JP2014106215A - Sensor chip and measuring apparatus - Google Patents

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Yoshikazu Kurihara
義一 栗原
Takanori Murayama
貴紀 村山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To measure intermolecular interaction with high sensitivity and with high accuracy compared to those in a conventional sensor chip.SOLUTION: A sensor chip 12 having a substrate 12a provided with a thin film 12b on a contact face between a sample solution 60 and the substrate 12a is used in a measuring device 1 for intermolecular interaction. The measuring device 1 comprises: a light source 20; a spectrometer 30 configured to detect the spectral intensity of received light; an optical fiber 40A configured to transmit emission light from the light source 20 and to emit it to the sensor chip 12; and a light transmission part 40 having optical fiber 40B configured to transmit reflection light from the sensor chip 12 resulting from the emission light, to the spectrometer 30. In the sensor chip 12, the wavelength λ[nm] at which the reflectance of the reflection light is the lowest with respect to the wavelength λ[nm] at which the spectral intensity of the emission light is the highest satisfies (λ-10)≤λ≤(λ+10).

Description

本発明は、センサーチップ及び測定装置に関する。   The present invention relates to a sensor chip and a measuring device.

従来、抗原抗体反応などの生体分子同士の分子間相互作用や、有機高分子同士の分子間相互作用などの結合の測定は、一般的に、放射性物質や蛍光体などの標識を用いることで行われてきた。この標識には手間がかかり、特にタンパク質への標識は方法が煩雑な場合や標識によりタンパク質の性質が変化する場合があった。そこで、近年では、生体分子や有機高分子間の結合を、簡便に標識を用いることなく直接的に検出する手段として、光学薄膜の干渉色変化を利用したRIfS方式(Reflectometric interference spectroscopy:反射型干渉分光法)が知られている(特許文献1、非特許文献1参照)。   Conventionally, the measurement of bonds such as intermolecular interactions between biomolecules such as antigen-antibody reactions and intermolecular interactions between organic macromolecules is generally performed by using labels such as radioactive substances and phosphors. I have been. This labeling takes time, and in particular, labeling a protein may involve complicated methods or the property of the protein may change depending on the labeling. Therefore, in recent years, as a means for directly detecting a bond between a biomolecule and an organic polymer directly without using a label, the RIfS method (Reflectometric interference spectroscopy) using interference color change of an optical thin film is used. Spectroscopy) is known (see Patent Document 1 and Non-Patent Document 1).

RIfS方式について簡単に説明すると、この方式では、図9に示すように、基板102の上面に光学薄膜104が設けられたセンサーチップ101が用いられる。図9(a)に示すように、基板102上の光学薄膜104に対し白色光を照射した場合、図10の典型的な一例に示すとおり、白色光そのものの分光強度は実線106で表され、その反射光の分光強度は実線108で表される。照射した白色光とその反射光との各分光強度から反射率を求めると、図11に示すとおり、実線で表されたボトムピーク(スペクトル曲線における極小部)を有する反射スペクトル110が得られる。   The RIfS method will be briefly described. In this method, as shown in FIG. 9, a sensor chip 101 in which an optical thin film 104 is provided on the upper surface of a substrate 102 is used. As shown in FIG. 9A, when the optical thin film 104 on the substrate 102 is irradiated with white light, the spectral intensity of the white light itself is represented by a solid line 106 as shown in a typical example of FIG. The spectral intensity of the reflected light is represented by a solid line 108. When the reflectance is obtained from the spectral intensities of the irradiated white light and the reflected light, a reflection spectrum 110 having a bottom peak (minimum part in the spectrum curve) represented by a solid line is obtained as shown in FIG.

分子間相互作用を検出するにあたっては、図9(b)に示すとおり、光学薄膜104上にリガンド120が設けられる。光学薄膜104上にリガンド120を設けると、リガンド120が設けられた部位における光学的厚さ112が変化して光路長が変化し、反射干渉効果により干渉波長も変化する。すなわち、反射光の分光強度分布のピーク位置がシフトし、その結果、図11に示すとおり、反射スペクトル110が反射スペクトル122(点線部参照)にシフトする。この状態において、光学薄膜104上にサンプル溶液を流すと、図9(c)に示すとおり、リガンド120とサンプル溶液中のアナライト130とが結合する。リガンド120とアナライト130とが結合すると、アナライト130が結合した部位における光学的厚さ112がさらに変化する。リガンド120に対してアナライト130が部分的に付着することによって不均質な層が生成されるが、この不均質層は巨視的にみればアナライト130の付着量に応じた所定の光学的厚さを有する均質層に置き換えられる。従って、入射光の通過する均質層の光学的厚さがアナライト130の付着量に応じて変化することとなる。これによって、図11に示すとおり、反射スペクトル122が反射スペクトル132(1点鎖線部参照)にシフトする。そして、反射スペクトル122のボトムピーク波長(反射率が極小値となる波長)に対する反射スペクトル132のボトムピーク波長の変化を検出することにより、分子間相互作用の有無を検出することができる。また、反射スペクトル122のボトムピーク波長に対する反射スペクトル132のボトムピーク波長の変化量(Δλ)を検出することにより、分子間相互作用の進捗度を検出することができるようになっている。   In detecting the intermolecular interaction, a ligand 120 is provided on the optical thin film 104 as shown in FIG. When the ligand 120 is provided on the optical thin film 104, the optical thickness 112 at the site where the ligand 120 is provided changes, the optical path length changes, and the interference wavelength also changes due to the reflection interference effect. That is, the peak position of the spectral intensity distribution of the reflected light is shifted, and as a result, as shown in FIG. 11, the reflected spectrum 110 is shifted to the reflected spectrum 122 (see the dotted line portion). In this state, when the sample solution is allowed to flow on the optical thin film 104, the ligand 120 and the analyte 130 in the sample solution are bonded as shown in FIG. 9C. When the ligand 120 and the analyte 130 are bonded, the optical thickness 112 at the site where the analyte 130 is bonded further changes. The analyte 130 partially adheres to the ligand 120 to generate a heterogeneous layer. This macroscopic layer is macroscopically determined to have a predetermined optical thickness corresponding to the amount of the analyte 130 deposited. It is replaced with a homogeneous layer having a thickness. Accordingly, the optical thickness of the homogeneous layer through which incident light passes changes depending on the amount of the analyte 130 attached. As a result, as shown in FIG. 11, the reflection spectrum 122 is shifted to the reflection spectrum 132 (see the chain line portion). Then, by detecting the change in the bottom peak wavelength of the reflection spectrum 132 with respect to the bottom peak wavelength of the reflection spectrum 122 (the wavelength at which the reflectance becomes a minimum value), the presence or absence of the intermolecular interaction can be detected. Further, by detecting the change amount (Δλ) of the bottom peak wavelength of the reflection spectrum 132 with respect to the bottom peak wavelength of the reflection spectrum 122, the progress of the intermolecular interaction can be detected.

