JP2014098282A - Vacuum pump unit and vacuum station - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To suppress corrosion of a vacuum pump.SOLUTION: A vacuum pump unit 300 includes a vacuum pump 314 which sucks exhaust from a water collection tank 202 in which sewage and exhaust transported together with the sewage are collected, a hydrogen sulfide removing device 362 which is provided in a feed/discharge pipe 120 linking the water collection tank 202 and vacuum pump 314 to each other and removes a corrosive component included in the exhaust, and a bad odor removing device 360 which is provided in the feed/discharge pipe 120 connected to a downstream side of the vacuum pump 314 and removes a bad odor component included in the exhaust discharged from the vacuum pump 314. The corrosive component is removed upstream from the vacuum pump 314, so that corrosion of the vacuum pump 314 can be suppressed.

Description

本発明は、真空式下水道システムにおける真空ポンプユニット、及び真空ステーションに関するものである。   The present invention relates to a vacuum pump unit and a vacuum station in a vacuum sewer system.

真空式下水道システムは、家庭で発生する生活排水等を含む液体(以下、下水という。)を、真空弁ユニット及び真空下水管を介して真空ステーションへ収集するシステムである。真空ステーションは、下水を収集する原動力となる真空を発生させる真空ポンプ、及び収集された下水を一時貯留する集水タンクなどを備えており、集水タンクに貯留された下水を下水処理場などへ搬送する施設である。   A vacuum sewer system is a system that collects liquid (hereinafter referred to as sewage) including domestic wastewater generated at home to a vacuum station via a vacuum valve unit and a vacuum sewage pipe. The vacuum station is equipped with a vacuum pump that generates vacuum as a driving force for collecting sewage, a water collection tank that temporarily stores the collected sewage, and the sewage stored in the water collection tank to a sewage treatment plant, etc. It is a transport facility.

真空ポンプは、下水を同伴搬送する気体(以下、排気という。)を集水タンクから吸引することによって、集水タンク内を負圧(−80kPa〜−50kPa程度)にする。また、集水タンクには、真空下水管を介して真空弁ユニットが接続されている。真空ポンプによって集水タンク内を負圧にすることによって、真空弁ユニットに一時的に貯められた下水は、真空下水管を介して排気とともに搬送されて集水タンクへ貯められる。   The vacuum pump draws a gas (hereinafter referred to as “exhaust”) accompanying sewage from the water collection tank, thereby bringing the inside of the water collection tank to a negative pressure (about −80 kPa to −50 kPa). Further, a vacuum valve unit is connected to the water collection tank via a vacuum sewage pipe. By making the inside of the water collection tank have a negative pressure by the vacuum pump, the sewage temporarily stored in the vacuum valve unit is transported along with the exhaust through the vacuum sewage pipe and stored in the water collection tank.

従来の真空ステーションの一形態として、特許文献1に記載されているように、真空ポンプユニット及び排気に含まれる臭気成分の除去を行う脱臭装置を地上に設置するとともに、集水タンクユニットを地下に埋設する道路下埋設型のものが知られていた。   As one form of a conventional vacuum station, as described in Patent Document 1, a vacuum pump unit and a deodorizing device for removing odorous components contained in exhaust gas are installed on the ground, and a water collection tank unit is installed underground. A buried type under the road was known.

このような真空ステーションにおいて、脱臭装置には例えば活性炭方式が採用されており、脱臭装置は真空ポンプの排気吐き出し側に設置されていた。真空ポンプの排気吐き出し側に脱臭装置を設置する理由は、排気中に含まれる臭気成分分圧は大気圧下の方が負圧下より高いため活性炭に吸着され易く、かつ、脱臭装置を負圧対応にしなくてもよいのでコストを抑制できるためである。   In such a vacuum station, for example, an activated carbon system is adopted as the deodorizing apparatus, and the deodorizing apparatus is installed on the exhaust discharge side of the vacuum pump. The reason for installing a deodorizer on the exhaust discharge side of the vacuum pump is that the partial pressure of odor components contained in the exhaust is higher at atmospheric pressure than at negative pressure, so it is more easily adsorbed by activated carbon, and the deodorizer is compatible with negative pressure. This is because the cost can be suppressed.

特許4105605号公報Japanese Patent No. 4105605

しかしながら、従来技術では、排気中の臭気成分に含まれる腐食性成分については考慮されなかった。   However, in the prior art, a corrosive component contained in an odor component in exhaust gas has not been considered.

すなわち、排気中の臭気成分には、真空ポンプを構成する鋳鉄を腐食させる成分(腐食性成分)が含まれている。従来技術のように、脱臭装置を真空ポンプの排気吐き出し側に設置した場合、排気中に含まれる腐食性成分はそのまま真空ポンプに吸引されるので、真空ポンプが腐食し、真空ポンプの寿命が短くなるおそれがある。真空ポンプの腐食を抑制するためには、真空ポンプに耐食性に優れた高級材質を使用することも考えられるが、コストが高くなる。   That is, the odor component in the exhaust contains a component (corrosive component) that corrodes cast iron constituting the vacuum pump. When the deodorizing device is installed on the exhaust discharge side of the vacuum pump as in the prior art, the corrosive components contained in the exhaust are sucked into the vacuum pump as they are, so the vacuum pump corrodes and the life of the vacuum pump is shortened. There is a risk. In order to suppress the corrosion of the vacuum pump, it may be possible to use a high-grade material having excellent corrosion resistance for the vacuum pump, but the cost becomes high.

本願発明の真空ポンプユニットは、上記課題に鑑みなされたもので、液体及び該液体を同伴搬送する気体が収集される集水タンクから前記気体を吸引する真空ポンプと、前記集水タンクと前記真空ポンプとの間を連通する連通路に設けられ、前記気体に含まれる腐食
性成分を除去する除去装置と、前記真空ポンプの下流側に接続された排気路に設けられ、前記真空ポンプから吐出された気体に含まれる臭気成分を除去する脱臭装置と、を備える。
The vacuum pump unit of the present invention has been made in view of the above problems, and includes a vacuum pump that sucks the gas from a water collection tank in which a liquid and a gas accompanying and transporting the liquid are collected, the water collection tank, and the vacuum Provided in a communication path communicating with the pump, provided in a removal device for removing corrosive components contained in the gas, and an exhaust path connected to a downstream side of the vacuum pump, and discharged from the vacuum pump. And a deodorizing device for removing odor components contained in the gas.

このように、集水タンクと真空ポンプとを連通する連通路(気体吸入側の搬送路)に、気体に含まれる腐食性成分を除去する除去装置(硫化水素除去装置)を設けたので、腐食性成分による真空ポンプの腐食を抑制することができ、真空ポンプの長寿命化を図ることができる。   In this way, the removal passage (hydrogen sulfide removal device) that removes the corrosive components contained in the gas is provided in the communication passage (transport passage on the gas suction side) that connects the water collection tank and the vacuum pump. The corrosion of the vacuum pump due to the sexual component can be suppressed, and the life of the vacuum pump can be extended.

また、前記真空ポンプはドライ式とすることができる。   The vacuum pump can be a dry type.

また、前記真空ポンプは、前記集水タンクから前記気体を吸引する第1のモード、及び前記第1のモードと反対側に回転することによって前記集水タンクに収集された液体を圧送する圧送気体を前記集水タンクへ吐出する第2のモードで運転可能な真空ポンプとすることができる。   The vacuum pump is a first mode for sucking the gas from the water collection tank, and a pumped gas for pumping the liquid collected in the water collection tank by rotating to the opposite side to the first mode. Can be a vacuum pump that can be operated in the second mode of discharging the water into the water collection tank.

また、前記除去装置は、前記腐食性成分を除去した気体に含まれる硫化水素の平均濃度が20ppm以下になるように前記腐食性成分を除去することができる。   Moreover, the said removal apparatus can remove the said corrosive component so that the average density | concentration of the hydrogen sulfide contained in the gas from which the said corrosive component was removed will be 20 ppm or less.

また、前記連通路のうち前記除去装置の上流側の連通路と下流側の連通路との間を、前記除去装置をバイパスして接続するバイパス搬送路をさらに備え、前記上流側の連通路又は前記下流側の連通路には、前記真空ポンプが前記第1のモードで運転している際にのみ前記気体を搬送させる第1の逆止弁が設けられ、前記バイパス搬送路には、前記真空ポンプが前記第2の運転モードで運転している際にのみ前記圧送気体を搬送させる第2の逆止弁が設けることができる。   In addition, a bypass conveyance path that bypasses the removal device and connects the upstream communication passage and the downstream communication passage of the removal device among the communication passages, and the upstream communication passage or The downstream communication path is provided with a first check valve that transports the gas only when the vacuum pump is operating in the first mode, and the bypass transport path includes the vacuum A second check valve can be provided that conveys the pressurized gas only when the pump is operating in the second operating mode.

