JP2014208471A - Laminate film, film roll of the same, light-transmitting conductive film obtained from the same, and touch panel utilizing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層フィルム及びそのフィルムロール、並びにそれから得られうる光透過性導電性フィルム及びそれを利用したタッチパネルに関する。 The present invention relates to a laminated film, a film roll thereof, a light-transmitting conductive film obtainable therefrom, and a touch panel using the same.
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、ＰＥＴ等からなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層を積層して得られる光透過性導電性フィルムが数多く使用されている。この光透過性導電性フィルムにおいては、通常、光透過性導電層が最外層となるように配置されている。この光透過性導電性フィルムは製造後の流通経路において、フィルムロールとしていったん巻き取られた上で製造場所から次の目的地まで運搬され、その目的地において巻き戻すことによりフィルムとして使用されるのが通常である。 Light transmissive conductive film obtained by laminating a light transmissive conductive layer made of indium tin oxide (ITO) or the like on a light transmissive support layer made of PET or the like as a light transmissive conductive film mounted on a touch panel. Many films are used. In this light-transmitting conductive film, the light-transmitting conductive layer is usually disposed so as to be the outermost layer. The light-transmitting conductive film is used as a film by being wound up as a film roll once in the distribution route after manufacture, transported from the manufacturing place to the next destination, and rewound at the destination. Is normal.
このようにフィルムロールとして巻き取る際に光透過性導電性フィルムを保護する目的で、いわゆる保護フィルムを光透過性導電性フィルムの光透過性導電層とは反対側の面に貼付して積層フィルムとすることがある。この積層フィルムがフィルムロールとして巻き取られると、光透過性導電層と保護フィルムの表面同士が互いに隣接した状態となる。この積層フィルムは、フィルムロールを巻き戻し、さらに最終的に保護フィルムを剥離した上で、光透過性導電性フィルムとしてタッチパネルに搭載する等の用途に使用される（特許文献１〜５）。
For the purpose of protecting the light-transmitting conductive film when wound up as a film roll in this way, a so-called protective film is stuck on the surface of the light-transmitting conductive film opposite to the light-transmitting conductive layer, and a laminated film It may be. When this laminated film is wound up as a film roll, the surfaces of the light-transmitting conductive layer and the protective film are adjacent to each other. This laminated film is used for applications such as mounting on a touch panel as a light-transmitting conductive film after the film roll is rewound and the protective film is finally peeled off (
前述の積層フィルムをフィルムロールとして巻き取る際には、光透過性導電層と保護フィルムの表面同士が互いに隣接した状態となる。本発明者らは、この際にこれらの表面同士が互いに過度に接着していると、巻き取る過程で表面が適度に滑らず、光透過性導電層の表面に気泡状の外観欠点が発生してしまうことを新たに見出した。さらに、本発明者らは、この気泡欠点現象が、光透過性導電層の表面が比較的平滑である場合により顕著になる傾向があることをも見出した。 When the aforementioned laminated film is wound up as a film roll, the surfaces of the light-transmissive conductive layer and the protective film are adjacent to each other. In this case, if the surfaces are excessively adhered to each other, the surface does not slip appropriately during the winding process, and a bubble-like appearance defect occurs on the surface of the light-transmitting conductive layer. I found a new thing. Furthermore, the present inventors have also found that this bubble defect phenomenon tends to become more prominent when the surface of the light-transmitting conductive layer is relatively smooth.
本発明は、光透過性導電層の表面が比較的平滑な光透過性導電性フィルムに保護フィルムが貼付されてなる積層フィルムであるにもかかわらず、上記のような気泡欠点現象が抑制された積層フィルムを提供することを課題とする。 Although the present invention is a laminated film in which a protective film is attached to a light-transmitting conductive film having a relatively smooth surface, the above-described bubble defect phenomenon is suppressed. It is an object to provide a laminated film.
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、本発明を完成させた。具体的には、本発明者らは、光透過性導電層の表面が比較的平滑な光透過性導電性フィルム、具体的には、光透過性導電層の平均表面粗さＲａが２ｎｍ以下である光透過性導電性フィルムを使用する場合、このフィルムに特定の表面性状を備える保護フィルムを貼付することによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性導電性フィルム；及び
（Ｂ）保護フィルム
を含有する積層フィルムであって、
前記光透過性導電性フィルム（Ａ）が、
（Ａ−１）光透過性支持層；及び
（Ａ−２）光透過性導電層；
をそれぞれ一以上含有し、かつ
少なくとも一方の最外層が一の光透過性導電層（Ａ−２）である光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電性フィルム（Ａ）の最外層の前記光透過性導電層（Ａ−２）の少なくとも一が、前記積層フィルムの一方の表面に配置され、
保護フィルム（Ｂ）が、前記積層フィルムの他方の表面に配置されており、
前記光透過性導電層（Ａ−２）側の前記表面の平均表面粗さＲａが０．４ｎｍ〜２ｎｍであり、かつ
前記保護フィルム（Ｂ）側の前記表面が、レーザー顕微鏡観察において２８０μｍ×２００μｍの領域内に高さ０．３μｍ以上の突起が２〜１０個観察されるものであることを特徴とする、積層フィルム。
項２．
前記光透過性導電層（Ａ−２）側の表面の十点平均粗さＲｚｊｉｓが、４ｎｍ〜７ｎｍである、項１に記載の積層フィルム。
項３．
Ｈａｚｅ値が、５％以下である、項１又は２に記載の積層フィルム。
項４．
前記光透過性導電層（Ａ−２）が、酸化インジウムスズを含む、項１〜３のいずれかに記載の積層フィルム。
項５．
項１〜４のいずれかに記載の積層フィルムを巻き取ってなるフィルムロール。
項６．
項１〜４のいずれかに記載の積層フィルムから保護フィルム（Ｂ）を剥離することにより光透過性導電性フィルム（Ａ）を得る工程を含有する方法により得られうる、光透過性導電性フィルム。
項７．
項６に記載の光透過性導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
The inventors of the present invention have intensively studied to solve the above problems and have completed the present invention. Specifically, the inventors have a light-transmitting conductive film with a relatively smooth surface of the light-transmitting conductive layer. Specifically, the average surface roughness Ra of the light-transmitting conductive layer is 2 nm or less. When using a certain light-transmitting conductive film, it discovered that the said subject could be solved by sticking a protective film provided with a specific surface property on this film, and completed this invention. That is, the present invention is as follows.
(A) a light transmissive conductive film; and (B) a laminated film containing a protective film,
The light-transmitting conductive film (A) is
(A-1) a light transmissive support layer; and (A-2) a light transmissive conductive layer;
Each of which is a light-transmitting conductive film, wherein at least one outermost layer is one light-transmitting conductive layer (A-2),
At least one of the light transmissive conductive layers (A-2) of the outermost layer of the light transmissive conductive film (A) is disposed on one surface of the laminated film,
The protective film (B) is disposed on the other surface of the laminated film,
The average surface roughness Ra of the surface on the light-transmissive conductive layer (A-2) side is 0.4 nm to 2 nm, and the surface on the protective film (B) side is 280 μm × 200 μm in laser microscope observation. 2. A laminated film, wherein 2 to 10 protrusions having a height of 0.3 μm or more are observed in the region.
Item 2.
Item 10. The laminated film according to
Item 3.
Item 3. The laminated film according to
Item 4.
Item 4. The laminated film according to any one of
Item 5.
The film roll formed by winding up the laminated | multilayer film in any one of claim | item 1-4.
Item 6.
The light transmissive conductive film which can be obtained by the method of containing the process of obtaining a light transmissive conductive film (A) by peeling a protective film (B) from the laminated | multilayer film in any one of claim | item 1 -4. .
Item 7.
Item 7. A touch panel comprising the light transmissive conductive film according to item 6.
本発明によれば、光透過性導電性フィルムにおける光透過性導電層の表面を比較的平滑とすることと、光透過性導電性フィルムに保護フィルムを貼付してフィルムロールとして巻き取った際における気泡欠点現象を抑制することとを両立させることができる。 According to the present invention, the surface of the light-transmitting conductive layer in the light-transmitting conductive film is relatively smooth, and when the protective film is applied to the light-transmitting conductive film and wound as a film roll It is possible to achieve both suppression of the bubble defect phenomenon.
１． 積層フィルム
本発明の積層フィルムは、二以上のフィルムが積層した構成を備えるフィルムであって、
（Ａ）光透過性導電性フィルム；
（Ｂ）保護フィルム
を含有する。
1. Laminated film The laminated film of the present invention is a film having a configuration in which two or more films are laminated,
(A) a light transmissive conductive film;
(B) Contains a protective film.
