JP2014157212A - 偏光膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の偏光膜の製造方法は、樹脂基材11を第1の方向に延伸する工程と、樹脂基材11を加熱する工程と、樹脂基材11上にポリビニルアルコール系樹脂層12を形成して積層体10を作製する工程と、積層体10を第2の方向に延伸する工程とをこの順で含む。
【選択図】図2
Description
好ましい実施形態においては、上記第1の方向への延伸温度は70℃〜150℃である。
好ましい実施形態においては、上記加熱温度は70℃〜150℃である。
好ましい実施形態においては、上記樹脂基材は、ポリエチレンテレフタレート系樹脂から形成されている。
好ましい実施形態においては、上記加熱後の樹脂基材のΔnは0.0016以下である。
本発明の別の局面によれば、偏光膜が提供される。この偏光膜は、上記製造方法により得られる。
本発明のさらに別の局面によれば、光学積層体が提供される。この光学積層体は、上記偏光膜を有する。
本発明のさらに別の局面によれば、積層体が提供される。この積層体は、ポリエチレンテレフタレート系樹脂から形成され、Δnが0.0016以下の樹脂基材と、該樹脂基材上に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層とを有する。
本発明の偏光膜の製造方法は、樹脂基材を第1の方向に延伸する工程(第1の延伸工程)と、樹脂基材を加熱する工程(加熱工程)と、樹脂基材上にポリビニルアルコール(PVA)系樹脂層を形成して積層体を作製する工程(積層体作製工程)と、積層体を第2の方向に延伸する工程(第2の延伸工程)とを、この順で含む。以下、各々の工程について説明する。
上記樹脂基材の形成材料としては、任意の適切な熱可塑性樹脂が採用され得る。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重体樹脂等が挙げられる。これらの中でも、非晶質の(結晶化していない)ポリエチレンテレフタレート系樹脂が好ましく用いられる。中でも、非晶性の(結晶化しにくい)ポリエチレンテレフタレート系樹脂が特に好ましく用いられる。非晶性のポリエチレンテレフタレート系樹脂の具体例としては、ジカルボン酸としてイソフタル酸をさらに含む共重合体や、グリコールとしてシクロヘキサンジメタノールをさらに含む共重合体が挙げられる。
Δn=R0/d ・・・・・(1)
R0:23℃における波長590nmの光で測定した樹脂基材の正面位相差(nm)
d:樹脂基材の厚み(nm)
上記第1の方向への延伸後、樹脂基材を加熱する。樹脂基材を加熱することにより、上記第1の方向への延伸により樹脂基材に生じた残存応力を緩和し、後述の第2の方向への延伸における第1の方向への縮率を低下させることができる。その結果、製造効率を向上させることができる。さらに、加熱によって樹脂基材のΔnが低下する。
図2は、本発明の好ましい実施形態による積層体の概略断面図である。積層体10は、樹脂基材11とPVA系樹脂層12とを有し、樹脂基材11上に、PVA系樹脂層12を形成することにより作製される。PVA系樹脂層の形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。好ましくは、樹脂基材上に、PVA系樹脂を含む塗布液を塗布し、乾燥することにより、PVA系樹脂層を形成する。
上記第2の方向は、所望の偏光膜に応じて、任意の適切な方向に設定され得る。好ましくは、第2の方向は、上記第1の方向と直交する。例えば、上記第1の方向が長尺状の樹脂基材の幅方向である場合、第2の方向は、好ましくは、長尺状の積層体の長手方向である。なお、本明細書において、「直交」とは、実質的に直交する場合も包含する。ここで、「実質的に直交」とは、90°±5.0°である場合を包含し、好ましくは90°±3.0°、さらに好ましくは90°±1.0°である。また、第2の方向が、実質的に、得られる偏光膜の吸収軸方向となる。
本発明の偏光膜の製造方法は、上記工程以外に、その他の工程を含み得る。その他の工程としては、例えば、染色工程、不溶化工程、架橋工程、洗浄工程、乾燥工程等が挙げられる。その他の工程は、任意の適切なタイミングで行い得る。
本発明の偏光膜は、実質的には、二色性物質が吸着配向されたPVA系樹脂膜である。偏光膜の厚みは、好ましくは10μm以下であり、より好ましくは7μm以下、さらに好ましくは5μm以下である。一方、偏光膜の厚みは、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.5μm以上である。偏光膜は、好ましくは、波長380nm〜780nmのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光膜の単体透過率は、好ましくは40.0%以上、より好ましくは41.0%以上、さらに好ましくは42.0%以上、特に好ましくは42.8%以上である。偏光膜の偏光度は、好ましくは99.8%以上、より好ましくは99.9%以上、さらに好ましくは99.95%以上である。
本発明の光学積層体は、上記偏光膜を有する。図3(a)および(b)は、本発明の好ましい実施形態による光学フィルム積層体の概略断面図である。光学フィルム積層体100は、樹脂基材11’と偏光膜12’と粘着剤層13とセパレータ14とをこの順で有する。光学フィルム積層体200は、樹脂基材11’と偏光膜12’と接着剤層15と光学機能フィルム16と粘着剤層13とセパレータ14とをこの順で有する。本実施形態では、上記樹脂基材を得られた偏光膜12’から剥離せずに、そのまま光学部材として用いている。樹脂基材11’は、例えば、偏光膜12’の保護フィルムとして機能し得る。
1.厚み
デジタルマイクロメーター(アンリツ社製、製品名「KC−351C」)を用いて測定した。
2.ガラス転移温度(Tg)
JIS K 7121に準じて測定した。
3.吸水率
JIS K 7209に準じて測定した。
4.正面位相差(R0)
Axometrics社製のAxoscanを用いて測定した。測定波長は590nm、測定温度は23℃であった。
