JP2014211360A - 半導体試験装置 - Google Patents

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丸山 祐治
Yuji Maruyama
祐治 丸山
隆之 仲代
Takayuki Nakadai
隆之 仲代
進 越沼
Susumu Koshinuma
進 越沼
後藤繁
Shigeru Goto
繁 後藤
矢野 隆幸
Takayuki Yano
隆幸 矢野
俊介 谷口
Shunsuke Taniguchi
俊介 谷口
和記 中根
Kazuki Nakane
和記 中根
小澤 徹
Toru Ozawa
徹 小澤
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Abstract

【課題】半導体装置の電源電圧の変動を抑制すると共に、半導体装置の電源電流の測定精度を向上させることができる半導体試験装置を提供することを課題とする。【解決手段】半導体試験装置は、半導体装置の試験を行う半導体試験装置であって、前記半導体装置の電源端子に電源電圧を供給するための電源線(211)と、複数の容量(231,232)と、前記複数の容量を前記電源線に接続するための第1のスイッチ(SW1,SW2)とを有し、前記第1のスイッチは、前記電源端子の電圧降下に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させる。【選択図】図2

Description

本発明は、半導体試験装置に関する。
被試験デバイスに電流を供給して試験を行う試験装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。試験装置は、被試験デバイスに供給する電流を発生する第1電源ユニットと、第1電源ユニットが発生した電流を被試験デバイスに供給する第1同軸ケーブル及び第2同軸ケーブルとを備える。第1電源ユニットは、第1電源ユニットが発生する電流が所定の抵抗を通過した場合の電圧降下量を検出する電流検出部と、電流検出部が検出した電圧降下量に応じて、被試験デバイスに供給する電流を制御する電流制御部とを有する。第1同軸ケーブルは、第1電源ユニットから被試験デバイスの方向に電流を流す第1の内部導体と、第1の内部導体の周囲に絶縁体を介して設けられ、被試験デバイスから第1電源ユニットの方向に電流を流す第1の外部導体とを有する。第2同軸ケーブルは、被試験デバイスから第1電源ユニットの方向に電流を流す第2の内部導体と、第1の内部導体の周囲に絶縁体を介して設けられ、第1電源ユニットから被試験デバイスの方向に電流を流す第2の外部導体とを有する。
また、被試験デバイスを試験する試験装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。パターン発生部は、被試験デバイスに試験パターンを入力する。判定部は、被試験デバイスの出力信号に基づいて、被試験デバイスの良否を判定する。電源装置は、被試験デバイスに電源電力を供給する。負荷変動補償回路は、被試験デバイスが消費する消費電流の変動により生じる被試験デバイスに印加される電源電圧の変動を補償するべく、消費電流の変動に応じた補償電流を、設定される電流範囲内において、予め定められた階調数で生成する。設定部は、試験パターンが被試験デバイスに入力された場合における、電源電圧の変動量を検出し、検出した変動量に基づいて、負荷変動補償回路における電流範囲を設定する。
また、被試験デバイスを試験する試験装置が知られている(例えば、特許文献3参照)。複数のコンデンサは、それぞれ予め定められた所定の電圧で充電される。切替部は、所定の電圧に充電されたコンデンサのうち、いずれから被試験デバイスに電源電力を供給するかを切り替える。判定部は、被試験デバイスの動作結果に基づいて、被試験デバイスの良否を判定する。
また、被測定デバイスの第1端子と第2端子との間に所定電圧を印加し第2端子の電位を変動させて被測定デバイスの出力信号を測定する試験装置が知られている(例えば、特許文献4参照)。第1充電回路は、第1スイッチ素子を介して、第1コンデンサを所定電圧で充電させる。第2充電回路は、第2スイッチ素子を介して、第2コンデンサを所定電圧で充電させる。第3スイッチ素子は、第1コンデンサと第2コンデンサとを直列に接続させる。充放電回路は、第4スイッチ素子を介して、第2コンデンサを所定電圧まで充放電させる。制御回路は、第1スイッチ素子及び第2スイッチ素子を所定時間オンにさせ、所定時間経過してから第1スイッチ素子及び第2スイッチ素子をオフにした後に、第3スイッチ素子をオンにし次いで第4スイッチ素子をオンにする。試験装置は、第2コンデンサの充放電期間に第1及び第2のコンデンサの電圧を被測定デバイスの第1及び第2の端子に印加する。
国際公開第2005/076023号 国際公開第2007/049476号 特開2011−58803号公報 特開平9−292443号公報
試験装置が被測定デバイスの試験を行う場合、被測定デバイスの急激な電流変動に対し、試験装置の電源が追従できず、瞬間的に電圧降下し、被測定デバイスの動作不具合を引き起こすことがある。その対策として、電源へバイパスコンデンサを接続する対策がある。しかし、その場合でも、電流変動が大きく、バイパスコンデンサでは追従しきれない場合が多い。また、バイパスコンデンサの容量を大きくして、急激な電流変動に対応すると、電源投入後にバイパスコンデンサの電荷チャージ時間が発生するため、安定待ち時間が増加し、被測定デバイスの試験時間の増加要因となる。また、バイパスコンデンサからのリーク電流も大きくなり、被測定デバイスの電源電流を測定しようとすると、本来測定すべき被測定デバイスの電源電流がバイパスコンデンサのリーク電流に隠されてしまい、正確な被測定デバイスの電源電流の測定が困難となる。
本発明の目的は、半導体装置の電源電圧の変動を抑制すると共に、半導体装置の電源電流の測定精度を向上させることができる半導体試験装置を提供することである。
半導体試験装置は、半導体装置の試験を行う半導体試験装置であって、前記半導体装置の電源端子に電源電圧を供給するための電源線と、複数の容量と、前記複数の容量を前記電源線に接続するための第1のスイッチとを有し、前記第1のスイッチは、前記電源端子の電圧降下に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させる。
電源線に接続する容量の数を変化させることにより、半導体装置の電源電圧の変動を抑制すると共に、半導体装置の電源電流の測定精度を向上させることができる。
