JP2014215422A - Glass sheet for display and method for producing the same - Google Patents

Glass sheet for display and method for producing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass sheet which suppresses exfoliation of a pattern made of resin formed on a glass surface, and a method for producing the same.SOLUTION: A glass sheet is formed by drawing tabular fusion glass. A surface roughening process is applied to a main surface of the glass sheet in which a pattern made of resin is formed. The average of roughness height (Ra) of the main surface is 0.2 nm or more, and the maximum valley depth (Rv) is 2 nm or more.

Description

本発明は、ディスプレイ用ガラスシートならびにその製造方法に関する。   The present invention relates to a glass sheet for display and a method for producing the same.

液晶ディスプレイでは、光の透過量を制御するTFT(Thin Film Transistor)と液晶、カラーフィルタとを構成要素としている。液晶ディスプレイに代表されるようなカラーフィルタ方式のディスプレイに用いられるカラーフィルタパネルの製造方法は、通常、ガラスシートの表面に黒色のマトリックスを形成し、続いて、赤、緑、青、黄、白その他異なる色相を順次、ストライプ状あるいはモザイク状等の色パターンで形成する方法が用いられている。   In the liquid crystal display, a TFT (Thin Film Transistor) that controls the amount of transmitted light, a liquid crystal, and a color filter are used as components. A manufacturing method of a color filter panel used for a color filter type display represented by a liquid crystal display usually forms a black matrix on the surface of a glass sheet, followed by red, green, blue, yellow and white. In addition, a method of sequentially forming different hues with a color pattern such as a stripe shape or a mosaic shape is used.

ディスプレイの高精細化に伴い、ガラスシートの表面に配置されるブラックマトリックスの線幅およびピッチは小さくなっている。例えば、ディスプレイの高コントラスト化を達成するために、ブラックマトリックスの高細線化・高精細化(具体的には、20μm未満の線幅)による開口率の向上、および、ブラックマトリックスの高い寸法精度による遮光性の向上が必要になっている。また、ディスプレイ画素数の高密度化に伴い、パターンサイズはカラーフィルタの用途並びにそれぞれの色により異なるが、一例としては、赤、緑、青の画素は200〜300μmから100μmへ、ブラックマトリックスは10μmから5μm、さらには5μm未満へと細線技術が開発されている。   As the display becomes higher in definition, the line width and pitch of the black matrix arranged on the surface of the glass sheet are reduced. For example, in order to achieve a high contrast of the display, the aperture ratio is improved by increasing the fineness and definition of the black matrix (specifically, the line width of less than 20 μm) and the high dimensional accuracy of the black matrix. There is a need for improved light shielding. As the number of display pixels increases, the pattern size varies depending on the use of the color filter and each color. For example, red, green, and blue pixels are changed from 200 to 300 μm to 100 μm, and the black matrix is 10 μm. Fine wire technology has been developed from 5 μm to 5 μm.

カラーフィルタの製造法には電着法、染色法、印刷法および顔料分散法などがあるが、最近では顔料分散法が主流となっている。顔料分散法は、シートに塗布された感光性樹脂に顔料を分散したカラーレジスト、あるいは非感光樹脂に顔料を分散したカラーペーストを、フォトリソグラフィ加工法を用いてパターン形成する方法であり、染色工程が不要なため製造工程が簡略化でき、また得られた着色画素は、耐光、耐熱性に優れ、高精度の画素を形成できるという利点がある。また、顔料を含んだ樹脂製のブラックマトリックス材(以下、BM材ともいう)は、密着性が低いとされシランカップリング剤などを添加して密着性の向上が図られている。   The color filter manufacturing method includes an electrodeposition method, a dyeing method, a printing method, and a pigment dispersion method. Recently, the pigment dispersion method has become the mainstream. The pigment dispersion method is a method in which a color resist in which a pigment is dispersed in a photosensitive resin applied to a sheet or a color paste in which a pigment is dispersed in a non-photosensitive resin is patterned using a photolithographic processing method. Therefore, the manufacturing process can be simplified, and the obtained colored pixel has an advantage that it is excellent in light resistance and heat resistance and can form a highly accurate pixel. Further, a black matrix material made of resin containing a pigment (hereinafter also referred to as BM material) is considered to have low adhesion, and a silane coupling agent or the like is added to improve adhesion.

特開2011−053710号公報JP 2011-053710 A 特開2000−221485号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2000-212485

しかしながら、ガラスシートの表面状態によって、ガラスシートの表面とパターンとの密着性は変化する。例えば、10μm以下、特に5μm以下へと高細線化された樹脂製のブラックマトリックスでは、ガラスシートの表面状態の影響を受けやすく、その表面状態の相違によって、同じBM材を使用していたとしても、ブラックマトリックスに剥離が発生しやすくなるという問題が生じている。   However, the adhesion between the surface of the glass sheet and the pattern varies depending on the surface state of the glass sheet. For example, a resin black matrix that has been thinned to a thickness of 10 μm or less, particularly 5 μm or less, is easily affected by the surface condition of the glass sheet, and even if the same BM material is used due to the difference in the surface condition. As a result, there is a problem that the black matrix is easily peeled off.

