JP2014136386A - Double-sided electroconductive film, touch panel containing double-sided electroconductive film roll and double-sided electroconductive film, and method for producing double-sided electroconductive film - Google Patents

Double-sided electroconductive film, touch panel containing double-sided electroconductive film roll and double-sided electroconductive film, and method for producing double-sided electroconductive film Download PDF

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晃一 久保
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a double-sided electroconductive film which has excellent uniformity in film quality and film thickness and excellent flatness and exhibits excellent adhesiveness to metal layers and to provide a double-sided electroconductive film roll and a method for producing the double-sided electroconductive film, in which the double-sided electroconductive film can be produced by using a comparatively small-sized facility and the production yield of which is improved.SOLUTION: The double-sided electroconductive film is constituted so that light-transmissive support layers (A) of two light-transmissive electroconductive films, each of which contains a light-transmissive support layer (A) and a light-transmissive electroconductive layer (B), are made adjacent to each other while interposing an adhesive layer (C) therebetween. The adhesive layer (C) is formed from a reaction-curable adhesive.

Description

本発明は、両面導電性フィルム、両面導電性フィルムロール及び両面導電性フィルムを含有するタッチパネル、並びに両面導電性フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a double-sided conductive film, a double-sided conductive film roll, a touch panel containing a double-sided conductive film, and a method for producing a double-sided conductive film.

スマートフォンに代表される静電容量型光透過性タッチシートパネル(タッチパネル)は、実用化当初においては、検知精度及び表示性能がより重視されており、そのためガラスを支持層としてその両面側に導電層を設けた両面導電性フィルムが使用されていた(特許文献1)。   Capacitance-type light-transmissive touch sheet panels (touch panels) represented by smartphones have a greater emphasis on detection accuracy and display performance at the beginning of commercialization. Therefore, glass is used as a support layer and conductive layers on both sides. A double-sided conductive film provided with a film was used (Patent Document 1).

ところが、このガラスを支持層とする両面導電性フィルムには、重量、耐衝撃性、生産性及び価格の面において問題があった。そのため、ガラスに替わり、プラスチックを支持層として使用したプラスチック両面導電性フィルムが実用化され、上記の問題は改善されるに至った。しかしながら、プラスチックを支持層とする両面導電性フィルムとしては、複数種のフィルムを接合材料と組み合わせた構造とすることが不可避であった。そのため、そのような構造そのもの、及び/又はそのような構造を得るための加工組立工程に起因して、検知精度が悪化するという新たな問題が生じた。   However, the double-sided conductive film using this glass as a support layer has problems in terms of weight, impact resistance, productivity, and price. Therefore, instead of glass, a plastic double-sided conductive film using plastic as a support layer has been put to practical use, and the above problems have been improved. However, it is inevitable that the double-sided conductive film using plastic as a support layer has a structure in which a plurality of types of films are combined with a bonding material. For this reason, a new problem has arisen in that the detection accuracy deteriorates due to such a structure itself and / or a processing assembly process for obtaining such a structure.

このため、部品点数及び加工組立工程を削減することにより、検知精度の悪化を改善しようとする試みがなされるに至った。一つの方向性として、プラスチックの支持層の片面側に導電層を設けた片面導電性フィルムを二つ用意し、これらを粘着剤により互いに貼り合わせて両面導電性フィルムを得るという手段が提案されている(特許文献2)。また、別の方向性として、プラスチックの支持層の両面側に導電層を設けることにより両面導電性フィルムを得るという手段も提案されている(特許文献3)。   For this reason, attempts have been made to improve the deterioration of detection accuracy by reducing the number of parts and the processing / assembly process. As one directionality, a method has been proposed in which two single-sided conductive films having a conductive layer provided on one side of a plastic support layer are prepared and bonded together with an adhesive to obtain a double-sided conductive film. (Patent Document 2). As another directionality, there has been proposed a means for obtaining a double-sided conductive film by providing conductive layers on both sides of a plastic support layer (Patent Document 3).

特開2010−9594号公報JP 2010-9594 A 特開2012−146297号公報JP 2012-146297 A 特開平8−272530号公報JP-A-8-272530

本発明者らは、片面導電性フィルムを粘着剤により互いに貼り合わせて両面導電性フィルムを得るという従来の手段にあっては、最終的に得られるフィルムにおいて、上下電極間距離のバラツキのため高精度な作動を担保することが困難であるという問題があることを見出した。   In the conventional means of obtaining a double-sided conductive film by sticking single-sided conductive films to each other with an adhesive, the present inventors have a high film due to variations in the distance between the upper and lower electrodes. It has been found that there is a problem that it is difficult to ensure accurate operation.

さらに、本発明者らは、制御回路を接続するための引出し回線(引き出し電極とも呼ばれる)として使用する目的で金属層を上記のフィルムの面上に積層した場合に、金属層とフィルムの間の密着性が悪くなることも見出した。   Furthermore, the present inventors, when the metal layer is laminated on the surface of the film for the purpose of using as a lead line (also called a lead electrode) for connecting the control circuit, It has also been found that the adhesion deteriorates.

また、本発明者らは、プラスチックの支持層の両面側に導電層を設けることにより両面導電性フィルムを得るという従来の手段においては、実際に製造するとなると両面に同時に導電層を形成するためには極めて大規模な設備が必要になることを見出した。また、この従来の手段においては、片面ずつ導電層を順次形成すれば従来の通常の設備を用いて形成することが可能ではあるものの、この場合には一方で生産歩留まりが極めて悪化するという問題があることを見出した。また、本発明者らは、このようにして得られる両面導電性フィルムにおいては、膜質の均一性を担保することが困難であるという問題があることも見出した。   Further, in the conventional means of obtaining a double-sided conductive film by providing conductive layers on both sides of a plastic support layer, the inventors have formed a conductive layer on both sides simultaneously when actually manufactured. Found that very large-scale equipment was required. In addition, in this conventional means, if the conductive layers are sequentially formed on each side, it can be formed using conventional ordinary equipment. However, in this case, the production yield is extremely deteriorated. I found out. The inventors have also found that the double-sided conductive film thus obtained has a problem that it is difficult to ensure the uniformity of the film quality.

そこで、本発明は、膜質(フィルムの質)及び膜厚(フィルムの厚さ)の均一性、並びに平坦性に優れており、かつ金属層との密着性に優れている両面導電性フィルム及び両面導電性フィルムロールを提供することを課題とする。   Accordingly, the present invention provides a double-sided conductive film and a double-sided film that are excellent in film quality (film quality) and film thickness (film thickness) uniformity, flatness, and adhesion to a metal layer. It is an object to provide a conductive film roll.

さらに、本発明は、両面導電性フィルムの製造方法であって、比較的小規模の設備により製造することができ、かつ生産歩留まりが改善された方法を提供することも別の課題とする。   Furthermore, another object of the present invention is to provide a method for producing a double-sided conductive film, which can be produced by a relatively small-scale facility and has an improved production yield.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、二つの導電性フィルムを、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせることにより得られた両面導電性フィルムは、膜質及び膜厚の均一性、並びに平坦性に優れており、かつ金属層との密着性に優れていることを新たに見出した。さらに、本発明者らは、この製造方法を利用することで、比較的小規模の設備により、かつ改善された生産歩留まり率で、両面導電性フィルムを製造することができることも新たに見出した。   The inventors of the present invention have made extensive studies in order to solve the above problems, and the double-sided conductive film obtained by laminating two conductive films by a dry laminating method using a reaction curable adhesive has a film quality. In addition, the present inventors have newly found that the film has excellent uniformity in film thickness, flatness, and excellent adhesion to the metal layer. Furthermore, the present inventors have newly found that a double-sided conductive film can be produced by using this production method with a relatively small-scale facility and with an improved production yield.

本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項1
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成される
ことを特徴とする、両面導電性フィルム。
項2
二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、前記反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせることにより得られうる、項1に記載の両面導電性フィルム。
項3
前記接着剤層(C)の厚さが、1〜10μmである、項1又は2に記載の両面導電性フィルム。
項4
さらに、
(D)ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層(D)が、前記光透過性支持層(A)と前記光透過性導電層(B)の間に配置されている、項1〜3のいずれかに記載の両面導電性フィルム。
項5
少なくとも一方の面に、
(E)金属層
が配置されている、項1〜4のいずれかに記載の両面導電性フィルム。
項6
幅0.2〜2.0mかつ長さ10〜1000mの両面導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件(I)及び(II)を満たすフィルムロール:
(I)前記両面導電性フィルムが、
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成され;かつ
(II)前記フィルムロールにおいて、25mm間隔で5×5の正方格子状に配置された任意の25点において測定して得られる膜厚が、下記式(1)を満たす。
(tmax−tmin)/(tave)×100<2.0 ・・・(1)
(上記においてtmax、tmin及びtaveはそれぞれ、前記25点において測定して得られる膜厚についての最大値、最小値及び平均値である)
項7
項1〜5のいずれかに記載の両面導電性フィルムを含有する、タッチパネル。
項8
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムの製造方法であって、
二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせる工程
を含有する方法。
The present invention has been completed by further studies based on these new findings, and is as follows.
Item 1
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The double-sided conductive film, wherein the adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive.
Item 2
Item 2. The double-sided conductive film according to Item 1, which can be obtained by bonding the two light-transmitting conductive films to each other by a dry laminating method using the reaction-curable adhesive.
Item 3
Item 3. The double-sided conductive film according to Item 1 or 2, wherein the adhesive layer (C) has a thickness of 1 to 10 μm.
Item 4
further,
(D) Item 1-3 which contains a hard-coat layer and the said hard-coat layer (D) is arrange | positioned between the said transparent support layer (A) and the said transparent conductive layer (B). The double-sided conductive film according to any one of the above.
Item 5
On at least one side,
(E) The double-sided conductive film in any one of claim | item 1 -4 by which the metal layer is arrange | positioned.
Item 6
A film roll formed by winding a double-sided conductive film having a width of 0.2 to 2.0 m and a length of 10 to 1000 m, and satisfying the following requirements (I) and (II):
(I) The double-sided conductive film is
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive; and (II) obtained by measuring at any 25 points arranged in a 5 × 5 square lattice at 25 mm intervals in the film roll. The film thickness satisfies the following formula (1).
(T max −t min ) / (t ave ) × 100 <2.0 (1)
(In the above, t max , t min, and t ave are the maximum value, minimum value, and average value of the film thickness obtained by measurement at the 25 points, respectively)
Item 7
The touch panel containing the double-sided conductive film in any one of claim | item 1 -5.
Item 8
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A method for producing a double-sided conductive film adjacent through a layer,
A method comprising a step of bonding the two light-transmitting conductive films to each other by a dry laminating method using a reaction curable adhesive.