また、前記真空ポンプが前記第1のモードで運転しているときの前記真空ポンプの吸入側の圧力の検出値に基づいて、前記真空ポンプの第1のモードの運転/前記真空ポンプの停止を制御する制御部をさらに備えることができる。   Further, based on the detected value of the pressure on the suction side of the vacuum pump when the vacuum pump is operating in the first mode, the operation of the first mode of the vacuum pump / the stop of the vacuum pump is performed. A control unit for controlling can be further provided.

また、前記制御部は、前記集水タンクの前記下水の水位の検出値に基づいて、前記真空ポンプの第2のモードの運転/前記真空ポンプの停止を制御することができる。   Further, the control unit can control operation of the second mode of the vacuum pump / stop of the vacuum pump based on a detected value of the level of the sewage in the water collection tank.

また、前記制御部は、前記集水タンクを収容する躯体の内部の水位の検出値に基づいて、前記躯体の内部と前記集水タンクとを接続する配管に設けられたバルブの開閉を制御することができる。   The control unit controls opening and closing of a valve provided in a pipe connecting the inside of the housing and the water collection tank based on a detected value of a water level inside the housing that houses the water collection tank. be able to.

また、前記真空ポンプに接続された前記気体を吸入する連通路及び前記気体を吐出する連通路の少なくとも一方には、前記気体に含まれる水分を前記集水タンクへ戻すための返水配管が設けることができる。   Further, at least one of the communication path for sucking the gas connected to the vacuum pump and the communication path for discharging the gas is provided with a water return pipe for returning the moisture contained in the gas to the water collection tank. be able to.

また、前記液体は、生活排水を含む下水とすることができる。   The liquid may be sewage containing domestic wastewater.

また、前記真空ポンプと前記脱臭装置とを連通する連通路に設けられ、前記真空ポンプから吐出された気体を冷却する冷却装置をさらに備えることができる。   Moreover, it can be further provided with a cooling device that is provided in a communication path that communicates the vacuum pump and the deodorizing device, and cools the gas discharged from the vacuum pump.

また、真空ステーションは、液体及び該液体を同伴搬送する気体が収集される集水タンクと、前記集水タンクから前記気体を吸引する真空ポンプと、前記集水タンクと前記真空ポンプとの間を連通する連通路に設けられ、前記気体に含まれる腐食性成分を除去する除去装置と、前記真空ポンプの下流側に接続された排気路に設けられ、前記真空ポンプから
吐出された気体に含まれる臭気成分を除去する脱臭装置と、を備える。
The vacuum station includes a water collection tank in which a liquid and a gas that carries the liquid are collected, a vacuum pump that sucks the gas from the water collection tank, and a space between the water collection tank and the vacuum pump. Included in the gas discharged from the vacuum pump, provided in the communicating passage, provided in a removal device for removing corrosive components contained in the gas, and an exhaust path connected to the downstream side of the vacuum pump And a deodorizing device for removing odor components.

また、真空ステーションは、前記集水タンクを地下に埋設し、前記真空ポンプ、前記除去装置、及び前記脱臭装置を地上に設置することができる。   Moreover, the vacuum station can bury the water collection tank underground, and can install the vacuum pump, the removal device, and the deodorization device on the ground.

かかる本願発明によれば、真空ポンプの腐食を抑制することができるため、真空ポンプの長寿命化を図ることができる。また、本願発明によれば、真空ポンプ手前の吸排気ラインに硫化水素除去装置が配されるために、真空ポンプからの外部排気ラインに取り付ける脱臭装置を簡略化することができる。   According to the present invention, since the corrosion of the vacuum pump can be suppressed, the life of the vacuum pump can be extended. Further, according to the present invention, since the hydrogen sulfide removing device is arranged in the intake / exhaust line before the vacuum pump, the deodorizing device attached to the external exhaust line from the vacuum pump can be simplified.

図1は、第1実施形態の真空ステーションの全体構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an overall configuration of a vacuum station according to the first embodiment. 図2は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump. 図3は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump. 図4は、大気開放弁の制御の一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram illustrating an example of control of the air release valve. 図5は、第2実施形態の真空ステーションの全体構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram illustrating an overall configuration of a vacuum station according to the second embodiment. 図6は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump.

以下、本発明の一実施形態に係る真空ポンプユニット及び真空ステーションを図面に基づいて説明する。なお、以下の各実施形態では、一例として、真空ステーションを挙げて説明するが、これには限られない。例えば、真空ポンプを腐食させる成分を発生させる液体を、真空ポンプによる気体の吸引力を利用して搬送する施設において、本発明を適用することができる。   Hereinafter, a vacuum pump unit and a vacuum station according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, a vacuum station will be described as an example, but the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied to a facility that transports a liquid that generates a component that corrodes a vacuum pump by utilizing a gas suction force of the vacuum pump.

<第1実施形態>
図1は、第1実施形態の真空ステーションの全体構成を示す図である。第1実施形態では、真空ステーションの基本的な構成及び動作を理解し易いように、真空ポンプが1台設けられたシンプルな構成を例にして説明を行う。図1に示すように、真空ステーション400は、集水タンクユニット200と、真空ポンプユニット300とを備える。第1実施形態の真空ステーションは、例えばマンホール内などの地下に集水タンクユニット200が埋設され、地上に真空ポンプユニット300が設置される道路下埋設型である。ただし、真空弁ユニット300は地上に限定するものではなく、地下や道路下に埋設設置する場合にも適用できる。また、本発明は道路下埋設型に限らず、例えば、地上の建屋内に集水タンク及び真空ポンプが設置される一般的な真空ステーションなどにおいても適用することができる。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a diagram illustrating an overall configuration of a vacuum station according to the first embodiment. In the first embodiment, a simple configuration in which one vacuum pump is provided will be described as an example so that the basic configuration and operation of the vacuum station can be easily understood. As shown in FIG. 1, the vacuum station 400 includes a water collection tank unit 200 and a vacuum pump unit 300. The vacuum station of the first embodiment is a road-embedded type in which a water collection tank unit 200 is embedded underground such as in a manhole and a vacuum pump unit 300 is installed on the ground. However, the vacuum valve unit 300 is not limited to the ground, but can also be applied to a case where it is installed underground or under a road. The present invention is not limited to a buried type under the road, and can be applied to, for example, a general vacuum station in which a water collection tank and a vacuum pump are installed in a building on the ground.

集水タンクユニット200は、集水タンク202、逆止弁ユニット204、下水水位計測器206、水位計測器208、連通管210、及び大気開放弁212を備える。   The water collection tank unit 200 includes a water collection tank 202, a check valve unit 204, a sewage water level measuring device 206, a water level measuring device 208, a communication pipe 210, and an atmosphere release valve 212.

集水タンク202は、生活排水を含む下水、及びこの下水を同伴搬送する排気が収集される容器である。集水タンク202の天井部には、例えば真空弁ユニットなどに一時的に貯められた下水及び排気を同伴搬送する汚水流入管110の一端が接続されている。逆止弁ユニット204は、汚水流入管110に設けられている。逆止弁ユニット204は、真空弁ユニット等から集水タンク202へ向かう方向のみ下水及び排気を流すバルブである。   The water collection tank 202 is a container in which sewage containing domestic wastewater and exhaust gas that accompanies and conveys the sewage are collected. One end of a sewage inflow pipe 110 that carries sewage and exhaust gas temporarily stored in, for example, a vacuum valve unit or the like, is connected to the ceiling portion of the water collection tank 202. The check valve unit 204 is provided in the sewage inflow pipe 110. The check valve unit 204 is a valve that allows sewage and exhaust to flow only in the direction from the vacuum valve unit or the like toward the water collection tank 202.

下水水位計測器206は、集水タンク202内の下水の水位を計測する計測器である。下水水位計測器206は、例えば電極式水位計とすることができる。下水水位計測器20
6によって計測された水位は、真空ポンプユニット300内に設けられた制御部382へ出力される。
The sewage water level measuring device 206 is a measuring device that measures the sewage water level in the water collection tank 202. The sewage water level measuring device 206 may be an electrode type water level meter, for example. Sewage water level meter 20
6 is output to the control unit 382 provided in the vacuum pump unit 300.

水位計測器208は、集水タンクユニット200の躯体内の水位を計測する計測器である。水位計測器208は、例えば、電極式水位計とすることができる。水位計測器208によって計測された水位は、真空ポンプユニット300内に設けられた制御部382へ出力される。   The water level measuring device 208 is a measuring device that measures the water level in the housing of the water collection tank unit 200. The water level measuring instrument 208 can be, for example, an electrode type water level gauge. The water level measured by the water level measuring device 208 is output to the control unit 382 provided in the vacuum pump unit 300.

