JP2014115271A - アミロイドの検出方法及びアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス上に固定化されたアミロイド結合性化合物とアミロイドとを相互作用させる工程と、該相互作用によるゲート電極上の表面電位変化を検出する工程とを含むことを特徴とするアミロイドの検出方法。
【選択図】図9
Description
請求項1:
アミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス上に固定化されたアミロイド結合性化合物とアミロイドとを相互作用させる工程と、
該相互作用によるゲート電極上の表面電位変化を検出する工程と
を含むことを特徴とするアミロイドの検出方法。
請求項2:
上記アミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイスが、半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有するアルコキシシランの単分子膜からなる第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜にアミロイド結合性化合物を上記反応性官能基を介して直接又は架橋分子を用いて結合させてなる、アミロイド結合性化合物/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えるものである請求項1記載のアミロイドの検出方法。
請求項3:
上記アミロイド結合性化合物が、コンゴーレッドである請求項1又は2記載のアミロイドの検出方法。
請求項4:
半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有するアルコキシシランの単分子膜からなる第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜にアミロイド結合性化合物を上記反応性官能基を介して直接又は架橋分子を用いて結合させてなる、アミロイド結合性化合物/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えることを特徴とするアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
請求項5:
上記反応性官能基を有するアルコキシシランが、下記式(1)で表される請求項4記載のアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
請求項6:
上記アミロイド結合性化合物が、コンゴーレッドである請求項4又は5記載のアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
で表されるトリアルコキシシランの単分子膜であることが好ましい。
CH3(CH2)7Si(OCH3)3、CH3(CH2)7Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)8Si(OCH3)3、CH3(CH2)8Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)9Si(OCH3)3、CH3(CH2)9Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)10Si(OCH3)3、CH3(CH2)10Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)11Si(OCH3)3、CH3(CH2)11Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)12Si(OCH3)3、CH3(CH2)12Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)13Si(OCH3)3、CH3(CH2)13Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)14Si(OCH3)3、CH3(CH2)14Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)15Si(OCH3)3、CH3(CH2)15Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)16Si(OCH3)3、CH3(CH2)16Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)17Si(OCH3)3、CH3(CH2)17Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)18Si(OCH3)3、CH3(CH2)18Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)19Si(OCH3)3、CH3(CH2)19Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)20Si(OCH3)3、CH3(CH2)20Si(OC2H5)3、
CH3(CH2)21Si(OCH3)3、CH3(CH2)21Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)5(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)5(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)6(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)6(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)7(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)7(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)8(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)8(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)9(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)9(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)10(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)10(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)11(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)11(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)12(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)12(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)13(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)13(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)14(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)14(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)15(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)15(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)16(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)16(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)17(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)17(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)18(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)18(CH2)2Si(OC2H5)3、