図1は、第1の実施形態による半導体試験システムの構成例を示す図である。 図2(A)は第1の実施形態による半導体試験回路の構成例を示す図であり、図2(B)は第1の実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。 図3は、半導体試験回路の構成例を示す図である。 図4(A)は第2の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図であり、図4(B)は第2の実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。 図5(A)は第3の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図であり、図5(B)は図5(A)のスイッチの構成例を示す回路図である。 図6(A)は第4の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図であり、図6(B)は第4の実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。 図7(A)及び(B)は、第5の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。 図8は、第5の実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。 図9(A)は第6の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図であり、図9(B)は電圧波形を示す図である。 図10(A)〜(C)は、電圧波形を示す図である。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態による半導体試験システムの構成例を示す図である。半導体試験システムは、テスタ101、ケーブル103、テストヘッド104、テストボード105及び半導体装置106を有する。テスタ101は、電源ユニット102を有する。ケーブル103は、テスタ101及びテストヘッド104を電気的に接続する。半導体装置106は、被測定装置であり、例えば大規模集積回路(LSI:Large Scale Integration)である。半導体装置106は、テストボード105上に搭載され、テストボード105に電気的に接続される。テストボード105は、テストヘッド104に電気的に接続される。テスタ101は、ケーブル103、テストヘッド104及びテストボード105を介して、半導体装置106に電気的に接続され、半導体装置106に対して、電源電圧を供給し、試験パターンデータを出力し、試験結果データを入力する。テスタ101内の電源ユニット102は、ケーブル103、テストヘッド104及びテストボード105を介して、半導体装置106に電源電圧を供給する。
図2(A)は、半導体試験回路200の構成例を示す図である。半導体試験回路200は、図1のテストボード105上に設けられる。電源ユニット102は、図1のテスタ101内に設けられる。半導体試験装置は、テスタ101及び半導体試験回路200を有し、半導体装置106の試験を行う。電源フォース線211及び電源センス線212は、電源ユニット102及び半導体装置106の電源端子213間に接続される。電源ユニット102は、電源フォース線211を介して、半導体装置106の電源端子213に電源電圧を供給する。半導体装置106は、電源端子213により、電源電圧の供給を受けて動作する。また、電源ユニット102は、電源センス線212を介して、半導体装置106の電源端子213の電圧を検出する。
比較器201は、負入力端子に電源ユニット102の電源電圧を入力し、正入力端子に半導体装置106の電源端子213の電圧を入力し、電源ユニット102の電源電圧及び半導体装置106の電源端子213の電圧を比較し、比較の結果をノードN3に出力する。第1の容量231の第1の電極は、電源フォース線211に接続される。スイッチSW1は、比較器201の出力ノードN3の電圧に応じて、第1の容量231の第2の電極を、グランド電位ノード又はノードN1に接続する。第2の容量232は、ノードN4及びグランド電位ノード間に接続される。スイッチSW2は、比較器201の出力ノードN3の電圧に応じて、ノードN4を、第1の電位ノードV1又はノードN1に接続する。スイッチSW1及びSW2は、リレースイッチでもよいし、トランジスタスイッチでもよい。
図2(B)は、本実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。電源電圧222は、図2(A)の半導体試験回路200を有する半導体試験システムにおける半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。電源電圧221は、図2(A)の半導体試験回路200を有さず、第1の容量231を電源フォース線211及びグランド電位ノード間に固定接続した場合の半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。
電源ユニット102は、電源フォース線211を介して、半導体装置106の電源端子213に一定の直流電源電圧(例えば3V)を供給する。半導体装置106は、テスタ101から試験パターンデータを入力し、内部の多数のトランジスタ等が動作すると、大電流が流れる。すると、半導体装置106の電源端子213の電源電圧221及び222が降下する。電源電圧221及び222の変動量が大きくなると、半導体装置106が正常に動作しない場合がある。本実施形態は、容量231及び232を設けることにより、電源電圧222の変動を抑制し、半導体装置106を正常に動作させることができる。電源電圧222は、電源電圧221に比べ、変動が抑制されている。
まず、時刻t1の前では、電源ユニット102は、電源フォース線211を介して、半導体装置106の電源端子213に例えば3Vの直流電源電圧を供給する。この時、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222もほぼ3Vである。比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より大きいので、ハイレベルをノードN3に出力する。すると、スイッチSW1は、図2(A)に示すように、第1の容量231の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。これにより、第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。電源フォース線211には、電源ユニット102により、3Vの電源電圧が印加されている。これにより、第1の容量231は3Vに充電され、電源フォース線211の電圧変動を抑制することができる。第2の容量232は、第1の電位ノードV1及びグランド電位ノード間に接続される。第1の電位ノードV1には、例えば1Vの直流電圧が印加される。これにより、第2の容量232は、1Vに充電される。
半導体装置106が動作を開始し、半導体装置106に大電流が流れると、電源電圧222が降下を開始する。この際、第1の容量231が電源フォース線211に接続されているため、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222の急激な変動を抑制することができる。これにより、半導体装置106の故障又は誤動作を防止することができる。
次に、時刻t1では、比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より小さくなるので、ローレベルをノードN3に出力する。例えば、時刻t1の電源電圧222は、2.5Vである。
すると、時刻t2では、スイッチSW1は、図3に示すように、第1の容量231の第2の電極をノードN1に接続する。スイッチSW2は、ノードN4をノードN1に接続する。これにより、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。上記のように、第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電されているので、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211に3V+1V=4Vの電圧を供給する。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222の降下が緩やかになり、電源電圧222の急激な降下を防止することができる。
