JP2014155265A - Dc−dcコンバータのトランス配線構造 - Google Patents

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Abstract

【課題】効率を低下させることなくメイントランスの出力配線パターンの漏れインダクタンスを低減したDC−DCコンバータのトランス配線構造を実現することを目的とする。
【解決手段】メイントランス出力が基板配線パターン化されているDC−DCコンバータであって、メイントランス出力がパターン化された基板に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、浮遊グラウンドプレートは、一対のメイントランス出力の同一面内の配線パターン両方に跨って、少なくともその一部と重畳されるDC−DCコンバータ等とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、漏れインダクタンスを低減したDC−DCコンバータのトランス配線構造に関する。
下記特許文献1には、M−巻線結合インダクタが、第1の端部磁気要素と、第2の端部磁気要素と、M個の接続磁気要素と、M個の巻線とを含み、Mは、1より大きい整数であるものとし、各接続磁気要素は、第1の端部磁気要素と第2の端部磁気要素との間に配置され、それらを接続し、各巻線は、M個の接続磁気要素のうちの個別の1つに少なくとも部分的に巻き付けられ、結合インダクタはさらに、磁束に第1の端部磁気要素と第2の端部磁気要素との間の経路を提供するように、M個の接続磁気要素のうちの少なくとも2つに隣接し、それらに少なくとも部分的にわたって延在する、少なくとも1つの上部磁気要素を含むものとする技術思想が開示されている。
この文献による提案では、結合インダクタを利用するDC−DCコンバータの性能は、結合インダクタの漏れインダクタンスによって影響を及ぼされるところ、上述の構成により結合インダクタの漏れインダクタを制御できる効果があることが記載されている。
特表2013−502074号公報
従来のDC−DCコンバータは、メイントランスの出力配線パターンによる漏れインダクタンス(リーケージインダクタンス)により、電流の切り替え時にサージ電圧が発生し、スイッチ素子等に電圧破損が生じる懸念があった。
また、サージ電圧の発生を抑制するために、RCのサージアブソーバを追加してスイッチ素子等の電圧破損を回避する対策を行うこともできるが、サージアブソーバの追加はDC−DCコンバータの効率を悪化させる一因となっていた。
本発明は、上述した問題点に鑑み為された発明であって、効率を低下させることなくメイントランスの出力配線パターンの漏れインダクタンスを低減したDC−DCコンバータのトランス配線構造を実現することを目的とする。
本発明のDC−DCコンバータは、メイントランス出力が基板配線パターン化されているDC−DCコンバータであって、メイントランス出力がパターン化された基板に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、浮遊グラウンドプレートは、一対のメイントランス出力の同一面内の配線パターン両方に跨って、少なくともその一部と重畳されることを特徴とする。
また、本発明のDC−DCコンバータは、メイントランス出力が平板バーとしてパターン化されているDC−DCコンバータにおいて、メイントランス出力がパターン化された絶縁板に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、浮遊グラウンドプレートは、一対の前記メイントランス出力の同一面内の配線パターン両方に跨って、少なくともその一部と重畳されることを特徴とする。
また、本発明のDC−DCコンバータは、メイントランス出力がラミネートされているDC−DCコンバータにおいて、メイントランス出力のラミネートされた配線に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、浮遊グラウンドプレートは、一対の前記メイントランス出力の同一面内のラミネート配線両方に跨って、少なくともその一部と重畳されることを特徴とする。
効率を低下させることなくメイントランスの出力配線パターンの漏れインダクタンスを低減したDC−DCコンバータのトランス配線構造を実現できる。
第一の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータの構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータの回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランスの一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板の断面構造を説明する図である。 第二の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータの構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータの回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランスの一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板の断面構造を説明する図である。 