本発明の積層フィルムにおいて、光透過性導電性フィルム（Ａ）は、
（Ａ−１）光透過性支持層；及び
（Ａ−２）光透過性導電層；
をそれぞれ一以上含有し、
少なくとも一方の最外層が一の光透過性導電層（Ａ−２）であるという構成を備える。すなわち、光透過性導電性フィルム（Ａ）は、二以上の光透過性導電層（Ａ−２）を含有していてもよく、また、この場合、光透過性導電性フィルム（Ａ）は、一の光透過性導電層（Ａ−２）が光透過性支持層（Ａ−１）の一方の面に最外層となるように配置されていればよく、さらに別の光透過性導電層（Ａ−２）が光透過性支持層（Ａ−１）の他方の面に配置されていてもよい。後者のときはさらに、当該別の光透過性導電層（Ａ−２）が光透過性支持層（Ａ−１）の他方の面に最外層となるように配置されていてもよい。
In the laminated film of the present invention, the light transmissive conductive film (A) is:
(A-1) a light transmissive support layer; and (A-2) a light transmissive conductive layer;
Each containing one or more
At least one outermost layer is configured to be one light transmissive conductive layer (A-2). That is, the light transmissive conductive film (A) may contain two or more light transmissive conductive layers (A-2). In this case, the light transmissive conductive film (A) One light transmissive conductive layer (A-2) may be disposed on one surface of the light transmissive support layer (A-1) so as to be the outermost layer, and another light transmissive conductive layer ( A-2) may be disposed on the other surface of the light-transmissive support layer (A-1). In the latter case, the other light transmissive conductive layer (A-2) may be disposed on the other surface of the light transmissive support layer (A-1) so as to be the outermost layer.
本発明の積層フィルムにおいては、光透過性導電性フィルム（Ａ）の最外層に配置されている光透過性導電層（Ａ−２）の少なくとも一が、積層フィルムの一方の表面（「光透過性導電層（Ａ−２）側の表面」ということがある。）に配置されており、かつ保護フィルム（Ｂ）が積層フィルムの他方の表面（「保護フィルム（Ｂ）側の表面」ということがある。）に配置されている。本発明の積層フィルムは、光透過性導電層（Ａ−２）及び保護フィルム（Ｂ）がそれぞれ表面に配置されていればよく、光透過性導電性フィルム（Ａ）と保護フィルム（Ｂ）の間に別のフィルム等、その他の構造が介在していてもよい。また、前述のように光透過性支持層（Ａ−１）の両方の面に最外層となるようにそれぞれ光透過性導電層（Ａ−２）が配置されているときは、いずれの光透過性導電層（Ａ−２）が積層フィルムの表面に配置されていてもよい。 In the laminated film of the present invention, at least one of the light transmissive conductive layers (A-2) arranged in the outermost layer of the light transmissive conductive film (A) is one surface of the laminated film (“light transmissive”). The protective film (B) is disposed on the conductive conductive layer (A-2) side) and the protective film (B) is the other surface of the laminated film (the “protective film (B) side surface”) Is located). In the laminated film of the present invention, the light-transmitting conductive layer (A-2) and the protective film (B) may be disposed on the surface, and the light-transmitting conductive film (A) and the protective film (B). Other structures such as another film may be interposed therebetween. Further, as described above, when the light-transmitting conductive layer (A-2) is disposed on both sides of the light-transmitting support layer (A-1) so as to be the outermost layer, any light transmission is possible. Conductive layer (A-2) may be disposed on the surface of the laminated film.
さらに、本発明の積層フィルムの表面、すなわち、光透過性導電層（Ａ−２）側の表面、及び保護フィルム（Ｂ）側の表面は、それぞれ以下の特性を備える：（ａ−２）光透過性導電層（Ａ−２）側の表面の平均表面粗さＲａが０．４ｎｍ〜２ｎｍであり；かつ
（ｂ）保護フィルム（Ｂ）側の表面が、レーザー顕微鏡観察において２８０μｍ×２００μｍの領域内に高さ０．３μｍ以上の突起が２〜１０個観察されるものである。
Furthermore, the surface of the laminated film of the present invention, that is, the surface on the light transmissive conductive layer (A-2) side, and the surface on the protective film (B) side each have the following characteristics: (a-2) Light The average surface roughness Ra of the surface on the transparent conductive layer (A-2) side is 0.4 nm to 2 nm; and (b) the surface on the protective film (B) side is a region of 280 μm × 200 μm in laser microscope observation Two to ten protrusions having a height of 0.3 μm or more are observed inside.
図１に、本発明の積層フィルムの一態様を示す。この態様では、まず、光透過性導電性フィルムが、光透過性支持層（Ａ−１）の一方の面に、直接（すなわち、隣接して）、光透過性導電層（Ａ−２）が配置されている構成を備える。このとき、光透過性導電層（Ａ−２）は、光透過性支持層（Ａ−１）の当該面の最外層となっている。そして、この光透過性導電層（Ａ−２）が積層フィルムの一方の表面に、かつ保護フィルム（Ｂ）が積層フィルムの他方の表面に、それぞれ配置されている。 In FIG. 1, the one aspect | mode of the laminated | multilayer film of this invention is shown. In this aspect, first, the light-transmitting conductive film is directly (that is, adjacent) to one surface of the light-transmitting support layer (A-1), and the light-transmitting conductive layer (A-2) is provided. The arrangement is arranged. At this time, the light transmissive conductive layer (A-2) is the outermost layer on the surface of the light transmissive support layer (A-1). And this light transmissive conductive layer (A-2) is arrange | positioned at the one surface of a laminated | multilayer film, and the protective film (B) is each arrange | positioned at the other surface of a laminated | multilayer film.
図２に、本発明の積層フィルムの別の態様を示す。この態様では、まず、光透過性導電性フィルムが、光透過性支持層（Ａ−１）の両方の面に、直接、光透過性導電層（Ａ−２）がそれぞれ配置されている構成を備える。このとき、二つの光透過性導電層（Ａ−２）は光透過性支持層（Ａ−１）の両方の面の最外層となっている。さらに、任意の一方の光透過性導電層（Ａ−２）が積層フィルムの一方の表面に、かつ保護フィルム（Ｂ）が積層フィルムの他方の表面に、それぞれ配置されている。 FIG. 2 shows another embodiment of the laminated film of the present invention. In this aspect, first, the light transmissive conductive film has a configuration in which the light transmissive conductive layer (A-2) is directly disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A-1). Prepare. At this time, the two light-transmissive conductive layers (A-2) are outermost layers on both surfaces of the light-transmissive support layer (A-1). Furthermore, arbitrary one light transmissive conductive layer (A-2) is arrange | positioned at the one surface of a laminated | multilayer film, and the protective film (B) is each arrange | positioned at the other surface of a laminated | multilayer film.
１．１ 光透過性導電性フィルム（Ａ）
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
1.1 Light transmissive conductive film (A)
In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 88% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).
本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００（製品名）、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて測定対象となるフィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。 In the present invention, the thickness of each layer is determined using a commercially available reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000 (product name), or equivalent). Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, a film to be measured is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focused ion beam, and the cross section is observed.
本明細書において、光透過性支持層（Ａ−１）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ−１）を基準にして、光透過性支持層（Ａ−１）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。 In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A-1), the light transmissive support layer (A- On the basis of 1), one layer having a large distance from the light transmissive support layer (A-1) may be referred to as an “upper” layer or the like.
１．１．１ 光透過性支持層（Ａ−１）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ−１）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1.1 Light transmissive support layer (A-1)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a conductive film containing a light transmissive conductive layer that plays a role of supporting a layer including the light transmissive conductive layer. Although it does not specifically limit as a light transmissive support layer (A-1), For example, in the conductive film for touch panels, what is normally used as a light transmissive support layer can be used.
光透過性支持層（Ａ−１）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ−１）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ−１）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 Although the raw material of a light-transmissive support layer (A-1) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples thereof include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the light transmissive support layer (A-1) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A-1) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
光透過性支持層（Ａ−１）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。 Although the thickness of a light-transmissive support layer (A-1) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned.
１．１．２ 光透過性導電層（Ａ−２）
本発明の積層フィルムにおいては、少なくとも一の光透過性導電層（Ａ−２）が、光透過性支持層（Ａ−１）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して最外層となるように配置されている。
1.1.2 Light transmissive conductive layer (A-2)
In the laminated film of the present invention, at least one light transmissive conductive layer (A-2) is directly or at least one other layer on at least one surface of the light transmissive support layer (A-1). Are arranged to be the outermost layer.
