JP2014115314A - Method for manufacturing alignment layer for liquid crystal, method for manufacturing liquid crystal element, and liquid crystal element - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、新規な構造の配向膜を備える液晶素子並びにその配向膜等の製造技術に関する。 The present invention relates to a liquid crystal element including an alignment film having a novel structure and a manufacturing technique for the alignment film.
液晶用配向膜の製造技術の1つとして、エレクトロスプレー技術を用いたものが提案されている。例えば、特開2010−28216号公報(特許文献1)には、材料液と基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で材料液を放出することによりこの材料液を霧状にして基板の一面に散布し、これを固化することにより、基板の一面に配向膜を形成する技術が開示されている。また、特開2012−113049号公報(特許文献2)には、第1材料液と基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で第1材料液を放出することによりこの第1材料液を霧状にして基板の一面に散布するとともに、第2材料液と基板との間に相対的に電位差を生じさせた状態で第2材料液を放出することによりこの第2材料液を霧状にして基板の一面に散布し、これらを固化することにより、基板の一面に配向膜を形成する技術が開示されている。これらの技術によれば、比較的に簡素な構成の装置により種々の配向膜の材料液を自由に選択して、プレティルト角を広範囲に設定できる配向膜を形成することが可能になる。 As one of the manufacturing techniques of the alignment film for liquid crystal, one using an electrospray technique has been proposed. For example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-28216 (Patent Document 1), the material liquid is atomized by discharging the material liquid in a state where a potential difference is relatively generated between the material liquid and the substrate. A technique is disclosed in which an alignment film is formed on one surface of a substrate by spraying it on one surface of the substrate and solidifying it. Japanese Patent Laid-Open No. 2012-113049 (Patent Document 2) discloses that the first material liquid is discharged in a state where a potential difference is relatively generated between the first material liquid and the substrate. The liquid is sprayed on one surface of the substrate, and the second material liquid is sprayed by discharging the second material liquid in a state in which a potential difference is relatively generated between the second material liquid and the substrate. A technique is disclosed in which an alignment film is formed on one surface of a substrate by spreading the material on one surface of the substrate and solidifying them. According to these techniques, it is possible to freely select a material liquid for various alignment films using an apparatus having a relatively simple configuration and form an alignment film capable of setting a pretilt angle in a wide range.
ところで、上記した各先行例はいずれも基板面の全体に対して一律に霧状の材料液を散布して配向膜を得るものであるが、散布した材料液を基板面の全体で均一に堆積させるのが難しいため、配向膜の均一性という点で改良の余地がある。また、材料液の散布量を多くすると下地が隠れてしまうため、広範囲なプレティルト角を得ることが難しくなるという点でも改良の余地がある。 By the way, in each of the preceding examples, the mist-like material liquid is uniformly sprayed on the entire substrate surface to obtain an alignment film, but the dispersed material liquid is uniformly deposited on the entire substrate surface. Since it is difficult to achieve this, there is room for improvement in terms of the uniformity of the alignment film. Moreover, since the base | substrate will be hidden when the application amount of the material liquid is increased, there is room for improvement in that it is difficult to obtain a wide range of pretilt angles.
また、上記した各先行例においては、基板面の場所によって異なる配向規制力を発揮するような配向膜を形成することも難しかった。具体的には、例えば基板面内の場所によって液晶分子に付与されるプレティルト角の大きさが異なる配向膜を形成することや、あるいは基板面内の場所によって液晶分子の配向方向が異なる配向膜を形成することなどは困難であった。 Further, in each of the above-described prior examples, it is difficult to form an alignment film that exhibits an alignment regulating force that varies depending on the location of the substrate surface. Specifically, for example, an alignment film having a different pretilt angle applied to the liquid crystal molecules depending on the position in the substrate surface, or an alignment film having different alignment directions of the liquid crystal molecules depending on the position in the substrate surface. It was difficult to form.
本発明に係る具体的態様は、新たな構造の配向膜を用いた新規な液晶素子を提供することを目的の1つとする。
また、本発明に係る具体的態様は、上記課題を解決し得るエレクトロスプレー技術を利用した新たな配向膜の製造技術を提供することを目的の1つとする。
さらに、本発明に係る具体的態様は、上記の新たな配向膜の製造技術を用いた液晶素子の製造技術を提供することを目的の1つとする。
A specific aspect of the present invention is to provide a novel liquid crystal element using an alignment film having a new structure.
A specific aspect of the present invention is to provide a new alignment film manufacturing technique using an electrospray technique that can solve the above-described problems.
Furthermore, a specific aspect of the present invention is to provide a liquid crystal element manufacturing technique using the above-described new alignment film manufacturing technique.
本発明に係る一態様の液晶素子は、(a)対向配置された第1基板と第2基板と、(b)第1基板と第2基板の少なくとも一方の一面側を部分的に覆うようにして設けられた導電膜と、(c)導電膜の少なくとも一部を覆うようにして設けられた第1配向膜と、(d)第1基板と第2基板の間に設けられた液晶層、を含む液晶素子である。 In one aspect of the liquid crystal element according to the present invention, (a) a first substrate and a second substrate which are arranged to face each other, and (b) at least one surface side of the first substrate and the second substrate are partially covered. (C) a first alignment film provided so as to cover at least part of the conductive film, (d) a liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate, It is a liquid crystal element containing.
上記構成によれば、基板上の導電膜の位置に対応して選択的に配向膜が設けられ、この配向膜によって液晶層を配向させることが可能な液晶素子が得られる。 According to the above configuration, an alignment film is selectively provided corresponding to the position of the conductive film on the substrate, and a liquid crystal element capable of aligning the liquid crystal layer by this alignment film is obtained.
上記の液晶素子は、導電膜と重なる領域及びその周辺領域を覆うように設けられた第2配向膜を更に含み、第1配向膜は導電膜との間に第2配向膜を挟んで設けられていることも好ましい。 The liquid crystal element further includes a second alignment film provided so as to cover a region overlapping with the conductive film and a peripheral region thereof, and the first alignment film is provided with the second alignment film sandwiched between the conductive film. It is also preferable.
それにより、導電膜と重なる領域とその周辺領域で液晶層を異なる状態に配向させることができるため、多様な配向制御が可能となる。 Accordingly, the liquid crystal layer can be aligned in a different state in a region overlapping with the conductive film and its peripheral region, so that various alignment controls are possible.