第三の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータの構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータの回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランスの一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板の断面構造を説明する図である。 グラウンドプレートを配線パターンに近接して配置した場合の漏れインダクタンス低減効果を検証する実験を説明する図であり、(a)が絶縁体薄膜でラミネートされたコの字状の板状導電体上に全体を覆うように板状の導電体(グラウンドプレート)を配置した状態を説明する図であり、(b)が条件を変えて導電体の「X」と「Y」との間の漏れインダクタンス測定結果を示す図である。 第四の実施形態にかかる電源装置の構成概要を説明する斜視図である。 第一の基板の裏面側、すなわち第二の基板と対向する面の配線パターン概要を示す概念図である。 第一の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータの構成概要を追加的に説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータの回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランスの一対の出力配線及び配線が構成された多層配線プリント基板の断面構造を説明する図であり、(c)がグラウンドプレートを基板内に内挿した例を説明する図である。 多層配線基板を用いた基板構成と平板バー構成とラミネート構成とを比較して説明する図であり、(a)が基板構成を説明し、(b)が平板バー構成を説明し、(c)がラミネート構成を説明する図である。 配線及びグラウンドプレートの配置バリエーションを例示する図であり、(a)がタップ出力配線が出力側(二次側)配線間に同一平面上に配置される例を説明する図であり、(b)が出力側(二次側)配線がタップ出力配線と出力側(二次側)配線との間に同一平面上に配置される例を説明する図であり、(c)がグラウンドプレートが基板内に内挿される例を説明する図である。
実施形態では、DC−DCコンバータにおいて、トランスの出力電流を流す一対の配線基板パターンからの漏れインダクタンス(リーケージインダクタンス)を低減する構成について開示する。
高周波スイッチング動作を遂行するDC−DCコンバータは、装置構成上、メイントランスの出力側が配線基板等により、パターン化されている場合がある。配線パターンは、通常、完成状態では絶縁層に挟まれる薄い銅箔等の導電層を一定の幅を残してエッチング工程等により食刻することにより、得られる。
このような一対の出力配線パターン間の漏れインダクタンスにより、電流の切り替え時にサージ電圧が発生し、スイッチ素子を破損する懸念が生じる。一方、サージ電圧を抑制するために、サージアブソーバを追加で設ける等の対策をすれば、DC−DCコンバータの効率低下を招来することとなる。
本実施形態においては、平行な一対のメイントランスの出力配線パターンに対して、これと絶縁された浮遊グラウンドプレートを近接して対向配置することで、出力配線パターンから生じる電界をキャンセルし、漏れインダクタンスを削減する。これによる漏れインダクタンスの削減効果は、一対のメイントランスの出力配線パターンを互いに面平行に近接させた場合と略同等程度である。
(第一の実施形態)
図1は、第一の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータ1000の構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータ1000の回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランス1200の一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板1700の断面構造を説明する図である。
図1(a)に示すように、DC−DCコンバータ1000は、メイントランス1200の出力側(二次側)配線1300,1400を覆う(重畳される)グラウンドプレート1100を備える。また、DC−DCコンバータ1000は、スイッチ素子1500とスイッチ素子1600とを交互にオン・オフすることにより、メイントランス1200の出力側励起電圧を出力端子へと伝達する。
また、図1(b)から理解できるように、メイントランス1200の一対の出力側(二次側)配線1300,1400は、多層配線プリント基板1700の同一導電層にエッチングで構成されている。そして、絶縁層である例えばガラエポ基板1710を介して対向する側にグラウンドプレート1100が設けられる。
グラウンドプレート1100は、多層配線プリント基板1700の導電層を、これをエッチングにより配線を刻むことなくそのままで用いることができる。また、図1(b)には不図視のスイッチ素子1500,1600が、ガラエポ基板1710の配線1300,1400側に実装されることができる。
また、図1(a),(b)に示すように、グラウンドプレート1100は、少なくともメイントランス1200の一対の出力側(二次側)配線1300,1400とスイッチ素子1500,1600と重畳されるように板状の導電層で形成されることが望ましい。この場合にも上述したように、グラウンドプレート1100は、多層配線プリント基板1700の複数の導電層のうちの一層をそのまま利用することができる。