光透過性導電層（Ａ−２）は、光透過性支持層（Ａ−１）の両方の面にそれぞれ少なくとも一層ずつ配置されていてもよい。 The light transmissive conductive layer (A-2) may be disposed at least one layer on each of both surfaces of the light transmissive support layer (A-1).
本発明において光透過性導電層とは、導電性物質を含有し、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ａ−２）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer containing a conductive substance, conducting electricity and transmitting visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (A-2), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the conductive film for touch panels can be used.
光透過性導電層（Ａ−２）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ａ−２）としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ａ−２）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。 The material for the light transmissive conductive layer (A-2) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive layer (A-2) is preferably a light transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (A-2) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.
光透過性導電層（Ａ−２）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ ｉｎｄｉｕｍ ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ａ−２）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (A-2), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) is doped with tin (IV) oxide (SnO 2 ). (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a transparent conductive layer (A-2) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.
光透過性導電層（Ａ−２）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The light transmissive conductive layer (A-2) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.
光透過性導電層（Ａ−２）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。 The light transmissive conductive layer (A-2) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.
光透過性導電層（Ａ−２）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍである。光透過性導電層（Ａ−２）の厚さは、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍである。 Although the thickness of a light transmissive conductive layer (A-2) is not specifically limited, Usually, it is 5-50 nm. The thickness of the light transmissive conductive layer (A-2) is preferably 10 to 40 nm, more preferably 12 to 35 nm, and still more preferably 15 to 30 nm.
光透過性導電層（Ａ−２）を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層（Ａ−２）を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。 The method of disposing the light transmissive conductive layer (A-2) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Specific examples of the method for disposing the light transmissive conductive layer (A-2) include a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a pulse laser deposition method.
光透過性導電層（Ｂ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。 As a method for forming the light transmissive conductive layer (B), a method including a step of baking a conductive material is preferable. Although it does not specifically limit as a baking method, For example, the drum heating at the time of performing sputtering etc., a hot-air-type baking furnace, a far-infrared baking furnace, etc. can be mentioned as an example. Although a calcination temperature is not specifically limited, Usually, it is 30-250 degreeC, Preferably it is 50-200 degreeC, More preferably, it is 80-180 degreeC, More preferably, it is 100-160 degreeC. The firing time is preferably 3 minutes to 180 minutes, more preferably 5 minutes to 120 minutes, and even more preferably 10 minutes to 90 minutes. As an atmosphere for performing the firing, an atmosphere, an inert gas such as nitrogen or argon, oxygen, hydrogenated nitrogen, or a combination of two or more of these can be given under vacuum. By firing the conductive material, crystallization of the conductive material is promoted.
光透過性導電層（Ａ−２）の平均表面粗さＲａは、０．４ｎｍ〜２ｎｍである。すなわち、光透過性導電層（Ａ−２）の表面は比較的平滑である。光透過性導電層（Ａ−２）の表面が比較的平滑であると、抵抗率の低いフィルムが得られるため好ましい。この平均表面粗さＲａは、低抵抗率の点において、０．１〜１ｎｍであればより好ましい。しかしながら、このように光透過性導電層（Ａ−２）の表面がより平滑であればあるほど、フィルムを巻取る際に生じる気泡欠点現象がより顕著になる傾向がある。 The average surface roughness Ra of the light transmissive conductive layer (A-2) is 0.4 nm to 2 nm. That is, the surface of the light transmissive conductive layer (A-2) is relatively smooth. It is preferable that the surface of the light transmissive conductive layer (A-2) is relatively smooth because a film having a low resistivity can be obtained. The average surface roughness Ra is more preferably 0.1 to 1 nm in terms of low resistivity. However, as the surface of the light-transmitting conductive layer (A-2) becomes smoother, the bubble defect phenomenon that occurs when the film is wound tends to become more prominent.
本発明において平均表面粗さＲａは、走査型プローブ顕微鏡を用いて測定される粗さの算術平均を意味する。本発明における平均表面粗さＲａは、詳細には、市販の走査型プローブ顕微鏡を用いて、所定のコンタクトモードで１μｍ平方の測定面を探針で走査して得られる、平均線からの絶対偏差を平均した値である。 In the present invention, the average surface roughness Ra means an arithmetic average of roughness measured using a scanning probe microscope. Specifically, the average surface roughness Ra in the present invention is an absolute deviation from an average line obtained by scanning a 1 μm square measurement surface with a probe in a predetermined contact mode using a commercially available scanning probe microscope. Is an average value.
光透過性導電層（Ａ−２）の十点平均粗さＲｚｊｉｓは、本発明の導電性フィルムから保護フィルムを剥離して光透過性導電性フィルムとして使用する際のＨａｚｅ値が好ましい値を示す、具体的には約１％以下程度になる、という点で、４ｎｍ〜７ｎｍであれば好ましい。 The 10-point average roughness R zjis of the light-transmitting conductive layer (A-2) is a preferable value for the Haze value when the protective film is peeled off from the conductive film of the present invention and used as the light-transmitting conductive film. Specifically, it is preferably 4 nm to 7 nm in that it is about 1% or less.
本発明において平均表面粗さＲａ、及び十点平均粗さＲｚｊｉｓは、市販の走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００、又はその同等品）および市販の走査型プローブ顕微鏡用マイクロカンチレバー（オリンパス社、ＯＭＣＬ−ＮＣＨＲ−１０、バネ定数４２Ｎ／ｍ、またはその同等品）を用いて、所定のダイナミックモードで１μｍ×１μｍ平方の測定面を探針で走査して得られる５１２×５１２画素の形状像から、解析ソフト（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００、又はその同等品）を用いて求める。 In the present invention, the average surface roughness Ra and the ten-point average roughness R zjis are a commercially available scanning probe microscope (Shimadzu Corporation, SPM-9700, or equivalent) and a commercially available microcantilever for a scanning probe microscope. (Olympus, OMCL-NCHR-10, spring constant 42 N / m, or equivalent) 512 × 512 pixels obtained by scanning a 1 μm × 1 μm square measurement surface with a probe in a predetermined dynamic mode From the shape image, analysis software (Shimadzu Corporation, SPM-9700, or equivalent) is used.
１．１．３ 光透過性下地層（Ａ−３）
光透過性導電性フィルム（Ａ）は、さらに、光透過性下地層（Ａ−３）を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層（Ａ−２）が少なくとも光透過性下地層（Ａ−３）を介して光透過性支持層（Ａ−１）の面に配置されていてもよい。
1.1.3 Light transmissive underlayer (A-3)
The light transmissive conductive film (A) further contains a light transmissive underlayer (A-3), and at least one light transmissive conductive layer (A-2) is at least a light transmissive underlayer (A). -3) may be disposed on the surface of the light transmissive support layer (A-1).
光透過性導電層（Ａ−２）は、光透過性下地層（Ａ−３）に隣接して配置されていてもよい。 The light transmissive conductive layer (A-2) may be disposed adjacent to the light transmissive underlayer (A-3).
図３に、本発明の積層フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性導電性フィルム（Ａ）において、光透過性支持層（Ａ−１）の一方の面に直接、光透過性下地層（Ａ−３）が配置されており、この光透過性下地層（Ａ−３）を介して、光透過性下地層（Ａ−３）が配置されている。その他の構成は、後述する図５と同じである。 In FIG. 3, the one aspect | mode of the laminated | multilayer film of this invention is shown. In this embodiment, in the light transmissive conductive film (A), the light transmissive underlayer (A-3) is directly disposed on one surface of the light transmissive support layer (A-1). The light transmissive underlayer (A-3) is disposed via the transmissive underlayer (A-3). Other configurations are the same as those in FIG. 5 described later.
光透過性下地層（Ａ−３）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光透過性下地層（Ａ−３）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン及びアクリルシリカハイブリッド等が挙げられる。光透過性下地層（Ａ−３）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。光透過性下地層（Ａ−３）としては、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる群より選択される１種を含む光透過性下地層が好ましい。光透過性下地層（Ａ−３）は、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる群より選択される１種からなる光透過性下地層であってもよい。光透過性下地層（Ａ−３）としては、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）を含む光透過性下地層が好ましい。光透過性下地層（Ａ−３）は、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層であってもよい。以下、例えば、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層を、ＳｉＯｘ層というように略記する場合がある。 The material for the light-transmitting underlayer (A-3) is not particularly limited, but may be, for example, a dielectric material. The material for the light-transmitting underlayer (A-3) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquiskies. Examples include oxane, polysilazane, and acrylic silica hybrid. The light transmissive underlayer (A-3) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. The light-transmitting underlayer (A-3) is preferably a light-transmitting underlayer including one selected from the group consisting of polysilazane, acrylic silica hybrid, and SiO x (x = 1.0 to 2.0). . The light transmissive underlayer (A-3) is a light transmissive underlayer made of one selected from the group consisting of polysilazane, acrylic silica hybrid, and SiO x (x = 1.0 to 2.0). Also good. The light transmissive underlayer (A-3) is preferably a light transmissive underlayer containing SiO x (x = 1.0 to 2.0). The light transmissive underlayer (A-3) may be a light transmissive underlayer made of SiO x (x = 1.0 to 2.0). Hereinafter, for example, a light-transmitting underlayer made of SiO x (x = 1.0 to 2.0) may be abbreviated as an SiO x layer.