ボトムピーク波長の変化の推移を経時的に観測すると、図12に示すとおり、曲線上の第1のショルダー部である時点140において、リガンド120によるボトムピーク波長の変化を確認することができ、曲線上の第2のショルダー部である時点142において、リガンド120とアナライト130との結合によるボトムピーク波長の変化を確認することができる。   When the transition of the change in the bottom peak wavelength is observed with time, the change in the bottom peak wavelength due to the ligand 120 can be confirmed at the time point 140, which is the first shoulder portion on the curve, as shown in FIG. At the time 142, which is the second shoulder portion above, a change in the bottom peak wavelength due to the binding between the ligand 120 and the analyte 130 can be confirmed.

ところで、相互作用の測定対象であるアナライトは主にタンパク質や核酸であり、大きさが1〜10nmオーダーと微小である。   By the way, the analyte which is the measurement target of the interaction is mainly a protein or a nucleic acid, and its size is as small as 1 to 10 nm.

特許第3786073号公報Japanese Patent No. 3778673

Sandstrom et al, APPL.OPT., 24, 472, 1985Sandstrom et al, APPL.OPT., 24, 472, 1985

しかしながら、従来の分子間相互作用の測定装置では、アナライトが1〜10nmオーダーで微小であると、相互作用に伴う波長変化が小さくなってしまい、感度不足になりやすい。そして、感度不足の場合には、サンプル溶液の使用量を多くする必要が生じ、サンプル溶液の購入や調整にコストや手間がかかってしまう。
また、従来の分子間相互作用の測定装置に対しては、測定精度のいっそうの向上が望まれている。
However, in the conventional intermolecular interaction measuring apparatus, if the analyte is very small on the order of 1 to 10 nm, the wavelength change associated with the interaction becomes small, and the sensitivity tends to be insufficient. If the sensitivity is insufficient, it is necessary to increase the amount of the sample solution used, and cost and labor are required to purchase and adjust the sample solution.
Further, for a conventional intermolecular interaction measuring apparatus, further improvement in measurement accuracy is desired.

そこで、本発明の目的は、従来より高感度かつ高精度に分子間相互作用を測定することのできるセンサーチップ及び測定装置を提供することである。   Therefore, an object of the present invention is to provide a sensor chip and a measuring apparatus that can measure an intermolecular interaction with higher sensitivity and higher accuracy than before.

以上の課題を解決するための請求項1に係る発明は、
サンプル溶液との接触面に薄膜が設けられた基板を有し、分子間相互作用の測定装置で用いられるセンサーチップにおいて、
前記測定装置は、
光源と、
受光する光の分光強度を検出する分光器と、
前記光源からの照射光を伝達して当該センサーチップに照射させる第一の光伝達経路、及び、前記照射光に起因する当該センサーチップからの反射光を前記分光器に伝達する第二の光伝達経路を有する光伝達部と、を備え、
当該センサーチップは、
前記照射光の分光強度が最大となる波長λ[nm]に対し、
前記反射光の反射率が最小となる波長λ[nm]が、
(λ−10)≦λ≦(λ+10)
を満たすことを特徴とする。
The invention according to claim 1 for solving the above problems is as follows:
In a sensor chip that has a substrate provided with a thin film on the contact surface with a sample solution and is used in a measurement device for intermolecular interaction,
The measuring device is
A light source;
A spectroscope that detects the spectral intensity of the received light;
A first light transmission path for transmitting irradiation light from the light source to irradiate the sensor chip, and a second light transmission for transmitting reflected light from the sensor chip due to the irradiation light to the spectrometer A light transmission part having a path,
The sensor chip is
For the wavelength λ 1 [nm] at which the spectral intensity of the irradiation light is maximum,
The wavelength λ 0 [nm] at which the reflectance of the reflected light is minimized is
1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10)
It is characterized by satisfying.

請求項2記載の発明は、請求項1記載のセンサーチップにおいて、
前記光源は、
可視光を照射することを特徴とする。
The invention according to claim 2 is the sensor chip according to claim 1,
The light source is
It is characterized by irradiating visible light.

