JP2014126454A - Capacitance type detection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、静電容量式検出装置に関する。 The present invention relates to a capacitance type detection device.
従来から、対象物の変位を求める静電容量式の検出装置が知られており、例えば特許文献1に開示されている。特許文献1に記載の静電容量式変位センサは、固定電極と、固定電極に対して相対的に平行移動可能に対向配置された可動電極と、強誘電体板とを備える。固定電極は、強誘電体板の一面に形成され、可動電極は、強誘電体板の他面上に摺接可能に配置されている。そして、測定子に連動して可動電極が強誘電体板上を相対移動することによる可動電極と固定電極とのオーバーラップ面積の変化から、静電容量の変化を検出する。この静電容量の変化により、測定子の移動距離を検出する。
2. Description of the Related Art Conventionally, a capacitance type detection device that obtains displacement of an object is known, and is disclosed in, for example,
しかしながら、上記従来例では、強誘電体板上を可動電極(移動体)が摺動する構成となっている。このため、可動電極が強誘電体板に引っ掛かる等して可動電極の移動が妨げられ、応答性が劣化する虞がある。また、可動電極が強誘電体上を摺動することにより、摩耗粉が発生する虞がある。 However, in the above conventional example, the movable electrode (moving body) slides on the ferroelectric plate. For this reason, the movement of the movable electrode is hindered by the movable electrode being caught on the ferroelectric plate, and the responsiveness may be deteriorated. Moreover, there is a possibility that abrasion powder is generated when the movable electrode slides on the ferroelectric.
この問題を解決すべく、可動電極と強誘電体板との間に空隙を設けることが考えられる。しかしながら、この場合には、装置を取り付けるとき、或いは装置に外部から振動が加えられるときに、可動電極及び強誘電体板の取付位置にばらつきが生じる虞がある。取付位置にばらつきが生じると、ばらつきに依って可動電極と固定電極(検出電極)との間の静電容量が変動するため、可動電極の変位を精度良く求めることができないという問題がある。 In order to solve this problem, it is conceivable to provide a gap between the movable electrode and the ferroelectric plate. However, in this case, when the device is attached or when vibration is applied to the device from the outside, there is a possibility that the attachment position of the movable electrode and the ferroelectric plate may vary. If the mounting position varies, the capacitance between the movable electrode and the fixed electrode (detection electrode) varies depending on the variation, and thus there is a problem that the displacement of the movable electrode cannot be obtained with high accuracy.
本発明は、上記の点に鑑みて為されたもので、移動体と検出電極との間に空隙を設けても移動体の変位を精度良く求めることのできる静電容量式検出装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above points, and provides a capacitance type detection device that can accurately determine the displacement of a moving body even when a gap is provided between the moving body and a detection electrode. For the purpose.
本発明の静電容量式検出装置は、対象物と共に一の方向に沿って移動する移動体と、前記移動体を挟み込む形で配置され且つ前記移動体とそれぞれ離間する1対の検出電極とを備え、前記移動体を、その前記一の方向に沿った変位に伴って前記各検出電極との間の静電容量が変化する形状に形成し、前記移動体及び前記各検出電極を、前記一の方向と直交する方向に沿った所定範囲での相対的な変位によっては対向面積が変化しない寸法で形成することを特徴とする。 The capacitance type detection device of the present invention includes a moving body that moves along a direction along with an object, and a pair of detection electrodes that are arranged so as to sandwich the moving body and are spaced apart from the moving body. The movable body is formed into a shape in which the capacitance between the movable body and the detection electrodes changes in accordance with the displacement along the one direction. The opposing area is not changed by a relative displacement in a predetermined range along a direction orthogonal to the direction of the above.
この静電容量式検出装置において、前記各検出電極を同電位に接続することが好ましい。 In this capacitance type detection device, it is preferable that the detection electrodes are connected to the same potential.
この静電容量式検出装置において、前記各検出電極は、リジッド基板から成る複数の基板を積層して成る1対の多層基板にそれぞれ設けられ、且つ前記各検出電極を前記多層基板のうち内側の前記基板に形成することが好ましい。 In this capacitance type detection device, each of the detection electrodes is provided on a pair of multilayer substrates formed by laminating a plurality of substrates made of rigid substrates, and each of the detection electrodes is disposed on the inner side of the multilayer substrate. It is preferable to form on the substrate.
この静電容量式検出装置において、前記リジッド基板は、セラミック基板から成ることが好ましい。 In this capacitance type detection device, the rigid substrate is preferably made of a ceramic substrate.
