JP2014159647A - Dyeing apparatus - Google Patents

Dyeing apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2014159647A
JP2014159647A JP2013029615A JP2013029615A JP2014159647A JP 2014159647 A JP2014159647 A JP 2014159647A JP 2013029615 A JP2013029615 A JP 2013029615A JP 2013029615 A JP2013029615 A JP 2013029615A JP 2014159647 A JP2014159647 A JP 2014159647A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electromagnetic wave
resin body
dyeing
unit
distance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013029615A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6136340B2 (en
JP2014159647A5 (en
Inventor
Yasuo Ota
康夫 太田
Minoru Inuzuka
稔 犬塚
Atsushi Yano
篤 矢野
Motoji Tanaka
基司 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nidek Co Ltd
Original Assignee
Nidek Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2013029615A priority Critical patent/JP6136340B2/en
Application filed by Nidek Co Ltd filed Critical Nidek Co Ltd
Priority to EP14753930.8A priority patent/EP2960354B1/en
Priority to US14/768,500 priority patent/US9988708B2/en
Priority to KR1020157022474A priority patent/KR102094025B1/en
Priority to CN201480009527.9A priority patent/CN105008577B/en
Priority to PCT/JP2014/053697 priority patent/WO2014129435A1/en
Publication of JP2014159647A publication Critical patent/JP2014159647A/en
Publication of JP2014159647A5 publication Critical patent/JP2014159647A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6136340B2 publication Critical patent/JP6136340B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00865Applying coatings; tinting; colouring
    • B29D11/00894Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting
    • B29D11/00903Applying coatings; tinting; colouring colouring or tinting on the surface
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00009Production of simple or compound lenses

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Eyeglasses (AREA)
  • Coloring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dyeing apparatus in which a dyed resin body can be produced by, while appropriately controlling the temperature rise of each part of the resin body, heating the resin body by irradiation of electromagnetic wave to fix a dye.SOLUTION: A dyeing apparatus 1 dyes a resin body by heating the resin body placed in a placement part 50, to fix the dye that is adhered to the surface of the resin body, onto the resin body. The dyeing apparatus 1 includes an electromagnetic wave generating part 11 and a distribution adjustment part 14. The electromagnetic wave generating part 11 generates electromagnetic wave that is absorbed by the resin body. The distribution adjustment part 14 is provided between the electromagnetic wave generating part 11 and the placement part 50. The distribution adjustment part 14 has an opening part 15 through which a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating part 11, passes, and adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave that is irradiated to the resin body.

Description

本発明は、染料が付着した樹脂体を加熱することで、樹脂体に染料を定着させて染色を行う染色装置に関する。   The present invention relates to a dyeing apparatus that dyes a resin body by fixing the dye to the resin body by heating the resin body to which the dye is attached.

従来、染料が付着した樹脂体に赤外線を照射することで、樹脂体を加熱して染料を定着させる技術が知られている。例えば、特許文献1が開示する染色装置は、プラスチックレンズのうち、染料が蒸着していない領域を遮蔽手段で遮蔽した状態で、プラスチックレンズに赤外線を照射する。その結果、染料が蒸着していない部位において、加熱による黄変の発生が抑制される。   Conventionally, a technique for fixing a dye by heating the resin body by irradiating infrared rays onto the resin body to which the dye is attached is known. For example, the staining apparatus disclosed in Patent Document 1 irradiates a plastic lens with infrared rays in a state where a region of the plastic lens where no dye is deposited is shielded by a shielding unit. As a result, the occurrence of yellowing due to heating is suppressed at the site where the dye is not deposited.

特許第4802138号公報Japanese Patent No. 4802138

赤外線等の電磁波を樹脂体に照射して加熱すると、樹脂体の形状等の影響で、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に制御できない場合がある。例えば、略板状の樹脂体を均一に加熱するために、樹脂体の板面に均一に電磁波を照射する場合を想定する。この場合、樹脂体の厚みが一定でなければ、厚い部分の温度は薄い部分の温度よりも上昇し難いため、樹脂体の各部位に温度差が生じ得る。つまり、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に制御しつつ、電磁波の照射によって樹脂体を加熱して染料を定着させることは、従来の技術では困難であった。   When the resin body is irradiated with electromagnetic waves such as infrared rays and heated, the temperature rise of each part of the resin body may not be appropriately controlled due to the influence of the shape of the resin body. For example, in order to heat a substantially plate-shaped resin body uniformly, the case where the electromagnetic wave is uniformly irradiated to the plate surface of the resin body is assumed. In this case, if the thickness of the resin body is not constant, the temperature of the thick part is less likely to rise than the temperature of the thin part, and thus a temperature difference may occur in each part of the resin body. That is, it is difficult to fix the dye by heating the resin body by irradiation of electromagnetic waves while appropriately controlling the temperature rise of each part of the resin body.

本発明は、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に制御しつつ、電磁波の照射によって樹脂体を加熱して染料を定着させることができる染色装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the dyeing | staining apparatus which can fix a dye by heating a resin body by irradiation of electromagnetic waves, controlling appropriately the temperature rise of each site | part of a resin body.

本発明に係る染色装置は、設置部に設置された樹脂体を加熱することで、前記樹脂体の表面に付着した染料を前記樹脂体に定着させて、前記樹脂体を染色する染色装置であって、電磁波を発生させる電磁波発生手段と、前記電磁波発生手段から前記樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整する分布調整手段とを備えている。   The dyeing apparatus according to the present invention is a dyeing apparatus for dyeing the resin body by fixing the dye attached to the surface of the resin body by heating the resin body installed in the installation section. An electromagnetic wave generating means for generating an electromagnetic wave, and a distribution adjusting means for adjusting an intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the resin body from the electromagnetic wave generating means.

本発明に係る染色装置は、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に制御しつつ、電磁波の照射によって樹脂体を加熱して染料を定着させることができる。   The dyeing apparatus according to the present invention can fix the dye by heating the resin body by irradiation of electromagnetic waves while appropriately controlling the temperature rise of each part of the resin body.

染色装置1の斜視図である。1 is a perspective view of a staining apparatus 1. FIG. 上蓋部4および前蓋部5が開放された状態の染色装置1の斜視図である。It is a perspective view of the dyeing | staining apparatus 1 in the state where the upper cover part 4 and the front cover part 5 were open | released. 分布調整部14の平面図である。3 is a plan view of a distribution adjustment unit 14. FIG. 閉塞室20、および閉塞室20に付随する構成の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a closed room 20 and a configuration associated with the closed room 20. 設置部前後動機構40の斜視図である。It is a perspective view of the installation part back-and-forth movement mechanism. 設置部50の斜視図である。3 is a perspective view of an installation unit 50. FIG. 染色用基体57が設置された状態の設置部50の斜視図である。It is a perspective view of the installation part 50 in the state in which the base | substrate 57 for dyeing | staining is installed. 退避機構60の斜視図である。3 is a perspective view of a retraction mechanism 60. FIG. 染色装置1の電気的構成を示すブロック図である。2 is a block diagram showing an electrical configuration of the staining apparatus 1. FIG. 本実施形態の染色樹脂体製造工程を説明するためのフローチャートである。It is a flowchart for demonstrating the dyeing resin body manufacturing process of this embodiment. 染色装置1が実行する染色処理のフローチャートである。It is a flowchart of the dyeing | staining process which the dyeing | staining apparatus 1 performs. 第一変形例の染色装置1が備える距離調整部90を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the distance adjustment part 90 with which the dyeing apparatus 1 of a 1st modification is provided. 評価試験の結果を示す図である。It is a figure which shows the result of an evaluation test. 第二変形例の染色装置1が備える分布調整部94を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the distribution adjustment part 94 with which the dyeing apparatus 1 of a 2nd modification is provided.

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。まず、図1および図2を参照して、本実施形態に係る染色装置1の概略構成について説明する。以下の説明では、図1および図2の左斜め下側、右斜め上側、左斜め上側、右斜め下側を、それぞれ染色装置1の前方、後方、左側、右側とする。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. First, a schematic configuration of the staining apparatus 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. In the following description, the diagonally lower left side, the diagonally upper right side, the diagonally upper left side, and the diagonally lower right side of FIGS. 1 and 2 are the front side, the rear side, the left side, and the right side, respectively.

染色装置1は、略直方体形状の筐体2を備える。筐体2は、樹脂体(本実施形態ではプラスチックレンズ)を染色するための各種構成を内部に収容する。筐体2は、基部3、上蓋部4、および前蓋部5を備える。基部3は、染色装置1の全体を支持する。上蓋部4は、基部3の後部において上下方向に回動可能に支持されている。上蓋部4の前部を上方に回動させることで、筐体2の上方が開放される。前蓋部5は板状であり、基部3の正面側端部の下端において前後方向に回動可能に支持されている。前蓋部5の上部を前方に回動させることで、筐体2の前方が開放される。   The staining apparatus 1 includes a housing 2 having a substantially rectangular parallelepiped shape. The housing 2 accommodates various components for dyeing a resin body (in this embodiment, a plastic lens). The housing 2 includes a base portion 3, an upper lid portion 4, and a front lid portion 5. The base 3 supports the entire staining apparatus 1. The upper lid portion 4 is supported at the rear portion of the base portion 3 so as to be rotatable in the vertical direction. By rotating the front part of the upper cover part 4 upward, the upper part of the housing 2 is opened. The front lid portion 5 has a plate shape and is supported at the lower end of the front side end portion of the base portion 3 so as to be rotatable in the front-rear direction. By rotating the upper part of the front lid 5 forward, the front of the housing 2 is opened.

基部3の上面の中央には、表面にタッチパネル6を備えたディスプレイ7が設けられている。作業者は、タッチパネル6を操作することで、各種指示を染色装置1に入力できる。上蓋部4の背面側には、染色装置1の内部を冷却するための冷却ファン8(図9参照)が、左右に2つ並べて設けられている。   A display 7 having a touch panel 6 on the surface is provided at the center of the upper surface of the base 3. The operator can input various instructions to the staining apparatus 1 by operating the touch panel 6. Two cooling fans 8 (see FIG. 9) for cooling the inside of the staining apparatus 1 are provided side by side on the back side of the upper lid portion 4.

図2に示すように、筐体2の内部には、主に、加熱部10、閉塞室20、設置部前後動機構40、および設置部50等が収容されている。加熱部10は、プラスチックレンズと、染色用基体57(図7参照)に付着した昇華性の染料とを加熱するために設けられる。閉塞室20は、設置部50に設置されたプラスチックレンズの周囲を閉塞し、略真空の空間を内部に形成する。設置部前後動機構40は、設置部50を前後方向に移動させる。設置部50には、プラスチックレンズおよび染色用基体57が設置される。以下、各構成について、図2から図8を参照して詳細に説明する。   As shown in FIG. 2, the inside of the housing 2 mainly accommodates a heating unit 10, a closing chamber 20, an installation unit back-and-forth movement mechanism 40, an installation unit 50, and the like. The heating unit 10 is provided to heat the plastic lens and the sublimable dye attached to the dyeing substrate 57 (see FIG. 7). The blocking chamber 20 closes the periphery of the plastic lens installed in the installation unit 50 and forms a substantially vacuum space inside. The installation part back-and-forth movement mechanism 40 moves the installation part 50 in the front-rear direction. In the installation unit 50, a plastic lens and a dyeing substrate 57 are installed. Hereinafter, each configuration will be described in detail with reference to FIGS.

加熱部10について説明する。図2に示すように、加熱部10は、電磁波発生部11、分布調整部14、調整部回転モータ80(図9参照)、モータギア17、および調整部装着ギア18を主に備える。   The heating unit 10 will be described. As shown in FIG. 2, the heating unit 10 mainly includes an electromagnetic wave generation unit 11, a distribution adjustment unit 14, an adjustment unit rotation motor 80 (see FIG. 9), a motor gear 17, and an adjustment unit mounting gear 18.

電磁波発生部11について説明する。本実施形態の電磁波発生部11は、プラスチックレンズおよび染色用基体57(図7参照)によって吸収される電磁波(この場合は赤外線)を発生させる。具体的には、赤外線を発生させる赤外線ヒータ12が電磁波発生部11に使用されている。しかし、ハロゲンランプ等の他の構成を電磁波発生部11に使用することも可能である。また、紫外線、マイクロ波等の電磁波を発生させる構成を使用してもよい。電磁波発生部11は、2つのプラスチックレンズの染色を同時に実行できるように、上蓋部4の内側(つまり、上蓋部4が開放された状態では正面側)に、左右に並べて2つ設けられている。なお、電磁波発生部11によって生じる電磁波の全てがプラスチックレンズに吸収される必要は無い。また、同時に染色できる樹脂体の数が2つに限られないことは言うまでも無い。   The electromagnetic wave generator 11 will be described. The electromagnetic wave generator 11 of the present embodiment generates electromagnetic waves (in this case, infrared rays) that are absorbed by the plastic lens and the dyeing substrate 57 (see FIG. 7). Specifically, an infrared heater 12 that generates infrared rays is used for the electromagnetic wave generator 11. However, other configurations such as a halogen lamp can be used for the electromagnetic wave generator 11. Moreover, you may use the structure which generate | occur | produces electromagnetic waves, such as an ultraviolet-ray and a microwave. Two electromagnetic wave generators 11 are provided side by side on the inner side of the upper lid part 4 (that is, the front side when the upper lid part 4 is opened) so that two plastic lenses can be dyed simultaneously. . Note that it is not necessary for the plastic lens to absorb all of the electromagnetic waves generated by the electromagnetic wave generator 11. Needless to say, the number of resin bodies that can be dyed simultaneously is not limited to two.

電磁波発生部11において電磁波を発生する発生部位は、後述する分布調整部14に設けられた開口部15(図3参照)の形状に対応する環状に形成されている。詳細には、本実施形態の開口部15は円環状であるため、電磁波の発生部位も円環状に形成されている。例えば、開口部15の形状を矩形環状に形成した場合には、電磁波の発生部位も矩形環状に形成することが望ましい。電磁波の発生部位の形状と開口部15の形状とを対応させることで、板状、直線状等の他の形状の発生部位を採用する場合に比べて、分布調整部14によって遮断される電磁波の量が減少する。その結果、電磁波が効率よく開口部15からプラスチックレンズに照射される。なお、「対応する環状」とは、電磁波の発生部位の形状および大きさと、開口部15の形状および大きさとが完全に一致していることを示すものではない。つまり、両者の形状は略一致していればよく、且つ、両者の大きさ(例えば直径)は必ずしも一致させる必要は無い。   In the electromagnetic wave generation unit 11, the generation site for generating an electromagnetic wave is formed in an annular shape corresponding to the shape of an opening 15 (see FIG. 3) provided in the distribution adjustment unit 14 described later. In detail, since the opening 15 of the present embodiment has an annular shape, an electromagnetic wave generation site is also formed in an annular shape. For example, when the shape of the opening 15 is formed in a rectangular ring shape, it is desirable that the electromagnetic wave generation site is also formed in a rectangular ring shape. By making the shape of the electromagnetic wave generation site correspond to the shape of the opening 15, the electromagnetic wave blocked by the distribution adjusting unit 14 can be compared with the case where the generation site of another shape such as a plate shape or a straight line shape is adopted. The amount decreases. As a result, electromagnetic waves are efficiently applied to the plastic lens from the opening 15. Note that the “corresponding ring” does not indicate that the shape and size of the electromagnetic wave generation site and the shape and size of the opening 15 are completely the same. That is, it is only necessary that the shapes of the two are substantially the same, and the sizes (for example, diameters) of the two are not necessarily matched.

本実施形態の電磁波発生部11では、複数の赤外線ヒータ12が組み合わされることで、環状の発生部位が形成されている。具体的には、2つのU字状の赤外線ヒータ12の各々のU字部分によって円環が形成されるように、2つの赤外線ヒータ12が配置されている。円環状の発生部位を有する赤外線ヒータは、U字状等の他の形状の赤外線ヒータに比べて製造し難く、高いコストを要する。しかし、複数の赤外線ヒータ12を組み合わせることで、環状の発生部位が容易に低コストで形成される。なお、1つの電磁波発生部位11に使用する赤外線ヒータ12の数および形状を変更できることは言うまでもない。また、本実施形態では、図2に示すように、2つのU字状の赤外線ヒータ12が交差するように配置される。換言すると、一方の赤外線ヒータ12の電磁波発生部位が含まれる平面と、他方の赤外線ヒータ12の電磁波発生部位が含まれる平面とが、2つの赤外線ヒータ12の配設位置で交差する。その結果、プラスチックレンズに照射される電磁波の強度にむらが生じることが抑制される。また、電磁波の発生部位を環状に形成する場合、発生部位は連続した環状でなく断続した環状であってもよい。   In the electromagnetic wave generation unit 11 of the present embodiment, an annular generation site is formed by combining a plurality of infrared heaters 12. Specifically, the two infrared heaters 12 are arranged such that an annular ring is formed by each U-shaped portion of the two U-shaped infrared heaters 12. Infrared heaters having an annular generation site are difficult to manufacture and require high costs compared to other shapes of infrared heaters such as a U-shape. However, by combining a plurality of infrared heaters 12, an annular generation site can be easily formed at low cost. In addition, it cannot be overemphasized that the number and shape of the infrared heater 12 used for one electromagnetic wave generation | occurrence | production site | part 11 can be changed. Moreover, in this embodiment, as shown in FIG. 2, the two U-shaped infrared heaters 12 are arranged so as to intersect. In other words, the plane including the electromagnetic wave generation site of one infrared heater 12 and the plane including the electromagnetic wave generation site of the other infrared heater 12 intersect at the arrangement position of the two infrared heaters 12. As a result, the occurrence of unevenness in the intensity of the electromagnetic wave applied to the plastic lens is suppressed. Further, when the electromagnetic wave generation site is formed in a ring shape, the generation site may be an intermittent ring instead of a continuous ring.

分布調整部14について説明する。図2に示すように、分布調整部14は、上蓋部4が開放された状態で、2つの電磁波発生部11の各々の正面側に位置するように、左右に並べて2つ設けられている。従って、上蓋部4が閉鎖されると、分布調整部14は電磁波発生部11の下方に位置する。   The distribution adjustment unit 14 will be described. As shown in FIG. 2, two distribution adjusting units 14 are provided side by side so as to be positioned on the front side of each of the two electromagnetic wave generating units 11 in a state where the upper lid 4 is opened. Therefore, when the upper lid 4 is closed, the distribution adjusting unit 14 is positioned below the electromagnetic wave generating unit 11.

