JP2014180845A - Straight-drawing type water less lithographic printing plate original plate - Google Patents

Straight-drawing type water less lithographic printing plate original plate Download PDF

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貴士 堀海
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a straight-drawing type water less lithographic printing plate original plate having improved inferior quality in a production process, having printing plate readability by high aluminum concealment properties, image reproducibility and plate durability, and having excellent quality and production efficiency.SOLUTION: Provided is a straight-drawing type water less lithographic printing plate original plate using a pre-molded synthetic resin film or sheet as a supporting substrate.

Description

本発明は、レーザー光で直接製版できるヒートモード方式の直描型水なし平版印刷版原版に関するものである。 The present invention relates to a heat mode direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor that can be directly made with a laser beam.

従来から、湿し水を用いずに平版印刷を行うための水なし平版印刷版が提案されている。特に最近ではレーザー光で直接版面に描画をし、レーザー光を熱に変換することにより感熱層とインキ反発層との密着を低下させ、画像を形成する直描型水なし平版印刷版原版が開示されている(例えば、特許文献1、2参照)。   Conventionally, a waterless planographic printing plate for performing planographic printing without using dampening water has been proposed. Recently, a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor has been disclosed that draws directly on the plate surface with laser light and converts the laser light into heat to reduce the adhesion between the heat-sensitive layer and the ink repellent layer, thereby forming an image. (For example, see Patent Documents 1 and 2).

これらの直描型水なし平版印刷版原版では、支持基板の上にプライマー層、感熱層、インキ反発層をこの順に塗布、乾燥させることで成形する積層構造をとっており、これらは同一工程内で連続して製造される。   These direct-drawing waterless lithographic printing plate precursors have a laminated structure in which a primer layer, a heat-sensitive layer, and an ink repellent layer are applied and dried in this order on a support substrate, and these are formed in the same process. Manufactured continuously.

このような直描型水なし平版印刷版原版において、プライマー層は金属基板の圧延目の隠蔽、金属基板と感熱層の接着力向上、印刷時の衝撃吸収による耐刷性向上という役割を果たしている。また、感熱層はレーザー描画時の光熱変換を、インキ反発層は印刷時のインキ反発という役割をそれぞれ持っている。   In such a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor, the primer layer plays the role of concealing the rolling marks of the metal substrate, improving the adhesion between the metal substrate and the heat-sensitive layer, and improving the printing durability by absorbing the impact during printing. . The thermosensitive layer has a role of photothermal conversion at the time of laser drawing, and the ink repellent layer has a role of ink repulsion at the time of printing.

しかしながら、これらの従来の直描型水なし平版印刷版ではその製造工程上、基板の搬送速度と各層の塗布条件、乾燥条件のバランスを最適化させることが難しく、特に塗膜をより厚くする必要のある層については、乾燥工程での温度不足、乾燥時間の不足によって、層成分の樹脂や金属キレート化合物等が、昇華物として表層から離脱し、乾燥雰囲気中に飛散、堆積する。それが層表面に異物として再付着することで、その箇所の感熱層、インキ反発層の形成が阻害され、印刷品質や歩留まりの低下を起こすことがあった。
また、プライマー層はクッション性を付与し耐刷力を向上させるために、他の層と比較して厚膜とする必要があることから、より多くの樹脂溶液を塗布、乾燥させるために乾燥設備を長くし、更に高熱量を与える必要があり、これが支持基板の熱歪みや、エネルギーコストの増加要因となっていた。
However, in these conventional direct-drawing waterless lithographic printing plates, it is difficult to optimize the balance between the substrate transport speed, the coating conditions of each layer, and the drying conditions in the manufacturing process, and it is particularly necessary to make the coating thicker. As for a certain layer, due to insufficient temperature and drying time in the drying process, the resin of the layer component, the metal chelate compound and the like are separated from the surface layer as a sublimate, and are scattered and deposited in the dry atmosphere. When it re-adheres to the surface of the layer as a foreign substance, formation of the heat-sensitive layer and the ink repellent layer at that location is inhibited, and print quality and yield may be reduced.
In addition, since the primer layer needs to be thicker than other layers in order to provide cushioning properties and improve printing durability, drying equipment is required to apply and dry more resin solutions. It is necessary to lengthen the length of the substrate and to apply a higher amount of heat, which has been a cause of increased thermal distortion and energy cost of the support substrate.

特許第4356505号Japanese Patent No. 4356505 特許第4182775号Japanese Patent No. 4182775

本発明はかかる従来技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的は、上記の問題点の解決を図るものである。すなわち本発明の目的は、高いアルミ隠蔽性、画像再現性、耐刷性を有し、品質と生産効率に優れた水なし平版印刷版を提供することにある。   The present invention was devised in view of the various drawbacks of the prior art, and its object is to solve the above-mentioned problems. That is, an object of the present invention is to provide a waterless lithographic printing plate having high aluminum concealability, image reproducibility and printing durability, and excellent in quality and production efficiency.

前記課題に鑑みて鋭意検討の結果、本発明の上記課題は、基板上に少なくとも感熱層およびインキ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、予め成形された合成樹脂フィルムまたはシートを支持基板として用いることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版を提供することにより達成されることを見出した。   As a result of intensive studies in view of the above problems, the above-mentioned problem of the present invention is that a waterless lithographic printing plate precursor obtained by laminating at least a heat-sensitive layer and an ink repellent layer in this order on a substrate, It has been found that this can be achieved by providing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor characterized by using a sheet as a supporting substrate.

特に、支持基板を構成する合成樹脂フィルムまたはシートの透過率が、300〜900nmの範囲の全ての波長において15%以下であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版、さらには、支持基板全体の厚みが0.10〜0.45mmであることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版、さらには、支持基板を構成する金属板の材質がアルミニウムであることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版を提供することにより達成されることを見出した。   In particular, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, wherein the transmittance of the synthetic resin film or sheet constituting the support substrate is 15% or less at all wavelengths in the range of 300 to 900 nm, The thickness of the entire support substrate is 0.10 to 0.45 mm, the direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor, and further, the material of the metal plate constituting the support substrate is aluminum It was found that this can be achieved by providing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

本発明によれば、生産工程での品質不良を改善し、高いアルミ隠蔽性、画像再現性、耐刷性を有した、品質と生産効率に優れた直描型水なし平版印刷版原版を得ることが可能である。   According to the present invention, quality defects in the production process are improved, and a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having high aluminum concealment, image reproducibility, and printing durability and excellent in quality and production efficiency is obtained. It is possible.

以下に、本発明をさらに詳細に説明する。   The present invention is described in further detail below.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、基板上に少なくとも感熱層およびインキ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、予め成形された合成樹脂フィルムまたはシートを支持基板として用いる事を特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版である。水なし平版印刷版原版は、露光工程および現像工程を経て、インキ反発層の一部が除去され、所望の画像が形成された印刷版となる。インキ反発層が除去された部分が画線部となり、インキ反発層が残存した部分が非画線部となる。また、感熱層は露光工程においてレーザー光を吸収する役割を有する。   The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention supports a pre-formed synthetic resin film or sheet in a waterless lithographic printing plate precursor obtained by laminating at least a heat-sensitive layer and an ink repellent layer in this order on a substrate. A direct-drawing waterless planographic printing plate precursor characterized by being used as a substrate. The waterless lithographic printing plate precursor is subjected to an exposure step and a development step, and a part of the ink repellent layer is removed to form a printing plate on which a desired image is formed. The portion where the ink repellent layer has been removed becomes the image portion, and the portion where the ink repellent layer remains becomes the non-image portion. The thermosensitive layer has a role of absorbing laser light in the exposure process.

本発明では、支持基板として、予め成形された合成樹脂フィルムまたはシートを用いる。ここでいう「予め」とは、支持基板となるフィルムまたはシートの成形が、その支持基板上に順に構成される感熱層、インキ反発層の成形工程とは独立して行われることを指す。   In the present invention, a pre-molded synthetic resin film or sheet is used as the support substrate. Here, “preliminarily” indicates that the film or sheet forming the support substrate is formed independently from the forming step of the heat-sensitive layer and the ink repellent layer that are sequentially formed on the support substrate.

本発明にて使用される合成樹脂フィルムおよびシートについて、合成樹脂の種類としては、耐衝撃性、耐熱性、コストなどの観点から、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂などが好ましいが、寸法的に安定に板状構造を保持でき、通常の平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐える合成樹脂であればこれらに制約されない。   For the synthetic resin film and sheet used in the present invention, the type of synthetic resin is preferably polyester, polyolefin, polyamide, polyurethane, epoxy resin, etc. from the viewpoint of impact resistance, heat resistance, cost, etc. In particular, a synthetic resin that can hold a plate-like structure stably and can withstand the load applied during printing and the flexibility that can be set in a normal lithographic printing press is not limited thereto.

本発明では、上記の合成樹脂フィルムまたはシートを金属板の上に予め敷設した支持基板を用いても良い。ここでいう「予め」とは、金属板上に合成樹脂フィルムまたはシートが敷設された支持基板の成形と、水なし平版を構成する感熱層、インキ反発層の成形工程とを独立して行うことを指す。但し、フィルムおよびシートの成形工程と、金属板への敷設および貼り合せ工程については、同一、個別のいずれでも構わない。   In the present invention, a support substrate in which the above synthetic resin film or sheet is previously laid on a metal plate may be used. “Preliminary” as used herein means that the molding of the support substrate in which a synthetic resin film or sheet is laid on a metal plate and the molding process of the heat-sensitive layer and the ink repellent layer constituting the waterless lithographic plate are performed independently. Point to. However, the film and sheet forming process and the laying and bonding process on the metal plate may be the same or separate.

本発明において使用される支持基板については、通常の平版印刷機にセット出来るたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えるものであれば十分である。   The supporting substrate used in the present invention is sufficient if it can withstand the flexibility that can be set in a normal lithographic printing machine and the load applied during printing.

本発明において使用される金属板としては、例えばアルミニウム、銅、亜鉛、鋼、ステンレスなどが好ましく使用される。これらの基板のうち、アルミニウム板は寸法安定性に優れ、しかも安価であるので特に好ましい。   As the metal plate used in the present invention, for example, aluminum, copper, zinc, steel, stainless steel and the like are preferably used. Of these substrates, an aluminum plate is particularly preferable because it is excellent in dimensional stability and inexpensive.

本発明において使用されるアルミニウム板は、純アルミニウムや、アルミニウムを主成分とし微量の異原子を含むアルミニウム合金等の板状体である。この異原子としては、珪素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン等がある。本発明に好適なアルミニウムは純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、出来るだけ異原子の含有量の低いものがよい。これらの異原子の含有量は10重量%以下であることが好ましい。また、上述した程度の異原子含有率のアルミニウム合金であれば、本発明に使用することができる。このような本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来公知、公用の素材のものを適宜利用することができる。   The aluminum plate used in the present invention is a plate-like body such as pure aluminum or an aluminum alloy containing aluminum as a main component and containing a small amount of foreign atoms. Examples of the hetero atom include silicon, iron, manganese, copper, magnesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, and titanium. Although aluminum suitable for the present invention is pure aluminum, it is difficult to produce completely pure aluminum in terms of refining technology. Therefore, it is preferable that the content of foreign atoms is as low as possible. The content of these different atoms is preferably 10% by weight or less. In addition, any aluminum alloy having a different atomic content as described above can be used in the present invention. The composition of the aluminum plate applied to the present invention is not specified, and conventionally known and publicly available materials can be used as appropriate.

本発明で用いられる支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシートは、その300〜900nmの波長域における透過率が15%以下であれば、印刷版の網点を読み取るための装置である版面読み取り機(例えばiCPlateII(X−Rite社製)など)が安定的に使用できる。逆に透過率が15%を超えると、フィルムおよびシート裏面からの透過光や、金属基板など下地の模様の影響を受けやすくなり、読み取り誤差が大きくなる、裏面からの透過光で感熱層の光熱変換染料が感光して、画像再現性が低下するなどの不具合を及ぼす。   A plate reader that is a device for reading a halftone dot of a printing plate if the transmittance in the wavelength region of 300 to 900 nm of the synthetic resin film and sheet constituting the supporting substrate used in the present invention is 15% or less. (For example, iCPlate II (manufactured by X-Rite)) can be used stably. On the other hand, if the transmittance exceeds 15%, it is easily affected by the transmitted light from the back side of the film and the sheet and the pattern of the base such as a metal substrate, and the reading error increases. The conversion dye is exposed to light, causing problems such as a decrease in image reproducibility.

支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシートの透過率の測定方法は、例えば可視分光光度計を用いて測定できる。測定は透過法により行うことができるが、支持基板が不透明なものである場合は、反射法で測定した後に換算することが可能である。このような可視分光光度計としては、日立製作所製U−3210自記分光光度計が挙げられる。また、反射濃度の測定は、マクベス社製のマクベスRD−918などで測定することができる。   The measuring method of the transmittance | permeability of the synthetic resin film and sheet | seat which comprises a support substrate can be measured, for example using a visible spectrophotometer. Although the measurement can be performed by a transmission method, when the support substrate is opaque, it can be converted after measurement by the reflection method. As such a visible spectrophotometer, U-3210 self-recording spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd. may be mentioned. The reflection density can be measured with Macbeth RD-918 manufactured by Macbeth.

支持基板の300〜900nmにおける透過率を本発明の範囲とするためには、支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシート中に顔料を含ませることが有効である。顔料としては、酸化チタン、亜鉛華、リトポン等の無機白色顔料や、黄鉛、カドミウムイエロー、黄色酸化鉄、オーカー、チタンイエロー等の無機黄色顔料、有機黄色顔料としては、アセト酢酸アリライド系モノアゾ顔料、アセト酢酸アリライド系ジスアゾ顔料、縮合アゾ顔料、ベンズイミダゾロン系モノアゾ顔料等のアゾ顔料やイソインドリノン系顔料、イソインドリン系顔料、スレン系顔料、ペリノン系顔料、金属錯体顔料、アントラピリミジン系顔料、アシルアミノイエロー系顔料、キノフタロン系顔料、フラバントロン系顔料等の多環式顔料を用いることが好ましい。これら白、黄色顔料の中で、隠蔽力、着色力の点から酸化チタンが特に好ましい。   In order to make the transmittance at 300 to 900 nm of the support substrate within the scope of the present invention, it is effective to include a pigment in the synthetic resin film and sheet constituting the support substrate. Examples of pigments include inorganic white pigments such as titanium oxide, zinc white, and lithopone, inorganic yellow pigments such as yellow lead, cadmium yellow, yellow iron oxide, ocher, and titanium yellow, and organic yellow pigments such as acetoacetic allyl monoazo pigments. Azo pigments such as acetoacetic allyl disazo pigments, condensed azo pigments, benzimidazolone monoazo pigments, isoindolinone pigments, isoindoline pigments, selenium pigments, perinone pigments, metal complex pigments, anthrapyrimidine pigments Polycyclic pigments such as acylamino yellow pigments, quinophthalone pigments, and flavantron pigments are preferably used. Among these white and yellow pigments, titanium oxide is particularly preferable in terms of hiding power and coloring power.

酸化チタンとしては、アナタース型、ルチル型、ブルッカイト型があるが、安定性の面からルチル型、アナタース型が好ましい。さらに酸化チタン表面をアルミニウム、シリコン、チタニウム、亜鉛、ジルコニウムなどによって処理しているものを使用しても良い。このような酸化チタンとしては、具体的には、石原産業(株)製の”タイペーク(登録商標)”R−820,R−830,R−930,R−550,R−630,R−680,R−670,R−580,R−780,R−780−2,R−850,R−855,A−100,A−220、W−10,CR−50,CR−50−2,CR57,CR−80,CR−90,CR−93,CR−95,CR953,CR−97,CR−60,CR−60−2,CR−63,CR−67,CR−58,CR−58−2、CR−85、テイカ(株)製のJR−301,JR−40,JR−405,JR−600A,JR−605,JR−600E,JR−603,JR−805,JR−806,JR−701,JRNC,JR−800,JR,JA−1,JA−C,JA−3,JA−4,JA−5などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Titanium oxide includes anatase type, rutile type, and brookite type, but from the standpoint of stability, rutile type and anatase type are preferred. Further, a titanium oxide surface treated with aluminum, silicon, titanium, zinc, zirconium or the like may be used. Specific examples of such titanium oxide include “Typaque (registered trademark)” R-820, R-830, R-930, R-550, R-630, and R-680 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. , R-670, R-580, R-780, R-780-2, R-850, R-855, A-100, A-220, W-10, CR-50, CR-50-2, CR57 , CR-80, CR-90, CR-93, CR-95, CR953, CR-97, CR-60, CR-60-2, CR-63, CR-67, CR-58, CR-58-2 , CR-85, JR-301, JR-40, JR-405, JR-600A, JR-605, JR-600E, JR-603, JR-805, JR-806, JR-701, manufactured by Teika Co., Ltd. , JRNC, JR-800, JR, JA-1 JA-C, JA-3, JA-4, although such EN-5 are exemplified, but the invention is not limited thereto.

