JP2014135677A5 - - Google Patents

Description

本発明は、光源と、光源からの光の透過を画像信号に基づき変調する光変調素子と、光変調素子を透過した光を投影面に投影する投影光学系と、を有する投影装置であって、
入力される元画像が投影面に投影された場合の投影画像における歪みを補正するために元画像を幾何学的に変形させた補正画像を生成する変形手段と、
元画像に注目領域を設定する設定手段と、
を有し、
前記変形手段は、元画像の注目領域の変形の度合が注目領域以外の領域の変形の度合より小さくなるように元画像の変形を行う投影装置である。

本発明は、光源と、光源からの光の透過を画像信号に基づき変調する光変調素子と、光変調素子を透過した光を投影面に投影する投影光学系と、を有する投影装置の制御方法で
あって、
入力される元画像が投影面に投影された場合の投影画像における歪みを補正するために元画像を幾何学的に変形させた補正画像を生成する変形工程と、
元画像に注目領域を設定する設定工程と、
を有し、
前記変形工程では、元画像の注目領域の変形の度合が注目領域以外の領域の変形の度合より小さくなるように元画像の変形を行う投影装置の制御方法である。

Claims (20)

1. 光源と、光源からの光の透過を画像信号に基づき変調する光変調素子と、光変調素子を透過した光を投影面に投影する投影光学系と、を有する投影装置であって、
   入力される元画像が投影面に投影された場合の投影画像における歪みを補正するために元画像を幾何学的に変形させた補正画像を生成する変形手段と、
   元画像に注目領域を設定する設定手段と、
   を有し、
   前記変形手段は、元画像の注目領域の変形の度合が注目領域以外の領域の変形の度合より小さくなるように元画像の変形を行う投影装置。
2. 前記変形手段は、元画像の注目領域に対する、補正画像において当該注目領域に対応する領域の変形率が、元画像の注目領域以外の領域に対する、補正画像において当該注目領域以外の領域に対応する領域の変形率と比べて、より１に近くなるように、元画像に対する変形を行う請求項１に記載の投影装置。
3. 前記変形率は、元画像の注目領域に含まれる２つの画素の距離と、補正画像において当該２つの画素に対応する２つの画素の距離と、の比率に基づき求められる請求項２に記載の投影装置。
4. 前記変形率は、元画像の注目領域の面積と、補正画像において当該注目領域に対応する領域の面積と、の比率に基づき求められる請求項２に記載の投影装置。
5. 前記変形手段は、元画像の左辺及び右辺の画素であって、元画像の注目領域の所定の画素と縦方向の位置が同じである画素を基準画素とし、元画像の左辺及び右辺における基準画素の位置関係と、補正画像が投影面に投影された場合の投影画像である補正後投影画像の左辺及び右辺における前記基準画素に対応する画素の位置関係と、が同じになるように、元画像を変形する請求項１〜４のいずれか１項に記載の投影装置。
6. 前記変形手段は、元画像の注目領域の所定の画素を基準画素、補正画像において当該基準画素に対応する画素を補正基準画素とし、元画像の投影画像において前記基準画素に対応する画素の位置と、補正画像が投影面に投影された場合の投影画像である補正後投影画
   像において前記補正基準画素に対応する画素の位置と、が同じになるように、元画像を変形する請求項１〜４のいずれか１項に記載の投影装置。
7. 前記変形手段は、元画像の大きさが前記光変調素子の表示可能領域より小さく、かつ、補正画像の全ての画素が前記光変調素子の表示可能領域に入る場合、前記光変調素子の画素のうち元画像を表示する場合には使用されない画素も用いて補正画像の表示を行うことを許容するように、元画像を変形する請求項１〜６のいずれか１項に記載の投影装置。
8. 前記変形手段は、補正画像の画素のうち前記光変調素子の表示可能領域に入らない画素がある場合、当該画素を範囲外画素とし、元画像において当該範囲外画素に対応する画素を包含する領域を背景処理領域として定め、元画像に対し、当該背景処理領域の画素を所定の画素値の画素で置き換える背景処理を行い、背景処理後の元画像に対して変形を行う請求項１〜７のいずれか１項に記載の投影装置。
9. 前記変形手段は、補正画像の画素のうちに前記光変調素子の表示可能領域に入らない画素がある場合、補正画像の全ての画素が前記光変調素子の表示可能領域に入るように元画像に対し縮小処理を行い、縮小処理後の元画像に対して変形を行う請求項１〜７のいずれか１項に記載の投影装置。
