JP2014154830A - Thermistor element and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermistor element capable of preventing dispersion of a metal element from a lead wire while maintaining electrical junction and mechanical junction by ensuring direct junction between a conductive adhesive for fixture and an electrode, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: The thermistor element comprises: a chip-like or plate-like thermistor element assembly 2; a pair of first electrode films 3 formed on front and rear faces of the thermistor element assembly; a pair of inorganic insulating layers 4 formed on surfaces of the pair of first electrode films while excluding a region on a ridge line of the thermistor element assembly; a pair of second electrode films 5 formed from surfaces of the pair of inorganic insulating layers to the first electrode films exposed in the region on the ridge line of the thermistor element assembly; a pair of lead wires 6 installed in centers on surfaces of the pair of second electrode films; and a conductive adhesive 7 for fixture for fixing the lead wires and the second electrode films.

Description

本発明は、高温用途の温度計測に好適なサーミスタ素子及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a thermistor element suitable for temperature measurement for high temperature applications and a method for manufacturing the thermistor element.

近年、低温から高温までの幅広い温度領域で測定可能なサーミスタ素子の要求が増えている。このような高温でも使用可能なサーミスタ素子の一般的な形として、特許文献1に記載されているように、サーミスタチップに端子電極を形成し、固着用導電性電極を介して両端子電極にリード線を接合させ、サーミスタチップをガラス等の絶縁被覆材料でモールドするサーミスタ素子が使われている。   In recent years, there is an increasing demand for thermistor elements that can be measured in a wide temperature range from low temperature to high temperature. As a general form of a thermistor element that can be used at such a high temperature, as described in Patent Document 1, a terminal electrode is formed on a thermistor chip and leads to both terminal electrodes via a conductive electrode for fixing. A thermistor element is used in which wires are joined and a thermistor chip is molded with an insulating coating material such as glass.

現在、リード線としては500℃以上の高温用にPtなどの貴金属を主成分とした線材を用いるケースがほとんどであるが、素子全体の価格に対するリード線の占める割合が大半を占める。そのため、耐熱温度が500℃以下の場合には貴金属以外の線材の使用を検討する場合が増えてきている。このような温度域では封止ガラスとして比較的熱膨張係数の大きな軟質ガラスを使用する場合が大半であり、熱膨張係数およびガラスとの濡れ性の点からジュメット線、Fe/Cr線などの線材が主として使用が検討される。
例えば、図6及び図7に示すように、表面に亜酸化銅膜6aが形成されたジュメット線のリード線6が、サーミスタ素体2の表裏面に形成された表面電極103に固着用導電性接着剤7で接着され、周囲を封止ガラスであるモールド材8で覆ったものが検討されている。
At present, most lead wires use wires mainly composed of noble metals such as Pt for high temperatures of 500 ° C. or higher, but the proportion of the lead wires occupies the majority of the price of the entire device. For this reason, when the heat-resistant temperature is 500 ° C. or lower, there are increasing cases of considering the use of wires other than noble metals. In such a temperature range, soft glass having a relatively large thermal expansion coefficient is used as the sealing glass in most cases. From the viewpoint of the thermal expansion coefficient and wettability with glass, wires such as dumet wires and Fe / Cr wires are used. However, its use is mainly considered.
For example, as shown in FIGS. 6 and 7, the lead wire 6 of the dumet wire having the cuprous oxide film 6 a formed on the surface thereof is electrically conductive for fixing to the surface electrode 103 formed on the front and back surfaces of the thermistor body 2. A material that is bonded with an adhesive 7 and whose periphery is covered with a molding material 8 that is sealing glass has been studied.

しかしながら、このような金属を主成分とした線材を用いた場合、図8に示すように、プロセス温度や使用温度が高くなる場合においてリード線6の構成成分(Fe,Ni,Cu等の金属元素)が固着用導電性接着剤7内に拡散してサーミスタ素体2の表面電極103に達し、さらにサーミスタ素体2内に入ると、成分によってはサーミスタ特性を変化・劣化させる場合がある。
なお、特許文献2では、固着用耐熱導電性電極内の金属成分がガラス封着の加熱時に、厚膜電極内に拡散して抵抗値がばらつくことを防ぐため、サーミスタ素体上の厚膜電極上に別のブロック電極を塗布する方法が提案されている。
However, when such a wire containing a metal as a main component is used, as shown in FIG. 8, when the process temperature and the use temperature are high, the constituent elements of the lead wire 6 (metal elements such as Fe, Ni, Cu, etc.) ) Diffuses into the fixing conductive adhesive 7, reaches the surface electrode 103 of the thermistor body 2, and further enters the thermistor body 2, depending on the component, the thermistor characteristics may be changed or deteriorated.
In Patent Document 2, the thick film electrode on the thermistor body is used to prevent the metal component in the heat-resistant conductive electrode for fixing from diffusing into the thick film electrode during heating of the glass seal and causing the resistance value to vary. A method of applying another block electrode on top has been proposed.