樹脂基材として、長尺状で、吸水率0.35%、Tg75℃のシクロヘキサンジメタノールを共重合成分として含む非晶質ポリエチレンテレフタレート(A−PET)フィルム(三菱化学社製、商品名「ノバクリアー SH046」、厚み:100μm)を用いた。テンター延伸機を用いて、この樹脂基材を長手方向に搬送しながら、105℃で横方向に2倍に延伸した。この時点(延伸後かつ加熱前)での樹脂基材のΔnは0.00249であった。
続いて、テンター延伸機のクリップで実質的に延伸幅に保持された状態で、樹脂基材を120℃で30秒間加熱した。加熱後の樹脂基材のΔnは0.00124であった。
次に、樹脂基材の片面に、重合度4200、ケン化度99.2モル%のポリビニルアルコールの水溶液を60℃で塗布および乾燥して、厚み10μmのPVA系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
次いで、積層体を、液温30℃の不溶化浴(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(不溶化工程)。
次いで、液温30℃の染色浴(水100重量部に対して、ヨウ素を0.2重量部配合し、ヨウ化カリウムを1.0重量部配合して得られたヨウ素水溶液)に60秒間浸漬させた(染色工程)。
次いで、液温30℃の架橋浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを3重量部配合し、ホウ酸を3重量部配合して得られたホウ酸水溶液)に30秒間浸漬させた(架橋工程)。
その後、積層体を、液温70℃のホウ酸水溶液(水100重量部に対して、ホウ酸を4重量部配合し、ヨウ化カリウムを5重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向(長手方向)に一軸延伸を行った(水中延伸)。ここで、積層体が破断する直前まで延伸した(最大延伸倍率は6.0倍)。
その後、積層体を液温30℃の洗浄浴(水100重量部に対して、ヨウ化カリウムを4重量部配合して得られた水溶液)に浸漬させた後、60℃の温風で乾燥させた(洗浄・乾燥工程)。
こうして、樹脂基材上に、厚み4.5μmの偏光膜を形成した。
樹脂基材の加熱時間を40秒としたこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
樹脂基材の加熱時間を50秒としたこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
樹脂基材の加熱温度を125℃、加熱時間を40秒としたこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
樹脂基材の延伸温度を115℃としたこと、加熱温度を105℃、加熱時間を40秒としたこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。本実施例において、延伸後かつ加熱前の樹脂基材のΔnは0.00093であった。
樹脂基材の延伸温度を90℃としたこと、延伸後に加熱しなかったこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
樹脂基材の延伸温度を100℃としたこと、延伸後に加熱しなかったこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
延伸後に加熱しなかったこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
延伸後に加熱しなかったこと以外は、実施例5と同様にして偏光膜を形成した。
樹脂基材に対し、延伸・加熱を行わなかったこと以外は、実施例1と同様にして偏光膜を形成した。
1.幅残存率
上記空中補助延伸後の樹脂基材の幅を計測し、樹脂基材の元長(幅)に対する幅残存率を算出することにより幅残存率を評価した。
(評価基準)
良好:120%以上
不良:120%未満
2.膜厚分布
樹脂基材延伸後、幅方向両端部を除いた幅方向中央部(85%)における膜厚を測定し、最大値と最小値との差を算出することにより膜厚分布を評価した。
(評価基準)
良好:10μm未満
不良:10μm以上
3.光学特性
紫外可視分光光度計(日本分光社製、製品名「V7100」)を用いて、偏光膜の単体透過率(Ts)、平行透過率(Tp)および直交透過率(Tc)を測定し、偏光度(P)を次式により求めた。
偏光度(P)(%)={(Tp−Tc)/(Tp+Tc)}1/2×100
なお、上記Ts、TpおよびTcは、JIS Z 8701の2度視野(C光源)により測定し、視感度補正を行ったY値である。
(評価基準)
良好:単体透過率99.99%における偏光度が42.8%以上
不良:単体透過率99.99%における偏光度が42.8%未満
Claims (8)
- 樹脂基材を第1の方向に延伸する工程と、
前記樹脂基材を加熱する工程と、
前記樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂層を形成して積層体を作製する工程と、
前記積層体を第2の方向に延伸する工程と
をこの順で含む、偏光膜の製造方法。 - 前記第1の方向への延伸温度が70℃〜150℃である、請求項1に記載の製造方法。
- 前記加熱温度が70℃〜150℃である、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記樹脂基材が、ポリエチレンテレフタレート系樹脂から形成されている、請求項1から3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記加熱後の樹脂基材のΔnが0.0016以下である、請求項4に記載の製造方法。
- 請求項1から5のいずれかに記載の製造方法により得られた、偏光膜。
- 請求項6に記載の偏光膜を有する、光学積層体。
- ポリエチレンテレフタレート系樹脂から形成され、Δnが0.0016以下の樹脂基材と、
該樹脂基材上に形成されたポリビニルアルコール系樹脂層と
を有する、積層体。
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