但し、図1(a)に示すように、グラウンドプレート1100が出力側の機能素子であるインダクタやキャパシタと重畳されないようにする。これにより、インダクタやキャパシタがグラウンドプレート1100の影響を受けることなく、本来の整流機能等を発揮するものとなる。
また、グラウンドプレート1100はさらに好ましくは、スイッチ素子1500,1600の中点からのタップ配線の少なくとも一部と重畳されるように形成されることが望ましい。
また、スイッチ素子1500,1600は、これに替えてダイオード若しくはFETを用いることができる。FETを用いると、同期整流による駆動が可能となるので好ましい。同期整流とした場合でも第一の実施形態のDC−DCコンバータ1000は、メイントランス1200の出力配線間の漏れインダクタンスを低減し、高効率な動作が可能である。
また、ガラエポ基板1710は、これに限定されるものではなく、絶縁特性を有する誘電体であれば、素材材質を問わず用いることが可能である。例えば、ガラエポ基板1710に替えて、ポリイミドフィルム等のフレキシブル素材からなる基板を用いてもよい。図1(b)において、多層配線プリント基板1700の最外面は絶縁シート等によりラミネートされてもよいし、ガラエポ基板等により被覆されてもよく、絶縁性保護膜で被覆されてもよい。
図7は、第一の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータ1000の構成概要を追加的に説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータ1000の回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランス1200の一対の出力配線及び配線1800が構成された多層配線プリント基板1700の断面構造を説明する図であり、(c)がグラウンドプレート1100を基板1700内に内挿した例を説明する図である。
図8は、多層配線基板を用いた基板構成と平板バー構成とラミネート構成とを比較して説明する図であり、(a)が基板構成を説明し、(b)が平板バー構成を説明し、(c)がラミネート構成を説明する図である。
図8(b)に示すように、平板バー形状の配線1300,1400を絶縁板810上に配置し、絶縁板810の対向面にグラウンドプレート1100を配置した平板バー構成1700(2)としてもよい。
また、図8(c)に示すように、配線1300,1400及びグラウンドプレート1100が各々ラミネートシート820に内包されるように、したラミネート構成1700(3)としてもよい。
(第二の実施形態)
図2は、第二の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータ2000の構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータ2000の回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランス2200の一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板2700の断面構造を説明する図である。
図2(a)に示すように、DC−DCコンバータ2000は、メイントランス2200の出力側(二次側)配線2300,2400を覆う(重畳される)グラウンドプレート2100を備える。また、DC−DCコンバータ2000は、ダイオ−ド2500とダイオード2600とで整流することにより、メイントランス2200の出力側励起電圧を出力端子へと伝達する。
また、図2(b)から理解できるように、メイントランス2200の一対の出力側(二次側)配線2300,2400は、多層配線プリント基板2700の同一導電層にエッチングで構成されている。そして、絶縁層である例えば第一のガラエポ基板2710を介して対向する側にグラウンドプレート2100が設けられる。
また、グラウンドプレート2100を挟むようにして設けられた第二のガラエポ基板2720の対向面上にDC−DCコンバータ2000の出力配線2800が構成されることが好ましい。図2(a)に示すように、DC−DCコンバータ2000の出力配線2800は、メイントランス2200の二次側巻線中央にタップされて引き出され、そのまま出力端子へと接続される。
グラウンドプレート2100は、多層配線プリント基板2700の導電層を、これをエッチングにより配線を刻むことなくそのままで用いることができる。また、図2(b)には不図視のダイオード2500,2600が、ガラエポ基板2710の配線2300,2400側に実装されることができる。
また、図2(a),(b)に示すように、グラウンドプレート2100は、少なくともメイントランス2200の一対の出力側(二次側)配線2300,2400とダイオード2500,2600と重畳されるように板状の導電層で形成されることが望ましい。この場合にも上述したように、グラウンドプレート2100は、多層配線プリント基板2700の複数の導電層のうちの一層をそのまま利用することができる。
但し、図2(a)に示すように、グラウンドプレート2100が出力側の機能素子であるインダクタやキャパシタと重畳されないようにする。これにより、インダクタやキャパシタがグラウンドプレート2100の影響を受けることなく、本来の整流機能等を発揮するものとなる。
また、グラウンドプレート2100はさらに好ましくは、ダイオード2500,2600の中点からのタップ出力配線2800の少なくとも一部と重畳されるように形成されることが望ましい。
また、ダイオード2500,2600は、これに替えてスイッチ素子若しくはFETを用いることができる。FETを用いると、同期整流による駆動が可能となるので好ましい。同期整流とした場合でも第二の実施形態のDC−DCコンバータ2000は、メイントランス2200の出力配線間の漏れインダクタンスを低減し、高効率な動作が可能である。