この静電容量式検出装置において、前記各多層基板の少なくとも一部を樹脂製のケースに一体成形することが好ましい。 In this capacitance type detection device, it is preferable that at least a part of each of the multilayer substrates is integrally formed in a resin case.
この静電容量式検出装置において、前記各検出電極と電気的に接続される金属板から成る端子を有し、前記各検出電極と電気的に接続される電極パターンに前記端子を溶接して接続することが好ましい。 In this capacitance type detection device, the detection device has a terminal made of a metal plate electrically connected to each detection electrode, and the terminal is welded and connected to an electrode pattern electrically connected to each detection electrode. It is preferable to do.
この静電容量式検出装置において、前記各検出電極を挟んだ前記移動体とは反対側の位置に、それぞれシールド電極を配置することが好ましい。 In this capacitance type detection device, it is preferable that a shield electrode is disposed at a position opposite to the moving body with the detection electrodes interposed therebetween.
この静電容量式検出装置において、前記各検出電極はそれぞれ金属板から成り、前記金属板の少なくとも一部を樹脂製のケースに一体成形することが好ましい。 In this capacitance type detection device, each of the detection electrodes is preferably made of a metal plate, and at least a part of the metal plate is preferably integrally formed in a resin case.
この静電容量式検出装置において、前記金属板のうち前記ケースから露出した部位の表面は、絶縁体で覆われることが好ましい。 In this capacitance type detection device, it is preferable that a surface of a portion of the metal plate exposed from the case is covered with an insulator.
本発明は、移動体及び各検出電極を、移動体の変位する一の方向と直交する方向に沿った所定範囲での相対的な変位によっては対向面積が変化しない寸法で形成している。また、本発明では、移動体を1対の検出電極で挟み込み、且つ移動体と各検出電極との間に所定の間隔を空けている。このため、本発明では、移動体及び各検出電極の取付位置にばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量の変動が殆どない。したがって、本発明では、移動体と各検出電極との間に空隙を設けても移動体の変位を精度良く求めることができる。 In the present invention, the movable body and each detection electrode are formed with dimensions such that the facing area does not change depending on a relative displacement in a predetermined range along a direction orthogonal to the direction in which the movable body is displaced. In the present invention, the moving body is sandwiched between a pair of detection electrodes, and a predetermined interval is provided between the moving body and each detection electrode. For this reason, in the present invention, even if the mounting position of the moving body and each detection electrode varies, there is almost no variation in capacitance due to the variation. Therefore, in the present invention, even if a gap is provided between the moving body and each detection electrode, the displacement of the moving body can be obtained with high accuracy.
(実施形態1)
以下、本発明に係る静電容量式検出装置の実施形態1について図面を用いて説明する。なお、以下の説明では、図1(a)に示す矢印によりx方向、y方向、z方向を規定する。本実施形態は、図1に示すように、移動体1と、1対の検出電極2A,2Bとを備える。
(Embodiment 1)
Hereinafter, a capacitive detection device according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the x direction, the y direction, and the z direction are defined by arrows shown in FIG. As shown in FIG. 1, the present embodiment includes a moving
移動体1は、金属板から成り、変位を求める対象物(図示せず)に取り付けられる。なお、移動体1は、対象物に中間部材(図示せず)を介して取り付けられてもよいし、対象物に直接取り付けられてもよい。更には、移動体1が対象物の一部であってもよい。移動体1は、対象物と共にx方向(一の方向)に沿って移動する。したがって、この移動体1の変位を求めることで、対象物の変位を求めることができる。
The moving
移動体1は、平面視で矩形状の第1部位10と、第1部位10からx方向に沿って突出する第2部位11とを一体に形成して成る。第2部位11は、そのy方向の幅寸法がx方向に沿って連続的に変化する形状に形成している。本実施形態では、移動体1の第2部位11が各検出電極2A,2Bと対向する範囲が、移動体1のx方向の変位を求める有効範囲となる。
The moving
検出電極2A,2Bは、何れもy方向に長尺な平面視で矩形状の金属板から成る。各検出電極2A,2Bは、z方向に沿って所定の間隔を空けて配置される。移動体1は、これら検出電極2A,2Bに挟まれた空間内を進退自在に移動するように配置され、移動体1と各検出電極2A,2Bとの間もそれぞれ所定の間隔を空けている。各検出電極2A,2B間の静電容量C0は、移動体1のx方向の変位によって増減する。すなわち、移動体1のx方向変位により、各検出電極2A,2Bの移動体1と対向する面積が増減するため、静電容量C0も増減する。