連通管210は、集水タンク202の天井部と集水タンクユニット200の躯体内の下部とを連通する管である。大気開放弁212は、連通管210に設けられており、集水タンク202の天井部と集水タンクユニット200の躯体内の下部との連通を開閉するバルブである。   The communication pipe 210 is a pipe that communicates the ceiling portion of the water collection tank 202 with the lower part of the housing of the water collection tank unit 200. The air release valve 212 is provided in the communication pipe 210, and is a valve that opens and closes communication between the ceiling portion of the water collection tank 202 and the lower portion of the water collection tank unit 200.

また、集水タンク202の天井部には、集水タンク202の天井部と真空ポンプユニット300とを接続する給排気管120が接続されている。給排気管120は、集水タンク202と真空ポンプユニット300内に含まれる真空ポンプ314との間を連通する連通路である。また、給排気管120は、真空ポンプ314によって吸引された排気が搬送される搬送路である。   In addition, a supply / exhaust pipe 120 that connects the ceiling of the water collection tank 202 and the vacuum pump unit 300 is connected to the ceiling of the water collection tank 202. The air supply / exhaust pipe 120 is a communication path that communicates between the water collection tank 202 and the vacuum pump 314 included in the vacuum pump unit 300. The supply / exhaust pipe 120 is a conveyance path through which the exhaust sucked by the vacuum pump 314 is conveyed.

また、集水タンク202の底部には、下水を例えば下水処理の公共施設等へ搬送する汚水圧送管130の一端が連通している。汚水圧送管130には、逆止弁214が設けられる。逆止弁214は、集水タンク202から公共施設等への方向にのみ下水を通流可能にするバルブである。また、汚水圧送管130の途中からは、汚水圧送管130内の空気を抜くための空気抜き管140が分岐して設けられている。空気抜き管140には、空気抜き弁142が設けられている。空気抜き弁142は、例えばボール弁などで構成することができ、空気抜き管140を開閉する。   In addition, one end of a sewage pressure feed pipe 130 that conveys sewage to, for example, a public facility for sewage treatment, communicates with the bottom of the water collection tank 202. A check valve 214 is provided in the sewage pressure feeding pipe 130. The check valve 214 is a valve that allows sewage to flow only in the direction from the water collection tank 202 to a public facility or the like. In addition, an air vent pipe 140 for venting the air in the sewage pressure feed pipe 130 is branched from the middle of the sewage pressure feed pipe 130. The air vent pipe 140 is provided with an air vent valve 142. The air vent valve 142 can be constituted by a ball valve, for example, and opens and closes the air vent pipe 140.

また、集水タンクユニット200には、集水タンクユニット200の躯体の内部と大気とを連通する吸気管150が設けられている。吸気管150は、集水タンクユニット200の躯体の内部が負圧になった場合に大気から躯体内部へ空気を吸気し、正圧となった場合に躯体内部から空気を排気する。   Further, the water collection tank unit 200 is provided with an intake pipe 150 that communicates the inside of the housing of the water collection tank unit 200 with the atmosphere. The intake pipe 150 sucks air from the atmosphere into the housing when the inside of the housing of the water collection tank unit 200 becomes negative pressure, and exhausts air from the inside of the housing when the pressure becomes positive.

次に、真空ポンプユニット300について説明する。真空ポンプユニット300は、機械室310と制御室380とを備える。   Next, the vacuum pump unit 300 will be described. The vacuum pump unit 300 includes a machine room 310 and a control room 380.

機械室310には、硫化水素除去装置362(除去装置)、真空ポンプ314、冷却装置358、脱臭装置360、吸気サイレンサ316、排気サイレンサ318,320,及び排気ファン322などが設けられている。真空ポンプ314はドライ式である。   The machine room 310 is provided with a hydrogen sulfide removing device 362 (removing device), a vacuum pump 314, a cooling device 358, a deodorizing device 360, an intake silencer 316, exhaust silencers 318 and 320, an exhaust fan 322, and the like. The vacuum pump 314 is a dry type.

制御室380には、真空ポンプ314の回転制御、及び大気開放弁212の開閉制御などを行う制御部382が設けられている。   The control chamber 380 is provided with a control unit 382 that performs rotation control of the vacuum pump 314 and opening / closing control of the atmosphere release valve 212.

給排気管120は、一端が集水タンク202の天井部に接続され、他端が排気サイレンサ318に接続されている。給排気管120には、集水タンク202側(上流側)から順に、硫化水素除去装置362、真空ポンプ314などが設けられている。   One end of the supply / exhaust pipe 120 is connected to the ceiling of the water collection tank 202, and the other end is connected to the exhaust silencer 318. The supply and exhaust pipe 120 is provided with a hydrogen sulfide removing device 362, a vacuum pump 314, and the like in order from the water collection tank 202 side (upstream side).

給排気管120のうち真空ポンプ314より上流側には、圧力計測器324が設けられている。圧力計測器324は、集水タンクを含む給排気管120の真空ポンプ314より上流側の圧力を計測する。圧力計測器324によって計測された圧力値は、制御部382へ出力される。   A pressure measuring device 324 is provided on the upstream side of the vacuum pump 314 in the supply / exhaust pipe 120. The pressure measuring device 324 measures the pressure upstream of the vacuum pump 314 of the supply / exhaust pipe 120 including the water collection tank. The pressure value measured by the pressure measuring device 324 is output to the control unit 382.

真空ポンプ314は、給排気管120を介して集水タンク202から排気を吸引する。より具体的には、給排気管120は集水タンク202の天井部(気相部)に連通しており、真空ポンプ314は集水タンク202内の気相部から排気を吸引する。これにより、集水タンク202の内部は負圧になる。その結果、真空弁ユニットに貯められた下水は、排気とともに汚水流入管110の内部を同伴搬送され、逆止弁ユニット204を介して集水タンク202内に貯められる。   The vacuum pump 314 sucks exhaust gas from the water collection tank 202 through the supply / exhaust pipe 120. More specifically, the air supply / exhaust pipe 120 communicates with the ceiling portion (gas phase portion) of the water collection tank 202, and the vacuum pump 314 sucks exhaust gas from the gas phase portion in the water collection tank 202. Thereby, the inside of the water collection tank 202 becomes a negative pressure. As a result, the sewage stored in the vacuum valve unit is transported along with the exhaust gas through the inside of the sewage inflow pipe 110 and stored in the water collection tank 202 via the check valve unit 204.

また、真空ポンプ314は、集水タンク202から排気を吸引する第1のモード、及び第1のモードと反対側に回転することによって、集水タンク202内の下水を圧送するための気体(以下、圧送気体という。)を集水タンク202へ吐出する第2のモードで運転可能なポンプとすることができる。第2のモードでは、給排気管120を介して圧送気体が集水タンク202に吐出され、これにより、集水タンク202に貯められた下水が汚水圧送管130を介して例えば下水処理の公共施設へ圧送される。   In addition, the vacuum pump 314 rotates in the first mode for sucking exhaust gas from the water collection tank 202 and the opposite side to the first mode, so that the gas for pumping the sewage in the water collection tank 202 (hereinafter referred to as the vacuum pump 314). The pump can be operated in the second mode for discharging the gas to the water collection tank 202. In the second mode, the pressurized gas is discharged to the water collection tank 202 through the air supply / exhaust pipe 120, whereby the sewage stored in the water collection tank 202 is discharged from the sewage pressure transmission pipe 130 to, for example, a public facility for sewage treatment. To be pumped.

真空ポンプ314は、例えば、集水タンク202の圧力が一定値を下回ると第1のモードで運転して下水及び排気を集水タンク202へ収集するとともに、集水タンク202にある程度下水が貯まったら、第1のモードの運転をいったん停止して第2のモードの運転に切り替える。また、真空ポンプ314は、例えば、第2のモードの運転を行うことによって集水タンク202内の下水の水位が下がってきたら第2のモードの運転をいったん停止して、集水タンク202の圧力が一定値を下回ると第1のモードの運転に切り替える。また、真空ポンプ314は、例えば夜間など、集水タンク202の圧力が一定値以上に保持されている場合には運転を停止する。   For example, when the pressure of the water collection tank 202 falls below a certain value, the vacuum pump 314 operates in the first mode to collect sewage and exhaust into the water collection tank 202, and when sewage is accumulated in the water collection tank 202 to some extent. The operation in the first mode is temporarily stopped and switched to the operation in the second mode. In addition, the vacuum pump 314 temporarily stops the second mode operation when the sewage water level in the water collection tank 202 is lowered by performing the second mode operation, for example, and the pressure of the water collection tank 202 is reduced. When the value falls below a certain value, the operation is switched to the first mode. Further, the vacuum pump 314 stops operation when the pressure of the water collection tank 202 is maintained at a certain value or more, for example, at night.