本発明により、両面導電性フィルム及び両面導電性フィルムロールにおいて、光学的特性、膜質及び膜厚の均一性、並びに平坦性を改善し、フィルム中からの揮発成分及び低分子化合物の発生を抑制することができる。   According to the present invention, in a double-sided conductive film and a double-sided conductive film roll, optical characteristics, film quality and film thickness uniformity, and flatness are improved, and generation of volatile components and low molecular compounds from the film is suppressed. be able to.

さらに、本発明により、光学的特性に優れる両面導電性フィルムの製造方法において、比較的小規模の設備による製造を可能とし、かつ生産歩留まりを改善することができる。   Furthermore, according to the present invention, in the method for producing a double-sided conductive film having excellent optical characteristics, it is possible to produce with a relatively small facility and to improve the production yield.

また、本発明により、タッチパネルにおいて、優れた検知精度を達成することができる。   Further, according to the present invention, excellent detection accuracy can be achieved in the touch panel.

光透過性支持層(A)の片面に光透過性導電層(B)が隣接して配置されている二枚の光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)の面同士が、接着層(C)を直接介して隣接している、本発明の両面導電性フィルムを示す断面図である。The surfaces of the light transmissive support layers (A) of the two light transmissive conductive films in which the light transmissive conductive layer (B) is disposed adjacent to one side of the light transmissive support layer (A) are It is sectional drawing which shows the double-sided electroconductive film of this invention which adjoins via the contact bonding layer (C) directly. 光透過性支持層(A)の片面にハードコート層(D)及び光透過性導電層(B)がこの順で互いに隣接して配置されている二枚の光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)の面同士が、接着層(C)を直接介して隣接している、本発明の両面導電性フィルムを示す断面図である。Light transmission of two light transmissive conductive films in which a hard coat layer (D) and a light transmissive conductive layer (B) are arranged adjacent to each other in this order on one side of the light transmissive support layer (A) It is sectional drawing which shows the double-sided electroconductive film of this invention with which the surfaces of a conductive support layer (A) are adjacent via the contact bonding layer (C) directly.

1. 本発明の両面導電性フィルム
本発明の両面導電性フィルムは、
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成される
ことを特徴とする。
1. Double-sided conductive film of the present invention The double-sided conductive film of the present invention is
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive.

本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する(translucent)ことを意味する。「光透過性」には、透明(transparent)が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは87%以上である性質をいう。   In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 87% or more.

本発明において、各層の厚さは市販の透過型電子顕微鏡(日本電子株式会社製 JEM−1400、又はその同等品)を用いた観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。   In the present invention, the thickness of each layer is determined by observation using a commercially available transmission electron microscope (JEM-1400 manufactured by JEOL Ltd., or an equivalent product thereof). Specifically, the light-transmitting conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.

図1に、本発明の両面導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の片面に光透過性導電層(B)が隣接して配置されている二枚の光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)の面同士が、接着層(C)を直接介して隣接している。   In FIG. 1, the one aspect | mode of the double-sided conductive film of this invention is shown. In this aspect, the light transmissive support layer (A) of the two light transmissive conductive films in which the light transmissive conductive layer (B) is disposed adjacent to one side of the light transmissive support layer (A). The surfaces are adjacent via the adhesive layer (C) directly.

1.1 光透過性導電性フィルム
1.1.1 光透過性支持層(A)
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive conductive film 1.1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light-transmitting support layer refers to a light-transmitting conductive film containing a light-transmitting conductive layer that plays a role of supporting a layer including the light-transmitting conductive layer. Although it does not specifically limit as a light transmissive support layer (A), For example, in the light transmissive conductive film for touch panels, what is normally used as a light transmissive support layer can be used.

光透過性支持層(A)の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレート(PEN)等が挙げられる。光透過性支持層(A)の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にPETが好ましい。光透過性支持層(A)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   Although the raw material of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.

光透過性支持層(A)の厚さは、特に限定されないが、例えば、2〜300μmの範囲が挙げられる。   Although the thickness of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned.

1.1.2 光透過性導電層(B)
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(B)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1.2 Light transmissive conductive layer (B)
In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (B), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the light transmissive conductive film for touch panels can be used.

光透過性導電層(B)は、光透過性導電物質を含有する。   The light transmissive conductive layer (B) contains a light transmissive conductive material.

前記光透過性導電物質としては、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、及び酸化チタン等が挙げられる。前記光透過性導電物質は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。前記光透過性導電物質としては、これらの光透過性導電物質にドーパントをドープしたものが好ましく、中でも透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものが特に好ましい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。   The light transmissive conductive material is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive material may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. As the light-transmitting conductive material, those light-transmitting conductive materials doped with a dopant are preferable, and in particular, indium oxide doped with a dopant is particularly preferable in terms of achieving both transparency and conductivity. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.

光透過性導電物質として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In)に酸化スズ(IV)(SnO)をドープしたもの(tin−dopedindium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnOの添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%、好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、ITOにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(B)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the light-transmitting conductive material, tin-IV oxide (SnO 2 ) doped with indium (III) oxide (In 2 O 3 ) (tin-doped oxide) ITO) is preferred. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a transparent conductive layer (B) what added the other dopant to ITO in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left description. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.

光透過性導電層(B)は、上記の各種光透過性導電物質のうちいずれか単独を含有するものであってもよいし、複数種を含有するものであってもあってもよい。   The light transmissive conductive layer (B) may contain any one of the above various light transmissive conductive materials, or may contain a plurality of types.

前記光透過性導電物質は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。   The light-transmitting conductive material is not particularly limited, and may be a crystalline body, an amorphous body, or a mixture thereof.

光透過性導電層(B)の厚さは、特に限定されないが、通常は5〜50nmである。光透過性導電層(B)の厚さは、好ましくは10〜40nm、より好ましくは12〜35nm、さらに好ましくは15〜30nmである。   The thickness of the light transmissive conductive layer (B) is not particularly limited, but is usually 5 to 50 nm. The thickness of the light transmissive conductive layer (B) is preferably 10 to 40 nm, more preferably 12 to 35 nm, and still more preferably 15 to 30 nm.

光透過性導電層(B)を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよい。   The method of disposing the light transmissive conductive layer (B) may be either wet or dry.

光透過性導電層(B)を配置する方法として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。   Examples of the method for arranging the light transmissive conductive layer (B) include a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a pulse laser deposition method.

1.1.3 ハードコート層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、ハードコート層(D)が、光透過性支持層(A)と光透過性導電層(B)の間に配置されていてもよい。ハードコート層(D)は、好ましくは光透過性支持層(A)に隣接して配置されている。ハードコート層(D)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記ハードコート層(D)に隣接して配置されていてもよい。
1.1.3 Hard coat layer (D)
In the light transmissive conductive film of the present invention, the hard coat layer (D) may be disposed between the light transmissive support layer (A) and the light transmissive conductive layer (B). The hard coat layer (D) is preferably disposed adjacent to the light transmissive support layer (A). When the hard coat layer (D) is disposed, at least one of the light transmissive conductive layers (B) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) via at least the light hard coat layer (D). Is arranged. In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (B) may be disposed adjacent to the hard coat layer (D).

ハードコート層(D)は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。   One layer of the hard coat layer (D) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.

ハードコート層(D)は、光透過性支持層(A)の両面に配置されていてもよい。   The hard coat layer (D) may be disposed on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

図2に、本発明のハードコート層(D)を含有する両面導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の片面にハードコート層(D)及び光透過性導電層(B)がこの順で互いに隣接して配置されている二枚の光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)の面同士が、接着層(C)を直接介して隣接している。   In FIG. 2, the one aspect | mode of the double-sided conductive film containing the hard-coat layer (D) of this invention is shown. In this embodiment, the two light-transmissive conductive layers in which the hard coat layer (D) and the light-transmissive conductive layer (B) are arranged adjacent to each other in this order on one side of the light-transmissive support layer (A). The surfaces of the light transmissive support layer (A) of the film are adjacent to each other through the adhesive layer (C).

本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層(D)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。   In the present invention, the hard coat layer means a layer that prevents the plastic surface from being damaged. Although it does not specifically limit as a hard-coat layer (D), For example, what is normally used as a hard-coat layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used.

ハードコート層(D)の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層(D)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層(D)は、屈折率を調整する目的等で無機物の微粒子を含有していてもよい。この無機物の微粒子としては、特に限定されないが、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア、アルミナ等が挙げられる。ハードコート層(D)としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。   The material of the hard coat layer (D) is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, urethane resins, melamine resins, and alkyd resins. The hard coat layer (D) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. The hard coat layer (D) may contain inorganic fine particles for the purpose of adjusting the refractive index. The inorganic fine particles are not particularly limited, and examples thereof include silica, zirconia, titania, and alumina. As the hard coat layer (D), an acrylic resin in which zirconia particles are dispersed is preferable.

ハードコート層(D)の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば0.1〜10μm、1〜7μm、好ましくは2〜6μm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層(D)の合計厚さが上記範囲内であればよい。   Although the thickness per layer of the hard coat layer (D) is not particularly limited, examples thereof include 0.1 to 10 μm, 1 to 7 μm, preferably 2 to 6 μm. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the hard coat layers (D) adjacent to each other may be within the above range.

ハードコート層(D)の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、1.4〜1.7等が挙げられる。   The refractive index of the hard coat layer (D) is not particularly limited as long as the light-transmitting conductive film of the present invention can be used as a light-transmitting conductive film for a touch panel, and examples thereof include 1.4 to 1.7. It is done.

ハードコート層(D)のJIS鉛筆硬度は、本発明の効果が得られる限り、特に限定されないが、フィルム全体に良好な硬度を付与し、巻癖(カール)を抑制するという点においては、2H以上であれば好ましく、3H以上であればより好ましい。ハードコート層(D)のJIS鉛筆硬度は、通常、8H以下であるが、光透過性導電性フィルムの可撓性確保の点では6H以下が好ましい。   The JIS pencil hardness of the hard coat layer (D) is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained. However, in terms of imparting good hardness to the entire film and suppressing curl. If it is above, it is preferable, and if it is 3H or more, more preferable. The JIS pencil hardness of the hard coat layer (D) is usually 8H or less, but 6H or less is preferable from the viewpoint of ensuring the flexibility of the light-transmitting conductive film.

ハードコート層(D)を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。   The method of disposing the hard coat layer (D) is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying to a film and curing with heat, a method of curing with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and the like. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.

