JP2014098138A - Release film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a release film which is excellent in releasability, particularly releasability from an epoxy resin adhesive, has heat resistance, and does not require application of a silicone mold release agent or the like.SOLUTION: There are provided: the release film which contains polybutylene terephthalate (A) and is characterized in that the amount of oligomers contained in the release film is 2500 ppm or less; and a method of manufacturing a printed wiring board using the release film.

Description

本発明は接着剤を用いてフィルムまたはシート状の積層物を加圧成形する際などに使用するに好適な剥離性に優れる離型フィルムに関するものであり、より詳細には、電子機器、電気機器に用いられる電気回路を形成したフレキシブルプリント配線基板本体に、接着剤によってカバーレイを加圧接着する際に使用される剥離性に優れる離型フィルムに関する。   The present invention relates to a release film excellent in releasability suitable for use in pressure-forming a film or a sheet-like laminate using an adhesive, and more specifically, an electronic device and an electric device. The present invention relates to a release film that is excellent in releasability and is used when a coverlay is pressure-bonded with an adhesive to a flexible printed wiring board body on which an electric circuit used in the above is formed.

プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線基板などの製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張り積層板又は銅箔を熱プレスする際には離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、電気回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化性接着シートによってカバーレイフィルム又は補強板を熱プレス接着する際に、カバーレイフィルムとプレス熱板とが接着するのを防止するために、離型フィルムが用いられている。   In the production process of a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a multilayer printed wiring board, etc., a release film is used when a copper-clad laminate or a copper foil is hot-pressed through a prepreg or a heat-resistant film. Further, in the manufacturing process of the flexible printed circuit board, when the cover lay film or the reinforcing plate is hot press bonded to the flexible printed circuit board body on which the electric circuit is formed by the thermosetting adhesive or the thermosetting adhesive sheet, the cover lay film is used. A release film is used to prevent the hot plate and the press hot plate from adhering to each other.

かかる用途に用いられる離型フィルムとしては、結晶性ポリメチルペンテンフィルムを使用する方法(特許文献1:特開平2−175247号公報)、トリアセテート、フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのフィルムを使用する方法(特許文献2:特開平7−15103号公報)など、耐熱性を有する種々のフィルムを用いることが提案されており、銅張り積層板と加圧成形する際の温度により、適宜選択されて使用されている。   As a release film used for such applications, a method using a crystalline polymethylpentene film (Patent Document 1: JP-A-2-175247), triacetate, fluororesin, polypropylene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, etc. It has been proposed to use various films having heat resistance, such as a method of using a film (Patent Document 2: JP-A-7-15103), and depending on the temperature at the time of pressure molding with a copper-clad laminate, It is appropriately selected and used.

そして、離型フィルムは銅張り積層板と加圧成形後は容易に離型フィルムを除去する必要があることから、作業性を向上させる為に、離型性(低剥離強度)に優れる離型フィルムへの要求が高まっている。   And, since the release film needs to be removed easily after the copper-clad laminate and pressure molding, the mold release is excellent in releasability (low peel strength) in order to improve workability. The demand for film is increasing.

一方、図1に示す構成で、プリント配線基板3と一部に窓部4を有するエポキシ樹脂を接着剤とするカバーレイフィルム(保護フィルム)2とを重ねて、上下を離型フィルム1で挟んで加熱・加圧成形した後に、カバーレイフィルム2から離型フィルム1を剥がす場合に、カバーレイフィルム2と離型フィルム1が奇麗に剥がすことができない場合があることが判った。   On the other hand, in the configuration shown in FIG. 1, a printed wiring board 3 and a coverlay film (protective film) 2 having an epoxy resin having a window portion 4 as an adhesive are overlapped, and the release film 1 is sandwiched between the upper and lower sides. It has been found that when the release film 1 is peeled off from the coverlay film 2 after being heated and pressure-molded in step 1, the coverlay film 2 and the release film 1 may not be removed cleanly.