特開昭61−105803号公報JP 61-105803 A 特開昭61−105804号公報JP-A-61-105804

上記従来の技術には、以下の課題が残されている。
上述したように、リード線からサーミスタ素体に拡散した金属元素(Cu等)によってサーミスタ特性が変化してしまうため、これら金属元素の拡散を防ぐことが必要である。例えば、特許文献2の技術のように、表面電極の上に金属元素の拡散を抑える中間層を設けることが考えられるが、この場合、固着用導電性接着剤と中間層との間及び中間層とサーミスタ表面電極との間に、異種接合界面がサーミスタ素体上すべての面に新たに生じることにより電気的接合安定性および機械的接合安定性が低下する恐れがあった。
The following problems remain in the conventional technology.
As described above, the thermistor characteristics are changed by the metal element (such as Cu) diffused from the lead wire to the thermistor body, so that it is necessary to prevent the diffusion of these metal elements. For example, as in the technique of Patent Document 2, it is conceivable to provide an intermediate layer that suppresses the diffusion of the metal element on the surface electrode. In this case, the intermediate layer is provided between the conductive adhesive for fixing and the intermediate layer. There is a possibility that the electrical junction stability and the mechanical junction stability may be lowered due to the newly formed heterogeneous junction interface between all the surfaces of the thermistor body between the electrode and the thermistor surface electrode.

本発明は、前述の課題に鑑みてなされたもので、固着用導電性接着剤と電極との間の直接接合を確保することにより電気的接合および機械的接合を維持しつつリード線からの金属元素の拡散を抑制可能なサーミスタ素子及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and ensures the direct bonding between the fixing conductive adhesive and the electrode, thereby maintaining the electrical bonding and the mechanical bonding, and the metal from the lead wire. It is an object of the present invention to provide a thermistor element capable of suppressing element diffusion and a method for manufacturing the thermistor element.

本発明者らは、リード線からの金属元素の拡散について研究を進めたところ、サーミスタ素子の電極部分とリード線との接触部分直下の領域だけに金属元素の拡散が顕著になっていることを突き止めた。
したがって、本発明は、上記知見から得られたものであり、前記課題を解決するために以下の構成を採用した。すなわち、第1の発明に係るサーミスタ素子は、チップ状又は板状のサーミスタ素体と、該サーミスタ素体の表裏面に形成された一対の第1の電極膜と、一対の前記第1の電極膜の表面に前記サーミスタ素体の稜線部上の領域を除いて形成された一対の無機絶縁層と、一対の前記無機絶縁層の表面から前記サーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した前記第1の電極膜にまで形成された一対の第2の電極膜と、一対の前記第2の電極膜の表面の中央部に設置された一対のリード線と、前記リード線と前記第2の電極膜とを固定する固着用導電性接着剤とを備えていることを特徴とする。
The present inventors have conducted research on the diffusion of the metal element from the lead wire, and found that the diffusion of the metal element is significant only in the region immediately below the contact portion between the electrode portion of the thermistor element and the lead wire. I found it.
Therefore, the present invention has been obtained from the above findings, and the following configuration has been adopted in order to solve the above problems. That is, the thermistor element according to the first invention includes a chip-like or plate-like thermistor body, a pair of first electrode films formed on the front and back surfaces of the thermistor body, and a pair of the first electrodes. A pair of inorganic insulating layers formed on the surface of the film excluding the region on the ridge line portion of the thermistor body, and the surface exposed from the surface of the pair of the inorganic insulating layer to the region on the ridge line portion of the thermistor body A pair of second electrode films formed up to the first electrode film, a pair of lead wires installed at the center of the surface of the pair of second electrode films, the lead wire and the second electrode film It has a conductive adhesive for fixing which fixes an electrode film.

このサーミスタ素子では、無機絶縁層の表面からサーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した第1の電極膜にまで形成された第2の電極膜を備えているので、リード線と第1の電極膜との電気的接続を前記稜線部上の領域にまで形成された第2の電極膜を介して行うと共に、無機絶縁層がリード線から直下への金属元素の拡散を抑制してサーミスタ素体へ侵入することを防止できる。また、第1の電極膜と第2の電極膜との接合部が、リード線から設置面上で一番遠い箇所に設けられるため、金属元素の拡散経路が最も長くなり、この経路による拡散も抑制できる。さらに、固着用導電性接着剤により第2の電極膜の表面とリード線とを直接、強固に接合させることができる。
なお、無機絶縁層の厚みが厚いほど拡散量は低下すると考えられることから、無機絶縁層の厚みを厚くすることは結果的には拡散特性を低下させるのと同義であり、無機絶縁層の厚みは厚ければなお望ましい。
Since this thermistor element includes the second electrode film formed from the surface of the inorganic insulating layer to the first electrode film exposed in the region on the ridge line portion of the thermistor body, the lead wire and the first electrode film are provided. The thermistor element is electrically connected to the electrode film through the second electrode film formed in the region on the ridge line portion, and the inorganic insulating layer suppresses the diffusion of the metal element directly below the lead wire. Intrusion into the body can be prevented. In addition, since the junction between the first electrode film and the second electrode film is provided at the farthest position on the installation surface from the lead wire, the diffusion path of the metal element is the longest, and the diffusion by this path is also Can be suppressed. Furthermore, the surface of the second electrode film and the lead wire can be directly and firmly bonded to each other by the fixing conductive adhesive.
In addition, since it is thought that the amount of diffusion decreases as the thickness of the inorganic insulating layer increases, increasing the thickness of the inorganic insulating layer is equivalent to reducing the diffusion characteristics as a result. Is more desirable.