光透過性下地層（Ａ−３）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。光透過性下地層（Ａ−３）が二層以上互いに隣接して配置されているのが好ましい。このような態様の例としては、例えば、隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層からなる積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）、及び隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘＮｙ層からなる積層が挙げられる。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、ＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層の順序は任意であるが、光透過性支持層（Ａ−１）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｂ−２）、光透過性導電層（Ａ−２）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置させるのが好ましい。 One layer of the light transmissive underlayer (A-3) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers. Two or more light-transmitting underlayers (A-3) are preferably disposed adjacent to each other. Examples of such embodiments include, for example, stacking composed of adjacent SiO 2 layers and SiO x layers, and stacking composed of adjacent SiO 2 layers and SiO x N y layers. For example, when two layers are arranged adjacent to each other, the order of the SiO 2 layer and the SiO x layer is arbitrary, but the light transmissive underlayer made of SiO 2 on the light transmissive support layer (A-1) side. (B-2) It is preferable to dispose a light-transmitting underlayer (C-2) made of SiO x (x = 1.0 to 2.0) on the light-transmitting conductive layer (A-2) side.
光透過性下地層（Ａ−３）の一層あたりの厚さとしては、特に限定されないが、例えば１５〜２５ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光透過性下地層（Ａ−３）の合計厚さが上記範囲内であればよい。 Although it does not specifically limit as thickness per layer of a light transmissive base layer (A-3), For example, 15-25 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the light-transmitting underlayers (A-3) adjacent to each other may be within the above range.
光透過性下地層（Ａ−３）の屈折率は、光透過性導電性フィルム（Ａ）が、タッチパネル用途として使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。 The refractive index of the light-transmitting underlayer (A-3) is not particularly limited as long as the light-transmitting conductive film (A) can be used as a touch panel application. For example, 1.4 to 1.5 is preferable.
光透過性下地層（Ａ−３）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法及びパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。 As a method of disposing the light-transmitting underlayer (A-3), as a dry method, for example, a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulsed laser deposition method, or the like. Can be mentioned.
１．１．４ ハードコート層（Ａ−４）
光透過性導電性フィルム（Ａ）は、光透過性下地層（Ａ−３）の代わりに、あるいは光透過性下地層（Ａ−３）に加えてさらに、ハードコート層（Ａ−４）を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層（Ａ−２）が、少なくともハードコート層（Ａ−４）を介して光透過性支持層（Ａ−１）の面に配置されていてもよい。
1.1.4 Hard coat layer (A-4)
The light transmissive conductive film (A) has a hard coat layer (A-4) in place of the light transmissive underlayer (A-3) or in addition to the light transmissive underlayer (A-3). And at least one light transmissive conductive layer (A-2) may be disposed on the surface of the light transmissive support layer (A-1) via at least the hard coat layer (A-4). .
光透過性導電性フィルム（Ａ）が光透過性下地層（Ａ−３）及びハードコート層（Ａ−４）の両者を光透過性支持層（Ａ−１）の同じ面に含む場合は、その光透過性下地層（Ａ−３）が、少なくともそのハードコート層（Ａ−４）を介して光透過性支持層（Ａ−１）の面に配置されている。この場合、光透過性下地層（Ａ−３）は、好ましくはハードコート層（Ａ−４）に隣接して配置されている。 When the light transmissive conductive film (A) includes both the light transmissive underlayer (A-3) and the hard coat layer (A-4) on the same surface of the light transmissive support layer (A-1), The light transmissive underlayer (A-3) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A-1) via at least the hard coat layer (A-4). In this case, the light transmissive underlayer (A-3) is preferably disposed adjacent to the hard coat layer (A-4).
ハードコート層（Ａ−４）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ−１）の少なくとも一方の面に隣接して配置されている。 The hard coat layer (A-4) is preferably disposed adjacent to at least one surface of the light transmissive support layer (A-1).
ハードコート層（Ａ−４）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。 One layer of the hard coat layer (A-4) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.
ハードコート層（Ａ−４）は、光透過性支持層（Ａ−１）の両面に配置されていてもよい。 The hard coat layer (A-4) may be disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A-1).
図６に、本発明の積層フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性導電性フィルム（Ａ）において、光透過性支持層（Ａ−１）の一方の面に直接、一方のハードコート層（Ａ−４）が配置されており、このハードコート層（Ａ−４）を介して光透過性下地層（Ａ−３）がさらに配置され、この光透過性下地層（Ａ−３）を介して光透過性導電層（Ａ−２）がさらに配置されている。また、光透過性支持層（Ａ−１）の他方の面にも直接、他方のハードコート層（Ａ−４）が配置されている。その他の構成は、後述する図５と同じである。 In FIG. 6, the one aspect | mode of the laminated | multilayer film of this invention is shown. In this embodiment, in the light transmissive conductive film (A), one hard coat layer (A-4) is directly disposed on one surface of the light transmissive support layer (A-1). A light-transmitting underlayer (A-3) is further disposed through the coat layer (A-4), and the light-transmitting conductive layer (A-2) is disposed through the light-transmitting underlayer (A-3). It is further arranged. Moreover, the other hard-coat layer (A-4) is directly arrange | positioned also at the other surface of the transparent support layer (A-1). Other configurations are the same as those in FIG. 5 described later.
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ａ−４）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。 In the present invention, the hard coat layer means a layer that prevents the plastic surface from being damaged. Although it does not specifically limit as a hard-coat layer (A-4), For example, what is normally used as a hard-coat layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used.
ハードコート層（Ａ−４）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ａ−４）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ａ−４）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ａ−４）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。 The material of the hard coat layer (A-4) is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. Examples of the material for the hard coat layer (A-4) further include those obtained by dispersing colloidal particles such as silica, zirconia, titania and alumina in the resin. The hard coat layer (A-4) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types. As the hard coat layer (A-4), an acrylic resin in which zirconia particles are dispersed is preferable.
ハードコート層（Ａ−４）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ａ−４）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。 Although the thickness per layer of a hard-coat layer (A-4) is not specifically limited, For example, 0.1-10 micrometers, 1-7 micrometers, 2-6 micrometers, etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the hard coat layers (A-4) adjacent to each other may be within the above range. In the example list shown on the left, the following are more preferable than the above.
ハードコート層（Ａ−４）の屈折率は、光透過性導電性フィルム（Ａ）が、タッチパネル用途として使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．７等が挙げられる。 The refractive index of the hard coat layer (A-4) is not particularly limited as long as the light transmissive conductive film (A) can be used as a touch panel application, and examples thereof include 1.4 to 1.7.
ハードコート層（Ａ−４）は、光透過性下地層（Ａ−３）よりも高い屈折率を有していてもよい。この場合、光透過性下地層（Ａ−３）は好ましくはハードコート層（Ａ−４）の一方の面に隣接して配置されている。このような構成を採ることにより、光透過性下地層（Ａ−３）及びハードコート層（Ａ−４）の光学干渉作用により光透過性導電性フィルム（Ａ）の透過率が向上するので好ましい。また、このような構成を採ることにより、パターン化された光透過性導電層（Ａ−２）のパターン見えが軽減される。 The hard coat layer (A-4) may have a higher refractive index than the light-transmitting underlayer (A-3). In this case, the light-transmitting underlayer (A-3) is preferably disposed adjacent to one surface of the hard coat layer (A-4). By adopting such a configuration, the transmittance of the light transmissive conductive film (A) is improved by the optical interference action of the light transmissive underlayer (A-3) and the hard coat layer (A-4), which is preferable. . Further, by adopting such a configuration, the pattern appearance of the patterned light-transmitting conductive layer (A-2) is reduced.
ハードコート層（Ａ−４）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。 The method of disposing the hard coat layer (A-4) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying to a film and curing with heat, a method of curing with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the like. It is done. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.