硫化水素除去装置362は、真空ポンプ314の入口側に設けられており、排気に含まれる腐食性成分を除去する。ここで、排気に含まれる腐食性成分とは、真空ポンプ314を腐食させる成分のことであり、例えば硫化水素が代表的である。硫化水素はそれ自身も腐食性を有するが、好気性細菌である硫黄酸化細菌の作用によって腐食性の強い硫酸に変化する。硫化水素除去装置362は、こういった腐食性成分あるいは腐食性成分の原因物質を除去するためのものである。硫化水素除去装置362は、硫化水素除去装置362からの排気に含まれる硫化水素の平均濃度が20ppm以下(好ましくは10ppm以下)になるように腐食性成分を除去する。20ppm以下であれば、硫化水素に起因する腐食の問題をある程度抑えることができるが、絶対ではない。10ppm以下であれば、硫化水素に起因する腐食はほとんど抑えることができる。硫化水素除去装置362には、例えば、バキュームカー、生ゴミ、し尿処理場等で使用されている高濃度臭気用脱臭剤など、負圧下で使用可能な脱臭装置を用いることができる。これにより、負圧下であっても、硫化水素除去装置362で腐食性成分を吸着・除去させることができる。   The hydrogen sulfide removing device 362 is provided on the inlet side of the vacuum pump 314 and removes corrosive components contained in the exhaust. Here, the corrosive component contained in the exhaust is a component that corrodes the vacuum pump 314, and for example, hydrogen sulfide is representative. Although hydrogen sulfide itself is corrosive, it is changed to highly corrosive sulfuric acid by the action of sulfur-oxidizing bacteria which are aerobic bacteria. The hydrogen sulfide removing device 362 is for removing such corrosive components or causative substances of the corrosive components. The hydrogen sulfide removing device 362 removes corrosive components so that the average concentration of hydrogen sulfide contained in the exhaust gas from the hydrogen sulfide removing device 362 is 20 ppm or less (preferably 10 ppm or less). If it is 20 ppm or less, the problem of corrosion caused by hydrogen sulfide can be suppressed to some extent, but it is not absolute. If it is 10 ppm or less, corrosion caused by hydrogen sulfide can be hardly suppressed. As the hydrogen sulfide removing device 362, for example, a deodorizing device that can be used under a negative pressure, such as a high-concentration odor deodorant used in vacuum cars, garbage, human waste processing plants, or the like can be used. Thereby, even under a negative pressure, the corrosive component can be adsorbed and removed by the hydrogen sulfide removing device 362.

また、硫化水素除去装置362の上流側(排気吸入搬送路)及び下流側(排気吐出搬送路)の給排気管120にはそれぞれバルブ326,328が設けられている。バルブ326,328はそれぞれ、硫化水素除去装置362の上流側及び下流側の給排気管120を開閉するバルブであり、通常時にはいずれも開になっている。バルブ326,328は、例えば硫化水素除去装置362をメンテナンス又は交換で取り外す際にいずれも閉になる。   In addition, valves 326 and 328 are respectively provided in the supply / exhaust pipes 120 on the upstream side (exhaust suction conveyance path) and the downstream side (exhaust discharge conveyance path) of the hydrogen sulfide removing device 362. The valves 326 and 328 are valves that open and close the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the hydrogen sulfide removing device 362, respectively, and are normally open. For example, the valves 326 and 328 are closed when the hydrogen sulfide removing device 362 is removed for maintenance or replacement.

また、真空ポンプ314の上流側及び下流側の給排気管120にもそれぞれバルブ330,332が設けられている。バルブ330,332はそれぞれ、真空ポンプ314の上流側及び下流側の給排気管120を開閉するバルブであり、通常時にはいずれも開になっている。バルブ330,332は、例えば真空ポンプ314をメンテナンス又は交換で取り外す際にいずれも閉になる。   Valves 330 and 332 are also provided on the upstream and downstream air supply and exhaust pipes 120 of the vacuum pump 314, respectively. The valves 330 and 332 are valves that open and close the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the vacuum pump 314, respectively, and are normally open. The valves 330 and 332 are closed when the vacuum pump 314 is removed for maintenance or replacement, for example.

また、硫化水素除去装置362の上流側及び下流側の給排気管120には、硫化水素除去装置362をバイパスして接続するバイパス管334(バイパス搬送路)が設けられている。バイパス配管334は、給排気管120のうち硫化水素除去装置362の上流側の連通路と下流側の連通路との間を、硫化水素除去装置362をバイパスして接続する。バイパス管334には、真空ポンプ314が第2の運転モード(圧送モード)で運転している際に圧送気体を搬送させる逆止弁336(第2の逆止弁)が設けられる。また、硫化水素除去装置362の上流側の給排気管120(上流側の連通路)には、真空ポンプ314が第1のモード(集水モード)で運転している際にのみ排気を搬送させる逆止弁338(第1の逆止弁)が設けられている。なお、逆止弁338は、硫化水素除去装置362の下流側の給排気管120(下流側の連通路)に設けることもできる。   Further, a bypass pipe 334 (bypass conveyance path) that bypasses and connects the hydrogen sulfide removing device 362 is provided in the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the hydrogen sulfide removing device 362. The bypass pipe 334 bypasses the hydrogen sulfide removing device 362 and connects the upstream and downstream communication passages of the hydrogen sulfide removing device 362 in the supply / exhaust pipe 120. The bypass pipe 334 is provided with a check valve 336 (second check valve) that conveys the pressurized gas when the vacuum pump 314 is operating in the second operation mode (pressure feeding mode). In addition, the exhaust gas is conveyed to the upstream supply / exhaust pipe 120 (upstream communication path) of the hydrogen sulfide removing device 362 only when the vacuum pump 314 is operating in the first mode (water collection mode). A check valve 338 (first check valve) is provided. The check valve 338 may be provided in the supply / exhaust pipe 120 (downstream communication path) on the downstream side of the hydrogen sulfide removing device 362.

このように、バイパス管334と逆止弁336,338を設けることによって、真空ポンプ314が第1のモード(集水モード)で運転している際には、排気はバイパス管334を通らず硫化水素除去装置362を通って真空ポンプ314へ吸引される。一方、真空ポンプ314が第2のモード(圧送モード)で運転している際には、圧送気体は硫化水素除去装置362を通らずバイパス管334を通って集水タンク202へ圧送される。したがって、圧送モードの際に硫化水素除去装置362に圧送気体が逆流することを抑制することができる。   As described above, by providing the bypass pipe 334 and the check valves 336 and 338, when the vacuum pump 314 is operating in the first mode (water collection mode), the exhaust gas does not pass through the bypass pipe 334 and is sulfided. It is sucked into the vacuum pump 314 through the hydrogen removing device 362. On the other hand, when the vacuum pump 314 is operating in the second mode (pressure feed mode), the pumped gas is pumped to the water collection tank 202 through the bypass pipe 334 without passing through the hydrogen sulfide removing device 362. Therefore, it is possible to suppress the backflow of the pumped gas to the hydrogen sulfide removing device 362 during the pumping mode.

また、バイパス管334と、硫化水素除去装置362の上流側の給排気管120とは、配管340によって接続されており、配管340にはバルブ342が設けられている。バルブ342は、配管340を開閉するバルブである。配管340は、例えば硫化水素除去装置362をメンテナンス又は交換する際に使われる。すなわち、バルブ342は通常は閉になっている一方、硫化水素除去装置362をメンテナンス又は交換で取り外している際には開になる。硫化水素除去装置362が取り外された際には、排気は配管340及びバイパス管334を通って真空ポンプ314へ吸引される。   The bypass pipe 334 and the supply / exhaust pipe 120 on the upstream side of the hydrogen sulfide removing device 362 are connected by a pipe 340, and a valve 342 is provided in the pipe 340. The valve 342 is a valve that opens and closes the pipe 340. The pipe 340 is used, for example, when the hydrogen sulfide removing device 362 is maintained or replaced. That is, the valve 342 is normally closed, but is opened when the hydrogen sulfide removing device 362 is removed for maintenance or replacement. When the hydrogen sulfide removing device 362 is removed, the exhaust gas is sucked into the vacuum pump 314 through the pipe 340 and the bypass pipe 334.