1.1.4 光透過性下地層(F)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(B)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介して光透過性下地層(F)が配置されていてもよい。光透過性下地層(F)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光透過性下地層(F)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性下地層(F)に隣接して配置されていてもよい。
1.1.4 Light transmissive underlayer (F)
The light transmissive conductive film of the present invention is light transmissive either directly or via one or more other layers on the surface of the light transmissive support layer (A) where the light transmissive conductive layer (B) is disposed. An underlayer (F) may be disposed. When the light-transmitting underlayer (F) is disposed, at least one of the light-transmitting conductive layers (B) passes through the light-transmitting underlayer (F) at least through the light-transmitting support layer (A). ). In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (B) may be disposed adjacent to the light transmissive underlayer (F).

光透過性下地層(F)の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光透過性下地層(F)の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサンの及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。光透過性下地層(F)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。   The material of the light-transmitting underlayer (F) is not particularly limited, but may be a dielectric material, for example. The material of the light-transmitting underlayer (F) is not particularly limited, and examples thereof include silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxy. Sun, polysilazane, etc. are mentioned. The light transmissive underlayer (F) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. A light-transmitting underlayer containing silicon oxide is preferable, and a light-transmitting underlayer made of silicon oxide is more preferable.

光透過性下地層(F)は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。光透過性下地層(F)が二層以上互いに隣接して配置されているのが好ましい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層(A)側にSiOからなる光透過性下地層(F−1)、光透過性導電層(B)側にSiO(x=1.0〜2.0)からなる光透過性下地層(F−2)を配置させるのが好ましい。 One layer of the light-transmitting underlayer (F) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers. Two or more light-transmitting underlayers (F) are preferably disposed adjacent to each other. For example, when two layers are arranged adjacent to each other, a light-transmitting underlayer (F-1) made of SiO 2 on the light-transmitting support layer (A) side and SiO on the light-transmitting conductive layer (B) side. It is preferable to dispose a light-transmitting underlayer (F-2) made of x (x = 1.0 to 2.0).

光透過性下地層(F)の一層あたりの厚さは、15〜25nm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光透過性下地層(F)の合計厚さが上記範囲内であればよい。   Examples of the thickness per layer of the light-transmitting underlayer (F) include 15 to 25 nm. When two or more layers are arranged adjacent to each other, the total thickness of all the light-transmitting underlayers (F) adjacent to each other may be within the above range.

光透過性下地層(F)の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、1.45〜1.55が好ましい。   The refractive index of the light-transmitting underlayer (F) is not particularly limited as long as the light-transmitting conductive film of the present invention can be used as a light-transmitting conductive film for a touch panel, but for example, 1.45 to 1.55. preferable.

光透過性下地層(F)を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。   Examples of the method for disposing the light-transmitting underlayer (F) include a dry method, for example, a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, a pulse laser deposition method, or the like. .

1.1.5 その他の層(G)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の前記面上に、光透過性導電層(B)に加えて、ハードコート層(D)、光透過性下地層(F)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(G)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
1.1.5 Other layers (G)
The light-transmitting conductive film of the present invention has a hard coat layer (D), a light-transmitting underlayer (in addition to the light-transmitting conductive layer (B) on the surface of the light-transmitting support layer (A). F) and at least one layer selected from the group consisting of at least one other layer (G) different from them may be further arranged.

(A)、(B)、(D)及び(F)のいずれとも異なるその他の層としては、特に限定されないが、例えば、カップリング処理層及びアンカーコート層等が挙げられる。   Other layers different from any of (A), (B), (D), and (F) are not particularly limited, and examples thereof include a coupling treatment layer and an anchor coat layer.

カップリング処理層とは、光透過性支持層(A)と光透過性導電層(B)の密着性をさらに向上させる必要が生じた際に設けられる層である。カップリング処理層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用途に用いられる両面導電性フィルムにおいてカップリング処理層として通常用いられるものを用いることができる。カップリング処理層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   The coupling treatment layer is a layer provided when it is necessary to further improve the adhesion between the light transmissive support layer (A) and the light transmissive conductive layer (B). Although it does not specifically limit as a coupling process layer, For example, what is normally used as a coupling process layer in the double-sided conductive film used for a touchscreen use can be used. The coupling treatment layer may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types.

アンカーコート層とは、光透過性支持層(A)と接着剤層(C)の接着力をさらに向上する必要が生じた差に設けられる層である。アンカーコート層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用途に用いられる両面導電性フィルムにおいてアンカーコート層として通常用いられるものを用いることができる。アンカーコート層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   The anchor coat layer is a layer provided in a difference where it is necessary to further improve the adhesive force between the light transmissive support layer (A) and the adhesive layer (C). Although it does not specifically limit as an anchor coat layer, For example, what is normally used as an anchor coat layer in the double-sided conductive film used for a touch-panel use can be used. The anchor coat layer may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.

1.1.7 光透過性導電性フィルムの製造方法
光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、光透過性導電層(B)を配置する工程をそれぞれ含む。
1.1.7 Method for Producing Light-Transparent Conductive Film The method for producing a light-transmissive conductive film has a light-transmissive conductive layer (B) disposed on at least one surface of the light-transmissive support layer (A). Each of the steps.

本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、光透過性導電層(B)に加えて、ハードコート層(D)、光透過性下地層(F)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(G)からなる群より選択される少なくとも1種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。   In the method for producing a light transmissive conductive film of the present invention, in addition to the light transmissive conductive layer (B), at least one surface of the light transmissive support layer (A), a hard coat layer (D), light transmissive A step of disposing at least one kind of layer selected from the group consisting of the conductive underlayer (F) and at least one other kind of other layer (G) different therefrom.

光透過性導電性フィルムのそれぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。   The process of disposing each layer of the light transmissive conductive film is as described for each layer.

光透過性導電層(B)に加えて、少なくとも1種の他の層を配置する場合は、例えば、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に光透過性支持層(A)側から反対方向側に向かって順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層(A)ではない層(例えば、光透過性導電層(B))の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得て、これらの2種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。   In the case of arranging at least one other layer in addition to the light transmissive conductive layer (B), for example, the light transmissive support layer (A) side is provided on at least one surface of the light transmissive support layer (A). However, the order of arrangement is not particularly limited. For example, you may arrange | position another layer to one side of the layer (for example, light transmissive conductive layer (B)) which is not a light transmissive support layer (A) first. Alternatively, one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other on the one hand, or at the same time, two or more layers are similarly disposed adjacent to each other on the other side. Thus, one type of composite layer may be obtained, and these two types of composite layers may be further arranged adjacent to each other.

1.2 接着剤層(C)
接着剤層(C)は、反応硬化型接着剤から形成される層である。言い換えれば、接着剤層(C)は、反応硬化型接着剤を硬化させることにより得られうる層である。特に限定されないが、接着剤層(C)は、二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせる工程を含有する方法によりこれらの光透過性導電性フィルムの間に形成されうる層であってもよい。ドライラミネート法については、下記3.において後述する通りである。接着剤層(C)がかかる構成を有していることにより、両面導電性フィルムにおいて膜質及び膜厚の均一性、並びに平坦性を改善し、フィルム中からの揮発成分及び低分子化合物の発生を抑制することができる。
1.2 Adhesive layer (C)
The adhesive layer (C) is a layer formed from a reactive curable adhesive. In other words, the adhesive layer (C) is a layer that can be obtained by curing a reactive curable adhesive. Although not particularly limited, the adhesive layer (C) has a light-transmitting property by a method including a step of bonding the two light-transmitting conductive films to each other by a dry laminating method using a reaction curable adhesive. It may be a layer that can be formed between the conductive films. Regarding the dry lamination method, the following 3. As described later. The adhesive layer (C) having such a structure improves the uniformity and flatness of film quality and film thickness in the double-sided conductive film, and generates volatile components and low molecular compounds from the film. Can be suppressed.

反応硬化型接着剤は、溶剤系反応硬化型接着剤であってもよいし、無溶剤系反応硬化型接着剤であってもよい。接着剤層の厚み精度の点においては、溶剤系反応硬化型接着剤がより好ましい。   The reaction curable adhesive may be a solvent-based reaction curable adhesive or a solventless reaction curable adhesive. In terms of the thickness accuracy of the adhesive layer, a solvent-based reaction curable adhesive is more preferable.

反応硬化型接着剤としては、無溶剤系反応硬化型接着剤であるか溶剤系反応硬化型接着剤であるかを問わず、以下に説明するものを用いることができる。なお、溶剤系反応硬化型接着剤としては、下記に説明する反応硬化型接着剤の主剤及び硬化剤を溶剤に溶解させたものを用いることができる。   Regardless of whether the reaction-curable adhesive is a solvent-free reaction-curable adhesive or a solvent-based reaction-curable adhesive, those described below can be used. In addition, as a solvent type reaction curable adhesive, what melt | dissolved the main ingredient and hardening | curing agent of the reaction curable adhesive demonstrated below in a solvent can be used.

反応硬化型接着剤としては、特に限定されないが、例えば通常ドライラミネート法において使用されるものを用いることができる。具体的には、特に限定されないが、例えば、ウレタン系の樹脂、エステル系の樹脂、エーテル系の樹脂、アクリル系の樹脂、エポキシ系の樹脂、フェノール系の樹脂及びシリコーン系の樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂を主剤とする反応硬化型接着剤等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a reaction hardening type adhesive agent, For example, what is normally used in the dry laminating method can be used. Specifically, although not particularly limited, for example, at least selected from urethane-based resins, ester-based resins, ether-based resins, acrylic-based resins, epoxy-based resins, phenol-based resins, and silicone-based resins. Examples thereof include a reaction curable adhesive mainly composed of one kind of resin.

上記の反応硬化型接着剤主剤に適宜硬化剤を配合することにより、本発明の接着剤層(C)が得られる。それぞれの反応硬化型接着剤の反応機構により、熱硬化、光硬化及び電子線硬化等の硬化方式を選択できるが、より具体的には、生産設備の簡便さやコストの面から熱硬化方式が好ましく、さらには、透明性や耐紫外線性等の観点から、エステル系及びエーテル系の樹脂を主成分とした接着剤が好ましい。   The adhesive layer (C) of the present invention can be obtained by appropriately adding a curing agent to the above reactive curable adhesive main agent. Depending on the reaction mechanism of each reactive curable adhesive, a curing method such as thermal curing, photocuring, and electron beam curing can be selected. More specifically, the thermal curing method is preferable from the viewpoint of simplicity of production equipment and cost. Furthermore, an adhesive mainly composed of an ester-based resin and an ether-based resin is preferable from the viewpoints of transparency and ultraviolet resistance.