図3に示すように、分布調整部14は板状である。分布調整部14には、電磁波発生部11が発生させた電磁波の一部を通過させる開口部15が形成される。染色装置1は、電磁波発生部11から下方に照射される電磁波の強度分布を、分布調整部14の開口部15によって調整する。詳細には、開口部15は断続した環状に形成される。染色装置1は、環状の開口部15に電磁波を通過させることで、下方に照射される電磁波のビームにおける中心部の強度と周辺部の強度とを、簡易な構成で容易に調整することができる。より具体的には、本実施形態の開口部15では、内側の円盤状の部位を支持するための放射状の支持片16が、環状の孔に等間隔に4つ形成された形状である。しかし、開口部15を環状に形成する場合、開口部15は連続した環状に形成してもよい。複数の孔を環状に配置することで環状の開口部15を形成してもよい。また、本実施形態では、円形のプラスチックレンズに照射する電磁波の強度分布を適切に調整するために、開口部15の形状が円環状に形成されている。しかし、開口部15の形状は、染色する樹脂体の形状に応じて適宜変更できる。よって、多角形の環状、楕円形の環状等の他の形状の開口部を用いることも可能である。   As shown in FIG. 3, the distribution adjusting unit 14 has a plate shape. The distribution adjusting unit 14 is formed with an opening 15 through which a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating unit 11 passes. The dyeing device 1 adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated downward from the electromagnetic wave generation unit 11 by the opening 15 of the distribution adjustment unit 14. Specifically, the opening 15 is formed in an intermittent annular shape. The dyeing device 1 can easily adjust the intensity of the central part and the intensity of the peripheral part in the electromagnetic wave beam irradiated downward with a simple configuration by allowing the electromagnetic wave to pass through the annular opening 15. . More specifically, the opening 15 of the present embodiment has a shape in which four radial support pieces 16 for supporting the inner disk-shaped portion are formed at equal intervals in an annular hole. However, when the opening 15 is formed in an annular shape, the opening 15 may be formed in a continuous annular shape. The annular opening 15 may be formed by arranging a plurality of holes in an annular shape. Moreover, in this embodiment, in order to adjust appropriately the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated to a circular plastic lens, the shape of the opening part 15 is formed in the annular | circular shape. However, the shape of the opening 15 can be appropriately changed according to the shape of the resin body to be dyed. Therefore, it is also possible to use openings having other shapes such as a polygonal ring or an elliptical ring.

2つの分布調整部14の各々には、大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の開口部15(本実施形態では、2つの開口部15A,15B)が形成されている。本実施形態では、開口部15Aの大きさ(径)は、開口部15Bの大きさよりも大きい。染色装置1は、加熱する物体(例えばプラスチックレンズ)と電磁波発生部11との間に位置させる開口部15A,15Bを切り替えるだけで、物体に照射させる電磁波の強度分布を容易に切り替えることができる。なお、分布調整部14に形成する開口部15の数が2つに限定されないことは言うまでもない。   Each of the two distribution adjustment portions 14 is formed with a plurality of openings 15 (in this embodiment, two openings 15A and 15B) that are different in at least one of size and shape. In the present embodiment, the size (diameter) of the opening 15A is larger than the size of the opening 15B. The staining apparatus 1 can easily switch the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated to the object by simply switching the openings 15A and 15B positioned between the object to be heated (for example, a plastic lens) and the electromagnetic wave generator 11. Needless to say, the number of openings 15 formed in the distribution adjusting unit 14 is not limited to two.

図2に示すように、上蓋部4には、調整部回転モータ80(図9参照)によって回転される2つのモータギア17が設けられている。モータギア17は、2つの調整部装着ギア18の各々に噛み合い、調整部装着ギア18を回転させる。2つの調整部装着ギア18の各々の先端側(図2の状態では正面側)には、分布調整部14が着脱可能に装着される。染色装置1は、調整部回転モータ80を駆動して分布調整部14を回転させることで、分布調整部14の姿勢を切り替える。その結果、加熱する物体と電磁波発生部11との間に位置する開口部15A,15Bが、作業者の作業を要することなく自動的に切り替わる。なお、使用する開口部15A,15Bを切り替える方法は変更できる。例えば、分布調整部14を回転させずに平行にスライドさせることで、分布調整部14の位置を変更し、開口部15A,15Bを切り替えてもよい。   As shown in FIG. 2, the upper lid portion 4 is provided with two motor gears 17 that are rotated by an adjusting portion rotating motor 80 (see FIG. 9). The motor gear 17 meshes with each of the two adjustment unit mounting gears 18 to rotate the adjustment unit mounting gear 18. The distribution adjusting unit 14 is detachably mounted on the tip side of each of the two adjusting unit mounting gears 18 (the front side in the state of FIG. 2). The staining apparatus 1 switches the attitude of the distribution adjustment unit 14 by driving the adjustment unit rotation motor 80 to rotate the distribution adjustment unit 14. As a result, the openings 15A and 15B located between the object to be heated and the electromagnetic wave generator 11 are automatically switched without requiring the operator's work. Note that the method of switching the openings 15A and 15B to be used can be changed. For example, the position of the distribution adjusting unit 14 may be changed by sliding the distribution adjusting unit 14 in parallel without rotating, and the openings 15A and 15B may be switched.

閉塞室20、および閉塞室20に付随する構成について説明する。図2に示すように、閉塞室20は、筐体2の内部の略中央に設けられている。筐体2の上蓋部4が閉鎖されると、閉塞室20は加熱部10の下方に位置する。図4に示すように、閉塞室20の形状は、略矩形の箱状形状である。閉塞室20は、閉塞室本体21と閉塞室前壁22(図2および図7参照)とを備える。閉塞室本体21は、正面側が開放された略箱状である。閉塞室前壁22は、閉塞室本体21の正面側の開放部を閉塞することができる。   The blockage chamber 20 and the configuration associated with the blockage chamber 20 will be described. As shown in FIG. 2, the closed chamber 20 is provided in the approximate center inside the housing 2. When the upper cover 4 of the housing 2 is closed, the closed chamber 20 is positioned below the heating unit 10. As shown in FIG. 4, the shape of the closed chamber 20 is a substantially rectangular box shape. The blocking chamber 20 includes a blocking chamber body 21 and a blocking chamber front wall 22 (see FIGS. 2 and 7). The closed chamber body 21 has a substantially box shape with the front side opened. The blocking chamber front wall 22 can block the opening portion on the front side of the blocking chamber main body 21.

図4に示すように、閉塞室本体21の上壁には、円筒状の電磁波通過部23が左右に2つ並べて設けられている。電磁波発生部11(図2参照)が発生させた電磁波は、電磁波通過部23の内部の空間を通過して閉塞室20の内部へ至る。2つの電磁波通過部23の各々には、閉塞室20の内部の雰囲気温度を検出する熱電対24が設置されている。   As shown in FIG. 4, two cylindrical electromagnetic wave passage portions 23 are provided side by side on the upper wall of the closed chamber body 21. The electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generator 11 (see FIG. 2) passes through the space inside the electromagnetic wave passage 23 and reaches the inside of the closed chamber 20. A thermocouple 24 that detects the atmospheric temperature inside the closed chamber 20 is installed in each of the two electromagnetic wave passing portions 23.

図2に示すように、2つの電磁波通過部23における各々の上端縁部には、電磁波通過部23の内径よりも径が大きい円盤状の透過部25が、電磁波通過部23の上部開口を閉塞するように設置される。透過部25は、電磁波発生部11が発生させる電磁波の少なくとも一部を透過させる材質で形成されればよい。さらに、透過部25の材質は、電磁波によって上昇する温度に耐え得る耐熱性を有することが望ましい。本実施形態では、透過部25の材質として、赤外線を透過させる耐熱ガラスが用いられている。しかし、これは一例であり、透過部25の材質を変更することは可能である。閉塞室20は、閉塞室本体21、閉塞室前壁22、電磁波通過部23、および透過部25によって、内部の空間を閉塞する。閉塞室20の内部と電磁波発生部11との間の部位に透過部25を設置すれば、閉塞室20の外部に電磁波発生部11を設置しても、電磁波は閉塞室20の内部に照射される。従って、電磁波発生部11は、閉塞室20の内部における気圧の変化の影響を受けない。   As shown in FIG. 2, a disc-shaped transmission part 25 having a diameter larger than the inner diameter of the electromagnetic wave passing part 23 closes the upper opening of the electromagnetic wave passing part 23 at the upper edge of each of the two electromagnetic wave passing parts 23. To be installed. The transmission part 25 should just be formed with the material which permeate | transmits at least one part of the electromagnetic waves which the electromagnetic wave generation part 11 generates. Furthermore, it is desirable that the material of the transmission part 25 has heat resistance that can withstand the temperature rising by electromagnetic waves. In the present embodiment, heat-resistant glass that transmits infrared rays is used as the material of the transmission part 25. However, this is an example, and the material of the transmission part 25 can be changed. The blocking chamber 20 blocks the internal space by the blocking chamber main body 21, the blocking chamber front wall 22, the electromagnetic wave passing portion 23, and the transmitting portion 25. If the transmission part 25 is installed in a portion between the inside of the blocking chamber 20 and the electromagnetic wave generation unit 11, even if the electromagnetic wave generation unit 11 is installed outside the blocking chamber 20, the electromagnetic wave is irradiated inside the blocking chamber 20. The Therefore, the electromagnetic wave generator 11 is not affected by the change in atmospheric pressure inside the closed chamber 20.

図2および図4に示すように、閉塞室20の上方には、透過部25の位置を保持するための保持板27が設けられている。保持板27は、外形が矩形の板状部材であり、円盤状の透過部25の径よりも小さい径の開口を左右に並べて2つ備える。保持板27の後端部は、筐体2に対して回動可能に装着されている。保持板27が上方に回動されると、電磁波通過部23に対する透過部25の設置および取り外しが可能な状態となる(図2参照)。保持板27が前方に回動されると、透過部25が保持板27によって上方から押圧され、電磁波通過部23に対する透過部25の位置が保持される。なお、詳細は後述するが、プラスチックレンズに染料を蒸着させる工程では、閉塞室20の内部が略真空状態とされる。この場合、閉塞室20の内部が減圧されることで、透過部25の位置が確実に固定される。従って、保持板27は、強固な力で透過部25を押圧する必要は無い。   As shown in FIGS. 2 and 4, a holding plate 27 for holding the position of the transmission part 25 is provided above the blocking chamber 20. The holding plate 27 is a plate-like member having a rectangular outer shape, and includes two openings with a diameter smaller than the diameter of the disk-shaped transmission part 25 arranged side by side. A rear end portion of the holding plate 27 is attached to the housing 2 so as to be rotatable. When the holding plate 27 is rotated upward, the transmission portion 25 can be installed and removed from the electromagnetic wave passage portion 23 (see FIG. 2). When the holding plate 27 is rotated forward, the transmitting portion 25 is pressed from above by the holding plate 27, and the position of the transmitting portion 25 with respect to the electromagnetic wave passing portion 23 is held. Although details will be described later, in the step of depositing the dye on the plastic lens, the inside of the closed chamber 20 is brought into a substantially vacuum state. In this case, the inside of the closed chamber 20 is decompressed, so that the position of the transmission part 25 is reliably fixed. Therefore, the holding plate 27 does not need to press the transmission part 25 with a strong force.

図4に示すように、閉塞室本体21の背面側には気圧制御部30が設けられている。気圧制御部30と閉塞室本体21の背面との間には、給排気管(図示せず)が接続されている。気圧制御部30は、ポンプ31および電磁弁33(図9参照)を備える。染色装置1は、ポンプ31を駆動することで、閉塞室20内の気体を給排気管から外部へ排出し、閉塞室20内の気圧を低下させることができる。また、染色装置1は、電磁弁33を閉じることで、閉塞室20内の密閉性を保つ。さらに、染色装置1は、電磁弁33を開放させることで、減圧状態の閉塞室20内に外部から気体を導入させて、閉塞室20内の気圧を上昇させる。なお、閉塞室20(本実施形態では閉塞室本体21の背面)には、閉塞室20内の気圧を検出する圧力センサ84(図9参照)が設けられている。   As shown in FIG. 4, an atmospheric pressure control unit 30 is provided on the back side of the closed chamber body 21. A supply / exhaust pipe (not shown) is connected between the atmospheric pressure control unit 30 and the back surface of the closed chamber body 21. The atmospheric pressure control unit 30 includes a pump 31 and an electromagnetic valve 33 (see FIG. 9). The dyeing apparatus 1 can drive the pump 31 to discharge the gas in the closed chamber 20 from the supply / exhaust pipe to the outside, thereby reducing the atmospheric pressure in the closed chamber 20. In addition, the staining apparatus 1 maintains the airtightness in the closed chamber 20 by closing the electromagnetic valve 33. Furthermore, the staining apparatus 1 opens the electromagnetic valve 33 to introduce gas from the outside into the closed chamber 20 in a decompressed state, thereby increasing the atmospheric pressure in the closed chamber 20. Note that a pressure sensor 84 (see FIG. 9) that detects the atmospheric pressure in the closed chamber 20 is provided in the closed chamber 20 (in this embodiment, the back surface of the closed chamber main body 21).

設置部前後動機構40について説明する。前述したように、設置部前後動機構40は、設置部50(図2および図6参照)を前後方向に移動させる。設置部50は、設置部前後動機構40によって後方に移動すると、閉塞室20の内部に納まる。設置部50は、前方に移動すると、閉塞室20および筐体2(図2参照)の外部に位置する。   The installation part back-and-forth movement mechanism 40 will be described. As described above, the installation part back-and-forth movement mechanism 40 moves the installation part 50 (see FIGS. 2 and 6) in the front-rear direction. When the installation unit 50 moves rearward by the installation unit back-and-forth movement mechanism 40, the installation unit 50 is accommodated in the closed chamber 20. When the installation unit 50 moves forward, the installation unit 50 is located outside the closed chamber 20 and the housing 2 (see FIG. 2).

図5に示すように、設置部前後動機構40は、メインフレーム41、センターフレーム42、2つのサイドフレーム43、前後動モータ81、駆動プーリ45、従動プーリ46、およびベルト47を備える。メインフレーム41は、筐体2(図2参照)の底部に配置され、設置部前後動機構40の全体を支持する。センターフレーム42は、平面視T字状を成し、設置部前後動機構40の左右方向中央に配置される。センターフレーム42の正面側端部は、設置部50および閉塞室前壁22(図7参照)の少なくともいずれかの底面に固定される。なお、本実施形態では、設置部50は閉塞室前壁22に装着される。2つのサイドフレーム43は、前後方向に延びる略棒状の部材であり、センターフレーム42の左右の各々に装着される。サイドフレーム43は、メインフレーム41の左右において、前後方向の移動をガイドされる。サイドフレーム43の正面側(先端側)は、閉塞室前壁22の左右の各々に固定される。   As shown in FIG. 5, the installation unit longitudinal movement mechanism 40 includes a main frame 41, a center frame 42, two side frames 43, a longitudinal movement motor 81, a drive pulley 45, a driven pulley 46, and a belt 47. The main frame 41 is disposed at the bottom of the housing 2 (see FIG. 2), and supports the entire installation unit longitudinal movement mechanism 40. The center frame 42 has a T shape in plan view, and is disposed at the center in the left-right direction of the installation unit longitudinal movement mechanism 40. The front side end portion of the center frame 42 is fixed to the bottom surface of at least one of the installation portion 50 and the closed chamber front wall 22 (see FIG. 7). In the present embodiment, the installation unit 50 is attached to the front wall 22 of the closed chamber. The two side frames 43 are substantially rod-shaped members extending in the front-rear direction, and are attached to the left and right sides of the center frame 42. The side frame 43 is guided to move in the front-rear direction on the left and right of the main frame 41. The front side (front end side) of the side frame 43 is fixed to each of the left and right sides of the front wall 22 of the closed chamber.

前後動モータ81は、メインフレーム41の後端部に設置され、設置部50を前後動させるための動力を発生させる。駆動プーリ45は、メインフレーム41の後端部における左右方向の中央において回転可能に保持されており、前後動モータ81の動力によって回転する。従動プーリ46は、メインフレーム41の先端部における左右方向の中央において回転可能に保持されている。駆動プーリ45の回転軸および従動プーリ46の回転軸は、共に上下方向に延びる。ベルト47は、駆動プーリ45と従動プーリ46に架け渡されている。センターフレーム42の後端部はベルト47に固定される。   The longitudinal motion motor 81 is installed at the rear end portion of the main frame 41 and generates power for moving the installation portion 50 back and forth. The drive pulley 45 is rotatably held at the center in the left-right direction at the rear end portion of the main frame 41, and is rotated by the power of the longitudinal movement motor 81. The driven pulley 46 is rotatably held at the center in the left-right direction at the tip of the main frame 41. Both the rotation shaft of the drive pulley 45 and the rotation shaft of the driven pulley 46 extend in the vertical direction. The belt 47 is stretched over the drive pulley 45 and the driven pulley 46. A rear end portion of the center frame 42 is fixed to the belt 47.

前後動モータ81が回転すると、駆動プーリ45が回転する。これに伴い、駆動プーリ45に架け渡されているベルト47が回転する。ベルト47が回転すると、ベルト47に固定されているセンターフレーム42が前後方向に移動する。その結果、センターフレーム42に固定されている設置部50が前後方向に移動する。設置部50の前後動は、サイドフレーム43およびメインフレーム41によってガイドされる。   When the longitudinal motor 81 rotates, the drive pulley 45 rotates. Along with this, the belt 47 stretched around the drive pulley 45 rotates. When the belt 47 rotates, the center frame 42 fixed to the belt 47 moves in the front-rear direction. As a result, the installation part 50 fixed to the center frame 42 moves in the front-rear direction. The longitudinal movement of the installation unit 50 is guided by the side frame 43 and the main frame 41.

設置部50について説明する。前述したように、設置部50には、プラスチックレンズおよび染色用基体57が設置される。図6に示すように、設置部50は、支持板51と、2つの円筒部53とを備える。支持板51は、平面視略矩形の板状部材である。円筒部53の内径は、染色するプラスチックレンズの径よりもやや大きく形成されている。2つの円筒部53は、支持板51の上面に、左右に並べて設けられている。支持板51の上面のうち、2つの円筒部53の各々によって囲まれた部位(つまり、円筒部53の底壁の部分)は、付着体装着部52となる。   The installation unit 50 will be described. As described above, the plastic lens and the dyeing substrate 57 are installed in the installation unit 50. As shown in FIG. 6, the installation part 50 includes a support plate 51 and two cylindrical parts 53. The support plate 51 is a plate-like member having a substantially rectangular shape in plan view. The inner diameter of the cylindrical portion 53 is slightly larger than the diameter of the plastic lens to be dyed. The two cylindrical portions 53 are provided on the upper surface of the support plate 51 side by side. Of the upper surface of the support plate 51, a portion surrounded by each of the two cylindrical portions 53 (that is, a portion of the bottom wall of the cylindrical portion 53) is an attachment body mounting portion 52.

付着体装着部52の中心部分には、樹脂体(本実施形態ではプラスチックレンズ)に対する付着性を有する付着体55が装着される。プラスチックレンズは、付着体55の上面に載置(設置)され、付着体55が付着した状態で加熱される。従って、プラスチックレンズの一部の温度が他の部分の温度よりも高くなった場合でも、熱が付着体55に拡散するため、プラスチックレンズの各部位の温度差が減少する。なお、付着体装着部52は、付着体55を着脱可能に装着する。従って、作業者は、付着体55に汚れ・破損等が生じた場合、および、形状等が異なる他の付着体55に変更したい場合等に、容易に付着体55を交換することができる。   An adhesive body 55 having an adhesive property to a resin body (in this embodiment, a plastic lens) is attached to the central portion of the adhesive body mounting portion 52. The plastic lens is placed (installed) on the upper surface of the adhering body 55, and heated with the adhering body 55 attached thereto. Therefore, even when the temperature of a part of the plastic lens is higher than the temperature of the other part, the heat is diffused to the adhering body 55, so that the temperature difference of each part of the plastic lens is reduced. The attachment body mounting unit 52 attaches the attachment body 55 in a detachable manner. Therefore, the operator can easily replace the attachment 55 when the attachment 55 is soiled or damaged, or when it is desired to change to another attachment 55 having a different shape or the like.