１．１．５ その他の層（Ａ−５）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ−１）の少なくとも一方の面に、光透過性導電層（Ａ−２）に加えて、光透過性下地層（Ａ−３）、ハードコート層（Ａ−４）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ａ−５）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
1.1.5 Other layers (A-5)
In addition to the light-transmitting conductive layer (A-2), the light-transmitting conductive film of the present invention is provided on at least one surface of the light-transmitting support layer (A-1). 3) At least one layer selected from the group consisting of the hard coat layer (A-4) and at least one other layer (A-5) different from them may be further arranged.
その他の層（Ａ−５）としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。 Although it does not specifically limit as another layer (A-5), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。 The adhesive layer is a layer that is disposed between two layers so as to be adjacent to each other and to adhere the two layers to each other. Although it does not specifically limit as a contact bonding layer, For example, what is normally used as a contact bonding layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used. The adhesive layer may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.
１．２ 保護フィルム（Ｂ）
本発明において、保護フィルム（Ｂ）とは、主にフィルムロールとして巻き取る際に光透過性導電性フィルムを保護する目的で光透過性導電性フィルムに貼付して使用されるフィルムのことをいう。巻き取られた状態では光透過性導電層と保護フィルムの表面同士が互いに隣接した状態となり、これにより光透過性導電層が保護される。
1.2 Protective film (B)
In the present invention, the protective film (B) refers to a film that is used by being attached to a light-transmitting conductive film for the purpose of protecting the light-transmitting conductive film mainly when wound as a film roll. . In the wound state, the surfaces of the light transmissive conductive layer and the protective film are adjacent to each other, thereby protecting the light transmissive conductive layer.
保護フィルム（Ｂ）としては、特に限定されず、通常この目的で使用されるものの中から広範囲に選択することができる。 The protective film (B) is not particularly limited, and can be widely selected from those usually used for this purpose.
保護フィルム（Ｂ）は、フィルムロールとして巻き取られた状態で光透過性導電層（Ａ−２）と対向する表面、すなわち、言い換えれば、積層フィルムの保護フィルム（Ｂ）側の面が、レーザー顕微鏡観察において２８０μｍ×２００μｍの領域内に高さ０．３μｍ以上の突起が２〜１０個観察されるものである。これにより、フィルムロールを巻き取る際に発生する気泡欠点現象を抑制できる。気泡欠点現象の抑制という点では、この表面が、レーザー顕微鏡観察において２８０μｍ×２００μｍの領域内に高さ０．３μｍ以上の突起が１〜５個観察されるものであれば好ましく、３〜４．５個観察されるものであればより好ましい。 The surface of the protective film (B) facing the light transmissive conductive layer (A-2) in the state of being wound up as a film roll, that is, in other words, the surface of the laminated film on the protective film (B) side is a laser. In the microscopic observation, 2 to 10 protrusions having a height of 0.3 μm or more are observed in a region of 280 μm × 200 μm. Thereby, the bubble defect phenomenon generate | occur | produced when winding up a film roll can be suppressed. In terms of suppression of the bubble defect phenomenon, this surface is preferable if 1 to 5 protrusions having a height of 0.3 μm or more are observed in a region of 280 μm × 200 μm by laser microscope observation. It is more preferable that five are observed.
なお、上記において突起数の観察は次のようにして行う。レーザー顕微鏡（オリンパス社製ＶＫ−８７１０、又はその同等品）を用い、対物レンズ×５０倍で対象物を測定し、得られたデータを付属のソフトを用いてデータ処理し、２８０×２００μの範囲内における０．３μ以上の突起の数を数える。同様な測定を同一フィルムの３箇所で行い、その平均値を求める。 In the above, the number of protrusions is observed as follows. Using a laser microscope (Olympus VK-8710 or equivalent), measure the object with an objective lens × 50 times, and process the data obtained using the attached software, and the range of 280 × 200μ The number of protrusions of 0.3 μm or more is counted. The same measurement is performed at three locations on the same film, and the average value is obtained.
保護フィルム（Ｂ）は上記の通り少なくとも片面に突起を有するものであるが、突起の状態によっては透明性が損なわれ、Ｈａｚｅ値が上昇してしまう。積層フィルムは、通常、製造後に外観欠点の検査を行う。この際にＨａｚｅ値が高すぎると、外観欠点の検査の実施が困難となる。このような外観欠点の検査を問題なく実施できるか否かの点では、通常Ｈａｚｅ値が少なくとも５％以下であればよい。したがって、保護フィルム（Ｂ）表面の突起の形態は、レーザー顕微鏡観察において特定形状の突起が特定数観察されるものであるという前記条件に加えて、フィルム全体としてのＨａｚｅ値が５％以下となる範囲内で適宜設定することができる。左記において、フィルム全体としてのＨａｚｅ値が３％以下であれば好ましく、２．５％以下であればより好ましい。 The protective film (B) has protrusions on at least one side as described above, but depending on the state of the protrusions, the transparency is impaired and the haze value is increased. A laminated film is usually inspected for appearance defects after production. At this time, if the Haze value is too high, it is difficult to inspect the appearance defect. In terms of whether or not such appearance defects can be inspected without any problem, the haze value is usually at least 5% or less. Therefore, the shape of the protrusions on the surface of the protective film (B) is 5% or less as a whole film in addition to the above condition that a specific number of protrusions having a specific shape are observed in laser microscope observation. It can be set as appropriate within the range. In the left column, the Haze value of the entire film is preferably 3% or less, and more preferably 2.5% or less.
保護フイルム（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、ポリエステル、ポリプロピレン及びポリエチレン等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性の点においてポリエステルが好ましい。 Although the raw material of a protective film (B) is not specifically limited, For example, polyester, a polypropylene, polyethylene, etc. are mentioned. Among these, polyester is preferable in terms of heat resistance.
保護フィルム（Ｂ）の厚さは、特に限定されないが、通常は２５〜１２５μｍである。 Although the thickness of a protective film (B) is not specifically limited, Usually, it is 25-125 micrometers.
保護フィルム（Ｂ）の厚さは、特に限定されないが、透明導電性フィルム（Ａ）と保護フィルム（Ｂ）を貼り合わせた状態で合計厚さが１７０μｍ以上であれば好ましい。この合計厚さが、１７０〜２７０μｍであればより好ましい。 Although the thickness of a protective film (B) is not specifically limited, If the total thickness is 170 micrometers or more in the state which bonded the transparent conductive film (A) and the protective film (B), it is preferable. More preferably, the total thickness is 170 to 270 μm.
保護フィルム（Ｂ）と、光透過性導電性フィルム（Ａ）の熱収縮率を互いに概ね近い数値とすることにより、積層フィルムとしたときにカールしてしまう程度を抑制できる。 By setting the thermal shrinkage rates of the protective film (B) and the light-transmitting conductive film (A) to values close to each other, the degree of curling when a laminated film is formed can be suppressed.
保護フィルム（Ｂ）を配置する方法は、特に限定されないが、通常、後述する粘着層を介して隣接面に貼付することにより配置することができる。 Although the method of arrange | positioning a protective film (B) is not specifically limited, Usually, it can arrange by sticking to an adjacent surface through the adhesion layer mentioned later.
１．２．１ 粘着層（Ｂ−２）
保護フィルム（Ｂ）は、積層構造となっていてもよく、この場合、上記１．２で説明した構成及び特性を備える層を主体となる層として（これを便宜上、「保護層（Ｂ−１）」と呼ぶ。）、さらに、例えば、粘着層（Ｂ−２）を含有していてもよい。
1.2.1 Adhesive layer (B-2)
The protective film (B) may have a laminated structure, and in this case, the layer having the configuration and characteristics described in 1.2 above is used as a main layer (for convenience, the “protective layer (B-1 ) ") And may further contain, for example, an adhesive layer (B-2).
粘着層（Ｂ−２）とは、保護フィルム（Ｂ）を光透過性導電性フィルム（Ａ）の面に配置する目的で使用される層のことをいう。 The pressure-sensitive adhesive layer (B-2) refers to a layer used for the purpose of disposing the protective film (B) on the surface of the light transmissive conductive film (A).
粘着層（Ｂ−２）としては、特に限定されず、通常この目的で使用されるものの中から広範囲に選択することができる。一般的に、加工性の観点からアクリル系粘着剤又はシリコーン系粘着剤が使用される。 The pressure-sensitive adhesive layer (B-2) is not particularly limited, and can be selected widely from those usually used for this purpose. Generally, an acrylic adhesive or a silicone adhesive is used from the viewpoint of processability.