Each of the
この静電容量C0を外部の処理部(図示せず)で検出し、処理することにより、移動体1のx方向の変位を求めることができる。例えば、処理部は、静電容量C0を電圧に変換するCV変換回路(図示せず)と、当該電圧の増減に基づいて移動体1のx方向の変位を演算する演算回路(図示せず)とで構成することができる。勿論、処理部の構成はこれに限定されず、静電容量C0に基づいて移動体1のx方向の変位を求めるものであれば他の構成でもよい。
By detecting and processing this electrostatic capacity C0 by an external processing unit (not shown), the displacement of the moving
なお、移動体1の形状は本実施形態の形状に限定されるものではなく、有効範囲内において、移動体1のx方向の変位に伴って静電容量C0が増減する形状であればよい。また、移動体1は、必ずしも有効範囲内において途切れることなく連続した形状である必要はなく、複数に分割したものであってもよい。この構成であっても、有効範囲において、移動体1のx方向の変位に伴って静電容量C0がほぼ連続的に変化するため、移動体1の変位を求めることができる。
In addition, the shape of the moving
また、z方向において検出電極2Aを挟んだ移動体1の反対側、及びz方向において検出電極2Bを挟んだ移動体1の反対側には、図示しないが金属パターンから成るシールド電極をそれぞれ設けている。したがって、シールド電極を挟んで各検出電極2A,2Bと反対側の位置に他の物体が存在したとしても、当該物体の存在によって静電容量C0が変化することはない。また、シールド電極を備えることで、ノイズによる静電容量C0の変動も防止することができる。
Further, shield electrodes made of a metal pattern (not shown) are provided on the opposite side of the moving
各検出電極2A,2B及びシールド電極は、絶縁性を有する材料から成るリジッド基板上に形成してもよい。リジッド基板は、フレキシブル基板と比較して剛性が高いので、各検出電極2A,2B及びシールド電極の形状の安定性を向上することができる。また、後述の実施形態3のように、リジッド基板は多層化が容易であるので、シールド電極を配置するのにも適している。
The
また、リジッド基板としてはセラミック基板を用いてもよい。セラミック基板は、耐熱性、剛性に優れた基板であるため、高温下での使用や製造に対しても形状が安定する。また、セラミック基板は、耐薬品性や耐オイル性にも優れた基板であるため、外気に晒された状態での使用にも耐え得る。 A ceramic substrate may be used as the rigid substrate. Since the ceramic substrate is a substrate excellent in heat resistance and rigidity, its shape is stable even when used or manufactured under high temperatures. Further, since the ceramic substrate is a substrate excellent in chemical resistance and oil resistance, it can withstand use in a state exposed to the outside air.
ここで、移動体1と各検出電極2A,2Bとの位置関係は一定であることが望ましい。しかしながら、既に課題でも述べたように、装置を取り付けるとき、或いは装置に外部から振動が加えられるときに、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にばらつきが生じる虞がある。
Here, it is desirable that the positional relationship between the moving
そこで、本実施形態では、各検出電極2A,2Bのy方向の幅寸法W2を移動体1のy方向の幅寸法W1よりも大きくすることで、取付位置のy方向のばらつきによる静電容量C0の変動を抑制している。具体的には、図1(b)に示すように、各検出電極2A,2Bのy方向における一方(同図の右側)の端部が、移動体1のy方向における一方の端部よりも所定寸法δだけ余裕を持つようにしている。同様に、各検出電極2A,2Bのy方向における他方(同図の左側)の端部が、移動体1のy方向における他方の端部よりも所定寸法δだけ余裕を持つようにしている。すなわち、各検出電極2A,2Bのy方向の幅寸法W2が、移動体1のy方向の幅寸法W1よりも2σだけ大きくなっている。
Therefore, in the present embodiment, the capacitance C0 due to the variation in the mounting direction in the y direction is set by making the width dimension W2 in the y direction of each
このため、移動体1と各検出電極2A,2Bとのy方向における相対的な位置が所定寸法δの範囲でずれたとしても、移動体1と各検出電極2A,2Bとの対向面積は不変である。したがって、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にy方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C2の変動が殆どないため、移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
For this reason, even if the relative position in the y direction between the moving
また、本実施形態では、各検出電極2A,2Bで移動体1を挟み込む構成とすることにより、取付位置のz方向のばらつきによる静電容量C0の変動を抑制している。以下、この構成について説明する。
In the present embodiment, the
検出電極2A,2B間の静電容量C0は、z方向において移動体1と各検出電極2A,2Bとが重なり合う部位における静電容量C1と、重なり合わない部位における静電容量C2との合成容量である。静電容量C1は、移動体1と検出電極2Aとの間の静電容量C10と、移動体1と検出電極2Bとの間の静電容量C11との直列合成容量となる。ここで、誘電率をε、各検出電極2A,2Bの移動体1と対向する面積をS(x)、移動体1と検出電極2Aとの間のギャップをG1、移動体1と検出電極2Bとの間のギャップをG2とすると、各静電容量C10,C11は次式で表される。
The capacitance C0 between the
C10=ε・S(x)/G1
C11=ε・S(x)/G2
したがって、これらの合成容量である静電容量C1は、次式で表される。
C10 = ε · S (x) / G1
C11 = ε · S (x) / G2
Therefore, the capacitance C1 which is a combined capacity of these is expressed by the following equation.