本発明に用いられる酸化チタンの粒子径としては、一次粒子径が0.2〜0.3μmの範囲が好ましい。一次粒子径が0.2μm以上であれば目的とする隠蔽性能を得ることができ、0.3μm以下であれば自然沈降しにくく、分散が安定した組成物液が得られ、光沢のある良好なフィルム、シート塗膜を得ることができる。   As a particle diameter of the titanium oxide used for this invention, the range whose primary particle diameter is 0.2-0.3 micrometer is preferable. If the primary particle size is 0.2 μm or more, the desired concealing performance can be obtained, and if it is 0.3 μm or less, it is difficult to spontaneously settle and a composition liquid with stable dispersion can be obtained, and glossy and good Films and sheet coatings can be obtained.

酸化チタンの添加量としては、合成樹脂フィルムおよびシート中に2体積%以上であることが好ましい。さらには3体積%以上、30体積%以下が好ましい。2体積%以上であれば良好な隠蔽性能が得られ、30体積%以下であれば、良好な塗工性能を示す。   The addition amount of titanium oxide is preferably 2% by volume or more in the synthetic resin film and sheet. Furthermore, 3 volume% or more and 30 volume% or less are preferable. If it is 2 volume% or more, favorable concealment performance will be obtained, and if it is 30 volume% or less, favorable coating performance will be shown.

また、本発明においては、酸化チタン粒子表面をチタネート系カップリング剤で処理したものを用いても良い。酸化チタン粒子表面をチタネート系カップリング剤で処理することによって、酸化チタン粒子の分散性を向上させ、酸化チタン粒子量を多量に添加することが可能となる。さらには酸化チタン粒子を添加した塗液の分散安定性が良好になる。   Moreover, in this invention, you may use what processed the titanium oxide particle surface with the titanate coupling agent. By treating the surface of the titanium oxide particles with a titanate coupling agent, the dispersibility of the titanium oxide particles can be improved and a large amount of the titanium oxide particles can be added. Furthermore, the dispersion stability of the coating liquid to which titanium oxide particles are added is improved.

チタネート系カップリング剤の具体例としては、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリn−ステアロイルチタネート、イソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスファイト)チタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジ−トリデシル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、トリス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチルアミノエチル)チタネート、ジクミルフェニルオキシアセテートチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート、イソプロピルジイソステアロイルクミルフェニルチタネート、イソプロピルジステアロイルメタクリルチタネート、イソプロピルジイソステアロイルアクリルチタネート、イソプロピル4−アミノベンゼンスルホニルジ(ドデシルベンゼンスルホニル)チタネート、イソプロピルトリメタクリルチタネート、イソプロピルジ(4−アミノベンゾイル)イソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピルトリアクリルチタネート、イソプロピルトリ(N,N−ジメチルエチルアミノ)チタネート、イソプロピルトリアントラニルチタネート、イソプロピルオクチル,ブチルパイロホスフェートチタネート、イソプロピルジ(ブチル,メチルパイロホスフェート)チタネート、テトライソプロピルジ(ジラウロイルホスファイト)チタネート、ジイソプロピルオキシアセテートチタネート、イソステアロイルメタクリルオキシアセテートチタネート、イソステアロイルアクリルオキシアセテートチタネート、ジ(ジオクチルホスフェート)オキシアセテートチタネート、4−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルオキシアセテートチタネート、ジメタクリルオキシアセテートチタネート、ジクミルフェノレートオキシアセテートチタネート、4−アミノベンゾイルイソステアロイルオキシアセテートチタネート、ジアクリルオキシアセテートチタネート、ジ(オクチル,ブチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、イソステアロイルメタクリルエチレンチタネート、ジ(ジオクチルホスフェート)エチレンチタネート、4−アミノベンゼンスルホニルドデシルベンゼンスルホニルエチレンチタネート、ジメタクリルエチレンチタネート、4−アミノベンゾイルイソステアロイルエチレンチタネート、ジアクリルエチレンチタネート、ジアントラニルエチレンチタネート、ジ(ブチル,メチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、チタンアリルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、チタンビス(トリエタノールアミン)ジイソプロポキサイド、チタンジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタンジオネート)、チタンジイソプロポキサイドビス(テトラメチルヘプタンジオネート)、チタンジイソプロポキサイドビス(エチルアセトアセテート)、チタンメタクリルオキシエチルアセトアセテートトリイソプロポキサイド、チタンメチルフェノキサイド、チタンオキシドビス(ペンタンジオネート)、および味の素(株)製の”KR TTS”、”KR 46B”、”KR 55”,”KR 41B”、”KR 138S”、”KR 238S”、”338X”、”KR 44”,”KR 9SA”などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
酸化チタンのチタネート系カップリング剤の処理方法については大きく分けて湿式法と乾式法の2種類がある。湿式法の例としては、チタネート系カップリング剤をカップリング剤が溶解する溶剤で希釈した溶液中に、酸化チタンを添加し、ホモジナイザー等で撹拌することによって、チタネート系カップリング剤処理酸化チタン分散液を得ることができる。また、ガラスビーズ等を添加し、ペイントシェイカー等で激しく撹拌した後、ガラスビーズ等を濾別できるフィルターで濾過し、ガラスビーズ等を取り去ることでもチタネート系カップリング剤処理酸化チタン分散液を得ることができる。これらの工程は加熱することも可能である。乾式法の例としては、ヘンシェルミキサー中に酸化チタンを添加し、95℃、20分間予備乾燥した後、チタネート系カップリング剤を添加し、60〜80℃に保ちながら1200rpmで回転させることにより、チタネート系カップリング剤処理酸化チタンを得ることができる。
酸化チタンに対するチタネート系カップリング剤の処理量は、酸化チタン100重量部に対して0.001〜1重量部が好ましい。0.001〜1重量部の範囲であれば、分散性の向上効果が得られる。さらに好ましくは0.05〜0.5重量部である。
本発明における支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシートには、エポキシ樹脂および金属キレート化合物を含むことが好ましい。エポキシ樹脂分子中の2級水酸基が金属キレート化合物中の配位子と容易に交換反応を起こすことや、エポキシ樹脂の重合に金属キレート化合物が触媒的に働くことなどから、エポキシ樹脂と金属キレート化合物を用いた合成樹脂フィルムおよびシートは高速硬化性を有する。
また、エポキシ樹脂分子中の水酸基やグリシジル基が、基板表面の水酸基やカルボキシル基等との間で水素結合や共有結合を形成するために基板との接着性が高くなる。また、金属キレート化合物も基板表面の水酸基やカルボキシル基等との間で化学結合を形成するため基板との接着性の向上に貢献する。そのため、分子中に水酸基を2個以上含有するエポキシ樹脂と金属キレート化合物を用いて得られる合成樹脂フィルムおよびシートは金属基板と強固に接着する。
さらに、合成樹脂フィルムおよびシート表面に存在するエポキシ樹脂由来の2級水酸基、および金属キレート化合物の未反応部分が、感熱層中の架橋剤や活性水素含有化合物等と化学結合を形成するため、合成樹脂フィルムまたはシートと感熱層との接着性も高くなる。エポキシ樹脂としては、分子中に水酸基を2個以上含有するエポキシ樹脂が特に好ましい。
本発明に使用するエポキシ樹脂には、フェノキシ樹脂(高分子エポキシ樹脂)を含むことができる。
本発明に用いられるエポキシ樹脂としては、下記一般式(I)で表されるビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。
Specific examples of titanate coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tri-n-stearoyl titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris (dioctyl pyrophosphite) titanate, tetraisopropyl bis (Dioctyl phosphite) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (di-tridecyl) phosphite titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) oxyacetate Titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, tris (dioctyl pyrophosphate) ethyl Titanate, isopropyl dimethacrylisostearoyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) titanate, isopropyl tricumylphenyl titanate, isopropyl tri (N-aminoethylaminoethyl) titanate, dicumylphenyloxyacetate titanate Isostearoyl ethylene titanate, isopropyl diisostearoyl cumylphenyl titanate, isopropyl distearoyl methacryl titanate, isopropyl diisostearoyl acryl titanate, isopropyl 4-aminobenzenesulfonyldi (dodecylbenzenesulfonyl) titanate, isopropyltrimethacryl titanate, isopropyldi (4 -Aminobenzoyl Isostearoyl titanate, isopropyl tri (dioctyl pyrophosphate) titanate, isopropyl triacryl titanate, isopropyl tri (N, N-dimethylethylamino) titanate, isopropyl trianthranyl titanate, isopropyl octyl, butyl pyrophosphate titanate, isopropyl di (butyl, methyl Pyrophosphate) titanate, tetraisopropyl di (dilauroyl phosphite) titanate, diisopropyloxyacetate titanate, isostearoyl methacryloxyacetate titanate, isostearoyl acryloxyacetate titanate, di (dioctyl phosphate) oxyacetate titanate, 4-aminobenzenesulfonyldodecyl Benzenesulfonyloxy Siacetate titanate, dimethacryloxyacetate titanate, dicumylphenolate oxyacetate titanate, 4-aminobenzoylisostearoyloxyacetate titanate, diacryloxyacetate titanate, di (octyl, butylpyrophosphate) oxyacetate titanate, isostearoyl methacrylethylene Titanate, di (dioctyl phosphate) ethylene titanate, 4-aminobenzenesulfonyldodecylbenzenesulfonylethylene titanate, dimethacrylethylene titanate, 4-aminobenzoylisostearoyl ethylene titanate, diacrylethylene titanate, dianthranylethylene titanate, di (butyl, methyl) Pyrophosphate) ethylene titanate, titanium Lylacetoacetate triisopropoxide, titanium bis (triethanolamine) diisopropoxide, titanium di-n-butoxide (bis-2,4-pentanedionate), titanium diisopropoxide bis (tetramethylheptanedionate), Titanium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate), titanium methacryloxyethyl acetoacetate triisopropoxide, titanium methylphenoxide, titanium oxide bis (pentanedionate), and “KR TTS” from Ajinomoto Co., Inc. KR 46B "," KR 55 "," KR 41B "," KR 138S "," KR 238S "," 338X "," KR 44 "," KR 9SA ", etc. Absent.
Titanium oxide titanate coupling agents can be roughly classified into two methods, a wet method and a dry method. As an example of the wet method, titanium oxide is added to a solution diluted with a solvent in which the titanate coupling agent dissolves, and the titanate coupling agent-treated titanium oxide dispersion is added by stirring with a homogenizer or the like. A liquid can be obtained. In addition, after adding glass beads etc., stirring vigorously with a paint shaker etc., filtering with a filter that can filter out glass beads etc., and removing the glass beads etc. can also obtain a titanate coupling agent treated titanium oxide dispersion. Can do. These steps can also be heated. As an example of the dry method, titanium oxide is added in a Henschel mixer, preliminarily dried at 95 ° C. for 20 minutes, and then a titanate coupling agent is added, and rotated at 1200 rpm while maintaining at 60 to 80 ° C. A titanate coupling agent-treated titanium oxide can be obtained.
The treatment amount of the titanate coupling agent with respect to titanium oxide is preferably 0.001 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of titanium oxide. If it is the range of 0.001-1 weight part, the improvement effect of a dispersibility will be acquired. More preferably, it is 0.05-0.5 weight part.
The synthetic resin film and sheet constituting the support substrate in the present invention preferably contain an epoxy resin and a metal chelate compound. The epoxy resin and the metal chelate compound because the secondary hydroxyl group in the epoxy resin molecule easily causes an exchange reaction with the ligand in the metal chelate compound and the metal chelate compound acts catalytically in the polymerization of the epoxy resin. Synthetic resin films and sheets using the material have high-speed curability.
Further, since the hydroxyl group or glycidyl group in the epoxy resin molecule forms a hydrogen bond or a covalent bond with the hydroxyl group, carboxyl group or the like on the substrate surface, the adhesion to the substrate is enhanced. In addition, the metal chelate compound also forms a chemical bond with the hydroxyl group, carboxyl group, and the like on the substrate surface, which contributes to improvement in adhesion to the substrate. Therefore, a synthetic resin film and a sheet obtained by using an epoxy resin containing two or more hydroxyl groups in the molecule and a metal chelate compound are firmly bonded to the metal substrate.
In addition, the secondary hydroxyl group derived from the epoxy resin present on the surface of the synthetic resin film and the sheet, and the unreacted portion of the metal chelate compound form a chemical bond with the crosslinking agent, active hydrogen-containing compound, etc. in the heat sensitive layer. Adhesiveness between the resin film or sheet and the heat sensitive layer is also increased. As the epoxy resin, an epoxy resin containing two or more hydroxyl groups in the molecule is particularly preferable.
The epoxy resin used in the present invention can contain a phenoxy resin (polymer epoxy resin).
The epoxy resin used in the present invention is preferably a bisphenol type epoxy resin represented by the following general formula (I).

Figure 2014180845
Figure 2014180845

(式中、R,R,Rは、それぞれ下記式から選ばれる1種であり、同じであっても異なっていてもよい。m、nは、それぞれ0以上の正の整数で、m+n≧2である。) (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are each one kind selected from the following formulas, and may be the same or different. M and n are each a positive integer of 0 or more, m + n ≧ 2.)

Figure 2014180845
Figure 2014180845

また、難燃性付与の目的で臭素化したビスフェノール型エポキシ樹脂を用いることもできる。このような樹脂として、具体的には、ジャパンエポキシレジン(株)製の”エピコート(登録商標)”1001、1002、1003、1055、1004、1004AF、1007、1009、1010、1003F、1004F、1005F、1006F、1100L、4004P、4007P、4010P、5051、5054、5057、5203、5354、1256、4250、4275、東都化成(株)製の”エポトート(登録商標)”YD−011、YD−012、YD−013、YD−014、YD−017、YD−019、YD−020N、YD−020H、YD−7011R、YD−7017、YD−7019、YD−901、YD−902、YD−903N、YD−904、YD−907、YD−909、YD−927H、YD−6020、YDF−2001、YDF−2004、YDB−405、ST−5080、ST−5100、フェノトートYP−50、YP−50S、YPB−40AM40等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、このようなエポキシ樹脂の中でもエポキシ当量が600以上のものが好ましい。エポキシ当量が600以上であれば良好な硬化性を示す。ここで、エポキシ当量とは、1グラム当量のエポキシ基を含む樹脂のグラム数である。 A brominated bisphenol type epoxy resin can also be used for the purpose of imparting flame retardancy. As such resin, specifically, “Epicoat (registered trademark)” 1001, 1002, 1003, 1055, 1004, 1004AF, 1007, 1009, 1010, 1003F, 1004F, 1005F, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd. 1006F, 1100L, 4004P, 4007P, 4010P, 5051, 5054, 5057, 5203, 5354, 1256, 4250, 4275, “Epototo (registered trademark)” YD-011, YD-012, YD-01, manufactured by Tohto Kasei Co., Ltd. 013, YD-014, YD-017, YD-019, YD-020N, YD-020H, YD-7011R, YD-7017, YD-7019, YD-901, YD-902, YD-903N, YD-904, YD-907, YD-909, YD-9 7H, YD-6020, YDF-2001, YDF-2004, YDB-405, ST-5080, ST-5100, phenotote YP-50, YP-50S, YPB-40AM40, etc. is not. Among such epoxy resins, those having an epoxy equivalent of 600 or more are preferable. If the epoxy equivalent is 600 or more, good curability is exhibited. Here, the epoxy equivalent is the number of grams of resin containing 1 gram equivalent of an epoxy group.

本発明で言う金属キレート化合物としては、例えば、金属に有機配位子が配位した有機錯塩、金属に有機配位子および無機配位子が配位した有機無機錯塩、および金属と有機分子が酸素を介して共有結合している金属アルコキシド類を挙げることができる。   Examples of the metal chelate compound referred to in the present invention include an organic complex salt in which an organic ligand is coordinated to a metal, an organic inorganic complex salt in which an organic ligand and an inorganic ligand are coordinated to a metal, and a metal and an organic molecule. Mention may be made of metal alkoxides covalently bonded through oxygen.