10. 前記設定手段は、元画像を複数のブロックに分割し、ブロックごとに画像の特徴量を取得し、取得した特徴量に基づき１又は複数のブロックを注目領域として設定する請求項１〜９のいずれか１項に記載の投影装置。
11. 光源と、光源からの光の透過を画像信号に基づき変調する光変調素子と、光変調素子を透過した光を投影面に投影する投影光学系と、を有する投影装置の制御方法であって、
    入力される元画像が投影面に投影された場合の投影画像における歪みを補正するために元画像を幾何学的に変形させた補正画像を生成する変形工程と、
    元画像に注目領域を設定する設定工程と、
    を有し、
    前記変形工程では、元画像の注目領域の変形の度合が注目領域以外の領域の変形の度合より小さくなるように元画像の変形を行う投影装置の制御方法。
12. 前記変形工程では、元画像の注目領域に対する、補正画像において当該注目領域に対応する領域の変形率が、元画像の注目領域以外の領域に対する、補正画像において当該注目領域以外の領域に対応する領域の変形率と比べて、より１に近くなるように、元画像に対する変形を行う請求項１１に記載の投影装置の制御方法。
13. 前記変形率は、元画像の注目領域に含まれる２つの画素の距離と、補正画像において当該２つの画素に対応する２つの画素の距離と、の比率に基づき求められる請求項１２に記載の投影装置の制御方法。
14. 前記変形率は、元画像の注目領域の面積と、補正画像において当該注目領域に対応する領域の面積と、の比率に基づき求められる請求項１２に記載の投影装置の制御方法。
15. 前記変形工程では、元画像の左辺及び右辺の画素であって、元画像の注目領域の所定の画素と縦方向の位置が同じである画素を基準画素とし、元画像の左辺及び右辺における基準画素の位置関係と、補正画像が投影面に投影された場合の投影画像である補正後投影画像の左辺及び右辺における前記基準画素に対応する画素の位置関係と、が同じになるように、元画像を変形する請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。
16. 前記変形工程では、元画像の注目領域の所定の画素を基準画素、補正画像において当該基準画素に対応する画素を補正基準画素とし、元画像の投影画像において前記基準画素に対応する画素の位置と、補正画像が投影面に投影された場合の投影画像である補正後投影画像において前記補正基準画素に対応する画素の位置と、が同じになるように、元画像を変形する請求項１１〜１４のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。
17. 前記変形工程では、元画像の大きさが前記光変調素子の表示可能領域より小さく、かつ、補正画像の全ての画素が前記光変調素子の表示可能領域に入る場合、前記光変調素子の画素のうち元画像を表示する場合には使用されない画素も用いて補正画像の表示を行うことを許容するように、元画像を変形する請求項１１〜１６のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。
18. 前記変形工程では、補正画像の画素のうち前記光変調素子の表示可能領域に入らない画素がある場合、当該画素を範囲外画素とし、元画像において当該範囲外画素に対応する画素を包含する領域を背景処理領域として定め、元画像に対し、当該背景処理領域の画素を所定の画素値の画素で置き換える背景処理を行い、背景処理後の元画像に対して変形を行う請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。
19. 前記変形工程では、補正画像の画素のうちに前記光変調素子の表示可能領域に入らない画素がある場合、補正画像の全ての画素が前記光変調素子の表示可能領域に入るように元画像に対し縮小処理を行い、縮小処理後の元画像に対して変形を行う請求項１１〜１７のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。
20. 前記設定工程では、元画像を複数のブロックに分割し、ブロックごとに画像の特徴量を取得し、取得した特徴量に基づき１又は複数のブロックを注目領域として設定する請求項１１〜１９のいずれか１項に記載の投影装置の制御方法。