第2の発明に係るサーミスタ素子は、第1の発明において、前記リード線が、Fe,Ni,Cuを含む材質からなり、前記第2の電極膜が、Agを主成分とする物質からなることを特徴とする。
Agは対象金属と固溶体を形成し難く、500℃においては特にFe,Niに対して固溶はほとんどしないことが知られており、またCuに対しても固溶量は5%以下と少ないため、Agを主成分とすることで拡散特性を抑制させることができる。一方、さらなる抑制対策としてAgにPd等を添加することで合金化し融点を上げることができ、拡散速度を低下させることが可能になる。すなわち、このサーミスタ素子では、第2の電極膜が、Agを主成分とする物質からなるので、リード線に含まれるFe,Ni,Cuに対して特に有効に拡散を抑制することができる。
In the thermistor element according to the second invention, in the first invention, the lead wire is made of a material containing Fe, Ni, Cu, and the second electrode film is made of a material containing Ag as a main component. It is characterized by.
Ag is difficult to form a solid solution with the target metal, and it is known that there is almost no solid solution especially at 500 ° C. with respect to Fe and Ni, and the amount of solid solution is less than 5% even with respect to Cu. The diffusion characteristics can be suppressed by using Ag as a main component. On the other hand, by adding Pd or the like to Ag as a further suppression measure, it is possible to alloy and raise the melting point, and to decrease the diffusion rate. That is, in this thermistor element, since the second electrode film is made of a substance containing Ag as a main component, diffusion can be suppressed particularly effectively with respect to Fe, Ni, and Cu contained in the lead wire.

第3の発明に係るサーミスタ素子は、第1又は第2の発明において、前記サーミスタ素体が、ペロブスカイト型酸化物を含有する金属酸化物焼結体であることを特徴とする。
すなわち、このサーミスタ素子では、サーミスタ素体が、ペロブスカイト型酸化物を含有する金属酸化物焼結体であるので、高温安定性に優れたペロブスカイト型酸化物系のサーミスタ素体における金属元素拡散の影響を抑制でき、サーミスタ特性を安定して得ることができる。
A thermistor element according to a third invention is characterized in that, in the first or second invention, the thermistor element is a metal oxide sintered body containing a perovskite oxide.
That is, in this thermistor element, since the thermistor body is a metal oxide sintered body containing a perovskite type oxide, the influence of metal element diffusion in the perovskite type oxide thermistor body excellent in high temperature stability. Can be suppressed, and the thermistor characteristics can be stably obtained.

第4の発明に係るサーミスタ素子の製造方法は、第1から第3の発明のいずれかのサーミスタ素子を製造する方法であって、チップ状又は板状のサーミスタ素体の表裏面に一対の第1の電極膜を形成する工程と、一対の前記第1の電極膜の表面に前記サーミスタ素体の稜線部上の領域を除いて一対の無機絶縁層を形成する工程と、一対の前記無機絶縁層の表面から前記サーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した前記第1の電極膜にまで一対の第2の電極膜を形成する工程と、一対の前記第2の電極膜の表面の中央部に一対のリード線を設置し前記リード線と前記第2の電極膜とを固着用導電性接着剤で固定する工程とを有し、前記第2の電極膜を形成する前に、前記サーミスタ素体をバレル研磨して該サーミスタ素体の稜線部上の領域に形成された前記無機絶縁層を除去することを特徴とする。
すなわち、このサーミスタ素子の製造方法では、第2の電極膜を形成する前に、サーミスタ素体をバレル研磨して該サーミスタ素体の稜線部上の領域に形成された無機絶縁層を除去するので、バレル研磨によってサーミスタ素体の稜線部上の領域に形成された無機絶縁層だけを効率的に除去することができ、高い量産性を得ることができる。
A method for manufacturing a thermistor element according to a fourth invention is a method for manufacturing the thermistor element according to any one of the first to third inventions, wherein a pair of first thermistor elements on the front and back surfaces of a chip-like or plate-like thermistor element A step of forming one electrode film, a step of forming a pair of inorganic insulating layers on the surfaces of the pair of first electrode films excluding a region on a ridge line portion of the thermistor body, and a pair of the inorganic insulating layers Forming a pair of second electrode films from the surface of the layer to the first electrode film exposed in the region on the ridge line portion of the thermistor body, and the center of the surface of the pair of second electrode films A step of installing a pair of lead wires in the section and fixing the lead wires and the second electrode film with a conductive adhesive for fixing, and before forming the second electrode film, the thermistor The element body is barrel polished to form a region on the ridge line of the thermistor element body. And removing said inorganic insulating layer which is.
That is, in this method of manufacturing the thermistor element, before forming the second electrode film, the thermistor body is barrel-polished to remove the inorganic insulating layer formed in the region on the ridge line portion of the thermistor body. Only the inorganic insulating layer formed in the region on the ridge line portion of the thermistor body by barrel polishing can be efficiently removed, and high mass productivity can be obtained.