溶剤系反応硬化型接着剤としては、上記の反応硬化型接着剤の主剤及び硬化剤を溶剤に溶解させたものを用いることができる。溶剤としては、特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン、ヘキサン、エチルアセテート及びベンゼン等が挙げられる。この中において、生産性の点ではトルエン及びエチレンアセテート、並びにそれらを主成分とする混合溶剤が好ましい。   As the solvent-based reaction curable adhesive, a solution obtained by dissolving the main component and the curing agent of the reaction curable adhesive in a solvent can be used. Although it does not specifically limit as a solvent, For example, toluene, xylene, hexane, ethyl acetate, benzene, etc. are mentioned. Among these, toluene and ethylene acetate and a mixed solvent containing them as main components are preferable in terms of productivity.

反応硬化型接着剤は、本発明の効果が得られる限りにおいて広範囲のものから選択できるが、室温23℃における硬化後弾性率が、10MPa〜1000MPaであるものであれば、フィルム全体に良好な硬度を付与し、巻癖(カール)を抑制するという点において好ましい。反応硬化型接着剤は、同じ点において、室温23℃における硬化後弾性率が、50MPa〜500MPaであるものであればより好ましく、同弾性率が、100MPa〜300MPaであるものであればさらに好ましい。   The reaction curable adhesive can be selected from a wide range as long as the effect of the present invention can be obtained, but if the post-curing elastic modulus at room temperature 23 ° C. is 10 MPa to 1000 MPa, the film has good hardness. Is preferable in that it suppresses curling. In the same point, the reaction curable adhesive is more preferably one having an elastic modulus after curing at room temperature of 23 ° C. of 50 MPa to 500 MPa, and more preferably one having an elastic modulus of 100 MPa to 300 MPa.

本発明において、硬化後弾性率は、次のようして測定する。まず、測定対象の反応硬化型接着剤を離型フィルムで作製した容器の中に、例えば、硬化後の厚さが1ミリメートル程度になるよう流展し、硬化することで試料を得る。次にその試料を後述の測定装置に適した寸法に切り出し試料片とする。この試料片を動的粘弾性測定装置(セイコーインスツル株式会社製DMS7100、又はその同等品)を用いて、引っ張りモードによる測定を行い、弾性率の数値を得る。   In the present invention, the post-curing elastic modulus is measured as follows. First, a sample is obtained by flowing and curing a reaction-curing adhesive to be measured in a container made of a release film so that the thickness after curing is about 1 millimeter, for example. Next, the sample is cut into a size suitable for a measuring apparatus described later to obtain a sample piece. This sample piece is measured by a tensile mode using a dynamic viscoelasticity measuring device (DMS7100 manufactured by Seiko Instruments Inc. or an equivalent thereof) to obtain a numerical value of elastic modulus.

接着剤層(C)の厚さは、本発明の効果が得られる範囲内において幅広く選択することができるが、安定した接着力を発現させるには1〜10μmであれば好ましく、2〜5μmであればより好ましく、3〜4μmであればさらに好ましい。   The thickness of the adhesive layer (C) can be widely selected within the range in which the effects of the present invention can be obtained, but is preferably 1 to 10 μm, and 2 to 5 μm in order to develop a stable adhesive force. It is more preferable if it is 3 to 4 μm.

積層体である両面導電性フィルムにおいては、各層の間の屈折率差が大きくなりすぎると、光学異方性のため虹色模様がフィルム表面に観察されるようになるため、光学的に好ましくない。片面導電性フィルムを粘着剤により互いに貼り合わせて両面導電性フィルムを得るという従来の手段にあっては、最終的に得られるフィルムにおいて、プラスチックの支持層と粘着剤の層の間における屈折率差が大きくなり、光学干渉に起因する表示品位(演色性や光透過性)の悪化が避けられないという問題があることが本発明者らの独自の検討により明らかになった。   In a double-sided conductive film that is a laminate, if the difference in refractive index between layers becomes too large, an iridescent pattern will be observed on the film surface due to optical anisotropy, which is optically undesirable. . In the conventional means of obtaining a double-sided conductive film by bonding single-sided conductive films to each other with an adhesive, the refractive index difference between the plastic support layer and the adhesive layer in the finally obtained film The present inventors have made it clear that there is a problem that deterioration of display quality (color rendering and light transmission) due to optical interference is unavoidable.

本発明においては、所定の接着剤層(C)を用いることによって、この問題を解決することができる。すなわち、光透過性支持層(A)との波長590nmにおける屈折率差が、0.1未満である接着剤層(C)を用いることによって、この問題を解決することができる。接着剤層(C)の屈折率差がこの範囲内にあると、フィルム全体としての光学異方性が抑制され、虹色模様がフィルム表面に観察される現象を抑制することができる。この観点では、接着剤層(C)の屈折率差は、0.05未満であればより好ましく、0.02未満であればさらに好ましい。   In the present invention, this problem can be solved by using the predetermined adhesive layer (C). That is, this problem can be solved by using an adhesive layer (C) having a refractive index difference at a wavelength of 590 nm with respect to the light transmissive support layer (A) of less than 0.1. When the refractive index difference of the adhesive layer (C) is within this range, the optical anisotropy of the entire film is suppressed, and the phenomenon that an iridescent pattern is observed on the film surface can be suppressed. In this respect, the refractive index difference of the adhesive layer (C) is more preferably less than 0.05, and even more preferably less than 0.02.

波長590nmにおける屈折率は、屈折率測定において一般的に用いられているアッベ氏式屈折率計により測定することができる。後述する反応硬化型接着剤を離型フィルム上に例えば硬化後の厚さが100ミクロン程度になるよう流展し、硬化することによって得られた試料の屈折率を測定すればよい。   The refractive index at a wavelength of 590 nm can be measured by an Abbe refractometer generally used in refractive index measurement. It is only necessary to measure the refractive index of a sample obtained by spreading a reaction curable adhesive, which will be described later, on the release film so that the thickness after curing is about 100 microns and curing.

また、片面導電性フィルムを粘着剤により互いに貼り合わせて両面導電性フィルムを得るという従来の手段にあっては、得られたフィルムをタッチパネルとして加工する際に、粘着剤層から揮発成分及び低分子化合物が汚染物質として発生するため、様々な弊害を引き起こすことが本発明者らの独自の検討により明らかになった。   Further, in the conventional means of obtaining a double-sided conductive film by bonding single-sided conductive films to each other with an adhesive, when processing the obtained film as a touch panel, the volatile components and low molecules Since the compound is generated as a pollutant, it has been clarified by the present inventors that various harmful effects are caused.

本発明の両面導電性フィルムにおいては、粘着剤の代わりに接着剤を用いることによって、フィルム中からの揮発成分及び低分子化合物の発生が抑制されている。   In the double-sided conductive film of the present invention, the generation of volatile components and low-molecular compounds from the film is suppressed by using an adhesive instead of an adhesive.

1.3 金属層(E)
本発明の両面導電性フィルムは、少なくとも一方の面に、制御回路を接続するための引出し回線(引き出し電極とも呼ばれる)として使用する目的で、金属層(E)が配置されていてもよい。本発明の両面導電性フィルムは、前記光透過性導電層(B)の光透過性支持層(A)とは反対側の面に、前記金属層(E)が隣接して配置されていてもよい。
1.3 Metal layer (E)
In the double-sided conductive film of the present invention, a metal layer (E) may be disposed on at least one surface for the purpose of using it as an extraction line (also referred to as an extraction electrode) for connecting a control circuit. In the double-sided conductive film of the present invention, the metal layer (E) is disposed adjacent to the surface of the light-transmissive conductive layer (B) opposite to the light-transmissive support layer (A). Good.

金属層(E)は、金属を含有する層である。金属層(E)は、引出し回線として通常使用されるものであってもよく、特に限定されない。   The metal layer (E) is a layer containing a metal. The metal layer (E) may be one normally used as a lead-out line, and is not particularly limited.

金属層(E)に含有される金属は、引出し回線として使用することができるものであればよく、幅広く選択することができる。特に限定されないが、例えば、銅、ニッケル銅、銀、アルミニウム及びモリブデン等が挙げられる。金属層(E)はこれらを単独で含有していてもよいし、二種以上を含んでいてもよい。また、金属層(E)は他の成分をさらに含んでいてもよい。そのような他の成分としては、特に限定されないが、例えば、酸素、窒素、水素及び硫黄等が挙げられる。   The metal contained in the metal layer (E) may be any metal that can be used as a lead-out line, and can be selected widely. Although it does not specifically limit, For example, copper, nickel copper, silver, aluminum, molybdenum, etc. are mentioned. The metal layer (E) may contain these independently, and may contain 2 or more types. The metal layer (E) may further contain other components. Such other components are not particularly limited, and examples thereof include oxygen, nitrogen, hydrogen, and sulfur.

例えば、金属層(E)を、光透過性導電層(B)の一方の面に隣接して配置させ、さらにエッチング処理により金属層(E)の所望の領域だけを取り除くことにより、前記光透過性導電層(B)の面上に残存した領域を配線として利用することができる。このように配線として利用する場合は、銅、ニッケル銅、銀、アルミニウム及びモリブデン等を含む金属層(E)を用いることができる。   For example, the metal layer (E) is disposed adjacent to one surface of the light transmissive conductive layer (B), and only the desired region of the metal layer (E) is removed by an etching process, whereby the light transmissive layer is formed. The region remaining on the surface of the conductive conductive layer (B) can be used as wiring. Thus, when utilizing as wiring, the metal layer (E) containing copper, nickel copper, silver, aluminum, molybdenum, etc. can be used.

金属層(E)を前記面上に形成する方法としては、特に限定されないが、好ましい方法として、例えばイオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。   The method for forming the metal layer (E) on the surface is not particularly limited, but preferred methods include, for example, an ion plating method, a sputtering method, a vacuum deposition method, a CVD method, and a pulse laser deposition method. .

1.4 本発明の両面導電性フィルムの用途
本発明の両面導電性フィルムは、静電容量型タッチシートパネルの製造に用いることができる。また、本発明の両面導電性フィルムは、その他の用途にも用いることもできる。その他の用途として例えば、光発電装置、電磁波遮蔽部材及び精密電子機器包装容器等の製造を挙げることができる。
1.4 Use of Double-sided Conductive Film of the Present Invention The double-sided conductive film of the present invention can be used for the production of a capacitive touch sheet panel. The double-sided conductive film of the present invention can also be used for other applications. Other applications include, for example, the production of photovoltaic devices, electromagnetic shielding members, precision electronic equipment packaging containers, and the like.

本発明の両面導電性フィルムは、対向する両面の光透過性導電層の間隔が高度に均一化されており、これにより、高性能な静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、4で説明する通りである。   The double-sided conductive film of the present invention has a highly uniform spacing between the light-transmitting conductive layers on both sides facing each other, and is thus preferably used for the production of a high-performance capacitive touch panel. Details of the capacitive touch panel are as described in 4.