また、第一のガラエポ基板2710及び第二のガラエポ基板2720は、これに限定されるものではなく、絶縁特性を有する誘電体であれば、素材材質を問わず用いることが可能である。例えば、ガラエポ基板2710,2720に替えて、ポリイミドフィルム等のフレキシブル素材からなる基板を用いてもよい。図2(b)において、多層配線プリント基板2700の最外面は絶縁シート等によりラミネートされてもよいし、ガラエポ基板等により被覆されてもよく、絶縁性保護膜で被覆されてもよい。
図9は、配線2300,2400,2800及びグラウンドプレート2100の配置バリエーションを例示する図であり、(a)がタップ出力配線2800が出力側(二次側)配線2300,2400間に同一平面上に配置される例2700(2)を説明する図であり、(b)が出力側(二次側)配線2400がタップ出力配線2800と出力側(二次側)配線2300との間に同一平面上に配置される例2700(3)を説明する図であり、(c)がグラウンドプレート2100が基板2710内に内挿される例2700(4)を説明する図である。
(第三の実施形態)
図3は、第三の実施形態にかかるカレントダブラDC−DCコンバータ3000の構成概要を説明する図であり、(a)がDC−DCコンバータ3000の回路を説明する概念図であり、(b)がメイントランス3200の一対の出力配線が構成された多層配線プリント基板3700の断面構造を説明する図である。
図3(a)に示すように、DC−DCコンバータ3000は、メイントランス3200の出力側(二次側)配線3300,3400を覆う(重畳される)グラウンドプレート3100を備える。また、DC−DCコンバータ3000は、ダイオ−ド3500とダイオード3600とで整流することにより、メイントランス3200の出力側励起電圧を出力端子へと伝達する。
また、図3(b)から理解できるように、メイントランス3200の一対の出力側(二次側)配線3300,3400は、多層配線プリント基板3700の同一導電層にエッチングで構成されている。そして、絶縁層である例えばガラエポ基板3710を介して対向する側にグラウンドプレート3100が設けられる。また、出力側配線3300と、ダイオード3500を介した後の出力側配線3800とは、図3(b)に示すように同一パターンとして共通配線化することができる。
グラウンドプレート3100は、多層配線プリント基板3700の導電層を、これをエッチングにより配線を刻むことなくそのままで用いることができる。また、図3(b)には不図視のダイオード3500,3600が、ガラエポ基板3710の配線3300,3400側に実装されることができる。
また、図3(a),(b)に示すように、グラウンドプレート3100は、少なくともメイントランス3200の一対の出力側(二次側)配線3300,3400とダイオード3500,3600と重畳されるように板状の導電層で形成されることが望ましい。この場合にも上述したように、グラウンドプレート3100は、多層配線プリント基板3700の複数の導電層のうちの一層をそのまま利用することができる。
但し、図3(a)に示すように、グラウンドプレート3100が出力側の機能素子であるインダクタやキャパシタと重畳されないようにする。これにより、インダクタやキャパシタがグラウンドプレート3100の影響を受けることなく、本来の整流機能等を発揮するものとなる。
また、ダイオード3500,3600は、これに替えてスイッチ素子若しくはFETを用いることができる。FETを用いると、同期整流による駆動が可能となるので好ましい。同期整流とした場合でも第二の実施形態のDC−DCコンバータ3000は、メイントランス3200の出力配線間の漏れインダクタンスを低減し、高効率な動作が可能である。
また、ガラエポ基板3710は、これに限定されるものではなく、絶縁特性を有する誘電体であれば、素材材質を問わず用いることが可能である。例えば、ガラエポ基板3710に替えて、ポリイミドフィルム等のフレキシブル素材からなる基板を用いてもよい。図3(b)において、多層配線プリント基板3700の最外面は絶縁シート等によりラミネートされてもよいし、ガラエポ基板等の絶縁材により被覆されてもよく、絶縁性保護膜で被覆されてもよい。また、グラウンドプレート3100は、ガラエポ基板3710内に内挿されてもよい。
(実験結果)
図4は、グラウンドプレートを配線パターンに近接して配置した構成4000の漏れインダクタンス低減効果を検証する実験を説明する図であり、(a)が絶縁体薄膜でラミネートされたコの字状の板状導電体4200上に全体を覆うように板状の導電体(グラウンドプレート)4100を配置した状態を説明する図であり、(b)が条件を変えて導電体4200の「X」と「Y」との間の漏れインダクタンス測定結果を示す図である。
図4(a)に示すように、導電体4200の長辺長さは100mmとし、配線パターン幅は5mmとした。図4(b)に示すように、グラウンドプレート4100を配置しない場合と、グラウンドプレート4100を配置した場合と、図4(a)に示す中央線で折り曲げて二つの長辺が面平行に近接するようにした場合と、で「X」と「Y」との間の漏れインダクタンス測定した。
図4(b)において、グラウンドプレート4100を配置しない場合には漏れインダクタンスが0.24μHであったのに対し、グラウンドプレート4100を配置した場合には、漏れインダクタンスが0.14μHであり、大凡6割弱程度にまで漏れインダクタンスが低減されていることが確認された。