付着体55の材質には、熱伝導率がプラスチックレンズの材質の熱伝導率以上である材質を用いることが望ましい。この場合、プラスチックレンズにおいて他の部分よりも高温となった部位の熱は、効率よく付着体55に拡散される。その結果、プラスチックレンズの各部位の温度差がさらに減少する。ただし、付着体55の熱伝導率は、プラスチックレンズの熱伝導率と同等であってもよい。付着体55の熱伝導率がプラスチックレンズの熱伝導率よりも低くても、付着体55を用いない場合に比べて温度差は減少する。また、付着体55の硬度は3度〜30度であることが望ましい。硬度が3度未満の付着体55は製造し難く、且つ、仮に製造できたとしても柔らかすぎて形状を維持し難い。また、硬度が30度よりも高いと、付着体55を各種のプラスチックレンズの曲率に合わせて密着させることが困難である。硬度を3度〜30度とすることで、付着体55が容易にプラスチックレンズに付着するため、さらに効果的に温度差が減少する。より望ましい付着体55の硬度は、5度〜10度である。本実施形態では、硬度が約6度のシリコーンによって樹脂体55が形成されている。   It is desirable to use a material having a thermal conductivity equal to or higher than that of the plastic lens as the material of the attachment body 55. In this case, the heat of the portion of the plastic lens that is higher in temperature than the other portions is efficiently diffused to the adherend 55. As a result, the temperature difference of each part of the plastic lens is further reduced. However, the thermal conductivity of the attachment 55 may be equal to the thermal conductivity of the plastic lens. Even if the thermal conductivity of the adhering body 55 is lower than the thermal conductivity of the plastic lens, the temperature difference is reduced as compared with the case where the adhering body 55 is not used. Moreover, it is desirable that the hardness of the adherend 55 is 3 degrees to 30 degrees. The adhering body 55 having a hardness of less than 3 degrees is difficult to manufacture, and even if it can be manufactured, it is too soft to maintain its shape. Further, if the hardness is higher than 30 degrees, it is difficult to make the adherent 55 adhere to the curvature of various plastic lenses. By setting the hardness to 3 degrees to 30 degrees, the adhering body 55 easily adheres to the plastic lens, so that the temperature difference is more effectively reduced. A more desirable hardness of the adherend 55 is 5 degrees to 10 degrees. In the present embodiment, the resin body 55 is formed of silicone having a hardness of about 6 degrees.

付着体55のうち、少なくともプラスチックレンズが載置される部分(本実施形態では付着体全体)の厚みは、1mm〜10mmであることが望ましい。厚みを1mm未満とすると、プラスチックレンズの熱が付着体55に拡散し難くなるため、温度差の発生を抑制しづらい。また、厚みを10mmよりも厚くした場合、付着体55をプラスチックレンズの曲率に合わせて密着させることが困難である。厚みを1mm〜10mmとすることで、付着体55は容易にプラスチックレンズに付着し、温度差の発生を効果的に抑制する。   It is desirable that the thickness of at least a portion on which the plastic lens is placed (the entire adherence body in the present embodiment) of the attachment body 55 is 1 mm to 10 mm. If the thickness is less than 1 mm, it becomes difficult for the heat of the plastic lens to diffuse into the adhering body 55, so it is difficult to suppress the occurrence of a temperature difference. In addition, when the thickness is thicker than 10 mm, it is difficult to adhere the adherent 55 in accordance with the curvature of the plastic lens. By setting the thickness to 1 mm to 10 mm, the adhering body 55 easily adheres to the plastic lens and effectively suppresses the occurrence of a temperature difference.

また、付着体55に載置される側のプラスチックレンズの面が球面状に湾曲している場合、付着体55のうち、プラスチックレンズが載置される載置面(上面)の曲率半径は、50mm〜200mmであることが望ましい。この場合、付着体55は、曲率半径が大きいプラスチックレンズにも、曲率半径が小さいプラスチックレンズにも、容易に密着する。つまり、この場合、付着体55とプラスチックレンズの十分な接触面積が確保され、より効果的に温度差の発生が抑制される。   In addition, when the surface of the plastic lens on the attachment body 55 is curved in a spherical shape, the curvature radius of the placement surface (upper surface) of the attachment body 55 on which the plastic lens is placed is It is desirable that it is 50 mm-200 mm. In this case, the adhering body 55 easily adheres to both a plastic lens having a large curvature radius and a plastic lens having a small curvature radius. That is, in this case, a sufficient contact area between the adhering body 55 and the plastic lens is ensured, and the occurrence of a temperature difference is more effectively suppressed.

また、平面視において、付着体55の大きさは、加熱する樹脂体の大きさ以上の大きさであることが望ましい。この場合、外周側の方が内側よりも温度上昇し易い樹脂体(例えばプラスレンズ・凸レンズ)、および、内側の方が外周側よりも温度上昇し易い樹脂体(例えばマイナスレンズ、凹レンズ)のいずれを加熱する場合であっても、付着体55は樹脂体の全体に付着する。よって、樹脂体の形状に関わらず温度差の発生を抑制できる。一方で、平面視において付着体55が樹脂体よりも大きすぎると、染料の汚れが付着体55に付着し易い。従って、付着体55の大きさは、加熱する樹脂体と同じ大きさとすることがより望ましい。ただし、付着体55の大きさは変更することも可能である。例えば、染色装置1がマイナスレンズのみを加熱する場合には、付着体55をマイナスレンズよりも小さくし、マイナスレンズの中心部分に付着体55を付着させても、温度差の発生を十分に抑制できる。   Further, in the plan view, it is desirable that the size of the adhering body 55 be larger than the size of the resin body to be heated. In this case, either a resin body (for example, a plus lens or a convex lens) whose temperature on the outer peripheral side is more likely to rise than the inner side, or a resin body (for example, a negative lens or a concave lens) whose temperature is more likely to rise on the inner side than the outer peripheral side. Even when heating is performed, the adhering body 55 adheres to the entire resin body. Therefore, the occurrence of a temperature difference can be suppressed regardless of the shape of the resin body. On the other hand, when the adhering body 55 is too larger than the resin body in plan view, stains on the dye are likely to adhere to the adhering body 55. Therefore, it is more desirable that the size of the adhering body 55 be the same size as the resin body to be heated. However, the size of the attachment 55 can be changed. For example, when the dyeing apparatus 1 heats only the minus lens, the occurrence of a temperature difference is sufficiently suppressed even if the attachment 55 is made smaller than the minus lens and the attachment 55 is attached to the central portion of the minus lens. it can.

図7に示すように、設置部50の正面側には閉塞室前壁22が固定される。また、染料をプラスチックレンズに蒸着させる工程では、染色用基体57を保持した基体保持枠58が、円筒部53の上部に載置(設置)される。本実施形態では、染色用基体57には、適度な硬さの矩形の紙が用いられる。しかし、染色用基体57の材質には、ガラス板、耐熱性樹脂、セラミック、金属フィルム等の他の材質を用いることも可能である。耐熱性があり、且つ染料と化学反応を起こさない材質を染色用基体57の材質として採用することが望ましい。染色用基体57の下側の面(つまり、プラスチックレンズに対向する側の面)には、目的とする染色の態様に応じて、昇華性の染料が溶解または微粒子分散されたインク(染色用用材)が、プリンタによって印刷されている。プリンタを駆動するための印刷データ(色データ)は、作業者が所望する箇所に所望する色・濃度の色が染色されるように、電子計算機であるパーソナルコンピュータ(PC)によって作成される。従って、染色用基体57には、適切な位置に適切な量の昇華性染料が正確に付着する。印刷データを保存しておけば、同様の染色を複数回実行することも容易である。浸染法等の他の染色方法に比べて、グラデーション等の複雑な染色を行うことも容易である。染色用基体57に付着させる染料の色は、1色でも複数色でもよい。   As shown in FIG. 7, the closed chamber front wall 22 is fixed to the front side of the installation portion 50. Further, in the step of depositing the dye on the plastic lens, the substrate holding frame 58 holding the dyeing substrate 57 is placed (installed) on the upper portion of the cylindrical portion 53. In the present embodiment, rectangular paper having an appropriate hardness is used for the dyeing substrate 57. However, other materials such as a glass plate, a heat resistant resin, a ceramic, and a metal film can be used as the material for the dyeing substrate 57. It is desirable to adopt a material that has heat resistance and does not cause a chemical reaction with the dye as the material of the dyeing substrate 57. The lower surface of the dyeing substrate 57 (that is, the surface facing the plastic lens) is an ink (a dyeing material) in which a sublimable dye is dissolved or finely dispersed according to the target dyeing mode. ) Is printed by the printer. Print data (color data) for driving the printer is created by a personal computer (PC) which is an electronic computer so that a desired color / density color is dyed at a location desired by the operator. Therefore, an appropriate amount of sublimable dye is accurately attached to the dyeing substrate 57 at an appropriate position. If the print data is stored, it is easy to execute the same staining a plurality of times. Compared to other dyeing methods such as the dip dyeing method, complex dyeing such as gradation can be easily performed. The color of the dye attached to the dyeing substrate 57 may be one color or a plurality of colors.

基体保持枠58は、外形が平面視略矩形状の板状部材であり、染色用基体57を保持する。基体保持枠58には、設置部50の円筒部53(図6参照)の位置および大きさに対応するように、円形の開口が左右に2つ並べて形成されている。開口が形成された位置では、電磁波は基体保持枠58で遮断されることなく染色用基体57に直接照射される。また、染色用基体57から昇華した染料は、下方のプラスチックレンズ側へ円滑に流れる。なお、本実施形態では、基体保持枠58は磁性体(例えば、鉄)によって形成される。基体保持枠58が円筒部53の上端部に設置されると、染色用基体57の下方の面は、付着体55上に設置されたプラスチックレンズに非接触で対向する。   The substrate holding frame 58 is a plate-like member whose outer shape is substantially rectangular in plan view, and holds the dyeing substrate 57. In the substrate holding frame 58, two circular openings are formed side by side so as to correspond to the position and size of the cylindrical portion 53 (see FIG. 6) of the installation portion 50. At the position where the opening is formed, the electromagnetic wave is directly applied to the dyeing substrate 57 without being blocked by the substrate holding frame 58. Further, the dye sublimated from the dyeing substrate 57 smoothly flows to the lower plastic lens side. In the present embodiment, the substrate holding frame 58 is formed of a magnetic material (for example, iron). When the substrate holding frame 58 is installed at the upper end portion of the cylindrical portion 53, the lower surface of the dyeing substrate 57 faces the plastic lens installed on the adherend 55 in a non-contact manner.

図8を参照して、退避機構60について説明する。退避機構60は、基体保持枠58によって保持された染色用基体57(図7参照)を、設置部50から退避させる。退避機構60は、2つの支持アーム61、作動アーム63、退避モータ82、および回転リンク65を主に備える。2つの支持アーム61は、前後方向に平行に延びる。それぞれの支持アーム61の後端側は、筐体2(図1および図2参照)に回転可能に保持されている。作動アーム63は、左右方向に延びる略棒状の部材である。作動アーム63の左端部は、左側の支持アーム61の前端部に固定される。作動アーム63の右端部は、右側の支持アーム61の前端部に固定される。作動アーム63は、磁石(図示せず)を底部に備える。作動アーム63の底部が基体保持枠58に接触すると、基体保持枠58は作動アーム63の磁石に吸着する。   With reference to FIG. 8, the retracting mechanism 60 will be described. The retracting mechanism 60 retracts the dyeing substrate 57 (see FIG. 7) held by the substrate holding frame 58 from the installation unit 50. The retraction mechanism 60 mainly includes two support arms 61, an operation arm 63, a retraction motor 82, and a rotation link 65. The two support arms 61 extend parallel to the front-rear direction. The rear end side of each support arm 61 is rotatably held by the housing 2 (see FIGS. 1 and 2). The operating arm 63 is a substantially bar-shaped member extending in the left-right direction. The left end portion of the operating arm 63 is fixed to the front end portion of the left support arm 61. The right end portion of the operating arm 63 is fixed to the front end portion of the right support arm 61. The operating arm 63 includes a magnet (not shown) at the bottom. When the bottom of the operating arm 63 contacts the base body holding frame 58, the base body holding frame 58 is attracted to the magnet of the operating arm 63.

退避モータ82は、退避機構60の左側に設置されている。回転リンク65は、退避モータ82の近傍において、左右方向に延びる回転軸を中心として回転可能に保持されている。回転リンク65は、退避モータ82の動力によって回転する。回転リンク65の右側面における回転軸の外側には、右方に延びる円柱状の突出部66が設けられている。また、左側の支持アーム61には、前後方向に延びる係合長孔62が形成されている。係合長孔62の端手方向の幅(短径)は、突出部66の径と一致する。突出部66は係合長孔62に係合する。   The retract motor 82 is installed on the left side of the retract mechanism 60. The rotation link 65 is held in the vicinity of the retracting motor 82 so as to be rotatable about a rotation axis extending in the left-right direction. The rotation link 65 is rotated by the power of the retracting motor 82. A columnar protrusion 66 extending rightward is provided on the outer side of the rotation shaft on the right side surface of the rotation link 65. Further, the left support arm 61 is formed with an engagement long hole 62 extending in the front-rear direction. The width (minor axis) in the end-hand direction of the engagement long hole 62 matches the diameter of the protrusion 66. The protrusion 66 engages with the engagement long hole 62.

染色装置1は、退避モータ82を駆動させて回転リンク65を回転させることで、左側の支持アーム61を、後端側を中心として回転させることができる。左側の支持アーム61が回転すると、作動アーム63および右側の支持アーム61も回転する。染色装置1は、染色用基体57の染料の加熱(蒸着の工程)が完了するまでは、基体保持枠58よりも上方に作動アーム63を位置させる。蒸着の工程が完了すると、染色装置1は、設置部前後動機構40(図5参照)によって、閉塞室本体21(図4参照)の内部から前方に設置部50(図7参照)を移動させる。作動アーム63の位置を下げて、作動アーム63の底部の磁石に基体保持枠58を吸着させる。次いで、作動アーム63の位置を再び上昇させる。その結果、基体保持枠58によって保持された染色用基体57は、退避機構60によって自動的に設置部50から退避される。   The staining apparatus 1 can rotate the left support arm 61 around the rear end side by driving the retracting motor 82 to rotate the rotation link 65. When the left support arm 61 rotates, the operating arm 63 and the right support arm 61 also rotate. The dyeing apparatus 1 positions the operation arm 63 above the substrate holding frame 58 until the heating of the dye on the dyeing substrate 57 (the vapor deposition step) is completed. When the deposition process is completed, the staining apparatus 1 moves the installation unit 50 (see FIG. 7) forward from the inside of the closed chamber main body 21 (see FIG. 4) by the installation unit back-and-forth movement mechanism 40 (see FIG. 5). . The position of the operating arm 63 is lowered, and the base holding frame 58 is attracted to the magnet at the bottom of the operating arm 63. Next, the position of the operating arm 63 is raised again. As a result, the dyeing substrate 57 held by the substrate holding frame 58 is automatically retracted from the installation unit 50 by the retracting mechanism 60.

図9を参照して、染色装置1の電気的構成について説明する。染色装置1は、染色装置1の制御を司るCPU70を備える。CPU70には、RAM71、ROM72、不揮発性メモリ73、タッチパネル6、ディスプレイ7、冷却ファン8、ポンプ31、電磁弁33、圧力センサ84、熱電対24、ヒータ駆動部75、およびモータ駆動部76が、バスを介して接続されている。   With reference to FIG. 9, the electrical configuration of the staining apparatus 1 will be described. The staining apparatus 1 includes a CPU 70 that controls the staining apparatus 1. The CPU 70 includes a RAM 71, a ROM 72, a nonvolatile memory 73, a touch panel 6, a display 7, a cooling fan 8, a pump 31, a solenoid valve 33, a pressure sensor 84, a thermocouple 24, a heater driving unit 75, and a motor driving unit 76. Connected via bus.

RAM71は、各種情報を一時的に記憶する。ROM72には、染色装置1の動作を制御するための制御プログラム(例えば、図11に示す染色処理を制御するための染色制御プログラム等)が記憶されている。不揮発性メモリ73は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる記憶媒体である(例えば、ハードディスクドライブ、フラッシュROM等)。ヒータ駆動部75は2つの赤外線ヒータ12に接続し、赤外線ヒータ12の駆動を制御する。モータ駆動部76は、調整部回転モータ80、前後動モータ81、および退避モータ82の各々の駆動を制御する。   The RAM 71 temporarily stores various information. The ROM 72 stores a control program for controlling the operation of the staining apparatus 1 (for example, a staining control program for controlling the staining process shown in FIG. 11). The nonvolatile memory 73 is a storage medium (for example, a hard disk drive, a flash ROM, or the like) that can retain the stored contents even when power supply is interrupted. The heater driving unit 75 is connected to the two infrared heaters 12 and controls driving of the infrared heaters 12. The motor drive unit 76 controls driving of the adjustment unit rotation motor 80, the forward / backward movement motor 81, and the retracting motor 82.

本実施形態に係る染色樹脂体の製造方法の概要について説明する。従来、樹脂体を染色して染色樹脂体を製造する方法として、浸漬染色方法(以下、「浸漬法」という。)が多く用いられている。浸漬法では、染料が分散された液体を加熱し、加熱した液体に樹脂体を浸漬することで、染色が行われる。この浸漬法では、染料の凝集等によって染色が不安定となる問題、廃棄される染料が多いという問題、作業環境が悪いという問題等、種々の問題がある。また、固形の昇華性染料を加熱して昇華させることで樹脂体を染色する方法も存在する。しかし、固形の昇華性染料を定量的に飛ばすのは困難であり、色の調整も難しい。これに対し、本実施形態に係る染色方法(以下、「気相転写染色方法」という。)では、板状の染色用基体57に昇華性染料が付着されて、染色用基体57から樹脂体に染料が転写(蒸着)される。次いで、樹脂体が加熱されることで、染料が樹脂体に定着する。よって、色相および濃度のばらつきが減少し、染色の品質が安定する。染色に必要な染料(つまり、染色用基体に付着させる染料)は、浸染法において液体に分散させる染料よりも少量で良いため、無駄になる染料は浸染法に比べて少ない。さらに、作業環境も、浸染法を行う場合に比べて改善される。なお、本実施形態における「定着」とは、樹脂面に付着した染料が熱によって単分子レベルで樹脂内に拡散された状態を示す。「定着」は、染色または発色と表現される場合もある。また、定着の工程では、樹脂体に転写された染料自体が加熱されてもよい。本実施形態でも、電磁波発生部11が発生させる可視域の光によって、樹脂体と共に染料自体も加熱され、染料が樹脂体に定着される。   An outline of a method for producing a dyed resin body according to this embodiment will be described. Conventionally, an immersion dyeing method (hereinafter referred to as “immersion method”) is often used as a method for producing a dyed resin body by dyeing a resin body. In the dipping method, dyeing is performed by heating a liquid in which a dye is dispersed and immersing a resin body in the heated liquid. This dipping method has various problems such as a problem that dyeing becomes unstable due to aggregation of dyes, a problem that a large amount of dye is discarded, and a problem that the working environment is bad. There is also a method for dyeing a resin body by heating and sublimating a solid sublimable dye. However, it is difficult to quantitatively fly the solid sublimable dye, and it is also difficult to adjust the color. On the other hand, in the dyeing method according to the present embodiment (hereinafter referred to as “gas phase transfer dyeing method”), a sublimation dye is attached to the plate-like dyeing substrate 57 and the dyeing substrate 57 is applied to the resin body. The dye is transferred (deposited). Next, the resin body is heated to fix the dye to the resin body. Therefore, variations in hue and density are reduced, and the quality of dyeing is stabilized. The dye necessary for dyeing (that is, the dye attached to the dyeing substrate) may be a smaller amount than the dye dispersed in the liquid in the dip dyeing method, and therefore less dye is wasted than in the dip dyeing method. Furthermore, the working environment is also improved compared to the case where the dip dyeing method is performed. In the present embodiment, “fixing” refers to a state in which the dye attached to the resin surface is diffused into the resin at a single molecule level by heat. “Fixing” may also be expressed as dyeing or color development. Further, in the fixing step, the dye itself transferred to the resin body may be heated. Also in this embodiment, the dye itself is heated together with the resin body by the visible light generated by the electromagnetic wave generator 11, and the dye is fixed to the resin body.