上記の液晶素子において、例えば第1配向膜は、複数の微細な配向膜片が不規則に積み重なった構造を有する。 In the above liquid crystal element, for example, the first alignment film has a structure in which a plurality of fine alignment film pieces are irregularly stacked.
このような構造の配向膜であれば、例えば後述する製造方法によって導電膜の位置に対応して選択的に形成することが可能である。 An alignment film having such a structure can be selectively formed corresponding to the position of the conductive film, for example, by a manufacturing method described later.
上記の液晶素子においては、導電膜が液晶層に電界を与えるための電極であってもよい。 In the above liquid crystal element, the conductive film may be an electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer.
それにより、構成の簡素化が可能となる。 Thereby, the configuration can be simplified.
本発明に係る一態様の液晶用の配向膜製造方法は、基板上に液晶用の配向膜を製造するための方法であって、(a)基板上に、当該基板の一面側を部分的に覆う形状の導電膜を形成する第1工程と、(b)基板の導電膜と配向膜の材料液との間に相対的に電位差を与えながら材料液を放出することにより材料液を霧状にして当該霧状の材料液を基板の導電膜の少なくとも一部と重なる領域に対して選択的に散布する第2工程と、(c)散布された材料液を固化させることにより第1配向膜を形成する第3工程を含む、液晶用の配向膜製造方法である。 An alignment film manufacturing method for a liquid crystal according to an aspect of the present invention is a method for manufacturing an alignment film for a liquid crystal on a substrate, and (a) a surface of the substrate is partially disposed on the substrate. A first step of forming a conductive film having a covering shape; and (b) the material liquid is atomized by discharging the material liquid while applying a relative potential difference between the conductive film of the substrate and the material liquid of the alignment film. A second step of selectively spraying the atomized material liquid over a region overlapping at least part of the conductive film of the substrate, and (c) the first alignment film by solidifying the sprayed material liquid It is the manufacturing method of the orientation film for liquid crystals including the 3rd process to form.
上記方法によれば、基板上の導電膜が設けられた領域に対して選択的に材料液を散布することができるので、その領域に均一性の高い配向膜を製造することができる。また、導電膜に対応する領域とそれ以外の領域とで異なる配向規制力を発揮させることもできる。また、例えば互いに分離した複数の導電膜を設けておいた場合には、それぞれの導電膜に対応して異なる種類の配向膜を形成することも可能となる。 According to the above method, since the material liquid can be selectively sprayed on the region on the substrate where the conductive film is provided, a highly uniform alignment film can be manufactured in that region. In addition, it is possible to exert different alignment regulating force in the region corresponding to the conductive film and the other region. For example, in the case where a plurality of conductive films separated from each other are provided, it is possible to form different types of alignment films corresponding to the respective conductive films.
上記の配向膜製造方法は、第1工程の後に、導電膜と重なる領域及びその周辺領域を覆う第2配向膜を形成する第4工程を更に含むことも好ましい。 The alignment film manufacturing method preferably further includes, after the first step, a fourth step of forming a second alignment film that covers a region overlapping with the conductive film and a peripheral region thereof.
それにより、比較的簡単な工程により基板面内において異なる種類の配向膜を容易に形成することが可能となる。 Accordingly, different types of alignment films can be easily formed in the substrate plane by a relatively simple process.
本発明に係る一態様の液晶素子の製造方法は、(a)第1基板と第2基板の少なくとも一方の一面側に配向膜を形成する配向膜形成工程と、(b)第1基板と第2基板を対向配置させる基板配置工程と、(c)第1基板と第2基板の間に液晶層を形成する液晶層形成工程を含み、(d)配向膜形成工程が上記した配向膜製造方法を用いて行われる、液晶素子の製造方法である。 The method for manufacturing a liquid crystal element according to one aspect of the present invention includes (a) an alignment film forming step of forming an alignment film on at least one side of the first substrate and the second substrate, and (b) the first substrate and the first substrate. A substrate disposing step of disposing two substrates oppositely, and (c) a liquid crystal layer forming step of forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate, and (d) the alignment film forming step described above. This is a method for manufacturing a liquid crystal element, which is performed using
上記方法によれば、均一性の高い配向膜を有する液晶素子を製造することができる。 According to the above method, a liquid crystal element having a highly uniform alignment film can be manufactured.
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、エレクトロスプレー技術を利用した配向膜の形成方法を模式的に示した図である。図1に示すように、基板101の一面には、予め所定形状にパターニングされた電極102が設けられている。このような基板101の一面とキャピラリー(毛細管)100との距離を適宜(例えば、数cm程度)に確保し、キャピラリー100と基板101の間に電圧印加装置104を用いて高電圧(例えば数kVの直流電圧)を印加しながら、配向膜の材料液(以下「配向膜液」という。)103をキャピラリー100の先端に供給する。それにより、キャピラリー100から吐出される配向膜液103はプラスの電位を帯びた状態の液体粒子となる。この電位を帯びた液体粒子は、電気的に反発しながら細かく分裂して拡がり、霧状の微小液滴(霧状体)105となる。この微小液滴105がマイナスに帯電した基板101に引き寄せられ、主に基板101の電極102上に付着する。その後、基板101に到達した微小液滴105に対して適宜熱処理等を与えて膜化(固化)させることにより、多数の微細な配向膜片を含んで構成された配向膜が電極102上に形成される。 FIG. 1 is a diagram schematically showing a method for forming an alignment film using an electrospray technique. As shown in FIG. 1, an electrode 102 that is previously patterned into a predetermined shape is provided on one surface of a substrate 101. A distance between such one surface of the substrate 101 and the capillary (capillary) 100 is ensured as appropriate (for example, about several centimeters), and a high voltage (for example, several kV) is used between the capillary 100 and the substrate 101 using the voltage applying device 104. ) Is applied to the tip of the capillary 100 while applying an alignment film material liquid (hereinafter referred to as “alignment film liquid”) 103. Accordingly, the alignment film liquid 103 discharged from the capillary 100 becomes liquid particles having a positive potential. The liquid particles having this potential are finely divided and spread while being electrically repelled to form mist-like microdroplets (mist-like bodies) 105. The micro droplet 105 is attracted to the negatively charged substrate 101 and is mainly attached on the electrode 102 of the substrate 101. Thereafter, the microdroplet 105 reaching the substrate 101 is appropriately heat-treated to form a film (solidify), thereby forming an alignment film including a large number of fine alignment film pieces on the electrode 102. Is done.
