JP2014189605A - Polyarylate resin film and capacitor employing the same - Google Patents

Polyarylate resin film and capacitor employing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyarylate resin film excellent in mechanical characteristics and electrical characteristics.SOLUTION: A polyarylate resin film comprises one or more divalent phenol residues selected from a group including the specified general formula (i) and an aromatic dicarboxylic acid residue. The polyarylate resin film is obtained from a polyarylate resin having a glass transformation temperature of 200°C or more.

Description

本発明は、機械的特性、電気的特性に優れたポリアリレート樹脂フィルムに関する。   The present invention relates to a polyarylate resin film excellent in mechanical properties and electrical properties.

従来より、プラスチックはその電気的絶縁特性を活かし、コンデンサ用誘電体、モーター、トランスなどの絶縁部材として使用されている。特に昨今は電子機器等の発達に伴い、安価で製造が容易な素材としてフィルムコンデンサが多く用いられている。フィルムコンデンサに用いられるプラスチックは種々あるが、電子機器の小型化、コンデンサの高容量化などにより、その使用環境が高温になってきたため、そのような条件下でも電気的特性が長時間にわたり安定であることが要求されている。例えば、種々のポリエステルのブレンド物、あるいは、ポリエステルとポリカーボネートなどのポリマーアロイからなるフィルムを用いることが開示されている(特許文献1、2)。その他、ポリフェニルスルフィド樹脂にポリエーテルイミドなど非晶性高耐熱樹脂を配合する方法も開示されている(特許文献3)。いずれもフィルムの加工性を改善することで、コンデンサの性能向上を目的としている。   Conventionally, plastics have been used as insulating members for capacitor dielectrics, motors, transformers, and the like, taking advantage of their electrical insulating properties. In particular, with the development of electronic devices and the like in recent years, film capacitors are often used as materials that are inexpensive and easy to manufacture. There are various types of plastics used in film capacitors. However, due to the downsizing of electronic equipment and the increase in capacity of capacitors, the usage environment has become high, and even under such conditions, the electrical characteristics are stable over a long period of time. It is required to be. For example, it is disclosed to use a blend of various polyesters or a film made of a polymer alloy such as polyester and polycarbonate (Patent Documents 1 and 2). In addition, a method of blending an amorphous high heat resistant resin such as polyetherimide with a polyphenyl sulfide resin is also disclosed (Patent Document 3). Both are aimed at improving the performance of the capacitor by improving the processability of the film.

ところで、ポリアリレート樹脂は、透明で耐熱性が高く、衝撃強度に代表される機械的特性や寸法安定性に優れたエンジニアリングプラスチックとしてよく知られている。かかるポリアリレート樹脂は各種溶剤への溶解性と優れた電気特性(絶縁性、誘電特性など)を有しており、コンデンサ用のフィルムとして利用されている。しかし、従来のポリアリレート樹脂の電気特性は、高温使用、大容量化には不十分であった(特許文献4)。   Polyarylate resins are well known as engineering plastics that are transparent, have high heat resistance, and have excellent mechanical properties such as impact strength and dimensional stability. Such polyarylate resin has solubility in various solvents and excellent electrical properties (insulating properties, dielectric properties, etc.), and is used as a film for capacitors. However, the electrical properties of the conventional polyarylate resin are insufficient for high temperature use and large capacity (Patent Document 4).

特公平7−21070号公報Japanese Patent Publication No. 7-21070 特表2011−516680号公報Special table 2011-516680 gazette 特開2001−261959号公報JP 2001-261959 A 特開昭51−39796号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-39796

本発明は、機械的特性、電気的特性に優れたポリアリレート樹脂フィルムを提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a polyarylate resin film excellent in mechanical properties and electrical properties.

本発明者らは、前記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は下記の通りである。
(1)芳香族ジカルボン酸残基と下記一般式(i)〜(iv)から選ばれるいずれか1種以上の二価フェノール残基とからなり、ガラス転移温度が200℃以上であるポリアリレート樹脂より得られるポリアリレート樹脂フィルム。
一般式(i)中、R、R、RおよびRは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれる。
一般式(ii)中、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R15は水素、置換あるいは無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、あるいはフェニル基からなる群から選ばれる。
一般式(iii)中、R21、R22、R23およびR24は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R25、および、R26は、各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、kは2〜12の整数である。
一般式(iv)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R35は、水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、R36は炭素数1〜20の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる。
(2)厚さ0.5〜1500μmであることを特徴とする(1)のポリアリレート樹脂フィルム。
(3)引張破断伸びが5%以上であることを特徴とする(1)または(2)のポリアリレート樹脂フィルム。
(4)フィルムの片面または両面に対し金属蒸着層を形成してなる(1)〜(3)のポリアリレート樹脂フィルム。
(5)芳香族ジカルボン酸残基と下記一般式(i)〜(iv)から選ばれるいずれか1種以上の二価フェノール残基とからなるポリアリレート樹脂を、沸点が115℃未満の有機溶媒に溶解した後、流涎、乾燥を行うことで形成することを特徴とする(1)〜(4)のポリアリレート樹脂フィルムの製造方法。
一般式(i)中、R、R、RおよびRは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれる。
一般式(ii)中、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R15は水素、置換あるいは無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、あるいはフェニル基からなる群から選ばれる。
一般式(iii)中、R21、R22、R23およびR24は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R25、および、R26は、各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、kは2〜12の整数である。
一般式(iv)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R35は、水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、R36は炭素数1〜20の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる。
(6)沸点が115℃未満の有機溶媒を用い、用いるポリアリレート樹脂の(ガラス転移温度−80℃)を超えない温度の範囲で乾燥を行うことを特徴とする(5)のポリアリレート樹脂フィルムの製造方法。
(7)(1)〜(5)のポリアリレート樹脂フィルムを用いたコンデンサ。
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems.
That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) A polyarylate resin comprising an aromatic dicarboxylic acid residue and at least one dihydric phenol residue selected from the following general formulas (i) to (iv), and having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. A polyarylate resin film obtained more.
In the general formula (i), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.
In general formula (ii), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 15 is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group, or a phenyl group.
In the general formula (iii), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom or carbon number 1 Selected from the group consisting of -20 aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, and halogenated alkyl groups, and k is 2-12. Is an integer.
In the general formula (iv), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 35 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogenated alkyl group, and R 36 is an aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of groups.
(2) The polyarylate resin film according to (1), which has a thickness of 0.5 to 1500 μm.
(3) The polyarylate resin film according to (1) or (2), wherein the elongation at break is 5% or more.
(4) The polyarylate resin film according to (1) to (3), wherein a metal vapor deposition layer is formed on one or both sides of the film.
(5) A polyarylate resin comprising an aromatic dicarboxylic acid residue and one or more dihydric phenol residues selected from the following general formulas (i) to (iv), an organic solvent having a boiling point of less than 115 ° C The method for producing a polyarylate resin film according to any one of (1) to (4), wherein the polyarylate resin film is formed by flowing and drying after being dissolved in the solution.
In the general formula (i), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.
In general formula (ii), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 15 is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group, or a phenyl group.
In the general formula (iii), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom or carbon number 1 Selected from the group consisting of -20 aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, and halogenated alkyl groups, and k is 2-12. Is an integer.
In the general formula (iv), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 35 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogenated alkyl group, and R 36 is an aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of groups.
(6) The polyarylate resin film according to (5), wherein an organic solvent having a boiling point of less than 115 ° C. is used and drying is performed in a temperature range not exceeding (glass transition temperature−80 ° C.) of the polyarylate resin to be used. Manufacturing method.
(7) A capacitor using the polyarylate resin film of (1) to (5).

本発明によれば、機械的特性、電気的特性に優れたポリアリレート樹脂フィルムが得られる。   According to the present invention, a polyarylate resin film excellent in mechanical properties and electrical properties can be obtained.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明で用いるポリアリレート樹脂は、芳香族ジカルボン酸残基と二価フェノール残基とからなる芳香族ポリエステル重合体であり、溶液重合、溶融重合、界面重合などの方法により製造される。また、溶融状態から徐冷した場合や、ガラス転移温度を超える温度で熱処理した場合にも結晶化しない非晶性のポリアリレート樹脂であることが好ましい。非晶性であるかどうかは、公知の方法例えば示差走差熱量分析(DSC)や動的粘弾性測定などにより融点が存在しているかどうかを確認すればよい。   The polyarylate resin used in the present invention is an aromatic polyester polymer composed of an aromatic dicarboxylic acid residue and a dihydric phenol residue, and is produced by methods such as solution polymerization, melt polymerization, and interfacial polymerization. Further, it is preferably an amorphous polyarylate resin that does not crystallize even when it is gradually cooled from a molten state or when it is heat-treated at a temperature exceeding the glass transition temperature. Whether or not the material is amorphous may be confirmed by a known method such as differential scanning calorimetry (DSC) or dynamic viscoelasticity measurement.

また、ポリアリレート樹脂のガラス転移温度は200℃以上であることが必要であり、好ましくは210℃以上、より好ましくは220℃以上である。ガラス転移温度が200℃以上であると耐熱性が優れたものとなるばかりでなく、絶縁材料の特性として重要な絶縁破壊強度が大きいものとなる。ガラス転移温度が200℃未満であると絶縁破壊強度が十分に高くならない。   Further, the glass transition temperature of the polyarylate resin needs to be 200 ° C. or higher, preferably 210 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher. When the glass transition temperature is 200 ° C. or higher, not only the heat resistance is excellent, but also the dielectric breakdown strength important as a characteristic of the insulating material is large. When the glass transition temperature is less than 200 ° C., the dielectric breakdown strength is not sufficiently increased.

芳香族ジカルボン酸残基を導入するための酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、クロルフタル酸、ニトロフタル酸、2,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、メチルテレフタル酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、2,2’−ビフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルメタンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルフォンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルイソプロピリデンジカルボン酸、1,2−ビス(4−カルボキシフェノキシ)エタン、5−ナトリウムスルホイソフタル酸などが挙げられる。中でも、テレフタル酸およびイソフタル酸が好ましく、機械特性と成形性の点から、両者を混合して用いることが特に好ましい。その場合の混合モル比率は、テレフタル酸/イソフタル酸=80/20〜20/80(モル%)の範囲の任意であるが、好ましくは70/30〜25/75(モル%)、より好ましくは60/40〜30/70(モル%)の範囲とすると、得られるポリアリレート樹脂は非晶性なものとなりやすい。   Examples of the acid component for introducing the aromatic dicarboxylic acid residue include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, chlorophthalic acid, nitrophthalic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2 , 7-Naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, methyl terephthalic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 4,4'-diphenylether dicarboxylic acid, 4,4 ' -Diphenylmethane dicarboxylic acid, 4,4'-diphenylsulfone dicarboxylic acid, 4,4'-diphenylisopropylidenedicarboxylic acid, 1,2-bis (4-carboxyphenoxy) ethane, 5-sodium sulfoisophthalic acid and the like. Among these, terephthalic acid and isophthalic acid are preferable, and in view of mechanical properties and moldability, it is particularly preferable to use a mixture of both. In this case, the mixing molar ratio is arbitrary in the range of terephthalic acid / isophthalic acid = 80/20 to 20/80 (mol%), preferably 70/30 to 25/75 (mol%), more preferably When the range is 60/40 to 30/70 (mol%), the resulting polyarylate resin is likely to be amorphous.