C1=ε・S(x)/(G1+G2)
ここで、検出電極2A,2B間のギャップをG0、移動体1のz方向の厚み寸法をT1とすると、G1+G2=G0−T1となり、G1+G2は定数となる。このため、静電容量C1は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、取付位置のz方向のばらつきによっては殆ど変化しない。
C1 = ε · S (x) / (G1 + G2)
Here, if the gap between the
また、静電容量C2は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、z方向の変位によっては変化しない。すなわち、静電容量C1,C2の合成容量である検出電極2A,2B間の静電容量C0は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、z方向の変位によっては殆ど変化しない。したがって、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にz方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C0の変動が殆どないため、移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
Further, the capacitance C2 changes only by the displacement of the moving
上述のように、本実施形態では、移動体1及び各検出電極2A,2Bを、移動体1の変位する一の方向(x方向)と直交する方向(y方向)に沿った所定範囲での相対的な変位によっては対向面積が変化しない寸法で形成している。また、本実施形態では、移動体1を1対の検出電極2A,2Bで挟み込み、且つ移動体1と各検出電極2A,2Bとの間に所定の間隔を空けている。このため、本実施形態では、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にy方向又はz方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C0の変動が殆どない。したがって、本実施形態では、移動体1と各検出電極2A,2Bとの間に空隙を設けても移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
As described above, in the present embodiment, the moving
(実施形態2)
以下、本発明に係る静電容量式検出装置の実施形態2について図面を用いて説明する。なお、以下の説明では、図2(a)に示す矢印によりx方向、y方向、z方向を規定する。また、実施形態1で説明した事項については、特に断りの無い限り説明を省略する。本実施形態は、図2に示すように、各検出電極2A,2Bのx方向における一端部(図2(a)における左端部)を連結部2Cで連結している。また、本実施形態では、図2に示すように、移動体1のy方向の幅寸法W1を、検出電極2のy方向の幅寸法W2よりも大きくしている。
(Embodiment 2)
Hereinafter, a capacitive detection device according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the x direction, the y direction, and the z direction are defined by arrows shown in FIG. Further, the description of the matters described in the first embodiment is omitted unless otherwise specified. In the present embodiment, as shown in FIG. 2, one end portion of each
本実施形態では、移動体1のy方向の幅寸法W1を各検出電極2A,2Bのy方向の幅寸法W2よりも大きくすることで、取付位置のy方向のばらつきによる静電容量C0の変動を抑制している。具体的には、図2(b)に示すように、移動体のy方向における一方(同図の右側)の端部が、各検出電極2A,2Bのy方向における一方の端部よりも所定寸法δだけ余裕を持つようにしている。同様に、移動体1のy方向における他方(同図の左側)の端部が、各検出電極2A,2Bのy方向における他方の端部よりも所定寸法δだけ余裕を持つようにしている。すなわち、移動体1のy方向の幅寸法W1が、各検出電極2A,2Bのy方向の幅寸法W2よりも2σだけ大きくなっている。
In the present embodiment, the capacitance C0 varies due to variations in the mounting direction in the y direction by making the width dimension W1 in the y direction of the
このため、移動体1と各検出電極2A,2Bとのy方向における相対的な位置が所定寸法δの範囲でずれたとしても、移動体1と各検出電極2A,2Bとの対向面積は不変である。したがって、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にy方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C2の変動が殆どないため、移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
For this reason, even if the relative position in the y direction between the moving
また、本実施形態でも、各検出電極2A,2Bで移動体1を挟み込む構成とすることにより、取付位置のz方向のばらつきによる静電容量C0の変動を抑制している。以下、この構成について説明する。検出電極2A,2B間の静電容量C0は、実施形態1と同様に、z方向において移動体1と各検出電極2A,2Bとが重なり合う部位における静電容量C1と、重なり合わない部位における静電容量C2との合成容量である。本実施形態では、各検出電極2A,2Bを連結部2Cで連結していることにより、各検出電極2A,2Bは同電位となっている。したがって、静電容量C1は、移動体1と検出電極2Aとの間の静電容量C10と、移動体1と検出電極2Bとの間の静電容量C11との並列合成容量となる。
Also in this embodiment, by adopting a configuration in which the moving
ここで、z方向において移動体1が各検出電極2A,2Bの間の中心に位置する場合を基準とし、このときの移動体1と各検出電極2A,2Bとの間のギャップをG3とする(図2(b)参照)。そして、移動体1がz方向に沿った一方の向き(同図における下向き)にΔだけずれた場合を考える。このときの静電容量C10,C11は次式で表される。
Here, the case where the moving
C10=ε・S(x)/(G3+Δ)
C11=ε・S(x)/(G3−Δ)
したがって、これらの合成容量であるC1は、次式のようにΔの2次関数で表される。
C10 = ε · S (x) / (G3 + Δ)
C11 = ε · S (x) / (G3-Δ)
Therefore, C1 which is these combined capacities is expressed by a quadratic function of Δ as in the following equation.