有機錯化合物を形成する主な金属としては、Cu(I)、Ag(I)、Hg(I)、Hg(II)、Li、Na、K、Be(II)、B(III)、Zn(II)、Cd(II)、Al(III)、Co(II)、Ni(II)、Cu(II)、Ag(II)、Au(III)、Pd(II)、Pt(II)、Ca(II)、Sr(II)、Ba(II)、Ti(IV)、V(III)、V(IV)、Cr(III)、Mn(II)、Mn(III)、Fe(II)、Fe(III)、Co(III)、Pd(IV)、Pt(IV)、Sc(III)、Y(III)、Si(IV)、Sn(II)、Sn(IV)、Pb(IV)、Ru(III)、Rh(III)、Os(III)、Ir(III)、Rb、Cs、Mg、Ni(IV)、Ra、Zr(IV)、Hf(IV)、Mo(IV)、W(IV)、Ge、In、ランタニド、アクチニド等が挙げられる。これらの中でもAl、Ti、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、In、Sn、Zr、Hfが好ましい。中でも着色性の少ない点でAl、Zrが好ましく、さらに反応性の点でAlが特に好ましい。   The main metals forming the organic complex compound include Cu (I), Ag (I), Hg (I), Hg (II), Li, Na, K, Be (II), B (III), Zn ( II), Cd (II), Al (III), Co (II), Ni (II), Cu (II), Ag (II), Au (III), Pd (II), Pt (II), Ca ( II), Sr (II), Ba (II), Ti (IV), V (III), V (IV), Cr (III), Mn (II), Mn (III), Fe (II), Fe ( III), Co (III), Pd (IV), Pt (IV), Sc (III), Y (III), Si (IV), Sn (II), Sn (IV), Pb (IV), Ru ( III), Rh (III), Os (III), Ir (III), Rb, Cs, Mg, Ni (IV), Ra Zr (IV), Hf (IV), Mo (IV), W (IV), Ge, In, lanthanides, actinides, and the like. Among these, Al, Ti, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ge, In, Sn, Zr, and Hf are preferable. Among these, Al and Zr are preferable from the viewpoint of little coloring, and Al is particularly preferable from the viewpoint of reactivity.

配位子としては、O(酸素原子)、N(窒素原子)、S(硫黄原子)等をドナー原子として有する以下のような配位基を有する化合物が挙げられる。   Examples of the ligand include compounds having the following coordination groups having O (oxygen atom), N (nitrogen atom), S (sulfur atom) and the like as donor atoms.

配位基の具体例として、酸素原子をドナー原子とするものとしては、−OH(アルコール、エノールおよびフェノール)、−COOH(カルボン酸)、>C=O(アルデヒド、ケトン、キノン)、−O−(エーテル)、−COOR(エステル)、−N=O(ニトロソ化合物、N−ニトロソ化合物)、−NO2(ニトロ化合物)、>N−O(N−オキシド)、−SO3H(スルホン酸)、−PO3H2(亜リン酸)等、窒素原子をドナー原子とするものとしては、−NH2(1級アミン、アミド、ヒドラジン)、>NH(2級アミン、ヒドラジン)、>N−(3級アミン)、−N=N−(アゾ化合物、複素環化合物)、=N−OH(オキシム)、−NO2(ニトロ化合物)、−N=O(ニトロソ化合物)、>C=N−(シッフ塩基、複素環化合物)、>C=NH(アルデヒド、およびケトンイミン、エナミン類)等、硫黄原子をドナー原子とするものとしては、−SH(チオール)、−S−(チオエーテル)、>C=S(チオケトン、チオアミド)、=S−(複素環化合物)、−C(=O)−SH、−C(=S)−OHおよび−C(=S)−SH(チオカルボン酸)、−SCN(チオシアナート、イソチオシアナート)等が挙げられる。本発明においては、これらの様な配位基を配位子中に2個以上含み、金属との間で1個またはそれ以上の環状構造を形成する配位子、具体的には、β−ジケトン類、ケトエステル類、ジエステル類、ヒドロキシカルボン酸またはそのエステルや塩類、ケトアルコール類、アミノアルコール類、エノール性活性水素化合物などが用いられる。   Specific examples of the coordinating group include oxygen atoms as donor atoms: -OH (alcohol, enol and phenol), -COOH (carboxylic acid),> C = O (aldehyde, ketone, quinone), -O -(Ether), -COOR (ester), -N = O (nitroso compound, N-nitroso compound), -NO2 (nitro compound),> N-O (N-oxide), -SO3H (sulfonic acid),- As a thing using a nitrogen atom as a donor atom, such as PO3H2 (phosphorous acid), -NH2 (primary amine, amide, hydrazine),> NH (secondary amine, hydrazine),> N- (tertiary amine), -N = N- (azo compound, heterocyclic compound), = N-OH (oxime), -NO2 (nitro compound), -N = O (nitroso compound),> C = N- (Schiff base, heterocyclic compound) ),> C = NH (aldehyde, ketone imine, enamines), etc., with a sulfur atom as a donor atom, -SH (thiol), -S- (thioether),> C = S (thioketone, thioamide) , = S- (heterocyclic compound), -C (= O) -SH, -C (= S) -OH and -C (= S) -SH (thiocarboxylic acid), -SCN (thiocyanate, isothiocyanate) Etc. In the present invention, a ligand containing two or more such coordination groups in the ligand and forming one or more cyclic structures with the metal, specifically, β- Diketones, ketoesters, diesters, hydroxycarboxylic acids or esters or salts thereof, ketoalcohols, aminoalcohols, enolic active hydrogen compounds and the like are used.

このような配位子の具体的な化合物としては以下のようなものが挙げられる。
(1)β−ジケトン類:2,4−ペンタンジオン、2,4−ヘプタンジオン、トリフルオロアセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、ジベンゾイルメタン、ベンゾイルアセトン、ベンゾイルトリフルオロアセトン等。
(2)ケトエステル類:アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチル、アセト酢酸オクチル等。
(3)ジエステル類:マロン酸ジメチルエステル、マロン酸ジエチルエステル等。
(4)ヒドロキシカルボン酸またはそのエステルや塩類:乳酸、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸アンモニウム塩、サリチル酸、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸、リンゴ酸メチル、リンゴ酸エチル、酒石酸、酒石酸メチル、酒石酸エチル等。
(5)ケトアルコール類:4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ペンタノン、4−ヒドロキシ−2−ヘプタノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ヘプタノン等。
(6)アミノアルコール類:モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N−メチル−モノエタノールアミン、N−エチル−モノエタノールアミン、N−ジメチルエタノールアミン、N−ジエチルエタノールアミン等。
(7)エノール性活性水素化合物:メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド等。
Specific examples of such a ligand include the following.
(1) β-diketones: 2,4-pentanedione, 2,4-heptanedione, trifluoroacetylacetone, hexafluoroacetylacetone, dibenzoylmethane, benzoylacetone, benzoyltrifluoroacetone, and the like.
(2) Ketoesters: methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, butyl acetoacetate, octyl acetoacetate and the like.
(3) Diesters: malonic acid dimethyl ester, malonic acid diethyl ester, and the like.
(4) Hydroxycarboxylic acid or esters and salts thereof: lactic acid, methyl lactate, ethyl lactate, ammonium lactate, salicylic acid, methyl salicylate, ethyl salicylate, phenyl salicylate, malic acid, methyl malate, ethyl malate, tartaric acid, methyl tartrate , Ethyl tartrate, etc.
(5) Keto alcohols: 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, 4-hydroxy-2-pentanone, 4-hydroxy-2-heptanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-heptanone and the like.
(6) Amino alcohols: monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, N-methyl-monoethanolamine, N-ethyl-monoethanolamine, N-dimethylethanolamine, N-diethylethanolamine and the like.
(7) Enolic active hydrogen compounds: methylol melamine, methylol urea, methylol acrylamide and the like.

本発明に使用する金属キレート化合物は上記の配位子を持つことができるが、その中でも、エノール類、ジエステル類およびケトエステル類から選ばれた配位子が1つ以上配位したアルミキレート化合物が好ましい。これらのアルミキレート化合物は活性水素含有化合物との間で容易に交換反応を起こすため、加熱時にアルミキレート化合物そのものが昇華、または蒸発することが抑えられる。   The metal chelate compound used in the present invention can have the above-mentioned ligand. Among them, an aluminum chelate compound in which one or more ligands selected from enols, diesters, and ketoesters are coordinated is used. preferable. Since these aluminum chelate compounds easily cause an exchange reaction with the active hydrogen-containing compound, the aluminum chelate compound itself can be prevented from sublimating or evaporating during heating.

また、ケトエステル類が2つ以上配位したアルミキレート化合物を用いることが特に好ましい。このようなアルミキレート化合物を用いることで、湿気の影響を受けにくくなり、また合成樹脂溶液の貯蔵安定性が飛躍的に改善される。   Moreover, it is particularly preferable to use an aluminum chelate compound in which two or more ketoesters are coordinated. By using such an aluminum chelate compound, it becomes less susceptible to moisture, and the storage stability of the synthetic resin solution is dramatically improved.

エポキシ樹脂と、金属キレート化合物の添加割合としては、両化合物が完全に反応して完全不溶化する割合で添加することが好ましい。未反応のエポキシ樹脂、または金属キレート化合物のいずれかが残ってしまうと、合成樹脂フィルムおよびシートの上に感熱層組成物を塗布した際に、感熱層組成物中にエポキシ樹脂やキレート化合物の成分が抽出され、印刷版の性能に悪影響を与えることがある。   As an addition ratio of the epoxy resin and the metal chelate compound, it is preferable to add them in such a ratio that both compounds react completely and become insoluble. If either an unreacted epoxy resin or a metal chelate compound remains, when the heat-sensitive layer composition is applied on the synthetic resin film and sheet, the components of the epoxy resin and the chelate compound are contained in the heat-sensitive layer composition. May be adversely affected on the performance of the printing plate.

添加割合の具体例を挙げると、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(分子量5,500)とアルミニウム−トリス−アセチルアセトネート(分子量324.3)を用いた場合には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂対アルミニウム−トリス−アセチルアセトネートの添加割合が95重量部対5重量部〜60重量部対40重量部の範囲が好ましい。この範囲内であれば、両化合物が充分に反応して不溶化することができるため、印刷版の性能に悪影響を与えることはない。   When specific examples of the addition ratio are given, when bisphenol A type epoxy resin (molecular weight 5,500) and aluminum-tris-acetylacetonate (molecular weight 324.3) are used, bisphenol A type epoxy resin vs. aluminum-tris. -The addition ratio of acetylacetonate is preferably in the range of 95 parts by weight to 5 parts by weight to 60 parts by weight to 40 parts by weight. Within this range, both compounds can sufficiently react and insolubilize, so that the performance of the printing plate is not adversely affected.

本発明に用いられる合成樹脂フィルムおよびシートには、エポキシ樹脂、金属キレート化合物、酸化チタンの他に、フェノール樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、尿素樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイン、ゼラチン等を含んでいても良い。   Synthetic resin films and sheets used in the present invention include, in addition to epoxy resin, metal chelate compound, titanium oxide, phenol resin, acrylic resin, alkyd resin, polyester resin, polyamide resin, urea resin, polyvinyl butyral resin, casein, It may contain gelatin or the like.

また、塗工性を改良する目的で、アルキルエーテル類(例えばエチルセルロース、メチルセルロースなど)、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、または、ノニオン系界面活性剤を添加することもできる。   In addition, for the purpose of improving coating properties, alkyl ethers (for example, ethyl cellulose, methyl cellulose, etc.), fluorine-based surfactants, silicon-based surfactants, or nonionic surfactants may be added.

さらに、合成樹脂フィルムおよびシートの柔軟性を向上させる目的で、天然ゴム、合成ゴムおよびポリウレタン等の柔軟性付与剤を添加しても良い。これら柔軟性付与剤の添加量としては、10〜70重量%が好ましく、20〜60重量%がより好ましい。10重量%以上であれば柔軟性が向上し、70重量%以下であればエポキシ樹脂と金属キレート化合物の硬化反応の阻害は僅かであり、実質的に無視できる。   Furthermore, for the purpose of improving the flexibility of the synthetic resin film and sheet, a flexibility-imparting agent such as natural rubber, synthetic rubber and polyurethane may be added. The addition amount of these flexibility-imparting agents is preferably 10 to 70% by weight, and more preferably 20 to 60% by weight. If it is 10% by weight or more, the flexibility is improved, and if it is 70% by weight or less, the inhibition of the curing reaction between the epoxy resin and the metal chelate compound is slight and can be substantially ignored.

支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシートの成分は、好ましくは溶剤を用いて溶解される。その樹脂溶液に用いられる溶剤には、金属キレート化合物、エポキシ樹脂、その他の添加物を良く溶かす性質を有することが好ましい。溶剤は単独で用いることもできるし、二種以上を混合して用いることもできる。また、顔料を添加する場合には、顔料表面を良く濡らし、良好な顔料分散性が得られる溶剤を選択することが好ましい。   The components of the synthetic resin film and the sheet constituting the support substrate are preferably dissolved using a solvent. It is preferable that the solvent used for the resin solution has a property of sufficiently dissolving the metal chelate compound, the epoxy resin, and other additives. A solvent can also be used independently and can also be used in mixture of 2 or more types. In addition, when adding a pigment, it is preferable to select a solvent that wets the pigment surface well and provides good pigment dispersibility.

樹脂組成物の作製方法としては、例えば、容器に酸化チタン分散液を入れ、撹拌を開始し、そこに順次エポキシ樹脂、金属キレート化合物、その他の添加剤を添加し、さらに溶剤で任意の濃度まで希釈することで樹脂組成物を得ることができる。   As a method for preparing the resin composition, for example, a titanium oxide dispersion is put into a container, stirring is started, and an epoxy resin, a metal chelate compound, and other additives are sequentially added thereto, and further up to an arbitrary concentration with a solvent. The resin composition can be obtained by dilution.

酸化チタン分散液は、例えば、溶剤中に酸化チタンを添加し、ペイントシェイカー、ボールミル等で分散することにより得られる。   The titanium oxide dispersion can be obtained, for example, by adding titanium oxide in a solvent and dispersing with a paint shaker, a ball mill or the like.

本発明における支持基板は、上記のように作成した樹脂組成物を加熱、乾燥させながら延伸させることで、フィルムまたはシート状に成形しても良いし、別の樹脂、金属のフィルムもしくはシート上に樹脂組成物を塗布、加熱、乾燥させることで、層状に成形しても良い。   The support substrate in the present invention may be formed into a film or sheet by stretching the resin composition prepared as described above while heating and drying, or on another resin, metal film or sheet. You may shape | mold into a layer form by apply | coating, heating, and drying a resin composition.

樹脂組成物の塗布については、例えば、リバースロールコーター、エアーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗布装置が挙げられるが、所望の膜厚、外観が得られればこの限りではない。   As for the application of the resin composition, for example, a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a gravure coater, a die coater, a Meyer bar coater, or a spin coater such as a whaler, a desired film thickness, This does not apply as long as the appearance is obtained.

樹脂組成物の成形時における加熱は、樹脂組成物の溶剤の沸点以上の温度で行うことが好ましく、最高温度に達するまでの温度勾配ができるだけ緩やかであることがより好ましい。そうすることで、突沸による乾燥ムラや組成物の析出、昇華を抑制でき、より歩留まりが向上する。一般的な溶剤を使用した場合、乾燥温度は100〜300℃、乾燥時間は数分〜十数分の範囲とすることが好ましい。
本発明における支持基板を構成する合成樹脂フィルムおよびシートには、上述のエポキシ樹脂および金属キレート化合物を含むものの他に、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートやそれらとイソフタル酸、ダイマー酸等を共重合したポリエステルや、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、ナイロン6等のポリアミドといった熱可塑性樹脂やこれらの樹脂と酸化チタンを含むものであってもよい。これらの熱可塑性樹脂を含む樹脂組成物は、単体で合成樹脂フィルムまたはシートに加工されたものであってもよいし、アルミニウム板などの金属板上にラミネートしたものであっても良い。
Heating at the time of molding the resin composition is preferably performed at a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent of the resin composition, and it is more preferable that the temperature gradient until reaching the maximum temperature is as gentle as possible. By doing so, drying unevenness due to bumping, precipitation of the composition, and sublimation can be suppressed, and the yield is further improved. When a general solvent is used, it is preferable that the drying temperature is 100 to 300 ° C. and the drying time is several minutes to several tens of minutes.
The synthetic resin film and sheet constituting the support substrate in the present invention include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and those with isophthalic acid, dimer acid, etc., in addition to those containing the above-described epoxy resin and metal chelate compound. Thermoplastic resins such as copolymerized polyester, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, and polyamides such as nylon 6, and those resins and titanium oxide may be included. The resin composition containing these thermoplastic resins may be processed into a single synthetic resin film or sheet, or may be laminated on a metal plate such as an aluminum plate.

本発明では、支持基板全体の厚みによって特に制約を受けないが、一般的な印刷機への適応を踏まえると、0.10〜0.45mmの範囲であることが好ましい。特に、上記の樹脂組成物から成るフィルムおよびシート部分の厚みは1μm以上であれば隠蔽性が得られるが、下地に金属板を用いる場合は、隠蔽性が得られる範囲内において、金属部の厚みと合成樹脂フィルムまたはシート部の厚みを任意で変更しても良い。   In the present invention, there is no particular limitation depending on the thickness of the entire support substrate, but it is preferably in the range of 0.10 to 0.45 mm in view of adaptation to a general printing press. In particular, when the thickness of the film and sheet portion made of the above resin composition is 1 μm or more, concealment can be obtained. However, when a metal plate is used for the base, the thickness of the metal portion is within the range where concealment can be obtained. And the thickness of the synthetic resin film or sheet portion may be arbitrarily changed.