請求項3記載の発明は、請求項1または2記載のセンサーチップにおいて、
前記光源は、
白色光を照射することを特徴とする。
The invention described in claim 3 is the sensor chip according to claim 1 or 2,
The light source is
It is characterized by irradiating white light.

請求項4記載の発明は、請求項1〜3の何れか一項に記載のセンサーチップにおいて、
前記基板は、
シリコンまたはゲルマニウムによって形成されていることを特徴とする。
The invention according to claim 4 is the sensor chip according to any one of claims 1 to 3,
The substrate is
It is characterized by being formed of silicon or germanium.

請求項5記載の発明は、請求項1〜4の何れか一項に記載のセンサーチップにおいて、
前記薄膜は、
窒化シリコン、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ハフニウムまたはインジウムスズ酸化物によって形成されていることを特徴とする。
The invention according to claim 5 is the sensor chip according to any one of claims 1 to 4,
The thin film is
It is formed of silicon nitride, titanium dioxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, hafnium oxide or indium tin oxide.

請求項6記載の発明は、分子間相互作用の測定装置において、
サンプル溶液との接触面に薄膜が設けられた基板を有するセンサーチップと、
光源と、
受光する光の分光強度を検出する分光器と、
前記光源からの照射光を伝達して前記センサーチップに照射させる第一の光伝達経路、及び、前記照射光に起因する前記センサーチップからの反射光を前記分光器に伝達する第二の光伝達経路を有する光伝達部と、を備え、
前記照射光の分光強度が最大となる波長λ[nm]と、
前記反射光の反射率が最小となる波長λ[nm]とが(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすことを特徴とする。
The invention according to claim 6 is an apparatus for measuring an interaction between molecules,
A sensor chip having a substrate provided with a thin film on the contact surface with the sample solution;
A light source;
A spectroscope that detects the spectral intensity of the received light;
A first light transmission path for transmitting irradiation light from the light source to irradiate the sensor chip, and a second light transmission for transmitting reflected light from the sensor chip due to the irradiation light to the spectrometer A light transmission part having a path,
A wavelength λ 1 [nm] at which the spectral intensity of the irradiation light is maximized;
The wavelength λ 0 [nm] at which the reflectance of the reflected light is minimum satisfies (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10).

請求項7記載の発明は、請求項6記載の測定装置において、
前記光源は、
可視光を照射することを特徴とする。
The invention according to claim 7 is the measuring apparatus according to claim 6,
The light source is
It is characterized by irradiating visible light.

請求項8記載の発明は、請求項6または7記載の測定装置において、
前記光源は、
白色光を照射することを特徴とする。
The invention according to claim 8 is the measuring apparatus according to claim 6 or 7,
The light source is
It is characterized by irradiating white light.

請求項9記載の発明は、請求項6〜8の何れか一項に記載の測定装置において、
前記基板は、
シリコンまたはゲルマニウムによって形成されていることを特徴とする。
The invention according to claim 9 is the measuring apparatus according to any one of claims 6 to 8, wherein
The substrate is
It is characterized by being formed of silicon or germanium.

請求項10記載の発明は、請求項6〜9の何れか一項に記載の測定装置において、
前記薄膜は、
窒化シリコン、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ハフニウムまたはインジウムスズ酸化物によって形成されていることを特徴とする。
A tenth aspect of the present invention is the measuring apparatus according to any one of the sixth to ninth aspects,
The thin film is
It is formed of silicon nitride, titanium dioxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, hafnium oxide or indium tin oxide.

本発明によれば、従来より高感度かつ高精度に分子間相互作用を測定することができる。   According to the present invention, intermolecular interactions can be measured with higher sensitivity and higher accuracy than in the past.

分子間相互作用の測定システムの概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the measurement system of intermolecular interaction. 検出器と、光伝達部とによる検出の様子を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the mode of the detection by a detector and a light transmission part. 検出器と、光伝達部とによる検出の様子を示す斜視図であり、図2に対して密閉流路を幅広にしたものである。It is a perspective view which shows the mode of a detection by a detector and a light transmission part, and makes the sealed flow path wider than FIG. リガンドとアナライトとの結合の様子を模式的に表した断面図である。It is sectional drawing which represented the mode of the coupling | bonding of a ligand and an analyte typically. 実施例の光源による照射光の分光スペクトルを示す図である。It is a figure which shows the spectral spectrum of the irradiation light by the light source of an Example. 各試料のセンサーチップでの反射率最小波長λ(ボトムピーク波長)の測定結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of reflectance minimum wavelength (lambda) 0 (bottom peak wavelength) in the sensor chip of each sample. 各試料のセンサーチップでの反射率と波長との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the reflectance in the sensor chip of each sample, and a wavelength. 同じサンプルに対する各試料での反射率最小波長λ(ボトムピーク波長)の変化量(Δλ)を示す図である。It is a figure which shows the variation | change_quantity ((DELTA) (lambda)) of the reflectance minimum wavelength (lambda) 0 (bottom peak wavelength) in each sample with respect to the same sample. RIfS方式の概略を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the outline of a RIfS system. 波長と分光強度との概略的な関係を示す一例のグラフである。It is a graph of an example which shows the rough relationship between a wavelength and spectral intensity. 波長と反射率との概略的な関係を示す一例のグラフである。It is a graph of an example which shows the rough relationship between a wavelength and a reflectance. ボトムピーク波長の変化の概略的な推移を示す一例のグラフである。It is a graph of an example which shows the rough transition of the change of a bottom peak wavelength.

以下に本発明の一実施形態につき図面を参照して説明する。以下は本発明の一実施形態であって本発明を限定するものではない。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. The following is one embodiment of the present invention and does not limit the present invention.