C1=2・G3・ε・S(x)/G32(1−(Δ/G3)2)
ここで、Δ≪G3であることから、(Δ/G3)2も非常に小さい値となるので、z方向の変位による静電容量C1への影響が非常に小さくなる。更に、各検出電極2A,2Bは連結部2Cで一体に形成されていることから、検出電極2A,2B間のギャップの変動は加工時のばらつきのみに限定される。このため、静電容量C1は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、取付位置のz方向のばらつきによっては殆ど変化しない。
C1 = 2 · G3 · ε · S (x) / G3 2 (1- (Δ / G3) 2 )
Here, since Δ << G3, (Δ / G3) 2 is also a very small value, and the influence on the capacitance C1 due to the displacement in the z direction is very small. Furthermore, since the
仮に、検出電極2A,2Bで移動体1を挟み込む構造ではなく、移動体1と平行な1枚の金属板を検出電極とした場合は、検出電極と移動体1との間の静電容量はC1となり、Δの1次関数で表される。この場合は、z方向の変位による静電容量C0への影響が大きくなり、好ましくない。
If the
また、静電容量C2は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、z方向の変位によっては殆ど変化しない。すなわち、静電容量C1,C2の合成容量である検出電極2A,2B間の静電容量C0は、移動体1のx方向の変位によってのみ変化し、z方向の変位によっては殆ど変化しない。したがって、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にz方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C0の変動が殆どないため、移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
Further, the capacitance C2 changes only by the displacement of the moving
また、本実施形態では、2枚の検出電極2A,2Bを連結部2Cで連結した構造となっているため、互いに分離した検出電極2A,2Bを用いる場合と比較して静電容量C0が大きくなり、SN比を向上させることができる。
Further, in the present embodiment, since the two
上述のように、本実施形態では、実施形態1と同様に、移動体1及び各検出電極2A,2Bの取付位置にy方向又はz方向のばらつきが生じても、ばらつきに依る静電容量C0の変動が殆どない。したがって、本実施形態では、移動体1と各検出電極2A,2Bとの間に空隙を設けても移動体1のx方向の変位を精度良く求めることができる。
As described above, in the present embodiment, as in the first embodiment, even if a variation in the y direction or the z direction occurs in the mounting position of the moving
なお、移動体1のy方向の幅寸法W1は、実施形態1と同様に、検出電極2のy方向の幅寸法W2よりも小さくてもよい。すなわち、移動体1及び各検出電極2A,2Bがy方向に所定範囲内で相対的に変位したとしても、移動体1と各検出電極2A,2Bとの対向面積が不変となる構成であればよい。
Note that the width dimension W1 in the y direction of the moving
(実施形態3)
以下、本発明に係る静電容量式検出装置の実施形態3について図面を用いて説明する。なお、以下の説明では、図3(a)に示す矢印によりx方向、y方向、z方向を規定する。また、実施形態1,2で説明した事項については、特に断りの無い限り説明を省略する。本実施形態は、図3,4に示すように、検出電極2Aを形成した多層基板P1と、検出電極2Bを形成した多層基板P2と、各多層基板P1,P2を保持するケース5とを備える。移動体1は、各多層基板P1,P2の間において、x方向に沿って変位する。
(Embodiment 3)
Hereinafter, a capacitive detection device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the x direction, the y direction, and the z direction are defined by arrows shown in FIG. Further, the description of the matters described in the first and second embodiments is omitted unless otherwise specified. As shown in FIGS. 3 and 4, the present embodiment includes a multilayer substrate P1 on which the
多層基板P1は、図4(a)に示すように、複数(本実施形態では4枚)の基板P10〜P13を積層して成る。各基板P10〜P13は、何れも平面視で矩形状のリジッド基板から成り、本実施形態ではセラミック基板である。各基板P10〜P13は、移動体1に近い方から、P13,P12,P11,P10の順にz方向に沿って積層している。
As shown in FIG. 4A, the multilayer substrate P1 is formed by laminating a plurality (four in this embodiment) of substrates P10 to P13. Each of the substrates P10 to P13 is a rectangular rigid substrate in plan view, and is a ceramic substrate in this embodiment. The substrates P10 to P13 are stacked along the z direction in the order of P13, P12, P11, and P10 from the side closer to the moving