また、本発明の特性や効果を損なわない範囲で、脂肪族ジカルボン酸類を用いてもよい。脂肪族ジカルボン酸類としては、特に限定されず、ジカルボキシメチルシクロヘキサン、シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸、ドデカン二酸等を挙げることができる。   Moreover, you may use aliphatic dicarboxylic acids in the range which does not impair the characteristic and effect of this invention. The aliphatic dicarboxylic acids are not particularly limited, and examples thereof include dicarboxymethylcyclohexane, cyclohexanedicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, glutaric acid, and dodecanedioic acid.

二価フェノール残基を導入するためのビスフェノール成分としては、下記一般式(i)〜(iv)で表されるものを用いる必要がある。これらのビスフェノールを用いることで、得られるポリアリレート樹脂はガラス転移温度が200℃以上となり、機械的特性や電気的特性が優れたものとなる。本発明においてはこれらの化合物は単独で使用してもよいし、2種類以上混合して使用してもよい。   As a bisphenol component for introducing a dihydric phenol residue, those represented by the following general formulas (i) to (iv) must be used. By using these bisphenols, the resulting polyarylate resin has a glass transition temperature of 200 ° C. or higher, and is excellent in mechanical properties and electrical properties. In the present invention, these compounds may be used alone or in combination of two or more.

一般式(i)で表わされる化合物は次のものである。
一般式(i)中、R、R、RおよびRは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれる。
The compound represented by the general formula (i) is as follows.
In the general formula (i), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.

一般式(i)で示される構造を導入するためのビスフェノールとしては、例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよいし、2種類以上混合して使用してもよい。   Examples of the bisphenol for introducing the structure represented by the general formula (i) include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, Examples include 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene, and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

一般式(ii)で表わされる化合物は次のものである。
一般式(ii)中、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R15は水素、置換あるいは無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、あるいはフェニル基からなる群から選ばれる。
The compound represented by the general formula (ii) is as follows.
In general formula (ii), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 15 is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group, or a phenyl group.

一般式(ii)で示される構造を導入するためのビスフェノールとしては、例えば、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタルイミジン、N−フェニル−3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタルイミジン、N−メチル−3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタルイミジン、N−エチル−3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタルイミジン等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよいし、2種類以上混合して使用してもよい。   Examples of the bisphenol for introducing the structure represented by the general formula (ii) include 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine, N-phenyl-3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine, N-methyl-3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine, N-ethyl-3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine and the like can be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

一般式(iii)で表わされる化合物は次のものである。
一般式(iii)中、R21、R22、R23およびR24は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R25、および、R26は、各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、kは2〜12の整数である。
The compound represented by the general formula (iii) is as follows.
In the general formula (iii), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom or carbon number 1 Selected from the group consisting of -20 aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, and halogenated alkyl groups, and k is 2-12. Is an integer.

一般式(iii)で示される構造を導入するためのビスフェノールとしては、例えば、シクロアルキリデン基を有するビスフェノールであり、その具体例として、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロドデカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよいし、2種類以上混合して使用してもよい。   The bisphenol for introducing the structure represented by the general formula (iii) is, for example, a bisphenol having a cycloalkylidene group, and specific examples thereof include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1 -Bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclo Pentane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) cyclopentane, , 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclododecane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) cyclododecane 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1 -Bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane and the like Can be mentioned. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

一般式(iv)で表わされる化合物は次のものである。
一般式(iv)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R35は、水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、R36は炭素数1〜20の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる。
The compound represented by the general formula (iv) is as follows.
In the general formula (iv), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 35 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogenated alkyl group, and R 36 is an aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of groups.

一般式(iv)で示される構造を導入するためのビスフェノールとしては、例えば、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)−1−フェニルエタン等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよいし、2種類以上混合して使用してもよい。   Examples of the bisphenol for introducing the structure represented by the general formula (iv) include bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) phenylmethane, and bis (4-hydroxy-). 3,5-dimethylphenyl) phenylmethane, bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) phenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy) -3-methylphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) Examples include -1-phenylethane. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の特性や効果を損なわない範囲で、一般式(i)〜(iv)で示される構造と異なる一般式(v)で示されるビスフェノール、ジヒドロキシベンゼン類や脂肪族グリコールを用いることができる。
一般式(v)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれるものである。
In addition, bisphenols, dihydroxybenzenes and aliphatic glycols represented by the general formula (v) different from the structures represented by the general formulas (i) to (iv) may be used as long as the characteristics and effects of the present invention are not impaired. it can.
In the general formula (v), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Are selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.

一般式(v)で示されるビスフェノールとしては、一般式(i)〜(iv)とは異なる二価フェノール残基、ジヒドロキシベンゼン残基や脂肪族グリコール残基を含んでいてもよく、その具体例としては、例えば、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下ビスフェノールAと称する場合がある)、2,2−(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2,−(4−ヒドロキシフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−4−ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン等を挙げることができる。ジヒドロキシベンゼン類としては、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール等を挙げることができる。脂肪族グリコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジール、ノナンジオール、デカンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、同プロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールSのエチレンオキサイド付加物等を挙げることができる。これらは、一般式(i)〜(iv)で示されるビスフェノール成分と混合して用いることができ、得られるポリアリレート樹脂のガラス転移温度が低下するものの機械特性が向上する点で、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンが特に好ましい。   The bisphenol represented by the general formula (v) may contain a dihydric phenol residue, dihydroxybenzene residue or aliphatic glycol residue different from the general formulas (i) to (iv), and specific examples thereof. For example, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2- (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter sometimes referred to as bisphenol A), 2, 2- (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2,-(4-hydroxyphenyl) -4-methylpentane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis ( 4-hydroxy-3-methylphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) -4-methylpentane, 2,2-bis 4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)- 4-pentane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane and the like can be mentioned. Examples of dihydroxybenzenes include hydroquinone, resorcinol, catechol and the like. Aliphatic glycols include ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, pentanediol, hexanediol, nonanediol, decanediol, cyclohexanedimethanol, ethylene oxide adduct of bisphenol A, propylene oxide adduct, and ethylene oxide of bisphenol S. Additives can be mentioned. These can be used by mixing with the bisphenol components represented by the general formulas (i) to (iv), and although the glass transition temperature of the resulting polyarylate resin is lowered, the mechanical properties are improved. -Bis (4-hydroxyphenyl) propane is particularly preferred.

一般式(i)〜(iv)で示される構造とは異なる二価フェノール残基、ジヒドロキシベンゼン残基や脂肪族グリコール残基の配合量は、得られるポリアリレート樹脂のガラス転移温度が200℃未満とならない限り、特に限定されない。組み合わせる二価フェノールによってガラス転移温度が異なったものとなるため一概に決めることができないが、一般式(v)で示される構造を有する二価フェノールの配合量の一例は、全二価フェノール中に5〜75mol%、好ましくは5〜70mol%、より好ましくは5〜60mol%である。   The blending amount of the dihydric phenol residue, dihydroxybenzene residue or aliphatic glycol residue different from the structure represented by the general formulas (i) to (iv) is such that the glass transition temperature of the resulting polyarylate resin is less than 200 ° C. Unless it becomes, it will not specifically limit. Although the glass transition temperature differs depending on the dihydric phenol to be combined, it cannot be determined unconditionally. However, an example of the blending amount of the dihydric phenol having the structure represented by the general formula (v) It is 5 to 75 mol%, preferably 5 to 70 mol%, more preferably 5 to 60 mol%.

本発明で用いるポリアリレート樹脂では、芳香族ジカルボン酸残基および二価フェノール残基以外に、単官能カルボン酸残基、単官能フェノール残基、あるいは、単官能アルコール残基を分子量調整剤として用いることができる。単官能カルボン酸残基としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、トルイル酸、p−tert−ブチル安息香酸、p−メトキシフェニル酢酸等を挙げることができる。単官能フェノール残基としては、例えば、フェノール、クレゾール、p−tert−ブチルフェノール、ノニルフェノール、o−フェニルフェノール、クミルフェノール等を挙げることができる。単官能アルコール残基としては、例えば、メタノール、エタノール、nープロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ドデシルアルコール、ステアリルアルコール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。   In the polyarylate resin used in the present invention, in addition to the aromatic dicarboxylic acid residue and the dihydric phenol residue, a monofunctional carboxylic acid residue, a monofunctional phenol residue, or a monofunctional alcohol residue is used as a molecular weight modifier. be able to. Examples of the monofunctional carboxylic acid residue include acetic acid, propionic acid, octanoic acid, cyclohexanecarboxylic acid, benzoic acid, toluic acid, p-tert-butylbenzoic acid, p-methoxyphenylacetic acid and the like. Examples of the monofunctional phenol residue include phenol, cresol, p-tert-butylphenol, nonylphenol, o-phenylphenol, cumylphenol, and the like. Examples of the monofunctional alcohol residue include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, pentanol, hexanol, dodecyl alcohol, stearyl alcohol, benzyl alcohol, phenethyl alcohol and the like.

また、本発明で用いるポリアリレート樹脂は、必ずしも直鎖状のポリアリレートである必要はなく、多価フェノールを共重合することができる。共重合に用いる多価フェノールの使用量は、その要求特性に応じて適宜調製することができる。   In addition, the polyarylate resin used in the present invention is not necessarily a linear polyarylate, and can be copolymerized with a polyhydric phenol. The amount of polyhydric phenol used for copolymerization can be appropriately adjusted according to the required characteristics.

本発明で用いるポリアリレート樹脂のインヘレント粘度(ηinh)は0.40〜1.20dl/gであることが好ましく、0.45〜1.10dl/gであることがより好ましい。インヘレント粘度(ηinh)はポリマーの分子量の指標の一つであるが、本発明において、これが0.40dl/g未満になるとポリアリレート樹脂の機械的特性が劣ったものとなり、1.20dl/gを超えるとポリアリレート樹脂フィルムを製膜する際の加工性が悪くなる場合があって好ましくない。 The inherent viscosity (η inh ) of the polyarylate resin used in the present invention is preferably 0.40 to 1.20 dl / g, and more preferably 0.45 to 1.10 dl / g. Inherent viscosity (η inh ) is one of the indicators of the molecular weight of the polymer. In the present invention, when it is less than 0.40 dl / g, the mechanical properties of the polyarylate resin are inferior, and 1.20 dl / g. Exceeding this is not preferable because the processability when forming a polyarylate resin film may deteriorate.

本発明において、ポリアリレート樹脂を重合する方法は、界面重合法、溶液重合法、溶融重合法などが挙げられるが、中でも、界面重合法が好ましい。界面重合法によれば、溶液重合法や溶融重合法と比較して反応が速く、高分子量のポリアリレート樹脂を容易に得ることができる。また、界面重合法は、得られるポリアリレート樹脂の分子量がコントロールしやすい他、優れた低不純物性、透明性を付与しうる重合法である。以下に、一般的な界面重合法によるポリアリレート樹脂の製造方法を詳述する。   In the present invention, examples of the method for polymerizing the polyarylate resin include an interfacial polymerization method, a solution polymerization method, a melt polymerization method, and the like, among which the interfacial polymerization method is preferable. According to the interfacial polymerization method, the reaction is faster than the solution polymerization method or the melt polymerization method, and a high molecular weight polyarylate resin can be easily obtained. The interfacial polymerization method is a polymerization method that can easily control the molecular weight of the resulting polyarylate resin and can impart excellent low impurity properties and transparency. Below, the manufacturing method of polyarylate resin by the general interfacial polymerization method is explained in full detail.