図1に示すとおり、分子間相互作用の測定システム100は、測定装置1及び制御演算装置50を備えている。   As shown in FIG. 1, the intermolecular interaction measurement system 100 includes a measurement device 1 and a control arithmetic device 50.

測定装置1は、検出器10,光源20,分光器30,光伝達部40を備えており、分子間相互作用が進捗する光学薄膜からの反射光の分光特性を検出するようになっている。   The measuring apparatus 1 includes a detector 10, a light source 20, a spectrometer 30, and a light transmission unit 40, and detects the spectral characteristics of reflected light from an optical thin film in which intermolecular interaction proceeds.

このうち、検出器10は基本的にはセンサーチップ12,フローセル14から構成されている。
ここで、図2、図3に検出器10と、光伝達部40とによる検出の様子を斜視図で示す。
Among these, the detector 10 basically includes a sensor chip 12 and a flow cell 14.
Here, FIGS. 2 and 3 are perspective views showing detection by the detector 10 and the light transmission unit 40. FIG.

これらの図に示すように、センサーチップ12は、サンプル溶液60を流すための密閉流路14bの少なくとも一部を画成する矩形状の部材である。このセンサーチップ12は、図1に示すように、基板12aと、当該基板12aにおけるサンプル溶液60との接触面(本実施形態においては上面)に設けられた光学薄膜(以下、薄膜とする)12bとを有している。   As shown in these drawings, the sensor chip 12 is a rectangular member that defines at least a part of the sealed flow path 14 b for flowing the sample solution 60. As shown in FIG. 1, the sensor chip 12 includes an optical thin film (hereinafter referred to as a thin film) 12b provided on a contact surface (an upper surface in the present embodiment) between the substrate 12a and the sample solution 60 on the substrate 12a. And have.

基板12aは、シリコンまたはゲルマニウムによって形成されており、本実施の形態においてはシリコンによって形成されている。   The substrate 12a is made of silicon or germanium, and is made of silicon in the present embodiment.

薄膜12bは、窒化シリコン、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ハフニウムまたはインジウムスズ酸化物によって形成されており、本実施の形態においては、窒化シリコンによって形成されている。   The thin film 12b is formed of silicon nitride, titanium dioxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, hafnium oxide, or indium tin oxide, and in this embodiment, is formed of silicon nitride.

この薄膜12bの表層部には、サンプル溶液60中のアナライト62を捕捉するリガンドの層が含まれていても良い(図1参照)。なお、アナライト62とは、リガンドと特異的に結合する物質であり、検出しようとする目的の分子である。アナライト62としては、例えばタンパク質,核酸,脂質,糖などの生体分子や、薬剤物質,内分泌錯乱化学物質などの生体分子と結合する外来物質などが使用される。   The surface layer portion of the thin film 12b may include a layer of a ligand that captures the analyte 62 in the sample solution 60 (see FIG. 1). The analyte 62 is a substance that specifically binds to a ligand and is a target molecule to be detected. As the analyte 62, for example, biomolecules such as proteins, nucleic acids, lipids, and sugars, and foreign substances that bind to biomolecules such as drug substances and endocrine confusion chemical substances are used.

ここで、光源20からの照射光がセンサーチップ12で反射したときの反射光の反射率の最小波長(つまりボトムピーク波長。以下、反射率最小波長とする)λ[nm]は、薄膜12bの光学膜厚nd(=薄膜12bの屈折率n×物理膜厚d)によって決定される。λについての計算上の値と測定値とは異なる可能性があるものの、一般的には、基板12aや薄膜12bはそれぞれ光を波長ごとに分散させる光学特性を持ち、反射率最小波長λはλ/4=ndの関係を満たす。そして、本発明における薄膜12bの膜厚dは、光源20からの照射光の分光強度の最大波長(以下、光源ピーク波長とする)λ[nm]に対し、λが(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすように設計されている。 Here, the minimum wavelength (that is, the bottom peak wavelength; hereinafter referred to as the minimum reflectance wavelength) λ 0 [nm] of the reflected light when the light emitted from the light source 20 is reflected by the sensor chip 12 is the thin film 12b. Is determined by the optical film thickness nd (= refractive index n of thin film 12b × physical film thickness d). Although the calculated value and the measured value of λ 0 may be different, in general, the substrate 12a and the thin film 12b have optical characteristics for dispersing light for each wavelength, and the minimum reflectance wavelength λ 0. satisfy the relationship of λ 0/4 = nd. The film thickness d of the thin film 12b in the present invention is such that λ 0 is (λ 1 -10) with respect to λ 1 [nm] of the maximum wavelength (hereinafter referred to as light source peak wavelength) of the spectral intensity of the irradiation light from the light source 20. ) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10).

フローセル14はシリコーンゴム製の透明な部材である。フローセル14には溝14aが形成されている。フローセル14をセンサーチップ12の上面に密着させると、密閉流路14bが形成される(図1参照)。溝14aの両端部はフローセル14の表面から露出しており、一方の端部がサンプル溶液60の流入口14cとして、他方の端部がその流出口14dとしてそれぞれ機能する。溝14aの底部には、リガンド16が結合されていても良い。   The flow cell 14 is a transparent member made of silicone rubber. A groove 14 a is formed in the flow cell 14. When the flow cell 14 is brought into close contact with the upper surface of the sensor chip 12, a sealed flow path 14b is formed (see FIG. 1). Both ends of the groove 14a are exposed from the surface of the flow cell 14, and one end functions as the inlet 14c of the sample solution 60 and the other end functions as the outlet 14d. The ligand 16 may be bonded to the bottom of the groove 14a.

