JP2014192296A - 基板保持装置、液滴吐出装置 - Google Patents

基板保持装置、液滴吐出装置 Download PDF

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Abstract

【課題】能動部が形成された基板の反りを矯正しながら保持する。
【解決手段】一方の面に能動部が形成された基板を保持する基板保持装置であって、前記基板の周縁部が前記能動部側に凸となる方向に傾斜した状態で保持する保持部を備えた。
【選択図】図1

Description

本発明は、基板保持装置、液滴吐出装置に関する。
従来、基板の面を支持する複数のピン状凸部を備え、当該ピン状凸部の支持面で基板を支持しながら基板を吸着して、基板を平坦面状に矯正させながら保持する基板吸着保持装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−185607号公報
しかしながら、上記の基板吸着保持装置では、ピン状凸部が基板に対してほぼ全領域に設置されているため、例えば、基板としてのウエハーを保持する場合、ウエハーの表面には素子や金属配線等が形成された能動部を有するため、能動部が形成された面を吸着した場合、ピン状凸部の支持面が能動部に接触し、能動部が損傷してしまう。このため、能動部を有するウエハーを吸着保持することができない、という課題があった。
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]本適用例にかかる基板保持装置は、一方の面に能動部が形成された基板を保持する基板保持装置であって、前記基板の周縁部が前記能動部側に凸となる方向に傾斜した状態で保持する保持部を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、一方の面に能動部(例えば、金属配線や素子等)が形成された基板は、能動部側の方が基板の材質よりも収縮率が高い傾向にあるため、能動部が形成された面を下側に載置した場合、基板が上方に向かって凸状に反る。そこで、基板の周縁部が上記凸状の反り方向とは反対側に傾斜するように保持する。そうすると、基板の周縁部に生じた応力により能動面側に強制力が働く。これにより、基板の反り量が低減され、基板の反りが矯正される。そして、能動部に接触することなく基板を平坦化した状態で保持することができる。
[適用例2]上記適用例にかかる基板保持装置の前記保持部は、前記基板の周縁部に対応する位置に設けられた吸引口と、前記吸引口を介して空気を吸引する吸引部と、を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、吸引口から空気を吸引することにより、吸着口を起点として基板を容易に吸着保持及び取り外しを行うことができる。
[適用例3]上記適用例にかかる基板保持装置の前記保持部は、前記基板の周縁部を保持する傾斜角度が可変であることを特徴とする。
この構成によれば、基板形態(サイズや厚み等)、基板の反り方向や反り量等に合わせ、基板の反りを適正に矯正した状態で保持することができる。
[適用例4]本適用例にかかる液滴吐出装置は、基板に画像を形成する液滴吐出装置であって、上記の基板保持装置と、前記基板保持装置に保持された前記基板に対向して機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする。
基板保持装置によって基板の反りが矯正され、基板が平坦に保持される。これにより、吐出ヘッドと基板との距離が一定に保たれる。従って、基板に対して吐出ヘッドから吐出された機能液の着弾位置精度が高まり、高品質な画像を形成することができる。
基板保持装置の構成を示す概略図。 保持部の構成を示す一部拡大図。 基板保持装置の動作方法を示す説明図。 液滴吐出装置の構成を示す概略図。 変形例1にかかる保持部の構成を示す一部拡大図。 変形例2にかかる保持部の構成を示す一部拡大図。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各部材等を認識可能な程度の大きさにするため、各部材等の尺度を実際とは異ならせて示している。
まず、基板保持装置の構成について説明する。当該基板保持装置は、一方の面に能動部が形成された基板を保持する基板保持装置であって、基板の周縁部が能動部側に凸となる方向に傾斜した状態で保持する保持部を備えたものである。本実施形態の基板は、一方の面に素子や金属配線等が形成された能動部を有するウエハー(集積回路形成基板)を例にして説明する。
図1は、基板保持装置の構成を示す概略図であり、図1(a)は平面図であり、図1(b)は側面図である。図1に示すように、基板保持装置1は、基板としてのウエハーWを保持する保持部2等を備えている。