また、制御回路を接続するための引出し回線として使用する目的で金属層(E)が少なくとも一面に配置されている本発明の両面導電性フィルムは、従来の粘着剤層を介して二枚の導電性フィルムを貼り合わせてなる両面導電性フィルムに比べると、金属層(E)との密着性が改善されている。したがって、本発明の両面導電性フィルムは、引出し回線として使用する目的で金属層(E)を備える両面導電性フィルムとしても好ましく用いられる。   In addition, the double-sided conductive film of the present invention in which the metal layer (E) is disposed on at least one side for the purpose of using it as a lead-out line for connecting the control circuit has two conductive layers through a conventional adhesive layer. Compared with a double-sided conductive film formed by laminating a conductive film, the adhesion with the metal layer (E) is improved. Therefore, the double-sided conductive film of the present invention is also preferably used as a double-sided conductive film provided with a metal layer (E) for the purpose of use as a lead-out line.

また、本発明の両面導電性フィルムは、光透過性導電層(B)をパターン化した上で用いてもよい。パターン化は通常、エッチングにより行われる。本発明の両面導電性フィルムは、エッチング処理を行った際に、揮発成分及び低分子化合物の発生が抑制されているという優れた特性を有する。したがって、本発明の両面導電性フィルムは、光透過性導電層(B)をパターン化した上で使用する用途にも適している。エッチングの方法は、特に限定されないが、例えば次のようにして行う。まず、レジスト(エッチング液から層を保護するための保護膜)を、光透過性導電層上の、残したい領域に塗布する。塗布の手段はレジストの種類にもよるがスクリーン印刷によって行ってもよいし、フォトレジストを用いる場合であれば、次のようにして行う。光透過性導電層上の、残したい領域にスピンコーター又はスリットコーター等を用いてフォトレジストを塗布し、光又は電子線を部分的に照射してフォトレジストの溶解性をその部分においてのみ変化させ、その後に溶解性が相対的に低くなっている部分を除去する(これを現像という)。このようにしてレジストが光透過性導電層上の、残したい領域においてのみ存在している状態とする。引き続いて、エッチング液を光透過性導電層に作用させ、光透過性導電層のうちレジストで保護されていない領域を選択的に溶解し、この溶解物を最終的に除去することにより、パターンを形成する。   Moreover, you may use the double-sided conductive film of this invention, after patterning a transparent conductive layer (B). Patterning is usually done by etching. The double-sided conductive film of the present invention has an excellent characteristic that generation of volatile components and low-molecular compounds is suppressed when etching is performed. Therefore, the double-sided conductive film of the present invention is also suitable for use in which the light-transmitting conductive layer (B) is patterned. Although the etching method is not particularly limited, for example, it is performed as follows. First, a resist (a protective film for protecting the layer from the etching solution) is applied to the region to be left on the light-transmitting conductive layer. The application means may be performed by screen printing depending on the type of the resist. If a photoresist is used, it is performed as follows. Apply the photoresist to the area you want to leave on the light-transmitting conductive layer using a spin coater or slit coater, etc., and partially irradiate light or an electron beam to change the solubility of the photoresist only in that area. Thereafter, the portion having relatively low solubility is removed (this is called development). In this way, the resist is present only in the region to be left on the light-transmitting conductive layer. Subsequently, an etching solution is allowed to act on the light-transmitting conductive layer to selectively dissolve a region of the light-transmitting conductive layer that is not protected by the resist, and finally, the dissolved matter is removed to thereby remove the pattern. Form.

2. 両面導電性フィルムの製造方法
本発明の両面導電性フィルムの製造方法は、
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムの製造方法であって、
二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせる工程
を含有する方法である。
2. Method for producing double-sided conductive film The method for producing a double-sided conductive film of the present invention comprises:
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A method for producing a double-sided conductive film adjacent through a layer,
In this method, the two light-transmitting conductive films are bonded to each other by a dry laminating method using a reaction curable adhesive.

この製造方法は、既に説明した光透過性導電性フィルム同士を、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせる工程を含有する点を特徴とする。   This manufacturing method is characterized in that it includes a step of bonding together the light-transmitting conductive films already described by a dry laminating method using a reactive curable adhesive.

反応硬化型接着剤については、上記1.2において説明した通りである。   The reaction curable adhesive is as described in 1.2 above.

ドライラミネート法とは、(1)有機溶剤に希釈させた反応硬化型接着剤を、貼り合わせようとする一方又は両方の面に塗工する工程、(2)溶媒を乾燥させて揮発させる工程、(3)圧力をかけた状態において、反応硬化型接着剤が塗工された前記面を、他方の貼り合わせようとする面と貼り合わせる工程、及び(4)熱及び/又は紫外線又は電子線により反応硬化型接着剤を硬化させる工程を順次含有する方法である。   The dry laminating method is (1) a step of applying a reactive curable adhesive diluted in an organic solvent to one or both surfaces to be bonded, (2) a step of drying and volatilizing the solvent, (3) In a state where pressure is applied, a step of bonding the surface coated with the reactive curable adhesive to the other surface to be bonded, and (4) by heat and / or ultraviolet rays or an electron beam It is a method of sequentially containing a step of curing a reaction curable adhesive.

溶剤系反応硬化型接着剤を、貼り合わせようとする一方又は両方の面に塗工する工程(1)は、特に限定されないが、例えば、通常のドライラミネート法における工程と同様に行うことができる。特に限定されないが、例えば、ダイレクトグラビアコーター、オフセットグラビアコーター、カンマコーター、メイヤーバーコーター、スプレーコーター及びスロットダイコーター等を用いて塗工することができる。このうち、塗布膜厚精度の点ではダイレクトグラビアコーター及びスロットダイコーターが好ましい。   The step (1) of applying the solvent-based reaction curable adhesive to one or both surfaces to be bonded is not particularly limited, but can be performed, for example, in the same manner as in a normal dry laminating method. . Although it does not specifically limit, For example, it can coat using a direct gravure coater, an offset gravure coater, a comma coater, a Mayer bar coater, a spray coater, a slot die coater, etc. Among these, a direct gravure coater and a slot die coater are preferable in terms of coating film thickness accuracy.

溶剤系反応硬化型接着剤を塗工する面を、必要に応じて、接着強度の向上、濡れ性の向上及び膜厚の均一性の向上等のいずれか一種あるいは二種以上の目的で、表面処理を行ってもよい。この表面処理としては、特に限定されないが、例えば、コロナ処理、プラズマ処理及びプライマー処理等が挙げられる。   The surface on which the solvent-based reaction curable adhesive is applied, if necessary, for one or more purposes such as improvement of adhesive strength, improvement of wettability and improvement of film thickness uniformity, etc. Processing may be performed. The surface treatment is not particularly limited, and examples thereof include corona treatment, plasma treatment, and primer treatment.

工程(1)においては、通常は、貼り合わせようとする一方の面のみに溶剤系反応硬化型接着剤を塗工するが、必要に応じて、両方の面に溶剤系反応硬化型接着剤を塗工してもよい。   In step (1), a solvent-based reaction curable adhesive is usually applied only to one surface to be bonded, but a solvent-based reaction curable adhesive is applied to both surfaces as necessary. You may apply.

塗工する溶剤系反応硬化型接着剤の量は、特に限定されないが、例えば、通常のドライラミネート法における塗工量と同様とすることができる。溶剤系反応硬化型接着剤の種類、及び/又は貼り合わせようとする面の物性及び状態等によっても変わるが、例えば乾燥後目付量に換算して、1g/m〜10g/mの量の溶剤系反応硬化型接着剤を塗工することができる。接着力均一性と光学特性の両立の点からは、2g/m〜5g/mの量の溶剤系反応硬化型接着剤を塗工するのが好ましい。 The amount of the solvent-based reaction curable adhesive to be applied is not particularly limited, but can be the same as, for example, the coating amount in a normal dry laminating method. Type of solvent-based curable adhesive, and / or varies depending properties of bonded align it to the surface and conditions such as, for example, in terms of dried basis weight, the amount of 1g / m 2 ~10g / m 2 It is possible to apply a solvent-based reaction curable adhesive. From the standpoint of achieving both adhesive force uniformity and optical properties, it is preferable to apply a solvent-based reaction curable adhesive in an amount of 2 g / m 2 to 5 g / m 2 .

溶媒を乾燥させて揮発させる工程(2)は、特に限定されないが、例えば、通常のドライラミネート法における工程と同様に行うことができる。特に限定されないが、例えば、大気雰囲気下、窒素ガス雰囲気下及びアルゴンガス雰囲気下等において乾燥させることができる。このうち、硬化後物性の安定的な発現の点では窒素ガス雰囲気下及びアルゴンガス雰囲気下が好ましい。また、この工程(2)において乾燥は、特に限定されないが、例えば、80〜120℃で1〜10分間行うことができる。   The step (2) for drying and volatilizing the solvent is not particularly limited, but can be performed, for example, in the same manner as in the usual dry laminating method. Although not particularly limited, for example, drying can be performed in an air atmosphere, a nitrogen gas atmosphere, an argon gas atmosphere, or the like. Of these, a nitrogen gas atmosphere and an argon gas atmosphere are preferable in terms of stable expression of properties after curing. Moreover, although drying in this process (2) is not specifically limited, For example, it can perform for 1 to 10 minutes at 80-120 degreeC.

圧力をかけた状態において面同士を貼り合わせる工程(3)は、特に限定されないが、例えば、通常のドライラミネート法における工程と同様に行うことができる。特に限定されないが、例えば、対向して設置された一組のロール間を通過させることによって行ってもよい。   The step (3) of bonding the surfaces together in a state where pressure is applied is not particularly limited, but can be performed, for example, in the same manner as in a normal dry laminating method. Although it does not specifically limit, For example, you may carry out by passing between a pair of rolls installed facing each other.

熱及び/又は紫外線又は電子線により反応硬化型接着剤を硬化させる工程(4)は、使用した接着剤の硬化機構により適宜選択できる。熱により硬化させる場合には使用した接着剤の硬化に十分な温度を加える必要があるが、光透過性支持層(A)の熱変形温度を超えないことが肝要である。紫外線又は放射線により硬化を行う場合には、同時に又は逐次に熱を加えることができる。硬化後の物性をさらに安定させる目的で、30℃〜60℃の恒温槽内で数時間〜数日間養生してもよい。   The step (4) of curing the reaction curable adhesive with heat and / or ultraviolet rays or an electron beam can be appropriately selected depending on the curing mechanism of the used adhesive. In the case of curing by heat, it is necessary to apply a sufficient temperature to cure the used adhesive, but it is important not to exceed the heat distortion temperature of the light transmissive support layer (A). When curing is performed with ultraviolet rays or radiation, heat can be applied simultaneously or sequentially. In order to further stabilize the physical properties after curing, curing may be performed for several hours to several days in a thermostatic bath at 30 ° C to 60 ° C.