気相転写染色方法で樹脂体を染色する場合、蒸着の工程で染色用基体57の染料を加熱し、且つ、定着の工程で樹脂体を加熱する。蒸着の工程では、染料の凝集等を防ぎつつ正確に染料を蒸着させるために、樹脂体の周囲を略真空にして染料を加熱する必要がある。また、定着の工程では、樹脂体の各部位に温度差が生じると、染料の定着が不均一となる場合がある。加熱によって樹脂体に生じる変色の影響が不均一に現れて、見栄えが悪くなる場合もある。従って、従来の気相転写染色方法では、電磁波加熱による蒸着の工程が略真空の雰囲気下で行われた後、樹脂体がオーブンに移動され、オーブンによって定着の工程が実行される。オーブンを用いることで、樹脂体はゆっくりと温度上昇するため、樹脂体の各部位における温度差の発生が抑制される。   When the resin body is dyed by the gas phase transfer dyeing method, the dye of the dyeing substrate 57 is heated in the vapor deposition step, and the resin body is heated in the fixing step. In the vapor deposition step, in order to deposit the dye accurately while preventing the aggregation of the dye and the like, it is necessary to heat the dye with a vacuum around the resin body. In the fixing process, if a temperature difference occurs in each part of the resin body, the fixing of the dye may be uneven. The effect of discoloration that occurs in the resin body due to heating appears non-uniformly, and may deteriorate in appearance. Therefore, in the conventional vapor phase transfer dyeing method, after the vapor deposition step by electromagnetic wave heating is performed in a substantially vacuum atmosphere, the resin body is moved to the oven, and the fixing step is performed by the oven. By using the oven, the temperature of the resin body rises slowly, so that the occurrence of a temperature difference at each part of the resin body is suppressed.

しかし、従来の気相転写染色方法では、蒸着の工程を行うための装置と、定着の工程を行うためのオーブンとが共に用いられていた。この場合、2つの装置を設置するための広いスペースが必要であり、且つ、装置を導入するためのコストを低下させることも困難であった。よって、例えば眼鏡の小売店等で気相転写染色方法を行うことは困難であり、品物を迅速に顧客に提供することはできなかった。さらに、オーブンによって定着の工程を実行する場合、樹脂体をオーブンに移動させるための時間を要し、且つ、オーブンによる温度上昇の速度も遅い。従って、定着の工程に要する時間を短縮することも困難であった。   However, in the conventional vapor phase transfer dyeing method, an apparatus for performing a vapor deposition process and an oven for performing a fixing process are used together. In this case, a large space is required for installing the two devices, and it is difficult to reduce the cost for introducing the devices. Therefore, for example, it is difficult to carry out the vapor phase transfer dyeing method at a spectacles retail store or the like, and it has not been possible to quickly provide the product to the customer. Further, when the fixing process is executed by the oven, it takes time to move the resin body to the oven, and the rate of temperature rise by the oven is also slow. Therefore, it has been difficult to shorten the time required for the fixing process.

上記問題を解決するためには、蒸着の工程で染料の加熱に用いられる電磁波発生部を、定着の工程における樹脂体の加熱にも使用することが望ましい。しかし、電磁波を照射することで樹脂体を加熱する場合、前述したように、樹脂体の各部位に温度差が生じて染色品質が低下する場合がある。また、樹脂体の周囲の気圧が低いまま定着の工程を行うと、樹脂体に付着した染料が再び昇華して染色の品質が不安定になる可能性もある。本実施形態で例示する技術によると、以上の問題を解決することも可能であり、高品質の染色樹脂体を短時間且つ低コストで製造することができる。   In order to solve the above problem, it is desirable to use the electromagnetic wave generating portion used for heating the dye in the vapor deposition step for heating the resin body in the fixing step. However, when the resin body is heated by irradiating electromagnetic waves, as described above, a temperature difference may occur in each part of the resin body, and the dyeing quality may deteriorate. In addition, if the fixing step is performed while the atmospheric pressure around the resin body is low, the dye attached to the resin body may be sublimated again, resulting in unstable dyeing quality. According to the technique exemplified in the present embodiment, the above problems can be solved, and a high-quality dyed resin body can be produced in a short time and at a low cost.

図10を参照して、本実施形態に係る染色樹脂体製造工程について詳細に説明する。まず、染色用基体57を作成する工程が行われる(S1)。前述したように、本実施形態では、プリンタが、PCによって作成された印刷データに基づいて、昇華性染料を含有したインクを基体(本実施形態では紙)に印刷する。その結果、染色用基体57が作成される。従って、染色用基体57には、適切な位置に適切な量の昇華性染料が正確に付着する。PCにおける印刷データの作成、変更、保存等は容易である。よって、複雑な染色も容易であり、同様の染色を繰り返すことも可能である。ただし、PCおよびプリンタを用いずに染色用基体57を作成しても、本発明は実現できる。例えば、作業者は、スプレー等を用いて昇華性染料を紙に付着させることで染色用基体57を作成してもよい。   With reference to FIG. 10, the dyeing resin body manufacturing process which concerns on this embodiment is demonstrated in detail. First, a step of creating the dyeing substrate 57 is performed (S1). As described above, in this embodiment, the printer prints the ink containing the sublimable dye on the substrate (paper in this embodiment) based on the print data created by the PC. As a result, a dyeing substrate 57 is created. Therefore, an appropriate amount of sublimable dye is accurately attached to the dyeing substrate 57 at an appropriate position. It is easy to create, change, and save print data on a PC. Therefore, complicated staining is easy, and the same staining can be repeated. However, the present invention can be realized even if the dyeing substrate 57 is formed without using a PC and a printer. For example, the operator may create the dyeing substrate 57 by attaching a sublimation dye to paper using a spray or the like.

次いで、作業者は、染色する樹脂体と、S1で作成した染色用基体57とを、染色が行われる位置に設置する(S2)。本実施形態では、樹脂体であるプラスチックレンズが、設置部50の付着体55(図6参照)上に設置される。染色用基体57は、基体保持枠58(図7参照)に保持された状態で、設置部50の円筒部53の上端に設置される。染色用基体57は、昇華性染料が付着した付着面が樹脂体に非接触で対向するように配置される。よって、本実施形態では、付着面が下方を向くように染色用基体57が配置される。   Next, the operator installs the resin body to be dyed and the dyeing substrate 57 created in S1 at a position where dyeing is performed (S2). In the present embodiment, a plastic lens, which is a resin body, is installed on the adherend 55 (see FIG. 6) of the installation unit 50. The dyeing substrate 57 is installed on the upper end of the cylindrical portion 53 of the installation unit 50 while being held by the substrate holding frame 58 (see FIG. 7). The dyeing substrate 57 is arranged so that the adhesion surface on which the sublimable dye is adhered faces the resin body in a non-contact manner. Therefore, in this embodiment, the dyeing | staining base | substrate 57 is arrange | positioned so that an adhesion surface may face a downward direction.

次いで、樹脂体周辺の気圧を低下させる工程、および、付着体55を樹脂体に付着させる工程が行われる(S3)。本実施形態では、ポンプ31(図9参照)によって閉塞室20内の気体が外部に排出されることで、閉塞室20内が略真空状態とされる。この間、樹脂体の底面と付着体55の上面との間に存在する気体が吸引され、付着体55が樹脂体の底面(つまり、染料が蒸着される面と反対の面)に付着する。従って、本実施形態では、樹脂体に付着体55を押し付ける等の工程が行われなくても、略真空の空間が形成される過程で樹脂体に付着体55が付着する。樹脂体に付着した付着体55が、蒸着(つまり、染色用基体57から樹脂体表面への染料の付着)の妨げになることもない。   Next, a step of lowering the air pressure around the resin body and a step of attaching the adhering body 55 to the resin body are performed (S3). In the present embodiment, the gas in the closed chamber 20 is discharged to the outside by the pump 31 (see FIG. 9), whereby the closed chamber 20 is brought into a substantially vacuum state. During this time, the gas existing between the bottom surface of the resin body and the top surface of the attachment body 55 is sucked, and the attachment body 55 adheres to the bottom surface of the resin body (that is, the surface opposite to the surface on which the dye is deposited). Therefore, in this embodiment, even if the process of pressing the adhering body 55 to the resin body is not performed, the adhering body 55 adheres to the resin body in the process of forming a substantially vacuum space. The adhering body 55 adhering to the resin body does not hinder vapor deposition (that is, adhesion of dye from the dyeing substrate 57 to the resin body surface).

次いで、昇華性染料を樹脂体に蒸着させる工程が行われる(S4)。本実施形態では、電磁波発生部11が発生する電磁波によって染色用基体57が加熱される。その結果、染色用基体57の下側の面に付着している昇華性染料が加熱されて昇華し、樹脂体の上面に蒸着される。   Next, a step of depositing a sublimable dye on the resin body is performed (S4). In the present embodiment, the dyeing substrate 57 is heated by the electromagnetic waves generated by the electromagnetic wave generator 11. As a result, the sublimable dye adhering to the lower surface of the dyeing substrate 57 is heated and sublimated, and is deposited on the upper surface of the resin body.

次いで、樹脂体周辺の気圧を上昇させる工程が行われる(S5)。本実施形態では、電磁弁33(図9参照)が開放されることで、閉塞室20の内部に給排気管を通じて外部の気体が導入される。その結果、閉塞室20内の気圧は大気圧まで戻される。   Next, a step of increasing the air pressure around the resin body is performed (S5). In the present embodiment, when the electromagnetic valve 33 (see FIG. 9) is opened, external gas is introduced into the closed chamber 20 through the air supply / exhaust pipe. As a result, the atmospheric pressure in the closed chamber 20 is returned to atmospheric pressure.

次いで、染色用基体57を設置部50から退避させる工程が行われる(S6)。本実施形態では、まず、設置部前後動機構40(図5参照)によって設置部50が閉塞室20の外部へ移動される。染色用基体57を保持している基体保持枠58が、退避機構60(図8参照)によって設置部50から退避される。その後、設置部50は、設置部前後動機構40によって、閉塞室20の内部へ戻される。   Next, a step of retracting the dyeing substrate 57 from the installation unit 50 is performed (S6). In the present embodiment, first, the installation part 50 is moved to the outside of the closed chamber 20 by the installation part back-and-forth movement mechanism 40 (see FIG. 5). The substrate holding frame 58 holding the dyeing substrate 57 is retracted from the installation unit 50 by the retracting mechanism 60 (see FIG. 8). Thereafter, the installation unit 50 is returned to the inside of the closed chamber 20 by the installation unit longitudinal movement mechanism 40.

次いで、樹脂体に染料を定着させる工程が行われる(S7)。本実施形態では、蒸着の工程(S4)で用いられた電磁波発生部11が再び駆動される。染色用基体57は退避されているため、電磁波発生部11が発生させた電磁波は、染色用基体57に遮断されることなく樹脂体に照射される。よって、染色用基体57が燃えることは無いため、燃えかす等によって染色の品質が低下することは無い。電磁波の照射分布は、分布調整部14(図3参照)によって適切に調整されている。さらに、樹脂体には付着体55が付着しており、樹脂体の一部に局所的に発生した熱は付着体55に拡散する。従って、樹脂体における各部位の温度差は発生し難い。電磁波は、樹脂体のうち、付着体55が付着した側の反対側(本実施形態では上面)に照射される。従って、電磁波は、付着体55を経ずに樹脂体に到達し、樹脂体の上面に蒸着された染料が効率よく定着する。   Next, a step of fixing the dye to the resin body is performed (S7). In the present embodiment, the electromagnetic wave generator 11 used in the vapor deposition step (S4) is driven again. Since the dyeing substrate 57 is retracted, the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generator 11 is applied to the resin body without being blocked by the dyeing substrate 57. Therefore, since the dyeing base 57 does not burn, the quality of dyeing does not deteriorate due to burnout or the like. The irradiation distribution of electromagnetic waves is appropriately adjusted by the distribution adjusting unit 14 (see FIG. 3). Further, the adhering body 55 adheres to the resin body, and the heat generated locally in a part of the resin body diffuses into the adhering body 55. Therefore, the temperature difference of each part in the resin body hardly occurs. The electromagnetic wave is irradiated to the opposite side (upper surface in this embodiment) of the resin body to the side on which the adherent 55 is attached. Therefore, the electromagnetic wave reaches the resin body without passing through the adhering body 55, and the dye deposited on the upper surface of the resin body is efficiently fixed.

次いで、樹脂体の徐冷が行われて(S8)、染色樹脂体製造工程は終了する。本実施形態では、閉塞室20内、または、閉塞室20の前側の空間(前室)で、樹脂体を所定時間以上待機させる。その結果、樹脂体の温度が徐々に低下する。染色装置1は、温度が低下した樹脂体を筐体2の外部に移動させて、工程を終了させる。染色装置1は、徐冷の工程(S8)を実行することで、作業者が火傷を負う危険性を低下させることができる。また、樹脂体の温度が急激に低下して変形・割れが生じる可能性も低下する。   Next, the resin body is gradually cooled (S8), and the dyed resin body manufacturing process is completed. In the present embodiment, the resin body is kept waiting for a predetermined time or longer in the closed chamber 20 or in a space (front chamber) on the front side of the closed chamber 20. As a result, the temperature of the resin body gradually decreases. The dyeing apparatus 1 moves the resin body whose temperature has decreased to the outside of the housing 2 and ends the process. The dyeing | staining apparatus 1 can reduce the risk of an operator being burned by performing the slow cooling process (S8). In addition, the temperature of the resin body is drastically lowered and the possibility of deformation and cracking is also reduced.

図11を参照して、染色装置1のCPU70が実行する染色処理について説明する。前述したように、染色装置1のROM72には、染色処理を制御するための染色制御プログラム等が記憶されている。CPU70は、染色装置1の電源がONとされると、染色制御プログラムにしたがって、図11に示す染色処理を実行する。染色処理では、前述した染色樹脂体製造工程(図10参照)のうちのS3〜S8の工程が、自動的に行われる。   With reference to FIG. 11, the dyeing | staining process which CPU70 of the dyeing | staining apparatus 1 performs is demonstrated. As described above, the ROM 72 of the staining apparatus 1 stores a staining control program for controlling the staining process. When the power of the staining apparatus 1 is turned on, the CPU 70 executes the staining process shown in FIG. 11 according to the staining control program. In the dyeing process, steps S3 to S8 in the dyed resin body manufacturing process (see FIG. 10) described above are automatically performed.

まず、開口部切替指示、またはレンズ情報が入力されたか否かが判断される(S21)。開口部切替指示とは、分布調整部14(図3参照)に形成された複数の開口部15のうち、電磁波発生部11と設置部50(図1参照)の間に位置させる開口部15を切り替える指示である。開口部15を切り替える指示は、開口部15の大きさを直接指定する指示でもよい。また、レンズ情報とは、染色するプラスチックレンズのパラメータである。パラメータとしては、例えば、レンズの素材、径、度数、屈折率、上端面の高さ、中心面の高さ、形状等を用いることができる。作業者は、タッチパネル6を操作することで、開口部切替指示またはレンズ情報を染色装置1に入力することができる。また、染色装置1は、ネットワーク等を介して、開口部切替指示またはレンズ情報を他のデバイスから入力することも可能である。   First, it is determined whether or not an opening switching instruction or lens information is input (S21). The opening switching instruction refers to the opening 15 positioned between the electromagnetic wave generator 11 and the installation unit 50 (see FIG. 1) among the plurality of openings 15 formed in the distribution adjusting unit 14 (see FIG. 3). This is an instruction to switch. The instruction for switching the opening 15 may be an instruction for directly specifying the size of the opening 15. The lens information is a parameter of the plastic lens to be dyed. As the parameters, for example, a lens material, a diameter, a power, a refractive index, a height of an upper end surface, a height of a central surface, a shape, and the like can be used. The operator can input an opening switching instruction or lens information to the staining apparatus 1 by operating the touch panel 6. The staining apparatus 1 can also input an opening switching instruction or lens information from another device via a network or the like.

開口部切替指示およびレンズ情報がいずれも入力されていなければ(S21:NO)、処理はそのままS24の判断へ移行する。開口部の切替指示が入力されると(S21:YES)、調整部回転モータ80(図9参照)によって分布調整部14が回転されることで、開口部15が切り替えられる(S22)。また、レンズ情報が入力されると(S21:YES)、入力されたパラメータを有するレンズを加熱するために適した開口部15が使用されるように、調整部回転モータ80が駆動される。一例として、本実施形態では、レンズ情報として、レンズの形状(プラスレンズ、マイナスレンズ等)が入力される。CPU70は、入力されたレンズの形状に応じて開口部15を切り替える。処理はS24の判断へ移行する。   If neither the opening switching instruction nor the lens information is input (S21: NO), the process proceeds to the determination of S24 as it is. When the opening switching instruction is input (S21: YES), the distribution adjusting unit 14 is rotated by the adjusting unit rotating motor 80 (see FIG. 9), thereby switching the opening 15 (S22). When the lens information is input (S21: YES), the adjustment unit rotating motor 80 is driven so that the opening 15 suitable for heating the lens having the input parameters is used. As an example, in this embodiment, the lens shape (plus lens, minus lens, etc.) is input as lens information. The CPU 70 switches the opening 15 according to the input lens shape. The process proceeds to the determination at S24.

本実施形態では、径が大きい開口部15Aを用いる場合、電磁波の強度分布は、プラスチックレンズの中心部よりも外側の方が強くなる。また、径が小さい開口部15Bを用いる場合、環状の開口部15Bを通過した電磁波は、プラスチックレンズの中心部で重なり合う。その結果、電磁波の強度分布は、プラスチックレンズの外側よりも中心部の方が強くなる。従って、染色するプラスチックレンズとしてマイナスレンズが指定された場合、CPU70は、径が大きい開口部15Aを電磁波発生部11と設置部50の間に位置させる。この場合、中心部よりも外側の方が厚いマイナスレンズの各部が、略均等に加熱される。一方で、染色するプラスチックレンズとしてプラスレンズが指定された場合、CPU70は、径が小さい開口部15Bを電磁波発生部11と設置部50の間に位置させる。この場合、中心部の方が外側よりも厚いプラスレンズの各部が、略均等に加熱される。   In the present embodiment, when the opening 15A having a large diameter is used, the intensity distribution of the electromagnetic wave is stronger on the outer side than the central part of the plastic lens. Moreover, when using the opening part 15B with a small diameter, the electromagnetic waves that have passed through the annular opening part 15B overlap at the center part of the plastic lens. As a result, the intensity distribution of electromagnetic waves is stronger at the center than on the outside of the plastic lens. Therefore, when a minus lens is designated as the plastic lens to be dyed, the CPU 70 positions the opening 15 </ b> A having a large diameter between the electromagnetic wave generation unit 11 and the installation unit 50. In this case, each part of the minus lens that is thicker on the outer side than the center part is heated substantially evenly. On the other hand, when a plus lens is designated as the plastic lens to be dyed, the CPU 70 positions the opening 15B having a small diameter between the electromagnetic wave generation unit 11 and the installation unit 50. In this case, each portion of the plus lens whose center portion is thicker than the outside is heated substantially uniformly.