ここで、合成樹脂フィルムおよびシート中のアルミ原子の含有量の測定は、蛍光X線によるAl−Kα強度の測定によって行うことができる。測定方法の詳細を下記にまとめる。
測定装置:理学電気工業(株)製 自動蛍光X線分析装置 RIX3000
測定条件:X線管球:Rh
管電圧・電流:50kV/50mA
分析線:Al−Kα
分析結晶:PET、
検出器:ガスフロー比例計数管
測定雰囲気:真空中
測定面:30mmφ
試料調整および測定:約35mm角に切り取った試料片を測定用試料セルに固定し、各試料について繰り返し2回の測定(定時計数法:計数時間40秒)を行った。
Here, the measurement of the content of aluminum atoms in the synthetic resin film and the sheet can be performed by measuring the Al-Kα intensity by fluorescent X-rays. The details of the measurement method are summarized below.
Measuring device: Automatic fluorescent X-ray analyzer RIX3000 manufactured by Rigaku Electric Industry Co., Ltd.
Measurement conditions: X-ray tube: Rh
Tube voltage / current: 50 kV / 50 mA
Analysis line: Al-Kα
Analytical crystal: PET,
Detector: Gas flow proportional counter
Measurement atmosphere: in vacuum
Measuring surface: 30mmφ
Sample preparation and measurement: A sample piece cut to about 35 mm square was fixed to a measurement sample cell, and each sample was repeatedly measured twice (constant clock method: counting time 40 seconds).

次に本発明の直描型水なし平版印刷版原版に使用する感熱層について説明する。   Next, the heat-sensitive layer used in the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described.

感熱層を構成する材料は特に限定されないが、(a)レーザー照射の作用で分解し得る化合物および(b)熱硬化性の化合物を含有することが好ましい。   Although the material which comprises a thermosensitive layer is not specifically limited, It is preferable to contain (a) the compound which can decompose | disassemble by the effect | action of laser irradiation, and (b) a thermosetting compound.

(a)レーザー照射の作用で分解し得る化合物としては、(1)その化合物自体はレーザー光を吸収しないが、レーザー光を吸収する別の化合物の作用により化合物が分解する場合と、(2)その化合物自体がレーザー光を吸収して分解する場合が挙げられる。   (A) As a compound that can be decomposed by the action of laser irradiation, (1) the compound itself does not absorb laser light, but the compound decomposes by the action of another compound that absorbs laser light, and (2) The compound itself absorbs laser light and decomposes.

(1)その化合物自体はレーザー光を吸収しないが、レーザー光を吸収する別の化合物の作用により分解する化合物としては、例えば、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム、炭酸エステル化合物、ニトロセルロース等のニトロ化合物や、過酸化ベンゾイル、過安息香酸エステルなどの有機過酸化物、無機過酸化物、ポリビニルピロリドン、アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、N,N’−ジニトロペンタメチレンテトラミンなどのニトロソ化合物、アジド化合物、ジアゾ化合物あるいはp−トルエンスルホニルヒドラジン、p,p’−オキシビス(ベンゼンスルホヒドラジン)などのスルホニルヒドラジド化合物、さらにはその他の低分子、高分子ヒドラジン誘導体、などを挙げることができる。さらには、レーザー光の作用で酸やアミンを発生する化合物、発生した酸あるいはアミンの作用で分解する化合物なども、本発明に使用することができる。このような化合物は、感熱層中の全固形分に対し、好ましくは0.1〜70重量%、より好ましくは1〜50重量%、さらに好ましくは5〜30重量%を添加することができる。   (1) Although the compound itself does not absorb laser light, examples of the compound that decomposes by the action of another compound that absorbs laser light include nitro compounds such as ammonium nitrate, potassium nitrate, sodium nitrate, carbonate compounds, and nitrocellulose. And organic peroxides such as benzoyl peroxide and perbenzoic acid esters, inorganic peroxides, azo compounds such as polyvinylpyrrolidone, azodicarbonamide, azobisisobutyronitrile, N, N′-dinitropentamethylenetetramine, etc. Nitroso compounds, azide compounds, diazo compounds or sulfonylhydrazide compounds such as p-toluenesulfonylhydrazine, p, p'-oxybis (benzenesulfohydrazine), and other low-molecular and high-molecular hydrazine derivatives. so That. Furthermore, a compound that generates an acid or an amine by the action of laser light, a compound that decomposes by the action of the generated acid or an amine, and the like can also be used in the present invention. Such a compound can be added in an amount of preferably 0.1 to 70% by weight, more preferably 1 to 50% by weight, still more preferably 5 to 30% by weight, based on the total solid content in the heat-sensitive layer.

また、レーザー光を吸収する別の化合物としては、公知の光熱変換物質を挙げることができる。光熱変換物質の具体例としては、カーボンブラック、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、カーボングラファイト、ジアミン系金属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水含有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化物、これらの金属の水酸化物、硫酸塩などを挙げることができる。これらのなかでも、光熱変換率、経済性および取り扱い性の面から、カーボンブラックが好ましい。   Moreover, as another compound which absorbs a laser beam, a well-known photothermal conversion substance can be mentioned. Specific examples of photothermal conversion materials include black pigments such as carbon black, titanium black, aniline black, and cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine-based green pigments, carbon graphite, diamine-based metal complexes, dithiol-based metal complexes, and phenolthiol-based materials. Metal complexes, mercaptophenol-based metal complexes, crystal water-containing inorganic compounds, copper sulfate, chromium sulfide, silicate compounds, metal oxides such as titanium oxide, vanadium oxide, manganese oxide, iron oxide, cobalt oxide, and tungsten oxide, these And metal hydroxides and sulfates. Among these, carbon black is preferable from the viewpoints of photothermal conversion, economic efficiency, and handleability.

また、赤外線または近赤外線を吸収する色素、特に染料が光熱変換物質として好ましく使用される。特に好ましい色素としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アゾ系分散色素、ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ペリレン系、ポリメチン系、インドアニリン金属錯体染料、分子間型CT系、ベンゾチオピラン系、スピロピラン系、ニグロシン系、チオインジゴ系、ニトロソ系、キノリン系、フルギド系の色素が挙げられ、特に染料が好ましく使用される。   Further, pigments that absorb infrared rays or near infrared rays, particularly dyes, are preferably used as the photothermal conversion substance. Particularly preferred dyes include cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, dithiol metal complex, azurenium, squarylium, croconium, azo dispersion dye, bisazo, bisazostilbene, naphthoquinone, anthraquinone, perylene. Type, polymethine type, indoaniline metal complex dye, intermolecular CT type, benzothiopyran type, spiropyran type, nigrosine type, thioindigo type, nitroso type, quinoline type, fulgide type dye, particularly dyes are preferably used .

これら光熱変換物質の含有量は、全感熱層組成物に対して1〜40重量%が好ましく、より好ましくは5〜25重量%である。1重量%よりも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果が見られず、40重量%よりも多い場合には印刷版の耐刷性が低下しやすい。   The content of these photothermal conversion substances is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 5 to 25% by weight, based on the total heat-sensitive layer composition. When the amount is less than 1% by weight, the effect of improving the sensitivity to laser light is not observed, and when the amount is more than 40% by weight, the printing durability of the printing plate tends to be lowered.

(2)その化合物自体がレーザー光を吸収して分解する化合物としては、上記の光熱変換作用を示す染料、顔料のうち、比較的分解しやすいものを挙げることができる。特に好ましい化合物としては、シアニン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、アゾ系分散色素、ビスアゾ系、ビスアゾスチルベン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、ペリレン系、ポリメチン系、インドアニリン金属錯体染料、分子間型CT系、ベンゾチオピラン系、スピロピラン系、ニグロシン系、チオインジゴ系、ニトロソ系、キノリン系、フルギド系の色素が挙げられ、特に染料が好ましく使用される。これら化合物の含有量は、全感熱層組成物に対して1〜40重量%が好ましく、より好ましくは5〜25重量%である。1重量%よりも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果が見られず、40重量%よりも多い場合には印刷版の耐刷性が低下しやすい。   (2) Examples of the compound that the compound itself absorbs and decomposes by laser light include the above-described dyes and pigments that exhibit a photothermal conversion action, which are relatively easily decomposed. Particularly preferred compounds include cyanine, phthalocyanine, naphthalocyanine, dithiol metal complex, azulenium, squarylium, croconium, azo disperse dye, bisazo, bisazostilbene, naphthoquinone, anthraquinone, perylene. Type, polymethine type, indoaniline metal complex dye, intermolecular CT type, benzothiopyran type, spiropyran type, nigrosine type, thioindigo type, nitroso type, quinoline type, fulgide type dye, particularly dyes are preferably used . The content of these compounds is preferably 1 to 40% by weight, more preferably 5 to 25% by weight, based on the total thermosensitive layer composition. When the amount is less than 1% by weight, the effect of improving the sensitivity to laser light is not observed, and when the amount is more than 40% by weight, the printing durability of the printing plate tends to be lowered.

このような(a)レーザー照射の作用で分解し得る化合物としては、例えば、ポリメチン系近赤外吸収染料、フタロシアニン系近赤外吸収染料、シアニン系近赤外吸収染料、ジチオール金属錯体系近赤外吸収染料などが好ましく、さらにはこれら近赤外吸収染料と有機過酸化物、アゾ化合物、アジド化合物、ジアゾ化合物、ヒドラジン誘導体から選ばれる少なくとも1種との組み合わせが好ましい。   Examples of such compounds that can be decomposed by the action of laser irradiation include polymethine-based near infrared absorbing dyes, phthalocyanine-based near infrared absorbing dyes, cyanine-based near infrared absorbing dyes, dithiol metal complex-based near red Outer absorbing dyes and the like are preferable, and further, a combination of these near infrared absorbing dyes and at least one selected from organic peroxides, azo compounds, azide compounds, diazo compounds, and hydrazine derivatives is preferable.

本発明においては、感熱層中に(b)熱硬化性の化合物を含有することが好ましい。従来、感熱層、インキ反発層をこの順に有する直描型平版印刷版において、重合や架橋などの技術を応用してレーザー照射で感熱層とインキ反発層の接着性が向上するタイプの印刷版を作製しようとする試みはいくつかなされてきた。一方、レーザー照射で感熱層とインキ反発層の接着性が低下する、いわゆるネガ型の印刷版原版において、熱硬化性化合物を利用した例は、原版の製造時に感熱層に架橋構造を導入するために用いた例があるだけである。   In the present invention, the thermosensitive layer preferably contains (b) a thermosetting compound. Conventionally, in direct-drawing lithographic printing plates that have a heat-sensitive layer and an ink repellent layer in this order, a type of printing plate that improves the adhesion between the heat-sensitive layer and the ink repellent layer by laser irradiation by applying techniques such as polymerization and crosslinking. Several attempts have been made to make it. On the other hand, an example of using a thermosetting compound in a so-called negative type printing plate precursor in which the adhesion between the heat sensitive layer and the ink repellent layer is reduced by laser irradiation is to introduce a cross-linked structure into the heat sensitive layer during the production of the original plate. There are only examples used for.

本発明における(b)熱硬化性の化合物とは、印刷版原版の感熱層中にあって、レーザー照射の作用で直接あるいは間接的に熱硬化し得る性能を有している化合物群のことを言う。このような(b)熱硬化性の化合物としては、フェノール、クレゾール、キシレノールなどのフェノール類とホルムアルデヒドの縮合反応により得られるノボラック樹脂やレゾール樹脂、フェノール・フルフラール樹脂、フラン樹脂、不飽和ポリエステル、アルキド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、不飽和ポリウレタン樹脂、ポリイミド前駆体などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   The (b) thermosetting compound in the present invention refers to a group of compounds that are in the heat-sensitive layer of the printing plate precursor and have the ability to be directly or indirectly thermoset by the action of laser irradiation. say. Examples of such (b) thermosetting compounds include novolak resins and resol resins obtained by the condensation reaction of phenols such as phenol, cresol and xylenol with formaldehyde, phenol-furfural resins, furan resins, unsaturated polyesters, alkyds. Examples thereof include, but are not limited to, resins, urea resins, melamine resins, guanamine resins, epoxy resins, diallyl phthalate resins, unsaturated polyurethane resins, and polyimide precursors.

また、上記のごとく樹脂自体が反応するものの他に、反応性の官能基を有する化合物に熱反応性の架橋剤を添加した組成物も、(b)熱硬化性の化合物として本発明に使用することができる。架橋剤としては架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、多官能ブロックドイソシアネート、多官能エポキシ化合物、多官能アクリレート化合物、金属キレート化合物、多官能アルデヒド、多官能メルカプト化合物、多官能アルコキシシリル化合物、多官能アミン化合物、多官能カルボン酸、多官能ビニル化合物、多官能ジアゾニウム塩、多官能アジド化合物、ヒドラジンなどが挙げられる。また、上記架橋剤の反応を促進するために公知の触媒を添加してもよい。これらの架橋剤は単独または2種以上を混合して使用することも可能である。   In addition to the above-described reaction of the resin itself, a composition obtained by adding a heat-reactive crosslinking agent to a compound having a reactive functional group is also used in the present invention as a (b) thermosetting compound. be able to. Examples of the crosslinking agent include known polyfunctional compounds having crosslinking properties, such as polyfunctional blocked isocyanates, polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional acrylate compounds, metal chelate compounds, polyfunctional aldehydes, polyfunctional mercapto compounds, polyfunctional alkoxys. Examples include silyl compounds, polyfunctional amine compounds, polyfunctional carboxylic acids, polyfunctional vinyl compounds, polyfunctional diazonium salts, polyfunctional azide compounds, and hydrazine. In addition, a known catalyst may be added to accelerate the reaction of the crosslinking agent. These crosslinking agents can be used alone or in admixture of two or more.

さらには、本発明においては(b)熱硬化性の化合物として熱の作用で酸やアミンを発生する化合物および発生した酸あるいはアミンの作用で硬化する化合物なども使用することができる。このような熱硬化性の化合物の中では、フェノール樹脂と金属キレート化合物の組み合わせが特に好ましい。   Furthermore, in the present invention, (b) a compound that generates an acid or an amine by the action of heat and a compound that cures by the action of the generated acid or amine can be used as the thermosetting compound. Among such thermosetting compounds, a combination of a phenol resin and a metal chelate compound is particularly preferable.

このような(b)熱硬化性の化合物の感熱層中に占める割合としては、感熱層組成物の全固形分に対し好ましくは10〜95重量%、さらには30〜70重量%であることが好ましい。熱硬化性の化合物の量が10重量%より少ない場合は、感熱層の熱硬化による画線部感熱層の耐溶剤性の向上効果が乏しくなることがある。一方、95重量%より多い場合には、相対的に熱分解性化合物や光熱変換物質が少なくなるためレーザー照射による画像形成性に問題を生じる場合があるためである。   The proportion of the thermosetting compound (b) in the heat-sensitive layer is preferably 10 to 95% by weight, more preferably 30 to 70% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer composition. preferable. When the amount of the thermosetting compound is less than 10% by weight, the effect of improving the solvent resistance of the image area heat-sensitive layer by heat-curing the heat-sensitive layer may be poor. On the other hand, when the amount is more than 95% by weight, the heat decomposable compound and the photothermal conversion substance are relatively reduced, which may cause a problem in image formability by laser irradiation.

その他、感熱層組成物中にはバインダーポリマーや界面活性剤、各種添加剤を含有してもよい。バインダーポリマーの具体例としては、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートなどのアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの単独重合体および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレン、ヒドロキシスチレンなどのスチレン系モノマーの単独重合体および共重合体、イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニルなどのビニルエステル類の単独重合体および共重合体、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキシドなどのポリオキシド類(ポリエーテル類)、ポリエステル類、ポリウレタン類、ポリアミド類、エチルセルロース、セルロースアセテートなどのセルロース誘導体類、フェノキシ樹脂、メチルペンテン樹脂、ポリパラキシリレン樹脂、ポリフェニレンスルファイド樹脂などが挙げられる。   In addition, the heat-sensitive layer composition may contain a binder polymer, a surfactant, and various additives. Specific examples of the binder polymer include acrylic acid esters such as polymethyl methacrylate and polybutyl methacrylate, homopolymers and copolymers of methacrylic acid esters, homopolymers of styrene monomers such as polystyrene, α-methylstyrene, and hydroxystyrene. Polymers and copolymers, various synthetic rubbers such as isoprene and styrene-butadiene, homopolymers and copolymers of vinyl esters such as polyvinyl acetate and vinyl chloride, and polyoxides such as polyethylene oxide and polypropylene oxide (polyethers) ), Polyesters, polyurethanes, polyamides, cellulose derivatives such as ethyl cellulose and cellulose acetate, phenoxy resins, methylpentene resins, polyparaxylylene resins, polyphenylenes Such as Fido resin and the like.