前記界面重合法は、二価フェノール類をアルカリ水溶液に溶解させた水相と、ジカルボン酸残基を導入するための原料であるジカルボン酸ジハライドを水に不溶の有機溶剤に溶解させた有機相とを、触媒の存在下で混合することによっておこなわれる。この界面重合の方法は、W.M.EARECKSON,J.Poly.Sci.XL399(1959)や、特公昭40−1959号公報などに記載されている。   The interfacial polymerization method includes an aqueous phase in which dihydric phenols are dissolved in an alkaline aqueous solution, and an organic phase in which dicarboxylic acid dihalide, which is a raw material for introducing a dicarboxylic acid residue, is dissolved in an organic solvent insoluble in water. By mixing in the presence of a catalyst. This method of interfacial polymerization is described in W.W. M.M. EARECKSON, J.A. Poly. Sci. XL399 (1959) and Japanese Patent Publication No. 40-1959.

界面重合法について、以下に詳細に説明する。まず、上記水相として所望の二価フェノール類のアルカリ水溶液を調製し、次いで、重合触媒、さらに必要に応じて分子量調整剤(末端封止剤)を添加する。これとは別に、後述の有機相を調製するための有機溶剤に、芳香族ジカルボン酸残基を導入するための原料である芳香族ジカルボン酸ジハライドを溶解して、有機相を調製する。その後、水相であるアルカリ水溶液と有機相である有機溶剤溶液を混合し、25℃以下で30分〜5時間攪拌しながら界面重合反応を行うことによって、有機溶剤中に高分子量のポリアリレート樹脂が生成するので、その有機溶剤溶液を純水やイオン交換水などで洗浄した後、有機溶剤を留去せしめることでポリアリレート樹脂のみを得ることができる。   The interfacial polymerization method will be described in detail below. First, an alkaline aqueous solution of a desired dihydric phenol is prepared as the aqueous phase, and then a polymerization catalyst and, if necessary, a molecular weight adjusting agent (end-capping agent) are added. Separately, an organic phase is prepared by dissolving an aromatic dicarboxylic acid dihalide, which is a raw material for introducing an aromatic dicarboxylic acid residue, in an organic solvent for preparing an organic phase described later. Thereafter, an aqueous alkali solution as an aqueous phase and an organic solvent solution as an organic phase are mixed and subjected to an interfacial polymerization reaction while stirring at 25 ° C. or lower for 30 minutes to 5 hours, whereby a high molecular weight polyarylate resin is added to the organic solvent. Therefore, after washing the organic solvent solution with pure water or ion-exchanged water, only the polyarylate resin can be obtained by distilling off the organic solvent.

アルカリ水溶液を調製するためのアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。なかでも、経済的に有利な点および廃液処理が容易な点から水酸化ナトリウムが好ましい。   Examples of the alkali for preparing the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide and potassium hydroxide. Of these, sodium hydroxide is preferable because it is economically advantageous and easy to treat the waste liquid.

重合触媒としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリドデシルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、キノリン、ジメチルアニリン等の第3級アミン、トリメチルベンジルアンモニウムハライド、トリブチルベンジルアンモニウムハライド、トリエチルベンジルアンモニウムハライド、トリブチルベンジルホスホニウムハライド、テトラブチルアンモニウムハライド等の第4級アンモニウム塩や、トリメチルベンジルホスホニウムハライド、トリブチルベンジルホスホニウムハライド、トリエチルベンジルホスホニウムハライド、テトラブチルホスホニウムハライド、トリフェニルベンジルホスホニウムハライド、テトラフェニルホスホニウムハライド等の第4級ホスホニウム塩などが挙げられる。なかでも、反応速度が速く、芳香族ジカルボン酸ハライドの加水分解を最小限に抑える観点から、トリブチルベンジルアンモニウムハライド、テトラブチルアンモニウムハライド、テトラブチルホスホニウムハライドが好ましい。   Polymerization catalysts include trimethylamine, triethylamine, tri-n-butylamine, trihexylamine, tridodecylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, tertiary amines such as pyridine, quinoline, dimethylaniline, trimethylbenzylammonium halide, tributyl. Quaternary ammonium salts such as benzylammonium halide, triethylbenzylammonium halide, tributylbenzylphosphonium halide, tetrabutylammonium halide, trimethylbenzylphosphonium halide, tributylbenzylphosphonium halide, triethylbenzylphosphonium halide, tetrabutylphosphonium halide, triphenylbenzyl Phosphonium halide, tetraphenylphosphonium halide, etc. Such as grade phosphonium salt and the like. Of these, tributylbenzylammonium halide, tetrabutylammonium halide, and tetrabutylphosphonium halide are preferred from the viewpoint of fast reaction rate and minimizing hydrolysis of aromatic dicarboxylic acid halide.

有機相を得るための溶媒としては、水と相溶せず、かつポリアリレート樹脂を溶解する溶媒が挙げられる。具体的には、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、o−ジクロロベンゼン、m−ジクロロベンゼン、p−ジクロロベンゼンなどの塩素系溶媒、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族系炭化水素系溶媒や、テトラヒドロフランなどが例示され、なかでも、非引火性で製造設備を防爆仕様にしなくても取扱性が良好である点から、ジクロロメタンが好ましい。   Examples of the solvent for obtaining the organic phase include a solvent that is incompatible with water and dissolves the polyarylate resin. Specifically, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, chlorobenzene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, 1,1,1-trichloroethane, o-dichlorobenzene, m-dichlorobenzene, Examples include chlorinated solvents such as p-dichlorobenzene, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene, and xylene, and tetrahydrofuran. Among these, non-flammable and easy to handle even if the production equipment is not explosion-proof. Is preferable from the viewpoint of good.

ポリアリレート樹脂を溶液重合法で製造する場合は、二価フェノール化合物と芳香族ジカルボン酸ジハライドを有機溶剤に溶解して攪拌し、2〜80℃で反応させる。また、溶融重合法で製造する場合、まず二価フェノールを酢酸無水物のような有機カルボン酸無水物と100〜200℃で反応させて二価フェノールのジエステル化物を得た後、芳香族ジカルボン酸とともに攪拌しながら減圧下で300〜360℃まで昇温することでエステル交換反応させつつ副生する有機カルボン酸を留去させることで、ポリアリレート樹脂を得ることができる。   In the case of producing a polyarylate resin by a solution polymerization method, a dihydric phenol compound and an aromatic dicarboxylic acid dihalide are dissolved in an organic solvent, stirred, and reacted at 2 to 80 ° C. In the case of producing by melt polymerization, first, dihydric phenol is reacted with an organic carboxylic acid anhydride such as acetic anhydride at 100 to 200 ° C. to obtain a diesterified product of dihydric phenol, and then aromatic dicarboxylic acid. A polyarylate resin can be obtained by evaporating the organic carboxylic acid produced as a by-product while causing a transesterification reaction by raising the temperature to 300 to 360 ° C. under reduced pressure while stirring.

本発明で用いるポリアリレート樹脂のカルボキシル価は、耐アーク放電性や誘電率など電気特性に影響を与えるため、100モル/トン以下であることが好ましく、50モル/トン以下がより好ましく、30モル/トン以下にすることがさらに好ましい。ポリアリレート樹脂のカルボキシル価は、中和滴定など公知の方法で測定することができる。   The carboxyl value of the polyarylate resin used in the present invention is preferably 100 mol / ton or less, more preferably 50 mol / ton or less, more preferably 30 mol or less, because it affects electric characteristics such as arc discharge resistance and dielectric constant. It is more preferable to make it less than / ton. The carboxyl value of the polyarylate resin can be measured by a known method such as neutralization titration.

本発明で用いるポリアリレート樹脂中の残留アルカリ金属量は、50ppm未満であることが好ましい。残留アルカリ金属量が50ppm以上であると、上述した電気特性が低下する傾向にあり好ましくない。ポリアリレート樹脂中の残留アルカリ金属量は、イオンクロマトグラフ分析法、原子吸光法、プラズマ発光分光分析法など公知の方法を利用して定量することができる。   The amount of residual alkali metal in the polyarylate resin used in the present invention is preferably less than 50 ppm. If the amount of residual alkali metal is 50 ppm or more, the above-described electrical characteristics tend to be deteriorated, which is not preferable. The amount of residual alkali metal in the polyarylate resin can be quantified using a known method such as ion chromatography analysis, atomic absorption spectrometry, or plasma emission spectroscopy.

本発明で用いるポリアリレート樹脂中に残留する第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩などの触媒の量が200ppm未満であることが好ましく、より好ましくは100ppm未満である。残留する触媒が200ppm以上であると絶縁破壊強度が低下する傾向があり、好ましくない。ポリアリレート樹脂中に残留する第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩などの触媒はガスクロマトグラフ法を利用して定量できる。   The amount of the catalyst such as quaternary ammonium salt and quaternary phosphonium salt remaining in the polyarylate resin used in the present invention is preferably less than 200 ppm, more preferably less than 100 ppm. If the remaining catalyst is 200 ppm or more, the dielectric breakdown strength tends to decrease, such being undesirable. Catalysts such as quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts remaining in the polyarylate resin can be quantified using a gas chromatographic method.

本発明のポリアリレート樹脂フィルムを得るためには、溶融押出法や流延法などのフィルムの製造方法が採用でき、特に限定されるものではない。以下にその一例を説明する。   In order to obtain the polyarylate resin film of the present invention, a film production method such as a melt extrusion method or a casting method can be employed, and it is not particularly limited. One example will be described below.

溶融押出法は、乾燥したポリアリレート樹脂を、そのガラス転移温度より100〜180℃、好ましくは110〜170℃だけ高い温度に設定調節した押出機に投入し、溶融せしめてからフィルターを通過させた後、その溶融ポリマーをTダイの口金を用いてシート状に吐出し、冷却ドラム上で冷却固化せしめて、ポリアリレート樹脂フィルムが得られる。このようにして得られたポリアリレート樹脂フィルムは厚みが数十〜1000μmと厚いものになるため、フィルムコンデンサとして好適に用いることができる数μm〜数十μmのポリアリレート樹脂フィルムを得るために延伸処理することもできる。   In the melt extrusion method, the dried polyarylate resin was put into an extruder set and adjusted to a temperature higher by 100 to 180 ° C., preferably 110 to 170 ° C. than its glass transition temperature, and allowed to melt and then passed through a filter. Thereafter, the molten polymer is discharged into a sheet using a die of a T die, and is cooled and solidified on a cooling drum to obtain a polyarylate resin film. Since the polyarylate resin film thus obtained has a thickness of several tens to 1,000 μm, it is stretched to obtain a polyarylate resin film of several μm to several tens μm that can be suitably used as a film capacitor. It can also be processed.