次いで、染色を開始させる指示が入力されたか否かが判断される(S24)。作業者は、設置部50にプラスチックレンズと染色用基体57を設置する。次いで、作業者は、タッチパネル6のうち、ディスプレイ7に表示されているスタートボタン(図示せず)に対応する位置に触れることで、染色の開始指示を染色装置1に入力する。染色の開始指示が未だ入力されていない場合には(S24:NO)、処理はS21の判断へ戻り、S21およびS24の判断が繰り返される。   Next, it is determined whether or not an instruction to start staining has been input (S24). The operator installs the plastic lens and the dyeing substrate 57 in the installation unit 50. Next, the worker inputs a staining start instruction to the staining apparatus 1 by touching a position corresponding to a start button (not shown) displayed on the display 7 of the touch panel 6. If the staining start instruction has not yet been input (S24: NO), the process returns to the determination in S21, and the determinations in S21 and S24 are repeated.

染色の開始指示が入力されると(S24:YES)、前後動モータ81(図5参照)が駆動されて、設置部50が後方に移動されることで、設置部50が閉塞室20内に搬入される(S26)。その結果、閉塞室20内は、閉塞室本体21、閉塞室前壁22、および透過部25によって閉塞される。次いで、ポンプ31(図9参照)によって閉塞室20内の気体が外部に排出されることで、閉塞室20内の気圧が低下されて、略真空状態とされる(S27)。その結果、付着体55は自動的にプラスチックレンズに付着する。   When an instruction to start staining is input (S24: YES), the forward / backward movement motor 81 (see FIG. 5) is driven and the installation unit 50 is moved rearward, so that the installation unit 50 is moved into the closed chamber 20. It is carried in (S26). As a result, the inside of the closed room 20 is closed by the closed room main body 21, the closed room front wall 22, and the transmission part 25. Next, the gas in the closed chamber 20 is discharged to the outside by the pump 31 (see FIG. 9), so that the atmospheric pressure in the closed chamber 20 is reduced and a substantially vacuum state is obtained (S27). As a result, the adhering body 55 automatically adheres to the plastic lens.

圧力センサ84(図9参照)によって検出される閉塞室20内の圧力が閾値以下となり、気体の排出が完了したと判断されると、赤外線ヒータ12(図2参照)がONとされて、電磁波(本実施形態では赤外線)が発生される(S28)。電磁波は、設置部50に設置された染色用基体57に向けて照射される。その結果、染色用基体57の下側の面に付着した昇華性染料が加熱されて昇華し、プラスチックレンズの上側の面に付着(蒸着)される。本実施形態におけるS28の処理では、最大の出力で赤外線ヒータ12から電磁波が照射される。その結果、短時間で安定した蒸着が行われる。また、蒸着における電磁波の照射時間は予め設定されている。照射時間が経過すると、赤外線ヒータ12がOFFとされる(S29)。電磁弁33(図9参照)が開放されて、閉塞室20の内部に外部の気体が導入され、閉塞室20内の気圧が略大気圧まで上昇される(S30)。   When the pressure in the closed chamber 20 detected by the pressure sensor 84 (see FIG. 9) becomes equal to or lower than the threshold value and it is determined that the gas discharge is completed, the infrared heater 12 (see FIG. 2) is turned on, and the electromagnetic wave (Infrared rays in the present embodiment) is generated (S28). The electromagnetic wave is irradiated toward the dyeing substrate 57 installed in the installation unit 50. As a result, the sublimable dye attached to the lower surface of the dyeing substrate 57 is heated and sublimated, and is attached (deposited) on the upper surface of the plastic lens. In the process of S28 in this embodiment, electromagnetic waves are irradiated from the infrared heater 12 with the maximum output. As a result, stable deposition is performed in a short time. Moreover, the irradiation time of the electromagnetic wave in vapor deposition is preset. When the irradiation time has elapsed, the infrared heater 12 is turned off (S29). The electromagnetic valve 33 (see FIG. 9) is opened, external gas is introduced into the closed chamber 20, and the atmospheric pressure in the closed chamber 20 is increased to approximately atmospheric pressure (S30).

次いで、前後動モータ81が駆動されて、設置部50が閉塞室20の外側(前方)へ移動される(S32)。退避モータ82(図8参照)が駆動されて、退避機構60の作動アーム63に基体保持枠58が磁力によって吸着された後、作動アーム63が上昇される。その結果、電磁波発生部11によって加熱される位置から、染色用基体57が退避される(S33)。従って、染色装置1は、染色用基体57を退避させるための作業を作業者に実行させることなく染色を行うことができる。その後、設置部前後動機構40によって、設置部50が再び閉塞室20内に搬入される(S34)。   Next, the longitudinal motor 81 is driven, and the installation unit 50 is moved to the outside (front) of the closed chamber 20 (S32). After the retracting motor 82 (see FIG. 8) is driven and the base holding frame 58 is attracted to the operating arm 63 of the retracting mechanism 60 by magnetic force, the operating arm 63 is raised. As a result, the dyeing substrate 57 is withdrawn from the position heated by the electromagnetic wave generator 11 (S33). Therefore, the dyeing apparatus 1 can perform dyeing without causing the operator to perform an operation for retracting the dyeing substrate 57. Thereafter, the installation part 50 is carried into the closed chamber 20 again by the installation part back-and-forth movement mechanism 40 (S34).

次いで、閉塞室20内の気圧が大気圧または略大気圧とされた状態で、赤外線ヒータ12がONとされて、電磁波が発生される(S36)。染色用基体57が退避されているため、電磁波は、設置部50の付着体55上に設置されたプラスチックレンズに直接照射され、プラスチックレンズを加熱する。その結果、プラスチックレンズの上面に蒸着された染料が定着する。閉塞室20内の気圧は略大気圧であるため、プラスチックレンズに付着した染料が再び昇華して染色が不安定となる可能性は低い。プラスチックレンズに照射される電磁波の強度分布は、分布調整部14によって適切に調整されている。従って、プラスチックレンズの各部位の温度上昇は適切に(略均等となるように)制御される。また、プラスチックレンズの下側の面には付着体55が付着している。従って、プラスチックレンズの一部の温度が他の部分の温度よりも高くなった場合でも、他の部分よりも多く発生した熱は付着体55に拡散する。その結果、樹脂体の各部位の温度上昇割合に差が生じることが抑制される。   Next, the infrared heater 12 is turned on with the atmospheric pressure in the closed chamber 20 being atmospheric pressure or substantially atmospheric pressure, and electromagnetic waves are generated (S36). Since the dyeing substrate 57 is retracted, the electromagnetic wave is directly applied to the plastic lens installed on the attachment 55 of the installation unit 50 to heat the plastic lens. As a result, the dye deposited on the upper surface of the plastic lens is fixed. Since the pressure in the closed chamber 20 is substantially atmospheric pressure, it is unlikely that the dye attached to the plastic lens will sublime again and the dyeing becomes unstable. The intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the plastic lens is appropriately adjusted by the distribution adjusting unit 14. Therefore, the temperature rise of each part of the plastic lens is appropriately controlled (so as to be substantially equal). Further, an adhering body 55 is attached to the lower surface of the plastic lens. Therefore, even when the temperature of a part of the plastic lens becomes higher than the temperature of the other part, the heat generated more than the other part diffuses to the adhering body 55. As a result, it is possible to suppress a difference in the temperature increase rate of each part of the resin body.

本実施形態におけるS36の処理では、まず、最大の出力で赤外線ヒータ12から電磁波が照射される。従って、染色装置1は、プラスチックレンズの温度を短時間で上昇させることができる。次いで、CPU70は、プラスチックレンズの温度上昇が完了すると、プラスチックレンズの温度が維持されるように赤外線ヒータ12の出力を調整する。出力を調整するタイミングは、熱電対24(図4参照)によって検出される温度が所定温度となるタイミングでもよいし、電磁波の照射開始から所定時間経過したタイミングでもよい。なお、定着における電磁波の照射時間は予め設定されている。また、染色装置1は、定着の工程(S36)の途中で開口部15を切り替えることで、プラスチックレンズの温度を維持してもよい。照射時間が経過すると、赤外線ヒータ12がOFFとされる(S37)。閉塞室20内または前室内でプラスチックレンズが待機されて、プラスチックレンズの徐冷が行われる(S38)。徐冷が終了すると、設置部50が設置部前後動機構40によって筐体2の外部へ移動されて(S39)、染色処理は終了する。なお、冷却ファン8は、少なくとも電磁波が発生している間は常に駆動される。よって、筐体2内の無駄な熱は、冷却ファン8によって外部に放出される。   In the process of S36 in this embodiment, first, electromagnetic waves are irradiated from the infrared heater 12 with the maximum output. Therefore, the staining apparatus 1 can raise the temperature of the plastic lens in a short time. Next, when the temperature rise of the plastic lens is completed, the CPU 70 adjusts the output of the infrared heater 12 so that the temperature of the plastic lens is maintained. The timing for adjusting the output may be a timing at which the temperature detected by the thermocouple 24 (see FIG. 4) reaches a predetermined temperature, or a timing at which a predetermined time has elapsed from the start of irradiation of electromagnetic waves. The electromagnetic wave irradiation time for fixing is set in advance. Further, the dyeing apparatus 1 may maintain the temperature of the plastic lens by switching the opening 15 during the fixing step (S36). When the irradiation time has elapsed, the infrared heater 12 is turned off (S37). The plastic lens is waited in the closed chamber 20 or the front chamber, and the plastic lens is gradually cooled (S38). When the slow cooling is finished, the installation part 50 is moved to the outside of the housing 2 by the installation part back-and-forth movement mechanism 40 (S39), and the dyeing process is finished. The cooling fan 8 is always driven at least while electromagnetic waves are generated. Therefore, useless heat in the housing 2 is released to the outside by the cooling fan 8.

なお、本実施形態では、プラスチックレンズの周囲の気圧(つまり、閉塞室20内の気圧)が大気圧とされた状態で定着の工程が行われる。よって、プラスチックレンズに蒸着された染料が再び昇華する可能性が低下する。しかし、定着時におけるプラスチックレンズの周囲の気圧は大気圧に限定されない。例えば、プラスチックレンズの周囲の気圧を、大気圧よりも高い気圧としてもよい。また、プラスチックレンズの周囲の気圧を、蒸着時の気圧と大気圧との間に設定してもよい。つまり、染色装置1は、定着時の気圧を少なくとも蒸着時の気圧よりも高くすれば、蒸着時と同じ気圧で定着の工程を行う場合に比べて、染料が再び昇華する割合を低下させることができる。   In the present embodiment, the fixing process is performed in a state where the atmospheric pressure around the plastic lens (that is, the atmospheric pressure in the closed chamber 20) is an atmospheric pressure. Therefore, the possibility that the dye deposited on the plastic lens sublimates again decreases. However, the atmospheric pressure around the plastic lens at the time of fixing is not limited to atmospheric pressure. For example, the atmospheric pressure around the plastic lens may be higher than atmospheric pressure. Further, the atmospheric pressure around the plastic lens may be set between the atmospheric pressure during vapor deposition and the atmospheric pressure. In other words, the dyeing apparatus 1 can reduce the rate at which the dye sublimates again, as compared with the case where the fixing process is performed at the same pressure as during vapor deposition if the atmospheric pressure during fixation is at least higher than the atmospheric pressure during vapor deposition. it can.

図12を参照して、上記実施形態の第一変形例について説明する。上記実施形態の染色装置1では、分布調整部14が回転して開口部15A,15Bが切り替わった場合、または、分布調整部14自体が取り替えられた場合に、電磁波の照射分布が変化する。一方で、図12に示す第一変形例では、分布調整部14と、設置部50に設置されたプラスチックレンズ88との間の距離Dが調整されることで、電磁波の照射分布が変化する。   A first modification of the above embodiment will be described with reference to FIG. In the staining apparatus 1 of the above embodiment, the distribution of electromagnetic waves changes when the distribution adjustment unit 14 rotates and the openings 15A and 15B are switched or when the distribution adjustment unit 14 itself is replaced. On the other hand, in the first modified example shown in FIG. 12, the irradiation distribution of electromagnetic waves changes by adjusting the distance D between the distribution adjusting unit 14 and the plastic lens 88 installed in the installation unit 50.

図12に示すように、第一変形例でも上記実施形態と同様に、円環状の電磁波発生部位を有する電磁波発生部11と、樹脂体であるプラスチックレンズ88との間に、円環状の開口部15を有する分布調整部14が配置されている。さらに、第一変形例では、電磁波発生部11と分布調整部14とを設置部50に対して移動(上下動)させるための距離調整部90が設けられている。距離調整部90には種々の構成を採用できる。第一変形例では、ラックアンドピニオン機構が距離調整部90として採用されている。染色装置1は、図示しない距離調整モータを回転させることで、ラックアンドピニオン機構を駆動する。しかし、作業者が手動でラックアンドピニオン機構を駆動してもよい。   As shown in FIG. 12, in the first modification as well, in the same way as in the above embodiment, an annular opening is provided between the electromagnetic wave generating part 11 having an annular electromagnetic wave generating part and the plastic lens 88 that is a resin body. A distribution adjusting unit 14 having 15 is arranged. Furthermore, in the first modified example, a distance adjusting unit 90 for moving (vertically moving) the electromagnetic wave generating unit 11 and the distribution adjusting unit 14 with respect to the installation unit 50 is provided. Various configurations can be employed for the distance adjustment unit 90. In the first modification, a rack and pinion mechanism is employed as the distance adjustment unit 90. The staining apparatus 1 drives the rack and pinion mechanism by rotating a distance adjustment motor (not shown). However, the operator may manually drive the rack and pinion mechanism.

分布調整部14とプラスチックレンズ88の距離Dを短くすると、開口部15を通過した電磁波のビームがあまり拡散せずに、プラスチックレンズ88の外周部近傍に強く照射される。その結果、プラスチックレンズ88の外周部近傍の温度上昇割合は、中心の温度上昇割合よりも高くなる。一方で、距離Dを長くすると、開口部15を通過した電磁波のビームは、プラスチックレンズ88に到達する時点で拡散が進んだ状態となる。環状の開口部15を通過した電磁波のビームが拡散すると、プラスチックレンズ88の中心では、拡散した電磁波が重なり合う。その結果、外周部近傍に対する中心の温度上昇割合は、距離Dが短い場合に比べて高くなる。以上のように、第一変形例の染色装置1は、分布調整部14と設置部50の距離を距離調整部90によって変化させることで、プラスチックレンズ88に照射させる電磁波の強度分布を動的に変化させることができる。なお、染色装置1は、電磁波発生部11と分布調整部14の距離Pを変化させることで、電磁波の強度分布を変化させてもよい。電磁波発生部11と分布調整部14の距離、および、分布調整部14と設置部50の距離を共に変化させることで強度分布を変化させてもよい。また、設置部50を上下動させることで距離を調整してもよい。   When the distance D between the distribution adjustment unit 14 and the plastic lens 88 is shortened, the electromagnetic wave beam that has passed through the opening 15 is not diffused so much and is strongly irradiated near the outer periphery of the plastic lens 88. As a result, the temperature increase rate in the vicinity of the outer peripheral portion of the plastic lens 88 is higher than the central temperature increase rate. On the other hand, when the distance D is increased, the beam of electromagnetic waves that has passed through the opening 15 is in a state of spreading when it reaches the plastic lens 88. When the electromagnetic wave beam that has passed through the annular opening 15 diffuses, the diffused electromagnetic wave overlaps at the center of the plastic lens 88. As a result, the rate of temperature rise at the center relative to the vicinity of the outer peripheral portion is higher than when the distance D is short. As described above, the staining apparatus 1 according to the first modified example dynamically changes the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated to the plastic lens 88 by changing the distance between the distribution adjustment unit 14 and the installation unit 50 by the distance adjustment unit 90. Can be changed. Note that the staining apparatus 1 may change the intensity distribution of the electromagnetic wave by changing the distance P between the electromagnetic wave generation unit 11 and the distribution adjustment unit 14. The intensity distribution may be changed by changing both the distance between the electromagnetic wave generation unit 11 and the distribution adjustment unit 14 and the distance between the distribution adjustment unit 14 and the installation unit 50. Further, the distance may be adjusted by moving the installation unit 50 up and down.

また、第一変形例の染色装置1は、S21およびS22(図11参照)において、入力されたレンズ情報に応じて距離Dを調整する。一例として、プラスチックレンズ88の種類がマイナスレンズであることを示すレンズ情報が入力された場合には、プラスレンズであることを示すレンズ情報が入力された場合に比べて距離Dを短くする。従って、第一変形例の染色装置1は、レンズのパラメータに応じた適切な強度分布で電磁波をプラスチックレンズ88に照射することができる。   In addition, the staining apparatus 1 of the first modification adjusts the distance D according to the input lens information in S21 and S22 (see FIG. 11). As an example, when lens information indicating that the type of the plastic lens 88 is a minus lens is input, the distance D is made shorter than when lens information indicating a plus lens is input. Therefore, the dyeing device 1 of the first modification can irradiate the plastic lens 88 with electromagnetic waves with an appropriate intensity distribution according to the lens parameters.

また、電磁波発生部11の出力を一定とする場合、電磁波発生部11と、設置部50に設置されたプラスチックレンズ88との間の距離P(図示せず)が長くなる程、プラスチックレンズ88に到達する電磁波は弱くなる。従って、プラスチックレンズ88の温度上昇割合は、距離Pに応じて変化する。この場合、プラスチックレンズ88の染色品質を一定に保つことが困難になり得る。第一変形例の染色装置1は、距離Pを変更しても、プラスチックレンズ88の温度上昇割合がほぼ均等になるように、距離Pに応じて電磁波発生部11の出力(電圧)を制御する。詳細には、染色装置1のCPU70は、距離Pを増加させる場合に、電磁波発生部11の出力を、距離Pの増加前における出力以上の出力に制御する(つまり、距離Pが長くなる程、出力を大きくする)。また、距離Pを減少させる場合に、電磁波発生部11の出力を、距離Pの減少前における出力以下の出力に制御する(つまり、距離Pが短くなる程、出力を小さくする)。従って、第一変形例の染色装置1は、距離Pに応じて樹脂体の温度上昇割合に差が生じることを抑制することができる。   When the output of the electromagnetic wave generation unit 11 is constant, the longer the distance P (not shown) between the electromagnetic wave generation unit 11 and the plastic lens 88 installed in the installation unit 50 is, the longer the plastic lens 88 becomes. The electromagnetic waves that arrive are weakened. Accordingly, the temperature increase rate of the plastic lens 88 changes according to the distance P. In this case, it may be difficult to keep the dyeing quality of the plastic lens 88 constant. The dyeing device 1 of the first modified example controls the output (voltage) of the electromagnetic wave generator 11 according to the distance P so that the rate of temperature increase of the plastic lens 88 becomes substantially equal even if the distance P is changed. . Specifically, when the distance P is increased, the CPU 70 of the staining apparatus 1 controls the output of the electromagnetic wave generator 11 to an output higher than the output before the increase of the distance P (that is, as the distance P becomes longer, Increase the output). Further, when the distance P is decreased, the output of the electromagnetic wave generator 11 is controlled to be equal to or lower than the output before the distance P is decreased (that is, the output is decreased as the distance P is shortened). Therefore, the dyeing device 1 according to the first modification can suppress a difference in the temperature increase rate of the resin body depending on the distance P.