これらのバインダーポリマーの含有量は、全感熱層組成物に対して5〜70重量%が好ましく、より好ましくは10〜50重量%である。含有量が5重量%よりも少ないと耐刷性や塗液の塗工性に問題が生じやすく、70重量%よりも多いと画像再現性に悪影響を与えやすい。   The content of these binder polymers is preferably 5 to 70% by weight, more preferably 10 to 50% by weight, based on the total heat-sensitive layer composition. If the content is less than 5% by weight, problems occur in printing durability and coating properties of the coating liquid, and if it is more than 70% by weight, image reproducibility tends to be adversely affected.

感熱層の厚さは、重量換算で0.1〜10g/mであると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましくは0.5〜7g/mである。 The thickness of the heat-sensitive layer is preferably 0.1 to 10 g / m 2 in terms of weight in terms of printing durability of the printing plate and the ability to easily dilute the diluting solvent and is excellent in productivity, and more preferably 0.5. it is a ~7g / m 2.

このような感熱層を有する直描型水なし平版印刷版原版にレーザーが照射されると、感熱層表面、すなわちインキ反発層と接する側の表面において、光熱変換物質の働きで、レーザー光の作用で分解しうる化合物(a)が分解する。また、光熱変換物質自体がレーザー光の作用で分解する場合もある。その際、窒素、酸素などのガスを発生することが好ましい。このような化合物の分解、および、ガスの作用で、インキ反発層と感熱層間の接着力が効果的に弱められる。一方、レーザー照射部の感熱層内部においては、熱硬化性の化合物(b)の硬化が進行する。その結果、レーザー照射部の感熱層の耐溶剤性が高められる。これらの結果、その後の現像工程において、レーザー照射部では、感熱層の極表面(インキ反発層と接する側の表面)とインキ反発層のみが除去され、感熱層の大部分は残存する。   When a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having such a heat-sensitive layer is irradiated with laser, the surface of the heat-sensitive layer, that is, the surface in contact with the ink repellent layer, acts as a function of the laser light by the action of the photothermal conversion substance. The compound (a), which can be decomposed by, is decomposed. Moreover, the photothermal conversion substance itself may be decomposed by the action of laser light. At that time, it is preferable to generate a gas such as nitrogen or oxygen. Such decomposition of the compound and the action of the gas effectively weaken the adhesive force between the ink repellent layer and the heat-sensitive layer. On the other hand, curing of the thermosetting compound (b) proceeds inside the heat-sensitive layer of the laser irradiation part. As a result, the solvent resistance of the heat sensitive layer of the laser irradiation part is enhanced. As a result, in the subsequent development step, only the extreme surface of the heat-sensitive layer (the surface on the side in contact with the ink repellent layer) and the ink repellent layer are removed in the laser irradiation portion, and most of the heat-sensitive layer remains.

このようにして得られた印刷版においては、レーザー照射部が画線部となり、レーザー非照射部が非画線部となる。画線部の感熱層は架橋しているので、耐溶剤性が高い。また、感熱層が残存しているため、セルの深さが浅い。これらの理由によって、この印刷版は微小網点の再現性やインキマイレージが良好であるというメリットを有する。   In the printing plate thus obtained, the laser irradiation part becomes the image line part, and the laser non-irradiation part becomes the non-image line part. Since the heat-sensitive layer in the image area is cross-linked, the solvent resistance is high. Further, since the heat-sensitive layer remains, the cell depth is shallow. For these reasons, this printing plate has the advantage that fine dot reproducibility and ink mileage are good.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版に使用するインキ反発層としては、例えば、ビニルアルコール類などからなる親水性層、アクリル酸やアクリル酸塩、スルホン酸やスルホン酸塩などを含む親水性層、特開平8−282142号公報、特開平8−282144号公報、特開平8−292558号公報、特開平9−54425号公報などで提案されている親水性膨潤層や、インキ反発層、フッ素化合物を含有する層などを用いることができるが、好ましくはインキ反発層である。インキ反発層としては、付加重合型のもの、縮合重合型のものいずれでも用いられる。   Examples of the ink repellent layer used in the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention include a hydrophilic layer made of vinyl alcohols and the like, a hydrophilic layer including acrylic acid, acrylate, sulfonic acid, sulfonate, and the like. A hydrophilic swelling layer proposed in JP-A-8-282142, JP-A-8-282144, JP-A-8-292558, JP-A-9-54425, etc., an ink repellent layer, Although a layer containing a fluorine compound can be used, an ink repellent layer is preferable. As the ink repellent layer, either an addition polymerization type or a condensation polymerization type can be used.

付加重合型のインキ反発層を構成する成分としては、好ましくは、ビニル基含有ポリジメチルシロキサン、SiH基含有ポリシロキサン、さらには硬化速度を制御する目的で反応抑制剤、および硬化触媒を含む。   The components constituting the addition polymerization type ink repellent layer preferably include a vinyl group-containing polydimethylsiloxane, a SiH group-containing polysiloxane, and a reaction inhibitor and a curing catalyst for the purpose of controlling the curing rate.

ビニル基含有ポリジメチルシロキサンは、下記一般式(II)で表される構造を有し、分子末端および/または主鎖中にビニル基を有するものである。   The vinyl group-containing polydimethylsiloxane has a structure represented by the following general formula (II) and has a vinyl group in the molecular terminal and / or main chain.

Figure 2014180845
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(式中、nは2以上の整数を示し、R、Rはそれぞれ炭素数1〜50の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数2〜50の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数4〜50の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少なくとも1種の基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい)。 (In the formula, n represents an integer of 2 or more, and R 4 and R 5 are each a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, and the number of carbon atoms. At least one group selected from the group of 4 to 50 substituted or unsubstituted aryl groups, which may be the same or different.

上記式中のRおよびRは全体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。また、ビニル基含有ポリジメチルシロキサンの分子量としては数千〜数十万のものが使用できるが、その取扱い性や得られる印刷版のインキ反発性、耐傷性などの観点から重量平均分子量1万〜100万、さらには5万〜60万のものを用いることが好ましい。 From the viewpoint of ink repellency of the printing plate, it is preferable that 50% or more of R 4 and R 5 in the above formula are methyl groups. The molecular weight of the vinyl group-containing polydimethylsiloxane can be from several thousands to several hundreds of thousands, but the weight average molecular weight is 10,000 to 10,000 from the viewpoints of handleability, ink repellency and scratch resistance of the resulting printing plate. It is preferable to use 1 million, more preferably 50,000 to 600,000.

SiH基含有ポリシロキサンとしては、分子鎖中、または末端にSiH基を有する、例えば下記一般式(III)〜(VI)で表されるような化合物を挙げることができる。   Examples of the SiH group-containing polysiloxane include compounds having SiH groups in the molecular chain or at the terminal, such as those represented by the following general formulas (III) to (VI).

Figure 2014180845
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(上記一般式(III)〜(VI)中、nはそれぞれ2以上の整数、mは1以上の整数を示す)。 (In the general formulas (III) to (VI), n represents an integer of 2 or more, and m represents an integer of 1 or more).

SiH基含有ポリシロキサン中におけるSiH基の量としては、2個以上、さらには3個以上であることが好ましい。SiH基含有ポリシロキサンの添加量としては、インキ反発層中に0.1〜20重量%であることが好ましく、さらに好ましくは1〜15重量%である。ポリジメチルシロキサンとの量比ということで言えば、SiH基/ポリジメチルシロキサンのビニル基のモル比が1.5〜30であることが好ましく、さらに好ましくは10〜20である。このモル比が1.5未満である場合には、インキ反発層の硬化が不足する場合があり、逆に30よりも大きい場合にはゴムの物性がもろくなり、印刷版の耐傷性などに悪影響を与え易くなるためである。   The amount of SiH groups in the SiH group-containing polysiloxane is preferably 2 or more, more preferably 3 or more. The addition amount of the SiH group-containing polysiloxane is preferably 0.1 to 20% by weight, more preferably 1 to 15% by weight in the ink repellent layer. Speaking of the quantitative ratio with polydimethylsiloxane, the molar ratio of SiH group / vinyl group of polydimethylsiloxane is preferably 1.5 to 30, and more preferably 10 to 20. When this molar ratio is less than 1.5, the ink repellent layer may be insufficiently cured. Conversely, when it is greater than 30, the physical properties of the rubber become brittle and adversely affect the scratch resistance of the printing plate. It is because it becomes easy to give.

インキ反発層に使用できる反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられるが、アセチレン基含有のアルコールなどが好ましく用いられる。反応抑制剤の好ましい添加量としては、インキ反発層中の0.01〜10重量%、さらに好ましくは0.1〜5重量%である。   Examples of the reaction inhibitor that can be used in the ink repellent layer include nitrogen-containing compounds, phosphorus compounds, unsaturated alcohols, and the like, and acetylene group-containing alcohols are preferably used. A preferable addition amount of the reaction inhibitor is 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight in the ink repellent layer.

インキ反発層に使用できる硬化触媒としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、マレイン酸などの有機カルボン酸、トルエンスルホン酸、ホウ酸等の酸類、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム等のアルカリ、アミン、およびチタンテトラプロポキシド、チタンテトラブトキシドなどの金属アルコキシド、鉄アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナートジプロポキシドなどの金属ジケテネート、金属の有機酸塩などを挙げることができる。これらの中では、金属の有機酸塩を添加することが好ましく、特に錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンから選ばれる金属の有機酸塩であることが好ましい。このような化合物の具体例の一部としては、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。
上記以外にも、第三遷移元素金属化合物が好ましく、より好ましくは白金化合物である。具体的には、白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキサン錯体などを一例として挙げることができる。このような硬化触媒の量は、インキ反発層中に固形分として好ましくは0.01〜20重量%、より好ましくは0.1〜10重量%であることが好ましい。添加する触媒量が0.01重量%未満である場合にはインキ反発層の硬化が不十分となり、さらに感熱層との接着性に問題を生じる場合がある。添加する触媒量が20重量%より多い場合にはインキ反発層組成物のポットライフに悪影響をもたらす。インキ反発層組成物中における白金などの金属の量で言えば、好ましくは10〜1000ppm、より好ましくは100〜500ppmである。
Examples of the curing catalyst that can be used in the ink repellent layer include organic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid and maleic acid, acids such as toluenesulfonic acid and boric acid, and alkalis such as potassium hydroxide, sodium hydroxide and lithium hydroxide. , Amines, metal alkoxides such as titanium tetrapropoxide and titanium tetrabutoxide, metal diketenates such as iron acetylacetonate and titanium acetylacetonate dipropoxide, and metal organic acid salts. Among these, it is preferable to add a metal organic acid salt, and particularly a metal organic acid salt selected from tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese. Specific examples of such compounds include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate.
In addition to the above, a third transition element metal compound is preferable, and a platinum compound is more preferable. Specific examples include platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin coordination platinum, alcohol-modified complexes of platinum, methylvinylpolysiloxane complexes of platinum, and the like. The amount of such a curing catalyst is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 10% by weight as a solid content in the ink repellent layer. When the amount of the catalyst to be added is less than 0.01% by weight, the ink repellent layer is not sufficiently cured, and there may be a problem in adhesion to the heat sensitive layer. When the amount of the catalyst added is more than 20% by weight, the pot life of the ink repellent layer composition is adversely affected. In terms of the amount of metal such as platinum in the ink repellent layer composition, it is preferably 10 to 1000 ppm, more preferably 100 to 500 ppm.

また、インキ反発層には上記の化合物の他に、水酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含有シランもしくはシロキサン、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤などを含有してもよい。シランカップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、ケトキシミンシラン類等が好ましく、特にビニル基を有するものや、ケトキシミンシラン類が好ましい。   In addition to the above-mentioned compounds, the ink-repelling layer improves the adhesion with hydroxyl group-containing organopolysiloxane, hydrolyzable functional group-containing silane or siloxane, and known fillers such as silica for the purpose of improving rubber strength. For the purpose, a known silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agent and the like may be contained. As the silane coupling agent, alkoxysilanes, acetoxysilanes, ketoximine silanes and the like are preferable, and those having a vinyl group and ketoximine silanes are particularly preferable.

また、インキ反発層には、水酸基含有ポリジメチルシロキサン、架橋剤(脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱アセトン型、脱アミド型、脱アミノキシ型など)などを含むことができる。ここで、水酸基含有ポリジメチルシロキサンは、下記一般式(II)で表される構造を有する。   The ink repellent layer contains a hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane, a crosslinking agent (deacetic acid type, deoxime type, dealcohol type, deamine type, deacetone type, deamid type, deamidoxy type, etc.). Can do. Here, the hydroxyl group-containing polydimethylsiloxane has a structure represented by the following general formula (II).

Figure 2014180845
Figure 2014180845

(式中、nは2以上の整数を示し、R、Rはそれぞれ炭素数1〜50の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数2〜50の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数4〜50の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少なくとも1種の基を示し、それぞれ同一であっても異なっていてもよい)。 (In the formula, n represents an integer of 2 or more, and R 4 and R 5 are each a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, and the number of carbon atoms. At least one group selected from the group of 4 to 50 substituted or unsubstituted aryl groups, which may be the same or different.

、Rについては、全体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。水酸基は分子末端および/または主鎖中に位置することができるが、好ましく用いられるものは分子鎖末端に水酸基を有するものである。また、分子量としては数千〜数十万のものが使用できるが、その取扱い性や得られた印刷版のインキ反発性、耐傷性などの観点から重量平均分子量1万〜20万、さらには3万〜15万のものを用いることが好ましい。 As for R 4 and R 5 , 50% or more of the whole is preferably a methyl group from the viewpoint of ink repellency of the printing plate. The hydroxyl group can be located at the molecular end and / or in the main chain, but those having a hydroxyl group at the molecular chain end are preferably used. Further, molecular weights of several thousands to several hundred thousand can be used, but weight average molecular weights of 10,000 to 200,000, and further 3 from the viewpoints of handling properties, ink repellency and scratch resistance of the obtained printing plate, and the like. It is preferable to use one having 10,000 to 150,000.

インキ反発層で好ましく用いられる架橋剤としては、下記一般式(VII)で表される、アセトキシシラン類、アルコキシシラン類、ケトキシミンシラン類、アリロキシシラン類などを挙げることができる。
(R4-nSiX (VII)
(式中、nは2〜4の整数を示し、Rはそれぞれ炭素数1以上の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされた基を示す。Xはそれぞれハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトキシミン基、アミノオキシ基、アミド基、アルケニルオキシ基から選ばれる官能基を示す。)
上記式において、加水分解性基の数nは3または4であることが好ましい。
Examples of the crosslinking agent preferably used in the ink repellent layer include acetoxysilanes, alkoxysilanes, ketoximine silanes, and allyloxysilanes represented by the following general formula (VII).
(R 6 ) 4-n SiX n (VII)
(In the formula, n represents an integer of 2 to 4, and R 6 represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group, or a combination thereof having 1 or more carbon atoms. A functional group selected from a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, a ketoximine group, an aminooxy group, an amide group, and an alkenyloxy group.
In the above formula, the number n of hydrolyzable groups is preferably 3 or 4.

一般式(VII)で表される具体的な化合物としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ビニルメチルビス(メチルエチルケトキシミン)シラン、メチルトリ(メチルエチルケトキシミン)シラン、ビニルトリ(メチルエチルケトキシミン)シラン、テトラ(メチルエチルケトキシミン)シラン、ジイソプロペノキシジメチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシラン、テトラアリロキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中では、インキ反発層の硬化速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、ケトキシミンシラン類が好ましい。   Specific compounds represented by the general formula (VII) include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane. , Tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriphenoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrisisopropenoxysilane, vinylmethylbis (methylethylketoximine) Silane, methyltri (methylethylketoximine) silane, vinyltri (methylethylketoximine) silane, tetra (methylethylketoximine) silane, diisopropenoxydimethyl Orchids, bird isopropenoxysilane carboxymethyl silane, but like tetra allyloxy silanes, but it is not limited thereto. Among these, acetoxysilanes and ketoximinesilanes are preferable from the viewpoints of the curing speed of the ink repellent layer, handling properties, and the like.

一般式(VII)で表される架橋剤の添加量としては、インキ反発層組成物の1.5〜20重量%であることが好ましく、さらに好ましくは3〜10重量%である。ポリジメチルシロキサンとの量比ということで言えば、官能基X/ポリジメチルシロキサンの水酸基のモル比が1.5〜10.0であることが好ましい。このモル比が1.5未満である場合には、インキ反発層組成物のゲル化が起こり易く、逆に10.0よりも大きい場合にはゴムの物性がもろくなり、印刷版の耐傷性などに悪影響を与え易くなるためである。   The addition amount of the crosslinking agent represented by the general formula (VII) is preferably 1.5 to 20% by weight, more preferably 3 to 10% by weight of the ink repellent layer composition. Speaking of the quantitative ratio with polydimethylsiloxane, the molar ratio of the functional group X / the hydroxyl group of polydimethylsiloxane is preferably 1.5 to 10.0. If this molar ratio is less than 1.5, gelation of the ink repellent layer composition is likely to occur, and conversely if it is greater than 10.0, the physical properties of the rubber become brittle, and the scratch resistance of the printing plate, etc. It is because it becomes easy to give a bad influence to.