流延法はいわゆる溶液キャスト法であり、ポリアリレート樹脂を有機溶剤に溶解し、その有機溶剤溶液を金属製のドラムやベルト、あるいはポリアリレート樹脂とは異なる樹脂からなるフィルム基材の上に塗布した後、有機溶剤を留去させ基材等から剥離することで
ポリアリレート樹脂フィルムを得ることができる。
The casting method is a so-called solution casting method, in which a polyarylate resin is dissolved in an organic solvent, and the organic solvent solution is applied onto a metal drum or belt, or a film substrate made of a resin different from the polyarylate resin. Then, the polyarylate resin film can be obtained by distilling off the organic solvent and peeling it off from the substrate.

これらのポリアリレート樹脂フィルムの製造方法では、流延法の方が好ましい。溶融押出法の場合、ポリアリレート樹脂のガラス転移温度が高くなるほど、押出時の加工温度を高くせざるを得ないが、加工温度がポリアリレート樹脂の分解開始温度と同等かそれを超える場合があって好ましくない。それに対し、流延法ではポリアリレート樹脂のガラス転移温度にはあまり依存せず、常温〜数十℃の温度範囲で有機溶剤溶液を取り扱うことができるので、ポリアリレート樹脂の分解開始温度を考慮しなくてもよい。また、溶融押出法では、押出成形のみで薄いポリアリレート樹脂フィルムを得ることは困難であるが、流延法の場合は、有機溶剤溶液の濃度とそれを塗工する際の厚みを調節することで、厚みをコントロールでき、その結果数μmの薄いポリアリレート樹脂フィルムも比較的容易に作製できる。   In the production method of these polyarylate resin films, the casting method is preferred. In the case of the melt extrusion method, the higher the glass transition temperature of the polyarylate resin, the higher the processing temperature during extrusion, but the processing temperature may be equal to or higher than the decomposition start temperature of the polyarylate resin. It is not preferable. In contrast, the casting method does not depend much on the glass transition temperature of the polyarylate resin and can handle organic solvent solutions in the temperature range from room temperature to several tens of degrees Celsius. It does not have to be. In addition, in the melt extrusion method, it is difficult to obtain a thin polyarylate resin film only by extrusion molding. However, in the case of the casting method, the concentration of the organic solvent solution and the thickness when coating it are adjusted. Thus, the thickness can be controlled, and as a result, a thin polyarylate resin film having a thickness of several μm can be produced relatively easily.

溶液キャスト法で用いる有機溶媒としては、特に制限はされないが、例えば、塩化メチレン(沸点40℃)、クロロホルム(沸点61℃)、クロロベンゼン(沸点131℃)、1,2−ジクロロベンゼン(沸点180℃)などの塩素系溶媒に代表されるハロゲン系溶媒や、トルエン(沸点110℃)、キシレン(144℃)、シクロヘキサノン(沸点156℃)、テトラヒドロフラン(沸点66℃)、1,3−ジオキサン(沸点105℃)、1,4−ジオキサン(沸点101℃)、1,3−ジオキソラン(沸点75℃)、N−メチルピロリドン(沸点202℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(165℃)、ジメチルホルムアミド(沸点153℃)、ジエチレングリコールジメチルエーテル(沸点162℃)、プロピレングリコールモノメチルエーテル(沸点121℃)などの非ハロゲン系溶媒が挙げられる。   The organic solvent used in the solution casting method is not particularly limited. For example, methylene chloride (boiling point 40 ° C), chloroform (boiling point 61 ° C), chlorobenzene (boiling point 131 ° C), 1,2-dichlorobenzene (boiling point 180 ° C). ) And other halogen solvents such as toluene (boiling point 110 ° C.), xylene (144 ° C.), cyclohexanone (boiling point 156 ° C.), tetrahydrofuran (boiling point 66 ° C.), 1,3-dioxane (boiling point 105). ° C), 1,4-dioxane (boiling point 101 ° C), 1,3-dioxolane (boiling point 75 ° C), N-methylpyrrolidone (boiling point 202 ° C), N, N-dimethylacetamide (165 ° C), dimethylformamide (boiling point) 153 ° C.), diethylene glycol dimethyl ether (boiling point 162 ° C.), propylene glycol monomer Non-halogenated solvents such as ethers (boiling point 121 ° C.) and the like.

中でも、非ハロゲン系溶媒であって、かつ沸点が115℃未満であるトルエン(沸点110℃)、テトラヒドロフラン(沸点66℃)、1,3−ジオキサン(沸点105℃)、1,3−ジオキソラン(沸点75℃)が好ましく、非ハロゲン系溶媒であって、かつ沸点が100℃未満であるテトラヒドロフラン(沸点66℃)、1,3−ジオキソラン(沸点75℃)がさらに好ましく、溶解性の観点から、テトラヒドロフラン(沸点66℃)、1,3−ジオキソラン(沸点75℃)が特に好ましい。   Among these, toluene (boiling point 110 ° C.), tetrahydrofuran (boiling point 66 ° C.), 1,3-dioxane (boiling point 105 ° C.), 1,3-dioxolane (boiling point), which is a non-halogen solvent and has a boiling point of less than 115 ° C. 75 ° C.) is preferred, and tetrahydrofuran (boiling point 66 ° C.) and 1,3-dioxolane (boiling point 75 ° C.) which are non-halogen solvents and have a boiling point of less than 100 ° C. are more preferred. From the viewpoint of solubility, tetrahydrofuran (Boiling point 66 ° C.) and 1,3-dioxolane (boiling point 75 ° C.) are particularly preferred.

溶液キャスト法でポリアリレート樹脂フィルムを製膜するにあたって、ポリアリレート樹脂を上記有機溶媒に溶解し金属製のドラムやベルト等に塗布後、乾燥工程において、有機溶剤を留去させ基材等から剥離することでポリアリレート樹脂フィルムを得ることができるが、乾燥工程において乾燥温度の制御を十分に行うことは、得られるポリアリレート樹脂フィルムの機械的特性、特に引張破断伸びや、表面外観に影響を与えるため重要である。   When forming a polyarylate resin film by the solution casting method, dissolve the polyarylate resin in the above organic solvent and apply it to a metal drum, belt, etc., and then remove the organic solvent in a drying step to peel it off from the substrate. By doing so, a polyarylate resin film can be obtained, but sufficient control of the drying temperature in the drying process will affect the mechanical properties of the resulting polyarylate resin film, particularly the tensile elongation at break and surface appearance. Important to give.

本発明において、溶液キャスト法でポリアリレート樹脂フィルムを製膜には、沸点が115℃未満の有機溶媒を用い、用いるポリアリレート樹脂の(ガラス転移温度−80℃)を超えない温度の範囲で乾燥を行うことが特に好ましい。
例えば、ガラス転移温度が240℃であるポリアリレート樹脂および沸点が40℃の塩化メチレンを用いてフィルムを製膜する場合、まず溶液キャストしたフィルムを40℃未満の温度で予備的乾燥押した後、40℃、60℃、80℃と段階的に昇温する条件で乾燥する方法が挙げられる。
乾燥温度を用いる有機溶媒の沸点以下の温度を開始温度とすることで、溶液キャストしたフィルムから徐々に有機溶媒が揮発し、フィルム表面の平滑性を損ねることなく乾燥を行うことができる。一方で、有機溶媒の沸点を超える温度を開始温度とすると、急激に有機溶媒の揮発が始まり凸凹が生じ平滑性が損なわれることがある。また、段階的に温度を上げることで、乾燥温度の急激な変化にともなうポリアリレート樹脂フィルムの乾燥にともなう内部応力の緩和を行うことができる。さらに、沸点を超える温度であって、かつ用いるポリアリレート樹脂の(ガラス転移温度−100℃)を超えない温度を乾燥の上限温度とすることで、有機溶媒の乾燥に対し、必要最低限の熱量で効率のよい乾燥を行うことができる。一方でポリアリレート樹脂の(ガラス転移温度−100℃)の範囲を超えて乾燥を行うことは、有機溶媒の残存量を少なくできるものの、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張破断伸びが低下する傾向がある。
In the present invention, an organic solvent having a boiling point of less than 115 ° C. is used for forming a polyarylate resin film by a solution casting method, and the polyarylate resin film is dried within a temperature range not exceeding the (glass transition temperature−80 ° C.) of the polyarylate resin to be used. It is particularly preferable to carry out.
For example, when a film is formed using a polyarylate resin having a glass transition temperature of 240 ° C. and methylene chloride having a boiling point of 40 ° C., the solution cast film is first preliminarily dried and pressed at a temperature of less than 40 ° C. The method of drying on the conditions which heat up in steps of 40 degreeC, 60 degreeC, and 80 degreeC is mentioned.
By setting the temperature below the boiling point of the organic solvent using the drying temperature as the starting temperature, the organic solvent gradually evaporates from the solution-cast film, and drying can be performed without impairing the smoothness of the film surface. On the other hand, when the temperature exceeding the boiling point of the organic solvent is set as the starting temperature, volatilization of the organic solvent starts abruptly, resulting in unevenness and smoothness may be impaired. Further, by increasing the temperature stepwise, the internal stress associated with the drying of the polyarylate resin film accompanying a drastic change in the drying temperature can be reduced. Furthermore, by setting the temperature exceeding the boiling point and not exceeding the (glass transition temperature−100 ° C.) of the polyarylate resin to be used as the upper limit temperature for drying, the minimum amount of heat required for drying the organic solvent. Efficient drying. On the other hand, drying beyond the range of (glass transition temperature-100 ° C) of the polyarylate resin can reduce the residual amount of the organic solvent, but tends to reduce the tensile elongation at break of the obtained polyarylate resin film. There is.

ポリアリレート樹脂フィルムの乾燥の具体例としては、用いる有機溶媒や乾燥設備によって異なるが、第一乾燥工程で、有機溶媒の沸点未満の温度で予備乾燥を行い、ポリアリレート樹脂フィルム中の有機溶媒含有量が23質量%未満、好ましくは20質量%未満、さらに好ましくは18質量%未満となるようにした後、第二乾燥工程で、第一工程の乾燥温度を超え、ポリアリレート樹脂のガラス転移温度未満の温度で処理した後、ポリアリレート樹脂フィルム中の有機溶媒含有量が3質量%未満、好ましくは1質量%未満、さらに好ましくは0.5質量%未満とする。有機溶媒含有量が3質量%以上であると、ポリアリレート樹脂フィルム表面の特性が悪化し、表面処理等に悪影響を及ぼすので好ましくない。本発明のポリアリレート樹脂フィルム中に残留する有機溶媒含有量は、加熱減量、ガスクロマトグラフ法など公知の方法を利用して定量することができる。加熱減量で測定を行う場合は、得られたポリアリレート樹脂フィルムのガラス転移温度未満の温度で、0.5〜1h程度処理することで定量が可能である。   Specific examples of the drying of the polyarylate resin film vary depending on the organic solvent used and the drying equipment, but in the first drying step, preliminary drying is performed at a temperature below the boiling point of the organic solvent, and the organic solvent contained in the polyarylate resin film After the amount is less than 23% by mass, preferably less than 20% by mass, more preferably less than 18% by mass, the second drying step exceeds the drying temperature of the first step, and the glass transition temperature of the polyarylate resin. After the treatment at a temperature below, the organic solvent content in the polyarylate resin film is less than 3% by mass, preferably less than 1% by mass, and more preferably less than 0.5% by mass. When the organic solvent content is 3% by mass or more, the properties of the polyarylate resin film surface are deteriorated, which adversely affects the surface treatment and the like. The content of the organic solvent remaining in the polyarylate resin film of the present invention can be quantified using a known method such as heat loss or gas chromatography. In the case of measuring by weight loss by heating, quantification is possible by processing for about 0.5 to 1 h at a temperature lower than the glass transition temperature of the obtained polyarylate resin film.