そこで、本発明では、ガラス表面に形成される樹脂製のパターンの剥離を抑制するガラスシートならびにその製造方法を提供する。   Therefore, the present invention provides a glass sheet that suppresses the peeling of a resin pattern formed on the glass surface and a method for producing the same.

本発明のガラスシートは、板状の溶融ガラスを延伸して成形されたガラスシートであって、樹脂製パターンが形成される上記ガラスシートの主表面に粗面化処理が施され、上記主表面の平均粗さ(Ra)が0.2nm以上であり、且つ、最大谷深さ(Rv)が2nm以上であることを特徴とする。   The glass sheet of the present invention is a glass sheet formed by stretching a plate-shaped molten glass, and the main surface of the glass sheet on which a resin pattern is formed is subjected to a roughening treatment, and the main surface The average roughness (Ra) is 0.2 nm or more, and the maximum valley depth (Rv) is 2 nm or more.

上記ガラスシート表面は、サーフコムによる表面測定において、カットオフ値0.8〜10.0mmの測定条件において基準線からの距離(高さ・深さ)が15nm以下、且つ、カットオフ値1.0〜25.0mmの測定条件において基準線からの距離(高さ・深さ)が45nm以下であることが好ましい。   The surface of the glass sheet has a distance (height / depth) from the reference line of 15 nm or less and a cut-off value of 1.0 in a measurement condition with a cut-off value of 0.8 to 10.0 mm in the surface measurement by Surfcom. It is preferable that the distance (height / depth) from the reference line is 45 nm or less under the measurement condition of ˜25.0 mm.

上記主表面とは反対側の上記ガラスシートの表面における最大谷深さ(Rv)は、上記主表面の最大谷深さ(Rv)よりも小さいことが好ましい。   The maximum valley depth (Rv) on the surface of the glass sheet opposite to the main surface is preferably smaller than the maximum valley depth (Rv) of the main surface.

上記ガラスシート表面の面内に、上記粗面化処理により形成された少なくとも5μm以上の長さの擦痕を有することが好ましい。   It is preferable that the glass sheet surface has a scratch having a length of at least 5 μm formed by the roughening treatment.

また、本発明のガラスシートの製造方法は、板状の溶融ガラスを延伸してガラスシートを成形する成形工程と、上記ガラスシートの主表面に粗面化処理を施すことで、上記表面の上記表面の平均粗さ(Ra)が0.2nm以上、且つ、最大谷深さ(Rv)が2nm以上とする粗面化工程と、を有することを特徴とする。   In addition, the method for producing a glass sheet of the present invention includes a molding step of stretching a plate-shaped molten glass to form a glass sheet, and a roughening treatment on the main surface of the glass sheet, whereby the surface of the glass sheet is formed. And a roughening step in which the average roughness (Ra) of the surface is 0.2 nm or more and the maximum valley depth (Rv) is 2 nm or more.

また、本発明のガラスシートの製造方法は、溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー法によりガラスシートに成形する成形工程と、樹脂製パターンの密着性が向上するように上記ガラスシートの主表面を粗面化する粗面化工程を有することを特徴とする。   In addition, the method for producing a glass sheet according to the present invention comprises a molding step of forming molten glass into a glass sheet by an overflow downdraw method, and the main surface of the glass sheet is roughened so that the adhesion of the resin pattern is improved. And a roughening step.

上記粗面化工程では、擦痕が形成されるよう表面処理することが好ましい。   In the roughening step, surface treatment is preferably performed so that scratches are formed.

本発明によれば、ガラス表面に形成される樹脂製のパターンの剥離を抑制するガラスシートならびにその製造方法が提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the glass sheet which suppresses peeling of the resin-made patterns formed on the glass surface, and its manufacturing method are provided.

本実施形態に係るシートガラスの製造方法のフローチャートである。It is a flowchart of the manufacturing method of the sheet glass which concerns on this embodiment. 本実施形態に係るシートガラスの製造方法で用いられるシートガラスの製造装置1を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the manufacturing apparatus 1 of the sheet glass used with the manufacturing method of the sheet glass which concerns on this embodiment. 本実施形態の評価工程のフローを示す図である。It is a figure which shows the flow of the evaluation process of this embodiment. 本実施形態のフォトマスクを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the photomask of this embodiment. 本実施形態のマスクパターンを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the mask pattern of this embodiment. 本実施形態のレジストパターンの評価方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the evaluation method of the resist pattern of this embodiment. 実施例1のガラスシートの主表面のAFM画像である。3 is an AFM image of the main surface of the glass sheet of Example 1. 実施例2のガラスシートの主表面のAFM画像である。6 is an AFM image of the main surface of the glass sheet of Example 2. 比較例のガラスシートの主表面のAFM画像である。It is an AFM image of the main surface of the glass sheet of a comparative example.

以下、図面を参照して、本実施形態のガラスシートの製造方法について説明する。本実施形態に係るシートガラスの製造方法では、ダウンドロー法を用いてシートガラスが製造される。   Hereinafter, with reference to drawings, the manufacturing method of the glass sheet of this embodiment is demonstrated. In the manufacturing method of the sheet glass which concerns on this embodiment, sheet glass is manufactured using the down draw method.