本発明によれば、以下の効果を奏する。
すなわち、本発明に係るサーミスタ素子によれば、無機絶縁層の表面からサーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した第1の電極膜にまで形成された第2の電極膜を備えているので、前記稜線部上の領域にまで形成された第2の電極膜を介して電気的接続を行うと共にリード線を強固に接合させ、さらに無機絶縁層がリード線から直下への金属元素の拡散を抑制してサーミスタ素体へ侵入することを防止できる。
したがって、本発明のサーミスタ素子は、プロセス条件や高温での使用による抵抗値の経時変化が少なく安定したサーミスタ特性を得ることができ、例えば自動車エンジン周りの触媒温度や排気系温度を検出する高温測定用センサとして好適である。
また、本発明に係るサーミスタ素子の製造方法によれば、バレル研磨によってサーミスタ素体の稜線部上の領域に形成された無機絶縁層だけを効率的に除去することができ、高い量産性を得ることができる。
The present invention has the following effects.
That is, the thermistor element according to the present invention includes the second electrode film formed from the surface of the inorganic insulating layer to the first electrode film exposed in the region on the ridge line portion of the thermistor body. In addition, the electrical connection is made through the second electrode film formed up to the region on the ridge line portion, the lead wire is firmly joined, and the inorganic insulating layer further diffuses the metal element directly below the lead wire. Suppressing and entering the thermistor body can be prevented.
Therefore, the thermistor element of the present invention can obtain stable thermistor characteristics with little change in resistance over time due to process conditions and use at high temperatures, for example, high temperature measurement for detecting catalyst temperature and exhaust system temperature around an automobile engine. It is suitable as an industrial sensor.
Further, according to the method for manufacturing a thermistor element according to the present invention, it is possible to efficiently remove only the inorganic insulating layer formed in the region on the ridge line portion of the thermistor body by barrel polishing, thereby obtaining high mass productivity. be able to.

本発明に係るサーミスタ素子の一実施形態を示すリード線に沿った断面図(a)及びリード線に直交した断面図(b)である。It is sectional drawing (a) along the lead wire which shows one Embodiment of the thermistor element which concerns on this invention, and sectional drawing (b) orthogonal to the lead wire. 本実施形態において、サーミスタ素子の製造方法をダイシング工程まで工程順に示す斜視図である。In this embodiment, it is a perspective view which shows the manufacturing method of the thermistor element in order of a process to a dicing process. 本実施形態において、サーミスタ素子の製造方法を無機絶縁層の形成から第2の電極膜の形成まで工程順に示す断面図である。In this embodiment, it is sectional drawing which shows the manufacturing method of the thermistor element in order of process from formation of an inorganic insulating layer to formation of a 2nd electrode film. 本実施形態において、ガラス封止前のサーミスタ素子を示す一方の面におけるリード線に直交した断面図である。In this embodiment, it is sectional drawing orthogonal to the lead wire in one surface which shows the thermistor element before glass sealing. 本発明に係るサーミスタ素子の従来例及び実施例において、耐熱試験による抵抗値変化率を示すグラフである。It is a graph which shows the resistance value change rate by a heat test in the conventional example and Example of the thermistor element which concerns on this invention. 本発明に係るサーミスタ素子の従来例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the prior art example of the thermistor element which concerns on this invention. 本発明に係るサーミスタ素子の従来例において、リード線に直交した断面図である。In the conventional example of the thermistor element concerning this invention, it is sectional drawing orthogonal to the lead wire. 本発明に係るサーミスタ素子の従来例において、Cu等の拡散を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows spreading | diffusion of Cu etc. in the prior art example of the thermistor element which concerns on this invention.

以下、本発明に係るサーミスタ素子及びその製造方法の一実施形態を、図1から図4を参照しながら説明する。なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能又は認識容易な大きさとするために縮尺を適宜変更している。   Hereinafter, an embodiment of a thermistor element and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to FIGS. In each drawing used for the following description, the scale is appropriately changed in order to make each member recognizable or easily recognizable.

本実施形態のサーミスタ素子1は、図1及び図2に示すように、チップ状又は板状のサーミスタ素体2と、該サーミスタ素体2の表裏面に形成された一対の第1の電極膜3と、一対の第1の電極膜3の表面にサーミスタ素体2の稜線部上の領域を除いて形成された一対の無機絶縁層4と、一対の無機絶縁層4の表面からサーミスタ素体2の稜線部上の領域に露出した第1の電極膜3にまで形成された一対の第2の電極膜5と、一対の第2の電極膜5の表面の中央部に設置された一対のリード線6と、リード線6と第2の電極膜5とを固定する固着用導電性接着剤7と、リード線6の接合部分を含むサーミスタ素体2全体を封止する絶縁性材料のモールド材8とを備えている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the thermistor element 1 of the present embodiment includes a chip-like or plate-like thermistor element body 2 and a pair of first electrode films formed on the front and back surfaces of the thermistor element body 2. 3, a pair of inorganic insulating layers 4 formed on the surface of the pair of first electrode films 3 excluding the region on the ridge line portion of the thermistor body 2, and the thermistor body from the surface of the pair of inorganic insulating layers 4 A pair of second electrode films 5 formed up to the first electrode film 3 exposed in the region on the two ridge lines, and a pair of central electrodes on the surface of the pair of second electrode films 5 Mold of insulating material for sealing the entire thermistor body 2 including the lead wire 6, the fixing conductive adhesive 7 for fixing the lead wire 6 and the second electrode film 5, and the joint portion of the lead wire 6. Material 8 is provided.