基板P12の一面(図4(a)における紙面奥側の面)には、検出電極2Aを形成している。また、各基板P11,P12の一面(図4(a)における紙面奥側の面)には、シールド電極S1をそれぞれ形成している。このシールド電極S1は、実施形態1のシールド電極と同様の機能を有する。なお、基板P12では、検出電極2Aと離間してシールド電極S1を形成している。
The
各基板P11〜P13の端部(図4(a)における下端部)には、x方向に沿って一定の間隔を空けて、1対のスルーホールT1をそれぞれ貫設している。また、基板P13の一面(図4(a)における紙面奥側の面)における端部(図4(a)における下端部)には、金属膜から成る矩形状の電極パターンE1を1対形成している。検出電極2Aは、導体及びスルーホールT1を介して、一方(図4(a)における左側)の電極パターンE1と接続している。また、シールド電極S1は、導体及びスルーホールT1を介して、他方(図4(a)における右側)の電極パターンE1に接続している。
A pair of through-holes T1 are provided through the ends (the lower ends in FIG. 4A) of the respective substrates P11 to P13 at regular intervals along the x direction. Further, a pair of rectangular electrode patterns E1 made of a metal film are formed on the end portion (the lower end portion in FIG. 4A) on one surface of the substrate P13 (the back surface in FIG. 4A). ing. The
多層基板P2は、図4(b)に示すように、複数(本実施形態では4枚)の基板P20〜P23を積層して成る。各基板P20〜P23は、何れも平面視で矩形状のリジッド基板から成り、本実施形態ではセラミック基板である。各基板P20〜P23は、移動体1に近い方から、P20,P21,P22,P23の順にz方向に沿って積層している。
As shown in FIG. 4B, the multilayer substrate P2 is formed by laminating a plurality (four in this embodiment) of substrates P20 to P23. Each of the substrates P20 to P23 is a rectangular rigid substrate in plan view, and is a ceramic substrate in this embodiment. The substrates P20 to P23 are stacked along the z direction in the order of P20, P21, P22, and P23 from the side closer to the moving
基板P21の一面(図4(b)における紙面手前側の面)には、検出電極2Bを形成している。また、各基板P21,P22の一面(図4(b)における紙面手前側の面)には、シールド電極S1をそれぞれ形成している。なお、基板P21では、検出電極2Aと離間してシールド電極S1を形成している。
A
各基板P20〜P22の中央部及び端部(図4(b)における下端部)には、x方向に沿って一定の間隔を空けて、1対のスルーホールT1をそれぞれ貫設している。また、基板P20の一面(図4(b)における紙面手前側の面)における中央部には、金属膜から成る1対の電極パターンE1を形成している。検出電極2Bは、導体及びスルーホールT1を介して、中央部における一方(図4(b)における左側)の電極パターンE1と接続している。また、シールド電極S1は、導体及びスルーホールT1を介して、中央部における他方(図4(b)における右側)の電極パターンE1に接続している。また、基板P20の一面(図4(b)における紙面手前側の面)における端部(図4(b)における下端部)には、3つの電極パターンE2を形成している。
A pair of through-holes T1 are respectively provided through the central portion and the end portion (the lower end portion in FIG. 4B) of each of the substrates P20 to P22 at a certain interval along the x direction. In addition, a pair of electrode patterns E1 made of a metal film is formed at the center of one surface of the substrate P20 (the surface on the front side in FIG. 4B). The
各基板P13,P20の一方の電極パターンE1は、金属板から成る連結片3を介して互いに接続されている。また、各基板P13,P20の他方の電極パターンE1は、同じく連結片3を介して互いに接続されている。これら連結片3は、各多層基板P1,P2、ひいては各検出電極2A,2Bをz方向において互いに離間する形で支持している。更に、基板P20の各電極パターンE2には、金属板から成る端子4の一端部をそれぞれ接続している。
One electrode pattern E1 of each of the substrates P13 and P20 is connected to each other through a connecting