[シートガラスの製造方法の概要]
まず、図1および図2を参照して、シートガラスの製造方法に含まれる複数の工程および複数の工程に用いられるシートガラスの製造装置1を説明する。シートガラスの製造方法は、図1に示すように、主として、溶融工程S1と、清澄工程S2と、成形工程S3と、冷却工程S4と、切断工程S5と、粗面化工程S6とを含む。
[Outline of manufacturing method of sheet glass]
First, with reference to FIG. 1 and FIG. 2, the manufacturing method 1 of the sheet glass used for the some process included in the manufacturing method of a sheet glass and a several process is demonstrated. As shown in FIG. 1, the sheet glass manufacturing method mainly includes a melting step S1, a refining step S2, a forming step S3, a cooling step S4, a cutting step S5, and a roughening step S6.

溶融工程S1は、ガラスの原料が溶融される工程である。ガラスの原料は、所望の組成になるように調合された後、図2に示すように、上流に配置された溶融装置2に投入される。ガラス原料は、例えば、SiO2,Al23,B23,CaO,SrO,BaO等の組成からなる。具体的には、歪点が660℃以上となるガラス原料を用いる。ガラスの原料は、溶融装置2で溶融されて、溶融ガラスになる。溶融温度は、ガラスの種類に応じて調整される。本実施形態では、ガラス原料が1500〜1650℃で溶融される。溶融ガラスは、上流パイプ3を通って清澄装置4に送られる。 The melting step S1 is a step in which the glass raw material is melted. After the glass raw material is prepared so as to have a desired composition, as shown in FIG. 2, the glass raw material is put into a melting apparatus 2 arranged upstream. Glass raw materials, for example, SiO 2, Al 2 O 3 , B 2 O 3, CaO, SrO, a composition of BaO or the like. Specifically, a glass material having a strain point of 660 ° C. or higher is used. The glass raw material is melted by the melting device 2 to become molten glass. The melting temperature is adjusted according to the type of glass. In this embodiment, the glass raw material is melted at 1500 to 1650 ° C. The molten glass is sent to the refining device 4 through the upstream pipe 3.

清澄工程S2は、溶融ガラス中の気泡の除去を行う工程である。清澄装置4内で気泡が除去された溶融ガラスは、その後、下流パイプ5を通って、成形装置6へと送られる。   The clarification step S2 is a step of removing bubbles in the molten glass. The molten glass from which bubbles have been removed in the refining device 4 is then sent to the forming device 6 through the downstream pipe 5.

成形工程S3は、溶融ガラスをシート状のガラス(シートガラス)に成形する工程である。本実施形態では、オーバーフローダウンドロー法を用いる。   The forming step S3 is a step of forming the molten glass into a sheet-like glass (sheet glass). In this embodiment, an overflow downdraw method is used.

冷却工程S4は、シートガラスを冷却(徐冷)する工程である。シートガラスは、冷却工程S4を経て室温に近い温度へと冷却される。なお、成形工程S3から冷却工程S4にかけての冷却の状態に応じて、シートガラスの厚み(板厚)、シートガラスの反り量、およびシートガラスの歪量が決まる。このシートガラスの表面は、ブラックマトリクス材等の樹脂製のパターンの密着性が低い場合がある。   The cooling step S4 is a step of cooling (slow cooling) the sheet glass. The sheet glass is cooled to a temperature close to room temperature through the cooling step S4. Note that the thickness (plate thickness) of the sheet glass, the amount of warpage of the sheet glass, and the amount of distortion of the sheet glass are determined according to the cooling state from the forming step S3 to the cooling step S4. The surface of the sheet glass may have low adhesion of a resin pattern such as a black matrix material.

[粗面化工程]
粗面化工程S5では、粗面化装置8により、樹脂製のパターンを形成した場合の剥離を抑制するために、樹脂製パターンの密着性が向上するように、上記ガラスシートの主表面の粗面化を行う。ここでガラスシートの主表面とは、ガラスシートの表面の内、樹脂製のパターンが形成される表面(部分)を指し、製品領域となる面である。また、樹脂パターンの密着性は、後述の評価方法により行う。「樹脂製パターンの密着性が向上するように」とは、本粗面化工程後の上記評価方法による樹脂パターンの密着性が、本粗面化工程前より高くなっていることを意味する。
[Roughening process]
In the roughening step S5, in order to suppress peeling when the resin pattern is formed by the roughening device 8, the rough surface of the main surface of the glass sheet is improved so that the adhesion of the resin pattern is improved. Make the surface. Here, the main surface of the glass sheet refers to a surface (part) on which a resin pattern is formed among the surfaces of the glass sheet, and is a surface serving as a product region. Moreover, the adhesiveness of a resin pattern is performed with the below-mentioned evaluation method. The phrase “so that the adhesiveness of the resin pattern is improved” means that the adhesiveness of the resin pattern by the evaluation method after the roughening step is higher than that before the roughening step.