なお、有機溶媒として、トルエンのような沸点が100℃を超えるような有機溶媒を用いた場合には、乾燥温度はトルエンの沸点未満であっても、極力低めに、かつ十分に時間をかけて乾燥をする方が、有機溶媒の急激な蒸発を抑制できるため、得られるポリアリレート樹脂フィルムの表面外観として、気泡やブツ等の欠陥を少なくすることができる。一方で、有機溶媒として、テトラヒドロフランのような沸点が100℃未満の有機溶媒を用いた場合には、沸点を超えない範囲で高めの温度設定とし、かつ短時間での乾燥が可能である。   When an organic solvent having a boiling point exceeding 100 ° C. is used as the organic solvent, even if the drying temperature is lower than the boiling point of toluene, it takes as little time as possible and takes sufficient time. Since drying can suppress rapid evaporation of the organic solvent, the surface appearance of the resulting polyarylate resin film can reduce defects such as bubbles and blisters. On the other hand, when an organic solvent having a boiling point of less than 100 ° C., such as tetrahydrofuran, is used as the organic solvent, it can be set at a higher temperature within a range not exceeding the boiling point and can be dried in a short time.

第二乾燥工程においては、ポリアリレート樹脂のガラス転移温度未満であることが必要であり、ガラス転移温度より50〜150℃低い温度とすることが好ましく、ガラス転移温度より80〜120℃低い温度とすることがより好ましい。所定の乾燥温度を超えて高い温度で乾燥を行った場合、得られるポリアリレート樹脂フィルムは、寸法安定性に劣るばかりでなく、機械的特性、特に引張破断伸びが低下する傾向がある。引張破断伸びの低下は、後述する後加工工程、例えば、蒸着のようなロールtoロールで加工を行う際に破断の懸念があったり、ポリアリレート樹脂フィルムを巻き取った状態で最終製品とする際にクラックや破断の懸念があり、さらには最終製品の製品特性に影響を及ぼすことがあるため好ましくない。   In the second drying step, it is necessary to be lower than the glass transition temperature of the polyarylate resin, preferably 50 to 150 ° C. lower than the glass transition temperature, and 80 to 120 ° C. lower than the glass transition temperature. More preferably. When drying is performed at a high temperature exceeding a predetermined drying temperature, the resulting polyarylate resin film not only is inferior in dimensional stability, but also tends to decrease mechanical properties, particularly tensile elongation at break. Decrease in tensile elongation at break is due to the risk of breakage in post-processing steps described later, for example, processing by roll-to-roll such as vapor deposition, or when the final product is rolled up with a polyarylate resin film. There are concerns about cracks and breakage, and it may affect the product characteristics of the final product, which is not preferable.

本発明のポリアリレート樹脂フィルムの200℃×0.5hの加熱減量は、1質量%未満であることが好ましく、0.5質量%未満であることがより好ましく、0.3質量%未満であることがさらに好ましい。加熱減量とは、主に前記ポリアリレート樹脂フィルムの製膜時に、フィルム内部に残存する有機溶媒によるものである。したがって、加熱減量と残存する有機溶媒量は等しいものとみなすことができる。加熱減量が多くなることで、得られるポリアリレート樹脂フィルムの絶縁破壊電圧が低下する傾向がある。   The heat loss of the polyarylate resin film of the present invention at 200 ° C. × 0.5 h is preferably less than 1% by mass, more preferably less than 0.5% by mass, and less than 0.3% by mass. More preferably. The loss on heating is mainly due to the organic solvent remaining inside the film when the polyarylate resin film is formed. Therefore, it can be considered that the loss on heating and the amount of the remaining organic solvent are equal. By increasing the heat loss, the dielectric breakdown voltage of the resulting polyarylate resin film tends to decrease.

本発明のポリアリレート樹脂フィルムは、さらにセラミック粒子を含有してもよい。用いることのできるセラミック粒子としては、例えば、酸化チタン、チタン酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウム、チタン酸亜鉛、チタン酸ビスマス、酸化ランタン、チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、炭酸カルシウムが挙げられる。中でも誘電率が10以上のセラミック粒子が好ましい。セラミック粒子の平均粒径は、約数百nmから1μmであることが好ましい。これらは単独、または二種以上を組み合わせて用いることができる。ポリアリレート樹脂中にセラミック粒子を分散する方法としては、特に制限されないが、予めポリアリレート樹脂にセラミック粒子を溶融混練で分散する方法、溶液キャスト法でフィルムを製膜する際に、用いるポリアリレート樹脂の溶媒溶液に分散する方法等が挙げられる。   The polyarylate resin film of the present invention may further contain ceramic particles. Examples of ceramic particles that can be used include titanium oxide, magnesium titanate, magnesium silicate, zinc titanate, bismuth titanate, lanthanum oxide, calcium titanate, strontium titanate, barium titanate, and calcium carbonate. . Among these, ceramic particles having a dielectric constant of 10 or more are preferable. The average particle size of the ceramic particles is preferably about several hundred nm to 1 μm. These can be used alone or in combination of two or more. The method of dispersing the ceramic particles in the polyarylate resin is not particularly limited, but the method of dispersing the ceramic particles in the polyarylate resin by melt kneading in advance, the polyarylate resin used when forming a film by the solution casting method And a method of dispersing in the solvent solution.

本発明におけるポリアリレート樹脂フィルムは、単層でも複層でも構わないが、フィルム中のセラミック粒子の含有率が5〜50体積%であることが好ましい。例えば、コンデンサー用のフィルムとして用いる場合には、セラミック粒子の含有率が5体積%未満では、フィルムの誘電率の顕著な向上が得られず、また、50体積%を超えると、溶融押出法では、ポリアリレート樹脂フィルムの延伸性が極端に低下し、延伸フィルムを安定して製造することが困難になる。延伸時におけるフィルム切れなどのトラブルを防止したり、フィルム表面の均一性を向上させるためには、複層構成にしてフィルム表面層のセラミック粒子の含有量を少なくすることが有効である。溶液キャスト法では、得られるポリアリレート樹脂フィルムの引張破断伸びが低下する。   The polyarylate resin film in the present invention may be a single layer or multiple layers, but the content of ceramic particles in the film is preferably 5 to 50% by volume. For example, when used as a film for a capacitor, if the content of ceramic particles is less than 5% by volume, a significant improvement in the dielectric constant of the film cannot be obtained, and if it exceeds 50% by volume, The stretchability of the polyarylate resin film is extremely lowered, and it becomes difficult to stably produce the stretched film. In order to prevent troubles such as film breakage at the time of stretching or to improve the uniformity of the film surface, it is effective to reduce the content of ceramic particles in the film surface layer with a multilayer structure. In the solution casting method, the tensile elongation at break of the resulting polyarylate resin film is lowered.

また、ポリアリレート樹脂フィルム上にセラミック粒子を分散させたスラリー溶液を塗布後乾燥することで、セラミック粒子層を積層したポリアリレート樹脂フィルムとすることもできる。その際、乾燥後の塗布厚みは、1μmとすることがセラミック粒子層の剥離や加工性の低下を抑制するために好ましい。   Moreover, it can also be set as the polyarylate resin film which laminated | stacked the ceramic particle layer by apply | coating and drying the slurry solution which disperse | distributed the ceramic particle on the polyarylate resin film. At that time, the coating thickness after drying is preferably 1 μm in order to suppress peeling of the ceramic particle layer and deterioration of workability.

本発明のポリアリレート樹脂フィルムの厚みは、特に制限されるものではないが、0.5〜1500μm、好ましくは0.5〜500μmであり、より好ましくは0.5〜150μmであり、最も好ましくは0.5〜50μmである。   The thickness of the polyarylate resin film of the present invention is not particularly limited, but is 0.5 to 1500 μm, preferably 0.5 to 500 μm, more preferably 0.5 to 150 μm, most preferably. 0.5 to 50 μm.

本発明のポリアリレート樹脂からなるフィルムの引張破断伸びは、得られるポリアリレート樹脂の種類により、若干性状が異なるが、ポリアリレート樹脂を構成する二価フェノール成分として、一般式(i)記載のものを単独で用いた場合には、引張破断伸びは8%以上であることが好ましく、9%以上であることがより好ましく、10%以上であることがさらに好ましい。一般式(ii)または(iii)記載のものを単独で用いた場合には、引張破断伸びは10%以上であることが好ましく、15%以上であることがより好ましく、20%以上であることがさらに好ましい。一般式(iv)記載のものを単独で用いた場合には、引張破断伸びは50%以上であることが好ましく、65%以上であることがより好ましく、70%以上であることがさらに好ましい。さらに、(i)〜(v)を組み合わせて用いた場合には、引張破断伸びは10%以上であることが好ましく、20%以上であることがより好ましく、30%以上であることがさらに好ましい。得られるポリアリレート樹脂フィルムの厚みを調節する場合は、上記引張破断伸びを大きく逸脱しない範囲で行うことが好ましい。   The tensile elongation at break of the film comprising the polyarylate resin of the present invention is slightly different depending on the type of polyarylate resin to be obtained, but the dihydric phenol component constituting the polyarylate resin is described in the general formula (i) When used alone, the tensile elongation at break is preferably 8% or more, more preferably 9% or more, and even more preferably 10% or more. When the compounds described in general formula (ii) or (iii) are used alone, the tensile elongation at break is preferably 10% or more, more preferably 15% or more, and 20% or more. Is more preferable. When the compound represented by the general formula (iv) is used alone, the tensile elongation at break is preferably 50% or more, more preferably 65% or more, and further preferably 70% or more. Further, when (i) to (v) are used in combination, the tensile elongation at break is preferably 10% or more, more preferably 20% or more, and further preferably 30% or more. . When adjusting the thickness of the polyarylate resin film to be obtained, it is preferable that the thickness is not deviated significantly from the tensile elongation at break.

本発明のポリアリレート樹脂からなるフィルムの絶縁破壊電圧は、得られるポリアリレート樹脂の種類により、若干性状が異なるが、ポリアリレート樹脂を構成する二価フェノール成分として、一般式(i)、(ii)または(iii)記載のものを単独で用いた場合には、絶縁破壊電圧は230kV/mm以上であることが好ましく、250kV/mm以上であることがより好ましく、270kV/mm以上であることがさらに好ましくい。一般式(iv)記載のものを単独で用いた場合には、絶縁破壊電圧は250kV/mm以上であることが好ましく、270kV/mm以上であることがより好ましく、290kV/mm以上であることがさらに好ましくい。さらに、(i)〜(v)を組み合わせて用いた場合には、絶縁破壊電圧は210kV/mm以上であることが好ましく、230%以上であることがより好ましく、250%以上であることがさらに好ましい。得られるポリアリレート樹脂フィルムの厚みを調節する場合は、上記絶縁破壊電圧を大きく逸脱しない範囲で行うことが好ましい。   The dielectric breakdown voltage of the film comprising the polyarylate resin of the present invention is slightly different depending on the type of the polyarylate resin to be obtained, but the dihydric phenol component constituting the polyarylate resin is represented by the general formula (i), (ii) ) Or (iii) when used alone, the dielectric breakdown voltage is preferably 230 kV / mm or more, more preferably 250 kV / mm or more, and 270 kV / mm or more. Further preferred. When the compound represented by the general formula (iv) is used alone, the dielectric breakdown voltage is preferably 250 kV / mm or more, more preferably 270 kV / mm or more, and 290 kV / mm or more. Further preferred. Further, when (i) to (v) are used in combination, the dielectric breakdown voltage is preferably 210 kV / mm or more, more preferably 230% or more, and further preferably 250% or more. preferable. When adjusting the thickness of the polyarylate resin film to be obtained, it is preferable to perform the adjustment within a range not greatly deviating from the dielectric breakdown voltage.

