JP2014187363A - ウエハ状物品の表面を処理するための装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板の液体処理のための装置は、基板ホルダと、該基板ホルダを取り巻く液体収集器とを含む。液体収集器は、基板を処理するために使用されていた液体を集めるための溝を含む。該溝は、吐き出し管と流体連通しており、液体収集器は、更に、溝内の吐き出し開口から、溝よりも下方に位置決めされた吐き出し管の入口開口まで広がる凹状表面を含む。溝内の吐き出し開口は、吐き出し管の入口開口の断面積の少なくとも2倍の大きさの断面積を有する。
【選択図】図1
Description
Claims (17)
- 基板の液体処理のための装置であって、
基板ホルダと、
前記基板ホルダを取り巻く液体収集器と、
を備え、
前記液体収集器は、基板を処理するために使用されていた液体を集めるための溝を含み、
前記溝は、吐き出し管と流体連通しており、
前記液体収集器は、更に、前記溝内の吐き出し開口から、前記溝よりも下方に位置決めされた前記吐き出し管の入口開口まで広がる凹状表面を含み、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも2倍の大きさの断面積を有する、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記ホルダ及び前記液体収集器は、基板の液体処理中に密閉することができるプロセスチャンバ内にある、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記ホルダは、ウエハ状物品を保持する及び回転させるためのスピンチャックである、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記ホルダは、シャフトによって回転の形で駆動されるチャックであり、前記チャックは、基板の縁領域に接触するように円形に位置決めされた一連のピンを含む、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記ホルダは、周囲を取り巻く電磁ステータによって回転の形で駆動される磁気ロータリングであり、前記磁気ロータリングは、前記磁気ロータリングから下向きに吊り下がり基板の縁領域に接触するように円形に位置決めされた一連のピンを含む、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記凹状表面は、前記吐き出し管の前記入口開口を挟んだ両側で前記溝に沿って伸びる1対の細長い窪みを含む、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記吐き出し管の前記入口開口は、覆われておらず、平面視において前記溝内の前記吐き出し開口によって取り囲まれている、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも3倍の大きさの断面積を有する、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも4倍の大きさの断面積を有する、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記凹状表面は、前記溝内の前記吐き出し開口において前記溝とともに縁を形成する、装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記凹状表面は、更に、前記吐き出し管の前記入口開口を挟んだ両側で概ね前記溝に沿って伸びる1対の二次凹所を含む、装置。 - 基板の液体処理のための装置で使用される液体収集器であって、
基板を処理するために使用された液体を集めるための内周溝を有するケースを備え、前記溝は、吐き出し管と流体連通しており、
前記液体収集器は、更に、
前記溝内の吐き出し開口から、前記溝よりも下方に位置決めされた前記吐き出し管の入口開口まで広がる凹状表面を備え、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも2倍の大きさの断面積を有する、液体収集器。 - 請求項12に記載の液体収集器であって、
前記凹領域は、前記吐き出し管の前記入口開口を挟んだ両側で前記溝に沿って伸びる1対の細長い窪みを含む、液体収集器。 - 請求項12に記載の液体収集器であって、
前記吐き出し管の前記入口開口は、覆われておらず、平面視において前記溝内の前記吐き出し開口によって取り囲まれている、液体収集器。 - 請求項12に記載の液体収集器であって、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも3倍の大きさの断面積を有する、液体収集器。 - 請求項12に記載の液体収集器であって、
前記溝内の前記吐き出し開口は、前記吐き出し管の前記入口開口の断面積の少なくとも4倍の大きさの断面積を有する、液体収集器。 - 請求項12に記載の液体収集器であって、
前記凹状表面は、更に、前記吐き出し管の前記入口開口を挟んだ両側で概ね前記溝に沿って伸びる1対の二次凹所を含む、液体収集器。
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