粗面化手段としては、サンドブラスト法、液体フォーミング法、パッドで擦る方法等の物理的手段による方法や、ガラス表面を化学的に腐食させる化学的手段による方法が挙げられる。本発明の粗面化工程では、面が粗化されることで表面積を増加させるというよりも、ある程度の深さを有する谷を形成することにより、アンカー効果を持たせることが好ましい。このため、粗面化手段としては、物理的手段により、例えば、フィラーが添加された硬質ウレタン等の樹脂で、シートガラスの表面を擦ることにより行うことが好ましい。   Examples of the roughening means include a method using physical means such as a sand blasting method, a liquid forming method, and a method of rubbing with a pad, and a method using chemical means for chemically corroding the glass surface. In the roughening step of the present invention, it is preferable to provide an anchor effect by forming a valley having a certain depth rather than increasing the surface area by roughening the surface. For this reason, the roughening means is preferably carried out by physical means, for example, by rubbing the surface of the sheet glass with a resin such as hard urethane to which a filler is added.

樹脂パターンの形成は、所望の配線パターンが露光され現像されることで形成されるが、現像する際に用いられる現像液が、ガラスと樹脂パターンとの界面に侵入することで、樹脂パターンを剥離させやすくする場合がある。本発明における粗面化工程による粗面化では、上記アンカー効果に加えて、現像液の回り込みを抑制する効果も得られる。すなわち、ガラスと樹脂パターンの界面に、現像液が侵入するのを抑制することで、ガラスと樹脂パターンの接地面の減少を抑制することができ、剥離を抑制する。   The resin pattern is formed by exposing and developing a desired wiring pattern, but the developer used for development enters the interface between the glass and the resin pattern, and the resin pattern is peeled off. It may be easy to make it. In the roughening by the roughening step in the present invention, in addition to the anchor effect, an effect of suppressing the wraparound of the developer is also obtained. That is, by suppressing the developer from entering the interface between the glass and the resin pattern, it is possible to suppress a decrease in the ground contact surface between the glass and the resin pattern, thereby suppressing peeling.

上記フィラーとしては、ジルコニア、セリア、ダイアモンドなどが挙げられる。中でも、セリアが好ましい。セリアは、シリカ等のガラス成分に化学的にも作用することにより、シートガラス表面を好適に粗面化できる。遊離砥粒は使用しても良いし、しなくても良い。本実施形態においては、セリア内添の硬質ウレタンパッドを用いて、遊離砥粒を使用せずに、ガラスシートの主表面を擦って粗面化を行う。   Examples of the filler include zirconia, ceria, and diamond. Among these, ceria is preferable. Ceria can roughen the sheet glass surface suitably by acting chemically on glass components such as silica. The loose abrasive may or may not be used. In the present embodiment, a hard urethane pad with internal ceria is used to roughen the main surface of the glass sheet by rubbing without using loose abrasive grains.

粗面化工程S5では、擦痕(キズ)が形成されるように表面処理されることが好ましい。擦痕は、ガラスシートの製品領域の任意の箇所のAFM測定において観察されればよい。擦痕は、AFM画像で線として表れ、容易に観察・判別可能である。擦痕は、少なくとも5μm以上の長さを有することが好ましい。   In the roughening step S5, the surface treatment is preferably performed so that scratches are formed. The scratches may be observed in the AFM measurement at an arbitrary position in the product region of the glass sheet. Scratches appear as lines in the AFM image and can be easily observed and discriminated. The scratches preferably have a length of at least 5 μm.

粗面化工程S5では、シートガラスの主表面に粗面化処理を施すことで、主表面の平均粗さ(Ra)を0.2nm以上、且つ、最大谷深さ(Rv)を2nm以上とする。シートガラスの主表面を、このような粗さを有するように粗面化することにより、ガラス表面に形成される、例えば、10μm以下、特に5μm以下へと高細線化された樹脂製のパターン(例えばブラックマトリクス)の剥離が抑制される。主表面の平均粗さ(Ra)は、0.1μm未満であり、具体的には0.2nm以上10nm以下とすることができ、さらには0.2〜1.0nm、特には0.25〜0.5nmとすることができる。   In the roughening step S5, the main surface of the sheet glass is subjected to a roughening treatment so that the average roughness (Ra) of the main surface is 0.2 nm or more and the maximum valley depth (Rv) is 2 nm or more. To do. By roughening the main surface of the sheet glass so as to have such a roughness, a resin pattern (for example, 10 μm or less, particularly 5 μm or less, formed on the glass surface). For example, peeling of the black matrix) is suppressed. The average roughness (Ra) of the main surface is less than 0.1 μm, specifically 0.2 nm or more and 10 nm or less, and further 0.2 to 1.0 nm, particularly 0.25 to 0.25 nm. It can be 0.5 nm.