そこで、本発明者らは、その原因を調べたところ、図2に示すように、カバーレイフィルム2と離型フィルム1が奇麗に剥がすことができない要因は、加熱・加圧成形時にカバーレイフィルム2の窓部4(端部)に、エポキシ樹脂系接着剤が軟化溶融してカバーレイフィルム2の端部から流れ出たエポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部5と離型フィルム1が接触しており、その結果、エポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部5と離型フィルム1とが接着して、奇麗に剥がすことができないことが判った。   Therefore, the present inventors investigated the cause, and as shown in FIG. 2, the reason why the cover lay film 2 and the release film 1 cannot be removed cleanly is the cover lay film at the time of heating and pressure forming. 2 and the release film 1 are in contact with the flow-out portion 5 of the epoxy resin adhesive that has flowed out of the end portion of the cover lay film 2 due to the softening and melting of the epoxy resin adhesive. As a result, it has been found that the flow-out part 5 of the epoxy resin adhesive and the release film 1 are bonded and cannot be removed cleanly.

そして、エポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部5と離型フィルム1との離型性が不充分である場合には、離型時にエポキシ樹脂系接着剤が欠けてカバーレイフィルム2とプリント配線基板3の接着強度が損なわれ、カバーレイ2がプリント配線板3から剥がれる虞があったり、またエポキシ樹脂系接着剤の断片が残ると、後の工程での不具合につながる事が分かった。   And when the release property of the flow-out part 5 of the epoxy resin adhesive and the release film 1 is insufficient, the epoxy resin adhesive is missing at the time of release and the coverlay film 2 and the printed wiring board 3 are removed. It has been found that if the adhesive strength of the cover layer 2 is impaired and the cover lay 2 is peeled off from the printed wiring board 3 or a fragment of the epoxy resin adhesive remains, it will lead to problems in the subsequent steps.

また、離型性を改良する方法としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルムの離型面に、シリコーン系離型剤などを塗布する方法(特許文献3:特開2003−62939号公報)などが提案されている。   In addition, as a method for improving the releasability, a method of applying a silicone-based release agent or the like to a release surface of a polyester film such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene isophthalate, or polyethylene naphthalate (Patent Document 3) : JP-A-2003-62939) and the like have been proposed.

さらに、熱処理などによるポリマーからのフィルム表面に析出してくるオリゴマーを封止するとともに、離型層との密着性に優れたポリエステルフィルムを得るために、ポリエステルフィルムの少なくとも一方の面に、アミノ基を有するシラン化合物とエポキシ基を有するシラン化合物とを含む塗布液を塗布して、塗布層の表面に析出する環状三量体量を2.80mg/m2以下とする方法(特許文献4:特開2002−105230号公報)、押出成形時のキャスティングロール汚れ及び/又は熱成形時の金型汚れが発生し難いポリエチレンテレフタレート系樹脂シート及びその成形品を得るために、固有粘度が0.60〜1.30dl/gであり、ゲルマニウム金属(以下Geと略記)が含有され、かつオリゴマー(環状三量体)含有量が0.6重量%以下であるポリエチレンテレフタレート系樹脂シートとする方法(特許文献5:特開2001−294682号公報)、二軸延伸ポリエステルフィルムの製膜時における工程汚れを防止し表面欠点をなくして生産性を高める為に、押出機にポリエステル樹脂を供給し、炭酸ガスを該押出機に圧入し、該樹脂を、口金よりシート状に成形して押し出し、冷却ドラム上で急冷固化して未延伸シートを得、その後二軸延伸を行なう方法(特許文献6:特開平10−138331号公報)など、種々の方法が提案されているが、何れも、実施例にはポリエチレンテレフタレートフィルムが記載されているだけである。 Furthermore, in order to seal the oligomer precipitated on the film surface from the polymer by heat treatment or the like and to obtain a polyester film having excellent adhesion to the release layer, an amino group is formed on at least one surface of the polyester film. A method of applying a coating liquid containing a silane compound having an epoxy group and a silane compound having an epoxy group so that the amount of cyclic trimer deposited on the surface of the coating layer is 2.80 mg / m 2 or less (Patent Document 4: Special In order to obtain a polyethylene terephthalate-based resin sheet and a molded product thereof that hardly cause casting roll stains during extrusion molding and / or mold stains during thermoforming and molded products thereof, the intrinsic viscosity is 0.60. 1.30 dl / g, containing germanium metal (hereinafter abbreviated as Ge), and oligomer (cyclic trimer) content A method of forming a polyethylene terephthalate-based resin sheet of 0.6% by weight or less (Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-294682), preventing process contamination during the production of a biaxially stretched polyester film and eliminating surface defects In order to increase productivity, polyester resin is supplied to the extruder, carbon dioxide is pressed into the extruder, the resin is molded into a sheet from the die, extruded, rapidly solidified on a cooling drum, and unstretched Various methods such as a method of obtaining a sheet and then biaxially stretching (Patent Document 6: Japanese Patent Laid-Open No. 10-138331) have been proposed. In each case, a polyethylene terephthalate film is described in the examples. There is only.