また、真空ポンプ314下流の給排気管120の外部排気ラインには、冷却装置358と脱臭装置360が設けられる。また、冷却装置358は、給排気管120のうち、真空ポンプ314と脱臭装置360とを連通する連通路に設けられる。すなわち、真空ポンプ314の上流側に設けた硫化水素除去装置362によって、排気に含まれる真空ポンプ314の腐食性成分(硫化水素など)を除去するとともに、真空ポンプ314の下流側(排気吐出連通路)に設けた脱臭装置360により排気に含まれる臭気成分を除去する例を示したが、これには限られない。   A cooling device 358 and a deodorizing device 360 are provided in the external exhaust line of the supply / exhaust pipe 120 downstream of the vacuum pump 314. In addition, the cooling device 358 is provided in a communication path in the supply / exhaust pipe 120 that connects the vacuum pump 314 and the deodorizing device 360. In other words, the hydrogen sulfide removing device 362 provided on the upstream side of the vacuum pump 314 removes corrosive components (such as hydrogen sulfide) of the vacuum pump 314 contained in the exhaust gas, and at the downstream side of the vacuum pump 314 (exhaust discharge communication passage). Although the example which removes the odor component contained in exhaust_gas | exhaustion by the deodorizing apparatus 360 provided in) was shown, it is not restricted to this.

第1実施形態では、真空ポンプ314の上流側に設けた硫化水素除去装置362は、排気に含まれる真空ポンプ314の腐食性成分(硫化水素など)を除去できるものであればよい。例えば、硫化水素除去装置362は、腐食性成分を除去した排気に含まれる硫化水素の平均濃度が20ppm以下(好ましくは10ppm以下)になるように腐食性成分を除去するものであればよい。一方、排気に含まれる臭気成分については、真空ポンプ314下流の外部排気ラインに設けた脱臭装置360によって除去することができる。真空ポンプ314により温度上昇した排気は冷却装置358によって所定温度まで冷却された後に、脱臭装置360に供給され排気中に含まれる臭気成分のうち例えば硫化水素濃度は0.2ppm以下(好ましくは0.1ppm以下、より好ましくは0.02ppm以下)のレベルまで低減される。なお、0.2ppmは敷地境界線の地表における規則基準の上限値で臭気強度3.5に相当し、0.02ppmは同じく規則基準の下限値で臭気強度2.5に相当する。   In the first embodiment, the hydrogen sulfide removing device 362 provided on the upstream side of the vacuum pump 314 may be any device that can remove corrosive components (such as hydrogen sulfide) of the vacuum pump 314 included in the exhaust. For example, the hydrogen sulfide removing device 362 only needs to remove the corrosive component so that the average concentration of hydrogen sulfide contained in the exhaust gas from which the corrosive component has been removed is 20 ppm or less (preferably 10 ppm or less). On the other hand, odor components contained in the exhaust gas can be removed by a deodorizing device 360 provided in an external exhaust line downstream of the vacuum pump 314. After the exhaust gas whose temperature has been raised by the vacuum pump 314 is cooled to a predetermined temperature by the cooling device 358, the concentration of hydrogen sulfide, for example, of the odor components supplied to the deodorizing device 360 and contained in the exhaust gas is 0.2 ppm or less (preferably 0. 0. 1 ppm or less, more preferably 0.02 ppm or less). Note that 0.2 ppm corresponds to the upper limit value of the rule standard on the surface of the site boundary line and corresponds to an odor intensity of 3.5, and 0.02 ppm corresponds to the lower limit value of the rule standard and corresponds to an odor intensity of 2.5.

排気サイレンサ318は、集水モード時に真空ポンプユニット300の外部へ排気を放
出する際に生じる音が外部へ流出することを抑制するとともに、圧送モード時に真空ポンプユニット300の外部から圧送気体を吸入する際に生じる音が外部へ流出することを抑制する。
The exhaust silencer 318 suppresses the sound generated when the exhaust is discharged to the outside of the vacuum pump unit 300 during the water collection mode, and sucks the pumped gas from the outside of the vacuum pump unit 300 during the pumping mode. This suppresses the sound that occurs when the sound flows out.

排気ファン322は、真空ポンプユニット300の内部の熱を外部放出するためのファンである。排気ファン322を運転すると、吸気サイレンサ316を介して真空ポンプユニット300の外部から空気が吸気され、排気サイレンサ320を介して真空ポンプユニット300の外部へ放出される。これにより、熱を発生させる機械(例えば真空ポンプ314など)の温度を下げることができる。   The exhaust fan 322 is a fan for releasing the heat inside the vacuum pump unit 300 to the outside. When the exhaust fan 322 is operated, air is sucked from the outside of the vacuum pump unit 300 through the intake silencer 316 and discharged to the outside of the vacuum pump unit 300 through the exhaust silencer 320. Thereby, the temperature of the machine (for example, vacuum pump 314 etc.) which generates heat can be lowered.

吸気サイレンサ316は、真空ポンプユニット300の外部から空気を吸気する際の音を抑制する。また、排気サイレンサ320は、真空ポンプユニット300の外部へ空気を排気する際の音を抑制する。   The intake silencer 316 suppresses sound generated when air is sucked from the outside of the vacuum pump unit 300. Further, the exhaust silencer 320 suppresses a sound generated when the air is exhausted to the outside of the vacuum pump unit 300.

また、図1に示すように、真空ポンプ314の上流側(排気吸入連通路)及び下流側(排気吐出連通路)の給排気管120にはそれぞれ、排気に含まれる水分を集水タンク202へ戻すための返水配管344,346が設けられている。返水配管344,346にはそれぞれバルブ348,350が設けられる。バルブ348,350は、返水配管344,346をそれぞれ開閉するバルブであり、適宜開閉制御される。返水配管344,346を設けることによって、排気に含まれる水分は集水タンク202へ戻されるので、水分が真空ポンプ314に吸引されることに起因する真空ポンプ314の故障などの発生を抑制することができる。   Further, as shown in FIG. 1, the water contained in the exhaust gas is supplied to the water collection tank 202 in the supply / exhaust pipes 120 on the upstream side (exhaust suction communication passage) and the downstream side (exhaust discharge communication passage) of the vacuum pump 314. Return pipes 344 and 346 for returning are provided. Valves 348 and 350 are provided on the return pipes 344 and 346, respectively. The valves 348 and 350 are valves that open and close the water return pipes 344 and 346, respectively, and are appropriately controlled to open and close. By providing the water return pipes 344 and 346, the moisture contained in the exhaust is returned to the water collection tank 202, so that the occurrence of failure of the vacuum pump 314 due to the moisture being sucked into the vacuum pump 314 is suppressed. be able to.

次に、制御部382について説明する。図1に示すように、制御部382には、下水水位計測器206によって計測された水位、水位計測器208によって計測された水位、及び圧力計測器324によって計測された圧力値が入力される。制御部382は、入力された水位の値、及び圧力値に基づいて真空ポンプ314の回転制御、及び大気開放弁212の開閉を制御する。   Next, the control unit 382 will be described. As shown in FIG. 1, the control unit 382 receives the water level measured by the sewage water level measuring device 206, the water level measured by the water level measuring device 208, and the pressure value measured by the pressure measuring device 324. The control unit 382 controls the rotation control of the vacuum pump 314 and the opening / closing of the air release valve 212 based on the input water level value and pressure value.

以下、制御部382の具体的な制御例について説明する。まず、図2は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。制御部382は、真空ポンプ314が第1のモードで運転しているときの真空ポンプ314の吸入側の圧力の検出値に基づいて、真空ポンプ314の第1のモードの運転/停止を制御する。   Hereinafter, a specific control example of the control unit 382 will be described. First, FIG. 2 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump. The control unit 382 controls the operation / stop of the first mode of the vacuum pump 314 based on the detected value of the pressure on the suction side of the vacuum pump 314 when the vacuum pump 314 is operating in the first mode. .

具体的には、図2に示すように、制御部382は、圧力計測器324によって計測された圧力値が第1のしきい値(LP)より低くなったら、真空ポンプ314の回転(正転方向の回転)を停止する。また、制御部382は、圧力計測器324によって計測された圧力値が第1のしきい値より高く設定された第2のしきい値(HP)より高くなったら、真空ポンプ314を正転方向(集水モードの回転方向)に回転させる。また、制御部382は、圧力計測器324によって計測された圧力値が第2のしきい値より高く設定された第3のしきい値(HHP)より高くなったら、警報を発報する。一方、制御部382は、警報が発報されている状態で、圧力計測器324によって計測された圧力値が第2のしきい値(HP)より低くなった場合には、警報をリセットする。以上のような制御によって、集水モード時に集水タンク202は適切な負圧に制御される。   Specifically, as shown in FIG. 2, when the pressure value measured by the pressure measuring device 324 becomes lower than the first threshold value (LP), the control unit 382 rotates the vacuum pump 314 (forward rotation). Direction rotation). Further, when the pressure value measured by the pressure measuring device 324 becomes higher than the second threshold value (HP) set higher than the first threshold value, the control unit 382 moves the vacuum pump 314 in the normal rotation direction. Rotate in the direction of water collection mode. Further, the control unit 382 issues an alarm when the pressure value measured by the pressure measuring device 324 becomes higher than a third threshold value (HHP) set higher than the second threshold value. On the other hand, the control unit 382 resets the alarm when the pressure value measured by the pressure measuring device 324 becomes lower than the second threshold (HP) in a state where the alarm is issued. By the above control, the water collection tank 202 is controlled to an appropriate negative pressure in the water collection mode.