上記粗面化工程は、シートガラスを切断後のガラス板に行っても良い。室温に近い温度になったシートガラスは、切断装置において所定の大きさに切断され、ガラス板が製造されてもよい。シートガラスを切断する際には、シートガラスにスクライブ線を形成し、スクライブ線に引っ張り応力を集中させてシートガラスを割断する。スクライブ線は、一般に、ダイヤモンドカッターを用いて機械的に形成する方法や、レーザを利用した加熱と急冷により初期亀裂を進行させる方法によって形成される。スクライブ線が機械的に形成された場合、スクライブ線の周囲に細かなクラックが不可避的に存在する。レーザを利用してスクライブ線が形成された場合、分断されたガラス板PGの端面と表裏面との間の角部には、非常に鋭いエッジが形成される。これらのエッジは、面取り機において、矩形状のガラス板PGの短辺の端面について、研削用のダイヤモンドホイールを用いて、端面の断面形状が曲率のついた凸形状、円弧状またはR形状に研削される。   The roughening step may be performed on the glass plate after cutting the sheet glass. The sheet glass that has reached a temperature close to room temperature may be cut into a predetermined size by a cutting device to produce a glass plate. When cutting the sheet glass, a scribe line is formed on the sheet glass, and tensile stress is concentrated on the scribe line to cleave the sheet glass. The scribe line is generally formed by a method of mechanically forming using a diamond cutter or a method of causing an initial crack to proceed by heating and rapid cooling using a laser. When the scribe line is formed mechanically, fine cracks inevitably exist around the scribe line. When a scribe line is formed using a laser, a very sharp edge is formed at the corner between the end surface and the front and back surfaces of the divided glass plate PG. These edges are ground in a chamfering machine by using a diamond wheel for grinding on the short side end face of the rectangular glass plate PG so that the cross-sectional shape of the end face is curved, convex, arcuate or R-shaped. Is done.

ガラス板の端面の上記算術平均粗さRaは、例えば0.1μmから0.2μm程度になるように研削される。しかしながら、研削されたガラス板の端面には、マイクロクラックやヘアクラックと呼ばれる微小なクラックを含む層が形成される。この層は、加工変質層あるいは脆弱破壊層と呼ばれ、例えば1μmから3μm程度の厚さで存在する。このような層が存在することで、ガラス板の端面における破壊強度が低下する。このような層を除去し、ガラス板の端面における破壊強度を向上させるために、ガラス板の端面に研磨が行われる。上記粗面化工程は、端面研磨後のガラス板に行っても良い。   The arithmetic average roughness Ra of the end face of the glass plate is ground to be, for example, about 0.1 μm to 0.2 μm. However, a layer containing microcracks called microcracks or hair cracks is formed on the end face of the ground glass plate. This layer is called a work-affected layer or a fragile fracture layer, and exists in a thickness of about 1 μm to 3 μm, for example. The presence of such a layer reduces the breaking strength at the end face of the glass plate. In order to remove such a layer and improve the breaking strength at the end face of the glass plate, the end face of the glass plate is polished. You may perform the said roughening process on the glass plate after end surface grinding | polishing.

サーフコムによる表面測定
サーフコムによる表面測定では、触針式表面粗さ計、たとえば東京精密製サーフコムでガラス板表面の形状を測定したのち、装置内蔵のカットオフ値0.8〜10.0mm、ならびにカットオフ値1.0〜25.0mmのハイパスフィルターを通過させることで表面の微小凹凸のみを抽出し、この微小凹凸の振幅値をガラス板表面の平坦度の指標とする。このときハイパスフィルターの波長と振幅伝達率との関係を示す特性は、JISB0651で規定されている。上記振幅値は、基準線からの距離(高さ、または深さ)である。基準線は、測定開始点と測定終了点とを結ぶ線を基準線として、上記平坦度の測定を行った。測定距離は150mm〜250mmとすることができる。脈理の周期の大小で測定距離を変更してもよい。本実施形態では、測定開始点から測定終了点まで200mm(測定長は200mm)で測定した。
Surface measurement with surfcom In surface measurement with surfcom, after measuring the shape of the glass plate surface with a stylus type surface roughness meter, for example, surfcom made by Tokyo Seimitsu, the cut-off value 0.8 to 10.0mm built in the device, and cut By passing through a high-pass filter with an off value of 1.0 to 25.0 mm, only the minute irregularities on the surface are extracted, and the amplitude value of the minute irregularities is used as an index of the flatness of the glass plate surface. At this time, a characteristic indicating the relationship between the wavelength of the high-pass filter and the amplitude transmissibility is defined in JIS B0651. The amplitude value is a distance (height or depth) from the reference line. For the reference line, the flatness was measured using a line connecting the measurement start point and the measurement end point as a reference line. The measurement distance can be 150 mm to 250 mm. The measurement distance may be changed depending on the length of the striae. In this embodiment, the measurement was performed at 200 mm (measurement length was 200 mm) from the measurement start point to the measurement end point.

上記ガラスシート表面は、サーフコムによる表面測定において、カットオフ値0.8〜10.0mmの測定条件における基準線からの距離(高さ、または深さ)が15nm以下、且つ、カットオフ値1.0〜25.0mmの測定条件における基準線からの距離(高さ、または深さ)が45nm以下であることが好ましい。短周期の脈理(凹凸)、長周期の脈理(凹凸)が小さいことで、樹脂製パターンの密着性のバラツキをより小さくできる。   The surface of the glass sheet has a distance (height or depth) from a reference line of 15 nm or less in a measurement condition of a cut-off value of 0.8 to 10.0 mm and a cut-off value of 1. It is preferable that the distance (height or depth) from the reference line in the measurement condition of 0 to 25.0 mm is 45 nm or less. Since the short cycle striae (unevenness) and the long cycle striae (unevenness) are small, the variation in the adhesion of the resin pattern can be further reduced.