次に、時刻t3では、電源ユニット102は、電源センス線212を介して、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222を検出し、電源電圧222が所定値より低くなると、電源フォース線211の電圧を上昇させる。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222も上昇する。
次に、時刻t4では、比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第2の閾値より大きくなるので、ハイレベルをノードN3に出力する。なお、比較器201は、ヒステリシス特性を有し、時刻t1の第1の閾値と時刻t4の第2の閾値とを異ならせることができる。
すると、時刻t5では、スイッチSW1は、図2(A)に示すように、第1の容量231の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。これにより、第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。その後、電源フォース線211には、電源ユニット102により、3Vの電源電圧が印加され、第1の容量231は約3Vに充電され、電源フォース線211の電圧変動を抑制することができる。第2の容量232は、第1の電位ノードV1及びグランド電位ノード間に接続される。第1の電位ノードV1には、例えば1Vの直流電圧が印加されるので、第2の容量232は、1Vに充電される。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222の過上昇を防止し、電源電圧222の変動を抑制することができる。
スイッチSW1及びSW2は、複数の容量231及び/又は232を電源フォース線211に接続するための第1のスイッチであり、半導体装置106の電源端子213の電圧降下に応じて、電源フォース線211に接続する容量231,232の数を変化させる。ここで、半導体装置106の電源端子213の電圧降下は、電源ユニット102の電源電圧に対する半導体装置106の電源端子213の電圧の降下である。
時刻t1より前では、スイッチSW1及びSW2は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下が第1の閾値より小さいので、第1の容量231を電源フォース線211に接続し、第2の容量232を電源フォース線211に接続せずに第1の電位ノードV1により充電させる。
時刻t2では、スイッチSW1及びSW2は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下が第1の閾値より大きいので、第1の容量231及び第2の容量232を直列に電源フォース線211に接続する。
比較器201は、電源ユニット102の電源電圧及び半導体装置106の電源端子213の電圧222を比較する。スイッチSW1及びSW2は、比較器201の比較の結果に応じて、電源フォース線231に接続する容量の数を変化させる。
本実施形態によれば、電源フォース線211に容量231及び/又は232を接続することにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222の急激な変動を抑制することができる。仮に電源フォース線211に大きな容量を固定接続すると、電源電圧の変動を抑制する点では好ましいが、電源投入後に電源電圧が安定するまでの待機時間が長くなってしまい、容量からのリーク電流が大きくなり、半導体装置106の電源電流を正しく測定することが困難になる。
本実施形態によれば、半導体装置106の電源端子213の電源電圧降下が大きくない期間では、1個の容量231のみが電源フォース線211に接続されるので、電源投入後に電源電圧が安定するまでの待機時間が短くなる。また、1個の容量231からのリーク電流は小さく、半導体装置106の電源電流を正しく測定することができる。
また、半導体装置106の電源端子213の電源電圧降下が大きい期間では、2個の容量231及び232の直列接続回路が電源フォース線211に接続されるので、電源フォース線211の急激な電圧降下を抑制し、半導体装置106の電源端子213の電源電圧222の電圧変動を抑制することができる。
(第2の実施形態)
図4(A)は、図2(A)に対応し、第2の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。本実施形態(図4(A))は、第1の実施形態(図2(A))に対して、第3の容量233、スイッチSW3,SW4及び比較器202を追加したものである。以下、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を説明する。
比較器202は、負入力端子に電源ユニット102の電源電圧を入力し、正入力端子に半導体装置106の電源端子213の電圧を入力し、電源ユニット102の電源電圧及び半導体装置106の電源端子213の電圧を比較し、比較の結果を出力端子に出力する。
ノードN4は、第2の容量232の第1の端子に接続される。スイッチSW3は、比較器202の出力電圧に応じて、第2の容量232の第2の端子を、グランド電位ノード又はノードN2に接続する。第3の容量233の第2の端子は、グランド電位ノードに接続される。スイッチSW4は、比較器202の出力電圧に応じて、第3の容量233の第1の端子を、第2の電位ノードV2又はノードN2に接続する。第2の電位ノードV2には、例えば1Vの直流電圧が印加される。
第1の実施形態は、2個の容量231及び232を用いて、電源電圧の変動を抑制したが、その抑制量が十分でない場合、第2の実施形態が好ましい。第2の実施形態は、3個の容量231〜233を用いるので、第1の実施形態に比べて、電源電圧の変動抑制の効果を大きくすることができる。
図4(B)は、本実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。電源電圧422は、図4(A)の半導体試験回路200を有する半導体試験システムにおける半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。電源電圧421は、図4(A)の半導体試験回路200を有さず、第1の容量231を電源フォース線211及びグランド電位ノード間に固定接続した場合の半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。
電源ユニット102は、電源フォース線211を介して、半導体装置106の電源端子213に直流電源電圧(例えば3V)を供給する。半導体装置106は、テスタ101から試験パターンデータを入力し、内部の多数のトランジスタ等が動作すると、大電流が流れる。すると、半導体装置106の電源端子213の電源電圧421及び422が急激に降下する。本実施形態は、3個の容量231〜233を設けることにより、電源電圧422の変動を抑制し、半導体装置106を正常に動作させることができる。電源電圧422は、電源電圧421に比べ、変動が抑制されている。
まず、時刻t1の前では、電源ユニット102は、電源フォース線211を介して、半導体装置106の電源端子213に例えば3Vの直流電源電圧を供給する。この時、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422もほぼ3Vである。比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より大きいので、ハイレベルをノードN3に出力する。比較器202も、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第2の閾値より大きいので、ハイレベルを出力端子に出力する。