特開平2−175247号公報JP-A-2-175247 特開平7−15103号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-15103 特開2003−62939号公報JP 2003-62939 A 特開2002−105230号公報JP 2002-105230 A 特開2001−294682号公報JP 2001-294682 A 特開平10−138331号公報JP 10-138331 A

本発明は、離型性、とくに、エポキシ樹脂系接着剤との離型性に優れ、且つ、耐熱性を有し、シリコーン系離型剤などを塗布する必要がない離型フィルムを得ることを目的とする。   The present invention is to obtain a release film that is excellent in releasability, in particular, releasability with an epoxy resin adhesive, has heat resistance, and does not need to be coated with a silicone release agent. Objective.

本発明は、ポリブチレンテレフタレート(A)を含む離型フィルムであって、当該離型フィルムに含まれるオリゴマー量が2500ppm以下であることを特徴とする離型フィルムを提供するものである。   The present invention provides a release film comprising polybutylene terephthalate (A), wherein the amount of oligomer contained in the release film is 2500 ppm or less.

また、本発明は、プリント配線基板にエポキシ樹脂系接着層を介して保護フィルムを加熱・加圧する工程において、保護フィルムと加圧板との間に上記離型フィルムを介在させて加熱・加圧して熱接着を行い、加熱・加圧後に該離型フィルムを剥離する工程を含むプリント配線基板の製造方法である。   Further, in the process of heating and pressurizing the protective film via the epoxy resin adhesive layer on the printed wiring board, the present invention includes heating and pressurizing the release film interposed between the protective film and the pressure plate. It is a method for manufacturing a printed wiring board including a step of performing thermal bonding and peeling the release film after heating and pressurization.

本発明に用いる保護フィルムとしてはポリイミドフィルムが好ましい。ポリイミドフィルムとエポキシ樹脂系接着剤からなるフィルムはカバーレイとしてプリント配線基板に用いられる。カバーレイフィルムには予め窓が打ち抜かれ、後のメッキ工程でプリント配線基材の導線部で打ち抜き部だけにメッキされることになる。   A polyimide film is preferable as the protective film used in the present invention. A film made of a polyimide film and an epoxy resin adhesive is used as a coverlay on a printed wiring board. A window is punched in advance in the coverlay film, and only the punched portion is plated in the conductive wire portion of the printed wiring substrate in a subsequent plating step.

本発明の離型フィルムは、例えば、エポキシ系接着剤との剥離強度が0.1〜2.5N/15mmと低く、離型性に優れ、且つ、耐熱性、耐汚染性を有するので、エポキシ樹脂系接着剤が用いられるプリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線基板などの製造に好適に使用し得る。   The release film of the present invention has, for example, a low peel strength of 0.1 to 2.5 N / 15 mm with an epoxy adhesive, excellent release properties, heat resistance, and contamination resistance. It can be suitably used for the production of a printed wiring board, a flexible printed wiring board, a multilayer printed wiring board and the like in which a resin adhesive is used.

図1は、プリント配線基板と保護フィルム重ねてプリント配線基板の製造工程を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing a manufacturing process of a printed wiring board by overlapping a printed wiring board and a protective film. 図2は、図1に示す構成を、加熱・加圧した後の概略図である。FIG. 2 is a schematic view after the structure shown in FIG. 1 is heated and pressurized.