また、インキ反発層には、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、さらには公知のシランカップリング剤を含有してもよい。   The ink repellent layer may contain a known filler such as silica and further a known silane coupling agent for the purpose of improving rubber strength.

本発明に使用するインキ反発層の膜厚は重量換算で0.5〜20g/mが好ましく、さらに好ましくは1〜4g/mである。膜厚が0.5g/mよりも小さい場合には印刷版のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が低下する傾向があり、20g/mよりも大きい場合には経済的見地から不利であるばかりでなく、現像性、インキマイレージが悪くなる。 The film thickness of the ink repellent layer used in the present invention is preferably 0.5 to 20 g / m 2 in terms of weight, more preferably 1 to 4 g / m 2 . When the film thickness is smaller than 0.5 g / m 2, the ink repellency, scratch resistance, and printing durability of the printing plate tend to be lowered. When the film thickness is larger than 20 g / m 2 , it is disadvantageous from an economic viewpoint. In addition to this, developability and ink mileage deteriorate.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版の好ましい製造方法を次に説明する。   A preferred method for producing the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described below.

上述の通りに作成された支持基板上に、感熱層組成物を塗布し、50〜180℃で数十秒から数分間加熱乾燥、必要により硬化させ、感熱層を得る。   A heat-sensitive layer composition is applied on the support substrate prepared as described above, dried by heating at 50 to 180 ° C. for several tens of seconds to several minutes, and cured as necessary to obtain a heat-sensitive layer.

さらに、その上にインキ反発層組成物を塗布し、50〜200℃の温度で数分間熱処理してインキ反発層を得る。   Furthermore, an ink repellent layer composition is applied thereon and heat-treated at a temperature of 50 to 200 ° C. for several minutes to obtain an ink repellent layer.

各組成物の塗工方法については、例えば、リバースロールコーター、エアーナイフコーター、グラビアコーター、ダイコーター、メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗布装置が挙げられるが、所望の膜厚、外観が得られればこの限りではない。   Examples of the coating method of each composition include a normal coater such as a reverse roll coater, an air knife coater, a gravure coater, a die coater, and a Meyer bar coater, or a spin coater such as a whaler. This is not limited as long as the thickness and appearance can be obtained.

その後、必要に応じてインキ反発層を保護する目的で保護フィルムをラミネートするか、あるいは保護層を形成してもよい。保護フィルムとしては、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルムなどが挙げられる。   Thereafter, a protective film may be laminated or a protective layer may be formed for the purpose of protecting the ink repellent layer as necessary. Examples of the protective film include polyester film, polypropylene film, polyvinyl alcohol film, saponified ethylene vinyl acetate copolymer film, and polyvinylidene chloride film.

次に、このようにして得られた直描型水なし平版印刷版原版から、印刷版を製造する製版方法について説明する。製版方法は、通常、少なくとも(1)露光工程、(2)レーザー照射部のインキ反発層と感熱層間の接着力を低下させる「前処理工程」、および(3)レーザー照射部のインキ反発層を剥離させる「現像工程」からなる。また、(4)画線部の感熱層を染色液(後処理液)で染色する「後処理工程」、および(5)前処理液や染色液を完全に洗い落とす「水洗工程」を加えてもよい。各工程について、詳述する。   Next, a plate making method for producing a printing plate from the directly drawn waterless lithographic printing plate precursor thus obtained will be described. The plate making method usually comprises at least (1) an exposure step, (2) a “pretreatment step” for reducing the adhesion between the ink repellent layer and the heat-sensitive layer in the laser-irradiated portion, and (3) an ink-repellent layer in the laser-irradiated portion. It consists of a “development process” for peeling. In addition, (4) a “post-treatment step” for dyeing the heat-sensitive layer in the image area with a staining solution (post-treatment solution), and (5) a “water-washing step” for completely washing off the pre-treatment solution and the staining solution. Good. Each step will be described in detail.

(1)露光工程
直描型水なし平版印刷版原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは保護フィルム上からレーザー光で所望の画像状に露光する。
(1) Exposure process The direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor is exposed to a desired image with a laser beam after peeling off the protective film or on the protective film.

露光工程で用いられるレーザー光源としては、通常、発光波長領域が300〜1500nmの範囲にあるものが用いられるが、これらの中でも近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザーやYAGレーザーが好ましく用いられる。具体的には、明室での版材の取扱い性などの観点から、780nm、808nm、830nm、1064nmの波長のレーザー光が製版に好ましく用いられる。
レーザー照射により感熱層表面に分解物を生じさせ、さらにレーザー照射により感熱層内部の硬化を進めるのである。
As the laser light source used in the exposure process, one having an emission wavelength region in the range of 300 to 1500 nm is usually used. Among these, a semiconductor laser or a YAG laser having an emission wavelength region near the near infrared region is used. Preferably used. Specifically, from the viewpoint of handling of the plate material in a bright room, laser beams having wavelengths of 780 nm, 808 nm, 830 nm, and 1064 nm are preferably used for plate making.
Decomposition is generated on the surface of the heat-sensitive layer by laser irradiation, and further curing of the inside of the heat-sensitive layer is advanced by laser irradiation.

(2)前処理工程
前処理工程は、所定温度に保持した前処理液中に、一定時間だけ版を浸漬させる工程である。
(2) Pretreatment step The pretreatment step is a step of immersing the plate in a pretreatment liquid maintained at a predetermined temperature for a predetermined time.

露光工程におけるレーザーの照射エネルギーが大きければ、前処理工程を経ずに、そのまま現像工程に進んでも、レーザー照射部のインキ反発層を剥離させることは可能である。しかし、照射エネルギーが小さい場合には、感熱層の変性が小さいため、現像工程のみでレーザー照射のON/OFFを感知することは難しく、現像不能となりやすい。レーザーの照射エネルギーを大きくした場合、印刷版のパターン形成に必要なエネルギーは大きなものとなりうる。また、あまり大きなエネルギーのレーザーを照射すると、感熱層は破壊され、現像後には感熱層が残存しにくくなり、先に述べた印刷時の不利を被ることになる。そこで、レーザー照射のON/OFFの差を増幅し、低エネルギーのレーザー照射部の現像を行うために、前処理液で版を処理する。   If the irradiation energy of the laser in the exposure step is large, the ink repellent layer in the laser irradiation portion can be peeled off without going through the pretreatment step and proceeding directly to the development step. However, when the irradiation energy is small, since the thermal layer is less modified, it is difficult to detect ON / OFF of laser irradiation only by the development process, and development is likely to be impossible. When the laser irradiation energy is increased, the energy required for pattern formation of the printing plate can be large. Further, when a laser with too much energy is irradiated, the heat-sensitive layer is destroyed, and it becomes difficult for the heat-sensitive layer to remain after development, thus suffering from the disadvantages in printing described above. Therefore, the plate is treated with a pretreatment liquid in order to amplify the ON / OFF difference of laser irradiation and develop the low-energy laser irradiation portion.

前処理工程では、30〜60℃の温度の前処理液に版を10〜100秒浸漬させることが好ましい。30℃未満の温度の前処理液に浸漬した場合、もしくは前処理液に浸漬した時間が10秒未満の場合には、感熱層の膨潤あるいは溶解が十分でなく、インキ反発層と感熱層間の接着力を十分に低下させることができない。また、60℃を超えた温度の前処理液に浸漬した場合、もしくは前処理液に浸漬した時間が100秒を超える場合には、感熱層が基板から剥離するなどの問題が生じる場合がある。   In the pretreatment step, the plate is preferably immersed in a pretreatment liquid at a temperature of 30 to 60 ° C. for 10 to 100 seconds. When immersed in a pretreatment liquid at a temperature of less than 30 ° C., or when immersed in the pretreatment liquid for less than 10 seconds, the thermal layer is not sufficiently swelled or dissolved, and the adhesion between the ink repellent layer and the thermal layer is insufficient. The power cannot be reduced sufficiently. Moreover, when immersed in the pretreatment liquid at a temperature exceeding 60 ° C., or when the immersion time in the pretreatment liquid exceeds 100 seconds, there may be a problem that the heat-sensitive layer peels off from the substrate.

前処理液中に版を浸漬させると、前処理液はインキ反発層中に浸透し、やがて感熱層まで到達する。照射部の感熱層はその上部において、熱分解物が生じていたり、あるいは前処理液に対する溶解性が向上していたりするので、感熱層上部は前処理液によって膨潤するかあるいは一部溶解して、インキ反発層と感熱層との間の接着力が低下する。この状態で印刷版面を軽く擦ると、照射部のインキ反発層は剥離し、下層の感熱層は露出してインキ着肉層となる。一方、未照射部の感熱層は前処理液に対して不溶あるいは難溶なため、インキ反発層は、感熱層と強力に接着しており、強く擦っても剥がれない。このようにして、未照射部のインキ反発層は現像されることなく、この部分がインキを反発し、水なし平版印刷版の画像形成がなされる。   When the plate is immersed in the pretreatment liquid, the pretreatment liquid penetrates into the ink repellent layer and eventually reaches the heat sensitive layer. The heat-sensitive layer of the irradiated part has a thermal decomposition product in the upper part, or the solubility in the pretreatment liquid is improved, so the upper part of the heat sensitive layer is swollen or partially dissolved by the pretreatment liquid. The adhesive force between the ink repellent layer and the heat-sensitive layer is reduced. When the printing plate surface is rubbed lightly in this state, the ink repellent layer in the irradiated area is peeled off, and the lower heat-sensitive layer is exposed to form an ink deposit layer. On the other hand, since the heat-sensitive layer in the unirradiated part is insoluble or hardly soluble in the pretreatment liquid, the ink repellent layer is strongly bonded to the heat-sensitive layer and does not peel off even when rubbed strongly. In this manner, the ink repellent layer in the non-irradiated portion is not developed, and this portion repels the ink, so that the waterless planographic printing plate is imaged.

このような機構によって印刷版の高感度化が行われるため、前処理液の選択は重要である。感熱層の溶解能が高い前処理液を用いると、未照射部のインキ反発層が剥離し、その度合いによっては感熱層までもが現像されてしまう。その結果、前処理液などを汚染することによって、前処理液の寿命を縮める。一方、感熱層の溶解能が低い前処理液を用いると、照射部のインキ反発層さえも現像することができず、印刷版の高感度化は果たされない。   Since the sensitivity of the printing plate is increased by such a mechanism, the selection of the pretreatment liquid is important. When a pretreatment liquid having a high heat-sensitive layer dissolving ability is used, the ink repellent layer in the unirradiated part is peeled off, and depending on the degree, even the heat-sensitive layer is developed. As a result, the life of the pretreatment liquid is shortened by contaminating the pretreatment liquid and the like. On the other hand, if a pretreatment liquid having a low heat-sensitive layer solubility is used, even the ink repellent layer in the irradiated area cannot be developed, and the sensitivity of the printing plate cannot be increased.

このような前処理液としては、水にアルコールやケトン、エステル、カルボン酸、アミンなどの極性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などの少なくとも1種類からなる溶媒に極性溶媒を少なくとも1種類添加したもの、あるいは極性溶媒が用いられる。さらに、下記一般式(VIII)で示されるグリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物を主成分として用いることが好ましい。   As such a pretreatment liquid, a solvent formed by adding a polar solvent such as alcohol, ketone, ester, carboxylic acid or amine to water, or a solvent comprising at least one kind such as aliphatic hydrocarbons and aromatic hydrocarbons. A polar solvent is used in which at least one kind of polar solvent is added. Furthermore, it is preferable to use a glycol compound or glycol ether compound represented by the following general formula (VIII) as a main component.

Figure 2014180845
Figure 2014180845

(ここで、Rは水素原子あるいは炭素数1〜5のアルキル基を示し、RおよびRは水素原子あるいは炭素数1〜15のアルキル基を示し、kは1〜12の整数である)。 (Here, R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 8 and R 9 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, and k is an integer of 1 to 12). ).

一般に、グリコール化合物に比べると、グリコールエーテル化合物の方が感熱層に対する溶解能は高い。よって、両者の中で適当な化合物を選択するか、両者を混合することによって、感熱層の硬化具合の異なる版材に対して、最適な選択的溶解性を有する前処理液を得ることができる。前処理液としての効果は、感熱層の選択的溶解性だけでなく、インキ反発層の膨潤能も加味される。インキ反発層が膨潤すると、インキ反発層を剥がしやすくなるため、たとえ感熱層の溶解性が低い前処理液でも現像しやすくなる。ただし、インキ反発層が膨潤しすぎると現像時に擦り傷が付きやすくなるので、適当な範囲にとどめる必要がある。具体的には、インキ反発層の膨潤率が30%以下のものが好ましく、さらに好ましくは10%以下である。例えばグリコール化合物によるシリコーンゴムを用いたインキ反発層の膨潤率はほぼ0%であり、ほとんどインキ反発層を膨潤させないので、単に感熱層の選択的溶解性のみが前処理液としての適性に影響する。一方、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドなどの繰り返し単位が少なく、RやRにある程度長い直鎖の官能基を導入すると、インキ反発層の膨潤能が高くなる。グリコールモノエーテルとグリコールジエーテルとでは、ジエーテルの方が、シリコーンゴムの膨潤能が一般的に高い。このような場合には、感熱層の選択的溶解性とシリコーンゴムの膨潤能の両者を考慮して前処理液の設計を行う。 In general, the glycol ether compound has a higher solubility in the heat-sensitive layer than the glycol compound. Therefore, by selecting an appropriate compound among them or mixing them, a pretreatment liquid having optimal selective solubility can be obtained with respect to plate materials having different heat-sensitive layer curing conditions. . The effect as the pretreatment liquid takes into account not only the selective solubility of the heat-sensitive layer but also the swelling ability of the ink repellent layer. When the ink repellent layer swells, it becomes easy to peel off the ink repellent layer, so that even a pretreatment liquid having a low heat-sensitive layer solubility can be easily developed. However, if the ink repellent layer swells too much, it becomes easy to be scratched during development, so it is necessary to keep it within an appropriate range. Specifically, the ink repellent layer preferably has a swelling ratio of 30% or less, more preferably 10% or less. For example, the swelling rate of the ink repellent layer using silicone rubber with a glycol compound is almost 0%, and the ink repellent layer hardly swells. Therefore, only the selective solubility of the heat-sensitive layer affects the suitability as a pretreatment liquid. . On the other hand, when a linear functional group having a small number of repeating units such as ethylene oxide and propylene oxide and having a relatively long linear function is introduced into R 8 and R 9 , the swelling ability of the ink repellent layer is increased. Among glycol monoethers and glycol diethers, diethers generally have a higher swelling capacity for silicone rubber. In such a case, the pretreatment liquid is designed in consideration of both the selective solubility of the heat sensitive layer and the swelling ability of the silicone rubber.

グリコール化合物としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール(1,2−ブタンジオール)、2,3−ブタンジオール、一般式(VIII)における繰り返し単位数k=2〜12のポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げられる。これらのグリコール化合物は、単独あるいは2種以上混合して用いることができる。これらの中で、選択的溶解性の面から、一般式(VIII)における繰り返し単位数k=2〜4であるジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコールが前処理液として特に好ましく用いられる。   Examples of the glycol compound include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol (1,2-butanediol), 2,3-butanediol, polyethylene glycol having a repeating unit number k = 2 to 12 in the general formula (VIII), polypropylene glycol, and the like. Is mentioned. These glycol compounds can be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of selective solubility, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol having a repeating unit number k = 2 to 4 in formula (VIII) Is particularly preferably used as a pretreatment liquid.

グリコールエーテル化合物として、上記グリコール化合物のモノアルキルエーテルおよびジアルキルエーテルが挙げられる。RやRのアルキル基として、メチル基、エチル基、プロピル基、iso−プロピル基、ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デカニル基、ウンデカニル基、ドデカニル基が挙げられる。好ましく用いられるグリコールエーテル化合物としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(エチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル(プロピルカルビトール)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル(ジグライム)、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)、トリエチレングリコールメチルエチルエーテル、トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテル、テトラエチレングリコールモノプロピルエーテル、テトラエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラエチレングリコール−2−エチルヘキシルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル(テトラグライム)、テトラエチレングリコールメチルエチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノエチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノプロピルエーテル、テトラプロピレングリコールモノブチルエーテル、テトラプロピレングリコールモノヘキシルエーテル、テトラプロピレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル等が挙げられる。 Examples of the glycol ether compound include monoalkyl ethers and dialkyl ethers of the above glycol compounds. Examples of the alkyl group for R 8 and R 9 include methyl group, ethyl group, propyl group, iso-propyl group, butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group, heptyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, 2 -Ethylhexyl group, nonyl group, decanyl group, undecanyl group, dodecanyl group may be mentioned. Preferred glycol ether compounds include diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), diethylene glycol monoethyl ether (ethyl carbitol), diethylene glycol monopropyl ether (propyl carbitol), diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), diethylene glycol monohexyl. Ether, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, diethylene glycol dimethyl ether (diglyme), diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, trie Lenglycol monobutyl ether, triethylene glycol monohexyl ether, triethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, triethylene glycol dimethyl ether (triglyme), triethylene glycol methyl ethyl ether, triethylene glycol diethyl ether, tetraethylene glycol monomethyl ether, tetra Ethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol monopropyl ether, tetraethylene glycol monobutyl ether, tetraethylene glycol monohexyl ether, tetraethylene glycol-2-ethylhexyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether (tetraglyme), tetraethylene glycol methyl ethyl ether Tetra Tylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, dipropylene glycol monohexyl ether, dipropylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, tripropylene Glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monopropyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monohexyl ether, tripropylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, tetrapropylene glycol monomethyl ether, tetrapropylene glycol Monoech Examples include ether, tetrapropylene glycol monopropyl ether, tetrapropylene glycol monobutyl ether, tetrapropylene glycol monohexyl ether, and tetrapropylene glycol mono-2-ethylhexyl ether.