次に、図3は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。制御部382は、集水タンク202の下水の水位の検出値に基づいて、真空ポンプ314の第2のモードの運転/真空ポンプの停止を制御する。   Next, FIG. 3 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump. The control unit 382 controls the operation of the vacuum pump 314 in the second mode / stop of the vacuum pump based on the detected value of the sewage level of the water collection tank 202.

具体的には、図3に示すように、制御部382は、下水水位計測器206によって計測
された水位が第1のしきい値(LWL)より低くなったら、真空ポンプ314の回転(逆転方向の回転)を停止する。また、制御部382は、下水水位計測器206によって計測された水位が第1のしきい値より高く設定された第2のしきい値(HWL)より高くなったら、真空ポンプ314を逆転方向(圧送モードの回転方向)に回転させる。また、制御部382は、下水水位計測器206によって計測された水位が第2のしきい値より高く設定された第3のしきい値(HHWL)より高くなったら、警報を発報する。一方、制御部382は、警報が発報されている状態で、下水水位計測器206によって計測された水位が第2のしきい値(HWL)より低くなった場合には、警報をリセットする。以上のような制御によって、集水タンク202に貯められた下水は適切に圧送される。
Specifically, as shown in FIG. 3, when the water level measured by the sewage water level measuring device 206 becomes lower than the first threshold value (LWL), the control unit 382 rotates the vacuum pump 314 (reverse direction). Stop rotating). Further, when the water level measured by the sewage water level measuring device 206 becomes higher than the second threshold value (HWL) set higher than the first threshold value, the control unit 382 turns the vacuum pump 314 in the reverse rotation direction ( Rotate in the direction of rotation in the pressure feed mode. Further, the control unit 382 issues an alarm when the water level measured by the sewage water level measuring device 206 becomes higher than the third threshold value (HHWL) set higher than the second threshold value. On the other hand, the control unit 382 resets the alarm when the water level measured by the sewage water level measuring device 206 is lower than the second threshold value (HWL) in a state where the alarm is issued. Through the control described above, the sewage stored in the water collection tank 202 is appropriately pumped.

次に、大気開放弁212は真空ポンプ314の第1のモードから第2のモード及び第2のモードから第1のモードに切り替わる際に集水タンク202内の圧力を大気圧に戻すように制御されるが、それ以外の用途として、図4に示すような制御とすることもできる。制御部382は、集水タンク202を収容する躯体の内部の水位の検出値に基づいて、躯体の内部と集水タンク202とを接続する連通管210に設けられた大気開放弁212の開閉を制御する。   Next, the air release valve 212 is controlled so that the pressure in the water collection tank 202 is returned to the atmospheric pressure when the vacuum pump 314 is switched from the first mode to the second mode and from the second mode to the first mode. However, as another application, control as shown in FIG. 4 can be performed. Based on the detected value of the water level inside the housing that houses the water collection tank 202, the control unit 382 opens and closes the air release valve 212 provided in the communication pipe 210 that connects the inside of the housing and the water collection tank 202. Control.

具体的には、図4に示すように、制御部382は、水位計測器208によって計測された水位が第1のしきい値(LWL)より低くなったら、大気開放弁212を閉にする。また、制御部382は、水位計測器208によって計測された水位が第1のしきい値より高く設定された第2のしきい値(HWL)より高くなったら、大気開放弁212を開にする。また、制御部382は、水位計測器208によって計測された水位が第2のしきい値より高く設定された第3のしきい値(HHWL)より高くなったら、躯体外部からのリークが発生している可能性があるので警報を発報する。一方、制御部382は、警報が発報されている状態で、水位計測器208によって計測された水位が第2のしきい値(HWL)より低くなった場合には、警報をリセットする。以上のような制御によって、集水タンクユニット200の躯体内に水がある程度貯まったら、大気開放弁212が開になり、その結果、躯体内の水が負圧の集水タンク202内へ搬送される。   Specifically, as shown in FIG. 4, the control unit 382 closes the atmosphere release valve 212 when the water level measured by the water level measuring device 208 becomes lower than the first threshold value (LWL). The control unit 382 opens the atmosphere release valve 212 when the water level measured by the water level measuring instrument 208 becomes higher than the second threshold value (HWL) set higher than the first threshold value. . Further, when the water level measured by the water level measuring instrument 208 becomes higher than the third threshold value (HHWL) set higher than the second threshold value, the control unit 382 generates a leak from outside the housing. Because there is a possibility that it is, it will issue an alarm. On the other hand, the control unit 382 resets the alarm when the water level measured by the water level measuring device 208 becomes lower than the second threshold (HWL) in a state where the alarm is issued. When water has accumulated to some extent in the housing of the water collection tank unit 200 by the control as described above, the air release valve 212 is opened, and as a result, the water in the housing is conveyed into the negative pressure water collection tank 202. The

以上のように、第1実施形態の真空ステーション100は、集水タンク202に集まる排気中の腐食性ガス成分を真空ポンプ314の手前に設置した硫化水素除去装置362によって除去する。これにより、排気に含まれる腐食性ガス成分を真空ポンプ314の手前で除去することができるので、真空ポンプ314の腐食を抑制することができ、真空ポンプ314の長寿命化を図ることができる。また、真空ポンプ314を耐腐食性に優れた材料で製作しなくてもよいので、真空ポンプ314のコストを抑制することができる。   As described above, the vacuum station 100 according to the first embodiment removes the corrosive gas components in the exhaust gas collected in the water collection tank 202 by the hydrogen sulfide removing device 362 installed in front of the vacuum pump 314. Thereby, since the corrosive gas component contained in the exhaust gas can be removed before the vacuum pump 314, the corrosion of the vacuum pump 314 can be suppressed, and the life of the vacuum pump 314 can be extended. Further, since the vacuum pump 314 need not be made of a material having excellent corrosion resistance, the cost of the vacuum pump 314 can be suppressed.

ここで、第1実施形態では、正回転及び逆回転が可能な真空ポンプ314を用いている。正回転及び逆回転可能な真空ポンプでは、腐食性成分による腐食が特に問題となるところ、第1実施形態のように、真空ポンプ314の正回転時の上流側に硫化水素除去装置362を設けたことは、真空ポンプ314の腐食を抑制することができるので好ましい。   Here, in the first embodiment, the vacuum pump 314 capable of forward rotation and reverse rotation is used. In a vacuum pump that can rotate in the forward and reverse directions, corrosion due to corrosive components is a particular problem. As in the first embodiment, a hydrogen sulfide removing device 362 is provided upstream of the vacuum pump 314 during forward rotation. This is preferable because corrosion of the vacuum pump 314 can be suppressed.

また、真空ポンプ314の排気吸入側(上流側)で硫化水素等の腐食性成分を除去することにより、真空ポンプ314の上流側で排気に含まれる臭気成分の一部を除去することができる。したがって、真空ポンプ314の排気吐出側(下流側)に設ける脱臭装置は一回り小さな能力とすることができる。   Further, by removing corrosive components such as hydrogen sulfide on the exhaust suction side (upstream side) of the vacuum pump 314, a part of the odor component contained in the exhaust can be removed on the upstream side of the vacuum pump 314. Therefore, the deodorizing device provided on the exhaust discharge side (downstream side) of the vacuum pump 314 can have a smaller capacity.

<第2実施形態>
次に、第2実施形態の真空ステーションについて説明する。第2実施形態は、第1実施形態と比較して、真空ポンプを3台並列に設ける点、集水タンク202内の下水の水位を2系統で検出する点、集水タンク202内の圧力を2系統で検出する点などが異なる。そ
こで、第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分だけを説明し、重複する部分の説明を省略する。
Second Embodiment
Next, the vacuum station of 2nd Embodiment is demonstrated. The second embodiment is different from the first embodiment in that three vacuum pumps are provided in parallel, the sewage water level in the water collection tank 202 is detected in two systems, and the pressure in the water collection tank 202 is The point of detection by two systems is different. Therefore, in the second embodiment, only portions different from the first embodiment will be described, and description of overlapping portions will be omitted.