以上の検出器10では、センサーチップ12に対しフローセル14を貼り替え可能となっており、フローセル14はディスポーザブル(使い捨て)使用が可能となっている。センサーチップ12の表面には、シランカップリング剤などにより表面修飾をおこなってもよく、この場合にはフローセル14の貼り替えが容易となる。   In the above detector 10, the flow cell 14 can be replaced with the sensor chip 12, and the flow cell 14 can be used in a disposable (disposable) manner. The surface of the sensor chip 12 may be modified with a silane coupling agent or the like. In this case, the flow cell 14 can be easily replaced.

図1に示すとおり、フローセル14の密閉流路14bの上方には光伝達部40が設置されている。   As shown in FIG. 1, a light transmission unit 40 is installed above the closed flow path 14 b of the flow cell 14.

この光伝達部40は、光ファイバー40A,40Bを有している。
光ファイバー40Aは、一端がプローブ41(図2,図3参照)内に配設され密閉流路14bに向けて設置されるとともに、他端が光源20に接続されている。これにより光ファイバー40Aは光源20からの照射光を伝達してセンサーチップ12に照射させるようになっている。
The light transmission unit 40 includes optical fibers 40A and 40B.
One end of the optical fiber 40 </ b> A is disposed in the probe 41 (see FIGS. 2 and 3) and is installed toward the sealed flow path 14 b, and the other end is connected to the light source 20. As a result, the optical fiber 40A transmits the irradiation light from the light source 20 to irradiate the sensor chip 12.

一方、光ファイバー40Bは、一端がプローブ41内に配設され密閉流路14bに向けて設置されるとともに、他端が分光器30に接続されている。これにより光ファイバー40Bは光源20からの照射光に起因するセンサーチップ12からの反射光を分光器30に伝達するようになっている。   On the other hand, one end of the optical fiber 40B is disposed in the probe 41 and is installed toward the sealed flow path 14b, and the other end is connected to the spectrometer 30. As a result, the optical fiber 40 </ b> B transmits the reflected light from the sensor chip 12 due to the irradiation light from the light source 20 to the spectrometer 30.

光源20は、可視光を照射するようになっており、より具体的には白色光を照射するようになっている。このような光源20としては、例えばハロゲン光源が使用される。   The light source 20 emits visible light, and more specifically emits white light. As such a light source 20, for example, a halogen light source is used.

分光器30は、受光する光の分光強度を検出するものである。
以上の光伝達部40、光源20及び分光器30によれば、光源20が点灯すると、その光が光ファイバー40Aを介して密閉流路14bに照射され、その反射光が光ファイバー40Bを介して分光器30で検出される。
The spectroscope 30 detects the spectral intensity of the received light.
According to the light transmission unit 40, the light source 20, and the spectroscope 30 described above, when the light source 20 is turned on, the light is irradiated to the sealed flow path 14b through the optical fiber 40A, and the reflected light is transmitted through the optical fiber 40B. 30.

制御演算装置50は、測定装置1に接続され、光源20や分光器30などの制御や、アナライト62の検出情報の演算、情報の出入力などを行うようになっている。   The control arithmetic device 50 is connected to the measuring device 1, and controls the light source 20, the spectroscope 30, etc., calculates the detection information of the analyte 62, and inputs and outputs information.

続いて、測定システム100の動作及び測定方法について説明する。
図1に示すとおり、アナライト62を含みうるサンプル溶液60を、流入口14cから密閉流路14bを経て流出口14dに流通させる。このとき制御演算装置50は、サンプル溶液60の送液駆動装置(図示せず)の制御を行う。
Next, the operation of the measurement system 100 and the measurement method will be described.
As shown in FIG. 1, the sample solution 60 that may contain the analyte 62 is circulated from the inlet 14c to the outlet 14d through the sealed channel 14b. At this time, the control arithmetic device 50 controls a liquid feeding drive device (not shown) for the sample solution 60.

制御演算装置50は、サンプル溶液60が密閉流路14bを流通している間に、光源20を点灯させる。白色光はフローセル14を透過してセンサーチップ12に照射され、その反射光が分光器30で検出される。分光器30により検出された反射光の検出強度は制御演算装置50に送信される。   The control arithmetic device 50 turns on the light source 20 while the sample solution 60 is circulating in the closed flow path 14b. The white light passes through the flow cell 14 and is irradiated to the sensor chip 12, and the reflected light is detected by the spectroscope 30. The detected intensity of the reflected light detected by the spectroscope 30 is transmitted to the control arithmetic device 50.

この場合に、図4に示すとおり、サンプル溶液60中のアナライト62がリガンド16と結合すると、光学的厚さ70が変化し、干渉色(反射率最小波長λ)が変化する。制御演算装置50は、分光器30から、分子間相互作用の開始前や進捗中、終了後の反射光の分光特性の入力を得る。制御演算装置50は、入力された反射光の分光特性に基づき各種測定値を算出する。この測定値としては、例えば、分光反射率の反射率最小波長λや、その変化量である。 In this case, as shown in FIG. 4, when the analyte 62 in the sample solution 60 binds to the ligand 16, the optical thickness 70 changes and the interference color (reflectance minimum wavelength λ 0 ) changes. The control arithmetic device 50 receives from the spectroscope 30 the spectral characteristics of the reflected light before, during and after the start of the intermolecular interaction. The control arithmetic device 50 calculates various measurement values based on the spectral characteristics of the input reflected light. The measured value is, for example, the minimum reflectance wavelength λ 0 of the spectral reflectance or the amount of change thereof.