樹脂製パターンの評価方法
樹脂製パターンのガラスシートへの形成状態は、特願2013−32451に記載の方法で評価できる。すなわち、上記ガラスシートに対し、図3に示すように、所定の評価用サイズに切断してサンプルガラスを切り出すサンプル作製工程B1と、評価用レジスト剤をサンプルガラス上に塗膜する塗膜工程B2と、評価用レジストが塗膜されたサンプルガラスを加熱するプリベーク工程B3と、紫外線露光装置を用いて露光し、アルカリ水溶液により現像するパターン作製工程B4と、サンプルガラス上に形成されたパターンを評価する評価工程B5が行われる。
Evaluation Method of Resin Pattern The formation state of the resin pattern on the glass sheet can be evaluated by the method described in Japanese Patent Application No. 2013-32451. That is, as shown in FIG. 3, with respect to the glass sheet, a sample preparation step B1 for cutting the sample glass by cutting into a predetermined size for evaluation, and a coating step B2 for coating the evaluation resist agent on the sample glass And a pre-baking step B3 for heating the sample glass coated with the evaluation resist, a pattern preparation step B4 for exposure using an ultraviolet exposure device and development with an alkaline aqueous solution, and a pattern formed on the sample glass. An evaluation step B5 is performed.

評価用レジストの塗膜工程B2では、感光性樹脂組成物を液状組成物の状態でサンプルガラスに塗布する際には、公知の溶液浸漬法、スプレー法の他、ローラーコーター機、ランドコーター機やスピナー機を用いる方法等の何れの方法をも採用することができる。これらの方法によって、所望の厚さに塗布した後、プリベーク工程B3により、溶剤が除去され、サンプルガラス上にレジスト材が被膜形成される。プリベークはオーブン、ホットプレート、熱真空乾燥機等により加熱、または、減圧加熱することによって行われる。プリベーク工程B3における加熱温度及び加熱時間は使用する溶剤に応じて適宜選択され、例えば50〜120℃の温度で1〜10分間行われる。   In the resist coating process B2 for evaluation, when the photosensitive resin composition is applied to the sample glass in a liquid composition state, in addition to a known solution dipping method and spray method, a roller coater machine, a land coater machine, Any method such as a method using a spinner machine can be adopted. After applying to a desired thickness by these methods, the solvent is removed by pre-baking step B3, and a resist material is formed on the sample glass. Pre-baking is performed by heating with an oven, a hot plate, a thermal vacuum dryer or the like, or by heating under reduced pressure. The heating temperature and heating time in the pre-baking step B3 are appropriately selected according to the solvent to be used, and are performed, for example, at a temperature of 50 to 120 ° C. for 1 to 10 minutes.

パターン作製工程では、図4に示すようなパターンが形成されたフォトマスク31が使用される。具体的には、フォトマスク31は、線幅の異なる複数のラインにより形成された第1マスクパターン32と、2本のラインが直交して形成された第2マスクパターン33とを有する。
このフォトマスク31をサンプルガラス上に設置し、樹脂製パターンとしてのBM材を露光する。露光では、波長が250〜450nmの範囲にある放射線が好ましいが、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等であってもよい。また、現像液としては、例えば、アルカリ金属やアルカリ土類金属の炭酸塩の水溶液、アルカリ金属の水酸化物の水溶液等を挙げることができる。
In the pattern manufacturing process, a photomask 31 on which a pattern as shown in FIG. 4 is formed is used. Specifically, the photomask 31 includes a first mask pattern 32 formed by a plurality of lines having different line widths, and a second mask pattern 33 formed by two lines orthogonal to each other.
The photomask 31 is placed on the sample glass, and the BM material as a resin pattern is exposed. In the exposure, radiation having a wavelength in the range of 250 to 450 nm is preferable, but visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, or the like may be used. Examples of the developer include an aqueous solution of an alkali metal or alkaline earth metal carbonate, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, or the like.

本実施形態におけるマスクパターンと評価方法について、図5及び図6を用いて説明する。図5(a)に示す第1マスクパターン32は、線幅の異なる5つのラインパターンにより構成され、1μm幅に形成されたラインパターン321、3μm幅に形成されたラインパターン322、5μm幅に形成されたラインパターン323、10μm幅に形成されたラインパターン324、20μm幅に形成されたラインパターン325からなる。また、図5(b)に示す第2マスクパターンは、30μm幅に形成されたラインが直交して十字状に形成されてなる。なお、図4に示すように、フォトマスク31には、線幅の異なる2つの第2マスクパターンが形成されてもよい。第1フォトマスクのマスクパターン32を形成する複数のラインは1μm以上30μm以下の線幅であり、第2マスクパターンを形成する屈曲点は少なくとも2本のラインにより形成される交点である、ことが好ましい。   The mask pattern and evaluation method in this embodiment will be described with reference to FIGS. The first mask pattern 32 shown in FIG. 5A is composed of five line patterns having different line widths. The line pattern 321 is 1 μm wide, the line pattern 322 is 3 μm wide, and is 5 μm wide. The line pattern 323 is formed of a line pattern 324 having a width of 10 μm and a line pattern 325 having a width of 20 μm. Further, the second mask pattern shown in FIG. 5B is formed in a cross shape in which lines formed with a width of 30 μm are orthogonal to each other. As shown in FIG. 4, two second mask patterns having different line widths may be formed on the photomask 31. The plurality of lines forming the mask pattern 32 of the first photomask have a line width of 1 μm or more and 30 μm or less, and the bending point forming the second mask pattern is an intersection formed by at least two lines. preferable.