すると、スイッチSW1は、図4(A)に示すように、第1の容量231の第2の電極をグランド電位に接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。スイッチSW3は、第2の容量232の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW4は、第3の容量233の第1の電極を第2の電位ノードV2に接続する。これにより、第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。電源フォース線211には、電源ユニット102により、3Vの電源電圧が印加されているので、第1の容量231は3Vに充電され、電源フォース線211の電圧変動を抑制することができる。第2の容量232は、第1の電位ノードV1及びグランド電位ノード間に接続される。第1の電位ノードV1には、例えば1Vの直流電圧が印加されるので、第2の容量232は、1Vに充電される。第3の容量233は、第2の電位ノードV2及びグランド電位ノード間に接続される。第2の電位ノードV2には、例えば1Vの直流電圧が印加されるので、第3の容量233は、1Vに充電される。
半導体装置106が動作を開始し、半導体装置106に大電流が流れると、電源電圧422が降下を開始する。この際、第1の容量231が電源フォース線211に接続されているため、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422の急激な変動を抑制することができる。これにより、半導体装置106の故障又は誤動作を防止することができる。
次に、時刻t1では、比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より小さくなるので、ローレベルをノードN3に出力する。すると、スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をノードN1に接続する。スイッチSW2は、ノードN4をノードN1に接続する。これにより、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。上記のように、第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電されているので、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211に3V+1V=4Vの電圧を供給する。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422の降下が緩やかになり、電源電圧422の急激な降下を防止することができる。
次に、時刻t2では、比較器202は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第2の閾値より小さくなるので、ローレベルを出力端子に出力する。ここで、第2の閾値は、第1の閾値より小さい。すると、スイッチSW3は、第2の容量232の第2の電極をノードN2に接続する。スイッチSW4は、第3の容量233の第1の電極をノードN2に接続する。これにより、第1の容量231、第2の容量232及び第3の容量233は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。上記のように、第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電され、第3の容量233は1Vに充電されているので、第1の容量231、第2の容量232及び第3の容量233は、電源フォース線211に3V+1V+1V=5Vの電圧を供給する。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422の降下がさらに緩やかになり、電源電圧422の急激な降下を防止することができる。
その後、電源ユニット102は、電源センス線212を介して、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422を検出し、電源電圧422が所定値より低くなると、電源フォース線211の電圧を上昇させる。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422も上昇する。
次に、時刻t3では、比較器202は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第3の閾値より大きくなるので、ハイレベルを出力端子に出力する。なお、比較器202は、ヒステリシス特性を有し、時刻t2の第2の閾値と時刻t3の第3の閾値とを異ならせることができる。
すると、スイッチSW3は、第2の容量232の第2の電極をグランド電位に接続する。スイッチSW4は、第3の容量233の第1の電極を第2の電位ノードV2に接続する。これにより、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電されているので、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211に3V+1V=4Vの電圧を供給し、供給電圧が低下する。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422の過上昇を防止することができる。
次に、時刻t4では、比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第4の閾値より大きくなるので、ハイレベルをノードN3に出力する。なお、比較器201は、ヒステリシス特性を有し、時刻t1の第1の閾値と時刻t4の第4の閾値とを異ならせることができる。
すると、スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をグランド電位に接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。これにより、第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。その後、電源フォース線211には、電源ユニット102により3Vの電源電圧が印加され、第1の容量231は3Vに充電され、電源フォース線211の電圧変動を抑制することができる。第2の容量232は、第1の電位ノードV1及びグランド電位ノード間に接続される。第1の電位ノードV1には、例えば1Vの直流電圧が印加されるので、第2の容量232は、1Vに充電される。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧422の過上昇をさらに防止し、電源電圧422の変動を抑制することができる。
以上のように、時刻t1の前では、スイッチSW1及びSW2は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下が第1の閾値より小さい場合には、第1の容量231を電源フォース線211に接続し、第2の容量232及び第3の容量233を電源フォース線211に接続せずに充電する。
次に、時刻t1では、スイッチSW1及びSW2は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下が第1の閾値より大きくかつ第2の閾値より小さい場合には、第1の容量231及び第2の容量232を直列に電源フォース線211に接続する。