以上の測定システム100によれば、光源ピーク波長λ[nm]に対し、センサーチップ12の反射率最小波長λ[nm]が(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすので、反射率最小波長λの周辺波長が、光源ピーク波長λの周辺波長でもあることとなる。従って、反射率最小波長λの周辺波長では、照射光の光強度が時間変動に対して揺らがずに安定する結果、反射光の光強度も時間変動に対して揺らがずに安定することとなる。よって、分子間相互作用を検出するにあたっての測定対象波長である反射率最小波長λ付近において、時間変動によるノイズが光強度に生じてしまうのを防止することができるため、従来よりも高精度に分子間相互作用の測定を行うことができる(後述の実施例1を参照)。
また、従来よりも高感度に分子間相互作用の測定を行うことができる(後述の実施例2を参照)。
According to the measurement system 100 described above, the minimum reflectance wavelength λ 0 [nm] of the sensor chip 12 is (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10) with respect to the light source peak wavelength λ 1 [nm]. Therefore, the peripheral wavelength of the minimum reflectance wavelength λ 0 is also the peripheral wavelength of the light source peak wavelength λ 1 . Accordingly, at the peripheral wavelength of the minimum reflectance wavelength λ 0 , the light intensity of the irradiated light is stabilized without fluctuation with respect to time fluctuation, and as a result, the light intensity of the reflected light is stabilized without fluctuation with respect to time fluctuation. . Therefore, it is possible to prevent noise due to time fluctuation from occurring in the light intensity in the vicinity of the minimum reflectance wavelength λ 0 that is the wavelength to be measured for detecting the intermolecular interaction. In addition, intermolecular interactions can be measured (see Example 1 described below).
In addition, intermolecular interactions can be measured with higher sensitivity than in the past (see Example 2 described later).

以上に本発明の実施形態及び変形例について説明した。本発明の技術的範囲は上述した実施形態や変形例に限定されない。また、本発明の適用可能な実施形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で上述の実施形態や変形例から適宜変更可能である。   The embodiment and the modification of the present invention have been described above. The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments and modifications. In addition, the applicable embodiments of the present invention can be appropriately changed from the above-described embodiments and modifications without departing from the spirit of the present invention.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

[1.センサーチップの作製]
センサーチップの試料として、18mm×26mmにダイシングされたシリコン基板(イープライズ社製)上に56.5nmの厚みで窒化シリコンの薄膜が成膜されたセンサーチップ(以下、試料(1)とする)を入手した。
[1. Fabrication of sensor chip]
As a sensor chip sample, a sensor chip (hereinafter referred to as sample (1)) in which a silicon nitride thin film having a thickness of 56.5 nm is formed on a silicon substrate (manufactured by E-Price) diced to 18 mm × 26 mm. Was obtained.

また、同様にして、センサーチップの他の試料として、18mm×26mmにダイシングされたシリコン基板(イープライズ社製)上に66.5nm、71.5nm、76.6nm、86.5nmの厚みで窒化シリコンの薄膜が成膜されたセンサーチップ(以下、試料(2)〜(5)とする)をそれぞれ入手した。   Similarly, another sample of the sensor chip is nitrided at a thickness of 66.5 nm, 71.5 nm, 76.6 nm, and 86.5 nm on a silicon substrate (manufactured by E-Price) diced to 18 mm × 26 mm. Sensor chips (hereinafter referred to as samples (2) to (5)) each having a silicon thin film were obtained.

[2.反射率最小波長λの測定]
分子間相互作用の測定装置として、コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社製のMI-Affinity(商品名)を用いた。この測定装置に用いられている光源はハロゲンランプであり、図5に示すように、光源ピーク波長λが610nmとなっている。
[2. Measurement of minimum reflectance λ 0 ]
MI-Affinity (trade name) manufactured by Konica Minolta Technology Center Co., Ltd. was used as an intermolecular interaction measuring device. The light source used in this measuring apparatus is a halogen lamp, and the light source peak wavelength λ 1 is 610 nm as shown in FIG.

以上の測定装置におけるセンサーチップ用ステージの上に上述の試料(1)〜(5)をそれぞれセットし、25℃のdry条件下において反射率最小波長λの測定を50回(1秒間隔で50秒間)行ったところ、図6に示すような結果が得られた。なお、図6では、縦軸方向の所定目盛(=0.1nm)と比較して反射率最小波長λがどれだけ変動しているかを各グラフで示しており、変動の度合いを比較し易いよう、各試料についてのグラフを上下に離間させて描画している。 The above samples (1) to (5) are set on the sensor chip stage in the above measuring apparatus, and the measurement of the minimum reflectance wavelength λ 0 is performed 50 times (at intervals of 1 second under a dry condition of 25 ° C. 50 seconds), a result as shown in FIG. 6 was obtained. In FIG. 6, each graph shows how much the minimum reflectance wavelength λ 0 varies compared to a predetermined scale (= 0.1 nm) in the vertical axis direction, and the degree of variation can be easily compared. As shown, the graphs for each sample are drawn vertically apart.

この結果から、反射率最小波長λの標準偏差と反射率最小波長λの平均値とを求めたところ、以下の表1に示す通りとなった。また、各試料(1)〜(5)での反射率と波長との関係は、図7に示す通りとなった。 The results were determined the standard deviation of the reflectance minimum wavelength lambda 0 and the average value of the reflectance minimum wavelength lambda 0, it was as shown in Table 1 below. Further, the relationship between the reflectance and the wavelength in each of the samples (1) to (5) is as shown in FIG.