また、図4(a)に示す中央線で折り曲げて二つの長辺が面平行に近接するようにした場合には、漏れインダクタンスが0.12μHであった。この場合には、二つの長辺に互いに逆方向の電流が流れることとなるので、電界が相互にキャンセルされて、漏れインダクタンスが理論上「0」に近づくこととなる。
従って、グラウンドプレート4100を配置した場合には、中央線で折り曲げて二つの長辺が面平行に近接して電界キャンセルさせた場合に近い程度の、漏れインダクタンスの大幅な低減効果が得られることが確認できた。
(第四の実施形態)
図5は、第四の実施形態にかかる電源装置5100の構成概要を説明する斜視図である。図5に示すように、電源装置5100は、トランス5150の二次巻線と二次側の整流回路を構成する素子5111とが設けられた第一の基板5110を備える。第一の基板5110は、プリント配線板等の多層積層基板としてもよい。
また、電源装置5100は、電源装置本体を構成する各種の実装部品5121が設けられるいわゆるマザーボードとなる第二の基板5120を備える。第二の基板5120は、第一の基板5110の直下に、所定の間隔を有して対向して配置される。
ここで、所定の間隔とは、実装部品5121が第一の基板5110と第二の基板5120との間に配置されるのに障害とならない程度の間隔であってよい。また、第一の基板5110と第二の基板5120とは、第一の基板5110と第二の基板5120とに共に略垂直となる配線5115を介して電気的に接続される。配線5115は、第一の基板5110と第二の基板5120とが対向する部分において、任意の箇所に複数設けることができる。
第一の基板5110は、平面状の二次巻線の部位において、一次巻線が設けられた上側の第三の基板5130(1)と他の一次巻線が設けられた下側の第三の基板5130(2)と当接して配置され、トランス5150を構成する。換言すれば、第一の基板5110は、上側の第三の基板5130(1)と下側の第三の基板5130(2)(両者を併せて、適宜第三の基板5130と総称する)との間に、二次側巻線部分において挟持される。
また、トランス5150は、図5に示すように上下二つのパーツが嵌合してなるフェライトコア5140を備える。フェライトコア5140は、その中央部に第一の基板5110と第三の基板5130(1),5130(2)を貫通する棒状の軸を備える。
上側の第三の基板5130(1)と下側の第三の基板5130(2)とは、電気的に直列に接続される。すなわち、上側の第三の基板5130(1)に形成された平面状の一次巻線と下側の第三の基板5130(2)に形成された平面状の一次巻線とは、直列接続となり、回路上では実質的に同一機能を有する一次巻線を構成する。
電源装置5100は、第一の基板5110と第二の基板5120とが、所定の間隔を空けて対向して配置されるので、第一の基板5110の表裏両面と第二の基板5120の表裏両面との計4面に対して、実装部品5121や素子5111を配置することが可能である。このため、複数の実装部品5121や複数の素子5111のそれぞれの相互間の距離を短く設計し、相互間の配線パターン長を比較的短くすることが可能である。
電源装置5100は、第一の基板5110を一枚のみ備える構成として説明したが、第一の基板5110の上方にさらに所定の間隔を空けて追加的に第一の基板5110(2)を設けてもよい。この場合には、追加した第一の基板5110(2)を二次側巻線部分で挟持するように、さらに追加的に一次側巻線が配された第三の基板5130(3)を設けてもよい。なお、ここでいう巻線とは、平面状に形成されたいわゆるシートコイルであってもよい。
図5に示すように、電源装置5100においては、第三の基板5130(1),5130(2)は、トランス5150の一次巻線のみが配されており、その他の実装部品や素子等は配されていない。
第一の基板5110が備える二次側の整流回路は、平滑コンデンサや平滑コイル、スイッチングFET等及びその駆動回路であってもよい。また、平滑コイルは、第二の基板5120に設けるのではなく、第一の基板5110に設けてもよい。
また、第一の実施形態乃至第三の実施形態で説明したグラウンドプレートを、第一の基板5110に設けることができる。例えば、多層基板である第一の基板5110の銅箔層の一層を、パターン化することなく他の銅箔層とは絶縁された浮遊状態として、グラウンドプレートを備えることができる。
また、例えばラミネート加工により絶縁された導電板を第一の基板5110に近接して平行に配置することもできる。特に、トランス5150の二次巻線と二次側の整流回路を構成する素子5111を覆うように、グラウンドプレートを配置する構成により、漏れインダクタンスの低減を効果的に行うことができる。
図6は、第一の基板5110の裏面側、すなわち第二の基板5120と対向する面の配線パターン概要を示す概念図である。図6から理解されるように、第一の基板5110には二次側の同期整流部5110aがコンパクトに収容、配置されるように配線パターンが設けられる。また、第一の基板5110には、トランス5150の二次巻線5110bが、同期整流部5110aに隣接して設けられる。
従って、二次巻線5110bと同期整流部5110aとの間の配線距離が短く構成できるとともに、同期整流部5110aを構成する各素子5111間の配線長も比較的短くして第一の基板5110上に、コンパクトにまとめて配置することが可能となる。
二次巻線5110bは、中央部にフェライトコア5140が貫通する略円形の孔5114を備えており、孔5114を含めた二次巻線5110b部分の表裏基板面において、第三の基板5130(1),5130(2)と、各々当接する。