ここで、きれいに液滴を散布するためには配向膜液の粘度が低いことが望ましい。そのため、例えばテトラヒドロフラン、アセトニロリル、アセトン、エタノール、IPA等の溶剤によって配向材を希釈して配向膜液を調製することが望ましい。希釈用の溶剤としては、基本的には沸点が低く、揮発性の高い材料が望ましい。エレクトロスプレー堆積法により散布する際には非常に細かな液滴となるが、基板に向かって飛んでいる間にアセトンなどの有機溶媒は蒸発するものと考えられる。従って、ここで用いる希釈用の溶剤は、揮発性が高ければ何を選んでも液晶分子の配向性には大きな影響を与えないと考えられる。 Here, in order to spray droplets cleanly, it is desirable that the viscosity of the alignment film liquid is low. Therefore, it is desirable to prepare an alignment film solution by diluting the alignment material with a solvent such as tetrahydrofuran, acetonitrile, acetone, ethanol, or IPA. As a solvent for dilution, basically a material having a low boiling point and high volatility is desirable. When sprayed by the electrospray deposition method, very fine droplets are formed, but it is considered that an organic solvent such as acetone evaporates while flying toward the substrate. Therefore, it can be considered that the diluting solvent used here does not greatly affect the alignment of the liquid crystal molecules, as long as it has high volatility.
このような方法(以下「エレクトロスプレー堆積法」という)を使って配向膜を製造する方法の主な利点は以下の通りである。
(a)ナノオーダーの微細な液滴を散布可能
(b)常温常圧で成膜可能
(c)ドライプロセスで成膜可能
(d)装置構成が比較的に簡素(単純)
(e)成膜可能な材料が多い
(f)成膜に必要な材料が少量で済む
The main advantages of the method for producing an alignment film using such a method (hereinafter referred to as “electrospray deposition method”) are as follows.
(A) Nano-sized fine droplets can be sprayed (b) Room temperature and normal pressure can be deposited (c) Dry process can be deposited (d) Device configuration is relatively simple (simple)
(E) There are many materials that can be deposited (f) Only a small amount of material is required for deposition
図2は、本実施形態のエレクトロスプレー堆積法における好適な散布電圧について説明するための図である。図2(A)はキャピラリーと基板の間の電圧(電極間電圧)と全イオン量との関係を示す。図示のように、電極間電圧をしきい値電圧より200V程度高い電圧としたときが安定電圧である場合が多い。図2(B)に示すように、この電極間電圧の大きさにより配向膜液の散布モードが変化する。電極間電圧が相対的に低い時には比較的に液滴サイズが大きくなるマイクロドロッピングモードとなり、電極間電圧が大きくなるにつれて液適サイズが均一で微小となるコーンジェットモードが表れ、次いで液滴サイズの均一性が低下したマルチジェットモードとなる。 FIG. 2 is a diagram for explaining a suitable spray voltage in the electrospray deposition method of the present embodiment. FIG. 2A shows the relationship between the voltage between the capillary and the substrate (interelectrode voltage) and the total ion amount. As shown in the figure, a stable voltage is often obtained when the voltage between the electrodes is about 200 V higher than the threshold voltage. As shown in FIG. 2 (B), the dispersion mode of the alignment film liquid changes depending on the voltage between the electrodes. When the voltage between the electrodes is relatively low, a microdropping mode in which the droplet size becomes relatively large appears, and as the voltage between the electrodes increases, a cone jet mode in which the appropriate liquid size becomes uniform and minute appears, and then the droplet size Multi-jet mode with reduced uniformity.
図3は、エレクトロスプレー堆積法を用いた配向膜の製造装置の構成例を示す図である。図3に示す配向膜の製造装置は、配向膜液を内部に保持するための円筒状等のシリンジ(筒)110とこのシリンジ110の一端に設けられたキャピラリー100と、配向膜を形成する対象となる基板101を保持する絶縁性の基板ホルダー(基板固定手段)111と、キャピラリー100と基板101の間に電圧を印加するための電圧印加装置(高圧直流電源)104を備える。基板ホルダー111は、基板101上の電極に接地電位を与えることが可能に構成されている。これにより、キャピラリー100と電極の間にのみ電圧を印加することができる。また、基板ホルダー111は、キャピラリー100と基板101の距離を調整することができるように構成されている。また、基板ホルダー111は、キャピラリー100に対する基板101の相対的な位置を移動可能に構成されていてもよい。例えば、基板101を一方向に搬送しながら配向膜液を塗布することにより、膜厚の均一性を向上させることができる。この場合、搬送速度は例えば10mm/分程度とすることができる。 FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration example of an alignment film manufacturing apparatus using an electrospray deposition method. The alignment film manufacturing apparatus shown in FIG. 3 has a cylindrical syringe 110 for holding the alignment film liquid inside, a capillary 100 provided at one end of the syringe 110, and an object for forming the alignment film. An insulating substrate holder (substrate fixing means) 111 that holds the substrate 101 and a voltage application device (high-voltage DC power source) 104 for applying a voltage between the capillary 100 and the substrate 101 are provided. The substrate holder 111 is configured to apply a ground potential to the electrodes on the substrate 101. Thereby, a voltage can be applied only between the capillary 100 and the electrode. The substrate holder 111 is configured so that the distance between the capillary 100 and the substrate 101 can be adjusted. Further, the substrate holder 111 may be configured to be able to move the relative position of the substrate 101 with respect to the capillary 100. For example, the uniformity of the film thickness can be improved by applying the alignment film liquid while transporting the substrate 101 in one direction. In this case, the conveyance speed can be about 10 mm / min, for example.
