びヒータ5Qの一例を示す斜視図である。図27に示すように、支持電極6Qの支持面60Qは、曲面を含む。ヒータ5Qは、支持面60Qのほぼ全部の領域と接触可能な対向面70Qを有する。対向面70Qは、球体の表面の一部でもよいし、楕円体の表面の一部でもよい。図27に示す例においても、支持電極6Qは、ヒータ5Qの変位を抑制しつつ、ヒータ5Q及びカソード2Lを支持可能である。
FIG. 27 is a perspective view showing an example of the support electrode 6Q and the
なお、図23に示した例では、第1支持面601及び第2支持面602がY軸方向に配置されている。図28に示すように、第1支持面601及び第2支持面602がZ軸方向に配置されてもよい。図28に示す支持面60と接触可能な対向面70をヒータ5Lが有することにより、そのヒータ5Lの変位が抑制される。同様に、図24に示した支持電極60Mにおいて、第1支持面601M、第2支持面602M、及び第3支持面603MがZ軸方向に配置されるように、支持電極60Mが設けられてもよい。図25に示した支持電極60Nにおいて、凹部63Nの+Z側及び−Z側のそれぞれに外面164が配置されるように、支持電極60Nが設けられてもよい。
In the example shown in FIG. 23, the
なお、図29及び図30に示すように、支持電極6Rの支持面60R及び支持電極6Sの支持面60Sが凸面を含んでもよい。図29に示す例では、支持面60Rは、異なる方向を向く2つの平面を含む。なお、支持面60Rが、異なる方向を向く3以上の平面を含んでもよい。図30に示す例では、支持面60Sは曲面を含む。支持面(60Rなど)が凸面を含む場合、その支持面と対向するヒータの対向面が、支持面(60Rなど)と接触可能な凹面を含むことにより、支持電極(6Rなど)は、そのヒータを良好に支持可能である。
As shown in FIGS. 29 and 30, the support surface 60R of the
<第9実施形態>
第9実施形態について説明する。図31は、本実施形態に係るヒータ5Hb及び支持電極6Sの一例を示す図である。図31に示すように、ヒータ5Hbを支持する支持電極6Sが、第8実施形態で説明したような、異なる方向を向く少なくとも2つの領域を有する支持面60Sを有してもよい。ヒータ5Hbは、例えば図16及び図17を参照して説明したような凹部30Hを有し、図19を参照して説明したようなカソード2Hbを支持可能である。カソード2Hbは、ヒータ5Hb及び支持部材19で支持される。このように、上述の第1〜第8実施形態の各要件を組み合わせてもよい。図31に示す例では、支持電極6Sの支持面60Sの少なくとも一部が、軸Jに対する放射方向に関して外側に向かって−Z方向に傾斜する。傾斜する支持面60Sに支持されたヒータ5Hbが、カソード2Hbに対して−Z方向の力を加えてもよい。支持部材19は、ヒータ5Hbよりも−Z側でカソード2Hbを支持しており、カソード2Hbの変位が抑制される。
<Ninth Embodiment>
A ninth embodiment will be described. FIG. 31 is a diagram illustrating an example of the heater 5Hb and the
<第10実施形態>
第10実施形態について説明する。図32は、本実施形態に係る放射線発生装置100の一例を示す図である。放射線発生装置100は、電子銃1と、電子銃1からの電子ビームが照射されるターゲット102とを備えている。電子銃1は、上述の各実施形態で説明したカソード(2など)、ヒータ、及び支持電極の少なくとも一部を含む。放射線発生装置100は、電子銃1から射出された電子ビームを加速する電子ビーム加速装置101を備えている。ターゲット102は、電子ビーム加速装置101の終端部に配置される。ターゲット102は、例えばタングステンを含み、電子ビームの照射によりX線を発生する。ターゲット102から発生したX線は、例えばコリメータで集束され、対象物に照射される。
<Tenth Embodiment>
A tenth embodiment will be described. FIG. 32 is a diagram illustrating an example of the
本実施形態によれば、カソード及びヒータの少なくとも一方の変位が抑制され、電子銃1から射出される電子ビームの進行方向の変化などが抑制されるため、放射線発生装置100の性能の低下が抑制される。 According to the present embodiment, the displacement of at least one of the cathode and the heater is suppressed, and the change in the traveling direction of the electron beam emitted from the electron gun 1 is suppressed. Is done.