次に、時刻t2では、スイッチSW1及びSW2は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下が第2の閾値より大きい場合には、第1の容量231、第2の容量232及び第3の容量233を直列に電源フォース線211に接続する。
本実施形態は、3個の容量231〜233を用いるので、第1の実施形態に比べて、電源電圧の変動抑制の効果を大きくすることができる。
(第3の実施形態)
図5(A)は、図2(A)に対応し、第3の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。本実施形態(図5(A))は、第1の実施形態(図2(A))に対して、比較器201の代わりにレベルシフトダイオード501を設けたものである。以下、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を説明する。
レベルシフトダイオード501は、アノードが半導体装置106の電源端子213に接続され、カソードがスイッチSW1及びSW2の制御端子に接続され、電源端子213の電圧をレベルシフトしてスイッチSW1及びSW2を制御する。スイッチSW1及びSW2は、レベルシフトダイオード501のカソードの電圧に応じて、オン/オフ制御される。レベルシフトダイオード501は、スイッチSW1及びSW2をオン/オフ制御する電圧を調整するための素子である。例えば、半導体装置106の電源端子213が3Vの場合、レベルシフトダイオード501は、アノードが3Vであり、カソードが2.5Vであり、スイッチSW1は第1の容量231の第2の電極をグランド電位ノードに接続し、スイッチSW2はノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。また、半導体装置106の電源端子213が2.5Vの場合、レベルシフトダイオード501は、アノードが2.5Vであり、カソードが1.5Vであり、スイッチSW1は第1の容量231の第2の電極をノードN1に接続し、スイッチSW2はノードN4をノードN1に接続する。
図5(B)は、図5(A)のスイッチSW2の構成例を示す回路図である。以下、スイッチSW2の構成例を説明するが、スイッチSW1もスイッチSW2と同様の構成を有する。
インバータ515は、ノードN3の電圧の論理反転電圧を出力する。インバータ516は、インバータ515の出力電圧の論理反転電圧を出力する。nチャネル電界効果トランジスタ511は、ドレインが第1の第1の電位ノードV1に接続され、ゲートがノードN3に接続され、ソースがノードN4に接続される。pチャネル電界効果トランジスタ512は、ソースが第1の電位ノードV1に接続され、ゲートがインバータ515の出力端子に接続され、ドレインがノードN4に接続される。nチャネル電界効果トランジスタ513は、ドレインがノードN1に接続され、ゲートがインバータ515の出力端子に接続され、ソースがノードN4に接続される。pチャネル電界効果トランジスタ512は、ソースがノードN1に接続され、ゲートがインバータ516の出力端子に接続され、ドレインがノードN4に接続される。
ノードN3の電圧がハイレベル(2.5V)になると、トランジスタ511及び512がオンし、トランジスタ513及び514がオフする。この場合、ノードN4は、第1の電位ノードV1に接続される。
ノードN3の電圧がローレベル(1.5V)になると、トランジスタ511及び512がオフし、トランジスタ513及び514がオンする。この場合、ノードN4は、ノードN1に接続される。
以上のように、スイッチSW1及びSW2は、レベルシフトダイオード501によりレベルシフトされた電圧に応じて、電源フォース線211に接続する容量の数を変化させる。本実施形態は、半導体装置106の電源端子213の電圧降下量を特定できていれば、レベルシフトダイオード501を使用することにより、図2(A)の比較器201が不要になる。これにより、本実施形態は、第1の実施形態と比べ、高速の応答特性を得ることができる。
(第4の実施形態)
図6(A)は、図2(A)に対応し、第4の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。本実施形態(図6(A))は、第1の実施形態(図2(A))に対して、比較器601、スイッチSW12〜SW14及びインダクタL1〜L4を追加したものである。以下、本実施形態が第1の実施形態と異なる点を説明する。
比較器601は、負入力端子に電源ユニット102の電源電圧を入力し、正入力端子に半導体装置106の電源端子213の電圧を入力し、電源ユニット102の電源電圧及び半導体装置106の電源端子213の電圧を比較し、比較の結果を出力端子に出力する。インダクタL1は、半導体装置106の電源端子213及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW12及びインダクタL2の直列接続回路は、半導体装置106の電源端子213及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW13及びインダクタL3の直列接続回路は、半導体装置106の電源端子213及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW14及びインダクタL4の直列接続回路は、半導体装置106の電源端子213及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW12〜SW14は、比較器601の比較結果に応じて、オン/オフする。
図6(B)は、図2(B)に対応し、本実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。電源電圧612は、図6(A)の半導体試験回路200を有する半導体試験システムにおける半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。電源電圧611は、図2(A)の電源電圧221に対応する。
まず、時刻t1の前では、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612は、ほぼ3Vである。比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より大きいので、ハイレベルをノードN3に出力する。すると、スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。これにより、第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。電源フォース線211には、電源ユニット102により3Vの電源電圧が印加されているので、第1の容量231は3Vに充電され、電源フォース線211の電圧変動を抑制することができる。第2の容量232は、第1の電位ノードV1及びグランド電位ノード間に接続される。第1の電位ノードV1には、例えば1Vの直流電圧が印加される。これにより、第2の容量232は、1Vに充電される。
同様に、比較器601は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第2の閾値より小さいので、ローレベルを出力端子に出力する。すると、スイッチSW12〜SW14は、オンする。
次に、時刻t1では、比較器201は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第1の閾値より小さくなるので、ローレベルをノードN3に出力する。