図4(A)〜図4(C)は、本実施形態による配向膜の製造方法の一例を示す模式的な断面図である。図4(A)に示すように、ガラス基板等の基板101の一面上に所定パターンの電極102を形成する。具体的には、例えばITO(インジウム錫酸化物)膜などの導電膜を基板101の一面上に成膜し、あるいは予めITO膜等の導電膜が全面に成膜された基板101を用意する。そして、この導電膜をフォトリソグラフィ技術により所望形状にパターニングする。次に、図4(B)に示すように、基板101の一面上に電極102を覆うようにして配向膜106を形成する。具体的には、例えば基板101上に配向膜液をスピンコート法などで塗布し、所定条件にて焼成することにより配向膜106が形成される。配向膜106は、例えば水平配向膜または垂直配向膜である。形成された配向膜106に対して、ラビング処理等の配向処理を施してもよい。次に、図4(C)に示すように、例えば上記した配向膜の製造装置を用いてエレクトロスプレー堆積法により配向膜107を形成する。各配向膜107は、図示のように電極102のパターンと対応した位置に選択的に形成される。各配向膜107は、微細な配向膜片が凝集した構造となる。なお、上記では配向膜106の形成後にラビング処理等の配向処理を行うと説明したが、配向膜107の形成後に配向処理を行ってもよいし、各配向膜106、107を形成するごとに配向処理を行ってもよい。 FIG. 4A to FIG. 4C are schematic cross-sectional views showing an example of a method for manufacturing an alignment film according to the present embodiment. As shown in FIG. 4A, an electrode 102 having a predetermined pattern is formed on one surface of a substrate 101 such as a glass substrate. Specifically, for example, a conductive film such as an ITO (indium tin oxide) film is formed on one surface of the substrate 101, or a substrate 101 on which a conductive film such as an ITO film is formed in advance on the entire surface is prepared. Then, this conductive film is patterned into a desired shape by photolithography. Next, as shown in FIG. 4B, an alignment film 106 is formed on one surface of the substrate 101 so as to cover the electrode 102. Specifically, the alignment film 106 is formed by, for example, applying an alignment film liquid on the substrate 101 by a spin coating method or the like and baking under a predetermined condition. The alignment film 106 is, for example, a horizontal alignment film or a vertical alignment film. An alignment process such as a rubbing process may be performed on the formed alignment film 106. Next, as shown in FIG. 4C, the alignment film 107 is formed by electrospray deposition using, for example, the alignment film manufacturing apparatus described above. Each alignment film 107 is selectively formed at a position corresponding to the pattern of the electrode 102 as shown. Each alignment film 107 has a structure in which fine alignment film pieces are aggregated. In the above description, the alignment process such as the rubbing process is performed after the alignment film 106 is formed. However, the alignment process may be performed after the alignment film 107 is formed, or the alignment is performed every time the alignment films 106 and 107 are formed. Processing may be performed.
次に、上記したエレクトロスプレー堆積法によって形成される配向膜を適用可能な液晶表示素子について説明する。 Next, a liquid crystal display element to which an alignment film formed by the above-described electrospray deposition method can be applied will be described.
図5は、一実施形態の液晶素子(液晶表示装置)の構成を模式的に示す断面図である。図5に示す液晶素子は、第1基板11と第2基板12の間に液晶層17を介在させた基本構成を有する。第1基板11の外側には第1偏光板21が配置され、第2基板12の外側には第2偏光板22が配置されている。以下、さらに詳細に液晶素子の構造を説明する。なお、液晶層17の周囲を封止するシール材等の部材については図示および説明を省略する。 FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a liquid crystal element (liquid crystal display device) according to an embodiment. The liquid crystal element shown in FIG. 5 has a basic configuration in which a liquid crystal layer 17 is interposed between a first substrate 11 and a second substrate 12. A first polarizing plate 21 is disposed outside the first substrate 11, and a second polarizing plate 22 is disposed outside the second substrate 12. Hereinafter, the structure of the liquid crystal element will be described in more detail. Note that illustration and description of members such as a sealing material for sealing the periphery of the liquid crystal layer 17 are omitted.
第1基板11および第2基板12は、それぞれ、例えばガラス基板、プラスチック基板等の透明基板である。図示のように、第1基板11と第2基板12は互いの一面が対向するようにして、所定の間隙(例えば数μm)を設けて貼り合わされている。なお、図示を省略するが、いずれかの基板上に薄膜トランジスタ等のスイッチング素子が形成されていてもよい。 The first substrate 11 and the second substrate 12 are transparent substrates such as a glass substrate and a plastic substrate, respectively. As shown in the figure, the first substrate 11 and the second substrate 12 are bonded to each other with a predetermined gap (for example, several μm) so that the surfaces of the first substrate 11 and the second substrate 12 face each other. Although illustration is omitted, a switching element such as a thin film transistor may be formed on any substrate.
第1電極13は、第1基板11の一面側に設けられている。また、第2電極14は、第2基板55の一面側に設けられている。第1電極13および第2電極14は、それぞれ、例えばインジウム錫酸化物(ITO)などの透明導電膜を適宜パターニングすることによって構成されている。 The first electrode 13 is provided on one surface side of the first substrate 11. The second electrode 14 is provided on one surface side of the second substrate 55. Each of the first electrode 13 and the second electrode 14 is configured by appropriately patterning a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO), for example.
配向膜15は、第1基板11の一面側に第1電極13を覆うようにして設けられている。配向膜16は、第2基板12の一面側に第2電極14を覆うようにして設けられている。これらの配向膜15、16は、例えばスピンコート法などによって配向膜液を塗布し、それを焼成することによって形成される。各配向膜15、16は、例えば水平配向膜である。 The alignment film 15 is provided on one surface side of the first substrate 11 so as to cover the first electrode 13. The alignment film 16 is provided on one surface side of the second substrate 12 so as to cover the second electrode 14. These alignment films 15 and 16 are formed by, for example, applying an alignment film liquid by a spin coat method and baking the liquid. Each alignment film 15 and 16 is a horizontal alignment film, for example.
配向膜18は、第1基板11の一面側において配向膜15に重ねて設けられている。この配向膜18は、第1電極13のパターンと対応した位置に設けられている。配向膜19は、第2基板12の一面側において配向膜16に重ねて設けられている。この配向膜19は、第2電極14のパターンと対応した位置に設けられている。これらの配向膜18、19は、上記したエレクトロスプレー堆積法によって形成される配向膜であり、それぞれ、例えば垂直配向膜である。 The alignment film 18 is provided so as to overlap the alignment film 15 on one surface side of the first substrate 11. The alignment film 18 is provided at a position corresponding to the pattern of the first electrode 13. The alignment film 19 is provided so as to overlap the alignment film 16 on one surface side of the second substrate 12. The alignment film 19 is provided at a position corresponding to the pattern of the second electrode 14. These alignment films 18 and 19 are alignment films formed by the above-described electrospray deposition method, and each is, for example, a vertical alignment film.
液晶層17は、第1基板11と第2基板12の相互間に設けられている。液晶層17を構成する液晶材料の誘電率異方性Δεは正(Δε>0)であっても負(Δε<0)であってもよい。 The liquid crystal layer 17 is provided between the first substrate 11 and the second substrate 12. The dielectric anisotropy Δε of the liquid crystal material constituting the liquid crystal layer 17 may be positive (Δε> 0) or negative (Δε <0).