本発明の積層フィルムにおいては、この場合、保護フィルム（Ｂ）が、この粘着層（Ｂ−２）を介して光透過性導電性フィルムの面に配置されている。したがって、保護フィルム（Ｂ）の面のうち、粘着層（Ｂ−２）とは反対側の面が、前記特性（ｂ）を備える。 In the laminated film of the present invention, in this case, the protective film (B) is disposed on the surface of the light-transmitting conductive film via the adhesive layer (B-2). Therefore, the surface on the side opposite to the adhesive layer (B-2) of the surface of the protective film (B) has the characteristic (b).
図５に、本発明の導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、保護フィルム（Ｂ）が、保護層（Ｂ−１）及び粘着層（Ｂ−２）からなるものである点を除けば、図１に示す態様と同様の構成となっている。 In FIG. 5, the one aspect | mode of the electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the protective film (B) has the same configuration as that shown in FIG. 1 except that the protective film (B) is composed of a protective layer (B-1) and an adhesive layer (B-2).
１．２．２ オリゴマーブロック層（Ｂ−３）
保護フィルム（Ｂ）は、上記１．２で説明した構成及び特性を備える層を主体となる層（保護層（Ｂ−１））として、粘着層（Ｂ−２）に加えて、あるいは、粘着層（Ｂ−２）に代えて、オリゴマーブロック層（Ｂ−３）を含有していてもよい。
1.2.2 Oligomer block layer (B-3)
In addition to the adhesive layer (B-2), the protective film (B) includes the layer having the configuration and characteristics described in 1.2 above as a main layer (protective layer (B-1)) or is adhesive. Instead of the layer (B-2), an oligomer block layer (B-3) may be contained.
オリゴマーブロック層（Ｂ−３）とは、熱処理（例えば、１５０℃で１時間の熱処理）を行った後にフィルム表面にオリゴマーが析出し、フィルムの外観が白濁することを防止する目的で使用される層のことをいう。 The oligomer block layer (B-3) is used for the purpose of preventing the oligomer from being deposited on the film surface after heat treatment (for example, heat treatment at 150 ° C. for 1 hour) and causing the appearance of the film to become cloudy. It refers to the layer.
オリゴマーブロック層（Ｂ−３）の材料としては、通常この目的のために用いられる材料の中から広範に選択できる。より具体的には、透明な膜を形成しうるものから適宜選択することができ、無機物、有機物又はそれらの複合材料であってもよい。 The material of the oligomer block layer (B-3) can be widely selected from materials usually used for this purpose. More specifically, it can be appropriately selected from those capable of forming a transparent film, and may be an inorganic material, an organic material, or a composite material thereof.
オリゴマーブロック層（Ｂ−３）の厚さは、特に限定されないが、０．０１〜２μｍであれば好ましい。 The thickness of the oligomer block layer (B-3) is not particularly limited, but is preferably 0.01 to 2 μm.
本発明の積層フィルムにおいては、この場合、保護フィルム（Ｂ）が、このオリゴマーブロック層（Ｂ−３）が最外層に位置するように配置される。したがって、オリゴマーブロック層（Ｂ−３）の表面が、前記特性（ｂ）を備えている必要がある。 In the laminated film of the present invention, in this case, the protective film (B) is arranged so that the oligomer block layer (B-3) is located in the outermost layer. Therefore, the surface of the oligomer block layer (B-3) needs to have the characteristic (b).
図６に、本発明の導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、保護フィルム（Ｂ）が、保護層（Ｂ−１）及びオリゴマーブロック層（Ｂ−３）からなるものである点を除けば、図１に示す態様と同様の構成となっている。 FIG. 6 shows one embodiment of the conductive film of the present invention. In this embodiment, the protective film (B) has the same configuration as that shown in FIG. 1 except that the protective film (B-1) is composed of a protective layer (B-1) and an oligomer block layer (B-3). .
１．３ 本発明の積層フィルムの用途
本発明の積層フィルムから保護フィルム（Ｂ）を剥離することにより得られる光透過性導電性フィルム（Ａ）を、タッチパネルの製造のため等に用いることができる。タッチパネルについて詳細は、３で説明する通りである。
1.3 Use of the laminated film of the present invention The light transmissive conductive film (A) obtained by peeling the protective film (B) from the laminated film of the present invention can be used for the production of touch panels and the like. . Details of the touch panel are as described in 3.
２． 本発明のフィルムロール
本発明のフィルムロールは、本発明の積層フィルムを巻き取ってなるフィルムロールである。
2. Film Roll of the Present Invention The film roll of the present invention is a film roll formed by winding up the laminated film of the present invention.
特に限定されないが、本発明のフィルムロールは、通常、幅０．２〜２ｍかつ長さ１０〜２０００ｍの本発明の積層フィルムを巻き取ってなる。 Although not particularly limited, the film roll of the present invention is usually formed by winding the laminated film of the present invention having a width of 0.2 to 2 m and a length of 10 to 2000 m.
本発明のフィルムロールは、特に限定されないが、例えば次のようにして得ることができる。光透過性支持層（Ａ−１）の上に、必要に応じて光透過性導電層（Ａ−２）の下地となる層、及びその他の層を配置した上で、その反対側の面に保護フィルム（Ｂ）を貼付して、この積層フィルムを巻き取ることによりフィルムロールを作成する。この際、この積層フィルムは表面処理されていてもよい。このフィルムロールをスパッタ装置にロール状のまま投入し、ロール状に巻き取りながら光透過性導電層（Ａ−１）を形成することにより、本発明のフィルムロールを得ることができる。 Although the film roll of this invention is not specifically limited, For example, it can obtain as follows. On the light-transmitting support layer (A-1), a layer serving as a base of the light-transmitting conductive layer (A-2) and other layers are arranged on the opposite surface as necessary. A protective film (B) is stuck and a film roll is created by winding up this laminated film. At this time, the laminated film may be surface-treated. The film roll of this invention can be obtained by throwing this film roll into a sputtering device in a roll shape and forming the light-transmitting conductive layer (A-1) while winding it into a roll shape.
このロール状に巻取った積層フィルムをシート状に裁断した後、必要に応じて種々の加工を施したシート状の積層フィルムから、さらに保護フィルム（Ｂ）を剥離することにより光透過性導電性フィルム（Ａ）を得て、これをタッチパネル用の透明電極等として使用することができる。 After the laminated film wound up in a roll shape is cut into a sheet shape, the protective film (B) is further peeled off from the sheet-like laminated film subjected to various processing as required, thereby translucent conductive. A film (A) is obtained and can be used as a transparent electrode for a touch panel.
３． 本発明のタッチパネル
本発明のタッチパネルは、本発明の積層フィルムから保護フィルム（Ｂ）を剥離することにより得られる光透過性導電性フィルム（Ａ）を含有し、さらに必要に応じてその他の部材を含有してなる。
3. Touch Panel of the Present Invention The touch panel of the present invention contains a light transmissive conductive film (A) obtained by peeling the protective film (B) from the laminated film of the present invention, and further contains other members as necessary. It contains.
本発明のタッチパネルは、特に限定されないが、例えば静電容量型タッチパネルであってもよい。本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
The touch panel of the present invention is not particularly limited, but may be a capacitive touch panel, for example. Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. It should be noted that the protective layer (1) side is used with the operation screen side and the glass (5) side faces the opposite side of the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.
４． 本発明の積層フィルムの製造方法
本発明の積層フィルムの製造方法は、光透過性導電性フィルム（Ａ）の製造方法に含まれる工程を含有していてもよい。光透過性導電性フィルム（Ａ）の製造方法は、光透過性支持層（Ａ−１）の少なくとも一方の面に、光透過性導電層（Ａ−２）に加えて、光透過性下地層（Ａ−３）、ハードコート層（Ａ−４）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ａ−５）からなる群より選択される少なくとも１種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。
4). The manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention The manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention may contain the process included in the manufacturing method of a transparent electroconductive film (A). The light-transmitting conductive film (A) is produced by adding a light-transmitting underlayer on at least one surface of the light-transmitting support layer (A-1) in addition to the light-transmitting conductive layer (A-2). (A-3), a hard coat layer (A-4), and a step of disposing at least one kind of layer selected from the group consisting of at least one other layer (A-5) different from them, respectively. You may go out.
本発明の積層フィルムの製造方法は、保護フィルム（Ｂ）の製造方法に含まれる工程を含有していてもよい。保護フィルム（Ｂ）の製造方法は、保護層（Ｂ−１）の一方の面に、粘着層（Ｂ−２）、及び／又はその他方の面にオリゴマーブロック層（Ｂ−３）をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。 The manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention may contain the process included in the manufacturing method of a protective film (B). The manufacturing method of a protective film (B) arrange | positions an oligomer block layer (B-3) on the adhesive layer (B-2) and / or the other surface, respectively on one surface of a protective layer (B-1). Each of the steps may be included.