<ポリブチレンテレフタレート(A)>
本発明の離型フィルムを構成するポリブチレンテレフタレート(A)は、オリゴマー量が通常、2500ppm以下、好ましくは2000ppm以下、さらに好ましくは1500ppm以下のポリブチレンテレフタレートである。
<Polybutylene terephthalate (A)>
The polybutylene terephthalate (A) constituting the release film of the present invention is a polybutylene terephthalate having an oligomer amount of usually 2500 ppm or less, preferably 2000 ppm or less, more preferably 1500 ppm or less.

ポリブチレンテレフタレートに含まれるオリゴマー量の下限値は特に限定はされないが、通常、100ppmである。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)に含まれるオリゴマーは、ポリブチレンテレフタレートの重合時に生じる1,4−ブタンジオールとテレフタル酸からなる環状2量体及び環状3量体である。
The lower limit of the amount of oligomer contained in polybutylene terephthalate is not particularly limited, but is usually 100 ppm.
The oligomer contained in the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention is a cyclic dimer and a cyclic trimer composed of 1,4-butanediol and terephthalic acid generated during polymerization of polybutylene terephthalate.

本発明に係るオリゴマーの量は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により測定した量である。
本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、好ましくは、固有粘度(IV)が1.0〜1.3、より好ましくは1.0〜1.2の範囲にある。
The amount of the oligomer according to the present invention is an amount measured by high performance liquid chromatography (HPLC).
The polybutylene terephthalate (A) according to the present invention preferably has an intrinsic viscosity (IV) in the range of 1.0 to 1.3, more preferably 1.0 to 1.2.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)の固有粘度(IV)は、フェノール/テトラクロロエタン(重量比1/1)の混合溶媒を用いて、30℃で測定した溶液粘度から求められる。   The intrinsic viscosity (IV) of the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention is determined from the solution viscosity measured at 30 ° C. using a mixed solvent of phenol / tetrachloroethane (weight ratio 1/1).

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、減圧下もしくは不活性ガス流通下で200℃以上の温度で固相重合した原料を使用することが好ましい。固相重合することによりフィルム成形しやすい固有粘度に調整でき、さらに末端カルボン酸基量の減少、オリゴマーの減少が期待できる。   As the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention, it is preferable to use a raw material that is solid-phase polymerized at a temperature of 200 ° C. or higher under reduced pressure or under an inert gas flow. It can be adjusted to an intrinsic viscosity that is easy to form a film by solid phase polymerization, and a decrease in the amount of terminal carboxylic acid groups and a decrease in oligomers can be expected.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、1,4−ブタンジオールとテレフタル酸との重合体を骨格に有する限り、1,4−ブタンジオールとテレフタル酸とからなる、所謂、PBTと称されるポリブチレンテレフタレートであっても、ポリブチレンテレフタレートとポリエーテル、ポリエステル、あるいはポリカプロラクタムなどとのブロック共重合体であってもよい。   The polybutylene terephthalate (A) according to the present invention is referred to as so-called PBT composed of 1,4-butanediol and terephthalic acid as long as it has a polymer of 1,4-butanediol and terephthalic acid in the skeleton. The polybutylene terephthalate may be a block copolymer of polybutylene terephthalate and polyether, polyester, or polycaprolactam.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)は、例えば、三菱エンジニアリングプラスチックス社から、商品名 ノバデュラン5010CS(オリゴマー量:1300ppm、IV:1.1)、ノバデュラン5505S(オリゴマー量:2100ppm、IV:1.2)として、製造・販売されている。   Polybutylene terephthalate (A) according to the present invention is, for example, from Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd. under the trade names NOVADURAN 5010CS (oligomer amount: 1300 ppm, IV: 1.1), NOVADURAN 5505S (oligomer amount: 2100 ppm, IV: 1. It is manufactured and sold as 2).

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)の融点は、示差走査型熱量計(DSC)を用いて300℃で5分間加熱溶融した後、液体窒素で急冷して得たサンプル10mgを用い、窒素気流中、10℃/分の昇温速度で発熱・吸熱曲線を測定したときの、融解に伴う吸熱ピークの頂点温度を融点(Tm)(℃)とした。   The polybutylene terephthalate (A) according to the present invention has a melting point of 10 mg of a sample obtained by heating and melting at 300 ° C. for 5 minutes using a differential scanning calorimeter (DSC) and then rapidly cooling with liquid nitrogen. The peak temperature of the endothermic peak accompanying melting when the exothermic / endothermic curve was measured at a heating rate of 10 ° C./min was defined as the melting point (Tm) (° C.).