Figure 2014106215
Figure 2014106215

[3.センサーチップの評価]
以上の結果から、試料(1)〜(5)のうち、試料(3)(窒化シリコンの膜厚:71.5nm)で反射率最小波長λ(分子間相互作用の測定時に対象とする波長)付近の光強度が時間変動に対して最も安定することが分かる。
[3. Sensor chip evaluation]
From the above results, among samples (1) to (5), sample (3) (silicon nitride film thickness: 71.5 nm) and reflectance minimum wavelength λ 0 (wavelength to be used when measuring intermolecular interaction) ) It can be seen that the light intensity in the vicinity is most stable against time fluctuation.

ここで、光源ピーク波長λ(=610nm)と、各センサーチップの反射率最小波長λとが(λ−10)≦λ≦(λ+10)の条件式を満たすか否かを検討したところ、試料(3)の反射率最小波長λ(=604nm)は条件式を満たしており、試料(1),(2),(4),(5)の反射率最小波長λ(=497nm,573nm,661nm,734nm)は条件式を満たしていなかった。 Here, whether or not the light source peak wavelength λ 1 (= 610 nm) and the minimum reflectance wavelength λ 0 of each sensor chip satisfy the conditional expression (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10). was examined, the sample reflectance minimum wavelength lambda 0 (= 604 nm) (3) meets the condition, the sample (1), (2), (4), the reflectance minimum wavelength lambda 0 (5) (= 497 nm, 573 nm, 661 nm, 734 nm) did not satisfy the conditional expression.

以上のことから、光源ピーク波長λと反射率最小波長λとを調整し、(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすように薄膜の厚みを設計することで、時間変動によるノイズの発生が防止され、高精度な分子間相互作用の測定が可能になることが分かる。 From the above, by adjusting the light source peak wavelength λ 1 and the minimum reflectance wavelength λ 0 and designing the thickness of the thin film so as to satisfy (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10), It can be seen that the generation of noise due to time fluctuations is prevented, and the intermolecular interaction can be measured with high accuracy.

実施例1と同様の測定装置におけるチップ用ステージの上に、実施例1と同様の試料(1)〜(5)をそれぞれセットし、フローセル(コニカミノルタテクノロジーセンター株式会社製)をセンサーチップ上に装着し、密閉流路を形成した。測定温度は25℃にセットし、ランニングバッファーとして10mMのPBS(Phosphate buffered saline)バッファー(pH7.4)をシリンジポンプ(harvard apparatus社製)により20μl/minの流量にて送液させた。   The same samples (1) to (5) as in Example 1 are set on the chip stage in the same measuring apparatus as in Example 1, and the flow cell (manufactured by Konica Minolta Technology Center Co., Ltd.) is placed on the sensor chip. Mounted to form a sealed channel. The measurement temperature was set to 25 ° C., and 10 mM PBS (Phosphate buffered saline) buffer (pH 7.4) was fed as a running buffer at a flow rate of 20 μl / min by a syringe pump (manufactured by Harvard apparatus).

20分ほど送液を行い、反射率最小波長λ(分子間相互作用の測定時に対象とする波長)付近の光強度の安定を確認した後に、分子間相互作用の測定を開始した。測定開始から10分後に、マニュアルインジェクターを介して100μg/mLのタンパク質「NeutrAvidin」(Thermo Scientific社製)100μLをインジェクトしてランニングバッファーとともに密閉流路に流した。なお、「NeutrAvidin」はセンサーチップの表面に吸着されて薄膜を形成する性質を有している。 The solution was fed for about 20 minutes, and after confirming the stability of the light intensity near the minimum reflectance wavelength λ 0 (the target wavelength when measuring the intermolecular interaction), measurement of the intermolecular interaction was started. Ten minutes after the start of measurement, 100 μL of 100 μg / mL protein “NeutrAvidin” (manufactured by Thermo Scientific) was injected through a manual injector and allowed to flow along with the running buffer in a closed channel. “NeutrAvidin” has the property of forming a thin film by being adsorbed on the surface of the sensor chip.

そして、インジェクトを行ってからの経過時間と、反射光の反射率最小波長λの変化量(Δλ)との関係を調べたところ、図8に示す通りとなった。また、インジェクトを行ってから10分後での変化量(Δλ)は、以下の表2に示す通りとなった。 Then, when the relationship between the elapsed time after the injection and the amount of change (Δλ) in the reflectance minimum wavelength λ 0 of the reflected light was examined, it was as shown in FIG. Further, the amount of change (Δλ) 10 minutes after the injection was as shown in Table 2 below.

Figure 2014106215
Figure 2014106215

このことから、試料(1)〜(5)のうち、試料(3)(窒化シリコンの膜厚:71.5nm)では、試料(1),(2),(4),(5)と比較して、同量のアナライトに対する反射率最小波長λの変化量(Δλ)が大きいことが分かる。 Therefore, of the samples (1) to (5), the sample (3) (silicon nitride film thickness: 71.5 nm) is compared with the samples (1), (2), (4), and (5). Thus, it can be seen that the change amount (Δλ) of the minimum reflectance wavelength λ 0 for the same amount of analyte is large.

よって、光源ピーク波長λと反射率最小波長λとを調整し、(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすように薄膜の厚みを設計することで、高感度な分子間相互作用の測定が可能になることが分かる。 Therefore, by adjusting the light source peak wavelength λ 1 and the minimum reflectance wavelength λ 0 and designing the thickness of the thin film so as to satisfy (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10), high sensitivity is achieved. It can be seen that intermolecular interactions can be measured.