ここで、各連結片3及び各端子4は、各電極パターンE1,E2に溶接して接続している。この構成では、半田付けや圧接により接続する構成と比較して、機械的な強度を高めることができる。また、この構成では、溶接部位が高温や外部の応力に対しても強いので、検出装置を構成する際に一体成形を用いる場合にも適している。
Here, each
多層基板P2の一面(図4(c)における上面)には、実施形態1で述べた処理部を構成するICチップ6を実装している。このICチップ6は、多層基板P2上に形成される導体を介して各電極パターンE1,E2に接続している。したがって、本実施形態では、各検出電極2A,2B間の静電容量C0に基づく移動体1のx方向の変位をICチップ6で演算し、その結果を変位信号として各端子4から外部の装置(図示せず)に与えている。また、ICチップ6は、封止樹脂60により封止している。
The
各多層基板P1,P2は、図4(a),(b)に示すように、y方向に沿って長尺な樹脂製のケース5に一体成形している。ケース5は、各多層基板P1,P2の一部を除いて覆う。したがって、各多層基板P1,P2のうち各検出電極2A,2Bが形成された部位がケース5から露出する(図4(a),(b)に示す露出部分を参照)。したがって、スルーホールT1及び各電極パターンE1,E2は、ケース5により覆われるために外部に露出することがない。このため、各検出電極2A,2Bの外部に対する絶縁性を確保することができる。
As shown in FIGS. 4A and 4B, the multilayer substrates P1 and P2 are integrally formed in a
また、ケース5の長手方向の一端部(図3(b)における右端部)には、各端子4の一部を外部に臨ませるように開口したコネクタ50を形成している。このコネクタ50を外部の装置に接続することにより、各端子4を外部の装置に接続することができる。
In addition, a
上述のように、本実施形態では、各多層基板P1,P2のうち内側の基板P12,P21にそれぞれ検出電極2A,2Bを形成している。したがって、本実施形態では、各検出電極2A,2Bが外部に露出することがないため、各検出電極2A,2Bの外部に対する絶縁性を確保することができる。なお、各検出電極2A,2Bは、本実施形態のように、各多層基板P1,P2の内側の基板のうち最も移動体1に近い基板にそれぞれ形成するのが望ましい。この構成では、移動体1と各検出電極2A,2Bとの間の静電容量C0を検出し易く、増幅回路が必要である場合にもその増幅率を極力小さく抑えることができる。
As described above, in this embodiment, the
なお、本実施形態では、連結片3を介して各検出電極2A,2Bが同電位となっているため、各検出電極2A,2B間の静電容量C0は実施形態2で説明した値で表される。勿論、各検出電極2A,2Bは必ずしも連結片3を介して同電位となる必要はなく、互いに電気的に独立した構成であってもよい。この構成であれば、各検出電極2A,2B間の静電容量C0は実施形態1で説明した値で表される。
In this embodiment, since the
また、本実施形態では、ICチップ6を多層基板P2上に実装することで検出装置の一部としているが、ICチップ6は本実施形態とは異なる外部の装置に組み込まれるものであってもよい。
In the present embodiment, the
(実施形態4)
以下、本発明に係る静電容量式検出装置の実施形態4について図面を用いて説明する。なお、以下の説明では、図5(b)に示す矢印によりx方向、y方向、z方向を規定する。また、実施形態1〜3で説明した事項については、特に断りの無い限り説明を省略する。本実施形態は、図5に示すように、各検出電極2A,2Bを第1金属板2で構成し、ICチップ6を第2金属板7に実装している。なお、図示していないが、移動体1は、各検出電極2A,2Bの間において、x方向に沿って変位する。
(Embodiment 4)
Hereinafter, a fourth embodiment of the capacitance detection device according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description, the x direction, the y direction, and the z direction are defined by arrows shown in FIG. Further, the description of the matters described in the first to third embodiments is omitted unless otherwise specified. In the present embodiment, as shown in FIG. 5, the
第1金属板2は、図5(a),(b)に示すように、1枚の金属板を加工することで、1対の検出電極2A,2Bと、各検出電極2A,2Bを連結する連結片2Cと、接続片2Dとを一体に形成して成る。本実施形態では、連結片2Cを介して各検出電極2A,2Bが同電位となっているため、各検出電極2A,2B間の静電容量C0は実施形態2で説明した値で表される。接続片2Dは、ワイヤボンディングにより後述する第2金属板7に実装されるICチップ6に接続している。
As shown in FIGS. 5A and 5B, the
第2金属板7は、第1金属板2とy方向において離間して設けられ、その一面(図5(b)における上面)にはICチップ6を実装している。ICチップ60は、図5(c)に示すように、封止樹脂60により封止している。また、第2金属板7の端部(図5(b)における右端部)には、3つの端子4を設けている。各端子4のうちx方向における中央の端子4は、第2金属板7と一体に形成されている。また、他の2つの端子4は、第2金属板7とは離間して設けられており、ワイヤボンディングによりICチップ6に接続している。
The second metal plate 7 is provided apart from the