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)には、本発明の目的を損なわない範囲で、慣用の添加剤などを配合することが出来る。斯かる添加剤としては、特に制限されず、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤の他、滑剤、紫外線吸収剤、触媒失活剤、結晶造核剤などが挙げられる。これらの添加剤は、重合途中または重合後に添加することが出来る。更に、本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)に、所望の性能を付与するため、難燃剤、染顔料などの着色剤、帯電防止剤、発泡剤、可塑剤、耐衝撃性改良剤などを配合することが出来る。   The polybutylene terephthalate (A) according to the present invention can be blended with conventional additives and the like within a range not impairing the object of the present invention. Such additives are not particularly limited and include, for example, stabilizers such as antioxidants and heat stabilizers, lubricants, ultraviolet absorbers, catalyst deactivators, crystal nucleating agents, and the like. These additives can be added during or after the polymerization. Furthermore, in order to give the desired performance to the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention, a flame retardant, a coloring agent such as a dye / pigment, an antistatic agent, a foaming agent, a plasticizer, and an impact resistance improving agent are blended. I can do it.

安定剤としては、2,6−ジ−t−ブチル−4−オクチルフェノール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔3−(3',5'−t−ブチル−4'−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕等のフェノール化合物、ジラウリル−3,3'−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチル−テトラキス(3−ラウリルチオジプロピオネート)等のチオエーテル化合物、トリフェニルホスファイト、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト等の燐化合物などの抗酸化剤、滑剤としては、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ポリエチレンワックス、モンタン酸やモンタン酸エステルに代表される長鎖脂肪酸およびそのエステルなどが挙げられる。   Stabilizers include phenol compounds such as 2,6-di-t-butyl-4-octylphenol and pentaerythrityl-tetrakis [3- (3 ′, 5′-t-butyl-4′-hydroxyphenyl) propionate]. , Thioether compounds such as dilauryl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythrityl-tetrakis (3-laurylthiodipropionate), triphenyl phosphite, tris (nonylphenyl) phosphite, tris (2,4 -Anti-oxidants such as phosphorus compounds such as -di-t-butylphenyl) phosphite and lubricants include paraffin wax, microcrystalline wax, polyethylene wax, long chain fatty acids represented by montanic acid and montanic acid ester, and esters thereof Etc.