図6(A)は、電極構造の一例を示す模式的な平面図である。例えば、第1電極13は図中の左右方向に延在するストライプ状の電極であり、第2電極14は図中の上下方向に延在するストライプ状の電極である。この場合、第1電極13と第2電極14の交差する各領域が画素部50となる。すなわち、本例の液晶表示装置は、複数の画素部50がマトリクス状に配置された単純マトリクス型の液晶表示装置である。このような電極構造を有する場合には、例えば下地としての各配向膜15、16(図5参照)を形成し、さらに上記したエレクトロスプレー堆積法により第1電極13と第2電極14の各々と重畳する領域に各配向膜18、19を形成する。 FIG. 6A is a schematic plan view showing an example of an electrode structure. For example, the first electrode 13 is a striped electrode extending in the horizontal direction in the drawing, and the second electrode 14 is a striped electrode extending in the vertical direction in the drawing. In this case, each region where the first electrode 13 and the second electrode 14 intersect becomes the pixel unit 50. That is, the liquid crystal display device of this example is a simple matrix type liquid crystal display device in which a plurality of pixel portions 50 are arranged in a matrix. In the case of having such an electrode structure, for example, the alignment films 15 and 16 (see FIG. 5) are formed as a base, and each of the first electrode 13 and the second electrode 14 is formed by the above-described electrospray deposition method. The alignment films 18 and 19 are formed in the overlapping region.
このとき、例えば、各配向膜15、16として液晶分子に与えるプレティルト角が少し大きい配向膜(水平配向膜または垂直配向膜)を形成し、各配向膜18、19として液晶分子に与えるプレティルト角が相対的に少し小さい配向膜(水平配向膜または垂直配向膜)を形成することができる。それにより、画素部50とそれ以外の領域でプレティルト角を異なる大きさに設定できるため、いわゆるオフセグ見えを抑制することが可能になる。 At this time, for example, an alignment film (horizontal alignment film or vertical alignment film) having a slightly large pretilt angle given to the liquid crystal molecules is formed as the alignment films 15 and 16, and the pretilt angle given to the liquid crystal molecules is set as the alignment films 18 and 19. A relatively small alignment film (horizontal alignment film or vertical alignment film) can be formed. Accordingly, since the pretilt angle can be set to be different between the pixel unit 50 and the other region, so-called off-seg appearance can be suppressed.
詳細には、一般に単純マトリクス型の液晶表示装置では、オフ画素であってもオフ電圧が印加されるため、電極が存在しない領域(背景領域)とオフ画素(オフセグ)で透過率に差が生じ、オフ画素が視認されてしまうという問題がある。これに対して、上記のように電極が存在しない領域にはプレティルト角の相対的に高い配向膜を設け、電極の存在する領域にはプレティルト角の相対的に低い配向膜を設けることで、背景領域とオフ画素の透過率の差をより少なくし、オフセグ見えを抑制することができる。 Specifically, in general, in a simple matrix type liquid crystal display device, an off voltage is applied even in the case of an off pixel, so that a difference in transmittance occurs between an area where no electrode exists (background area) and an off pixel (off segment). There is a problem that off-pixels are visually recognized. On the other hand, as described above, an alignment film having a relatively high pretilt angle is provided in a region where no electrode is present, and an alignment film having a relatively low pretilt angle is provided in a region where an electrode is present. The difference in transmittance between the region and the off pixel can be further reduced, and the off-seg appearance can be suppressed.
また、この方法によれば駆動電圧を全体的に高くすることもできるため、オン画素の透過率をより高くすることができるというメリットもある。この場合、引き回し線部分はプレティルト角が相対的に低くオフ電圧でも動作しないため、なるべく細く目立たなくすることが望ましい。このような対応は、水平配向膜を用いて誘電率異方性が正の液晶材料を配向させる動作モード(TN、STN等)、もしくは垂直配向膜を用いて誘電率異方性が負の液晶材料を配向させる動作モードに適用することができる。 Further, according to this method, the driving voltage can be increased as a whole, so that there is an advantage that the transmittance of the on-pixel can be further increased. In this case, the lead line portion has a relatively low pretilt angle and does not operate even at an off voltage. Such a correspondence is an operation mode (TN, STN, etc.) in which a liquid crystal material having a positive dielectric anisotropy is aligned using a horizontal alignment film, or a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy using a vertical alignment film. It can be applied to an operation mode in which the material is oriented.
図6(B)は、電極構造の他の一例を示す模式的な平面図である。本例の液晶表示装置は、図中の左右方向に延在する複数のゲート線60と図中の上下方向に延在する複数のソース線61と、それらの交差する位置に設けられた複数の薄膜トランジスタ62を有するアクティブマトリクス型の液晶表示装置である。そして、各第2電極14は1つの薄膜トランジスタ62に接続されて画素電極として機能する。なお、第1電極13(図5参照)は各第2電極14と対向するように第1基板11の一面全体に設けられている。このような電極構造を有する場合には、例えば下地としての各配向膜15、16(例えば水平配向膜)を形成し、さらに上記したエレクトロスプレー堆積法により各第2電極14と重畳する領域に配向膜19(例えば垂直配向膜)を形成する。なお、この場合、配向膜18は省略される。 FIG. 6B is a schematic plan view showing another example of the electrode structure. The liquid crystal display device of this example includes a plurality of gate lines 60 extending in the left-right direction in the figure, a plurality of source lines 61 extending in the up-down direction in the figure, and a plurality of positions provided at the intersecting positions thereof. This is an active matrix liquid crystal display device having a thin film transistor 62. Each second electrode 14 is connected to one thin film transistor 62 and functions as a pixel electrode. The first electrode 13 (see FIG. 5) is provided on the entire surface of the first substrate 11 so as to face the second electrodes 14. In the case of such an electrode structure, for example, the alignment films 15 and 16 (for example, a horizontal alignment film) are formed as a base, and further aligned in a region overlapping with each second electrode 14 by the above-described electrospray deposition method. A film 19 (for example, a vertical alignment film) is formed. In this case, the alignment film 18 is omitted.