上記サーミスタ素体2は、ペロブスカイト型酸化物を含有する金属酸化物焼結体であって、例えば一般式:La1−yCa(Cr1−xMn)O(0.0≦x≦1.0、0.0<y≦0.7)で示される複合酸化物を含む焼結体で構成されている。なお、この焼結体に、さらに絶縁体材料として、例えばY,ZrO,MgO,Al,CeOを添加しても構わない。
このサーミスタ素体2は、チップ状又はフレーク状に形成されており、その上下面に上記第1の電極膜3、無機絶縁層4及び第2の電極膜5が形成されている。
The thermistor body 2 is a metal oxide sintered body containing a perovskite oxide, for example, a general formula: La 1-y Ca y (Cr 1-x Mn x ) O 3 (0.0 ≦ x ≦ 1.0, 0.0 <y ≦ 0.7). For example, Y 2 O 3 , ZrO 2 , MgO, Al 2 O 3 , or CeO 2 may be added to the sintered body as an insulator material.
The thermistor body 2 is formed in a chip shape or flake shape, and the first electrode film 3, the inorganic insulating layer 4, and the second electrode film 5 are formed on the upper and lower surfaces thereof.

上記第1の電極膜3は、例えばPt,Au,Agの少なくとも一種を含んだ金属膜である。
上記リード線6は、いわゆるジュメット線であり、Fe,Ni,Cu等の金属元素を構成成分として含有しており、表面に亜酸化銅膜6aが形成されている。
上記無機絶縁層4は、リード線6の金属成分の拡散を遮断する目的で無機絶縁材料(ガラス)が採用される。
上記第2の電極膜5は、リード線6に含まれる金属元素の内部への拡散特性が第1の電極膜3よりも低い材料で形成されている。例えば、第2の電極膜5は、Ag,Pdの少なくとも一種を含んだ金属膜で形成されている。
The first electrode film 3 is a metal film containing at least one of Pt, Au, and Ag, for example.
The lead wire 6 is a so-called dumet wire and contains a metal element such as Fe, Ni, Cu or the like as a constituent component, and a cuprous oxide film 6a is formed on the surface.
The inorganic insulating layer 4 is made of an inorganic insulating material (glass) for the purpose of blocking the diffusion of the metal component of the lead wire 6.
The second electrode film 5 is formed of a material that has a lower diffusion characteristic of the metal element contained in the lead wire 6 than the first electrode film 3. For example, the second electrode film 5 is formed of a metal film containing at least one of Ag and Pd.

なお、第2の電極膜5を構成する材料は、上記のような金属だけでなく、他の導電性材料でも構わないが、上記拡散特性が第1の電極膜3よりも低い材料であることが好ましい。なお、第2の電極膜5を構成する材料としては、Agを主成分とする物質からなることがより好ましい。
上記固着用導電性接着剤7は、例えばAuペーストが使用される。また、上記モールド材8は例えばガラス材が採用される。
The material constituting the second electrode film 5 is not limited to the metal as described above, but may be another conductive material, but the material has a lower diffusion characteristic than that of the first electrode film 3. Is preferred. In addition, as a material which comprises the 2nd electrode film 5, it is more preferable to consist of a substance which has Ag as a main component.
For example, an Au paste is used as the fixing conductive adhesive 7. Further, for example, a glass material is employed as the mold material 8.

次に、本実施形態のサーミスタ素子1の製造方法について、その一例を図2から図4を参照して説明する。   Next, an example of a method for manufacturing the thermistor element 1 of the present embodiment will be described with reference to FIGS.

まず、出発原料である粉末のLa,MnCO,Cr,CaCOを所定量秤量および混合し、乾燥した後1300℃、10時間で仮焼を行う。ここで上記秤量した原料粉末は、ボールミルで湿式混合される。また、仮焼粉は、ボールミルで24時間粉砕される。さらに、粉砕した粉末にPVAなどのバインダーを添加し造粒粉とする。 First, predetermined amounts of powdered La 2 O 3 , MnCO 3 , Cr 2 O 3 , and CaCO 3 as starting materials are weighed and mixed, dried, and then calcined at 1300 ° C. for 10 hours. The raw material powder weighed here is wet-mixed by a ball mill. The calcined powder is pulverized for 24 hours by a ball mill. Furthermore, a binder such as PVA is added to the pulverized powder to obtain a granulated powder.

次に、造粒粉をプレス成形機にて直径42mm、厚さ10mmの丸型のブロックに成形し、これを500℃にて脱脂する。脱脂したブロックを1550〜1650℃、5〜15時間の焼成を行い、図2の(a)に示すように、焼結体ブロック11を作製する。次に、焼結体ブロック11を厚み0.3mm程度にスライス・ラップ加工して、図2の(b)に示すように、サーミスタウェハ12とする。   Next, the granulated powder is formed into a round block having a diameter of 42 mm and a thickness of 10 mm by a press molding machine, and degreased at 500 ° C. The degreased block is fired at 1550 to 1650 ° C. for 5 to 15 hours to produce a sintered body block 11 as shown in FIG. Next, the sintered body block 11 is sliced and lapped to a thickness of about 0.3 mm to form a thermistor wafer 12 as shown in FIG.

その後、サーミスタウェハの両面にPt膜である第1の電極膜3をスパッタ法を用いて300nm形成して、図2の(c)に示すように、電極膜つきのサーミスタウェハ13とする。   After that, the first electrode film 3 which is a Pt film is formed on both the surfaces of the thermistor wafer by 300 nm using a sputtering method, and the thermistor wafer 13 with the electrode film is obtained as shown in FIG.