3.本発明のフィルムロール
本発明のフィルムロールは、幅0.2〜2mかつ長さ10〜1000mの両面導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件(I)及び(II)を満たすフィルムロールである。
(I)前記両面導電性フィルムが、
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成され;かつ
(II)前記フィルムロールにおいて、25mm間隔で5×5の正方格子状に配置された任意の25点において測定して得られる膜厚が、下記式(1)を満たす。
(tmax−tmin)/(tave)×100<2.0 ・・・(1)
(上記においてtmax、tmin及びtaveはそれぞれ、前記25点において測定して得られる膜厚についての最大値、最小値及び平均値である)
上記において、膜厚は、ダイアルゲージで測定して得られるものである。より詳細には、この膜厚は、最小目盛り1μmのダイアルゲージを用いて最小単位0.1μmで測定して得られるものである。
3. Film roll of the present invention The film roll of the present invention is a film roll formed by winding a double-sided conductive film having a width of 0.2 to 2 m and a length of 10 to 1000 m. The following requirements (I) and (II) It is the film roll which satisfy | fills.
(I) The double-sided conductive film is
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive; and (II) obtained by measuring at any 25 points arranged in a 5 × 5 square lattice at 25 mm intervals in the film roll. The film thickness satisfies the following formula (1).
(T max −t min ) / (t ave ) × 100 <2.0 (1)
(In the above, t max , t min, and t ave are the maximum value, minimum value, and average value of the film thickness obtained by measurement at the 25 points, respectively)
In the above, the film thickness is obtained by measuring with a dial gauge. More specifically, this film thickness is obtained by measuring at a minimum unit of 0.1 μm using a dial gauge having a minimum scale of 1 μm.

本発明のフィルムロールは、前記25点において測定して得られる膜厚が、下記式(2)を満たすものであれば好ましい。
(tmax−tmin)/(tave)×100<1.5 ・・・(2)
(上記においてtmax、tmin及びtaveは、式(1)において説明した通りである)。
The film roll of the present invention is preferable if the film thickness obtained by measurement at the 25 points satisfies the following formula (2).
(T max −t min ) / (t ave ) × 100 <1.5 (2)
(In the above, t max , t min, and t ave are as described in Equation (1)).

さらに、本発明のフィルムロールは、前記25点において測定して得られる膜厚が、下記式(3)を満たすものであればより好ましい。
(tmax−tmin)/(tave)×100<1.0 ・・・(3)
(上記においてtmax、tmin及びtaveは、式(1)において説明した通りである)。
Furthermore, the film roll of this invention is more preferable if the film thickness obtained by measuring in said 25 points satisfy | fills following formula (3).
(T max −t min ) / (t ave ) × 100 <1.0 (3)
(In the above, t max , t min, and t ave are as described in Equation (1)).

本発明のフィルムロールは、次のようにして得ることができる。フィルム巻取り式のドライラミネート装置を用い、接着剤を一方の光透過性導電性フィルムに塗布し、乾燥後もう一方の光透過性導電性フィルムと圧着して貼り合わせ、硬化工程を経た後に紙管又はプラスチックコア等に巻取る。巻取った後、必要に応じて、さらにスリッターにより最終形態である幅0.2〜2m、長さ10〜1000mのサイズに裁断してもよい。   The film roll of the present invention can be obtained as follows. Using a film-winding dry laminator, apply adhesive to one light-transmitting conductive film, and after drying, press and bond with the other light-transmitting conductive film, and after passing through a curing process, paper Take up around a tube or plastic core. After winding, if necessary, it may be further cut by a slitter into a final form having a width of 0.2 to 2 m and a length of 10 to 1000 m.

このロール状に巻取った両面導電性フィルムをシート状に裁断した後、必要に応じて種々の加工を施したシート状の両面導電性フィルムを、タッチパネル用の透明電極等として使用できる。   After the double-sided conductive film wound up in a roll shape is cut into a sheet shape, the sheet-like double-sided conductive film subjected to various processing as required can be used as a transparent electrode for a touch panel.

4.本発明のタッチパネル
本発明のタッチパネルは、本発明の両面導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
4). Touch Panel of the Present Invention The touch panel of the present invention includes the double-sided conductive film of the present invention, and further includes other members as necessary.

本発明のタッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層(1)側が操作画面側を、ガラス(5)側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
(1)保護層
(2)本発明の両面導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の両面導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明のタッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the touch panel of the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Double-sided conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Double-sided conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the touch panel of this invention is not specifically limited, For example, it can manufacture by combining said (1)-(5) and another member according to a normal method as needed.

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

1.本発明品の評価は、以下の項目について行った。   1. Evaluation of the product of the present invention was performed on the following items.

1.1 評価項目1.膜厚の均一性
作製した両面導電フィルムの任意の点を起点として、25mm間隔の格子状に5×5の25箇所の点を最小目盛り1μmのダイアルゲージを用いて最小単位0.1μmで測定し、次式により求めたパーセンテージによって膜厚の均一性を評価した。
1.1 Evaluation items Uniformity of film thickness Starting from an arbitrary point on the produced double-sided conductive film, 25 points of 5 × 5 are measured in a grid of 25 mm intervals using a dial gauge with a minimum scale of 1 μm and a minimum unit of 0.1 μm. The film thickness uniformity was evaluated based on the percentage obtained by the following equation.

膜厚均一性%=((tmax−tmin)/tave平均)×100
上記においてtmax、tmin及びtaveはそれぞれ、前記25点において測定して得られる膜厚についての最大値、最小値及び平均値である。
Film thickness uniformity% = ((t max −t min ) / t ave average) × 100
In the above, t max , t min, and t ave are the maximum value, minimum value, and average value of the film thickness obtained by measurement at the 25 points, respectively.

1.2 評価項目2.光学的性能
JIS K7361に準拠した光線透過率計(日本電色工業株式会社 NDH4000)を用いて、全光線透過率を評価した。測定は、任意の5箇所から測定片を切り出して行い、その測定結果の平均値を代表値として評価した。
1.2 Evaluation items Optical performance Total light transmittance was evaluated using a light transmittance meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. NDH4000) based on JIS K7361. Measurement was performed by cutting out measurement pieces from arbitrary five locations, and the average value of the measurement results was evaluated as a representative value.

1.3 評価項目3.タッチパネル操作性
製作したタッチパネルをスマートフォンに設置し、その操作性の官能評価を行った。対象とした操作は、タップ(一点を軽く触れ、すぐ離す)、及びフリック(触れた指を素早く祓う)とし、それぞれの操作に対して、検出の確実性を5段階で官能評価した。
1.3 Evaluation items Touch panel operability The manufactured touch panel was installed in a smartphone, and sensory evaluation of the operability was performed. Target operations were tapping (lightly touching one point and releasing it immediately) and flicking (quickly touching the touched finger), and the sensory evaluation of detection reliability was performed in five stages for each operation.

1.4 評価項目4.金属層と他層の密着性
JIS K−5400−1990の8.5.3付着性碁盤目テープ法に則って試験を行った。3M社製の粘着テープ(商品番号:610)を各フィルムに貼り付け、その後、当該粘着テープを当該フィルムから引き剥がす。これにより層(D)又は層(E)の一部が剥離する程度を指標に評価を行った。具体的には、テープ側に付着した剥離片の外観を観察し、上記JISテープ法に定められる基準に基づいて剥離ランク0〜5のいずれかに該当するかを決定した。「剥離ランク0」は「カットされた縁は完全にスムーズで格子の四角部分は一つも剥がれたりはしていない」状態に該当する。「剥離ランク1」は、「カットの交わったところに小さなフレーク状の剥れが見られる。クロスカットエリアの5%以下が影響を受けている」状態に該当する。「剥離ランク2」は、「縁又はカットが交わる点に沿ってコーティングのフレーク状の剥れが見られる。クロスカットエリアで影響を受けているのは5%以上ではあるが、15%を超えることはない」状態に該当する。「剥離ランク3」は、「カットの縁に沿って部分的又は全体的にリボン状にフレークオフしているか、或いは四角の異なった部分が一部又は全部剥れている。クロスカットエリアの15%以上、35%以下が影響を受けている」状態に該当する。「剥離ランク4」は、「カットの縁に沿ってコーティングが部分的又は全体がリボン状にフレークオフしている。四角部分の一部又は全部が剥がれている。クロスカットエリアの35%以上、65%以上が影響を受けている」状態に該当する。さらに、「剥離ランク5」は、「剥離ランク4にも当てはまらない、それ以上の剥がれが生じている」状態に該当する。
1.4 Evaluation items Adhesion between metal layer and other layer The test was conducted in accordance with 8.5.3 adhesive cross-cut tape method of JIS K-5400-1990. An adhesive tape made by 3M (product number: 610) is attached to each film, and then the adhesive tape is peeled off from the film. Thus, evaluation was performed using the degree to which a part of the layer (D) or the layer (E) peeled as an index. Specifically, the appearance of the peeled piece adhered to the tape side was observed, and it was determined whether it corresponds to any of the peel ranks 0 to 5 based on the criteria defined in the JIS tape method. “Peeling rank 0” corresponds to a state where “the cut edges are completely smooth and none of the squares of the lattice are peeled off”. “Peeling rank 1” corresponds to a state “a small flake-like peeling is seen at the intersection of cuts. 5% or less of the cross-cut area is affected”. “Peeling rank 2” means that “a flake-like peeling of the coating is seen along the point where the edges or cuts meet. More than 15% are affected in the crosscut area, but more than 15%. It corresponds to the “nothing” state. “Peeling rank 3” is “flakes off partly or entirely along the edge of the cut, or a part of the square is partially or completely peeled off. 15 in the cross cut area % And 35% or less are affected ”. “Peeling rank 4” is “The coating is partially or entirely flaked off along the edge of the cut. Part or all of the square part is peeled off. 35% or more of the cross-cut area, 65% or more are affected ”. Further, the “peeling rank 5” corresponds to a state of “there is no peeling in the peeling rank 4 and further peeling occurs”.

2.1 実施例1.本発明の両面導電性フィルムの作製
光透過性支持層(A)として厚さ50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。このフィルムの波長590nmにおける屈折率をアッベ式屈折率計で測定したところ、1.610であった。
2.1 Example 1 Preparation of Double-sided Conductive Film of the Present Invention A polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was prepared as the light transmissive support layer (A). It was 1.610 when the refractive index in wavelength 590nm of this film was measured with the Abbe refractometer.