このとき、各第2電極14は個別に選択して電圧を印加することが可能であるため、画素ごとに異なる種類の配向膜を設けることも可能である。さらに、それぞれが薄膜トランジスタ等のスイッチング素子と接続された複数のサブ画素電極を含んで1つの画素部が構成されている場合には、その画素部の中でサブ画素電極ごとに異なる配向膜を設けることも可能である。また、例えば、各配向膜15、16として垂直配向膜を設け、その上に各第2電極14と重なる位置に水平配向膜を設けることもできる。その場合、第1偏光板21と第2偏光板22をクロスニコル配置とすれば、電極間の透過光を黒色にすることができるため、いわゆるブラックマトリクスと同等な機能を実現することができる。この場合、従来は成膜精度の都合上、ブラックマトリクスはその端部がいくらか画像部の電極に重なるように形成されるためにその重なり領域の分だけ開口率が低下していたが、本実施形態の場合には原理上、画素部の電極以外の領域だけでブラックマトリクスの機能を発揮できるため、従来に比べて開口率を向上することができる。 At this time, since each second electrode 14 can be individually selected and applied with a voltage, different types of alignment films can be provided for each pixel. Further, in the case where one pixel portion is configured to include a plurality of subpixel electrodes each connected to a switching element such as a thin film transistor, a different alignment film is provided for each subpixel electrode in the pixel portion. It is also possible. Further, for example, a vertical alignment film can be provided as each of the alignment films 15 and 16, and a horizontal alignment film can be provided on the second electrode 14 on the vertical alignment film. In that case, if the first polarizing plate 21 and the second polarizing plate 22 are arranged in a crossed Nicol arrangement, the transmitted light between the electrodes can be made black, so that a function equivalent to a so-called black matrix can be realized. In this case, for the convenience of film formation accuracy, the black matrix has been formed so that the edge of the black matrix overlaps with the electrode of the image area. In the case of the mode, in principle, the function of the black matrix can be exhibited only in the region other than the electrode of the pixel portion, and thus the aperture ratio can be improved as compared with the conventional case.
なお、上記した単純マトリクス型およびアクティブマトリクス型のいずれにおいても、配向処理の方向に対して液晶分子の並ぶ方向が異なる配向膜を塗り分けることで、画素ごとに視角特性が異なる液晶表示装置を安価に製造することができる。それにより、観察者の見る方向によって異なる情報を表示するマルチ視角表示を実現することができる。 In both the simple matrix type and the active matrix type described above, a liquid crystal display device having different viewing angle characteristics for each pixel can be obtained at a low cost by separately applying an alignment film in which the alignment direction of liquid crystal molecules is different from the alignment process direction. Can be manufactured. Thereby, it is possible to realize multi-view angle display that displays different information depending on the viewing direction of the observer.
(実施例)
次に、本発明を適用した液晶素子の実施例について説明する。
(Example)
Next, examples of the liquid crystal element to which the present invention is applied will be described.
ITO(インジウム錫酸化物)膜が形成された一対のガラス基板を用意する。ITO膜の厚さは1500Å、ガラス基板の厚さは0.7mmであり材質は無アルカリガラスである。これらのガラス基板を洗浄し、ITO膜を一般的なフォトリソグラフィ工程およびエッチング工程によりパターニングする。ここでは、エッチング方法として第二塩化鉄を用いたウェットエッチングを用いた。一対のガラス基板のうちの一方には、ITO膜をパターニングすることにより、後のエレクトロスプレー堆積法による配向膜形成に対応した電極を形成した。 A pair of glass substrates on which an ITO (indium tin oxide) film is formed is prepared. The thickness of the ITO film is 1500 mm, the thickness of the glass substrate is 0.7 mm, and the material is non-alkali glass. These glass substrates are washed, and the ITO film is patterned by a general photolithography process and an etching process. Here, wet etching using ferric chloride was used as an etching method. On one of the pair of glass substrates, an ITO film was patterned to form an electrode corresponding to later formation of an alignment film by electrospray deposition.
次に、一対のガラス基板のうち、エレクトロスプレー堆積法による配向膜形成に対応した電極を有するガラス基板には水平配向膜の材料液をスピンコートにより塗布し、100℃・10分間の条件で仮焼成し、その後250℃・60分間の条件で本焼成した。同様に、他方のガラス基板には垂直配向膜の材料液をスピンコートにより塗布し、100℃・10分間の条件で仮焼成し、その後220℃・60分間の条件で本焼成した。その後、両方のガラス基板の各配向膜に対してラビング処理を行った。 Next, of the pair of glass substrates, a glass substrate having an electrode corresponding to formation of an alignment film by electrospray deposition is applied by spin coating with a material liquid for a horizontal alignment film, and temporarily applied at 100 ° C. for 10 minutes. Firing was then performed at 250 ° C. for 60 minutes. Similarly, a material solution for a vertical alignment film was applied to the other glass substrate by spin coating, pre-baked under conditions of 100 ° C. and 10 minutes, and then main-fired under conditions of 220 ° C. and 60 minutes. Then, the rubbing process was performed with respect to each alignment film of both glass substrates.
次に、水平配向膜を設けたガラス基板に、エレクトロスプレー堆積法によって垂直配向膜を形成した。具体的には、垂直配向膜の材料液と溶剤(テトラヒドロフランとアセトニトリルを6:4で混合したもの)の混合液をエレクトロスプレー堆積法に適した配向膜製造装置(図3参照)によって塗布した。散布した混合液(配向膜液)については、100℃・10分間の条件で仮焼成し、その後220℃・60分間の条件で本焼成した。 Next, a vertical alignment film was formed on a glass substrate provided with a horizontal alignment film by an electrospray deposition method. Specifically, a liquid mixture of a material liquid and a solvent (tetrahydrofuran and acetonitrile mixed at 6: 4) for the vertical alignment film was applied by an alignment film manufacturing apparatus (see FIG. 3) suitable for the electrospray deposition method. The sprayed mixed solution (alignment film solution) was pre-baked under conditions of 100 ° C. and 10 minutes, and then main-fired under conditions of 220 ° C. and 60 minutes.
エレクトロスプレー堆積法の実施にあたっては、キャピラリーとガラス基板の相互間距離(電極間距離)は4〜8cmとし、これらの間に3.0〜4.2kVの電圧を印加し、散布時間は15〜30分間に設定した。キャピラリーの外径は150μm、内径は50μmである。なお、キャピラリー先端をガラス基板の中央と相対させず、わずかに(〜数cm)両者の相対的位置をずらすことにより、垂直配向膜の材料液と溶剤の混合液をより均一に散布できた。また、キャピラリーとガラス基板の相互間距離はより大きく設定するほうが混合液をより均一に散布できた。 In carrying out the electrospray deposition method, the distance between the capillary and the glass substrate (distance between the electrodes) is 4 to 8 cm, a voltage of 3.0 to 4.2 kV is applied between them, and the spraying time is 15 to Set to 30 minutes. The capillary has an outer diameter of 150 μm and an inner diameter of 50 μm. In addition, the liquid mixture of the material liquid and the solvent for the vertical alignment film could be more uniformly dispersed by shifting the relative position of both slightly (˜several centimeters) without making the tip of the capillary relative to the center of the glass substrate. In addition, the liquid mixture could be dispersed more uniformly when the distance between the capillary and the glass substrate was set larger.