すると、時刻t2では、スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をノードN1に接続する。スイッチSW2は、ノードN4をノードN1に接続する。これにより、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。上記のように、第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電されているので、第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211に3V+1V=4Vの電圧を供給する。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612の降下が緩やかになり、電源電圧612の急激な降下を防止することができる。
その後、電源ユニット102は、電源センス線212を介して、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612を検出し、電源電圧612が所定値より低くなると、電源フォース線211の電圧を上昇させる。これにより、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612も上昇する。
その後、第1の実施形態と同様に、スイッチSW1及びSW2は、時刻t1の前の状態に戻る。
次に、時刻t3では、比較器601は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が第2の閾値より大きいので、ハイレベルを出力端子に出力する。すると、時刻t4では、スイッチSW12〜SW14は、オフする。その後、比較器601はローレベルを出力し、スイッチSW12〜SW14はオンする。
以上のように、時刻t1〜t3において、電源電圧612の降下を抑制するために急峻な電流供給が必要となるので、複数のインダクタL1〜L4を並列に接続し、インダクタンスを低減させる。
電源電圧612の電位回復のための電圧上昇及び/又は供給電流の増加を行うと、電源電圧612はやがて過上昇となるが、この過上昇を防止するため、時刻t3及びt4では、比較器601がそれを検出し、スイッチSW12〜SW14がインダクタL2〜L4を切り離し、インダクタンスを増加させ、電圧及び電流の急峻な変動を防止することで、電源電圧612の過上昇を防止する。
第2のスイッチSW12〜SW14は、半導体装置106の電源端子213の電圧612に応じて、電源フォース線211のインダクタンス値を変化させる。これにより、半導体装置106への電圧及び電流供給が安定し、正確な半導体装置106の試験が可能になる。
(第5の実施形態)
図7(A)は、図6(A)に対応し、第5の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。本実施形態(図7(A))は、第4の実施形態(図6(A))に対して、比較器202,203,602,603、容量233,234及びスイッチSW3〜SW6を追加したものである。以下、本実施形態が第4の実施形態と異なる点を説明する。
比較器201〜203、601〜603は、半導体装置106の電源端子213の電源電圧612から電源ユニット102の電源電圧を減算した値が閾値より大きい場合にはハイレベルを出力し、小さい場合にはローレベルを出力する。ただし、図7(B)に示すように、それぞれ、比較器201〜203、601〜603のオフセット調整端子に接続される抵抗611の値は異なり、比較器201〜203、601〜603のそれぞれの閾値が異なる。なお、比較器201〜203、601〜603には、電源電圧端子Vcが設けられている。
ノードN4は、第2の容量232の第1の端子に接続される。スイッチSW3は、比較器202の出力電圧に応じて、第2の容量232の第2の端子を、グランド電位ノード又はノードN2に接続する。スイッチSW4は、比較器202の出力電圧に応じて、第3の容量233の第1の端子を、第2の電位ノードV2又はノードN2に接続する。第2の電位ノードV2には、例えば1Vの直流電圧が印加される。スイッチSW5は、比較器203の出力電圧に応じて、第3の容量233の第2の端子を、グランド電位ノード又はノードN5に接続する。スイッチSW6は、比較器203の出力電圧に応じて、第4の容量234の第1の端子を、ノードN5又は第3の電位ノードV3に接続する。第3の電位ノードV3には、例えば1Vの直流電圧が印加される。第4の容量234の第2の電極は、グランド電位ノードに接続される。
スイッチSW14は、比較器601の出力電圧に応じてオン又はオフする。スイッチSW13は、比較器602の出力電圧に応じてオン又はオフする。スイッチSW12は、比較器603の出力電圧に応じてオン又はオフする。
図8は、図6(B)に対応し、本実施形態による半導体試験システムの処理例を示すタイムチャートである。電源電圧702は、図7(A)の半導体試験回路200を有する半導体試験システムにおける半導体装置106の電源端子213の電圧波形である。電源電圧701は、図2(A)の電源電圧221に対応する。
定常時、電源電圧702は、ほぼ電圧Va4である。電圧Va4は、電源ユニット102が電源フォース線211に供給する電圧であり、例えば3Vである。この場合、第4の実施形態と同様に、スイッチSW12〜SW14はオンする。スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW2は、ノードN4を第1の電位ノードV1に接続する。スイッチSW3は、第2の容量232の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW4は、第3の容量233の第1の電極を第2の電位ノードV2に接続する。スイッチSW5は、第3の容量233の第2の電極をグランド電位ノードに接続する。スイッチSW6は、第4の容量234の第1の電極を第3の電位ノードV3に接続する。第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。第2の容量232は、第1の電位ノードV1の1Vに充電される。第3の容量233は、第2の電位ノードV2の1Vに充電される。第4の容量234は、第3の電位ノードV3の1Vに充電される。
その後、電源電圧702が電圧Va3に低下すると、比較器201は、ローレベルを出力する。すると、スイッチSW1は、第1の容量231の第2の電極をノードN1に接続する。スイッチSW2は、ノードN4をノードN1に接続する。第1の容量231及び第2の容量232は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。第1の容量231は3Vに充電され、第2の容量232は1Vに充電されているので、電源フォース線211には3V+1V=4Vが印加され、電源電圧702の低下を抑制することができる。
その後、電源電圧702が電圧Va2に低下すると、比較器202は、ローレベルを出力する。すると、スイッチSW3は、第2の容量232の第2の電極をノードN2に接続する。スイッチSW4は、第3の容量233の第1の電極をノードN2に接続する。容量231〜233は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。容量231は3Vに充電され、容量232及び233は1Vに充電されているので、電源フォース線211には3V+1V+1V=5Vが印加され、電源電圧702の低下をさらに抑制することができる。