サンプルガラス上に形成されるレジスト膜が、露光され現像されることで、サンプルガラス上にレジストパターンが形成される。
図6は、現像されたレジストの一部が剥離し残存した状態を示す。レジストパターン521は、ラインパターン321に対応するものである。サンプルガラス上において、1μm幅のパターンが残らなかったと共に、3μm幅、5μm幅のレジストパターンが、欠けや細りを生じることなく残存した状態を示す。これらのレジストの線の残存性を観察して、密着性を評価できる。
The resist film formed on the sample glass is exposed and developed, whereby a resist pattern is formed on the sample glass.
FIG. 6 shows a state in which a part of the developed resist is peeled off and remains. The resist pattern 521 corresponds to the line pattern 321. On the sample glass, a pattern having a width of 1 μm does not remain and a resist pattern having a width of 3 μm and a width of 5 μm remains without being chipped or thinned. The adhesiveness can be evaluated by observing the residualness of these resist lines.

以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例によりなんら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples.

実施例1、2
上記ガラスシートの製造装置1およびガラスシートの製造方法を用いて、実施例1、2のガラスシートを製造した。実施例1、2では、それぞれ、POLYPAS FX7L、FX7M(富士紡愛媛株式会社製)を使用して粗面化を行った。
Examples 1 and 2
The glass sheet of Example 1, 2 was manufactured using the said glass sheet manufacturing apparatus 1 and the manufacturing method of a glass sheet. In Examples 1 and 2, roughening was performed using POLYPAS FX7L and FX7M (Fujibo Ehime Co., Ltd.), respectively.

比較例
粗面化を行わなかったこと以外は実施例と同様にして、ガラスシートを製造した。
Comparative Example A glass sheet was produced in the same manner as in Example except that the surface was not roughened.

<AFM画像>
図3〜5に、実施例1、2、ならびに比較例のガラスシートの表面のAFM画像(5μm角)を示す。実施例1、2のガラスシートでは、5μm角のAFM画像を横切る、5μm以上の長さの擦痕(キズ)が容易に観察・判別可能であった。比較例のガラスシートでは、擦痕(キズ)は観察できなかった。
<AFM image>
3 to 5 show AFM images (5 μm square) of the surfaces of the glass sheets of Examples 1 and 2 and Comparative Example. In the glass sheets of Examples 1 and 2, scratches (scratches) having a length of 5 μm or more crossing the 5 μm square AFM image could be easily observed and distinguished. In the glass sheet of the comparative example, scratches (scratches) could not be observed.

<表面粗さRa(nm)>
実施例1、2、ならびに比較例のガラスシートの表面粗さRa(nm)を測定した。結果を表1に示す。実施例1、2のガラスシートの表面の平均粗さ(Ra)は0.2nm以上であった。
<Surface roughness Ra (nm)>
The surface roughness Ra (nm) of the glass sheets of Examples 1 and 2 and the comparative example was measured. The results are shown in Table 1. The average roughness (Ra) of the surface of the glass sheets of Examples 1 and 2 was 0.2 nm or more.

<キズ深さ指標(nm)>
実施例1、2、ならびに比較例のガラスシートの、Rpvで測定したときの谷側の深さを測定した。結果をキズ深さ指標として、表1に示す。実施例1、2のガラスシートの表面の最大谷深さ(Rv)は2nm以上であった。
<Scratch depth index (nm)>
The depth of the valley side when measured by Rpv of the glass sheets of Examples 1 and 2 and the comparative example was measured. The results are shown in Table 1 as a scratch depth index. The maximum valley depth (Rv) on the surface of the glass sheets of Examples 1 and 2 was 2 nm or more.

<サーフコムによる表面測定>
実施例1、2、ならびに比較例のガラスシート表面は、サーフコムによる表面測定において、カットオフ値0.8〜10.0mmの測定条件における基準線からの高さ(深さ)は15nm以下であり、且つ、カットオフ値1.0〜25.0mmの測定条件における基準線からの高さ(深さ)は45nm以下であった。
<Surface measurement by Surfcom>
In the surface measurement by Surfcom, the glass sheet surfaces of Examples 1 and 2 and Comparative Example have a height (depth) from the reference line of 15 nm or less from the measurement conditions with a cutoff value of 0.8 to 10.0 mm. And the height (depth) from the reference line in the measurement conditions with a cut-off value of 1.0 to 25.0 mm was 45 nm or less.