結晶核剤としては、脂肪族エステル、脂肪族アミド、脂肪酸金属塩等が挙げられ、脂肪族エステルとしては、ステアリン酸モノグリセライド、ベヘニン酸モノグリセライド等の脂肪酸エステル、12−ヒドロキシステアリン酸トリグリセライド等のヒドロキシ脂肪酸エステル;脂肪族アミドとしては12−ヒドロキシステアリン酸モノエタノールアミド等のヒドロキシ脂肪酸モノアミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスカプリル酸アミド等の脂肪族ビスアミド、エチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド等のヒドロキシ脂肪酸ビスアミド;脂肪酸金属塩としては、12−ヒドロキシステアリン酸カルシウム等のヒドロキシ脂肪酸金属塩等が挙げられる。結晶化速度と耐熱性、感温性、さらには透明性の観点から、12−ヒドロキシステアリン酸トリグリセライド、ベヘニン酸モノグリセライド、エチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、12−ヒドロキシステアリン酸モノエタノールアミド、エチレンビスカプリル酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミドが好ましく、12−ヒドロキシステアリン酸トリグリセライド、エチレビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、12−ヒドロキシステアリン酸モノエタノールアミドがより好ましく、12−ヒドロキシステアリン酸トリグリセライド、エチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミドがさらに好ましく、エチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミド、ヘキサメチレンビス12−ヒドロキシステアリン酸アミドが特に好ましい。   Examples of the crystal nucleating agent include aliphatic esters, aliphatic amides, fatty acid metal salts, etc., and aliphatic esters include fatty acid esters such as stearic acid monoglyceride and behenic acid monoglyceride, and hydroxy fatty acids such as 12-hydroxystearic acid triglyceride. Esters: aliphatic amides such as hydroxy fatty acid monoamides such as 12-hydroxystearic acid monoethanolamide, aliphatic bisamides such as ethylene bislauric acid amide, ethylene biscapric acid amide and ethylene biscaprylic acid amide, ethylene bis 12-hydroxy stearin Hydroxy fatty acid bisamides such as acid amide and hexamethylene bis 12-hydroxystearic acid amide; As fatty acid metal salts, hydroxy fats such as calcium 12-hydroxystearate Acid metal salts and the like. From the viewpoints of crystallization speed, heat resistance, temperature sensitivity, and transparency, 12-hydroxystearic acid triglyceride, behenic acid monoglyceride, ethylene bis 12-hydroxystearic acid amide, hexamethylene bis 12-hydroxystearic acid amide, 12 -Hydroxystearic acid monoethanolamide, ethylene biscaprylic acid amide, ethylene biscapric acid amide are preferred, 12-hydroxystearic acid triglyceride, ethylene bis 12-hydroxystearic acid amide, hexamethylene bis 12-hydroxystearic acid amide, 12-hydroxy More preferred is stearic acid monoethanolamide, 12-hydroxystearic acid triglyceride, ethylene bis 12-hydroxystearic acid amide, hexamethyle More preferably bis 12-hydroxystearic acid amide, ethylenebis 12-hydroxystearic acid amide, hexamethylene bis hydroxystearic acid amide are particularly preferred.

難燃剤としては、例えば、有機ハロゲン化合物、アンチモン化合物、リン化合物、その他の有機難燃剤、無機難燃剤などが挙げられる。有機ハロゲン化合物としては、例えば、臭素化ポリカーボネート、臭素化エポキシ樹脂、臭素化フェノキシ樹脂、臭素化ポリフェニレンエーテル樹脂、臭素化ポリスチレン樹脂、臭素化ビスフェノールA、ポリペンタブロモベンジルアクリレート等が挙げられる。アンチモン化合物としては、例えば、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等が挙げられる。リン化合物としては、例えば、リン酸エステル、ポリリン酸、ポリリン酸アンモニウム、赤リン等が挙げられる。その他の有機難燃剤としては、例えば、メラミン、シアヌール酸などの窒素化合物などが挙げられる。その他の無機難燃剤としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ケイ素化合物、ホウ素化合物などが挙げられる。   Examples of the flame retardant include organic halogen compounds, antimony compounds, phosphorus compounds, other organic flame retardants, and inorganic flame retardants. Examples of the organic halogen compound include brominated polycarbonate, brominated epoxy resin, brominated phenoxy resin, brominated polyphenylene ether resin, brominated polystyrene resin, brominated bisphenol A, polypentabromobenzyl acrylate and the like. Examples of the antimony compound include antimony trioxide, antimony pentoxide, sodium antimonate, and the like. As a phosphorus compound, phosphate ester, polyphosphoric acid, ammonium polyphosphate, red phosphorus etc. are mentioned, for example. Examples of other organic flame retardants include nitrogen compounds such as melamine and cyanuric acid. Examples of other inorganic flame retardants include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, silicon compound, and boron compound.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)には、本発明の目的を損なわない範囲で、強化充填材を配合することが出来る。強化充填材としては、特に制限されないが、例えば、板状無機充填材、セラミックビーズ、アスベスト、ワラストナイト、タルク、クレー、マイカ、ゼオライト、カオリン、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムや、ガラス繊維、カーボン繊維、シリカ・アルミナ繊維、ジルコニア繊維、ホウ素繊維、窒化ホウ素繊維、窒化ケイ素チタン酸カリウム繊維、金属繊維などの無機繊維、芳香族ポリアミド繊維、フッ素樹脂繊維などの有機繊維などが挙げられる。これらの強化充填材は、2種以上を組み合わせて使用することが出来る。上記の強化充填材の中では、無機充填材、特にガラス繊維が好適に使用される。   A reinforcing filler can be blended with the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention as long as the object of the present invention is not impaired. The reinforcing filler is not particularly limited. For example, plate-like inorganic filler, ceramic beads, asbestos, wollastonite, talc, clay, mica, zeolite, kaolin, potassium titanate, barium sulfate, titanium oxide, silicon oxide , Aluminum oxide, magnesium hydroxide, glass fiber, carbon fiber, silica / alumina fiber, zirconia fiber, boron fiber, boron nitride fiber, silicon nitride potassium titanate fiber, metal fiber and other inorganic fibers, aromatic polyamide fiber, fluorine Examples thereof include organic fibers such as resin fibers. These reinforcing fillers can be used in combination of two or more. Among the above reinforcing fillers, inorganic fillers, particularly glass fibers, are preferably used.