各金属板2,7は、図5(d),(e)に示すように、y方向に沿って長尺な樹脂製のケース5に一体成形している。ケース5は、第1金属板2の一部を除いて覆う。したがって、第1金属板2のうち各検出電極2A,2Bが形成された部位がケース5から露出する(図5(a)に示す破線部分を参照)。各検出電極2A,2Bの露出部分の表面には、予め絶縁処理を行なっている。この絶縁処理により、各検出電極2A,2Bの表面が絶縁体で覆われるので、各検出電極2A,2Bの外部に対する絶縁性を確保している。絶縁処理としては、例えばセラミックスや窒化ホウ素によるコーティング、高分子塗料の塗装が考えられる。その他、各金属板2,7の表面を酸化する方法も考えられる(例えば、各金属板2,7がアルミニウムであれば、厚みのあるアルマイト層を形成する)。その他、ケース5の成形後に、ケース5から露出する部位(各検出電極2A,2B)に対してワニス処理を施すことで絶縁処理を行なってもよい。
As shown in FIGS. 5D and 5E, the
上述のように、本実施形態では、基板の代わりに金属板を用いて各検出電極2A,2Bを構成している。したがって、本実施形態では、基板を用いて構成する場合と比較して部品点数が少なくて済むので、製造コストを低減することができる。また、本実施形態では、基板を用いて構成する場合と比較して、電気配線の数も少なくて済む。このため、本実施形態では、配線の断線等が起こり難く、信頼性を向上させることができる。
As described above, in the present embodiment, the
更に、本実施形態では、表面を絶縁体で覆われた各検出電極2A,2Bを外部に露出させているので、各検出電極2A,2Bと移動体1とのギャップが最小となる。したがって、本実施形態では、移動体1と各検出電極2A,2Bとの間の静電容量C0を検出し易く、感度を向上させることができる。
Furthermore, in the present embodiment, since the
なお、第1金属板2と第2金属板7とを同一のフープ材から形成し、ICチップ6の実装、及びワイヤボンディングの後に分断してもよい。この場合には、少なくとも分断した部位については絶縁処理を行う必要がある。
Note that the
また、本実施形態では、ICチップ6を第2金属板7上に実装することで検出装置の一部としているが、ICチップ6は本実施形態とは異なる外部の装置に組み込まれるものであってもよい。
In the present embodiment, the
1 移動体
2A,2B 検出電極
1 Moving
Claims (9)
前記移動体を、その前記一の方向に沿った変位に伴って前記各検出電極との間の静電容量が変化する形状に形成し、
前記移動体及び前記各検出電極を、前記一の方向と直交する方向に沿った所定範囲での相対的な変位によっては対向面積が変化しない寸法で形成することを特徴とする静電容量式検出装置。 A moving body that moves along with a target object in one direction, and a pair of detection electrodes that are arranged so as to sandwich the moving body and are spaced apart from the moving body,
The movable body is formed in a shape in which the capacitance between the detection electrodes changes with displacement along the one direction,
Capacitance type detection wherein the movable body and each detection electrode are formed with dimensions that do not change the facing area by relative displacement in a predetermined range along a direction orthogonal to the one direction. apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012283360A JP2014126454A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | Capacitance type detection device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012283360A JP2014126454A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | Capacitance type detection device |
Publications (1)
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JP2014126454A true JP2014126454A (en) | 2014-07-07 |
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ID=51406067
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JP2012283360A Pending JP2014126454A (en) | 2012-12-26 | 2012-12-26 | Capacitance type detection device |
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JP (1) | JP2014126454A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016221285A (en) * | 2015-06-01 | 2016-12-28 | 株式会社アクセル | Action detector, and game machine |
-
2012
- 2012-12-26 JP JP2012283360A patent/JP2014126454A/en active Pending
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