上記のそれぞれの工程において、それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。光透過性導電層（Ａ−２）に加えて、少なくとも１種の他の層を配置する場合は、例えば、光透過性支持層（Ａ−１）の少なくとも一方の面に光透過性支持層（Ａ−１）側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ−１）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ａ−２））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。 In each of the above steps, the step of disposing each layer is as described for each layer. In the case where at least one other layer is disposed in addition to the light transmissive conductive layer (A-2), for example, the light transmissive support layer is provided on at least one surface of the light transmissive support layer (A-1). Although it may be arranged sequentially from the (A-1) side, the arrangement order is not particularly limited. For example, you may arrange | position another layer to one side of the layer (for example, light transmissive conductive layer (A-2)) which is not a light transmissive support layer (A-1) first. Alternatively, one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other on the one hand, or at the same time, two or more layers are similarly disposed adjacent to each other on the other side. Thus, one type of composite layer may be obtained, and these two types of composite layers may be further arranged adjacent to each other.
また、本発明の積層フィルムの製造方法は、上記に代えて、あるいは上記に加えて、光透過性導電性フィルム（Ａ）の一方の面に、直接、又は他のフィルムを介して保護フィルム（Ｂ）を配置する工程を含んでいてもよい。 Moreover, the manufacturing method of the laminated | multilayer film of this invention is replaced with the above, or in addition to the above, on one surface of a transparent electroconductive film (A), directly or through another film, a protective film ( A step of arranging B) may be included.
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
１．実施例及び比較例
以下の製法により、それぞれ光透過性導電性フィルムを得た。
１．１ ハードコート用材料の調製
１．１．１ ハードコート１（Ｈ１）
光重合剤含有アクリル系オリゴマーに、トルエンとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、液状のハードコート用材料（固形分濃度：４０重量％）を調製した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
1. Examples and Comparative Examples Light transmissive conductive films were obtained by the following production methods.
1.1 Preparation of hard coat material 1.1.1 Hard coat 1 (H1)
A liquid hard coating material (solid content concentration) is added to a photopolymerizer-containing acrylic oligomer by adding a mixed solvent obtained by mixing toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) at a ratio of 5: 5 (weight ratio). : 40% by weight).
１．１．２ ハードコート２（Ｈ２）
光重合剤含有アクリル系オリゴマーに、トルエンとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、さらに平均粒子径が１００ｎｍのシリカ粒子を添加し、液状のハードコート用材料（固形分濃度：４０重量％）を調製した。
1.1.2 Hard coat 2 (H2)
A mixed solvent obtained by mixing toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) at a ratio of 5: 5 (weight ratio) is added to the photopolymerization agent-containing acrylic oligomer, and silica particles having an average particle diameter of 100 nm are further added. This was added to prepare a liquid hard coat material (solid content concentration: 40% by weight).
１．１．３ ハードコート３（Ｈ３）
光重合剤含有アクリル系オリゴマーに、トルエンとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、さらに平均粒子径が１００ｎｍのシリカ粒子を添加し、液状のハードコート用材料（固形分濃度：２０重量％）を調製した。
1.1.3 Hard coat 3 (H3)
A mixed solvent obtained by mixing toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) at a ratio of 5: 5 (weight ratio) is added to the photopolymerization agent-containing acrylic oligomer, and silica particles having an average particle diameter of 100 nm are further added. This was added to prepare a liquid hard coat material (solid content concentration: 20% by weight).
１．１．４ ハードコート４（Ｈ４）
光重合剤含有アクリル系オリゴマーに、トルエンとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、さらに平均粒子径が５０ｎｍのシリカ粒子を添加し、液状のハードコート用材料（固形分濃度：４０重量％）を調製した。
1.1.4 Hard coat 4 (H4)
A mixed solvent obtained by mixing toluene and methyl isobutyl ketone (MIBK) at a ratio of 5: 5 (weight ratio) is added to the photopolymerization agent-containing acrylic oligomer, and silica particles having an average particle diameter of 50 nm are further added. This was added to prepare a liquid hard coat material (solid content concentration: 40% by weight).
１．１．５ 保護フィルム
市販のアクリル系ポリマー（乾燥重量）１００部に対してイソシアネート計の架橋剤を配合し、さらに酢酸エチルを加え固形分濃度を1０％に調整した粘着剤溶液を調製した。これをＰＥＴフィルム上に厚みが１０μｍになるように塗布し、１４０℃で２分間乾燥して、粘着剤層を形成して、保護フィルムを得た。さらに、４０℃の条件下で７２時間エージングして表面保護フィルムを得た。
1.1.5 Protective Film A pressure-sensitive adhesive solution was prepared by blending a commercially available acrylic polymer (dry weight) with 100 parts of an isocyanate meter and further adding ethyl acetate to adjust the solid content concentration to 10%. . This was apply | coated so that thickness might be set to 10 micrometers on PET film, it dried at 140 degreeC for 2 minute (s), the adhesive layer was formed, and the protective film was obtained. Further, the film was aged for 72 hours at 40 ° C. to obtain a surface protective film.
ＰＥＴフィルムとしては、いずれも市販のＰＥＴ保護ラミネートフィルム（ＰＥＴ保護フィルム）を用いた。なお、厚さ５０μmのヘイズ３％の市販のＰＥＴ保護ラミネートフィルム（ＰＥＴ保護フィルム）を用いた場合をＲ１；
厚さ５０μmのヘイズ１%の市販のＰＥＴ保護ラミネートフィルム（ＰＥＴ保護フィルム）をＲ２；
厚さ５０μmのヘイズ６％の市販のＰＥＴ保護ラミネート層フィルム（ＰＥＴ保護フィルム）をＲ３；
厚さ５０μmのヘイズ１．５％の市販のＰＥＴ保護ラミネート層フィルム（ＰＥＴ保護フィルム）をＲ４；
厚さ５０μmのヘイズ４％の市販のＰＥＴ保護ラミネート層フィルム（ＰＥＴ保護フィルム）をＲ５；及び
厚さ５０μmのヘイズ５％の市販のＰＥＴ保護ラミネート層フィルム（ＰＥＴ保護フィルム）をＲ６
とした。
As the PET film, a commercially available PET protective laminate film (PET protective film) was used. The case where a commercially available PET protective laminate film (PET protective film) having a thickness of 3% having a thickness of 50 μm is used is R1;
A commercially available PET protective laminate film (PET protective film) having a thickness of 50% and a haze of 1% is R2;
A commercially available PET protective laminate layer film (PET protective film) having a thickness of 50% and a haze of 6% is R3;
A commercially available PET protective laminate layer film (PET protective film) having a thickness of 50% and a haze of 1.5% is R4;
A commercially available PET protective laminate layer film (PET protective film) with a haze of 4% having a thickness of 50 μm is R5; and a commercially available PET protective laminate layer film (PET protective film) with a thickness of 50% having a haze of 5% is R6.
It was.
これらのＰＥＴ保護フィルムは、いずれも最外層にオリゴマーブロック層を有している。 Each of these PET protective films has an oligomer block layer as the outermost layer.
実施例１
厚さ１２５μｍの易接着性ポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ４３００）を光透過性支持層として、その一方の面に、液状のハードコート用材料（Ｈ１）をロールコーターで塗工し、さらにその塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて、１００℃×１分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して紫外線を照射することにより（照射量：３００ｍＪ／ｃｍ２）、光透過性支持層上に厚さ約２μｍのハードコート層を配置した。
Example 1
A 125 μm thick easily-adhesive polyester film (trade name: A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) is used as a light-transmitting support layer, and a liquid hard coat material (H1) is coated on one side with a roll coater. Further, the coated film was heated and dried using a dryer oven under the conditions of 100 ° C. × 1 minute. Next, the coated film after drying was irradiated with ultraviolet rays (irradiation amount: 300 mJ / cm 2 ) to dispose a hard coat layer having a thickness of about 2 μm on the light-transmitting support layer.
光透過性支持層の他方の面に対しても同一の作業を施すことにより、光透過性支持層の両面に厚さ約２μｍのハードコート層が配置されているフィルム（ハードコートフィルム）のロールを得た。このフィルムロールを巻き上げる前にハードコートフィルムの片面に保護フィルムＲ１をラミネートした。 A roll of a film (hard coat film) in which a hard coat layer having a thickness of about 2 μm is disposed on both surfaces of the light transmissive support layer by performing the same operation on the other surface of the light transmissive support layer. Got. Before winding up the film roll, a protective film R1 was laminated on one side of the hard coat film.