本発明のポリアリレート樹脂フィルムの少なくとも片面に金属層を形成したものを使用して、捲回法または積層法等の公知の方法でフィルムコンデンサを得ることができる。前記の金属相はコンデンサの電極として使用されるもので、たとえば真空蒸着やスパッタリング法等の方法で金属薄膜を形成したもの、あるいは別途準備した金属箔をラミネートするなどの方法で作製できる。金属薄膜を形成するための金属としては、アルミニウム、亜鉛、錫、チタン、ニッケル、或いはそれらの合金などがあるが、これらに限定されるものではない。   Using the polyarylate resin film of the present invention having a metal layer formed on at least one surface, a film capacitor can be obtained by a known method such as a winding method or a lamination method. The metal phase is used as an electrode of a capacitor, and can be produced by, for example, laminating a metal thin film by a method such as vacuum deposition or sputtering, or laminating a separately prepared metal foil. Examples of the metal for forming the metal thin film include, but are not limited to, aluminum, zinc, tin, titanium, nickel, and alloys thereof.

次に本発明のポリアリレート樹脂フィルムを使用してコンデンサを製造する方法について述べる。コンデンサの内部電極として金属箔が用いられる場合は、金属箔と本発明のポリアリレート樹脂を箔はみ出し捲回法や捲回途中でタブを挿入する方法などによって交互に重ね合わせて巻き取るなどして、ポリアリレート樹脂フィルムと電極を交互に重ね合わされ、かつ外部に電極が引き出せるような構造となるように捲回して、コンデンサ素子あるいはコンデンサ母素子を得る。   Next, a method for producing a capacitor using the polyarylate resin film of the present invention will be described. When a metal foil is used as the internal electrode of the capacitor, the metal foil and the polyarylate resin of the present invention are alternately overlapped and wound by, for example, a foil protruding method or a tab insertion method during winding. Then, the polyarylate resin film and the electrode are alternately overlapped and wound so that the electrode can be drawn out to obtain a capacitor element or a capacitor mother element.

また、コンデンサの内部電極として金属薄膜が用いられる場合は、まず上述した本発明のポリアリレート樹脂フィルム上に金属薄膜を形成する。金属薄膜を形成する方法としては蒸着法が好ましい。蒸着する金属はアルミニウムを主たる成分とする金属が好ましい。金属薄膜を形成する際、予め金属薄膜形成側のフィルム表面にコロナ放電処理、プラズマ処理などの処理によって金属薄膜とフィルムとの密着力を向上させることもできる。金属薄膜を形成する際、あるいは金属薄膜を形成後に、対向電極が短絡しないように金属薄膜を形成しない部分(以下、非薄膜形成部という)を設けることが多い。捲回型コンデンサを得る場合、金属薄膜形成フィルムの一方の端に非薄膜形成部がくるように細幅のテープ状にスリットして2枚重ねて、あるいは両面金属薄膜形成フィルムと非金属薄膜形成フィルムを重ねて個々の素子を個別に巻いていく場合が多い。上記のようにして得たコンデンサ母素子をプレス成形した後、外部電極の取り付け工程、リード線取り付け工程、外装工程等を経てコンデンサを得ることができる。また、本発明のポリアリレート樹脂フィルムを用いたコンデンサーは交流および直流のいずれの用途にも使用が可能である。   When a metal thin film is used as the internal electrode of the capacitor, the metal thin film is first formed on the above-described polyarylate resin film of the present invention. As a method for forming the metal thin film, a vapor deposition method is preferable. The metal to be deposited is preferably a metal mainly composed of aluminum. When the metal thin film is formed, the adhesion between the metal thin film and the film can be improved in advance by a treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment on the film surface on the metal thin film formation side. When forming the metal thin film or after forming the metal thin film, a portion where the metal thin film is not formed (hereinafter referred to as a non-thin film forming portion) is often provided so that the counter electrode is not short-circuited. When obtaining a wound type capacitor, slit a thin tape so that a non-thin film forming part comes to one end of the metal thin film forming film and overlap two sheets, or double-sided metal thin film forming film and non-metal thin film forming In many cases, individual elements are wound individually by overlapping films. After press-molding the capacitor mother element obtained as described above, a capacitor can be obtained through an external electrode attaching step, a lead wire attaching step, an exterior step, and the like. The capacitor using the polyarylate resin film of the present invention can be used for both AC and DC applications.

1.測定方法
以下のような方法にしたがって、樹脂特性の測定、フィルムの性能評価を行った。
1. Measurement Method According to the following method, measurement of resin properties and evaluation of film performance were performed.

(1)ポリアリレート樹脂のインヘレント粘度(ηinh
ウベローデ型粘度管を使用し、フェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタン=60/40の混合液を溶媒として、濃度1g/dl、温度25℃において測定した相対粘度(ηrel)を元に下記式により算出し、dl/g単位で表した。
インヘレント粘度(ηinh)=Ln(ηrel)/c
ηrel:相対粘度、c:濃度(g/dl)
(1) Inherent viscosity of polyarylate resin (η inh )
Based on the relative viscosity (η rel ) measured at a concentration of 1 g / dl and a temperature of 25 ° C., using a mixed solution of phenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane = 60/40 using an Ubbelohde type viscosity tube. Calculated by the following formula and expressed in units of dl / g.
Inherent viscosity (η inh ) = Ln (η rel ) / c
η rel : relative viscosity, c: concentration (g / dl)

(2)ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置(パーキンエルマー社製、商品名「DSC7」)を用いて、昇温速度20℃/分で40℃から340℃まで昇温し、得られた昇温曲線中のガラス転移温度に由来する不連続変化の開始温度をガラス転移温度とした。
(2) Glass transition temperature Using a differential scanning calorimeter (trade name “DSC7”, manufactured by PerkinElmer Co., Ltd.), the temperature was increased from 40 ° C. to 340 ° C. at a rate of temperature increase of 20 ° C./min. The onset temperature of the discontinuous change derived from the glass transition temperature in the curve was taken as the glass transition temperature.

(3)加熱減量
得られたポリアリレート樹脂フィルムに対し、200℃×0.5hの熱処理を行い、熱処理前後の質量差から下記式により加熱減量を算出した。なお、加熱減量とは、実質的に得られたポリアリレート樹脂フィルム中に残存する有機溶媒含有量を指す。
加熱減量(質量%)=(加熱前質量−加熱後質量)/加熱前質量×100
(3) Heat loss The obtained polyarylate resin film was heat-treated at 200 ° C. for 0.5 h, and the heat loss was calculated from the mass difference before and after the heat treatment according to the following formula. The weight loss by heating refers to the content of the organic solvent remaining in the substantially obtained polyarylate resin film.
Heat loss (mass%) = (mass before heating−mass after heating) / mass before heating × 100

(4)引張特性
JIS K7127に準拠して、引張強さと引張破断伸びを測定した。引張り試験機を用いて、速度200mm/minで引張り、試料が切断(破断)したときの強度(引張り荷重値を試験片の断面積で除した値)、および伸び率を求める。引張り伸び率は次の式によって算出する。
伸び率(%)=(L−Lo)/Lo
Lo:試験前の試料長さ、L:破断時の試料長さ
(4) Tensile properties Tensile strength and tensile elongation at break were measured according to JIS K7127. Using a tensile tester, the sample is pulled at a speed of 200 mm / min, and the strength (value obtained by dividing the tensile load value by the cross-sectional area of the test piece) and the elongation when the sample is cut (ruptured) are obtained. The tensile elongation is calculated by the following formula.
Elongation rate (%) = (L-Lo) / Lo
Lo: sample length before test, L: sample length at break

(5)絶縁破壊電圧(BDV)
JIS C2151に準拠して測定した。100℃の雰囲気にて、直流耐電圧試験機を用い、上部電極として直径25mm、下部電極として直径25mmの円柱を使用し、1kV/秒の昇圧速度で昇圧し、絶縁破壊した時の電圧(単位:kV)とフィルム厚み(単位:mm)から、絶縁破壊電圧(単位:kV/mm)を算出した。
(5) Dielectric breakdown voltage (BDV)
It measured based on JIS C2151. Using a DC withstand voltage tester in an atmosphere of 100 ° C., using a cylinder with a diameter of 25 mm as the upper electrode and a cylinder with a diameter of 25 mm as the lower electrode, increasing the voltage at a boosting rate of 1 kV / sec and causing a breakdown (unit) : KV) and the film thickness (unit: mm), the dielectric breakdown voltage (unit: kV / mm) was calculated.

(6)誘電率、誘電正接
JIS C2151に準拠して23℃、1kHzにおける誘電率と誘電正接を測定した。
(6) Dielectric constant, dielectric loss tangent Based on JIS C2151, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 23 degreeC and 1 kHz were measured.