なお、距離Pに応じて電磁波発生部11の出力を調整する場合、具体的な出力の調整方法は適宜設定できる。例えば、CPU70は、距離Pに比例させて出力を増加させてもよい。距離Pが一定量増加する毎に段階的に出力を増加させてもよい。また、開口部15を切り換えて強度分布を切り替える方法(上記実施形態で例示した方法)と、距離Dを切り換えて強度分布を切り替える方法(第一変形例で例示した方法)とを同時に実行してもよい。この場合、染色装置1は、より正確に電磁波の強度分布を調整することができる。
[評価試験]
本願発明の発明者は、開口部15を備える分布調整部14によって電磁波の照射分布を調整できることを確認するために、評価試験を行った。この評価試験では、発明者は、図12に示すように、電磁波発生部11とプラスチックレンズ88の間に、分布調整部14に形成された開口部15を配置した。次いで、発明者は、電磁波発生部11と分布調整部14の距離を20mmに固定しつつ、分布調整部14とプラスチックレンズ88の距離Dを30mm、40mm、50mm、60mm、70mmとした場合のプラスチックレンズ88における各部位の温度を計測した。温度計測のタイミングは、電磁波による加熱開始から300秒経過後である。以上の試験を、形状の異なる2種類のプラスチックレンズ88に対して実行した。
In addition, when adjusting the output of the electromagnetic wave generation part 11 according to the distance P, the specific output adjustment method can be set suitably. For example, the CPU 70 may increase the output in proportion to the distance P. Each time the distance P increases by a certain amount, the output may be increased stepwise. Further, a method of switching the intensity distribution by switching the opening 15 (the method illustrated in the above embodiment) and a method of switching the intensity distribution by switching the distance D (the method illustrated in the first modification) are simultaneously executed. Also good. In this case, the staining apparatus 1 can adjust the intensity distribution of electromagnetic waves more accurately.
[Evaluation test]
The inventor of the present invention performed an evaluation test in order to confirm that the irradiation distribution of electromagnetic waves can be adjusted by the distribution adjusting unit 14 including the opening 15. In this evaluation test, the inventor arranged the opening 15 formed in the distribution adjusting unit 14 between the electromagnetic wave generating unit 11 and the plastic lens 88 as shown in FIG. Next, the inventor fixed the distance between the electromagnetic wave generation unit 11 and the distribution adjustment unit 14 to 20 mm, and the plastic when the distance D between the distribution adjustment unit 14 and the plastic lens 88 is 30 mm, 40 mm, 50 mm, 60 mm, and 70 mm. The temperature of each part in the lens 88 was measured. The timing of temperature measurement is after 300 seconds from the start of heating by electromagnetic waves. The above test was performed on two types of plastic lenses 88 having different shapes.

なお、温度を測定した部位のうち、A部はプラスチックレンズ88の中心、B部は中心から20mm離間した位置、C部は中心から35mm離間した位置(つまり、外周部近傍)である。また、2種類のプラスチックレンズ88の径は共に約70mmであるが、各部の厚みは2種類のプラスチックレンズ88の間で異なる。詳細には、「CR S−0.00」のプラスチックレンズ88では、A部の厚みは2.30、B部の厚みは2.30mm、C部の厚みも2.30mmである。「CR S−4.00」のプラスチックレンズ88では、A部の厚みは1.80mm、B部の厚みは3.45mm、C部の厚みは7.25mmである。分布調整部14とプラスチックレンズ88の距離Dを変更しても、プラスチックレンズ88の温度がほぼ均等になるように、分布調整部14とプラスチックレンズの距離Dに応じて電磁波発生部11の電圧を調整した。評価試験の結果を図13に示す。   Of the portions where the temperature was measured, the A part is the center of the plastic lens 88, the B part is a position 20 mm away from the center, and the C part is a position 35 mm away from the center (that is, near the outer periphery). The two types of plastic lenses 88 have a diameter of about 70 mm, but the thickness of each part differs between the two types of plastic lenses 88. Specifically, in the plastic lens 88 of “CRS-0.00”, the thickness of the A portion is 2.30, the thickness of the B portion is 2.30 mm, and the thickness of the C portion is 2.30 mm. In the plastic lens 88 of “CRS-4.00”, the thickness of the A part is 1.80 mm, the thickness of the B part is 3.45 mm, and the thickness of the C part is 7.25 mm. Even if the distance D between the distribution adjustment unit 14 and the plastic lens 88 is changed, the voltage of the electromagnetic wave generation unit 11 is changed according to the distance D between the distribution adjustment unit 14 and the plastic lens 88 so that the temperature of the plastic lens 88 becomes substantially equal. It was adjusted. The result of the evaluation test is shown in FIG.

図13に示すように、プラスチックレンズ88の種類に関わらず、距離Dが短い程、外周部近傍の温度上昇割合が中心の温度上昇割合よりも高くなった。また、距離Dを長くする程、外周部近傍の温度上昇割合は中心の温度上昇割合よりも低くなった。この理由は、分布調整部14の開口部15の形状、分布調整部14の位置等に応じて、プラスチックレンズ88に照射される電磁波の強度分布が決定されるためである。従って、染色装置1は、距離Dを変化させることで、電磁波の強度分布を変化させることができる。また、開口部15A,15B(図3参照)を切り替えることで、電磁波の強度分布を変化させることもできる。   As shown in FIG. 13, regardless of the type of plastic lens 88, the shorter the distance D, the higher the temperature increase rate in the vicinity of the outer peripheral portion than the center temperature increase rate. Further, the longer the distance D, the lower the temperature increase rate in the vicinity of the outer peripheral portion was lower than the central temperature increase rate. This is because the intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the plastic lens 88 is determined according to the shape of the opening 15 of the distribution adjustment unit 14, the position of the distribution adjustment unit 14, and the like. Therefore, the staining apparatus 1 can change the intensity distribution of the electromagnetic wave by changing the distance D. Moreover, the intensity distribution of electromagnetic waves can be changed by switching the openings 15A and 15B (see FIG. 3).

「CR S−0.00」のプラスチックレンズ88では、各部の厚みが一定である。これに対し、「CR S−4.00」のプラスチックレンズ88では、中心の厚みが外周部近傍の厚みよりも薄いため、外周部近傍よりも中心の方が温度上昇し易い。評価試験の結果を考察しても、中心の温度上昇割合は、「CR S−0.00」よりも「CR S−4.00」の方が高くなっている。従って、プラスチックレンズ88における各部の温度上昇割合を均等にし、染色の品質を向上させるためには、プラスチックレンズ88の形状に応じて電磁波の強度分布を適宜変更することが望ましい。評価試験の結果によると、「CR S−0.00」では、距離Dを約48〜49mmとした場合に、各部の温度上昇割合が最も均等に近づくと考えられる。また、「CR S−4.00」では、距離Dを約45mmとした場合に、各部の温度上昇割合が最も均等に近づくと考えられる。ただし、1つの形状のプラスチックレンズ88のみを染色する場合等には、電磁波の強度分布を動的に変更する必要は無い。つまり、「電磁波の強度分布を調整する」とは、強度分布を動的に変更することのみを意味するのではなく、樹脂体の部位に応じて適切な強度の電磁波が照射されるように、強度分布を静的に調整することも意味する。また、前述したように、電磁波の強度分布を調整する方法は、距離Dを変化させる方法に限られず、開口部15A,15Bを切り替える方法等も採用できる。   In the plastic lens 88 of “CRS-0.00”, the thickness of each part is constant. On the other hand, in the plastic lens 88 of “CRS-4.00”, since the thickness of the center is thinner than the thickness near the outer peripheral portion, the temperature at the center is more likely to rise than near the outer peripheral portion. Even if the result of the evaluation test is considered, the rate of temperature increase at the center is higher in “CR S-4.00” than in “CR S-0.00”. Therefore, in order to equalize the temperature increase rate of each part in the plastic lens 88 and improve the quality of dyeing, it is desirable to appropriately change the intensity distribution of the electromagnetic wave according to the shape of the plastic lens 88. According to the result of the evaluation test, in “CR S-0.00”, when the distance D is about 48 to 49 mm, it is considered that the temperature increase rate of each part approaches most evenly. Further, in “CR S-4.00”, when the distance D is about 45 mm, it is considered that the temperature increase rate of each part approaches most evenly. However, when only one shape of the plastic lens 88 is dyed, it is not necessary to dynamically change the intensity distribution of the electromagnetic wave. In other words, “adjusting the electromagnetic wave intensity distribution” does not only mean dynamically changing the intensity distribution, but so that an electromagnetic wave of an appropriate intensity is irradiated according to the part of the resin body. It also means that the intensity distribution is adjusted statically. As described above, the method of adjusting the intensity distribution of the electromagnetic wave is not limited to the method of changing the distance D, and a method of switching the openings 15A and 15B can be employed.

図14を参照して、上記実施形態の第二変形例について説明する。上記実施形態の分布調整部14は、電磁波発生部11が発生させた電磁波の強度分布を開口部15によって調整する。一方で、図14に示す第二変形例では、染色装置1は、電磁波発生部11が発生させた電磁波の少なくとも一部を反射させる反射部92によって、プラスチックレンズ88に照射される電磁波の強度分布を調整する。   With reference to FIG. 14, the 2nd modification of the said embodiment is demonstrated. The distribution adjusting unit 14 of the above embodiment adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating unit 11 through the opening 15. On the other hand, in the second modified example shown in FIG. 14, the staining apparatus 1 has an intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated to the plastic lens 88 by the reflection unit 92 that reflects at least a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generation unit 11. Adjust.

図14に示すように、第二変形例の分布調整部94には、電磁波発生部11に関してプラスチックレンズ88と反対側となる位置(つまり、電磁波発生部11の上方)に、反射部92が設けられている。反射部92のうち電磁波発生部11を向く側の面(つまり、下方の面)は、電磁波発生部11が発生させた電磁波を反射させる。本実施形態では、電磁波発生部11の下方の面は、上方に凹んだ球面状(凹面状)に形成されている。従って、電磁波発生部11から反射部92に照射された電磁波は、反射部92によって下方に反射される。反射された電磁波のビーム径は、下方に向かう程徐々に小さくなる。よって、反射部92によって反射されてプラスチックレンズ88に照射される電磁波の強度は、プラスチックレンズ88の外側よりも中心部の方が高くなる。一方で、電磁波発生部11から下方に直接される電磁波の強度は、プラスチックレンズ88の中心部よりも外側の方が高くなる。従って、第二変形例の染色装置1は、分布調整部94の反射部92を用いることで、プラスチックレンズ88に照射する電磁波の強度分布を適切に調整することができる。また、第二変形例の染色装置1は、反射部92を用いることで、電磁波発生部11が発生させた電磁波を効率よくプラスチックレンズ88に照射することができる。   As shown in FIG. 14, the distribution adjusting unit 94 of the second modified example is provided with a reflecting unit 92 at a position opposite to the plastic lens 88 with respect to the electromagnetic wave generating unit 11 (that is, above the electromagnetic wave generating unit 11). It has been. The surface of the reflecting portion 92 facing the electromagnetic wave generating portion 11 (that is, the lower surface) reflects the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating portion 11. In the present embodiment, the lower surface of the electromagnetic wave generator 11 is formed in a spherical shape (concave shape) recessed upward. Accordingly, the electromagnetic wave applied to the reflection unit 92 from the electromagnetic wave generation unit 11 is reflected downward by the reflection unit 92. The beam diameter of the reflected electromagnetic wave gradually decreases as it goes downward. Therefore, the intensity of the electromagnetic wave reflected by the reflecting portion 92 and applied to the plastic lens 88 is higher at the center than at the outside of the plastic lens 88. On the other hand, the intensity of the electromagnetic wave directly directed downward from the electromagnetic wave generator 11 is higher on the outer side than the central part of the plastic lens 88. Therefore, the staining apparatus 1 according to the second modification can appropriately adjust the intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the plastic lens 88 by using the reflection unit 92 of the distribution adjustment unit 94. Moreover, the dyeing apparatus 1 of the second modified example can efficiently irradiate the plastic lens 88 with the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generation unit 11 by using the reflection unit 92.

また、第二変形例の染色装置1は、プラスチックレンズ88と反射部92の間の距離を変化させる構成を備える。つまり、第二変形例の染色装置1は、プラスチックレンズ88および反射部92の少なくともいずれかを上下に移動させる。プラスチックレンズ88と反射部92の距離を変化させることで、反射部92に反射されてプラスチックレンズ88に照射される電磁波の強度分布が変化する。従って、第二変形例の染色装置1は、プラスチックレンズ88に照射する電磁波の強度分布を動的に変化させることができる。   Moreover, the dyeing apparatus 1 of the second modified example includes a configuration that changes the distance between the plastic lens 88 and the reflecting portion 92. That is, the staining apparatus 1 according to the second modified example moves at least one of the plastic lens 88 and the reflecting portion 92 up and down. By changing the distance between the plastic lens 88 and the reflecting portion 92, the intensity distribution of the electromagnetic wave reflected by the reflecting portion 92 and applied to the plastic lens 88 changes. Therefore, the staining apparatus 1 according to the second modification can dynamically change the intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the plastic lens 88.

なお、反射部92の位置および形状が適宜変更できることは言うまでもない。例えば、電磁波発生部11を向く側の反射部92の形状は、実施する加熱の態様に応じて、平板状、円錐状等の他の形状に変更してもよい。電磁波発生部11の側方に反射部92を設置してもよい。形状の異なる反射部92に切り替える構成を備えてもよい。   Needless to say, the position and shape of the reflecting portion 92 can be changed as appropriate. For example, the shape of the reflecting portion 92 on the side facing the electromagnetic wave generating portion 11 may be changed to other shapes such as a flat plate shape and a conical shape according to the heating mode to be performed. A reflection unit 92 may be installed on the side of the electromagnetic wave generation unit 11. You may provide the structure switched to the reflection part 92 from which a shape differs.

また、上記実施形態および変形例で説明した分布調整部14は一例である。つまり、電磁波の強度分布を調整するための構成を変更することも可能である。例えば、複数の赤外線ヒータの配置を調整することで、強度分布を調整してもよい。また、複数の赤外線ヒータの各々の出力を調整することで、強度分布を調整してもよい。一例として、プラスチックレンズの中心部に照射する電磁波の強度を外周部よりも強くする場合、電磁波発生部11の中心部に、外周部よりも高密度で赤外線ヒータを配置してもよい。また、電磁波発生部の中心部に配置した赤外線ヒータの出力を、外周部に配置した赤外線ヒータの出力よりも高くしてもよい。   The distribution adjusting unit 14 described in the above embodiment and the modification is an example. That is, the configuration for adjusting the intensity distribution of the electromagnetic wave can be changed. For example, the intensity distribution may be adjusted by adjusting the arrangement of a plurality of infrared heaters. Further, the intensity distribution may be adjusted by adjusting the output of each of the plurality of infrared heaters. As an example, when the intensity of the electromagnetic wave applied to the central part of the plastic lens is made stronger than that of the outer peripheral part, an infrared heater may be arranged at the central part of the electromagnetic wave generating part 11 at a higher density than the outer peripheral part. Moreover, you may make the output of the infrared heater arrange | positioned in the center part of an electromagnetic wave generation part higher than the output of the infrared heater arrange | positioned in an outer peripheral part.

また、上記実施形態および変形例では、放射状に均一な形状のプラスチックレンズを加熱する場合を例示した。つまり、レンズの幾何中心を通り、且つレンズ面に垂直な軸を中心にプラスチックレンズを回転させた場合、上記実施形態および変形例のプラスチックレンズでは、任意の角度について回転対称となる。従って、開口部15は楕円形でなく真円形であり、反射部92も均一な球面状である。しかし、放射状に不均一な形状の樹脂体(例えば、円柱成分を含んだトーリックレンズ)を加熱する場合でも、本発明は適用できる。この場合、例えば、染色装置1は、電磁波発生部11と樹脂体の間に、分布調整部としてシリンダーレンズを配置することで、樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整してもよい。この場合、シリンダーレンズを回転させる機構、または、シリンダーレンズを移動させる機構を備えることで、樹脂体の形状に応じてより適切に電磁波の強度分布を調整することができる。また、放射状に不均一な形状の樹脂体を加熱する場合、分布調整部14の開口部15の形状を楕円形としてもよい。電磁波発生部11と樹脂体の位置関係を変化させながら電磁波を照射することで、電磁波の強度分布を調整してもよい。   Moreover, in the said embodiment and modification, the case where the plastic lens of a radially uniform shape was heated was illustrated. That is, when the plastic lens is rotated about an axis that passes through the geometric center of the lens and is perpendicular to the lens surface, the plastic lens of the above-described embodiment and the modification is rotationally symmetric with respect to an arbitrary angle. Therefore, the opening 15 is not elliptical but a perfect circle, and the reflecting portion 92 is also a uniform spherical shape. However, the present invention can also be applied to heating a resin body having a radially uneven shape (for example, a toric lens including a cylindrical component). In this case, for example, the staining apparatus 1 may adjust the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated on the resin body by disposing a cylinder lens as a distribution adjusting unit between the electromagnetic wave generating unit 11 and the resin body. In this case, by providing a mechanism for rotating the cylinder lens or a mechanism for moving the cylinder lens, the intensity distribution of the electromagnetic wave can be adjusted more appropriately according to the shape of the resin body. Moreover, when heating the resin body of a radially uneven shape, the shape of the opening 15 of the distribution adjusting unit 14 may be an ellipse. The intensity distribution of the electromagnetic wave may be adjusted by irradiating the electromagnetic wave while changing the positional relationship between the electromagnetic wave generator 11 and the resin body.

また、以上説明した複数の分布調整部のうちの2つ以上を組み合わせて用いることも可能である。例えば、上記実施形態で例示した開口部15と、第二変形例で例示した反射部92とを共に用いて電磁波の強度分布を調整してもよい。この場合、開口部15によって調整される強度分布と、反射部92によって調整される強度分布とを共に考慮して、両者の形状、配置等を設定することが望ましい。複数の分布調整部を組み合わせることで、電磁波の強度分布はより適切に調整される。   Further, two or more of the plurality of distribution adjustment units described above can be used in combination. For example, the intensity distribution of the electromagnetic wave may be adjusted by using both the opening 15 exemplified in the above embodiment and the reflecting portion 92 exemplified in the second modification. In this case, it is desirable to set both the shape, the arrangement, and the like in consideration of both the intensity distribution adjusted by the opening 15 and the intensity distribution adjusted by the reflecting portion 92. By combining a plurality of distribution adjustment units, the intensity distribution of electromagnetic waves is adjusted more appropriately.

以上説明したように、上記実施形態および変形例の染色装置1は、樹脂体に照射される電磁波の強度分布を、分布調整部14,94によって調整する。従って、樹脂体の各々部位に適切な強度の電磁波を照射させることができる。よって、染色装置1は、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に制御しつつ、電磁波の照射によって樹脂体を加熱して染料を定着させることができる。   As described above, the staining apparatus 1 according to the embodiment and the modification adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated to the resin body by the distribution adjusting units 14 and 94. Therefore, it is possible to irradiate each part of the resin body with an electromagnetic wave having an appropriate intensity. Therefore, the dyeing apparatus 1 can fix the dye by heating the resin body by irradiation of electromagnetic waves while appropriately controlling the temperature rise of each part of the resin body.