この光透過性支持層(A)に対して、DCマグネトロンスパッタ装置を用いて片面にSn添加量5重量%のITOからなる光透過性導電層(B)を形成し、光透過性支持層(A)及び光透過性導電層(B)を含有する光透過性導電フィルム2枚を得た。   A light transmissive conductive layer (B) made of ITO with an Sn addition amount of 5% by weight is formed on one surface of the light transmissive support layer (A) using a DC magnetron sputtering apparatus. Two light transmissive conductive films containing A) and a light transmissive conductive layer (B) were obtained.

この光透過性導電フィルムの垂直断面を透過型電子顕微鏡で観察した結果、その膜厚(ITO層の厚さ)は30nmであった。またこの光透過性導電フィルムの表面電気抵抗値を表面抵抗計により測定したところ、200Ω/□であった。   As a result of observing a vertical cross section of the light transmissive conductive film with a transmission electron microscope, the film thickness (thickness of the ITO layer) was 30 nm. Moreover, it was 200 ohms / square when the surface electrical resistance value of this light transmissive conductive film was measured with the surface resistance meter.

次に接着剤層(C)として熱硬化性接着剤主剤(三井化学株式会社製、製品名:タケラックA520)及び硬化剤(三井化学株式会社製、製品名:タケネートA50)を重量比6:1で混合し、さらにエチルアセテートにより固形分濃度25重量%となるよう希釈して接着剤溶液を調製した。この接着剤溶液を、前記光透過性導電フィルムのうち1枚の光透過性支持層(A)側の面に概ね12g/mの塗布量となるよう、メイヤーバー#8を用いて塗布し、80℃に調整された熱風乾燥機内で1分間乾燥し、溶剤を除去した。さらに、この接着剤層(C)側の面に対し、もう1枚の前記光透過性導電フィルムの光透過性支持層(A)側の面を貼合し、再び前述の熱風乾燥機内で30分間保持した後、45℃で96時間の養生を行い、本発明の両面導電性フィルムを得た。 Next, a thermosetting adhesive main agent (manufactured by Mitsui Chemicals, product name: Takelac A520) and a curing agent (manufactured by Mitsui Chemicals, product name: Takenate A50) are used as the adhesive layer (C) in a weight ratio of 6: 1. And further diluted with ethyl acetate to a solid content concentration of 25% by weight to prepare an adhesive solution. This adhesive solution was applied to the surface of one light transmissive support layer (A) of the light transmissive conductive film using a Mayer bar # 8 so that the amount applied was approximately 12 g / m 2. Then, it was dried in a hot air dryer adjusted to 80 ° C. for 1 minute to remove the solvent. Further, the light-transmitting support layer (A) side surface of the other light-transmitting conductive film is bonded to the surface on the adhesive layer (C) side, and again in the above-described hot air dryer. After holding for a minute, curing was performed at 45 ° C. for 96 hours to obtain a double-sided conductive film of the present invention.

このようにして得られた両面導電性フィルムの接着剤層(C)の厚さを断面観察により測定したところ、概ね2.8μmであった。   When the thickness of the adhesive layer (C) of the double-sided conductive film thus obtained was measured by cross-sectional observation, it was approximately 2.8 μm.

接着剤層(C)の特性を次のようにして評価した。上記の接着剤溶液を離型フィルム上に流展し、乾燥硬化させて試料片を得た。硬化条件及び養生条件は、上記両面導電性フィルムの製造時の条件と同一とした。得られた試料片を元に弾性率及び屈折率を測定した結果、弾性率200MPa、屈折率1.560であった。   The properties of the adhesive layer (C) were evaluated as follows. The above adhesive solution was cast on a release film and dried and cured to obtain a sample piece. The curing conditions and curing conditions were the same as the conditions for manufacturing the double-sided conductive film. As a result of measuring the elastic modulus and the refractive index based on the obtained sample piece, the elastic modulus was 200 MPa and the refractive index was 1.560.

タッチパネルを次のようにして作製した。上記により作製した両面導電性フィルムの光透過性導電層(A)に対し熱風式乾燥機を用いて150℃60分の結晶化処理を行った後、ケミカルエッチング法を用いて静電容量型タッチパネルとして一般的に用いられるパターニングを施し、3.5インチディスプレイ用の上下タッチパネル電極に加工した。続いて銀インキによる配線の印刷、上下タッチパネル電極フィルムの貼り合わせ、及び駆動素子への接続を行い、タッチパネルを完成した。   A touch panel was produced as follows. The light-transmitting conductive layer (A) of the double-sided conductive film produced as described above is subjected to a crystallization treatment at 150 ° C. for 60 minutes using a hot air dryer, and then a capacitive touch panel using a chemical etching method. Patterning generally used as the above, and processed into upper and lower touch panel electrodes for 3.5 inch display. Subsequently, the wiring was printed with silver ink, the upper and lower touch panel electrode films were bonded together, and the connection to the driving element was performed to complete the touch panel.

評価結果を表1に示す。なお、各評価は、上記のようにして本発明の両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 1. In addition, each evaluation produced 5 samples of the double-sided conductive film of this invention as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

2.2 実施例2
各条件を以下の通りとした他はすべて実施例1と同様にして本発明の両面導電性フィルムを得た。
2.2 Example 2
A double-sided conductive film of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the conditions were as follows.

光透過性支持層(A)の上に、ハードコート層(D)、下地層(F)及び光透過性導電層(B)を順次積層し、光透過性導電フィルム2枚を得てから、溶剤型ドライラミネート法によりこれらをラミネートした。   On the light transmissive support layer (A), a hard coat layer (D), a base layer (F) and a light transmissive conductive layer (B) are sequentially laminated to obtain two light transmissive conductive films, These were laminated by a solvent-type dry laminating method.

2.2.1 光透過性支持層(A)
材料:ポリシクロオレフィンフィルム
厚さ:50μm
幅:1000mm
長さ:1000m
屈折率:1.540
2.2.2 ハードコート層(D)
材料:東洋インキ株式会社 TYZシリーズ、加工装置:UV照射装置付きスロットダイコーター)
厚さ:2μm(両面とも)
2.2.3 下地層(F)
材料:SiO
厚さ:30nm
形成方法:DCマグネトロンスパッタ装置、酸素導入反応スパッタリング
2.2.4 光透過性導電層(B)
材料:ITO(Sn7wt%)
厚さ:20nm
形成方法:DCマグネトロンスパッタ装置、酸素導入反応スパッタリング
2.2.5 接着剤層(C)
光透過性支持層(A)の上に、ハードコート層(D)、下地層(F)及び光透過性導電層(B)を順次積層して得られた光透過性導電フィルムを500m巻2本に分割した。溶剤型ドライラミネート法によりこれらをラミネートした。接着剤層(C)の厚さを2μmとなるようにした。接着剤層の材料としては、実施例1と同じものを用いた。加工装置として、ダイレクトグラビアヘッド付き溶剤型ドライラミネーターを用いた。接着剤層(C)の屈折率は1.560であった。
2.2.1 Light transmissive support layer (A)
Material: Polycycloolefin film Thickness: 50 μm
Width: 1000mm
Length: 1000m
Refractive index: 1.540
2.2.2 Hard coat layer (D)
Material: Toyo Ink Co., Ltd. TYZ series, Processing device: Slot die coater with UV irradiation device)
Thickness: 2μm (both sides)
2.2.3 Underlayer (F)
Material: SiO x
Thickness: 30nm
Formation method: DC magnetron sputtering apparatus, oxygen-introduced reactive sputtering 2.2.4 Light-transmissive conductive layer (B)
Material: ITO (Sn7wt%)
Thickness: 20nm
Formation method: DC magnetron sputtering apparatus, oxygen-introduced reactive sputtering 2.2.5 Adhesive layer (C)
A light-transmitting conductive film obtained by sequentially laminating a hard coat layer (D), a base layer (F) and a light-transmitting conductive layer (B) on the light-transmitting support layer (A) Divided into books. These were laminated by a solvent-type dry laminating method. The thickness of the adhesive layer (C) was set to 2 μm. As the material for the adhesive layer, the same material as in Example 1 was used. A solvent type dry laminator with a direct gravure head was used as a processing apparatus. The refractive index of the adhesive layer (C) was 1.560.

2.2.6 養生
50℃で72時間行った。
2.2.6 Curing The test was performed at 50 ° C. for 72 hours.

評価結果を表1に示す。なお、各評価は、上記のようにして本発明の両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 1. In addition, each evaluation produced 5 samples of the double-sided conductive film of this invention as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

2.3 実施例3
各条件を以下の通りとした他はすべて実施例1と同様にして本発明の両面導電性フィルムを得た。
2.3 Example 3
A double-sided conductive film of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the conditions were as follows.

光透過性支持層(A)の上に、光透過性導電層(B)を積層し、光透過性導電フィルム2枚を得てから、溶剤型ドライラミネート法によりこれらをラミネートした。   The light transmissive conductive layer (B) was laminated on the light transmissive support layer (A) to obtain two light transmissive conductive films, and these were laminated by a solvent-type dry laminating method.

2.3.1 光透過性支持層(A)
材料:ポリエチレンテレフタレートフィルム
厚さ:75μm
幅:1000mm
長さ:1000m
2.3.1 Light transmissive support layer (A)
Material: Polyethylene terephthalate film Thickness: 75μm
Width: 1000mm
Length: 1000m

2.3.2 接着剤層(C)
光透過性支持層(A)の上に、光透過性導電層(B)を積層して得られた光透過性導電フィルムを500m2本に分割した。溶剤型ドライラミネート法によりこれらをラミネートした。ウレタン系ドライラミネート用接着剤(東洋モートン社製「TM−K51」)と、硬化剤「CAT−RT85」とを100:15の質量比率で混合し、さらにこれをエチルアセテートで固形分20重量%となるよう希釈してダイレクトグラビアヘッド付き溶剤型ドライラミネーターで2枚の光透過性導電フィルムの一方の面にそれぞれ塗布した後にそれらの面を互いに貼り合わせた。2枚の光透過性導電フィルムの間の接着剤層(C)の厚さは、3.0μm、屈折率は1.555であった。
2.3.2 Adhesive layer (C)
The light transmissive conductive film obtained by laminating the light transmissive conductive layer (B) on the light transmissive support layer (A) was divided into 500 m 2 pieces. These were laminated by a solvent-type dry laminating method. A urethane-based dry laminate adhesive (“TM-K51” manufactured by Toyo Morton Co., Ltd.) and a curing agent “CAT-RT85” were mixed at a mass ratio of 100: 15, and this was further mixed with ethyl acetate to a solid content of 20% by weight. After being diluted with the solvent-type dry laminator with a direct gravure head and applied to one surface of each of the two light transmissive conductive films, the surfaces were bonded to each other. The thickness of the adhesive layer (C) between the two light transmissive conductive films was 3.0 μm, and the refractive index was 1.555.