上記一般式(VIII)で表されるグリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物の前処理液中の含有量は、50〜100重量%が好ましく、70〜95重量%がより好ましい。50重量%より少ないと感熱層の選択的溶解性に劣るため、画像の再現性が低下する。   The content of the glycol compound or glycol ether compound represented by the general formula (VIII) in the pretreatment liquid is preferably 50 to 100% by weight, and more preferably 70 to 95% by weight. If it is less than 50% by weight, the selective solubility of the heat-sensitive layer is inferior, so that the image reproducibility is lowered.

また、前処理液には、アミン化合物を共存させることも好ましい。アミン化合物は選択的溶解性には劣るが、感熱層の溶解能が高いため、高感度化の目的で、前処理液中に副成分として加えてもよい。   Moreover, it is also preferable to make an amine compound coexist in a pretreatment liquid. Although the amine compound is inferior in selective solubility, it may be added as a secondary component in the pretreatment liquid for the purpose of increasing the sensitivity because the heat-sensitive layer has high solubility.

アミン化合物として、エチレングリコールアミン、ジエチレングリコールアミン、トリエチレングリコールアミン、テトラエチレングリコールアミン、プロピレングリコールアミン、ジプロピレングリコールアミン、トリプロピレングリコールアミンのようなグリコールアミン化合物や、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、アミルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、メチルジエチルアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ポリエチレンイミン、ベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジエチルベンジルアミン、N,N−ジプロピルベンジルアミン、o−、またはm−、p−メトキシ、またはメチルベンジルアミン、N,N−ジ(メトキシベンジル)アミン、β−フェニルエチルアミン、γ−フェニルプロピルアミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、モノメチルアニリン、ジメチルアニリン、トルイジン、αまたはβナフチルアミン、o−、またはm−、またはp−フェニレンジアミン、アミノ安息香酸、2−(2−アミノエチル)エタノール、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、2−アミノ−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオールなどが挙げられる。   As amine compounds, glycol amine compounds such as ethylene glycol amine, diethylene glycol amine, triethylene glycol amine, tetraethylene glycol amine, propylene glycol amine, dipropylene glycol amine, tripropylene glycol amine, methylamine, ethylamine, dimethylamine, Diethylamine, trimethylamine, triethylamine, propylamine, butylamine, amylamine, dipropylamine, dibutylamine, diamylamine, tripropylamine, tributylamine, methyldiethylamine, ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, polyethyleneimine, benzylamine, N, N-dimethylbenzylamine, N, N-diethylbenzyl , N, N-dipropylbenzylamine, o-, or m-, p-methoxy, or methylbenzylamine, N, N-di (methoxybenzyl) amine, β-phenylethylamine, γ-phenylpropylamine, cyclohexylamine Aniline, monomethylaniline, dimethylaniline, toluidine, α or β naphthylamine, o- or m-, or p-phenylenediamine, aminobenzoic acid, 2- (2-aminoethyl) ethanol, 2-amino-2-methyl -1,3-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, and the like.

アミン化合物の前処理液中の含有量は、25重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。25重量%より多いと、感熱層に対する溶解力が強くなるため、画線部のインキ反発層のみでなく、非画線部まで剥離しやすくなるため、画像を再現することが困難になる。   The content of the amine compound in the pretreatment liquid is preferably 25% by weight or less, and more preferably 15% by weight or less. If the amount is more than 25% by weight, the dissolving power in the heat-sensitive layer becomes strong, and not only the ink repellent layer in the image area but also the non-image area is easily peeled off, making it difficult to reproduce the image.

また前処理液中には、必要に応じて、水、アルコール類、カルボン酸類、エステル類、脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタンなど)、脂肪族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)、ハロゲン化炭化水素類(トリクレンなど)を添加してもよい。また、現像時に版面を擦るときに傷が入るのを防止するために、前処理液中に硫酸塩、燐酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩などの界面活性剤を加えてもよい。   In the pretreatment liquid, water, alcohols, carboxylic acids, esters, aliphatic hydrocarbons (hexane, heptane, etc.), aliphatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated as necessary Hydrocarbons (such as trichlene) may be added. Further, a surfactant such as sulfate, phosphate, carboxylate or sulfonate may be added to the pretreatment liquid in order to prevent scratches when rubbing the plate surface during development.

(3)現像工程
前処理により、レーザー照射部では、感熱層表面が膨潤あるいは一部溶解しているため、選択的にインキ反発層が剥がれやすくなっている。そこで、水、その他の溶剤を用いて版面を擦ることにより現像を行う。水による現像が廃液の点から最も好ましい。また、前処理液は親水性化合物を主成分とする。したがって、印刷版に浸透している処理液を水で洗い落とすことができる点においても、水による現像が好ましい。温水や水蒸気を版面に噴射することによっても現像を行ってもよい。現像性を上げるために、水に前処理液を加えたものを用いてもよい。現像液の温度は任意でよいが、10〜50℃が好ましい。
(3) Development process By the pre-treatment, the surface of the heat-sensitive layer is swollen or partially dissolved in the laser irradiation part, and therefore the ink repellent layer is easily selectively peeled off. Therefore, development is performed by rubbing the plate surface with water or another solvent. Development with water is most preferable from the viewpoint of waste liquid. The pretreatment liquid contains a hydrophilic compound as a main component. Therefore, development with water is also preferred in that the processing liquid penetrating the printing plate can be washed away with water. Development may also be performed by spraying warm water or water vapor onto the plate surface. In order to improve developability, water added with a pretreatment liquid may be used. Although the temperature of a developing solution may be arbitrary, 10-50 degreeC is preferable.

(4)後処理工程
現像により形成された画線部の確認を容易にするために、染色液で染色する後処理工程を設けてもよい。染色液に用いられる染料としては、塩基性染料、酸性染料、直接染料、分散染料、および反応性染料などの中から単独で、あるいは2種以上のものを混合して用いることができる。なかでも、水溶性の塩基性染料および酸性染料が好ましく用いられる。
(4) Post-processing step In order to facilitate confirmation of the image area formed by development, a post-processing step of dyeing with a staining solution may be provided. As a dye used in the dyeing solution, a basic dye, an acid dye, a direct dye, a disperse dye, a reactive dye, or the like can be used alone or in admixture of two or more. Of these, water-soluble basic dyes and acid dyes are preferably used.

塩基性染料としては、”クリスタルバイオレット”、”エチルバイオレット”、”ビクトリアピュアブルー”、”ビクトリアブルー”、”メチルバイオレット”、”DIABACIS MAGENTA”(三菱化学(株)製)、”AIZEN BASIC CYANINE 6GH”(保土ヶ谷化学工業(株)製)、”PRIMOCYANINE BX CONC.”(住友化学(株)製)、”ASTRAZON BLUE G”(FARBENFARRIKEN BAYER 製)、”DIACRYL SUPRA BRILLIANT 2B”(三菱化学(株)製)、”AIZEN CATHILON TURQUOISE BLUE LH”(保土ヶ谷化学工業(株)製)、”AIZEN DIAMOND GREEN GH”(保土ヶ谷化学工業(株)製)、”AIZEN MALACHITE GREEN”(保土ヶ谷化学工業(株)製)などが用いられる。   Basic dyes include “Crystal Violet”, “Ethyl Violet”, “Victoria Pure Blue”, “Victoria Blue”, “Methyl Violet”, “DIABACIS MAGENTA” (Mitsubishi Chemical Corporation), “AIZEN BASIC CYANINE 6GH” "(Made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.)," PRIMOCYANINE BX CONC. "(Made by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)," ASTRAZON BLUE G "(made by FARBENFARRIKEN BAYER)," DIACRYL SUPRA BRILLIANT 2B "(made by Mitsubishi Chemical Corporation) ), “AIZEN CATHILON TURQUOISE BLUE LH” (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), “AIZEN DIAMOND GREEN GH” (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), “AIZEN MALACHITE GREEN” (made by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), etc. Is used.

酸性染料としては、”ACID VIORET 5B”(保土ヶ谷化学工業(株)製)、”KITON BLUE A”(CIBA 製)、”PATENT BLUE AF”(BASF 製)、”RAKUTO BRILLIANT BLUE FCF”(洛東化学工業(株)製)、”BRILLIANT ACID BLUE R”(GEIGY 製)、”KAYANOL CYANINE 6B”(日本化薬(株)製)、”SUPRANOL CYANINE G”(FARBENFARRIKEN BAYER 製)、”ORIENT SOLUBLE BLUE OBB”(オリエント化学工業(株)製)、”ACID BRILLIANT BLUE 5G”(中外化成(株)製)、”ACID BRILLIANT BLUE FFR”(中外化成(株)製)、”ACID GREEN GBH”(高岡化学工業(株)製)、”ACID BRILLIANT MILLING GREEN B”(保土ヶ谷化学工業(株)製)などが用いられる。   Acid dyes include “ACID VIORET 5B” (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), “KITON BLUE A” (CIBA), “PATENT BLUE AF” (BASF), “RAKUTO BRILLIANT BLUE FCF” (Saito Chemical) Kogyo Co., Ltd.), “BRILLIANT ACID BLUE R” (GEIGY), “KAYANOL CYANINE 6B” (Nippon Kayaku Co., Ltd.), “SUPRANOL CYANINE G” (FARBENFARRIKEN BAYER), “ORIENT SOLUBLE BLUE OBB” (Orient Chemical Industries, Ltd.), “ACID BRILLIANT BLUE 5G” (manufactured by Chugai Kasei Co., Ltd.), “ACID BRILLIANT BLUE FFR” (manufactured by Chugai Kasei Co., Ltd.), “ACID GREEN GBH” (Takaoka Chemical Industries, Ltd.) And ACID BRILLIANT MILLING GREEN B (Hodogaya Chemical Co., Ltd.) are used.

これら染料の染色液中の含有量は、0.01〜10重量%が好ましく、0.1〜5重量%がより好ましい。   The content of these dyes in the dyeing solution is preferably 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

染色液の溶媒としては、水、アルコール類、グリコール類、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類が用いられ。これらの溶媒は単独あるいは2種以上混合して用いられる。グリコール類、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類は、前処理液としての効果も有するので、仮に現像工程でレーザー照射部のインキ反発層が現像できず付着していても、後処理工程で現像させることもできる。   Water, alcohols, glycols, glycol monoalkyl ethers, glycol dialkyl ethers are used as the solvent for the dyeing solution. These solvents are used alone or in combination of two or more. Glycols, glycol monoalkyl ethers, and glycol dialkyl ethers also have an effect as a pretreatment liquid. Therefore, even if the ink repellent layer in the laser irradiated part cannot be developed in the development process and is attached, It can also be developed.

その他、染色液には染色助剤、有機酸、無機酸、消泡剤、可塑剤、界面活性剤を任意に添加してもよい。   In addition, a dyeing assistant, an organic acid, an inorganic acid, an antifoaming agent, a plasticizer, and a surfactant may be optionally added to the dyeing solution.

染色液の温度は任意でよいが、10〜50℃が好ましい。また、現像液中に上記染料を添加しておいて、現像と同時に画像部の染色化を行うこともできる。   The temperature of the staining solution may be arbitrary, but is preferably 10 to 50 ° C. It is also possible to dye the image area simultaneously with development by adding the above dye to the developer.

(5)水洗工程
版面に前処理液や染色液が浸透したままになっていると、経時により非画線部のインキ反発層が剥離しやすくなる場合があるため、前処理液や染色液を版面から完全に洗い落とす水洗工程を設けてもよい。水洗水の温度は任意でよいが、10〜50℃が好ましい。
(5) Washing step If the pretreatment liquid or the dyeing solution is still infiltrated into the plate surface, the ink repellent layer in the non-image area may easily peel off over time. You may provide the water washing process which wash | cleans completely from a printing plate surface. The temperature of the rinsing water may be arbitrary, but is preferably 10 to 50 ° C.

これまで述べてきた工程による現像方法としては、手による現像でも自動現像装置による現像のどちらでも良い。手による現像では、これらの前処理液、現像液および染色液を順次不織布、脱脂綿、布、スポンジなどに含浸させて版面を拭き取ることによって行うことができる。自動現像装置を用いる場合には、前処理部、現像部および後処理部がこの順に設けられているものが好ましい。場合によっては後処理部の後方にさらに水洗部が設けられていてもよい。このような自動現像機としては東レ(株)製の”TWL−1160”、”TWL−650”、あるいは特開平4−2265号、特開平5−2272号、特開平5−6000号などに開示されている現像装置が挙げられる。   The development method according to the steps described so far may be either manual development or development by an automatic development apparatus. Development by hand can be carried out by wiping the plate surface by impregnating a nonwoven fabric, absorbent cotton, cloth, sponge or the like with these pretreatment liquid, developer and dyeing liquid in order. In the case of using an automatic developing device, it is preferable that a preprocessing unit, a developing unit, and a post-processing unit are provided in this order. In some cases, a water washing section may be further provided behind the post-processing section. Such automatic processors are disclosed in “TWL-1160” and “TWL-650” manufactured by Toray Industries, Inc., or in Japanese Patent Laid-Open Nos. 4-2265, 5-2272, and 5-6000. The developing device which has been used.

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

<支持基板を構成する合成樹脂フィルム、シートの透過率の測定方法>
支持基板が透明な場合は、日立製作所製U−3210自記分光光度計にセットし、波長300〜900nmの光に対する透過率を測定した。
<Method of measuring transmittance of synthetic resin film and sheet constituting supporting substrate>
When the support substrate was transparent, it was set in a U-3210 self-recording spectrophotometer manufactured by Hitachi, Ltd., and the transmittance with respect to light having a wavelength of 300 to 900 nm was measured.

支持基板が不透明な場合は、U−3210自記分光光度計に積分球を取り付けて、透過率の代わりに波長300〜900nmの反射率を測定した。反射法で測定した場合、基板表面で反射した光は、フィルム、シートを2回通過することになるため、反射法で測定した透過率は、透過法で測定した場合の2倍の膜厚に相当する値が得られる。この値は、よく知られたLambert−Berr法により、透過法で測定した場合の値に換算することができる。   When the support substrate was opaque, an integrating sphere was attached to the U-3210 self-recording spectrophotometer, and the reflectance at a wavelength of 300 to 900 nm was measured instead of the transmittance. When measured by the reflection method, the light reflected by the substrate surface passes through the film and sheet twice, so the transmittance measured by the reflection method is twice the film thickness when measured by the transmission method. The corresponding value is obtained. This value can be converted into a value measured by the transmission method by the well-known Lambert-Berr method.

<版面読取性の判定方法>
直描型水なし平版印刷版原版を露光および現像して、2400dpiで、それぞれ1、2、3、4、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、95、96、97、98、99%の網点が設けられた印刷版を作製した。
<Method of judging plate surface readability>
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor is exposed and developed at 2,400 dpi, 1, 2, 3, 4, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 95, respectively. Printing plates having 96, 97, 98, and 99% halftone dots were prepared.

得られた印刷版は網点面積率測定装置iCPlateII(X−Rite社製)を用いて網点面積率を測定した。所定の網点面積として表示されたものを「○」、所定の網点面積から3%以上乖離して表示されたものや、エラー表示が発生したものを「×」とした。   The obtained printing plate was measured for dot area ratio using a dot area ratio measuring device iCPlate II (manufactured by X-Rite). “◯” indicates that the predetermined halftone dot area is displayed, and “X” indicates that the predetermined halftone dot area is displayed with a deviation of 3% or more from the predetermined halftone dot area.

<異物欠陥の判定方法>
サイズ1030×800mmサイズの直描型水なし平版印刷版原版について、条件毎に10枚の表面を目視観察し、版表面に存在する最大辺が400μm以上の異物欠陥の個数を数え、異物欠陥が無い場合を「○」、1個でも発見された場合を「×」とした。
<Determination method for foreign matter defects>
For a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of size 1030 × 800 mm, visually observe the surface of 10 sheets for each condition, count the number of foreign matter defects with a maximum side of 400 μm or more present on the plate surface, The case where there was no “◯” was marked as “x” when even one was found.