次に、一対のガラス基板の貼り合わせを行った。基板間距離を一定に保つため、一方のガラス基板上にギャップコントロール材を乾式散布法にて散布した。ギャップコントロール材としては粒径6μmの真し球を用いたが、プラスチックボール等を用いてもよい。また、他方のガラス基板上にはメインシール(および導通材)を形成した。ここでのメインシールの形成にはスクリーン印刷法を用いたが、ディスペンサ等を用いてもよい。シール剤としては熱硬化性のものを用いたが、光硬化性のものや光・熱併用型のものであってもよい。また、シール剤には粒径6μmのグラスファイバーを混入した。また、Auボールなどを含む導通材を所定の位置に印刷した。ここでは上記したシール材に、グラスファイバーの粒径よりも1μm程度ずつ大きな粒径を有するAuボールを混入したものを導通材としてスクリーン印刷した。なお、導通材は他方のガラス基板上に印刷してもよい。その後、一対のガラス基板を所定位置で重ね合わせてセル化し、プレスした状態で熱処理によりシール剤を硬化させた。ここではホットプレス法(150℃焼成)にて熱硬化を行った。 Next, a pair of glass substrates was bonded. In order to keep the distance between the substrates constant, a gap control material was sprayed on one glass substrate by a dry spraying method. Although a true sphere having a particle diameter of 6 μm is used as the gap control material, a plastic ball or the like may be used. Further, a main seal (and a conductive material) was formed on the other glass substrate. Although the screen printing method is used for forming the main seal here, a dispenser or the like may be used. As the sealant, a thermosetting material is used. However, a photocurable material or a combination of light and heat may be used. Further, glass fiber having a particle diameter of 6 μm was mixed in the sealant. In addition, a conductive material including Au balls was printed at a predetermined position. Here, the above-described sealing material mixed with Au balls having a particle size larger by about 1 μm than the particle size of the glass fiber was screen-printed as a conductive material. The conductive material may be printed on the other glass substrate. Thereafter, a pair of glass substrates were superposed at predetermined positions to form cells, and the sealing agent was cured by heat treatment in a pressed state. Here, thermosetting was performed by a hot press method (fired at 150 ° C.).
次に、セル化した一対のガラス基板の間隙に真空注入法によって液晶材料を注入し、注入口をエンドシール剤によって封止した。これにより一対のガラス基板の間に液晶層が形成された。その後、液晶層の配向を整えるために、液晶材料の相転移温度以上にセルを加熱した。ここでは、オーブンにより120℃・30分間の熱処理を行った。 Next, a liquid crystal material was injected into a gap between a pair of glass substrates formed by a cell by a vacuum injection method, and the injection port was sealed with an end sealant. Thereby, a liquid crystal layer was formed between the pair of glass substrates. Thereafter, in order to adjust the alignment of the liquid crystal layer, the cell was heated to a temperature higher than the phase transition temperature of the liquid crystal material. Here, heat treatment was performed in an oven at 120 ° C. for 30 minutes.
次に、洗剤や有機溶剤によってセルを洗浄し、一対のガラス基板の各外側に偏光板を貼り合わせた。以上により液晶素子が完成した。 Next, the cell was washed with a detergent or an organic solvent, and a polarizing plate was bonded to each outside of the pair of glass substrates. Thus, a liquid crystal element was completed.
図7(A)〜図7(C)は、それぞれ実施例の液晶素子の偏光顕微鏡による観察像を示す図である。図7(A)はエレクトロスプレー堆積法に用いる電極の幅を50μmとした場合の観察像であり、図7(B)はエレクトロスプレー堆積法に用いる電極の幅を200μmとした場合の観察像であり、図7(C)はエレクトロスプレー堆積法に用いる電極の幅を250μmとした場合の観察像である。いずれの図においても「A,P」は偏光板の透過軸方向を示し、「R」はラビング方向を示している。また、各図において図中で黒色に見えている部分が電極の設けられた領域である。各図に示すように、電極の存在する領域に対して選択的に垂直配向膜を形成できており、それ以外の領域は下地の水平配向膜が露出していることが分かる。なお、ここでは代表的な観察像を示したが、これら以外にも電極の配置ピッチを変更した液晶素子を形成してそれらを観察したところ、少なくとも25μm〜400μmの配置ピッチの範囲内において、電極の存在する領域に対して選択的に垂直配向膜を形成できることを確認した。 FIG. 7A to FIG. 7C are diagrams illustrating images observed with a polarizing microscope of the liquid crystal elements of the examples. FIG. 7A is an observation image when the width of the electrode used for the electrospray deposition method is 50 μm, and FIG. 7B is an observation image when the width of the electrode used for the electrospray deposition method is 200 μm. FIG. 7C is an observation image when the width of the electrode used in the electrospray deposition method is 250 μm. In any of the drawings, “A, P” indicates the transmission axis direction of the polarizing plate, and “R” indicates the rubbing direction. Moreover, in each figure, the part which is visible in the figure is an area | region where the electrode was provided. As shown in each figure, it can be seen that the vertical alignment film can be selectively formed in the region where the electrodes exist, and the underlying horizontal alignment film is exposed in the other regions. In addition, although the typical observation image was shown here, when forming the liquid crystal element which changed the arrangement pitch of an electrode besides these and observing them, in the range of the arrangement pitch of at least 25 micrometers-400 micrometers, it is an electrode. It was confirmed that the vertical alignment film can be selectively formed in the region where the film exists.
なお、本発明は上述した実施形態等の内容に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。例えば、上記した実施形態による液晶素子(あるいは液晶表示装置)の構造並びに製造方法は、特開2011−107376号公報等の特許文献に開示される2つの配向状態間の遷移を利用した新規なツイストネマティック型液晶素子のようなメモリー性を有する液晶素子(あるいは液晶表示装置)にも適用することが可能である。 Note that the present invention is not limited to the contents of the above-described embodiment and the like, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention. For example, the structure and manufacturing method of the liquid crystal element (or liquid crystal display device) according to the above-described embodiment is a novel twist that utilizes a transition between two alignment states disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-107376. The present invention can also be applied to a liquid crystal element (or a liquid crystal display device) having a memory property such as a nematic liquid crystal element.