その後、電源電圧702が電圧Va1に低下すると、比較器203は、ローレベルを出力する。すると、スイッチSW5は、第3の容量233の第2の電極をノードN5に接続する。スイッチSW6は、第4の容量234の第1の電極をノードN5に接続する。容量231〜234は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に直列に接続される。容量231は3Vに充電され、容量232〜234は1Vに充電されているので、電源フォース線211には3V+1V+1V+1V=6Vが印加され、電源電圧702の低下をさらに抑制することができる。
その後、電源電圧702が電圧Va5に上昇すると、比較器601は、ハイレベルを出力する。すると、スイッチSW14は、オフする。これにより、電源フォース線211のインダクタンス値が増加し、電源電圧612の過上昇を防止することができる。
その後、電源電圧702が電圧Va6に上昇すると、比較器602は、ハイレベルを出力する。すると、スイッチSW13は、オフする。これにより、電源フォース線211のインダクタンス値がさらに増加し、電源電圧612の過上昇をさらに防止することができる。
その後、電源電圧702が電圧Va7に上昇すると、比較器603は、ハイレベルを出力する。すると、スイッチSW12は、オフする。これにより、電源フォース線211のインダクタンス値がさらに増加し、電源電圧612の過上昇をさらに防止することができる。
本実施形態は、4個の容量231〜234を用いることにより、電源電圧の低下を防止し、4個のインダクタL1〜L4を用いることにより、電源電圧の過上昇を防止することができる。
(第6の実施形態)
図9(A)は、第6の実施形態による半導体試験システムの一部の構成例を示す図である。本実施形態(図9(A))は、第4の実施形態(図6(A))に対して、比較201,601を削除し、容量233,234、キャプチャメモリ902、解析部903及びスイッチ制御回路904を追加したものである。以下、本実施形態が第4の実施形態と異なる点を説明する。
第1〜第5の実施形態は、電源電圧の変動に対して、受動的に動作する半導体試験装置を説明したが、半導体試験回路200の動作速度では、電源電圧の変動を十分に抑制できない場合がある。そのような場合でも、電源電圧の変動を十分に抑制することができる半導体試験装置の実施形態を、以下、説明する。
第1の容量231は、電源フォース線211及びグランド電位ノード間に接続される。スイッチSW22は、第2の容量232の第1の電極及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW23は、第3の容量233の第1の電極及び電源フォース線211間に接続される。スイッチSW24は、第4の容量234の第1の電極及び電源フォース線211間に接続される。容量232〜234の第2の電極は、グランド電位ノードに接続される。テスタ101は、電源ユニット102の他、キャプチャメモリ902、解析部903及びスイッチ制御回路904を有する。
まず、テスタ101は、半導体装置106を試験するための試験パターンデータ901を解析するために、試験パターンデータ901を半導体装置106のデータ端子に出力する。すると、半導体装置106は、試験パターンデータ901を入力し、試験パターンデータ901に応じた動作を行う。これにより、半導体装置106の電源端子213の電圧は、例えば図9(B)のように変動する。
キャプチャメモリ902は、クロック信号CKに同期して、図9(B)に示すように、半導体装置106の電源端子213の電圧をサンプリングし、そのサンプリングした電圧を記憶する。解析部903は、キャプチャメモリ902に記憶された電圧の周波数を解析し、その解析された周波数に応じたスイッチ制御を決定する。
解析部903は、図10(A)に示すように、半導体装置106の電源端子213の電圧の周波数が高周波数である場合には、電源フォース線211に接続する容量を小さくし、電源フォース線211のインダクタンス値を大きくするように、スイッチSW12〜SW14及びSW22〜SW24を制御する。インダクタンス値を大きくすることにより、図10(C)に示すように、半導体装置106の電源端子213の電圧の変動を抑制することができる。
また、解析部903は、図10(B)に示すように、半導体装置106の電源端子213の電圧の周波数が低周波数である場合には、電源フォース線211に接続する容量を大きくし、電源フォース線211のインダクタンス値を小さくするように、スイッチSW12〜SW14及びSW22〜SW24を制御する。容量を大きくすることにより、図10(C)に示すように、半導体装置106の電源端子213の電圧の変動を抑制することができる。
以上のように、解析部903は、半導体装置106に試験パターンデータ901を入力したときの半導体装置106の電源端子213の電圧波形を解析する。そして、解析部903は、解析された周波数が周波数閾値より高い期間では電源フォース線211に接続する容量値を第1の値に、解析された周波数が周波数閾値より低い期間では電源フォース線211に接続する容量値を第1の値より大きい第2の値になるように、第1のスイッチSW22〜SW24を制御することを決定する。また、解析部903は、解析された周波数が周波数閾値より高い期間では電源フォース線211のインダクタンス値を第1のインダクタンス値に、解析された周波数が周波数閾値より低い期間では電源フォース線211のインダクタンス値を第1のインダクタンス値より小さい第2のインダクタンス値になるように、第2のスイッチSW12〜SW14を制御することを決定する。
上記の解析後、半導体試験装置は、半導体装置106の試験を行う。テスタ106は、半導体装置106のデータ端子に試験パターンデータ901を再び出力する。解析部903は、上記の解析の結果に応じて、スイッチSW12〜SW14及びSW22〜SW24の制御をスイッチ制御回路904に指示する。スイッチ制御回路904は、その指示に応じて、スイッチSW12〜SW14及びSW22〜SW24を制御する。第1のスイッチSW22〜SW24は、解析部903で解析された周波数が周波数閾値より高い期間では電源フォース線211に接続する容量値を第1の値に、解析された周波数が周波数閾値より低い期間では電源フォース線211に接続する容量値を第1の値より大きい第2の値になるように、オン又はオフする。また、第2のスイッチSW12〜SW14は、解析部903で解析された周波数が周波数閾値より高い期間では電源フォース線211のインダクタンス値を第1のインダクタンス値に、解析された周波数が周波数閾値より低い期間では電源フォース線211のインダクタンス値を第1のインダクタンス値より小さい第2のインダクタンス値になるように、オン又はオフする。
なお、解析部903は、3個以上の周波数帯域に分割し、解析された周波数が属する周波数帯域に応じて、スイッチSW22〜SW24等を制御することにより、3個以上の容量値のうちの1個の値になるように制御し、スイッチSW12〜SW14等を制御することにより、3個以上のインダクタンス値のうちの1個の値になるように制御するようにしてもよい。
本実施形態によれば、半導体装置106の電源端子213の電圧波形の周波数に応じて、最適な容量値及びインダクタンス値を決定することができ、より適切に電源端子213の電圧変動を抑制することができる。なお、解析部903が解析する際、実際の試験パターン901と同じ試験パターンデータ901を半導体装置106に入力することが好ましい。ただし、試験パターンデータ901が長大な場合には、電源端子213の電圧変動を再現可能な試験パターンデータを用いて、解析を行い、解析時間を短縮するようにしてもよい。
第1〜第6の実施形態によれば、電源フォース線211に接続する容量の数を変化させることにより、半導体装置106の電源電圧の変動を抑制すると共に、半導体装置106の電源電流の測定精度を向上させることができる。