具体的には、本実施形体の基板保持装置1は、矩形の土台10を有し、土台10の各コーナーの近傍に支柱11〜14が設置されている。そして、支柱11〜14の頂部には、ウエハーW(図2参照)を載置する保持部2が設置されている。また、平面視における保持部2の中央部には、貫通孔29が設けられている。当該貫通孔29は、ウエハーWを保持部2上に載置した際に、ウエハーWの外周部を除く表面部分(能動部)と保持部2とを接触させないように設けられたものである。なお、貫通孔29の大きさは、搭載されるウエハーWの大きさや保持部2との非接触部分の大きさに応じて適宜設定することができる。
次に、保持部2の構成について説明する。図2は、保持部の構成を示す一部拡大図である。図1及び図2に示すように、保持部2は、ウエハーWの周縁部に対応する位置に設けられた吸引口21と、吸引口21を介して空気を吸引する吸引部を備えている。本実施形態では、複数の吸引口21は設けられ、各吸引口21は、吸引部としてのポンプ(図示せず)に接続されている。当該ポンプを駆動させることにより吸引口21から外気が吸引されるように構成されている。そして、ウエハーWを保持部2上に載置した状態で上記ポンプを駆動させることにより、負圧により保持部2上にウエハーWが吸着固定される。
さらに、図2に示すように、保持部2は、吸着固定するウエハーWの周縁部(外周部)に対応する位置に傾斜面20を有している。本実施形態では、保持部2の上面の高さが貫通孔29に向けて低くなるように傾斜面20が設けられている。従って、ウエハーWを保持部2上に載置した状態で上記ポンプを駆動させると、ウエハーWの周縁部が傾斜面20に倣って傾斜(変形)した状態で保持部2に吸着固定される。
次に、基板保持装置の動作方法について説明する。図3は、基板保持装置の動作を示す模式図である。
まず、図3(a)に示すように、ウエハーWを保持部2上に載置する。なお、本実施形態では、ウエハーWの能動部を有する能動面Waが保持部2に対向するように載置する。ここで、ウエハーWの一方の面に能動部(例えば、金属配線や素子等)が形成された場合、能動面Wa側の方がウエハーWの材質よりも収縮率が高い傾向にあるため、能動部が形成された能動面Waを下側に載置した場合、ウエハーWは上方に向かって凸状に反った状態で載置される。
その後、図3(b)に示すように、吸引口21に接続されたポンプを駆動させ、吸引口21から空気を吸引する。これにより、ウエハーWの周縁部が傾斜面20に吸引され、ウエハーWの周縁部が能動部側に凸となる方向に傾斜した状態となる。そして、ウエハーWの周縁部が傾斜面に20に倣って変形した状態で保持部2に吸着固定される。ウエハーWの周縁部が能動部側に傾斜した状態で固定されることで、ウエハーWの凸状の反りとは逆向きの力がウエハーWの全体に伝わり、ウエハーWの反りが軽減され、平坦化した状態で保持される。
次に、液滴吐出装置の構成について説明する。図4は、液滴吐出装置の構成を示す概略図である。図4に示すように、液滴吐出装置100は、機能液を液滴として吐出する吐出ヘッド63と、上記の基板保持装置1を備えたものである。本実施形態の液滴吐出装置100は、基板保持装置1に保持された基板としてウエハーWに対して、例えば、品番、ロット番号、製造番号、年月日等の識別マークや2次元バーコード等の符号等の各種マークを形成する装置である。また、本実施形態では、ウエハーWに対して機能液としての紫外線硬化型インクを塗布してウエハーW上にマークを形成する構成について説明する。
図4に示すように、本実施形態の液滴吐出装置100は、印刷部64と、印刷部64の主走査方向(X軸方向)への移動を案内する案内レール62を備えた案内部材61と、印刷部64を案内レール62に沿って主走査方向に往復移動させる主走査手段60を備えている。また、紫外線を照射する紫外線照射部67,68を備えている。また、ウエハーWを保持する基板保持装置1を副走査方向(Y軸方向)への移動を案内する案内レール72を備えた案内部材71と、基板保持装置1を案内レール72に沿って副走査方向に往復移動させる副走査手段70等を備えている。そして、液滴吐出装置100では、上記部材等を制御する制御部(図示せず)を備えている。
本実施形態の印刷部64は、キャリッジ65とキャリッジ65に搭載された吐出ヘッド63を備えている。吐出ヘッド63は、例えば、加圧手段としての圧電素子を備えたインクジェットヘッドである。また、キャリッジ65のX軸方向における端部のそれぞれに紫外線照射部67,68が設置されている。
主走査手段60は、図示しない移動機構及び動力源を備えている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、キャリッジ65をX軸方向に沿って移動させるための動力源として、例えば、モーターが採用されている。モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。当該モーターからの動力は、移動機構を介してキャリッジ65に伝達される。これにより、キャリッジ65(吐出ヘッド63及び紫外線照射部67,68)は、案内レール62に沿って、すなわち、主走査方向(X軸方向)に沿って往復移動することができる。