さらに、このサーミスタウェハ13をダイシングマシンにて0.3〜0.4mm角のチップ形状に切り出し、図2の(d)に示すように、第1の電極膜3が形成されたチップ状又はフレーク状のサーミスタ素体2とする。
次に、このサーミスタ素体2の上下面に形成された第1の電極膜3上にガラスを塗布して焼成し、無機絶縁層4を形成する。この形成方法(ディッピング法)を詳述すれば、平板上にガラスペーストを20〜100μm(例えば30μm程度)に薄く引き延ばし、そのガラスペーストに上記チップ状のサーミスタ素体2を浸漬(ディップ)し、上下面の一方の面にガラスペーストを塗布する。
Further, the thermistor wafer 13 is cut into a 0.3 to 0.4 mm square chip shape by a dicing machine, and as shown in FIG. 2D, the chip shape or flakes on which the first electrode film 3 is formed. A thermistor element body 2 is formed.
Next, an inorganic insulating layer 4 is formed by applying and baking glass on the first electrode film 3 formed on the upper and lower surfaces of the thermistor body 2. If this formation method (dipping method) is described in detail, a glass paste is thinly stretched on a flat plate to 20 to 100 μm (for example, about 30 μm), and the chip-like thermistor body 2 is immersed (dip) in the glass paste, A glass paste is applied to one surface of the upper and lower surfaces.

上記ガラスペーストのガラス材は、SiO/B/ZnO/Al/MgO/ZrO系が好ましく、例えば日本電気硝子製のPLS−3170(熱膨張係数:76×10/℃)などが採用可能である。
次に、塗布したガラスペーストを150℃5分の乾燥後に、反対側の面も同様に塗布、乾燥し、850℃のベルト炉で焼成する。なお、この無機絶縁層4は、サーミスタ素体2の側面まで一部が回り込んで、サーミスタ素体2の稜線部上の領域を覆って形成される。この際、無機絶縁層4が、サーミスタ素体2の側面全体を覆っても構わない。また、焼成後の無機絶縁層4の膜厚は、10〜50μm程度が望ましい。
The glass material of the glass paste is preferably SiO 2 / B 2 O 3 / ZnO / Al 2 O 3 / MgO / ZrO 2 , for example, PLS-3170 (thermal expansion coefficient: 76 × 10 7 / manufactured by Nippon Electric Glass). ° C) can be used.
Next, after drying the applied glass paste at 150 ° C. for 5 minutes, the opposite surface is similarly applied and dried, and baked in a belt furnace at 850 ° C. The inorganic insulating layer 4 is formed so as to partially cover the side surface of the thermistor body 2 and cover the region on the ridge line portion of the thermistor body 2. At this time, the inorganic insulating layer 4 may cover the entire side surface of the thermistor body 2. The film thickness of the inorganic insulating layer 4 after firing is desirably about 10 to 50 μm.

次に、無機絶縁層4が形成されたサーミスタ素体2をバレル研磨に供し、図3の(b)に示すように、稜線部上の領域を覆う無機絶縁層4を除去することで、稜線部の第1の電極膜3を露出させる。すなわち、バレル研磨機のバレルに研磨剤と共に入れられた多数のチップ状のサーミスタ素体2が、回転するバレル内において稜線部が研磨され、稜線部の無機絶縁層4が部分的に削られる。   Next, the thermistor body 2 on which the inorganic insulating layer 4 is formed is subjected to barrel polishing, and the ridgeline is removed by removing the inorganic insulating layer 4 covering the region on the ridgeline portion as shown in FIG. The first electrode film 3 is exposed. That is, the ridge line portion of the many chip-like thermistor bodies 2 put together with the abrasive in the barrel of the barrel polishing machine is polished in the rotating barrel, and the inorganic insulating layer 4 in the ridge line portion is partially cut.

なお、稜線部上の領域を覆う無機絶縁層4が薄く、稜線部の一部で第1の電極膜3が露出している場合は、上記バレル研磨を省略可能であるが、確実に稜線部の第1の電極膜3を露出させるためにバレル研磨を行うことが好ましい。   If the inorganic insulating layer 4 covering the region on the ridge line portion is thin and the first electrode film 3 is exposed at a part of the ridge line portion, the barrel polishing can be omitted. In order to expose the first electrode film 3, it is preferable to perform barrel polishing.

次に、Agペーストを用いて上記ディッピング法と同様にして、図3の(c)に示すように、サーミスタ素体2の上下面の無機絶縁層4上にAg電極である第2の電極膜5を形成する。なお、Agペーストの焼成温度は、800℃としている。また、第2の電極膜5の膜厚は、5〜10μmに設定される。この際、サーミスタ素体2の稜線部上に露出している第1の電極膜3上にも第2の電極膜5が形成され、第1の電極膜3と第2の電極膜5とが稜線部上の接合部5aにおいて接合される。なお、ディッピング法以外に、例えばスクリーン印刷法で第2の電極膜5を形成しても構わない。   Next, in the same manner as the above dipping method using Ag paste, as shown in FIG. 3C, a second electrode film that is an Ag electrode is formed on the inorganic insulating layers 4 on the upper and lower surfaces of the thermistor body 2. 5 is formed. In addition, the baking temperature of Ag paste is 800 degreeC. The film thickness of the second electrode film 5 is set to 5 to 10 μm. At this time, the second electrode film 5 is also formed on the first electrode film 3 exposed on the ridge line portion of the thermistor body 2, and the first electrode film 3 and the second electrode film 5 are connected to each other. It joins in the junction part 5a on a ridgeline part. In addition to the dipping method, the second electrode film 5 may be formed by a screen printing method, for example.