養生は、50℃、120時間で行った。   Curing was performed at 50 ° C. for 120 hours.

2.4 実施例4
実施例1で作製した両面導電フィルムの光透過性導電層(B)の表面にDCマグネトロンスパッタ装置を用いて銅薄膜を150nmの厚さで被覆することにより、金属層(E)を配置した両面導電フィルムを得た。
2.4 Example 4
Both surfaces on which the metal layer (E) is disposed by coating the surface of the light transmissive conductive layer (B) of the double-sided conductive film prepared in Example 1 with a thickness of 150 nm using a DC magnetron sputtering apparatus. A conductive film was obtained.

その金属層(E)と光透過性導電層(B)の密着性をJIS K5400に示されている方法に準拠して評価した。   The adhesion between the metal layer (E) and the light-transmitting conductive layer (B) was evaluated according to the method described in JIS K5400.

評価結果を表2に示す。なお、各評価は、上記のようにして本発明の両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 2. In addition, each evaluation produced 5 samples of the double-sided conductive film of this invention as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

3.1 比較例1
各条件を以下の通りとした他はすべて実施例1と同様にして両面導電性フィルムを得た。
3.1 Comparative Example 1
A double-sided conductive film was obtained in the same manner as Example 1 except that the conditions were as follows.

3.1.1 接着剤層(C)
高透明粘着テープ(3M 製品番号8146−1;厚さ約25μm;屈折率1.480;弾性率(参考値)1.0MPa)を用いた。
3.1.1 Adhesive layer (C)
A highly transparent adhesive tape (3M product number 8146-1; thickness of about 25 μm; refractive index 1.480; elastic modulus (reference value) 1.0 MPa) was used.

3.1.2 養生
室温で24時間行った。
3.1.2 Curing 24 hours at room temperature.

評価結果を表1に示す。なお、各評価は、上記のようにして両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 1. In addition, each evaluation produced 5 double-sided conductive films as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

3.2 比較例2
各条件を以下の通りとした他はすべて実施例2と同様にして両面導電性フィルムを得た。
3.2 Comparative Example 2
A double-sided conductive film was obtained in the same manner as in Example 2 except that the conditions were as follows.

3.2.1 光透過性導電層(B)
実施例1と同じとした。
3.2.1 Light transmissive conductive layer (B)
Same as Example 1.

3.2.2 接着剤層(C)
高透明粘着テープ(リンテック(株) 製品番号TL−410S−02;厚さ約12μm;屈折率1.490;弾性率(参考値)2.2MPa)を用いた。
3.2.2 Adhesive layer (C)
A highly transparent adhesive tape (Lintech Co., Ltd., product number TL-410S-02; thickness of about 12 μm; refractive index 1.490; elastic modulus (reference value) 2.2 MPa) was used.

3.2.3 養生
室温で48時間行った。
3.2.3 Curing 48 hours at room temperature.

評価結果を表1に示す。なお、各評価は、上記のようにして両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 1. In addition, each evaluation produced 5 double-sided conductive films as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

3.3 比較例3
各条件を以下の通りとした他はすべて実施例1と同様にして両面導電性フィルムを得た。
3.3 Comparative Example 3
A double-sided conductive film was obtained in the same manner as Example 1 except that the conditions were as follows.

3.3.1 光透過性支持層(A)
比較例1と同じとした。
3.3.1 Light transmissive support layer (A)
The same as Comparative Example 1.

3.3.2 下地層(F)
比較例1と同じとした。
3.3.2 Underlayer (F)
The same as Comparative Example 1.

3.3.3 光透過性導電層(B)
比較例1と同じとした。
3.3.3 Light transmissive conductive layer (B)
The same as Comparative Example 1.

3.3.4 接着剤層(C)
比較例1と同じとした。
3.3.4 Adhesive layer (C)
The same as Comparative Example 1.

3.3.5 養生
比較例1と同じとした。
3.3.5 Curing It was the same as Comparative Example 1.

3.3.6 メタル加工
実施例4と同じとした。
3.3.6 Metalworking Same as Example 4.

評価結果を表2に示す。なお、各評価は、上記のようにして両面導電性フィルムを5試料作製し、これら5試料についてそれぞれ行った。   The evaluation results are shown in Table 2. In addition, each evaluation produced 5 double-sided conductive films as mentioned above, and performed each about these 5 samples.

Figure 2014136386
Figure 2014136386

Figure 2014136386
Figure 2014136386

1 両面導電性フィルム
11 光透過性導電性フィルム
111 光透過性支持層(A)
112 光透過性導電層(B)
113 ハードコート層(D)
12 接着剤層(C)
1 Double-sided conductive film 11 Light-transmissive conductive film 111 Light-transmissive support layer (A)
112 Light transmissive conductive layer (B)
113 Hard coat layer (D)
12 Adhesive layer (C)

Claims (8)

それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成される
ことを特徴とする、両面導電性フィルム。
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The double-sided conductive film, wherein the adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive.
二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、前記反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせることにより得られうる、請求項1に記載の両面導電性フィルム。 The double-sided conductive film according to claim 1, which can be obtained by bonding the two light-transmitting conductive films to each other by a dry laminating method using the reaction curable adhesive. 前記接着剤層(C)の厚さが、1〜10μmである、請求項1又は2に記載の両面導電性フィルム。 The double-sided conductive film according to claim 1 or 2, wherein the adhesive layer (C) has a thickness of 1 to 10 µm. さらに、
(D)ハードコート層
を含有し、前記ハードコート層(D)が、前記光透過性支持層(A)と前記光透過性導電層(B)の間に配置されている、請求項1〜3のいずれかに記載の両面導電性フィルム。
further,
(D) It contains a hard coat layer, and the hard coat layer (D) is disposed between the light transmissive support layer (A) and the light transmissive conductive layer (B). 4. The double-sided conductive film according to any one of 3 above.
少なくとも一方の面に、
(E)金属層
が配置されている、請求項1〜4のいずれかに記載の両面導電性フィルム。
On at least one side,
(E) The double-sided conductive film according to any one of claims 1 to 4, wherein a metal layer is disposed.
幅0.2〜2mかつ長さ10〜1000mの両面導電性フィルムを巻き取ってなるフィルムロールであって、以下の要件(I)及び(II)を満たすフィルムロール:
(I)前記両面導電性フィルムが、
それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムであって、
接着剤層(C)が、反応硬化型接着剤から形成され;かつ
(II)前記フィルムロールにおいて、25mm間隔で5×5の正方格子状に配置された任意の25点において測定して得られる膜厚が、下記式(1)を満たす。
(tmax−tmin)/(tave)×100<2.0 ・・・(1)
(上記においてtmax、tmin及びtaveはそれぞれ、前記25点において測定して得られる膜厚についての最大値、最小値及び平均値である)
A film roll formed by winding a double-sided conductive film having a width of 0.2 to 2 m and a length of 10 to 1000 m, and satisfying the following requirements (I) and (II):
(I) The double-sided conductive film is
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A double-sided conductive film adjacent through layers,
The adhesive layer (C) is formed from a reactive curable adhesive; and (II) obtained by measuring at any 25 points arranged in a 5 × 5 square lattice at 25 mm intervals in the film roll. The film thickness satisfies the following formula (1).
(T max −t min ) / (t ave ) × 100 <2.0 (1)
(In the above, t max , t min, and t ave are the maximum value, minimum value, and average value of the film thickness obtained by measurement at the 25 points, respectively)
請求項1〜5のいずれかに記載の両面導電性フィルムを含有する、タッチパネル。 A touch panel comprising the double-sided conductive film according to claim 1. それぞれ、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する二つの光透過性導電性フィルムの光透過性支持層(A)側の面同士が、互いに
(C)接着剤層
を介して隣接している両面導電性フィルムの製造方法であって、
二つの前記光透過性導電性フィルム同士を、反応硬化型接着剤を用いたドライラミネート法により貼り合わせる工程
を含有する方法。
Each,
(A) Light transmissive support layer; and (B) Light transmissive support layer (A) side surfaces of two light transmissive conductive films containing the light transmissive conductive layer are mutually (C) adhesive. A method for producing a double-sided conductive film adjacent through a layer,
A method comprising a step of bonding the two light-transmitting conductive films to each other by a dry laminating method using a reaction curable adhesive.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017059231A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 現代自動車株式会社Hyundai Motor Company Touch input device and manufacturing method therefor
WO2018179893A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 Optical film, and front panel of image display device, image display device, mirror with image display function, resistive touch panel and capacitive touch panel each of which comprises said optical film

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883515A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Fujimori Kogyo Kk Transparent conductive sheet
JP2005144858A (en) * 2003-11-14 2005-06-09 Nitto Denko Corp Method for producing transparent conductive film
WO2011065032A1 (en) * 2009-11-27 2011-06-03 凸版印刷株式会社 Transparent conductive laminate, method for producing same, and electrostatic capacitance type touch panel
JP2011129272A (en) * 2009-12-15 2011-06-30 Nissha Printing Co Ltd Double-sided transparent conductive film sheet and method of manufacturing the same
JP2013089007A (en) * 2011-10-18 2013-05-13 Nitto Denko Corp Transparent conductive film

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0883515A (en) * 1994-09-13 1996-03-26 Fujimori Kogyo Kk Transparent conductive sheet
JP2005144858A (en) * 2003-11-14 2005-06-09 Nitto Denko Corp Method for producing transparent conductive film
WO2011065032A1 (en) * 2009-11-27 2011-06-03 凸版印刷株式会社 Transparent conductive laminate, method for producing same, and electrostatic capacitance type touch panel
JP2011129272A (en) * 2009-12-15 2011-06-30 Nissha Printing Co Ltd Double-sided transparent conductive film sheet and method of manufacturing the same
JP2013089007A (en) * 2011-10-18 2013-05-13 Nitto Denko Corp Transparent conductive film

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017059231A (en) * 2015-09-15 2017-03-23 現代自動車株式会社Hyundai Motor Company Touch input device and manufacturing method therefor
US11467702B2 (en) 2015-09-15 2022-10-11 Hyundai Motor Company Touch input device and method for manufacturing the same
WO2018179893A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 富士フイルム株式会社 Optical film, and front panel of image display device, image display device, mirror with image display function, resistive touch panel and capacitive touch panel each of which comprises said optical film
JPWO2018179893A1 (en) * 2017-03-30 2019-11-07 富士フイルム株式会社 Optical film and front plate of image display apparatus having the same, image display apparatus, mirror with image display function, resistive touch panel, and capacitive touch panel

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