図5は、第2実施形態の真空ステーションの全体構成を示す図である。図示するように、真空ステーション600では、下水水位計測器206の他に、集水タンク202内の下水の水位を検出する下水水位計測器216が設けられる。下水水位計測器216は、例えば、導電率式の水位計とすることができる。下水水位計測器206,216によって計測された水位は真空ポンプユニット300の制御室380内に設けられた切替回路384へ出力される。切替回路384は、入力された2つの検出水位のいずれかを制御部382へ出力する。第2実施形態によれば、集水タンク202内の水位を2系統で検出するため、集水タンク202内の水位検出の信頼性が向上する。   FIG. 5 is a diagram illustrating an overall configuration of a vacuum station according to the second embodiment. As illustrated, in the vacuum station 600, in addition to the sewage water level measuring device 206, a sewage water level measuring device 216 for detecting the water level of the sewage in the water collecting tank 202 is provided. The sewage water level meter 216 can be, for example, a conductivity type water level gauge. The water level measured by the sewage water level measuring devices 206 and 216 is output to the switching circuit 384 provided in the control chamber 380 of the vacuum pump unit 300. The switching circuit 384 outputs one of the two input detection water levels to the control unit 382. According to the second embodiment, since the water level in the water collection tank 202 is detected by two systems, the reliability of the water level detection in the water collection tank 202 is improved.

また、真空ステーション600では、圧力計測器324の他に、給排気管120の真空ポンプ314より上流側の圧力を計測する圧力計測器325が設けられる。圧力計測器324,325によって計測された圧力値は真空ポンプユニット300の制御室380内に設けられた切替回路386へ出力される。切替回路386は、入力された2つの検出圧力のいずれかを制御部382へ出力する。第2実施形態によれば、給排気管120の真空ポンプ314より上流側の圧力を2系統で検出するため、集水タンク202内の圧力検出の信頼性が向上する。   Further, in the vacuum station 600, in addition to the pressure measuring device 324, a pressure measuring device 325 for measuring the pressure upstream of the vacuum pump 314 of the air supply / exhaust pipe 120 is provided. The pressure value measured by the pressure measuring devices 324 and 325 is output to the switching circuit 386 provided in the control chamber 380 of the vacuum pump unit 300. The switching circuit 386 outputs one of the two detected detection pressures to the control unit 382. According to the second embodiment, since the pressure upstream of the vacuum pump 314 of the air supply / exhaust pipe 120 is detected by two systems, the reliability of pressure detection in the water collection tank 202 is improved.

また、真空ステーション600では、真空ポンプ314の他に、2台の真空ポンプ351,352が設けられる。真空ポンプ351の上流側及び下流側の給排気管120にはそれぞれバルブ353,354が設けられている。バルブ353,354はそれぞれ、真空ポンプ351の上流側及び下流側の給排気管120を開閉するバルブであり、通常時にはいずれも開になっている。バルブ353,354は、例えば真空ポンプ351をメンテナンス又は交換で取り外す際にいずれも閉になる。   In the vacuum station 600, two vacuum pumps 351 and 352 are provided in addition to the vacuum pump 314. Valves 353 and 354 are provided in the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the vacuum pump 351, respectively. The valves 353 and 354 are valves that open and close the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the vacuum pump 351, respectively, and are normally open. For example, the valves 353 and 354 are closed when the vacuum pump 351 is removed for maintenance or replacement.

また、真空ポンプ352の上流側及び下流側の給排気管120にはそれぞれバルブ355,356が設けられている。バルブ355,356はそれぞれ、真空ポンプ352の上流側及び下流側の給排気管120を開閉するバルブであり、通常時にはいずれも開になっている。バルブ355,356は、例えば真空ポンプ352をメンテナンス又は交換で取り外す際にいずれも閉になる。   Valves 355 and 356 are provided on the upstream and downstream air supply and exhaust pipes 120 of the vacuum pump 352, respectively. The valves 355 and 356 are valves that open and close the supply and exhaust pipes 120 on the upstream side and the downstream side of the vacuum pump 352, respectively, and are normally open. The valves 355 and 356 are closed when, for example, the vacuum pump 352 is removed for maintenance or replacement.

3台の真空ポンプ314,351,352は並列に接続されている。真空ステーション600では、3台の真空ポンプ314,351,352のうちの2台が通常時に使用され、1台はバックアップ用となる。第2実施形態によれば、複数の真空ポンプを並列接続し、バックアップ用の真空ポンプを設けることにより、真空ポンプの故障時などに迅速に運転を復旧することができるので、その結果、真空ステーションの信頼性を向上させることができる。   The three vacuum pumps 314, 351, and 352 are connected in parallel. In the vacuum station 600, two of the three vacuum pumps 314, 351, and 352 are normally used, and one is for backup. According to the second embodiment, by connecting a plurality of vacuum pumps in parallel and providing a backup vacuum pump, the operation can be quickly restored in the event of a vacuum pump failure or the like. Reliability can be improved.

なお、第2実施形態のように真空ポンプを複数台設けることにより、真空ポンプユニット300の機械室310内部の温度は上昇しやすくなる。この点、第2実施形態では、排気ファン322を第1実施形態よりも多く設けている。これにより、機械室310内を通流する大気を増量することができるので、機械室310内の放熱量を増大させ、機械室310内を適切な温度に制御することができる。   Note that by providing a plurality of vacuum pumps as in the second embodiment, the temperature inside the machine chamber 310 of the vacuum pump unit 300 is likely to rise. In this regard, in the second embodiment, more exhaust fans 322 are provided than in the first embodiment. Thereby, since the air flowing through the machine room 310 can be increased, the heat radiation amount in the machine room 310 can be increased, and the inside of the machine room 310 can be controlled to an appropriate temperature.

また、第2実施形態では、2台の真空ポンプを同時に使用することにより、制御部382による真空ポンプの回転制御は第1実施形態と異なる。以下、この点について説明する。   Moreover, in 2nd Embodiment, rotation control of the vacuum pump by the control part 382 differs from 1st Embodiment by using two vacuum pumps simultaneously. Hereinafter, this point will be described.

図6は、真空ポンプの制御の一例を示す図である。制御部382は、2台の真空ポンプが第1のモードで運転しているときの真空ポンプの吸入側の圧力の検出値に基づいて、2台の真空ポンプの第1のモードの運転/真空ポンプの停止を制御する。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of control of the vacuum pump. Based on the detected pressure value on the suction side of the vacuum pump when the two vacuum pumps are operating in the first mode, the control unit 382 operates / vacuums the first mode of the two vacuum pumps. Controls pump stop.

具体的には、図6に示すように、制御部382は、圧力計測器324又は圧力計測器325によって計測された圧力値が第1のしきい値(例えば−70.0kPa)より低くなったら、2台の真空ポンプの両方の回転(正転方向の回転)を停止する。また、制御部382は、圧力計測器324又は圧力計測器325によって計測された圧力値が第1のしきい値より高く設定された第2のしきい値(例えば−65.0kPa)より高くなったら、1台目の真空ポンプを正転方向(集水モードの回転方向)に回転させるとともに2台目の真空ポンプは停止したままとする。また、制御部382は、圧力計測器324又は圧力計測器325によって計測された圧力値が第2のしきい値より高く設定された第3のしきい値(例えば−60.0kPa)より高くなったら、2台目の真空ポンプも正転方向(集水モードの回転方向)に回転させる。さらに、制御部382は、圧力計測器324又は圧力計測器325によって計測された圧力値が第3のしきい値より高く設定された第4のしきい値(例えば−50.0kPa)より高くなったら、警報を発報する。一方、制御部382は、警報が発報されている状態で、圧力計測器324又は圧力計測器325によって計測された圧力値が第3のしきい値(例えば−60.0kPa)より低くなった場合には、警報をリセットする。以上のような制御によって、集水モード時に集水タンク202は適切な負圧に制御される。   Specifically, as illustrated in FIG. 6, the control unit 382 determines that the pressure value measured by the pressure measuring device 324 or the pressure measuring device 325 is lower than a first threshold value (for example, −70.0 kPa). Stop rotation of both vacuum pumps (forward rotation). Further, the control unit 382 causes the pressure value measured by the pressure measuring device 324 or the pressure measuring device 325 to be higher than a second threshold value (for example, −65.0 kPa) set higher than the first threshold value. Then, the first vacuum pump is rotated in the forward rotation direction (the rotation direction of the water collection mode) and the second vacuum pump is kept stopped. In addition, the control unit 382 causes the pressure value measured by the pressure measuring device 324 or the pressure measuring device 325 to be higher than a third threshold value (for example, −60.0 kPa) set higher than the second threshold value. Then, the second vacuum pump is also rotated in the normal rotation direction (the rotation direction of the water collection mode). Further, the control unit 382 causes the pressure value measured by the pressure measuring device 324 or the pressure measuring device 325 to be higher than a fourth threshold value (for example, −50.0 kPa) set higher than the third threshold value. If so, issue an alarm. On the other hand, the control unit 382 has a pressure value measured by the pressure measuring device 324 or the pressure measuring device 325 lower than a third threshold value (for example, −60.0 kPa) in a state where an alarm is issued. If so, reset the alarm. By the above control, the water collection tank 202 is controlled to an appropriate negative pressure in the water collection mode.