上述の各実施形態で例示したDC−DCコンバータ及び電源装置等は、各実施形態での説明に限定されるものではなく、各実施形態で説明する技術思想の範囲内かつ自明な範囲内で、適宜その構成や動作及び動作方法等を変更することができる。
また、説明の便宜上各実施形態ごとに個別に説明しているが、各実施形態の構成を適宜組み合わせて適用し、またその動作も自明な範囲内で適宜組み合わせてアレンジしてもよい。
本発明のDC−DCコンバータは、二次電池への充電装置を含む各種の電源装置として広く適用できる。
1000・・DC−DCコンバータ、1100・・グラウンドプレート、1200・・メイントランス、1300,1400・・出力側配線、1500,1600・・スイッチ素子、1700・・多層配線プリント基板、1710・・ガラエポ基板。

Claims (11)

  1. メイントランス出力が基板配線パターン化されているDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランス出力がパターン化された基板に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、
    前記浮遊グラウンドプレートは、一対の前記メイントランス出力の同一面内の配線パターン両方に跨って、少なくともその一部と重畳される
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  2. 請求項1に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランス出力の基板配線パターンと、前記浮遊グラウンドプレートと、の間に絶縁層を備える
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  3. 請求項1または請求項2に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記基板は多層基板である
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  4. 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記浮遊グラウンドプレートは多層基板の未パターン導電層であり、前記メイントランス出力の基板配線パターンは前記多層基板のパターン化された導電層である
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  5. 請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランス出力の基板配線パターンと、前記浮遊グラウンドプレートと、の間にガラエポ基板を備える
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  6. 請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記浮遊グラウンドプレートに対して前記メイントランス出力の基板配線パターンの対象位置に、前記メイントランスにタップされた前記DC−DCコンバータの出力配線が配置される
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  7. 請求項6に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記浮遊グラウンドプレートと前記DC−DCコンバータの出力配線との間に、絶縁層を備える
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  8. 請求項7に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記絶縁層は、ガラエポ基板である
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  9. 請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載のDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランスの出力側がカレントダブラ方式のコンバータである
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  10. メイントランス出力が平板バーとしてパターン化されているDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランス出力がパターン化された絶縁板に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、
    前記浮遊グラウンドプレートは、一対の前記メイントランス出力の同一面内の配線パターン両方に跨って、少なくともその一部と重畳される
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
  11. メイントランス出力がラミネートされているDC−DCコンバータにおいて、
    前記メイントランス出力のラミネートされた配線に、その漏れインダクタンスを低減するように、近接して配置された浮遊グラウンドプレートを備え、
    前記浮遊グラウンドプレートは、一対の前記メイントランス出力の同一面内のラミネート配線両方に跨って、少なくともその一部と重畳される
    ことを特徴とするDC−DCコンバータ。
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