<樹脂製パターンの密着性評価>
上記評価方法により、樹脂製パターンの密着性を評価したところ、実施例1、2のシートガラスでは、サンプルガラス上に3μm幅、5μm幅のレジストパターン(樹脂製パターン)が、欠けや細りを生じることなく残存し、良好な密着性が得られた。
<Evaluation of adhesion of resin pattern>
When the adhesiveness of the resin pattern was evaluated by the above evaluation method, in the sheet glass of Examples 1 and 2, the resist pattern (resin pattern) having a width of 3 μm and a width of 5 μm on the sample glass causes chipping and thinning. It remained without any problems and good adhesion was obtained.

本発明によれば、樹脂製パターンが形成されるガラスシートの主表面に粗面化処理が施され、主表面の平均粗さ(Ra)が0.2nm以上であり、且つ、最大谷深さ(Rv)が2nm以上であり、アンカー効果があるため密着性が改善される。具体的には、形成された谷部にBM材が侵入してアンカー効果を生じることで、密着性がアップする。また、ガラスと樹脂パターンの界面に、現像液が侵入するのを抑制することで、ガラスと樹脂パターンの接地面の減少を抑制し、現像液の回り込みを抑制することで、剥離を抑制する。   According to the present invention, the main surface of the glass sheet on which the resin pattern is formed is roughened, the main surface has an average roughness (Ra) of 0.2 nm or more, and the maximum valley depth. Since (Rv) is 2 nm or more and has an anchor effect, adhesion is improved. Specifically, the adhesiveness is improved by the BM material entering the formed trough to produce an anchor effect. Further, by suppressing the intrusion of the developer into the interface between the glass and the resin pattern, the reduction of the ground contact surface between the glass and the resin pattern is suppressed, and the peeling of the developer is suppressed by suppressing the wraparound of the developer.

Claims (7)

板状の溶融ガラスを延伸して成形されたガラスシートであって、樹脂製パターンが形成される前記ガラスシートの主表面に粗面化処理が施され、前記主表面の平均粗さ(Ra)が0.2nm以上であり、且つ、最大谷深さ(Rv)が2nm以上であることを特徴とするガラスシート。   A glass sheet formed by stretching a plate-shaped molten glass, wherein the main surface of the glass sheet on which a resin pattern is formed is subjected to a roughening treatment, and the average roughness (Ra) of the main surface Is 0.2 nm or more, and the maximum valley depth (Rv) is 2 nm or more. 前記主表面は、サーフコムによる表面測定において、
カットオフ値0.8〜10.0mmの測定条件において基準線からの高さ(深さ)が15nm 以下、且つ、
カットオフ値1.0〜25.0mmの測定条件において基準線からの高さ(深さ)が45nm 以下である、
請求項1に記載のガラスシート。
In the surface measurement by the surfcom, the main surface,
The height (depth) from the reference line is 15 nm or less under the measurement conditions with a cutoff value of 0.8 to 10.0 mm, and
The height (depth) from the reference line is 45 nm or less under the measurement conditions of a cut-off value of 1.0 to 25.0 mm.
The glass sheet according to claim 1.
前記主表面とは反対側の前記ガラスシートの表面における最大谷深さ(Rv)が、前記主表面の最大谷深さ(Rv)よりも小さい、請求項1又は2に記載のガラスシート。   The glass sheet according to claim 1 or 2, wherein a maximum valley depth (Rv) on a surface of the glass sheet opposite to the main surface is smaller than a maximum valley depth (Rv) of the main surface. 前記ガラスシート表面の面内に、前記粗面化処理により形成された少なくとも5μm以上の長さの擦痕を有する請求項1から3のいずれか1項に記載のガラスシート。   4. The glass sheet according to claim 1, wherein the glass sheet has a scratch having a length of at least 5 μm or more formed by the roughening treatment in a surface of the glass sheet. 5. 板状の溶融ガラスを延伸してガラスシートを成形する成形工程と、
前記ガラスシートの主表面に粗面化処理を施すことで、前記主表面の前記表面の平均粗さ(Ra)が0.2nm以上、且つ、最大谷深さ(Rv)が2nm以上とする粗面化工程と、
を有することを特徴とするガラスシートの製造方法。
A molding step of stretching a plate-shaped molten glass to form a glass sheet;
By roughening the main surface of the glass sheet, the surface has an average roughness (Ra) of 0.2 nm or more and a maximum valley depth (Rv) of 2 nm or more. Surface treatment process;
A method for producing a glass sheet, comprising:
溶融ガラスをオーバーフローダウンドロー法によりガラスシートに成形する成形工程と、
樹脂製パターンの密着性が向上するように前記ガラスシートの主表面を粗面化する粗面化工程を有することを特徴とするガラスシートの製造方法。
A molding process for molding molten glass into a glass sheet by an overflow downdraw method;
The manufacturing method of the glass sheet characterized by having the roughening process of roughening the main surface of the said glass sheet so that the adhesiveness of resin-made patterns may improve.
前記粗面化工程は、擦痕が形成されるよう表面処理する請求項6に記載のガラスシートの製造方法。 The said roughening process is a manufacturing method of the glass sheet of Claim 6 which surface-treats so that a scratch may be formed.
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