基板保持装置1は、ウエハーWを保持するものである。そして、副走査手段70は、図示しない移動機構及び動力源を備えている。移動機構としては、例えば、ボールねじとボールナットとを組み合わせた機構や、リニアガイド機構などが採用され得る。また、本実施形態では、基板保持装置1をY軸方向に沿って移動させるための動力源として、モーターが採用されている。モーターとしては、ステッピングモーター、サーボモーター、リニアモーターなどの種々のモーターが採用され得る。モーターからの動力は、移動機構を介して基板保持装置1に伝達される。これにより、基板保持装置1は、案内レール72に沿って、すなわち、副走査方向(Y軸方向)に沿って往復移動することができる。
そして、基板保持装置1にウエハーWを載置し、反りを矯正した状態でウエハーWを保持する(図3参照)。そして、副走査手段70を駆動させ、基板保持装置1に載置されたウエハーWを所定の位置まで移動させる。そして、主走査手段60を駆動させ、キャリッジ65を往復移動させながら吐出ヘッド63から紫外線硬化型インクを吐出させ、ウエハーW面に紫外線硬化型インクを塗布する。そして、紫外線照射部67,68を駆動させ、塗布された紫外線硬化型インクに紫外線を照射させる。これにより、ウエハーW上に所望のマークが形成される。
以上、上記実施形態によれば、以下の効果を得ることができる。
上向き凸状に反ったウエハーWは、ウエハーWの周縁部が保持部2の傾斜面20に倣って吸着固定されるため、ウエハーWの凸状の反り方向とは逆向きに変形が生じる。これにより、ウエハーWを平滑状態で保持することができる。
そして、当該基板保持装置1を液滴吐出装置100に用いることにより、吐出ヘッド63とウエハーWとの距離が一定に保たれるので、吐出精度が向上され、高精細な画像を形成することができる。
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。
(変形例1)上記実施形態では、保持部2の傾斜面20は、保持部2の上面の高さが貫通孔29に向けて低くなるように設けたが、この構成に限定されない。図5は、変形例1にかかる保持部の構成を示す一部拡大図である。図5に示すように、保持部2aの上面の高さが貫通孔29に向けて高くなるように傾斜面20aを設けてもよい。このようにすれば、下向き凸状に反ったウエハーWに対して、ウエハーW外周部を傾斜面20aに固定した際に、上向きの変形を生じさせ、反りを軽減することができる。
(変形例2)上記実施形態では、保持部2の傾斜面の傾斜角度は固定としたが、この構成に限定されない。例えば、傾斜面の傾斜角度を可変としてもよい。図6は、変形例2にかかる保持部の構成を示す一部拡大図である。図6に示すように、保持部2bは、ウエハーWの周縁部を保持する傾斜角度が可変可能に構成されている。具体的には、傾斜駆動部51を設け、傾斜駆動部51を上下移動させることにより、傾斜面20bの傾斜角度を任意に変更することができる。これによって反り量の異なるウエハーWに対して、それぞれの反りに合わせて傾斜角度を変えることで、一様にウエハーWの反りを軽減し、ウエハーWを平滑に保つことが可能となる。
1…基板保持装置、2,2a,2b…保持部、20,20a,20b…傾斜面、21…吸引口、51…傾斜駆動部、63…吐出ヘッド、100…液滴吐出装置。

Claims (4)

  1. 一方の面に能動部が形成された基板を保持する基板保持装置であって、
    前記基板の周縁部が前記能動部側に凸となる方向に傾斜した状態で保持する保持部を備えたことを特徴とする基板保持装置。
  2. 請求項1に記載の基板保持装置において、
    前記保持部は、
    前記基板の周縁部に対応する位置に設けられた吸引口と、
    前記吸引口を介して空気を吸引する吸引部と、を備えたことを特徴とする基板保持装置。
  3. 請求項1または請求項2に記載の基板保持装置において、
    前記保持部は、
    前記基板の周縁部を保持する傾斜角度が可変であることを特徴とする基板保持装置。
  4. 基板に画像を形成する液滴吐出装置であって、
    請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の基板保持装置と、
    前記基板保持装置に保持された前記基板に対向して機能液を液滴として吐出する吐出ヘッドと、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
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