次に、2本の直径0.2mmのジュメット線(Fe−Ni−Cu)であるリード線6の先端部に、固着用導電性接着剤7となるAuペーストを塗布し、図1及び図4に示すように、上下面における第2の電極膜5の中央部上に接触させて80℃で乾燥して仮固定を行う。その後、ガラス管を被せてベルト炉にて750℃で熱処理を行い、モールド材8としてガラスモールドを施すことで、図1に示すサーミスタ素子1が作製される。   Next, an Au paste serving as the fixing conductive adhesive 7 is applied to the tip of the lead wire 6 that is two 0.2 mm diameter dumet wires (Fe—Ni—Cu), and FIGS. As shown in FIG. 4, the upper and lower surfaces are brought into contact with the central portion of the second electrode film 5 and dried at 80 ° C. for temporary fixing. Thereafter, a thermistor element 1 shown in FIG. 1 is manufactured by covering the glass tube and performing heat treatment at 750 ° C. in a belt furnace and applying a glass mold as the molding material 8.

このように本実施形態のサーミスタ素子1では、無機絶縁層4の表面からサーミスタ素体2の稜線部上の領域に露出した第1の電極膜3にまで形成された第2の電極膜5を備えているので、リード線6と第1の電極膜3との電気的接続を前記稜線部上の領域にまで形成された第2の電極膜5(接合部5a)を介して行うと共に、無機絶縁層4がリード線6から直下への金属元素の拡散を抑制してサーミスタ素体2へ侵入することを防止できる。また、第1の電極膜3と第2の電極膜5との接合部5aが、リード線6から設置面上で一番遠い箇所に設けられるため、金属元素の拡散経路が最も長くなり、この経路による拡散も抑制できる。特に、接合部5aが、四辺の稜線部(エッジ部)のうち四隅の角部に設けられると最も効果的である。さらに、固着用導電性接着剤7により第2の電極膜5の表面とリード線6とを直接、強固に接合させることができる。   Thus, in the thermistor element 1 of the present embodiment, the second electrode film 5 formed from the surface of the inorganic insulating layer 4 to the first electrode film 3 exposed in the region on the ridge line portion of the thermistor body 2 is formed. The electrical connection between the lead wire 6 and the first electrode film 3 is performed through the second electrode film 5 (joint part 5a) formed up to the region on the ridge line part, and the inorganic It is possible to prevent the insulating layer 4 from entering the thermistor element body 2 by suppressing the diffusion of the metal element directly from the lead wire 6. In addition, since the joint 5a between the first electrode film 3 and the second electrode film 5 is provided at the farthest position on the installation surface from the lead wire 6, the diffusion path of the metal element becomes the longest, and this Diffusion due to the route can also be suppressed. In particular, it is most effective when the joint portion 5a is provided at the corners of the four corners among the ridge line portions (edge portions) of the four sides. Further, the surface of the second electrode film 5 and the lead wire 6 can be directly and strongly bonded by the fixing conductive adhesive 7.

また、第2の電極膜5が、Agを主成分とする物質からなるので、リード線6に含まれるFe,Ni,Cuに対して特に有効に拡散を抑制することができる。
さらに、サーミスタ素体2が、ペロブスカイト型酸化物を含有する金属酸化物焼結体であるので、高温安定性に優れたペロブスカイト型酸化物系のサーミスタ素体2における金属元素拡散の影響を抑制でき、サーミスタ特性を安定して得ることができる。
Further, since the second electrode film 5 is made of a substance containing Ag as a main component, diffusion can be suppressed particularly effectively with respect to Fe, Ni, and Cu contained in the lead wire 6.
Furthermore, since the thermistor body 2 is a metal oxide sintered body containing a perovskite oxide, the influence of metal element diffusion in the perovskite oxide-based thermistor body 2 excellent in high-temperature stability can be suppressed. The thermistor characteristics can be obtained stably.

また、このサーミスタ素子1の製造方法では、第2の電極膜5を形成する前に、サーミスタ素体2をバレル研磨して該サーミスタ素体2の稜線部上の領域に形成された無機絶縁層4を除去するので、バレル研磨によってサーミスタ素体2の稜線部上の領域に形成された無機絶縁層4だけを効率的に除去することができ、高い量産性を得ることができる。   In the method for manufacturing the thermistor element 1, the inorganic insulating layer formed in the region on the ridge line portion of the thermistor element body 2 by barrel polishing the thermistor element body 2 before forming the second electrode film 5. Since 4 is removed, only the inorganic insulating layer 4 formed in the region on the ridge line portion of the thermistor body 2 by barrel polishing can be efficiently removed, and high mass productivity can be obtained.