1 測定装置
12 センサーチップ
12a 基板
12b 薄膜
14b 密閉流路
20 光源
30 分光器
40 光伝達部
40A 光ファイバー(第一の光伝達経路)
40B 光ファイバー(第二の光伝達経路)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Measuring apparatus 12 Sensor chip 12a Board | substrate 12b Thin film 14b Sealed flow path 20 Light source 30 Spectrometer 40 Optical transmission part 40A Optical fiber (1st optical transmission path)
40B optical fiber (second optical transmission path)

Claims (10)

サンプル溶液との接触面に薄膜が設けられた基板を有し、分子間相互作用の測定装置で用いられるセンサーチップにおいて、
前記測定装置は、
光源と、
受光する光の分光強度を検出する分光器と、
前記光源からの照射光を伝達して当該センサーチップに照射させる第一の光伝達経路、及び、前記照射光に起因する当該センサーチップからの反射光を前記分光器に伝達する第二の光伝達経路を有する光伝達部と、を備え、
当該センサーチップは、
前記照射光の分光強度が最大となる波長λ[nm]に対し、
前記反射光の反射率が最小となる波長λ[nm]が、
(λ−10)≦λ≦(λ+10)
を満たすことを特徴とするセンサーチップ。
In a sensor chip that has a substrate provided with a thin film on the contact surface with a sample solution and is used in a measurement device for intermolecular interaction,
The measuring device is
A light source;
A spectroscope that detects the spectral intensity of the received light;
A first light transmission path for transmitting irradiation light from the light source to irradiate the sensor chip, and a second light transmission for transmitting reflected light from the sensor chip due to the irradiation light to the spectrometer A light transmission part having a path,
The sensor chip is
For the wavelength λ 1 [nm] at which the spectral intensity of the irradiation light is maximum,
The wavelength λ 0 [nm] at which the reflectance of the reflected light is minimized is
1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10)
Sensor chip characterized by satisfying
請求項1記載のセンサーチップにおいて、
前記光源は、
可視光を照射することを特徴とするセンサーチップ。
The sensor chip according to claim 1,
The light source is
A sensor chip that emits visible light.
請求項1または2記載のセンサーチップにおいて、
前記光源は、
白色光を照射することを特徴とするセンサーチップ。
The sensor chip according to claim 1 or 2,
The light source is
A sensor chip that emits white light.
請求項1〜3の何れか一項に記載のセンサーチップにおいて、
前記基板は、
シリコンまたはゲルマニウムによって形成されていることを特徴とするセンサーチップ。
In the sensor chip according to any one of claims 1 to 3,
The substrate is
A sensor chip formed of silicon or germanium.
請求項1〜4の何れか一項に記載のセンサーチップにおいて、
前記薄膜は、
窒化シリコン、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ハフニウムまたはインジウムスズ酸化物によって形成されていることを特徴とするセンサーチップ。
In the sensor chip according to any one of claims 1 to 4,
The thin film is
A sensor chip formed of silicon nitride, titanium dioxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, hafnium oxide or indium tin oxide.
分子間相互作用の測定装置において、
サンプル溶液との接触面に薄膜が設けられた基板を有するセンサーチップと、
光源と、
受光する光の分光強度を検出する分光器と、
前記光源からの照射光を伝達して前記センサーチップに照射させる第一の光伝達経路、及び、前記照射光に起因する前記センサーチップからの反射光を前記分光器に伝達する第二の光伝達経路を有する光伝達部と、を備え、
前記照射光の分光強度が最大となる波長λ[nm]と、
前記反射光の反射率が最小となる波長λ[nm]とが(λ−10)≦λ≦(λ+10)を満たすことを特徴とする測定装置。
In a measurement device for intermolecular interactions,
A sensor chip having a substrate provided with a thin film on the contact surface with the sample solution;
A light source;
A spectroscope that detects the spectral intensity of the received light;
A first light transmission path for transmitting irradiation light from the light source to irradiate the sensor chip, and a second light transmission for transmitting reflected light from the sensor chip due to the irradiation light to the spectrometer A light transmission part having a path,
A wavelength λ 1 [nm] at which the spectral intensity of the irradiation light is maximized;
The wavelength λ 0 [nm] at which the reflectance of the reflected light is minimum satisfies (λ 1 −10) ≦ λ 0 ≦ (λ 1 +10).
請求項6記載の測定装置において、
前記光源は、
可視光を照射することを特徴とする測定装置。
The measuring device according to claim 6.
The light source is
A measuring apparatus that emits visible light.
請求項6または7記載の測定装置において、
前記光源は、
白色光を照射することを特徴とする測定装置。
The measuring apparatus according to claim 6 or 7,
The light source is
A measuring apparatus that emits white light.
請求項6〜8の何れか一項に記載の測定装置において、
前記基板は、
シリコンまたはゲルマニウムによって形成されていることを特徴とする測定装置。
In the measuring device according to any one of claims 6 to 8,
The substrate is
A measuring apparatus formed of silicon or germanium.
請求項6〜9の何れか一項に記載の測定装置において、
前記薄膜は、
窒化シリコン、二酸化チタン、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ハフニウムまたはインジウムスズ酸化物によって形成されていることを特徴とする測定装置。
In the measuring apparatus as described in any one of Claims 6-9,
The thin film is
A measuring apparatus formed of silicon nitride, titanium dioxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, hafnium oxide or indium tin oxide.
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