JP2014139543A - 画像処理装置、測定システム、画像処理プログラム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】観察画像内において下層パターンのデザインデータを前記上層パターンのデザインデータによってマスク処理したマスクデータを生成し、マスクデータを細線化した細線化マスクデータとマスクデータの輝度を反転して細線化した細線化反転マスクデータを生成し、細線化マスクデータと細線化反転マスクデータを重ね合わせた合成細線化マスクデータを作成する。合成細線化マスクデータ内に含まれる上層パターンに対応する画像パターンを用いて、観察画像内において下層パターンの範囲外に存在する前記上層パターンを除去することにより、観察画像から下層パターンを抽出する。
【選択図】図10
Description
上記した以外の課題、構成、および効果は、以下の実施形態の説明により明らかになるであろう。
図1は、本発明に係る測定システム1000の構成図である。測定システム1000は試料の観察画像を取得するシステムであり、画像処理装置100、電子顕微鏡200、デザインデータベース300を有する。これら機器の間は適当な通信ネットワークによって接続され、互いにデータを送受信することができる。
図2は、デザインデータベース300が格納している試料の上層パターンのデザインデータ例を示す図である。白い(または輝度値が高い)部分は上層パターンが形成されている領域であり、黒い(または輝度値が低い)部分は上層パターン外の背景領域である。
一般に、試料上に形成されたパターンは、観察画像に対してエッジ検出を実施することにより抽出することができる。しかし、図4に示すような上層パターンと下層パターンをともに含むSEM画像に対してそのままエッジ検出を実施すると、両パターンがともに検出されてしまう。そこで画像処理装置100は、以下に説明する考え方にしたがって、上層パターンが形成されている部分のみを回避してエッジ検出を実施することを試みる。
以下では、画像処理装置100が図4に示すSEM画像から下層パターンを抽出する処理手順について説明する。
図5は、図4のSEM画像から上層パターンの輪郭線を抽出した例を示す図である。抽出処理部140は、電子顕微鏡200が撮影した観察画像から図5のように上層パターンを抽出した画像を作成する。上層パターンを抽出する手法については公知であるため、ここでは省略する。図5に示す画像は、後述するステップにおいて、下層パターン上に重畳されている上層パターンを除去するために用いるものである。
以上のように、本発明に係る画像処理装置100は、観察画像内において上層パターンが下層パターンからはみ出ている部分を、図7〜図10で説明した画像マーカを用いて除去することにより、観察画像から下層パターンを抽出する。これにより、下層パターンのみを良好に抽出することができる。
Claims (7)
- 試料の上層部分に形成された上層パターンと前記試料の下層部分に形成された下層パターンをともに撮影した観察画像から前記下層パターンを抽出する画像処理装置であって、
前記下層パターンのデザインデータを前記上層パターンのデザインデータによってマスク処理したマスクデータを生成するマスク処理部、
前記マスクデータを細線化した細線化マスクデータと前記マスクデータの輝度を反転して細線化した細線化反転マスクデータを生成する細線化処理部、
前記細線化マスクデータと前記細線化反転マスクデータを重ね合わせた合成細線化マスクデータを作成する合成処理部、
前記合成細線化マスクデータ内に含まれる前記上層パターンに対応する画像パターンを用いて、前記観察画像内において前記下層パターンの範囲外に存在する前記上層パターンを除去することにより、前記観察画像から前記下層パターンを抽出する、抽出処理部、
を備えることを特徴とする画像処理装置。 - 前記抽出処理部は、
前記観察画像内の領域のうち、前記合成細線化マスクデータ内の前記上層パターンに対応する画像パターンを避けてエッジ部分を探索することにより、前記観察画像から前記上層パターンと前記下層パターンが重なり合っている部分の画像パターンを抽出し、
前記観察画像から前記上層パターンを抜き出した画像パターンによって、前記上層パターンと前記下層パターンが重なり合っている部分の画像パターンをマスクすることにより、前記観察画像から前記上層パターンに対応する画像パターンを除去して前記下層パターンを抽出する
ことを特徴とする請求項1記載の画像処理装置。 - 前記抽出処理部は、
前記観察画像から前記上層パターンを抜き出した上で太線化した画像パターンによって、前記上層パターンと前記下層パターンが重なり合っている部分の画像パターンをマスクすることにより、前記観察画像から前記上層パターンに対応する画像パターンを除去して前記下層パターンを抽出する
ことを特徴とする請求項2記載の画像処理装置。 - 前記抽出処理部は、
前記観察画像内の領域のうち、前記合成細線化マスクデータ内の輝度が所定閾値以上の領域に対応する部分を避けることにより、前記上層パターンに対応する画像パターンを避けて前記探索を実施する
ことを特徴とする請求項2または3記載の画像処理装置。 - 前記抽出処理部は、
前記観察画像から前記上層パターンに対応する画像パターンを除去して前記下層パターンを抽出することにより取得した画像パターンが、前記上層パターンと重なり合うことにより途切れた部分を有する場合は、その部分を補間することにより、連続性を保った前記下層パターンを取得する
ことを特徴とする請求項2から4のいずれか1項記載の画像処理装置。 - 試料に対して荷電粒子線を照射して前記試料の観察画像を生成する電子顕微鏡、
前記観察画像から前記下層パターンを抽出する請求項1から5のいずれか1項記載の画像処理装置、
を有することを特徴とする測定システム。 - 試料の上層部分に形成された上層パターンと前記試料の下層部分に形成された下層パターンをともに撮影した観察画像から前記下層パターンを抽出する画像処理方法を、コンピュータに実行させるプログラムであって、前記コンピュータに、
前記下層パターンのデザインデータを前記上層パターンのデザインデータによってマスク処理したマスクデータを生成するマスクステップ、
前記マスクデータを細線化した細線化マスクデータと前記マスクデータの輝度を反転して細線化した細線化反転マスクデータを生成する細線化ステップ、
前記細線化マスクデータと前記細線化反転マスクデータを重ね合わせた合成細線化マスクデータを作成する合成ステップ、
前記合成細線化マスクデータ内に含まれる前記上層パターンに対応する画像パターンを用いて、前記観察画像内において前記下層パターンの範囲外に存在する前記上層パターンを除去することにより、前記観察画像から前記下層パターンを抽出する、抽出ステップ、
を実行させることを特徴とする画像処理プログラム。
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KR20210074995A (ko) | 2019-12-12 | 2021-06-22 | 주식회사 히타치하이테크 | 화상 조정 방법 및 하전 입자 빔 시스템 |
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2013
- 2013-01-21 JP JP2013008631A patent/JP5998068B2/ja active Active
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