上記実施形態に従って作製したサーミスタ素子について、300℃の耐熱試験にかけ、1000時間経過後の特性変化率(抵抗値変化率)を評価した。その評価結果を、図5に示す。なお、比較として図7に示す従来例についても同様に評価した。
その結果、本発明の実施例では、抵抗値変化率が0.2%以下と良好であることが確認された。これに対し、比較として評価した従来例では、耐熱試験による特性変化率が1%程度と大きくなっていた。したがって、本発明の構造では、Cuの拡散が抑制され、耐熱信頼性が向上しており、高温下でも特性劣化が小さく高精度に計測できる温度センサ素子が得られていることがわかる。
About the thermistor element produced according to the said embodiment, it applied to the heat test of 300 degreeC, and evaluated the characteristic change rate (resistance value change rate) after progress for 1000 hours. The evaluation results are shown in FIG. For comparison, the conventional example shown in FIG. 7 was also evaluated in the same manner.
As a result, in the Example of this invention, it was confirmed that resistance value change rate is as favorable as 0.2% or less. On the other hand, in the conventional example evaluated as a comparison, the characteristic change rate by the heat resistance test was as large as about 1%. Therefore, in the structure of the present invention, it is understood that the diffusion of Cu is suppressed, the heat resistance reliability is improved, and the temperature sensor element that can measure with high accuracy with little characteristic deterioration even at high temperature is obtained.

なお、本発明の技術範囲は上記実施形態及び上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

1…サーミスタ素子、2…サーミスタ素体、3…第1の電極膜、4…無機絶縁層、5…第2の電極膜、6…リード線、7…固着用導電性接着剤、8…モールド材   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thermistor element, 2 ... Thermistor body, 3 ... 1st electrode film, 4 ... Inorganic insulating layer, 5 ... 2nd electrode film, 6 ... Lead wire, 7 ... Conductive adhesive for fixation, 8 ... Mold Material

Claims (4)

チップ状又は板状のサーミスタ素体と、
該サーミスタ素体の表裏面に形成された一対の第1の電極膜と、
一対の前記第1の電極膜の表面に前記サーミスタ素体の稜線部上の領域を除いて形成された一対の無機絶縁層と、
一対の前記無機絶縁層の表面から前記サーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した前記第1の電極膜にまで形成された一対の第2の電極膜と、
一対の前記第2の電極膜の表面の中央部に設置された一対のリード線と、
前記リード線と前記第2の電極膜とを固定する固着用導電性接着剤とを備えていることを特徴とするサーミスタ素子。
A chip-like or plate-like thermistor body;
A pair of first electrode films formed on the front and back surfaces of the thermistor body;
A pair of inorganic insulating layers formed on the surfaces of the pair of first electrode films excluding the region on the ridge line portion of the thermistor body;
A pair of second electrode films formed from the surface of the pair of inorganic insulating layers to the first electrode film exposed in a region on the ridge line portion of the thermistor body;
A pair of lead wires installed at the center of the surface of the pair of second electrode films;
A thermistor element, comprising: a conductive adhesive for fixing the lead wire and the second electrode film.
請求項1に記載のサーミスタ素子において、
前記リード線が、Fe,Ni,Cuを含む材質からなり、
前記第2の電極膜が、Agを主成分とする物質からなることを特徴とするサーミスタ素子。
The thermistor element according to claim 1,
The lead wire is made of a material containing Fe, Ni, Cu,
The thermistor element, wherein the second electrode film is made of a substance containing Ag as a main component.
請求項1又は2に記載のサーミスタ素子において、
前記サーミスタ素体が、ペロブスカイト型酸化物を含有する金属酸化物焼結体であることを特徴とするサーミスタ素子。
The thermistor element according to claim 1 or 2,
The thermistor element is a metal oxide sintered body containing a perovskite oxide.
請求項1から3のいずれか一項に記載のサーミスタ素子を製造する方法であって、
チップ状又は板状のサーミスタ素体の表裏面に一対の第1の電極膜を形成する工程と、
一対の前記第1の電極膜の表面に前記サーミスタ素体の稜線部上の領域を除いて一対の無機絶縁層を形成する工程と、
一対の前記無機絶縁層の表面から前記サーミスタ素体の稜線部上の領域に露出した前記第1の電極膜にまで一対の第2の電極膜を形成する工程と、
一対の前記第2の電極膜の表面の中央部に一対のリード線を設置し前記リード線と前記第2の電極膜とを固着用導電性接着剤で固定する工程とを有し、
前記第2の電極膜を形成する前に、前記サーミスタ素体をバレル研磨して該サーミスタ素体の稜線部上の領域に形成された前記無機絶縁層を除去することを特徴とするサーミスタ素子の製造方法。
A method for producing the thermistor element according to any one of claims 1 to 3,
Forming a pair of first electrode films on the front and back surfaces of a chip-like or plate-like thermistor body;
Forming a pair of inorganic insulating layers on the surface of the pair of first electrode films, excluding a region on the ridge line portion of the thermistor body;
Forming a pair of second electrode films from the surface of the pair of inorganic insulating layers to the first electrode film exposed in the region on the ridge line portion of the thermistor body;
A step of installing a pair of lead wires in the center of the surface of the pair of second electrode films and fixing the lead wires and the second electrode film with a conductive adhesive for fixing;
Before forming the second electrode film, the thermistor body is barrel-polished to remove the inorganic insulating layer formed in the region on the ridge line portion of the thermistor body. Production method.
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