なお、上記実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
以上の実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
(付記1)
半導体装置の試験を行う半導体試験装置であって、
前記半導体装置の電源端子に電源電圧を供給するための電源線と、
複数の容量と、
前記複数の容量を前記電源線に接続するための第1のスイッチとを有し、
前記第1のスイッチは、前記電源端子の電圧降下に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする半導体試験装置。
(付記2)
前記複数の容量は、第1の容量及び第2の容量を有し、
前記第1のスイッチは、
前記電源端子の電圧降下が第1の閾値より小さい場合には、前記第1の容量を前記電源線に接続し、前記第2の容量を前記電源線に接続せずに充電し、
前記電源端子の電圧降下が前記第1の閾値より大きい場合には、前記第1の容量及び前記第2の容量を直列に前記電源線に接続することを特徴とする付記1記載の半導体試験装置。
(付記3)
さらに、前記電源線を介して前記電源端子に電源電圧を供給する電源ユニットと、
前記電源ユニットの電源電圧及び前記電源端子の電圧を比較する比較器とを有し、
前記第1のスイッチは、前記比較器の比較の結果に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする付記2記載の半導体試験装置。
(付記4)
前記複数の容量は、第3の容量をさらに有し、
前記第1のスイッチは、
前記電源端子の電圧降下が第1の閾値より小さい場合には、前記第1の容量を前記電源線に接続し、前記第2の容量及び前記第3の容量を前記電源線に接続せずに充電し、
前記電源端子の電圧降下が前記第1の閾値より大きくかつ第2の閾値より小さい場合には、前記第1の容量及び前記第2の容量を直列に前記電源線に接続し、
前記電源端子の電圧降下が前記第2の閾値より大きい場合には、前記第1の容量、前記第2の容量及び前記第3の容量を直列に前記電源線に接続することを特徴とする付記2又は3記載の半導体試験装置。
(付記5)
さらに、前記電源端子の電圧をレベルシフトするレベルシフトダイオードを有し、
前記第1のスイッチは、前記レベルシフトダイオードによりレベルシフトされた電圧に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする付記2記載の半導体試験装置。
(付記6)
さらに、前記電源端子の電圧に応じて、前記電源線のインダクタンス値を変化させる第2のスイッチを有することを特徴とする付記1〜5のいずれか1項に記載の半導体試験装置。
(付記7)
さらに、前記半導体装置に試験パターンデータを入力したときの前記電源端子の電圧波形を解析する解析部を有し、
前記第1のスイッチは、前記解析部により解析された結果に応じて、前記半導体装置に前記試験パターンデータを入力したときに、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする付記1記載の半導体試験装置。
(付記8)
前記解析部は、前記電圧波形の周波数を解析し、
前記第1のスイッチは、前記解析された周波数が周波数閾値より高い期間では前記電源線に接続する容量値を第1の値に制御し、前記解析された周波数が前記周波数閾値より低い期間では前記電源線に接続する容量値を前記第1の値より大きい第2の値に制御することを特徴とする付記7記載の半導体試験装置。
(付記9)
さらに、前記解析部により解析された結果に応じて、前記半導体装置に前記試験パターンデータを入力したときに、前記電源線のインダクタンス値を変化させる第2のスイッチを有することを特徴とする付記7記載の半導体試験装置。
(付記10)
前記解析部は、前記電圧波形の周波数を解析し、
前記第1のスイッチは、前記解析された周波数が周波数閾値より高い期間では前記電源線に接続する容量値を第1の値に制御し、前記解析された周波数が前記周波数閾値より低い期間では前記電源線に接続する容量値を前記第1の値より大きい第2の値に制御し、
前記第2のスイッチは、前記解析された周波数が周波数閾値より高い期間では前記電源線のインダクタンス値を第1のインダクタンス値に制御し、前記解析された周波数が前記周波数閾値より低い期間では前記電源線のインダクタンス値を前記第1のインダクタンス値より小さい第2のインダクタンス値に制御することを特徴とする付記9記載の半導体試験装置。
101 テスタ
102 電源ユニット
103 ケーブル
104 テストヘッド
105 テストボード
106 半導体装置
200 半導体試験回路
201 比較器
211 電源フォース線
212 電源センス線
213 電源端子
231,232 容量

Claims (7)

  1. 半導体装置の試験を行う半導体試験装置であって、
    前記半導体装置の電源端子に電源電圧を供給するための電源線と、
    複数の容量と、
    前記複数の容量を前記電源線に接続するための第1のスイッチとを有し、
    前記第1のスイッチは、前記電源端子の電圧降下に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする半導体試験装置。
  2. 前記複数の容量は、第1の容量及び第2の容量を有し、
    前記第1のスイッチは、
    前記電源端子の電圧降下が第1の閾値より小さい場合には、前記第1の容量を前記電源線に接続し、前記第2の容量を前記電源線に接続せずに充電し、
    前記電源端子の電圧降下が前記第1の閾値より大きい場合には、前記第1の容量及び前記第2の容量を直列に前記電源線に接続することを特徴とする請求項1記載の半導体試験装置。
  3. さらに、前記電源線を介して前記電源端子に電源電圧を供給する電源ユニットと、
    前記電源ユニットの電源電圧及び前記電源端子の電圧を比較する比較器とを有し、
    前記第1のスイッチは、前記比較器の比較の結果に応じて、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする請求項2記載の半導体試験装置。
  4. さらに、前記電源端子の電圧に応じて、前記電源線のインダクタンス値を変化させる第2のスイッチを有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体試験装置。
  5. さらに、前記半導体装置に試験パターンデータを入力したときの前記電源端子の電圧波形を解析する解析部を有し、
    前記第1のスイッチは、前記解析部により解析された結果に応じて、前記半導体装置に前記試験パターンデータを入力したときに、前記電源線に接続する前記容量の数を変化させることを特徴とする請求項1記載の半導体試験装置。
  6. 前記解析部は、前記電圧波形の周波数を解析し、
    前記第1のスイッチは、前記解析された周波数が周波数閾値より高い期間では前記電源線に接続する容量値を第1の値に制御し、前記解析された周波数が前記周波数閾値より低い期間では前記電源線に接続する容量値を前記第1の値より大きい第2の値に制御することを特徴とする請求項5記載の半導体試験装置。
  7. さらに、前記解析部により解析された結果に応じて、前記半導体装置に前記試験パターンデータを入力したときに、前記電源線のインダクタンス値を変化させる第2のスイッチを有することを特徴とする請求項5記載の半導体試験装置。
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