実施例1
攪拌装置を備えた反応容器中に水1.2Lを入れ、水酸化ナトリウム0.79mol、二価フェノールである9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下BPFと称す)0.194mol、分子量調整剤としてp−tert−ブチルフェノール(以下PTBPと称す)0.0116molを溶解させ、0.0013molの重合触媒(トリブチルベンジルアンモニウムクロライド)を添加し、激しく撹拌した。別の容器にテレフタル酸クロライド(以下TPCと称す)0.100molとイソフタル酸クロライド(以下IPCと称す)0.100molを秤り取り、0.7Lの塩化メチレンに溶解させた。
この塩化メチレン溶液を、先に調製したアルカリ水溶液を撹拌したところへ混合し、重合を開始させた。重合反応温度は20℃前後になるように調製した。重合は攪拌化で2時間行い、その後、攪拌を停止して反応液を静置して水相と有機相を分離し、水相のみを反応容器から抜き取って、残った有機相に酢酸2gを添加した。そして、水1.5Lを加えて30分間攪拌し、再度静置分離して水相を抜き出した。この水洗操作を水洗後の水相の電気伝導度が 50μS/cm以下になるまで繰り返した。得られた有機相をホモミキサーを装着した50℃の温水槽中に徐々に投入しながら塩化メチレンを蒸発させることで、粉末状のポリマーを析出させ、これを取り出して脱水・乾燥を行い、ポリアリレート樹脂を得た。
得られたポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は320℃であった。
次いでポリアリレート樹脂を濃度10質量%となるよう塩化メチレンに溶解し、この溶液をポリエチレンテレフタレート(PET)製の基材上にアプリケータを使用して厚み100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで1h、静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 1
1.2 L of water was put in a reaction vessel equipped with a stirrer, 0.79 mol of sodium hydroxide, 0.194 mol of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (hereinafter referred to as BPF) which is a dihydric phenol, As a molecular weight regulator, 0.0116 mol of p-tert-butylphenol (hereinafter referred to as PTBP) was dissolved, 0.0013 mol of a polymerization catalyst (tributylbenzylammonium chloride) was added, and the mixture was vigorously stirred. In another container, 0.100 mol of terephthalic acid chloride (hereinafter referred to as TPC) and 0.100 mol of isophthalic acid chloride (hereinafter referred to as IPC) were weighed and dissolved in 0.7 L of methylene chloride.
This methylene chloride solution was mixed with the previously prepared aqueous alkaline solution to be stirred to initiate polymerization. The polymerization reaction temperature was adjusted to about 20 ° C. Polymerization is carried out for 2 hours by stirring. Thereafter, stirring is stopped and the reaction solution is allowed to stand to separate the aqueous phase and the organic phase. Only the aqueous phase is withdrawn from the reaction vessel, and 2 g of acetic acid is added to the remaining organic phase. Added. Then, 1.5 L of water was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. This washing operation was repeated until the electric conductivity of the water phase after washing was 50 μS / cm or less. The methylene chloride is evaporated while the obtained organic phase is gradually put into a 50 ° C. hot water tank equipped with a homomixer to precipitate a powdered polymer, which is taken out and dehydrated and dried. Arylate resin was obtained.
The resulting polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 320 ° C.
Next, the polyarylate resin was dissolved in methylene chloride to a concentration of 10% by mass, and this solution was used to form a 100 μm-thick coating film on a polyethylene terephthalate (PET) substrate using an applicator. 1 hour until the coating film spontaneously peeled off from the base material in the environment of the above, after leaving to stand and drying, only the peeled coating film was put in a vacuum dryer, 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. The temperature was increased stepwise to x 0.5 h and the resultant was dried to obtain a polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例2
二価フェノールを9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(以下BCFと称す)とした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は285℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 2
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene (hereinafter referred to as BCF) was used as the dihydric phenol. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 285 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例3
二価フェノールを9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン(以下BXFと称す)とした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.47dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は305℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 3
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 9,9-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene (hereinafter referred to as BXF) was used as the dihydric phenol. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.47 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 305 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例4
二価フェノールをN−フェニル−3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フタルイミジン(以下PPPBPと称す)とし、水酸化ナトリウムの添加量を0.79molとした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は300℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 4
A polyphenol was obtained in the same manner as in Example 1 except that N-phenyl-3,3-bis (4-hydroxyphenyl) phthalimidine (hereinafter referred to as PPPBP) was used as the dihydric phenol and the amount of sodium hydroxide added was 0.79 mol. Arylate resin was obtained. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 300 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例5
二価フェノールを1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(以下BPZと称す)とし、水酸化ナトリウムの添加量を0.71molとした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は210℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 5
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane (hereinafter referred to as BPZ) was used as the dihydric phenol and the amount of sodium hydroxide added was 0.71 mol. It was. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 210 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例6
二価フェノールを1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(以下BPTMCと称す)とした以外は実施例4と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は255℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 6
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 4 except that 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane (hereinafter referred to as BPTMC) was used as the dihydric phenol. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 255 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例7
二価フェノールを1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン(以下BPAPと称す)とし、水酸化ナトリウムの添加量を0.48molとした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は240℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Example 7
A polyphenol was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane (hereinafter referred to as BPAP) was used as the dihydric phenol and the amount of sodium hydroxide added was 0.48 mol. Arylate resin was obtained. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 240 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例8、9
BPAPとPTBPの配合を表1に記載のものとした以外は実施例7と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂はDSC測定では結晶融解ピークは見られなかった。またこれらのポリアリレート樹脂のインヘレント粘度およびガラス転移温度を表1に示す。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Examples 8 and 9
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 7 except that the blending of BPAP and PTBP was as described in Table 1. This polyarylate resin did not show a crystal melting peak by DSC measurement. Table 1 shows the inherent viscosity and glass transition temperature of these polyarylate resins. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

実施例10、11
TPCとIPCの配合を表1に記載のものとした以外は実施例7と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂はDSC測定では結晶融解ピークは見られなかった。またこれらのポリアリレート樹脂のインヘレント粘度およびガラス転移温度を表1に示す。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表1に示す。
Examples 10 and 11
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 7 except that the composition of TPC and IPC was changed to that shown in Table 1. This polyarylate resin did not show a crystal melting peak by DSC measurement. Table 1 shows the inherent viscosity and glass transition temperature of these polyarylate resins. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 1.

比較例1
二価フェノールを2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下BPAと称す)とした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は190℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表2に示す。
Comparative Example 1
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter referred to as BPA) was used as the dihydric phenol. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 190 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 2.

比較例2
二価フェノールを2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン(以下BCAと称す)とした以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。このポリアリレート樹脂のインヘレント粘度は0.49dl/gであり、DSC測定を行ったところ、結晶融解ピークは見られず、ガラス転移温度は185℃であった。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表2に示す。
Comparative Example 2
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane (hereinafter referred to as BCA) was used as the dihydric phenol. This polyarylate resin had an inherent viscosity of 0.49 dl / g. When DSC measurement was performed, no crystal melting peak was observed, and the glass transition temperature was 185 ° C. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 2.

実施例12〜21
表3に示す二種類の二価フェノールとその配合量、水酸化ナトリウムの配合量とし、それ以外は実施例1と同様にしてポリアリレート樹脂を得た。これらのポリアリレート樹脂はDSC測定では結晶融解ピークは見られなかった。またこれらのポリアリレート樹脂のインヘレント粘度およびガラス転移温度を表3に示す。得られたポリアリレート樹脂から実施例1と同様の操作で厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表3に示す。
Examples 12-21
A polyarylate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that the two types of dihydric phenols shown in Table 3 and their blending amounts and sodium hydroxide blending amounts were used. These polyarylate resins did not show a crystal melting peak by DSC measurement. Table 3 shows the inherent viscosity and glass transition temperature of these polyarylate resins. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained from the obtained polyarylate resin in the same manner as in Example 1. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 3.

実施例22
実施例7で得たポリアリレート樹脂を溶解した濃度5質量%の塩化メチレン溶液から20μmの塗膜を形成し、以降は実施例7と同様の操作で厚みが1μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 22
A 20 μm coating film was formed from a 5 mass% methylene chloride solution in which the polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved. Thereafter, a polyarylate resin film having a thickness of 1 μm was obtained by the same operation as in Example 7. It was. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 4.

実施例23
実施例7で得たポリアリレート樹脂を溶解した濃度20質量%の塩化メチレン溶液から500μmの塗膜を形成し、以降は実施例7と同様の操作で厚みが約100μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.2質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 23
A 500 μm-thick coating film was formed from a 20 mass% methylene chloride solution in which the polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved. Thereafter, a polyarylate resin film having a thickness of about 100 μm was prepared by the same operation as in Example 7. Obtained. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.2% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 4.

実施例24
実施例7で得たポリアリレート樹脂を溶解した濃度10質量%の塩化メチレン溶液から100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5h、100℃×0.5h、150℃×0.5h、200℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.1質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 24
A 100 μm coating film was formed from a 10% by mass methylene chloride solution in which the polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved, and was allowed to stand and dry in an environment of about 23 ° C. until the coating film naturally separated from the substrate. Then, only the peeled coating film was put into a vacuum dryer and 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. × 0.5 h, 100 ° C. × 0.5 h, 150 ° C. × 0.5 h, 200 The polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained by raising the temperature stepwise to ℃ × 0.5h and drying. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.1% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 4.

実施例25
実施例7で得たポリアリレート樹脂を濃度10質量%となるようテトラヒドロフラン(以下THFと称す)に溶解し、この溶液から100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムを2つに切り分け、一方を200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は1.0質量%であった。他方を、さらに100℃×0.5hで乾燥し、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.3質量%であった。
その後、100℃×0.5hまで乾燥処理を行ったポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 25
The polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved in tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF) so as to have a concentration of 10% by mass, a 100 μm coating film was formed from this solution, and the coating film was formed under an environment of about 23 ° C. After standing and drying until it spontaneously peels off from the material, only the peeled coating film is put in a vacuum dryer, and the temperature is raised stepwise to 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. × 0.5 h. And dried to obtain a polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm. The obtained polyarylate resin film was cut into two, and one was treated under the conditions of 200 ° C. × 0.5 h to determine the loss on heating. The loss on heating was 1.0% by mass. The other was further dried at 100 ° C. × 0.5 h and treated under the conditions of 200 ° C. × 0.5 h to determine the heat loss. The loss on heating was 0.3% by mass.
Thereafter, the tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the polyarylate resin film which had been dried to 100 ° C. × 0.5 h were measured. The results are shown in Table 4.

実施例26
実施例7で得たポリアリレート樹脂を濃度10質量%となるようトルエンに溶解し、この溶液から100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5h、100℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.8質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 26
The polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved in toluene so as to have a concentration of 10% by mass, a 100 μm coating film was formed from this solution, and the coating film spontaneously peeled from the substrate in an environment of about 23 ° C. After standing and drying, only the peeled coating film is put into a vacuum dryer and gradually raised to 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. × 0.5 h, 100 ° C. × 0.5 h. A polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained by heating and drying. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.8% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 4.

実施例27
実施例7で得たポリアリレート樹脂を濃度10質量%となるようトルエンに溶解し、この溶液から100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5h、100℃×0.5h、120℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムにつき、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.8質量%であった。その後、得られたポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 27
The polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved in toluene so as to have a concentration of 10% by mass, a 100 μm coating film was formed from this solution, and the coating film spontaneously peeled from the substrate in an environment of about 23 ° C. After standing and drying, only the peeled coating film is put in a vacuum dryer and 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. × 0.5 h, 100 ° C. × 0.5 h, 120 ° C. × 0 The polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained by raising the temperature stepwise to 0.5 h and drying. About the obtained polyarylate resin film, it processed on 200 degreeC x 0.5 h conditions, and calculated | required the heat loss. The loss on heating was 0.8% by mass. Thereafter, tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the obtained polyarylate resin film were measured. The results are shown in Table 4.