電磁波の照射によって定着の工程を適切に実行できれば、種々の効果を奏し得る。例えば、染色装置1は、オーブン等の他の加熱手段を用いる場合に比べて、短時間で樹脂体を加熱することができる。装置本体の小型化も容易になる。また、上記実施形態の染色装置1は、蒸着の工程と定着の工程を1つの電磁波発生部11で実行することができる。また、電磁波のビームをスキャンさせることで、樹脂体の各部位の温度上昇を制御する方法も考えられる。しかし、電磁波のビームをスキャンするための構成および制御は複雑であり、染色時間の短縮も困難である。これに対し、上記実施形態の染色装置1は、樹脂体の温度上昇を簡易な構成で制御でき、且つ、従来に比べて染色時間も短縮できる。   If the fixing process can be appropriately executed by irradiation with electromagnetic waves, various effects can be obtained. For example, the dyeing apparatus 1 can heat the resin body in a shorter time than when using other heating means such as an oven. It is easy to reduce the size of the apparatus body. Moreover, the dyeing | staining apparatus 1 of the said embodiment can perform the process of vapor deposition, and the process of fixing with one electromagnetic wave generation part 11. FIG. Also, a method of controlling the temperature rise of each part of the resin body by scanning an electromagnetic wave beam is conceivable. However, the configuration and control for scanning the electromagnetic wave beam are complicated, and it is difficult to shorten the staining time. On the other hand, the dyeing device 1 of the above embodiment can control the temperature rise of the resin body with a simple configuration and can shorten the dyeing time as compared with the conventional case.

上記実施形態の分布調整部14は、電磁波の少なくとも一部を通過させる開口部15を有する。この場合、染色装置1は、開口部15に電磁波を通過させることで、電磁波の強度分布を容易且つ適切に調整することができる。また、上記実施形態の開口部15は環状に形成されている。染色装置1は、分布調整部14の開口部14に電磁波を通過させることで、照射される電磁波のビームにおける中心部の強度と周辺部の強度とを、簡易な構成で容易に調整することができる。   The distribution adjusting unit 14 of the above embodiment has an opening 15 that allows at least a part of the electromagnetic wave to pass therethrough. In this case, the staining apparatus 1 can easily and appropriately adjust the electromagnetic wave intensity distribution by allowing the electromagnetic wave to pass through the opening 15. Moreover, the opening part 15 of the said embodiment is formed in cyclic | annular form. The staining apparatus 1 allows the electromagnetic wave to pass through the opening 14 of the distribution adjusting unit 14, thereby easily adjusting the intensity of the central part and the intensity of the peripheral part of the irradiated electromagnetic wave beam with a simple configuration. it can.

上記実施形態では、電磁波発生部11において電磁波を発生させる発生部位が、開口部15の形状に対応する環状に形成されている。従って、染色装置1は、球状、面状等の他の形状の発生部位を有する電磁波発生部を用いる場合に比べて、電磁波を効率よく開口部15から樹脂体に照射することができる。   In the above embodiment, the generation site for generating the electromagnetic wave in the electromagnetic wave generation unit 11 is formed in an annular shape corresponding to the shape of the opening 15. Therefore, the staining apparatus 1 can efficiently irradiate the resin body with the electromagnetic wave from the opening 15 as compared with the case of using the electromagnetic wave generation part having a generation part of another shape such as a spherical shape or a planar shape.

上記実施形態の調整部装着ギア18は、開口部15の大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の分布調整部14の各々を、着脱可能に装着する。従って、作業者は、樹脂体の形状等に適した開口部15を有する分布調整部14を調整部装着ギア18に装着させることで、樹脂体の各部位の温度上昇を適切に調整することができる。   The adjustment unit mounting gear 18 of the above embodiment detachably mounts each of the plurality of distribution adjustment units 14 having at least one of the size and shape of the opening 15. Therefore, the operator can appropriately adjust the temperature rise of each part of the resin body by attaching the distribution adjustment unit 14 having the opening 15 suitable for the shape of the resin body to the adjustment unit mounting gear 18. it can.

上記実施形態の分布調整部14には、大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の開口部15A,15Bが形成されている。染色装置1では、分布調整部14が回転されて姿勢が切り替えられることで、複数の開口部15A,15Bのうち、電磁波の強度分布を調整する開口部15A,15Bが切り替えられる。従って、作業者は、分布調整部14の姿勢を切り替えるだけで、樹脂体の各部位の温度上昇を容易に調整することができる。また、上記実施形態の染色装置1は、樹脂体のパラメータ(上記実施形態ではレンズ情報)に応じて開口部15を切り替える。従って、染色装置1は、作業者に多くの作業を行わせることなく、樹脂体に応じた適切な開口部15を用いて樹脂体に電磁波を照射することができる。   A plurality of openings 15A and 15B having different sizes and shapes are formed in the distribution adjusting unit 14 of the above embodiment. In the staining apparatus 1, the distribution adjustment unit 14 is rotated and the posture is switched, so that the openings 15 </ b> A and 15 </ b> B that adjust the intensity distribution of the electromagnetic wave among the plurality of openings 15 </ b> A and 15 </ b> B are switched. Therefore, the operator can easily adjust the temperature rise of each part of the resin body only by switching the posture of the distribution adjusting unit 14. Moreover, the dyeing | staining apparatus 1 of the said embodiment switches the opening part 15 according to the parameter (lens information in the said embodiment) of a resin body. Therefore, the staining apparatus 1 can irradiate the resin body with electromagnetic waves using the appropriate opening 15 according to the resin body without causing the operator to perform many operations.

上記実施形態の染色装置1は、さらに、閉塞室20およびポンプ31を備える。染色装置1のCPU70は、染色用基体57が樹脂体に非接触で対向した状態であり、且つ、ポンプ31によって閉塞室20内の気圧が低下した状態で、染色用基体57に向けて電磁波を照射させる。その結果、昇華性染料が加熱されて樹脂体に蒸着される(S27〜S29、図11参照)。また、CPU70は、染料が蒸着された樹脂体に対し、電磁波発生部11に電磁波を照射させることで、染料を樹脂体に定着させる(S36、図11参照)。従って、染色装置1は、気相転写染色法における蒸着の工程および定着の工程を共に実行することができる。よって、作業者は、従来よりも狭い作業場でも気相転写染色を行うことができる。設備を導入するための費用も低下する。さらに、染色装置1は、同一の電磁波発生部11を用いて蒸着の工程と定着の工程を実行する。従って、染色装置1自体のコストが低下する。染色装置1の小型化も容易である。   The staining apparatus 1 according to the embodiment further includes the closed chamber 20 and the pump 31. The CPU 70 of the dyeing apparatus 1 emits electromagnetic waves toward the dyeing substrate 57 in a state where the dyeing substrate 57 faces the resin body in a non-contact manner and the air pressure in the closed chamber 20 is lowered by the pump 31. Irradiate. As a result, the sublimable dye is heated and deposited on the resin body (S27 to S29, see FIG. 11). In addition, the CPU 70 fixes the dye to the resin body by irradiating the electromagnetic wave generator 11 with an electromagnetic wave on the resin body on which the dye is deposited (S36, see FIG. 11). Therefore, the dyeing apparatus 1 can execute both the vapor deposition process and the fixing process in the gas phase transfer dyeing method. Therefore, the worker can perform gas phase transfer dyeing even in a work place narrower than before. Costs for installing equipment will also decrease. Furthermore, the dyeing apparatus 1 performs the vapor deposition process and the fixing process using the same electromagnetic wave generation unit 11. Accordingly, the cost of the staining apparatus 1 itself is reduced. It is easy to reduce the size of the staining apparatus 1.

上記実施形態では、CPU70は、閉塞室20内の圧力を、蒸着の工程における圧力よりも上昇させた状態で、定着の工程(電磁波の照射)を実行する。従って、樹脂体の表面に蒸着された染料が、定着の工程中に再び昇華する可能性は、低い圧力下のまま定着の工程を行う場合に比べて低下する。よって、染色装置1は安定した染色を行うことができる。   In the above-described embodiment, the CPU 70 executes the fixing step (electromagnetic wave irradiation) in a state where the pressure in the closed chamber 20 is higher than the pressure in the vapor deposition step. Therefore, the possibility that the dye deposited on the surface of the resin body sublimes again during the fixing process is lower than when the fixing process is performed under a low pressure. Therefore, the staining apparatus 1 can perform stable staining.

上記実施形態では、電磁波発生部11は閉塞室20の外部に設けられている。閉塞室20のうち、設置部50に設置される樹脂体と電磁波発生部11との間の部位に、電磁波を透過させる透過部25が設けられている。従って、染色装置1は、気圧が低下する閉塞室20内に電磁波発生部11を設置することなく、蒸着の工程と定着の工程を共に実行することができる。よって、気圧の低下に起因して電磁波発生部11に不具合が発生する可能性は低下する。気圧に対する耐性が高い電磁波発生部を採用する必要も無い。   In the above embodiment, the electromagnetic wave generation unit 11 is provided outside the closed chamber 20. In the closed chamber 20, a transmission part 25 that transmits electromagnetic waves is provided at a portion between the resin body installed in the installation part 50 and the electromagnetic wave generation part 11. Therefore, the dyeing apparatus 1 can execute both the vapor deposition process and the fixing process without installing the electromagnetic wave generation unit 11 in the closed chamber 20 where the atmospheric pressure is lowered. Therefore, the possibility that a problem occurs in the electromagnetic wave generation unit 11 due to a decrease in atmospheric pressure is reduced. There is no need to employ an electromagnetic wave generator having high resistance to atmospheric pressure.

上記実施形態における設置部50は、樹脂体に接触する部位に、樹脂体に対する付着性を有する付着体55を装着する付着体装着部52を備える。樹脂体の形状が均一でない場合(例えば、厚みが一定でない場合)には、樹脂体の各部位によって、熱が拡散する割合に差が生じ得る。染色装置1は、熱が拡散する割合が各部位によって異なると、各部位の温度を適切に制御することが困難である。染色装置1は、付着体55を樹脂体に付着させることで、熱が拡散し難い部位の熱を付着体55に拡散させることができる。従って、染色装置1は、熱が拡散する割合の差の影響を低下させて、より適切に樹脂体の温度を制御することができる。   The installation part 50 in the above embodiment includes an attachment body mounting part 52 that attaches an attachment body 55 having adhesiveness to the resin body at a portion that contacts the resin body. When the shape of the resin body is not uniform (for example, when the thickness is not constant), there may be a difference in the rate of heat diffusion depending on each part of the resin body. It is difficult for the staining apparatus 1 to appropriately control the temperature of each part when the rate of heat diffusion varies depending on each part. The dyeing apparatus 1 can diffuse the heat of the portion where heat is difficult to diffuse to the adherent body 55 by attaching the adherent body 55 to the resin body. Therefore, the dyeing apparatus 1 can control the temperature of the resin body more appropriately by reducing the influence of the difference in the rate of heat diffusion.

また、第一変形例(図12参照)の染色装置1は、分布調整部14と設置部50の距離を変化させる距離調整部90を備える。第一変形例の染色装置1は、距離調整部90を駆動することで、樹脂体に照射させる電磁波の強度分布を動的に変化させることができる。従って、樹脂体の各部位の温度上昇をより適切に制御することができる。また第一変形例の染色装置1は、分布調整部14と設置部50の距離を、入力したレンズ情報に応じて変化させる。従って、作業者に多くの作業を行わせることなく、電磁波の強度分布をレンズに応じて調整することができる。また、第一変形例の染色装置1は、電磁波発生部11と設置部50の距離に応じて、電磁波発生部11の出力を制御する。従って、電磁波発生部11と樹脂体の距離に応じて樹脂体の温度上昇割合に差が生じることを抑制することができる。よって、染色の品質等の差が生じ難くなる。   The staining apparatus 1 of the first modification (see FIG. 12) includes a distance adjustment unit 90 that changes the distance between the distribution adjustment unit 14 and the installation unit 50. The staining apparatus 1 according to the first modification can dynamically change the intensity distribution of the electromagnetic wave irradiated onto the resin body by driving the distance adjusting unit 90. Therefore, the temperature rise of each part of the resin body can be controlled more appropriately. Moreover, the dyeing apparatus 1 of the first modified example changes the distance between the distribution adjusting unit 14 and the installation unit 50 according to the input lens information. Therefore, the electromagnetic wave intensity distribution can be adjusted according to the lens without causing the operator to perform many operations. In addition, the staining apparatus 1 according to the first modification controls the output of the electromagnetic wave generation unit 11 according to the distance between the electromagnetic wave generation unit 11 and the installation unit 50. Therefore, it can suppress that a difference arises in the rate of temperature rise of a resin body according to the distance of electromagnetic wave generation part 11 and a resin body. Therefore, a difference in dyeing quality or the like hardly occurs.

また、第二変形例(図13参照)の染色装置1は、分布調整部94に反射部92を備える。反射部92は、電磁波発生部11によって発生された電磁波の少なくとも一部を反射させて伝播方向を変更することで、樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整する。従って、第二変形例の染色装置1は、簡易な構成で適切に電磁波の強度分布を調整することができる。また、第二変形例の染色装置1は、設置部50と反射部92の距離を調整することで、強度分布を動的に変化させることもできる。樹脂体のパラメータに応じて距離を調整することで、樹脂体に適した強度分布で電磁波を樹脂体に照射させることもできる。   In addition, the staining apparatus 1 according to the second modification (see FIG. 13) includes a reflection unit 92 in the distribution adjustment unit 94. The reflection unit 92 adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the resin body by reflecting at least a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generation unit 11 and changing the propagation direction. Therefore, the staining apparatus 1 of the second modification can appropriately adjust the intensity distribution of electromagnetic waves with a simple configuration. Further, the staining apparatus 1 of the second modified example can dynamically change the intensity distribution by adjusting the distance between the installation unit 50 and the reflection unit 92. By adjusting the distance according to the parameters of the resin body, the resin body can be irradiated with electromagnetic waves with an intensity distribution suitable for the resin body.

本発明は上記実施形態に限定されることはなく、様々な変形が可能であることは勿論である。上記実施形態の染色装置1は、分布調整部14を用いることで、樹脂体の各部位の温度上昇割合に差が生じることを抑制する。従って、樹脂体を均一に加熱して定着の工程を行うことができ、染色の品質を向上させることができる。しかし、分布調整部14を適用できるのは、樹脂体を均一に加熱させる場合に限定されない。例えば、樹脂体の一部の温度上昇割合を、他の部位よりも意図的に高くする場合等にも、分布調整部14は適用できる。   Of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible. The staining apparatus 1 according to the embodiment uses the distribution adjustment unit 14 to suppress a difference in the temperature increase rate of each part of the resin body. Therefore, the fixing process can be performed by heating the resin body uniformly, and the quality of dyeing can be improved. However, the application of the distribution adjusting unit 14 is not limited to the case where the resin body is heated uniformly. For example, the distribution adjustment unit 14 can also be applied to a case where the temperature increase rate of a part of the resin body is intentionally higher than other parts.

上記実施形態では、略円盤状の眼鏡用プラスチックレンズに染色を行う場合を例示した。しかし、本発明は、プラスチックレンズ以外の樹脂体を染色する場合にも適用できる。例えば、本発明は、携帯電話のカバー、自動車のライト用のカバー、アクセサリー、玩具等、種々の樹脂体を染色する場合に適用できる。また、本発明に係る気相転写染色によると、染色する樹脂体にコーティングが行われているか否かに関わらず、高品質の染色が行われる。例えば、眼鏡用のプラスチックレンズを染色する場合には、撥水効果を得るための撥水コート、光の反射を防止するための反射防止コート、傷を防止するためのハードコート、割れを防止するためのプライマーコート等を、染色の前または後にプラスチックレンズに施すことも可能である。つまり、樹脂体にコーティングが行われている場合には、「樹脂体の表面」とは、コーティングされた層の表面と捉えてもよいし、コーティングされた層の下に位置するの樹脂体自体の表面と捉えてもよい。   In the above embodiment, the case where the substantially disc-shaped plastic lens for spectacles is dyed is illustrated. However, the present invention can also be applied when dyeing a resin body other than a plastic lens. For example, the present invention can be applied to a case where various resin bodies are dyed, such as a cover for a mobile phone, a cover for an automobile light, an accessory, and a toy. Further, according to the gas phase transfer dyeing according to the present invention, high-quality dyeing is performed regardless of whether the resin body to be dyed is coated. For example, when dyeing plastic lenses for spectacles, a water-repellent coat for obtaining a water-repellent effect, an anti-reflective coat for preventing light reflection, a hard coat for preventing scratches, and preventing cracking It is also possible to apply a primer coat or the like to the plastic lens before or after dyeing. In other words, when the resin body is coated, the “surface of the resin body” may be regarded as the surface of the coated layer, or the resin body itself located under the coated layer You may think of it as the surface of

上記実施形態の開口部15は環状に形成されている。従って、染色装置1は、電磁波のビームにおける中心部の強度と周辺部の強度とを、簡易な構成で調整することができる。しかし、環状以外の形状の開口部を用いても、電磁波の強度分布を調整することは可能である。例えば、環状でなく円形の開口部を用いてもよい。また、上記実施形態では、電磁波の発生部位の形状も、開口部15の形状に対応する環状である。よって、染色装置1は、電磁波を効率よく開口部15から樹脂体に照射することができる。しかし、電磁波の発生部位の形状を変更しても、分布調整部14を用いれば、電磁波の強度分布は適切に調整される。   The opening 15 in the above embodiment is formed in an annular shape. Therefore, the staining apparatus 1 can adjust the intensity of the central part and the intensity of the peripheral part of the electromagnetic wave beam with a simple configuration. However, it is possible to adjust the intensity distribution of the electromagnetic wave even if an opening having a shape other than the annular shape is used. For example, a circular opening instead of a ring may be used. Further, in the above embodiment, the shape of the electromagnetic wave generation site is also an annular shape corresponding to the shape of the opening 15. Therefore, the staining apparatus 1 can efficiently irradiate the resin body with the electromagnetic waves from the opening 15. However, even if the shape of the electromagnetic wave generation site is changed, if the distribution adjusting unit 14 is used, the intensity distribution of the electromagnetic wave is appropriately adjusted.

上記実施形態のように、分布調整部14は着脱可能に染色装置1に装着されることが望ましい。しかし、着脱できない分布調整部14を用いてもよい。この場合でも、複数の開口部15A,15Bを切り替える構成、または、部材間の距離を調整する構成(図12参照)を用いれば、電磁波の強度分布を変化させることができる。また、上記実施形態のように、分布調整部14に複数の開口部15A,15Bを設けることで、使用する開口部15A,15Bを容易に切り替えることができる。しかし、1つの開口部15のみを分布調整部14に設けることも可能である。   As in the above-described embodiment, it is desirable that the distribution adjusting unit 14 is detachably attached to the staining apparatus 1. However, the distribution adjusting unit 14 that cannot be attached or detached may be used. Even in this case, the intensity distribution of the electromagnetic wave can be changed by using a configuration for switching the plurality of openings 15A and 15B or a configuration for adjusting the distance between the members (see FIG. 12). Moreover, the opening parts 15A and 15B to be used can be switched easily by providing several opening part 15A, 15B in the distribution adjustment part 14 like the said embodiment. However, it is also possible to provide only one opening 15 in the distribution adjusting unit 14.