得られたロール状積層フィルムの、保護フィルムがラミネートされている面とは反対側の面に、酸化インジウム９５重量％及び酸化スズ５重量％からなる焼結体材料をターゲット材として用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、光透過性導電層を形成した。具体的には、チャンバー内を５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内にＡｒガス９５％及び酸素ガス５％からなる混合ガスを導入し、チャンバー内圧力を０．２〜０．３Ｐａとしてスパッタリングを実施した。なお、最終的に得られる透明導電層の膜厚が２０ｎｍとなるように、スパッタリングを実施した。得られた膜のアニール処理後（１５０℃、１時間）のシート抵抗値は１５０Ω/□であった。 Using a sintered body material consisting of 95% by weight of indium oxide and 5% by weight of tin oxide as a target material on the surface opposite to the surface on which the protective film is laminated of the obtained roll-shaped laminated film, DC A light transmissive conductive layer was formed by magnetron sputtering. Specifically, after the inside of the chamber is evacuated to 5 × 10 −4 Pa or less, a mixed gas composed of 95% Ar gas and 5% oxygen gas is introduced into the chamber, and the pressure in the chamber is reduced to 0. 0. Sputtering was performed at 2 to 0.3 Pa. Sputtering was performed so that the film thickness of the finally obtained transparent conductive layer was 20 nm. The sheet resistance value after annealing of the obtained film (150 ° C., 1 hour) was 150Ω / □.
実施例２〜１６、および比較例１〜８
表１に記載のとおりハードコートフィルムにＨ１〜Ｈ４のＨＣ剤を用いたことやＲ１〜Ｒ６の保護フィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光透過性導電性フィルムをそれぞれ得た。
Examples 2 to 16 and Comparative Examples 1 to 8
As shown in Table 1, a light-transmitting conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that an H1-H4 HC agent was used for the hard coat film and a protective film of R1-R6 was used. It was.
アニール後（１５０℃、１時間）のシート抵抗値は表１に記載のとおりであった。 The sheet resistance value after annealing (150 ° C., 1 hour) was as shown in Table 1.
実施例１〜１６及び比較例１〜８でそれぞれ得られた光透過性導電性フィルムをについて、以下の各種評価方法により評価を行った。その結果を表１に示す。 The light transmissive conductive films obtained in Examples 1 to 16 and Comparative Examples 1 to 8 were evaluated by the following various evaluation methods. The results are shown in Table 1.
２．各種評価方法
２．１ Ｒａ，Ｒ ｚｊｉｓ の求め方
平均表面粗さＲａ、最大高さＲｚ、及び十点平均粗さＲｚｊｉｓは、市販の走査型プローブ顕微鏡（株式会社島津製作所、ＳＰＭ−９７００）及び市販の走査型プローブ顕微鏡用マイクロカンチレバー（オリンパス社、ＯＭＣＬ−ＮＣＨＲ-１０、バネ定数４２Ｎ／
ｍ）を用いて、所定のダイナミックモードで１μｍ×１μｍ平方の測定面を探針で走査して得られる５１２×５１２画素の形状像から、株式会社島津製作所製ＳＰＭ−９７００の解析ソフトを用いて求めた。
2. Various Evaluation Methods 2.1 Determination of Ra, R zjis Average surface roughness Ra, maximum height Rz, and ten-point average roughness R zjis are commercially available scanning probe microscopes (Shimadzu Corporation, SPM-9700). And a commercially available microcantilever for a scanning probe microscope (Olympus, OMCL-NCHR-10, spring constant 42 N /
m), from a 512 × 512 pixel shape image obtained by scanning a 1 μm × 1 μm square measurement surface with a probe in a predetermined dynamic mode, using analysis software of SPM-9700 manufactured by Shimadzu Corporation Asked.
２．２ 突起数の測定
レーザー顕微鏡（オリンパス社製ＶＫ−８７１０）を用いて行った。対物レンズ×５０倍で対象物を測定し、得られたデータを付属のソフトでデータ処理し、２８０×２００μの範囲内における０．３μ以上の突起の数を数えた。同様な測定を３箇所で行いその平均値を求めた。
2.2 Measurement of the number of protrusions The number of protrusions was measured using a laser microscope (VK-8710 manufactured by Olympus Corporation). The object was measured with an objective lens × 50 times, and the obtained data was processed with the attached software, and the number of protrusions of 0.3 μm or more in the range of 280 × 200 μm was counted. The same measurement was performed at three locations, and the average value was obtained.
２．３ 抵抗値測定
ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製の表面抵抗計（Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４端子法により測定した。
2.3 Resistance Value Measurement Using a surface resistance meter (Loresta-EP) manufactured by MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH, it was measured by a four-terminal method.
２．４ ヘイズの測定
日本電色社製のヘーズメーター（ＮＤＨ−２０００）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定を行った。
2.4 Measurement of haze The haze was measured based on JIS-K-7105 using a Nippon Denshoku haze meter (NDH-2000).
２．５ 気泡欠点現象
フィルムをロール状に巻き取った光透過性導電層表面と保護フィルムの非粘着面が互いに過度に接着することで表面が滑らず気泡状の外観欠点が発生しまう現象が発生する場合を×、発生しない場合を〇とした。
2.5 Bubble defect phenomenon The phenomenon that a bubble-like appearance defect occurs without the surface slipping due to excessive adhesion between the surface of the light-transmitting conductive layer wound up in a roll and the non-adhesive surface of the protective film. The case where it does is made x and the case where it does not occur is made ◯.
２．６ 外観検査適性
光透過性導電層を配置したハードコートフィルムと保護フィルムを貼り合わせた状態での外観欠点を確認出来るものを〇、ヘイズが高く外観検査を実施し難いものを×とした。
2.6 Appearance inspection suitability Applicable to the appearance defect in the state in which the hard coat film having the light-transmitting conductive layer and the protective film are bonded to each other. .
１ 積層フィルム
１１ 光透過性導電性フィルム（Ａ）
１１１ 光透過性支持層（Ａ−１）
１１２ 光透過性導電層（Ａ−２）
１１３ 光透過性下地層（Ａ−３）
１１４ ハードコート層（Ａ−４）
１２ 保護フィルム（Ｂ）
１２１ 保護層（Ｂ−１）
１２２ 粘着層（Ｂ−２）
１２３ オリゴマーブロック層（Ｂ−３）
1 Laminated
111 Light-transmissive support layer (A-1)
112 Light-transmissive conductive layer (A-2)
113 Light transmissive underlayer (A-3)
114 Hard coat layer (A-4)
12 Protective film (B)
121 Protective layer (B-1)
122 Adhesive layer (B-2)
123 Oligomer block layer (B-3)
Claims (7)
（Ｂ）保護フィルム
を含有する積層フィルムであって、
前記光透過性導電性フィルム（Ａ）が、
（Ａ−１）光透過性支持層；及び
（Ａ−２）光透過性導電層；
をそれぞれ一以上含有し、かつ
少なくとも一方の最外層が一の光透過性導電層（Ａ−２）である光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電性フィルム（Ａ）の最外層の前記光透過性導電層（Ａ−２）の少なくとも一が、前記積層フィルムの一方の表面に配置され、
保護フィルム（Ｂ）が、前記積層フィルムの他方の表面に配置されており、
前記光透過性導電層（Ａ−２）側の前記表面の平均表面粗さＲａが０．４ｎｍ〜２ｎｍであり、かつ
前記保護フィルム（Ｂ）側の前記表面が、レーザー顕微鏡観察において２８０μｍ×２００μｍの領域内に高さ０．３μｍ以上の突起が２〜１０個観察されるものであることを特徴とする、積層フィルム。 (A) a light transmissive conductive film; and (B) a laminated film containing a protective film,
The light-transmitting conductive film (A) is
(A-1) a light transmissive support layer; and (A-2) a light transmissive conductive layer;
Each of which is a light-transmitting conductive film, wherein at least one outermost layer is one light-transmitting conductive layer (A-2),
At least one of the light transmissive conductive layers (A-2) of the outermost layer of the light transmissive conductive film (A) is disposed on one surface of the laminated film,
The protective film (B) is disposed on the other surface of the laminated film,
The average surface roughness Ra of the surface on the light-transmissive conductive layer (A-2) side is 0.4 nm to 2 nm, and the surface on the protective film (B) side is 280 μm × 200 μm in laser microscope observation. 2. A laminated film, wherein 2 to 10 protrusions having a height of 0.3 μm or more are observed in the region.
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