CF3(CF2)19(CH2)2Si(OCH3)3、CF3(CF2)19(CH2)2Si(OC2H5)3
等が挙げられる。
本発明のデバイスは、アミロイド結合性化合物を高密度に固定できるため、アミロイドを高感度に検出することが可能である。また、アミロイドとの結合部位が有機単分子膜界面から近くなるため、生理的条件下におけるアミロイドの検出が可能となる。
[実施例1]
コンゴーレッド/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えるデバイスを構築した。絶縁層としてはシリコン酸化物を用いた。検出部の第1の有機単分子膜として、アミノプロピルトリエトキシシランを用いて単分子膜を形成した。以下にデバイス作製方法について記載する。
アミノプロピルトリエトキシシラン(シグマアルドリッチ社製)を1質量%含むトルエン中にデバイスを浸漬し、アルゴン雰囲気下、60℃で7分間静置することで、ゲート上へ単分子膜を成膜した。単分子膜を形成したFETをメタノール/トルエン混合溶媒(質量比1:1)を用いて超音波洗浄し、エタノールでリンスした。
次に、コンゴーレッド(東京化成工業(株)製)を単分子膜に固定化するために、上記FETを2.5質量%グルタルアルデヒド含有1×PBS中に浸漬し、室温で30分間反応させ、単分子膜をグルタルアルデヒド修飾した。グルタルアルデヒド修飾したFETを10ng/mLコンゴーレッド水溶液中に浸漬し、室温で1時間反応させることでコンゴーレッドを単分子膜に固定化した。
[調製例1]アミロイド試料の調製
酵母由来のアミロイド形成性タンパク質であるSup35(線維形成に必要とされているNMドメインのみ)は、非特許文献1(J. Biol. Chem. vol. 276, pp. 35227-35230, 2001)記載の方法にしたがって調製した。Sup35モノマーを8M塩酸グアニジンに溶かして110μMモノマー溶液を調製し、超音波処理(15分、3〜6回)した。次いで、該モノマー溶液を150mM NaCl及び5mMジチオトレイトール(DTT)を含む5mMリン酸カリウムバッファー(pH7.5)で100倍希釈し、容器を4℃で1晩ローテーターにてゆっくり回転させ、seedを形成させた。seedと8M塩酸グアニジンに溶かしたモノマーを100倍量の上記バッファーに加え、4℃にて1日、4日、5日、8日、11日、14日間保存し、Sup35がオリゴマー化、ファイバー化及びプラーク化した試料を調製した。
実施例1で作製したコンゴーレッド固定化半導体センシングデバイスをホルダーに設置し、デバイスの検出部を0.01×PBS0.3mLに10分間浸漬した。浸漬後、室温で、アミロイド結合性化合物固定化デバイスの電流−電圧曲線を、Ag/AgCl参照電極を用い、デジタルソースメータ(ケースレー社製、2612)で測定した。測定条件はゲート電圧−3V〜1V、ドレイン電圧0.5Vとした。更に、ゲート表面上に調製例1で調製した試料を添加し、30分間静置した後、1×PBS10mLで洗浄し、次いで0.01×PBS3mLを用いてリンスを行った。その後、ゲート表面上に0.01×PBSを0.5mL添加して10分間静置した後、タンパク質吸着デバイスの電流−電圧曲線を測定し、アミロイド試料添加前後でのゲート電圧シフトΔVgを評価した。
比較例として、調製例1で調製した試料の代わりにコンゴーレッドに結合活性を示さないタンパク質である150nMヒト血清アルブミン(HSA)を含む1×PBSを用いた以外は、実施例2と同じ方法でHSA添加前後でのゲート電圧シフトΔVgを評価した。
[調製例2]ヒトアミロイドβ試料の調製
ヒトアミロイドβ(1−42)及びヒトアミロイドβ(1−40)モノマー((株)ペプチド研究所製)をそれぞれ100μMになるように0.01質量%アンモニア含有1×PBSに溶解した後、37℃で1、2、3、5、7日間インキュベートし、試料を調製した。
実施例1で作製したコンゴーレッド固定化半導体センシングデバイスをホルダーに設置し、デバイスの検出部を0.01×PBS0.5mLに10分間浸漬した。浸漬後、室温で、アミロイド結合性化合物固定化デバイスの電流−電圧曲線を、Ag/AgCl参照電極を用い、デジタルソースメータ(ケースレー社製、2612)で測定した。測定条件はゲート電圧−3V〜1V、ドレイン電圧0.5Vとした。更に、ゲート表面上に調製例2で調製した試料を添加し、30分間静置した後、1×PBS3mLで洗浄し、次いで0.01×PBS3mLを用いてリンスを行った。その後、ゲート表面上に0.01×PBSを0.5mL添加して10分間静置した後、タンパク質吸着デバイスの電流−電圧曲線を測定し、試料添加前後でのゲート電圧シフトΔVgを評価した。
表2及び図6に示すように、十分なファイバー形成がされたヒトアミロイドβ(1−42)の成長日数3日目の試料において、強いFET応答が観測された。一方、ヒトアミロイドβ(1−42)の成長日数が1、2、5、7日目の試料においては、十分にファイバーが形成されなかったため、FET応答は成長日数3日目の試料に比べて弱いものとなった。
また、ヒトアミロイドβ(1−42)とヒトアミロイドβ(1−40)に対する応答を比較したところ、ヒトアミロイドβ(1−42)検出が可能な成長日数であっても、凝集能の低いヒトアミロイドβ(1−40)においてはFET応答は観測されなかった。
よって、本実験からコンゴーレッド修飾FETのヒトアミロイドβファイバーへの特異的な応答が示された。
[調製例3]ヒトアミロイドβ試料の調製
ヒトアミロイドβ(1−42)((株)ペプチド研究所製)を100μMになるように0.01質量%アンモニア含有1×PBSに溶解した後、37℃で3日間インキュベートし、0.01質量%アンモニア含有1×PBSで希釈して下記表2に示す希釈系列を作製し、試料を調製した。
調製例2で調製したヒトアミロイドβ試料の代わりに調製例3で調製したヒトアミロイドβ試料を用いた以外は、実施例3と同じ方法でヒトアミロイドβ試料添加前後におけるゲート電圧シフトΔVgを評価した。
比較例として、調製例2で調製した試料の代わりにコンゴーレッドに結合活性を示さないタンパク質である100μM HSAを含む0.01質量%アンモニア含有1×PBSを用いた以外は、実施例3と同じ方法でHSA添加前後でのゲート電圧シフトΔVgを評価した。
2 絶縁層
3 第1の有機単分子膜
4 ゲート電極
5 ソース電極
6 ドレイン電極
7 ドープ領域
8 参照部
9 検出部
10 テンプレート部
11 アミロイド結合性化合物
12 アミロイド
Claims (6)
- アミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス上に固定化されたアミロイド結合性化合物とアミロイドとを相互作用させる工程と、
該相互作用によるゲート電極上の表面電位変化を検出する工程と
を含むことを特徴とするアミロイドの検出方法。 - 上記アミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイスが、半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有するアルコキシシランの単分子膜からなる第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜にアミロイド結合性化合物を上記反応性官能基を介して直接又は架橋分子を用いて結合させてなる、アミロイド結合性化合物/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えるものである請求項1記載のアミロイドの検出方法。
- 上記アミロイド結合性化合物が、コンゴーレッドである請求項1又は2記載のアミロイドの検出方法。
- 半導体上に反応ゲート絶縁部としてシリコン酸化物又は無機酸化物を含む第1の絶縁層が形成された電界効果トランジスタの上記第1の絶縁層の上に、反応性官能基を有するアルコキシシランの単分子膜からなる第1の有機単分子膜を形成し、該第1の有機単分子膜にアミロイド結合性化合物を上記反応性官能基を介して直接又は架橋分子を用いて結合させてなる、アミロイド結合性化合物/有機単分子膜/絶縁層/半導体構造を検出部として備えることを特徴とするアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
- 上記反応性官能基を有するアルコキシシランが、下記式(1)で表される請求項4記載のアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
- 上記アミロイド結合性化合物が、コンゴーレッドである請求項4又は5記載のアミロイド結合性化合物固定化半導体センシングデバイス。
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