上記実施形態の染色装置1は、蒸着の工程および定着の工程を、共に同一の電磁波発生部11で実行する。従って、染色装置1の小型化、構成の簡略化、コストの低下等の効果が得られる。しかし、蒸着の工程で用いられる加熱手段が、定着の工程で用いられる電磁波発生部とは別に設けられた染色装置においても、分布調整部14の構成を採用することは可能である。また、定着の工程のみを行う染色装置に分布調整部14の構成を採用してもよい。また、例えば、電磁波発生部11を複数のヒータで構成し、蒸着時には複数のヒータの一部を使用し、定着時に複数のヒータの全てを使用する場合でも、蒸着と定着の各々を異なる加熱手段を用いて実行する場合に比べて、構成は簡素化される。つまり、蒸着時の加熱手段と定着時の加熱手段の少なくとも一部を共通化すれば、構成は簡素化される。   In the dyeing apparatus 1 of the above embodiment, the vapor deposition process and the fixing process are both performed by the same electromagnetic wave generator 11. Therefore, effects such as miniaturization of the staining apparatus 1, simplification of the configuration, and cost reduction can be obtained. However, it is possible to adopt the configuration of the distribution adjusting unit 14 even in a staining apparatus in which the heating means used in the vapor deposition process is provided separately from the electromagnetic wave generating unit used in the fixing process. Further, the configuration of the distribution adjusting unit 14 may be adopted in a dyeing apparatus that performs only the fixing process. In addition, for example, even when the electromagnetic wave generation unit 11 is constituted by a plurality of heaters, a part of the plurality of heaters is used at the time of vapor deposition, and all of the plurality of heaters are used at the time of fixing, each of the vapor deposition and fixing is different heating means. The configuration is simplified as compared with the case of executing using. That is, if at least a part of the heating means at the time of vapor deposition and the heating means at the time of fixing are shared, the configuration is simplified.

上記実施形態では、蒸着の工程および定着の工程で同一の開口部15が使用される。しかし、染色装置1は、蒸着の工程および定着の工程において、開口部15の変更等によって電磁波の強度分布を変化させてもよい。この場合、染色装置1は、染色用基体57の染料を加熱するために適切な電磁波の強度分布と、樹脂体を加熱するために適切な電磁波の強度分布とを、同一の電磁波発生部11を用いて実現することができる。よって、気相転写染色法による染色をより円滑に実行することができる。   In the above embodiment, the same opening 15 is used in the vapor deposition step and the fixing step. However, the dyeing apparatus 1 may change the intensity distribution of the electromagnetic wave by changing the opening 15 or the like in the vapor deposition process and the fixing process. In this case, the dyeing apparatus 1 uses the same electromagnetic wave generation unit 11 to distribute the electromagnetic wave intensity distribution appropriate for heating the dye of the dyeing substrate 57 and the electromagnetic wave intensity distribution appropriate for heating the resin body. Can be realized. Therefore, the dyeing | staining by a gaseous-phase transfer dyeing method can be performed more smoothly.

上記実施形態の染色装置1は、閉塞室20に透過部25を設けることで、閉塞室20内の密閉性を保ちつつ、閉塞室20の外部から内部に電磁波を透過させる。従って、染色用基体57の染料を効率よく加熱することができる。しかし、透過部25を設けずに、電磁波で染料を加熱することも可能である。例えば、染色装置1は、染色用基体57が鉄板の板面に接触した状態で、鉄板を電磁波で加熱することで、染色用基体57の昇華性染料を昇華させてもよい。また、気圧の変化が電磁波発生部11に与える影響を考慮すると、電磁波発生部11は閉塞室20の外部に設けることが望ましい。しかし、閉塞室20の内部に電磁波発生部11を設けることも可能である。   The staining apparatus 1 according to the embodiment allows the electromagnetic wave to be transmitted from the outside to the inside of the closed chamber 20 while maintaining the hermeticity in the closed chamber 20 by providing the transmitting portion 25 in the closed chamber 20. Therefore, the dye of the dyeing substrate 57 can be efficiently heated. However, it is also possible to heat the dye with electromagnetic waves without providing the transmission part 25. For example, the dyeing apparatus 1 may sublimate the sublimable dye of the dyeing substrate 57 by heating the iron plate with electromagnetic waves while the dyeing substrate 57 is in contact with the plate surface of the iron plate. In consideration of the effect of changes in atmospheric pressure on the electromagnetic wave generator 11, it is desirable that the electromagnetic wave generator 11 be provided outside the closed chamber 20. However, it is possible to provide the electromagnetic wave generator 11 inside the closed chamber 20.

上記実施形態の設置部50は、付着体55を装着する付着体装着部52を備える。従って、染色装置1は、樹脂体の各部位に温度差が発生することを、樹脂体に付着する付着体55によって抑制することができる。しかし、染色装置1は、付着体装着部52を用いずに、分布調整部14のみを用いて温度上昇割合を制御することも可能である。また、作業者は、予め樹脂体に付着体55を付着させた後に、付着体55が付着した樹脂体を設置部50に設置してもよい。   The installation unit 50 of the above embodiment includes an attachment body mounting portion 52 that mounts the attachment body 55. Therefore, the dyeing apparatus 1 can suppress the occurrence of a temperature difference in each part of the resin body by the attached body 55 attached to the resin body. However, the staining apparatus 1 can also control the rate of temperature increase using only the distribution adjustment unit 14 without using the attachment body mounting unit 52. Further, the operator may install the resin body to which the adhesion body 55 is attached in the installation unit 50 after the adhesion body 55 is attached to the resin body in advance.

上記実施形態の染色装置1は、使用する開口部15を切り替えるための調整部回転モータ80を備える。従って、作業者自身が開口部15を切り替える必要は無い。しかし、開口部15を作業者自身が手動で切り替える場合でも、電磁波の強度分布を動的に変化させることは可能である。また、上記実施形態および変形例では、樹脂体および染色用基体57の上方に電磁波発生部11が位置し、上方から樹脂体および染色用基体57に電磁波が照射される。しかし、各種構成の位置関係は変更してもよい。例えば、樹脂体および染色用基体の下方、側方、斜め方向から電磁波を照射させることも可能である。   The dyeing apparatus 1 of the above-described embodiment includes an adjustment unit rotating motor 80 for switching the opening 15 to be used. Therefore, it is not necessary for the operator himself to switch the opening 15. However, the electromagnetic wave intensity distribution can be dynamically changed even when the operator manually switches the opening 15. In the embodiment and the modification, the electromagnetic wave generator 11 is positioned above the resin body and the dyeing substrate 57, and the resin body and the dyeing substrate 57 are irradiated with electromagnetic waves from above. However, the positional relationship of various configurations may be changed. For example, it is also possible to irradiate electromagnetic waves from below, on the side, and obliquely from the resin body and the dyeing substrate.

1 染色装置
10 加熱部
11 電磁波発生部
12 赤外線ヒータ
14,94 分布調整部
15 開口部
18 調整部装着ギア
20 閉塞室
25 透過部
31 ポンプ
50 設置部
52 付着体装着部
55 付着体
57 染色用基体
58 基体保持枠
60 退避機構
70 CPU
88 プラスチックレンズ
90 距離調整部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dyeing apparatus 10 Heating part 11 Electromagnetic wave generation part 12 Infrared heaters 14, 94 Distribution adjustment part 15 Opening part 18 Adjustment part mounting gear 20 Closure chamber 25 Transmission part 31 Pump 50 Installation part 52 Adhering body mounting part 55 Adhering body 57 Base for dyeing 58 Substrate holding frame 60 Retraction mechanism 70 CPU
88 Plastic lens 90 Distance adjustment part

Claims (15)

設置部に設置された樹脂体を加熱することで、前記樹脂体の表面に付着した染料を前記樹脂体に定着させて、前記樹脂体を染色する染色装置であって、
電磁波を発生させる電磁波発生手段と、
前記電磁波発生手段から前記樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整する分布調整手段と
を備えたことを特徴とする染色装置。
A dyeing device for dyeing the resin body by fixing the dye attached to the surface of the resin body by heating the resin body installed in the installation unit,
Electromagnetic wave generating means for generating electromagnetic waves;
A dyeing apparatus comprising: a distribution adjusting unit that adjusts an intensity distribution of an electromagnetic wave applied to the resin body from the electromagnetic wave generating unit.
前記分布調整手段の少なくとも一部は、前記電磁波発生手段と前記設置部との間に設けられ、前記電磁波発生手段によって発生された電磁波の一部を通過させる開口部を有することを特徴とする請求項1に記載の染色装置。   At least a part of the distribution adjusting unit is provided between the electromagnetic wave generating unit and the installation unit, and has an opening through which a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating unit passes. Item 2. The staining apparatus according to Item 1. 前記開口部の形状は、連続または断続した環状であることを特徴とする請求項2に記載の染色装置。   The dyeing apparatus according to claim 2, wherein the shape of the opening is a continuous or intermittent ring shape. 前記電磁波発生手段において電磁波を発生させる発生部位が、前記開口部の形状に対応する環状に形成されていることを特徴とする請求項3に記載の染色装置。   The dyeing device according to claim 3, wherein a generation site for generating an electromagnetic wave in the electromagnetic wave generating means is formed in an annular shape corresponding to the shape of the opening. 前記開口部の大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の前記分布調整手段の各々を着脱可能に装着する装着部をさらに備えたことを特徴とする請求項2から4のいずれかに記載の染色装置。   The staining according to any one of claims 2 to 4, further comprising a mounting portion that detachably mounts each of the plurality of distribution adjusting means having at least one of a size and a shape of the opening. apparatus. 前記分布調整手段は、大きさおよび形状の少なくとも一方が異なる複数の前記開口部を備え、
前記分布調整手段の姿勢または位置が切り替えられることで、前記複数の開口部のうち、電磁波の強度分布を調整する前記開口部が切り替えられることを特徴とする請求項2から5のいずれかに記載の染色装置。
The distribution adjusting means includes a plurality of the openings having different sizes and / or shapes,
6. The opening for adjusting the electromagnetic wave intensity distribution among the plurality of openings is switched by switching the posture or position of the distribution adjusting means. 6. Dyeing equipment.
前記樹脂体のパラメータを入力するパラメータ入力手段と、
前記パラメータ入力手段によって入力されたパラメータに応じて、電磁波の強度分布の調整に用いる前記開口部を切り替える開口部切替手段と
をさらに備えたことを特徴とする請求項6に記載の染色装置。
Parameter input means for inputting parameters of the resin body;
The staining apparatus according to claim 6, further comprising: an opening switching unit that switches the opening used for adjusting the intensity distribution of the electromagnetic wave according to the parameter input by the parameter input unit.
前記分布調整手段は、前記電磁波発生手段によって発生された電磁波の少なくとも一部を反射させて伝播方向を変更することで、前記樹脂体に照射される電磁波の強度分布を調整する反射部を備えたことを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の染色装置。   The distribution adjusting unit includes a reflecting unit that adjusts the intensity distribution of the electromagnetic wave applied to the resin body by reflecting at least a part of the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generating unit and changing a propagation direction. The dyeing apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein 前記電磁波発生手段と前記分布調整手段の距離、および、前記分布調整手段と前記設置部の距離の少なくともいずれかを変化させる距離調整手段をさらに備えたことを特徴とする請求項1から8のいずれかに記載の染色装置。   9. The distance adjusting unit according to claim 1, further comprising a distance adjusting unit that changes at least one of a distance between the electromagnetic wave generating unit and the distribution adjusting unit and a distance between the distribution adjusting unit and the installation unit. The dyeing | staining apparatus of crab. 前記樹脂体のパラメータを入力するパラメータ入力手段をさらに備え、
前記距離調整手段は、前記パラメータ入力手段によって入力されたパラメータに応じて距離を変化させることを特徴とする請求項9に記載の染色装置。
It further comprises parameter input means for inputting parameters of the resin body,
The staining apparatus according to claim 9, wherein the distance adjusting unit changes the distance in accordance with the parameter input by the parameter input unit.
前記電磁波発生手段と前記設置部の距離が前記距離調整手段によって増加される場合に、距離増加後の前記電磁波発生手段の出力を、距離増加前の前記電磁波発生手段の出力以上に制御し、且つ、前記電磁波発生手段と前記設置部の距離が前記距離調整手段によって減少される場合に、距離減少後の前記電磁波発生手段の出力を、距離減少前の前記電磁波発生手段の出力以下に制御する出力制御手段をさらに備えたことを特徴とする請求項9または10に記載の染色装置。   When the distance between the electromagnetic wave generating means and the installation portion is increased by the distance adjusting means, the output of the electromagnetic wave generating means after the distance increase is controlled to be equal to or higher than the output of the electromagnetic wave generating means before the distance increase, and When the distance between the electromagnetic wave generating means and the installation portion is reduced by the distance adjusting means, the output for controlling the output of the electromagnetic wave generating means after the distance reduction to be equal to or lower than the output of the electromagnetic wave generating means before the distance reduction The dyeing apparatus according to claim 9 or 10, further comprising a control means. 少なくとも前記設置部に設置される前記樹脂体の周囲を閉塞する閉塞室と、
前記閉塞室内の気圧を低下させる気圧低下手段と、
少なくとも前記気圧低下手段および前記電磁波発生手段の動作を制御する動作制御手段とをさらに備え、
前記動作制御手段は、
昇華性の前記染料が付着された染色用基体の付着面が、前記樹脂体に非接触で対向した状態であり、且つ、前記気圧低下手段によって前記閉塞室内の気圧を低下させた状態で、前記電磁波発生手段から前記染色用基体に向けて電磁波を照射させることで、前記染料を昇華させて前記樹脂体に前記染料を蒸着させる蒸着制御手段と、
前記蒸着制御手段によって前記染料が蒸着された前記樹脂体に対し、前記電磁波発生手段によって電磁波を照射させることで、前記染料を前記樹脂体に定着させる定着制御手段とを備えたことを特徴とする請求項1から11のいずれかに記載の染色装置。
A closed chamber for closing the periphery of the resin body installed in at least the installation section;
A pressure reducing means for reducing the pressure in the closed chamber;
An operation control means for controlling at least the operation of the atmospheric pressure lowering means and the electromagnetic wave generating means,
The operation control means includes
In the state where the adhesion surface of the dyeing substrate to which the dye having sublimation property is adhered is opposed to the resin body in a non-contact state, and the atmospheric pressure in the closed chamber is lowered by the atmospheric pressure lowering means, Deposition control means for sublimating the dye and evaporating the dye on the resin body by irradiating the dyeing substrate with electromagnetic waves from an electromagnetic wave generating means;
Fixing control means for fixing the dye to the resin body by irradiating the resin body on which the dye is deposited by the deposition control means with an electromagnetic wave by the electromagnetic wave generation means. The dyeing | staining apparatus in any one of Claim 1 to 11.
前記定着制御手段は、前記閉塞室内の圧力を、前記蒸着制御手段による蒸着時の圧力よりも上昇させた状態で、前記樹脂体に電磁波を照射させることを特徴とする請求項12に記載の染色装置。   The dyeing according to claim 12, wherein the fixing control means causes the resin body to be irradiated with electromagnetic waves in a state where the pressure in the closed chamber is higher than the pressure at the time of vapor deposition by the vapor deposition control means. apparatus. 前記電磁波発生手段は前記閉塞室の外部に設けられており、
前記閉塞室のうち、少なくとも前記設置部に設置された前記樹脂体と前記電磁波発生手段との間の部位に、前記電磁波発生手段によって発生される電磁波を透過させる透過部が設けられることを特徴とする請求項12または13に記載の染色装置。
The electromagnetic wave generating means is provided outside the closed chamber,
Among the closed chambers, at least a portion between the resin body installed in the installation unit and the electromagnetic wave generation unit is provided with a transmission unit that transmits the electromagnetic wave generated by the electromagnetic wave generation unit. The dyeing device according to claim 12 or 13.
前記設置部は、前記樹脂体に接触する部位に、前記樹脂体に対する付着性を有する付着体を装着する付着体装着部を備えたことを特徴とする請求項1から14のいずれかに記載の染色装置。   The said installation part was equipped with the attachment body mounting part which mounts | wears with the adhesion body which has the adhesiveness with respect to the said resin body in the site | part which contacts the said resin body. Dyeing equipment.
JP2013029615A 2013-02-19 2013-02-19 Dyeing equipment Active JP6136340B2 (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013029615A JP6136340B2 (en) 2013-02-19 2013-02-19 Dyeing equipment
US14/768,500 US9988708B2 (en) 2013-02-19 2014-02-18 Dyeing method and apparatus for dyeing resin body by vaporization and deposition
KR1020157022474A KR102094025B1 (en) 2013-02-19 2014-02-18 Staining device
CN201480009527.9A CN105008577B (en) 2013-02-19 2014-02-18 Dyeing installation
EP14753930.8A EP2960354B1 (en) 2013-02-19 2014-02-18 Dyeing device
PCT/JP2014/053697 WO2014129435A1 (en) 2013-02-19 2014-02-18 Staining device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013029615A JP6136340B2 (en) 2013-02-19 2013-02-19 Dyeing equipment

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014159647A true JP2014159647A (en) 2014-09-04
JP2014159647A5 JP2014159647A5 (en) 2016-04-07
JP6136340B2 JP6136340B2 (en) 2017-05-31

Family

ID=51611509

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013029615A Active JP6136340B2 (en) 2013-02-19 2013-02-19 Dyeing equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6136340B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069500A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 株式会社ニデック Dyeing apparatus
JP7467922B2 (en) 2019-07-30 2024-04-16 株式会社ニデック Dyeing System

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0843602A (en) * 1994-07-28 1996-02-16 Nikon Corp Colored optical parts and apparatus for production therefor
JPH0843601A (en) * 1994-07-26 1996-02-16 Nikon Corp Colored optical parts and their production
JP2008288451A (en) * 2007-05-18 2008-11-27 Renesas Technology Corp Method for manufacturing semiconductor device
JP2011075690A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Hoya Corp Method and device for dyeing plastic lens

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0843601A (en) * 1994-07-26 1996-02-16 Nikon Corp Colored optical parts and their production
JPH0843602A (en) * 1994-07-28 1996-02-16 Nikon Corp Colored optical parts and apparatus for production therefor
JP2008288451A (en) * 2007-05-18 2008-11-27 Renesas Technology Corp Method for manufacturing semiconductor device
JP2011075690A (en) * 2009-09-29 2011-04-14 Hoya Corp Method and device for dyeing plastic lens

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069500A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 株式会社ニデック Dyeing apparatus
JP7467922B2 (en) 2019-07-30 2024-04-16 株式会社ニデック Dyeing System

Also Published As

Publication number Publication date
JP6136340B2 (en) 2017-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014129435A1 (en) Staining device
JP6999273B2 (en) Staining device and dyeing method
JP6136340B2 (en) Dyeing equipment
KR20080099795A (en) Dyes method and apparatus of lens
JP2011048345A (en) Method and apparatus for dyeing plastic lens
JP7061116B2 (en) A method for cooling an epitaxial deposition reactor having a reflector outside the reaction chamber, a susceptor, and a substrate.
JP6115173B2 (en) Method for producing dyeing resin body and dyeing apparatus
JP6172435B2 (en) Dyeing equipment
CN104941830A (en) Ultrasonic vibration heating and drying device
JP5760907B2 (en) Heating apparatus and heating method
JP2016040423A (en) Dyeing apparatus and method for producing dyed resin body
CN115957947B (en) Coating printing method and apparatus
JP6327056B2 (en) Dyeing apparatus and method for producing dyed resin body
JP6379842B2 (en) Dyeing equipment
WO2016024552A1 (en) Dyeing device
JP6428037B2 (en) Dyeing apparatus and method for producing dyed resin body
JP6476645B2 (en) Dyeing equipment
JP6432202B2 (en) Dyeing apparatus and method for producing dyed resin body
KR101220045B1 (en) Thermal processing apparatus for manufacturing solar cell and Solar cell manufactured by the same
JP6488615B2 (en) Dyeing equipment
WO2016024550A1 (en) Dyeing device and method for producing dyed resin body
KR101536717B1 (en) Nonvacuum buffer layer deposition apparatus of CIGS Solar Cell
JP2023050841A (en) Transfer apparatus and dyeing system
JP2016069747A (en) Dyeing equipment
JP2007525594A5 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160219

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170110

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170313

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170404

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170417

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6136340

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250