実施例28
実施例7で得たポリアリレート樹脂を濃度10質量%となるようN−メチルピロリドン(以下NMPと称す)に溶解し、この溶液から100μmの塗膜を形成し、約23℃の環境下で塗膜が基材から自然剥離するまで静置乾燥した後、剥離した塗膜のみを真空乾燥機に入れて40℃×0.5h、60℃×0.5h、80℃×0.5h、100×0.5h、120℃×0.5hと段階的に昇温して乾燥させ、厚み約10μmであるポリアリレート樹脂フィルムを得た。得られたポリアリレート樹脂フィルムを2つに切り分け、一方を200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は2.0質量%であった。他方を、さらに140℃×0.5h、160℃×0.5hで乾燥し、200℃×0.5h条件で処理し加熱減量を求めた。加熱減量は0.8質量%であった。160℃×0.5hまで乾燥処理を行ったポリアリレート樹脂フィルムの引張特性、絶縁破壊電圧、誘電率および誘電正接を測定した。その結果を表4に示す。
Example 28
The polyarylate resin obtained in Example 7 was dissolved in N-methylpyrrolidone (hereinafter referred to as NMP) so as to have a concentration of 10% by mass, and a 100 μm coating film was formed from this solution. After standing and drying until the film spontaneously peeled off from the substrate, only the peeled coating film was put in a vacuum dryer and 40 ° C. × 0.5 h, 60 ° C. × 0.5 h, 80 ° C. × 0.5 h, 100 × The polyarylate resin film having a thickness of about 10 μm was obtained by raising the temperature in steps of 0.5 h and 120 ° C. × 0.5 h and drying. The obtained polyarylate resin film was cut into two, and one was treated under the conditions of 200 ° C. × 0.5 h to determine the loss on heating. The loss on heating was 2.0% by mass. The other was further dried at 140 ° C. × 0.5 h and 160 ° C. × 0.5 h, and treated under the conditions of 200 ° C. × 0.5 h to determine the loss on heating. The loss on heating was 0.8% by mass. The tensile properties, dielectric breakdown voltage, dielectric constant and dielectric loss tangent of the polyarylate resin film which had been dried to 160 ° C. × 0.5 h were measured. The results are shown in Table 4.

実施例1〜28は、本発明の要件を満たしていたため、機械特性、電気特性ともに優れたポリアリレート樹脂フィルムであった。   Since Examples 1 to 28 satisfied the requirements of the present invention, they were polyarylate resin films excellent in both mechanical properties and electrical properties.

特に、実施例22は厚み1μmのポリアリレート樹脂フィルムとしたため、実施例7に比べ、引張破断伸びが大きく、絶縁破壊電圧が高いものとなった。実施例23は厚み100μmのポリアリレート樹脂フィルムとしたため、実施例7に比べ、引張破断伸びが小さく、絶縁破壊電圧も小さかったが、実用的な性能を有していた   In particular, since Example 22 was a polyarylate resin film having a thickness of 1 μm, the tensile elongation at break was larger and the dielectric breakdown voltage was higher than in Example 7. Since Example 23 was a polyarylate resin film having a thickness of 100 μm, the tensile fracture elongation was small and the dielectric breakdown voltage was small as compared with Example 7, but it had practical performance.

実施例24は、乾燥温度の上限設定が200℃であり、用いたポリアリレート樹脂のガラス転移温度240℃との温度差が40℃であった。実用的な性能を有するものの、実施例7に比べ、引張破断伸びが低下した。また、得られたフィルムは、実施例7で得られたフィルムと対比するとカールしやすく、寸法安定性に劣るものであった。   In Example 24, the upper limit of the drying temperature was 200 ° C, and the temperature difference from the glass transition temperature of 240 ° C of the polyarylate resin used was 40 ° C. Although having practical performance, the tensile elongation at break was lower than that of Example 7. Further, the obtained film was easily curled when compared with the film obtained in Example 7, and was inferior in dimensional stability.

実施例25は、溶媒としてTHF(沸点66℃)を用い、沸点を超えない範囲で乾燥を行ったため、表面状態に優れたフィルムとすることができた。しかしながら、溶媒として塩化メチレンを用いた実施例7よりも乾燥温度を高くする必要があり、実用的な性能を有するものの、実施例7に比べ引張破断伸びが低下した。   In Example 25, THF (boiling point 66 ° C.) was used as a solvent, and drying was performed within a range not exceeding the boiling point. Therefore, a film excellent in surface condition could be obtained. However, it was necessary to make the drying temperature higher than Example 7 using methylene chloride as a solvent, and although it had practical performance, the tensile elongation at break was lower than that of Example 7.

実施例26は、溶媒としてトルエン(沸点110℃)を用い、沸点を超えず、100℃を上限として乾燥を行いフィルムを得た。しかしながら、溶媒として塩化メチレンを用いた実施例7よりも乾燥温度を高くする必要があり、実用的な性能を有するものの、実施例7に比べ引張強さ、引張破断伸びが低下した。また、加熱減量が0.8質量%と実施例7に比べやや高めであったため、絶縁破壊電圧もやや低下した。   In Example 26, toluene (boiling point: 110 ° C.) was used as a solvent, the boiling point was not exceeded, and drying was performed up to 100 ° C. to obtain a film. However, it was necessary to make the drying temperature higher than in Example 7 using methylene chloride as a solvent, and although it had practical performance, the tensile strength and tensile elongation at break were lower than in Example 7. Moreover, since the loss on heating was 0.8% by mass, which was slightly higher than that of Example 7, the dielectric breakdown voltage was also slightly decreased.

実施例27は、溶媒としてトルエン(沸点110℃)を用い、沸点を超えて、120℃を上限として乾燥を行いフィルムを得た。加熱減量は0.3質量%まで低下したが、引張破断伸びが大きく低下した。また、実施例26で得られたフィルムよりも表面形状にうねりが生じ、表面平滑性に劣った。実用上は問題のない範囲であった。   In Example 27, toluene (boiling point: 110 ° C.) was used as a solvent, the boiling point was exceeded, and drying was performed at an upper limit of 120 ° C. to obtain a film. The loss on heating decreased to 0.3% by mass, but the tensile elongation at break greatly decreased. Further, the surface shape was swelled more than the film obtained in Example 26, and the surface smoothness was inferior. There was no problem in practical use.

実施例28は、溶媒としてNMP(沸点202℃)を用い、沸点を超えず、160℃を上限として乾燥を行いフィルムを得た。加熱減量は0.8質量%であった。引張破断伸び、絶縁破壊電圧ともに大きく低下したが、実用上は問題のない範囲であった。   In Example 28, NMP (boiling point 202 ° C.) was used as a solvent, the boiling point was not exceeded, and drying was performed up to 160 ° C. to obtain a film. The loss on heating was 0.8% by mass. Although both the tensile elongation at break and the breakdown voltage were greatly reduced, there was no problem in practical use.

比較例1および2は二価フェノールとしてそれぞれBPAとBCAしか使用しなかったため、得られるポリアリレート樹脂フィルムのガラス転移温度が低いものとなり、絶縁破壊電圧が劣るものとなった。































Since Comparative Examples 1 and 2 used only BPA and BCA as dihydric phenols, respectively, the resulting polyarylate resin film had a low glass transition temperature and an inferior dielectric breakdown voltage.































Claims (7)

芳香族ジカルボン酸残基と下記一般式(i)〜(iv)から選ばれるいずれか1種以上の二価フェノール残基とからなり、ガラス転移温度が200℃以上であるポリアリレート樹脂より得られるポリアリレート樹脂フィルム。
一般式(i)中、R、R、RおよびRは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれる。
一般式(ii)中、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R15は水素、置換あるいは無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、あるいはフェニル基からなる群から選ばれる。
一般式(iii)中、R21、R22、R23およびR24は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R25、および、R26は、各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、kは2〜12の整数である。
一般式(iv)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R35は、水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、R36は炭素数1〜20の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる。
It is obtained from a polyarylate resin comprising an aromatic dicarboxylic acid residue and at least one dihydric phenol residue selected from the following general formulas (i) to (iv), and having a glass transition temperature of 200 ° C. or higher. Polyarylate resin film.
In the general formula (i), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.
In general formula (ii), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 15 is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group, or a phenyl group.
In the general formula (iii), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom or carbon number 1 Selected from the group consisting of -20 aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, and halogenated alkyl groups, and k is 2-12. Is an integer.
In the general formula (iv), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 35 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogenated alkyl group, and R 36 is an aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of groups.
厚さ0.5〜1500μmであることを特徴とする請求項1記載のポリアリレート樹脂フィルム。   2. The polyarylate resin film according to claim 1, which has a thickness of 0.5 to 1500 [mu] m. 引張破断伸びが8%以上であることを特徴とする請求項1または2記載のポリアリレート樹脂フィルム。   The polyarylate resin film according to claim 1 or 2, wherein the elongation at break is 8% or more. フィルムの片面または両面に対し金属蒸着層を形成してなる請求項1〜3いずれか記載のポリアリレート樹脂フィルム。   The polyarylate resin film according to claim 1, wherein a metal vapor-deposited layer is formed on one side or both sides of the film. 芳香族ジカルボン酸残基と下記一般式(i)〜(iv)から選ばれるいずれか1種以上の二価フェノール残基とからなるポリアリレート樹脂を、有機溶媒に溶解した後、流涎、乾燥を行うことで形成することを特徴とする請求項1〜4いずれか記載のポリアリレート樹脂フィルムの製造方法。
一般式(i)中、R、R、RおよびRは各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれる。
一般式(ii)中、R11、R12、R13およびR14は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R15は水素、置換あるいは無置換の炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、あるいはフェニル基からなる群から選ばれる。
一般式(iii)中、R21、R22、R23およびR24は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R25、および、R26は、各々独立に水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、kは2〜12の整数である。
一般式(iv)中、R31、R32、R33およびR34は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、ニトロ基からなる群から選ばれ、炭化水素基は炭素数1〜20の脂肪族基、炭素数3〜20の脂環族基、炭素数6〜20の芳香族基からなる群から選ばれ、R35は、水素原子、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、炭素数1〜20の脂環族炭化水素基、炭素数1〜20の芳香族炭化水素基、ハロゲン化アルキル基からなる群より選ばれ、R36は炭素数1〜20の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる。
A polyarylate resin composed of an aromatic dicarboxylic acid residue and one or more dihydric phenol residues selected from the following general formulas (i) to (iv) is dissolved in an organic solvent, and then fluent and dried. It forms by performing, The manufacturing method of the polyarylate resin film in any one of Claims 1-4 characterized by the above-mentioned.
In the general formula (i), R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms.
In general formula (ii), R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 15 is hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. , An alkenyl group, or a phenyl group.
In the general formula (iii), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 20 carbon atoms, and an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 25 and R 26 are each independently a hydrogen atom or carbon number 1 Selected from the group consisting of -20 aliphatic hydrocarbon groups, alicyclic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, aromatic hydrocarbon groups having 1-20 carbon atoms, and halogenated alkyl groups, and k is 2-12. Is an integer.
In the general formula (iv), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 are each independently selected from the group consisting of a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group and a nitro group, and the hydrocarbon group has 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an aliphatic group having 3 to 20 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and R 35 is a hydrogen atom or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of an alicyclic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a halogenated alkyl group, and R 36 is an aromatic hydrocarbon having 1 to 20 carbon atoms. Selected from the group consisting of groups.
沸点が115℃未満の有機溶媒を用い、用いるポリアリレート樹脂の(ガラス転移温度−80℃)を超えない温度の範囲で乾燥を行うことを特徴とする請求項5記載のポリアリレート樹脂フィルムの製造方法。   6. The production of a polyarylate resin film according to claim 5, wherein an organic solvent having a boiling point of less than 115 ° C. is used and the polyarylate resin is dried in a temperature range not exceeding (glass transition temperature −80 ° C.) of the polyarylate resin to be used. Method. 請求項1〜5いずれか記載のポリアリレート樹脂フィルムを用いたコンデンサ。



























A capacitor using the polyarylate resin film according to claim 1.



























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