<画像再現性の測定方法>
直描型水なし平版印刷版原版を露光および現像して、2400dpiで、それぞれ1、2、3、4、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90、95、96、97、98、99%の網点が設けられた印刷版を作製した。
<Measurement method of image reproducibility>
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor is exposed and developed at 2,400 dpi, 1, 2, 3, 4, 5, 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, 90, 95, respectively. Printing plates having 96, 97, 98, and 99% halftone dots were prepared.

得られた印刷版をルーペで観察し、それぞれの網点の再現性を調べた。1〜99%の網点の全てが再現できているものを「○」、網点に欠けや素抜けが見られ不完全なものを「×」とした。   The obtained printing plate was observed with a magnifying glass, and the reproducibility of each halftone dot was examined. The case where all of the 1 to 99% halftone dots were reproducible was indicated as “◯”, and the halftone dots lacking or missing were indicated as “x”.

<耐刷性の測定方法>
直描型水なし平版印刷版原版を未露光で現像した版を印刷機((株)小森コーポレーション社製 リスロンL−426)にセットし、インキ、紙の供給がない状態で空運転を実施し、ブランケットと版との接触回数毎に版表面のインキ反発層の損傷および版の変形、破断の有無を確認した。接触3万回以上でも全く損傷、変形、破断など問題がない場合を「◎」、1万回以上3万回未満で問題がない場合を「○」、1万回未満で問題が発生した場合を「×」とした。
<Measurement method of printing durability>
A plate obtained by developing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor without exposure to light is set in a printing machine (Lislon L-426, manufactured by Komori Corporation), and is run empty without ink or paper being supplied. For each contact between the blanket and the plate, the ink repellent layer on the plate surface was damaged and the plate was deformed or broken. “◎” if there is no problem such as damage, deformation or breakage even after contact 30,000 times or more “○” if there is no problem if it is 10,000 times or more and less than 30,000 times. Was marked “x”.

<支持基板作製用樹脂組成物の組成>
(a)酸化チタン分散液:チタンマスター(住化カラー(株)製):21.1wt%
(b)ポリウレタン樹脂:サンプレンLQ−T1331D(三洋化成(株)製):31.0wt%
(c)エポキシ樹脂:エポキシ1010DMF(ペトロケミカルス(株)製):9.5wt%
(d)アルミニウムトリス(アセチルアセトネート):TR−25D(川研ファインケミカル(株)製):3.6wt%
(e)ビニル系重合物:ディスパロンLC951(楠本化成(株)製):0.2wt%
(f)ジメチルホルムアミド:9.4wt%
(g)メチルエチルケトン:25.2wt%
<感熱層組成物の組成>
(a)フェノールノボラック樹脂:スミライトレジンPR53195(住友ベークライト(株)製):11.4wt%
(b)ポリウレタン樹脂:サンプレンLQ−T1331D(三洋化成(株)製):9.5wt%
(c)架橋剤:SP−Y08(東レファインケミカル(株)製):2.3wt%
(d)赤外線吸収染料:YKR−2016(山本化成(株)製):1.2wt%
(e)チタンジ−n−ブトキサイドビス(2,4−ペンタンジオネート):ナーセムチタン(日本化学産業(株)製):2.9wt%
(f)エタノール:4.9wt%
(g)ターシャリーブタノール:20.3wt%
(h)テトラヒドロフラン:47.5wt%
<インキ反発層組成物の組成>
(a)CY54−51Base(東レ・ダウコーニング(株)製):9.8wt%
(b)ビニルトリ(メチルエチルケトキシミン)シラン:0.5wt%
(c)OS3000(Honeywell社製)0.2wt%
(d)ネオスタンU−200(日東化成(株)製):微量
(e)アイソパーE(エクソンモービル(株)製):89.5wt%
<共通の製造、刷版条件>
感熱層:膜厚1.4g/m、乾燥時間:140℃、80秒
インキ反発層:膜厚:2.1g/m:135℃、80秒
プレートセッター:トレンドセッター800カンタム(Kodak(株)製)半導体レーザー(波長830nm)
自動現像機:TWL−1160F(東レ(株)製)
前処理液:CP−Y(東レ(株)製)
後処理液:NA−1(東レ(株)製)
搬送速度:80cm/分
(実施例1)
上記断熱層溶液を加熱、乾燥させることによって、厚み0.3mmの合成樹脂シート基板を予め作成した。このシートについて、波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で1%以下であった。
<Composition of resin composition for preparing support substrate>
(A) Titanium oxide dispersion: Titanium master (manufactured by Sumika Color Co., Ltd.): 21.1 wt%
(B) Polyurethane resin: Samprene LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.): 31.0 wt%
(C) Epoxy resin: Epoxy 1010 DMF (manufactured by Petrochemicals): 9.5 wt%
(D) Aluminum tris (acetylacetonate): TR-25D (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.): 3.6 wt%
(E) Vinyl polymer: Disparon LC951 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.): 0.2 wt%
(F) Dimethylformamide: 9.4 wt%
(G) Methyl ethyl ketone: 25.2 wt%
<Composition of heat-sensitive layer composition>
(A) Phenol novolac resin: Sumilite resin PR53195 (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.): 11.4 wt%
(B) Polyurethane resin: Samprene LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.): 9.5 wt%
(C) Crosslinking agent: SP-Y08 (manufactured by Toray Fine Chemical Co., Ltd.): 2.3 wt%
(D) Infrared absorbing dye: YKR-2016 (manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.): 1.2 wt%
(E) Titanium di-n-butoxide bis (2,4-pentanedionate): Nursem titanium (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.): 2.9 wt%
(F) Ethanol: 4.9 wt%
(G) Tertiary butanol: 20.3 wt%
(H) Tetrahydrofuran: 47.5 wt%
<Composition of ink repellent layer composition>
(A) CY54-51Base (manufactured by Dow Corning Toray): 9.8 wt%
(B) Vinyltri (methylethylketoximine) silane: 0.5 wt%
(C) OS3000 (Honeywell) 0.2 wt%
(D) Neostan U-200 (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.): Trace amount (e) Isopar E (manufactured by ExxonMobil Co., Ltd.): 89.5 wt%
<Common manufacturing and printing plate conditions>
Heat sensitive layer: film thickness 1.4 g / m 2 , drying time: 140 ° C., 80 seconds ink repellent layer: film thickness: 2.1 g / m 2 : 135 ° C., 80 seconds plate setter: trend setter 800 quanta (Kodak Corporation ) Made) semiconductor laser (wavelength 830nm)
Automatic processor: TWL-1160F (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Pretreatment liquid: CP-Y (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Post-treatment liquid: NA-1 (manufactured by Toray Industries, Inc.)
Conveying speed: 80 cm / min (Example 1)
A synthetic resin sheet substrate having a thickness of 0.3 mm was prepared in advance by heating and drying the heat insulation layer solution. About this sheet | seat, when the transmittance | permeability of light with a wavelength of 300-900 nm was measured with the spectrophotometer, it was 1% or less in all the wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were sequentially formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例2)
板厚み0.29mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を加熱、乾燥させて作成した厚み約10μmの樹脂シートをラミネートし、基板合計の厚みを0.30mmとした支持基板を予め作成した。このシートについて、波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 2)
A resin sheet having a thickness of about 10 μm prepared by heating and drying the heat insulating layer solution having the same composition as in Example 1 is laminated on a 0.29 mm aluminum plate (manufactured by Furukawa Sky Co., Ltd.) to obtain the total thickness of the substrate. A support substrate having a thickness of 0.30 mm was prepared in advance. About this sheet | seat, when the transmittance | permeability of light with a wavelength of 300-900 nm was measured with the spectrophotometer, it was 2% or less in all the wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were sequentially formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例3)
板厚み0.44mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を加熱、乾燥させて作成した厚み約10μmの樹脂シートをラミネートし、基板合計の厚みを0.45mmとした支持基板を予め作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 3)
A resin sheet having a thickness of about 10 μm prepared by heating and drying the heat insulating layer solution having the same composition as in Example 1 is laminated on a 0.44 mm aluminum plate (Furukawa Sky Co., Ltd.), and the total thickness of the substrate is obtained. A support substrate having a thickness of 0.45 mm was prepared in advance. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 2% or less at all wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例4)
板厚み0.09mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を加熱、乾燥させて作成した厚み約6μmの樹脂シートをラミネートし、基板合計の厚みを0.10mmとした支持基板を予め作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で15%以下であった。
Example 4
A resin sheet having a thickness of about 6 μm prepared by heating and drying a heat insulating layer solution having the same composition as in Example 1 is laminated on a 0.09 mm thick aluminum plate (Furukawa Sky Co., Ltd.), and the total thickness of the substrate is obtained. A support substrate having a thickness of 0.10 mm was prepared in advance. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 15% or less at all wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were sequentially formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例5)
アルミ板上に白色PET樹脂をラミネートした、板厚み0.30mmのハイペット(東洋鋼鈑(株)製)について、波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 5)
When the transmittance of light having a wavelength of 300 to 900 nm was measured with a spectrophotometer for a high pet (made by Toyo Kohan Co., Ltd.) having a plate thickness of 0.30 mm laminated with a white PET resin on an aluminum plate, The wavelength was 2% or less.

次に、このハイペット上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed in this order on this Hypet under the above conditions to produce a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例6)
鉄板上に白色PET樹脂をラミネートした、板厚み0.30mmのユニバーサルブライト(JFEスチール(株)製)について、波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 6)
When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm was measured with a spectrophotometer for a universal bright (manufactured by JFE Steel Co., Ltd.) having a thickness of 0.30 mm laminated with a white PET resin on an iron plate, It was 2% or less.

次に、このユニバーサルブライト上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were sequentially formed on the universal bright under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例7)
平均厚み50μmのPETフィルム(東レ(株)製造)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を塗布、乾燥し、断熱層の平均厚みを6μmとしたものを、接着剤を用いて板厚0.24mmアルミ基板と張り合わせ、基板合計の厚みを0.30mmとした支持基板を予め作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 7)
On the PET film (manufactured by Toray Industries, Inc.) having an average thickness of 50 μm, a heat insulating layer solution having the same composition as in Example 1 was applied and dried, and the average thickness of the heat insulating layer was set to 6 μm using an adhesive. A support substrate having a total thickness of 0.30 mm was prepared in advance by bonding to an aluminum substrate having a thickness of 0.24 mm. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 2% or less at all wavelengths.

次に、このシート基板上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed on the sheet substrate under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性は「○」、耐刷性は「◎」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign object defect, image reproducibility was judged as “◯”, and printing durability was judged as “◎”, and a good plate was gotten.

(実施例8)
アルミ板上に白色PET樹脂をラミネートした、合計板厚み0.50mmのハイペット(東洋鋼鈑(株)製)について、波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で2%以下であった。
(Example 8)
When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm was measured with a spectrophotometer for HiPet (manufactured by Toyo Kohan Co., Ltd.) with a total thickness of 0.50 mm laminated with white PET resin on an aluminum plate, all The wavelength was 2% or less.

次に、このハイペット上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed on the HiPet under the above conditions to produce a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性、耐刷性のいずれも「○」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign matter defect, image reproducibility, and printing durability were all judged as “◯”, and a good plate was obtained. It was.

(実施例9)
平均厚み20μmのPETフィルム(東レ(株)製造)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を塗布、乾燥し、断熱層の平均厚みを4μmとしたものを、接着剤を用いて板厚0.03mmのアルミ基板と張り合わせ、基板合計の厚みを0.05mmとした支持基板を予め作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で10%以下であった。
Example 9
A heat insulating layer solution having the same composition as that of Example 1 was applied onto a PET film having an average thickness of 20 μm (manufactured by Toray Industries, Inc.), dried, and an average thickness of the heat insulating layer was set to 4 μm using an adhesive. A support substrate having a total thickness of 0.05 mm was prepared in advance by bonding to an aluminum substrate having a thickness of 0.03 mm. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 10% or less at all wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各版性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性、異物欠陥、画像再現性、耐刷性のいずれも「○」という判定となり、良好な版が得られた。   The obtained printing plate was checked for each plate performance evaluation item according to the above procedure. As a result, the plate surface readability, foreign matter defect, image reproducibility, and printing durability were all judged as “◯”, and a good plate was obtained. It was.

(比較例1)
板厚み0.29mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を塗布、乾燥した後、連続して感熱層、インキ反発層を形成し、同一工程内で一括して直描型水なし平版印刷版原版を作成した。
(Comparative Example 1)
After coating and drying a heat insulating layer solution having the same composition as in Example 1 on an aluminum plate (made by Furukawa Sky Co., Ltd.) having a plate thickness of 0.29 mm, the heat-sensitive layer and the ink repellent layer are continuously formed. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was created in a batch.

得られた印刷版について、各性能評価項目を上記の手順で確認したところ、異物欠陥の項目で断熱層組成物の異物が検出され「×」となった。異物欠陥以外の項目では「○」の判定となった。   About the obtained printing plate, when each performance evaluation item was confirmed in said procedure, the foreign material of the heat insulation layer composition was detected by the item of a foreign material defect, and was set to "x". For items other than foreign matter defects, the judgment was “◯”.

(比較例2)
板厚み0.30mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、実施例1と同一組成の断熱層溶液を塗布、乾燥し、断熱層の平均厚みが2μmで、基板合計の厚みを0.30mmとした支持基板を作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で20%以上であった。
(Comparative Example 2)
A heat insulation layer solution having the same composition as in Example 1 was applied on an aluminum plate (Furukawa Sky Co., Ltd.) having a thickness of 0.30 mm and dried. The average thickness of the heat insulation layer was 2 μm, and the total thickness of the substrate was 0.00. A support substrate having a thickness of 30 mm was prepared. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 20% or more at all wavelengths.

次に、このシート上に上記の条件で感熱層、インキ反発層を形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。   Next, a heat-sensitive layer and an ink repellent layer were formed on the sheet under the above conditions to prepare a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

得られた印刷版について、各性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性の項目で「×」となった。なお、それ以外の項目では「○」の判定となった。   Regarding the obtained printing plate, each performance evaluation item was confirmed by the above procedure. As a result, the plate surface readability item was “x”. In all other items, the judgment was “◯”.

(比較例3)
板厚み0.30mmアルミニウム板(古河スカイ(株)製)上に、上記の条件で感熱層、インキ反発層を順に形成し、直描型水なし平版印刷版原版を作成した。このシートの波長300〜900nmの光の透過率を分光光度計で測定したところ、すべての波長で100%となった。
(Comparative Example 3)
A heat sensitive layer and an ink repellent layer were formed in this order on a 0.30 mm thick aluminum plate (Furukawa Sky Co., Ltd.) under the above conditions to produce a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor. When the transmittance of light with a wavelength of 300 to 900 nm of this sheet was measured with a spectrophotometer, it was 100% at all wavelengths.

得られた印刷版について、各性能評価項目を上記の手順で確認したところ、版面読取性と耐刷性の2項目で「×」となった。なお、それ以外の項目では「○」の判定となった。   When the performance evaluation items of the obtained printing plate were confirmed by the above procedure, “x” was obtained for the two items of plate surface readability and printing durability. In all other items, the judgment was “◯”.

Figure 2014180845
Figure 2014180845

Claims (5)

基板上に少なくとも感熱層およびインキ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、予め成形された合成樹脂フィルムまたはシートを支持基板として用いることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法。 In a waterless lithographic printing plate precursor in which at least a heat-sensitive layer and an ink repellent layer are laminated in this order on a substrate, a pre-shaped synthetic resin film or sheet is used as a supporting substrate, and there is no direct drawing type waterless A planographic printing plate precursor and a method for producing the same. 基板上に少なくとも感熱層およびインキ反発層をこの順に積層してなる水なし平版印刷版原版において、合成樹脂フィルムまたはシートを金属板の上に予め敷設した支持基板を用いることを特徴とする、直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法。 A waterless lithographic printing plate precursor in which at least a heat-sensitive layer and an ink repellent layer are laminated in this order on a substrate is characterized by using a support substrate in which a synthetic resin film or sheet is previously laid on a metal plate. Drawing waterless lithographic printing plate precursor and method for producing the same. 前記合成樹脂フィルムおよびシートの透過率が、300〜900nmの範囲の全ての波長において15%以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法。 The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1 or 2, wherein the transmittance of the synthetic resin film and sheet is 15% or less at all wavelengths in the range of 300 to 900 nm. Its manufacturing method. 前記支持基板全体の厚みが0.10〜0.45mmであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法。 The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of the entire support substrate is from 0.10 to 0.45 mm, and a method for producing the same. 支持基板を構成する金属板の材質がアルミニウムであることを特徴とする、請求項2に記載の直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法。 3. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 2, wherein the metal plate constituting the support substrate is made of aluminum, and a method for producing the same.
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