第2実施形態によれば、第1実施形態と同様に、真空ポンプ314,351,352の上流側で排気に含まれる腐食性成分を除去するので、真空ポンプ314,351,352の腐食を抑制することができ、真空ポンプ314,351,352の長寿命化を図ることができる。また、真空ポンプ314,351,352を耐腐食性に優れた高級な材料で製作しなくてもよいので、真空ポンプ314,351,352のコストを抑制することができる。   According to the second embodiment, as in the first embodiment, the corrosive components contained in the exhaust gas are removed on the upstream side of the vacuum pumps 314, 351, and 352, so that the corrosion of the vacuum pumps 314, 351, and 352 is suppressed. The life of the vacuum pumps 314, 351, and 352 can be extended. Further, since the vacuum pumps 314, 351, and 352 do not have to be made of a high-grade material having excellent corrosion resistance, the costs of the vacuum pumps 314, 351, and 352 can be suppressed.

120 給排気管
200 集水タンクユニット
202 集水タンク
206 下水水位計測器
208 水位計測器
210 連通管
212 大気開放弁
300 真空ポンプユニット
314,351,352 真空ポンプ
334 バイパス管
336,338 逆止弁
358 冷却装置
360 脱臭装置
362 硫化水素除去装置
382 制御部
400,600 真空ステーション
120 Water Supply / Exhaust Pipe 200 Water Collection Tank Unit 202 Water Collection Tank 206 Sewage Water Level Measuring Device 208 Water Level Measuring Device 210 Communication Pipe 212 Air Release Valve 300 Vacuum Pump Unit 314, 351, 352 Vacuum Pump 334 Bypass Pipe 336, 338 Check Valve 358 Cooling device 360 Deodorizing device 362 Hydrogen sulfide removing device 382 Control unit 400, 600 Vacuum station

Claims (13)

液体及び該液体を同伴搬送する気体が収集される集水タンクから前記気体を吸引する真空ポンプと、
前記集水タンクと前記真空ポンプとの間を連通する連通路に設けられ、前記気体に含まれる腐食性成分を除去する除去装置と、
前記真空ポンプの下流側に接続された排気路に設けられ、前記真空ポンプから吐出された気体に含まれる臭気成分を除去する脱臭装置と、
を備えた真空ポンプユニット。
A vacuum pump for sucking the gas from a water collection tank in which the liquid and the gas accompanying and transporting the liquid are collected;
A removal device that is provided in a communication path that communicates between the water collection tank and the vacuum pump, and removes corrosive components contained in the gas;
A deodorizing device that is provided in an exhaust passage connected to the downstream side of the vacuum pump and removes odor components contained in the gas discharged from the vacuum pump;
With vacuum pump unit.
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記真空ポンプはドライ式である。
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
The vacuum pump is a dry type.
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記真空ポンプは、前記集水タンクから前記気体を吸引する第1のモード、及び前記第1のモードと反対側に回転することによって前記集水タンクに収集された液体を圧送する圧送気体を前記集水タンクへ吐出する第2のモードで運転可能な真空ポンプである、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
The vacuum pump has a first mode for sucking the gas from the water collection tank, and a pumping gas for pumping the liquid collected in the water collection tank by rotating to the opposite side to the first mode. It is a vacuum pump that can be operated in a second mode for discharging to a water collection tank.
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記除去装置は、前記腐食性成分を除去した気体に含まれる硫化水素の平均濃度が20ppm以下になるように前記腐食性成分を除去する、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
The removing device removes the corrosive component so that an average concentration of hydrogen sulfide contained in the gas from which the corrosive component has been removed is 20 ppm or less.
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項3に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記連通路のうち前記除去装置の上流側の連通路と下流側の連通路との間を、前記除去装置をバイパスして接続するバイパス搬送路をさらに備え、
前記上流側の連通路又は前記下流側の連通路には、前記真空ポンプが前記第1のモードで運転している際にのみ前記気体を搬送させる第1の逆止弁が設けられ、
前記バイパス搬送路には、前記真空ポンプが前記第2の運転モードで運転している際にのみ前記圧送気体を搬送させる第2の逆止弁が設けられる、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 3,
A bypass conveyance path that bypasses and connects the removal passage between the communication passage on the upstream side of the removal device and the communication passage on the downstream side of the removal device;
The upstream communication passage or the downstream communication passage is provided with a first check valve that conveys the gas only when the vacuum pump is operating in the first mode,
The bypass conveyance path is provided with a second check valve that conveys the pressurized gas only when the vacuum pump is operating in the second operation mode.
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項3に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記真空ポンプが前記第1のモードで運転しているときの前記真空ポンプの吸入側の圧力の検出値に基づいて、前記真空ポンプの第1のモードの運転/前記真空ポンプの停止を制御する制御部をさらに備える、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 3,
Based on the detected value of the pressure on the suction side of the vacuum pump when the vacuum pump is operating in the first mode, the operation of the first mode of the vacuum pump / the stop of the vacuum pump is controlled. A control unit;
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項6に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記制御部は、前記集水タンクの前記下水の水位の検出値に基づいて、前記真空ポンプの第2のモードの運転/前記真空ポンプの停止を制御する
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 6,
The said control part controls operation | movement of the 2nd mode of the said vacuum pump / stop of the said vacuum pump based on the detected value of the said sewage water level of the said water collection tank. The vacuum pump unit characterized by the above-mentioned.
請求項6に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記制御部は、前記集水タンクを収容する躯体の内部の水位の検出値に基づいて、前記躯体の内部と前記集水タンクとを接続する配管に設けられたバルブの開閉を制御する
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 6,
The control unit controls opening and closing of a valve provided in a pipe connecting the inside of the housing and the water collection tank based on a detection value of a water level inside the housing that houses the water collection tank. A featured vacuum pump unit.
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記真空ポンプに接続された前記気体を吸入する連通路及び前記気体を吐出する連通路の少なくとも一方には、前記気体に含まれる水分を前記集水タンクへ戻すための返水配管が設けられる
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
At least one of the communication path for sucking the gas connected to the vacuum pump and the communication path for discharging the gas is provided with a water return pipe for returning moisture contained in the gas to the water collection tank. A vacuum pump unit characterized by
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記液体は、生活排水を含む下水である、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
The liquid is sewage containing domestic wastewater,
A vacuum pump unit characterized by that.
請求項1に記載の真空ポンプユニットにおいて、
前記真空ポンプと前記脱臭装置とを連通する連通路に設けられ、前記真空ポンプから吐出された気体を冷却する冷却装置をさらに備える、
ことを特徴とする真空ポンプユニット。
The vacuum pump unit according to claim 1,
A cooling device that is provided in a communication path that connects the vacuum pump and the deodorizing device, and that cools the gas discharged from the vacuum pump;
A vacuum pump unit characterized by that.
液体及び該液体を同伴搬送する気体が収集される集水タンクと、
前記集水タンクから前記気体を吸引する真空ポンプと、
前記集水タンクと前記真空ポンプとの間を連通する連通路に設けられ、前記気体に含まれる腐食性成分を除去する除去装置と、
前記真空ポンプの下流側に接続された排気路に設けられ、前記真空ポンプから吐出された気体に含まれる臭気成分を除去する脱臭装置と、
を備えた真空ステーション。
A water collection tank in which a liquid and a gas accompanying and transporting the liquid are collected;
A vacuum pump for sucking the gas from the water collection tank;
A removal device that is provided in a communication path that communicates between the water collection tank and the vacuum pump, and removes corrosive components contained in the gas;
A deodorizing device that is provided in an exhaust passage connected to the downstream side of the vacuum pump and removes odor components contained in the gas discharged from the vacuum pump;
With a vacuum station.
前記集水タンクは地下に埋設され、
前記真空ポンプ、前記除去装置、及び前記脱臭装置は地上、または地下に設置される
ことを特徴とする請求項12に記載の真空ステーション。
The water collection tank is buried underground,
The vacuum station according to claim 12, wherein the vacuum pump, the removing device, and the deodorizing device are installed on the ground or underground.
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