図8(A)〜図8(C)は、メモリー性を有する液晶素子における適用例を説明するための模式図である。上記のようなメモリー性を有する液晶素子においては配向状態間を遷移させた後の保持時間をより長くするために高分子安定化処理を行う場合があるが、液晶層内に高分子ネットワークを形成するための紫外線照射工程が増加するという不都合がある。また、電極内に他の配向状態が存在するために特性に影響を与えるという不都合もある。これに対して、図8(A)に示すように、上基板201の電極203および下基板202の電極204と重なる領域に上記のような方法によって選択的に配向膜を形成することで、電極の存在する領域とそれ以外の領域とで液晶層207の配向状態を変えることができる。この場合、図8(B)に示すように各電極203、204を介して液晶層207に電圧を印加することによって液晶層207の各電極203、204に挟まれた領域の配向状態を遷移させた後、電圧印加を解除すると、図8(C)に示すように配向状態の遷移した領域のみその配向状態を維持する。各電極203、204の形成領域以外の領域には予め保持したい配向状態に対応する配向膜を形成しておくことで、特性に影響することはない。 8A to 8C are schematic views for explaining application examples in a liquid crystal element having a memory property. In the liquid crystal element having the above memory property, there is a case where a polymer stabilization treatment is performed in order to extend the holding time after transition between alignment states, but a polymer network is formed in the liquid crystal layer. There is an inconvenience that the number of ultraviolet irradiation steps for the increase is increased. Another disadvantage is that the characteristics are affected by the presence of other alignment states in the electrode. On the other hand, as shown in FIG. 8A, an alignment film is selectively formed by a method as described above in a region overlapping with the electrode 203 of the upper substrate 201 and the electrode 204 of the lower substrate 202. The alignment state of the liquid crystal layer 207 can be changed between the region where the liquid crystal exists and the other region. In this case, as shown in FIG. 8B, a voltage is applied to the liquid crystal layer 207 via the electrodes 203 and 204 to change the alignment state of the region sandwiched between the electrodes 203 and 204 of the liquid crystal layer 207. Thereafter, when the voltage application is released, as shown in FIG. 8C, the alignment state is maintained only in the region where the alignment state is changed. By forming an alignment film corresponding to the alignment state to be held in advance in a region other than the region where the electrodes 203 and 204 are formed, the characteristics are not affected.
11:第1基板
12:第2基板
13:第1電極
14:第2電極
15、16、18、19:配向膜
17:液晶層
21:第1偏光板
22:第2偏光板
100:キャピラリー
101:基板
102:電極
103:配向膜液
104:電圧印加装置
105:微小液滴(霧状体)
106、107:配向膜
110:シリンジ
111:基板ホルダー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11: 1st board | substrate 12: 2nd board | substrate 13: 1st electrode 14: 2nd electrode 15, 16, 18, 19: Orientation film 17: Liquid crystal layer 21: 1st polarizing plate 22: 2nd polarizing plate 100: Capillary 101 : Substrate 102: Electrode 103: Alignment film liquid 104: Voltage application device 105: Fine droplet (mist)
106, 107: Alignment film 110: Syringe 111: Substrate holder
Claims (7)
前記第1基板と前記第2基板の少なくとも一方の一面側を部分的に覆うようにして設けられた導電膜と、
前記導電膜の少なくとも一部を覆うようにして設けられた第1配向膜と、
前記第1基板と前記第2基板の間に設けられた液晶層と、
を含む、液晶素子 A first substrate and a second substrate disposed opposite to each other;
A conductive film provided so as to partially cover at least one side of the first substrate and the second substrate;
A first alignment film provided so as to cover at least a part of the conductive film;
A liquid crystal layer provided between the first substrate and the second substrate;
Including liquid crystal element
を更に含み、
前記第1配向膜は、前記導電膜との間に前記第2配向膜を挟んで設けられた、
請求項1に記載の液晶素子。 A second alignment film provided so as to cover a region overlapping with the conductive film and a peripheral region thereof,
Further including
The first alignment film is provided with the second alignment film sandwiched between the conductive film,
The liquid crystal device according to claim 1.
請求項1又は2に記載の液晶素子。 The first alignment film has a structure in which a plurality of fine alignment film pieces are stacked irregularly,
The liquid crystal device according to claim 1.
請求項1〜3の何れか1項に記載の液晶素子。 The conductive film is an electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer;
The liquid crystal element according to claim 1.
基板上に、当該基板の一面側を部分的に覆う形状の導電膜を形成する第1工程と、
前記基板の前記導電膜と配向膜の材料液との間に相対的に電位差を与えながら前記材料液を放出することにより前記材料液を霧状にして当該霧状の材料液を前記基板の前記導電膜の少なくとも一部と重なる領域に対して選択的に散布する第2工程と、
散布された前記材料液を固化させることにより第1配向膜を形成する第3工程と、
を含む、液晶用の配向膜製造方法。 A method for producing an alignment film for liquid crystal on a substrate,
A first step of forming a conductive film having a shape partially covering one surface side of the substrate on the substrate;
The material liquid is atomized by discharging the material liquid while applying a relative potential difference between the conductive film of the substrate and the material liquid of the alignment film. A second step of selectively spreading over a region overlapping at least part of the conductive film;
A third step of forming the first alignment film by solidifying the dispersed material liquid;
A method for producing an alignment film for liquid crystal, comprising:
請求項4に記載の液晶用の配向膜製造方法。 After the first step, further includes a fourth step of forming a second alignment film covering a region overlapping with the conductive film and a peripheral region thereof.
The method for producing an alignment film for liquid crystal according to claim 4.
前記第1基板と前記第2基板を対向配置させる基板配置工程と、
前記第1基板と前記第2基板の間に液晶層を形成する液晶層形成工程と、
を含み、
前記配向膜形成工程が請求項5又は6に記載の製造方法を用いて行われる、
液晶素子の製造方法。 An alignment film forming step of forming an alignment film on at least one surface side of the first substrate and the second substrate;
A substrate placement step of placing the first substrate and the second substrate facing each other;
A liquid crystal layer forming step of forming a liquid crystal layer between the first substrate and the second substrate;
Including
The alignment film forming step is performed using the manufacturing method according to claim 5 or 6.
A method for manufacturing a liquid crystal element.
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