なお、本実施形態に係る電子銃1は、放射線治療装置に使用されてもよいし、工業用X線CTスキャン装置に使用されてもよいし、電子顕微鏡に使用されてもよい。例えば、本実施形態に係る電子銃1が、特開2007−267971号公報に開示されているような回転ガントリー及びカウチを備える放射線治療装置に使用されてもよい。 Note that the electron gun 1 according to the present embodiment may be used in a radiation therapy apparatus, may be used in an industrial X-ray CT scan apparatus, or may be used in an electron microscope. For example, the electron gun 1 according to the present embodiment may be used in a radiotherapy apparatus including a rotating gantry and a couch as disclosed in JP 2007-267971 A.
1 電子銃
2 カソード
4 アノード
5 ヒータ
6 支持電極
8 電子放出面
10 凹部
11 第1部分
12 第2部分
13K 第3部分
14 第2側面
15 内面
19 支持部材
20 孔部
30 凹部
35 内面
51 第1ヒータ
52 第2ヒータ
60 支持面
61 第1支持電極
62 第2支持電極
70 対向面
100 放射線発生装置
102 ターゲット
145 側面
151 第1面
152 第2面
153 第1側面
601 第1支持面
J 軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (10)
前記第2部分を支持するヒータと、を備え、
前記ヒータは、前記第2部分の少なくとも一部が配置される凹部を有する電子銃。 A first portion capable of emitting thermoelectrons and having an electron emission surface orthogonal to a predetermined axis, and a cathode including a second portion whose outer shape in a plane orthogonal to the predetermined axis is smaller than the first portion;
A heater for supporting the second part,
The heater is an electron gun having a recess in which at least a part of the second portion is disposed.
前記凹部の内面は、前記面内の前記第1軸と直交する第2軸と平行な方向に関して前記所定軸の一側の前記第2部分の表面の少なくとも一部、及び他側の前記第2部分の表面の少なくとも一部のそれぞれに接触する請求項1に記載の電子銃。 The heaters are arranged on one side and the other side of the predetermined axis with respect to a direction parallel to the first axis in a plane perpendicular to the predetermined axis, and support two heaters sandwiching the second portion. Including
The inner surface of the recess has at least part of the surface of the second portion on one side of the predetermined axis and the second on the other side in a direction parallel to the second axis orthogonal to the first axis in the surface. The electron gun according to claim 1, wherein the electron gun contacts at least a part of the surface of the part.
前記ヒータは、前記凹部の外側に配置され、前記第2表面の少なくとも一部が接触する外面を有する請求項1又は請求項2に記載の電子銃。 The second portion is arranged around the predetermined axis substantially parallel to the predetermined axis, and intersects with a first surface contacting at least a part of the inner surface of the recess and an axis parallel to the predetermined axis. A second surface,
3. The electron gun according to claim 1, wherein the heater has an outer surface that is disposed outside the recess and is in contact with at least a part of the second surface.
前記カソードは、前記第2部分の他端部に接続され、前記所定軸と直交する面内における外形が前記第2部分よりも大きい第3部分を含む請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の電子銃。 The second part is rod-shaped, one end of the second part is connected to the first part,
The said cathode is connected to the other end part of the said 2nd part, The external shape in the surface orthogonal to the said predetermined axis contains the 3rd part larger than the said 2nd part. The electron gun according to the item.
前記支持電極の支持面は、前記ヒータが接触する第1領域と、前記第1領域とは異なる方向を向き、前記ヒータが接触する第2領域と、を含む請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の電子銃。 A support electrode for supporting the heater;
The support surface of the support electrode includes a first region in contact with the heater and a second region in a direction different from the first region and in contact with the heater. An electron gun according to claim 1.
前記カソードを支持するヒータと、
前記ヒータを支持する支持電極と、を備え、
前記支持電極の支持面は、前記ヒータが接触する第1領域と、前記第1領域とは異なる方向を向き、前記ヒータが接触する第2領域と、を含む電子銃。 A cathode from which thermionic electrons are emitted;
A heater for supporting the cathode;
A support electrode for supporting the heater,
The support surface of the support electrode is an electron gun including: a first region that contacts the heater; and a second region that faces a direction different from the first region and contacts the heater.
前記支持部材の少なくとも一部は、前記孔部に配置される請求項8に記載の電子銃。 The second part has a hole,
The electron gun according to claim 8, wherein at least a part of the support member is disposed in the hole.
前記電子銃からの電子ビームが照射されるターゲットと、を備える放射線発生装置。 An electron gun according to any one of claims 1 to 9,
A radiation generator comprising: a target irradiated with an electron beam from the electron gun.
Priority Applications (1)
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