強化充填材は、ポリブチレンテレフタレート(A)との界面密着性を向上させるため、収束剤または表面処理剤で表面処理して使用することが好ましい。収束剤または表面処理剤としては、例えば、エポキシ系化合物、アクリル系化合物、イソシアネート系化合物、シラン系化合物、チタネート系化合物などの官能性化合物が挙げられる。強化充填材は、収束剤または表面処理剤により予め表面処理しておくことが出来、または、ポリブチレンテレフタレート(A)の組成物の調製の際に、収束剤または表面処理剤を添加して表面処理することも出来る。強化充填材の添加量は、ポリブチレンテレフタレート(A)100質量部に対し、通常、150質量部以下、好ましくは1〜50質量部の範囲である。   In order to improve the interfacial adhesion with the polybutylene terephthalate (A), the reinforcing filler is preferably used after being surface-treated with a sizing agent or a surface treatment agent. Examples of the sizing agent or surface treatment agent include functional compounds such as epoxy compounds, acrylic compounds, isocyanate compounds, silane compounds, and titanate compounds. The reinforcing filler can be surface-treated in advance with a sizing agent or a surface treating agent, or the surface of the reinforcing filler can be added by adding a sizing agent or a surface treating agent during the preparation of the polybutylene terephthalate (A) composition. It can also be processed. The addition amount of the reinforcing filler is usually 150 parts by mass or less, preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polybutylene terephthalate (A).

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)には、必要に応じて、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリル酸エステル、ABS樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエチレンテレフタレート、液晶ポリエステル、ポリアセタール、ポリフェニレンオキサイド等の熱可塑性樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を配合することが出来る。これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、2種以上を組み合わせて使用することも出来る。   The polybutylene terephthalate (A) according to the present invention includes polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polystyrene, polyacrylonitrile, polymethacrylic acid ester, ABS resin, polycarbonate, polyamide, polyphenylene sulfide, polyethylene terephthalate, and liquid crystal as necessary. Thermosetting resins such as thermoplastic resins such as polyester, polyacetal, and polyphenylene oxide, phenol resins, melamine resins, silicone resins, and epoxy resins can be blended. These thermoplastic resins and thermosetting resins can be used in combination of two or more.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)に、更に、核剤(B)をポリブチレンテレフタレート(A)100質量部に対して、好ましくは3質量部以下、より好ましくは0.01〜0.5質量部含む、さらに好ましくは0.05〜0.3質量部含むと、より剥離性に優れる剥離フィルムを得ることができる。   In addition to the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention, the nucleating agent (B) is preferably 3 parts by mass or less, more preferably 0.01 to 0.5, relative to 100 parts by mass of the polybutylene terephthalate (A). When a part by mass is contained, and more preferably by 0.05 to 0.3 parts by mass, a release film having more excellent peelability can be obtained.

本発明に係るポリブチレンテレフタレート(A)に配合して使用される核剤(B)としては、公知の有機系結晶核剤や無機系結晶核剤を用いることができる。
無機系結晶核剤としては、タルク、カオリン、モンモリロナイト、合成マイカ、クレー、ゼオライト、シリカ、グラファイト、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化チタン、硫化カルシウム、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化アルミニウム、酸化ネオジウム、第2リン酸アルミニウム、第3リン酸カルシウム及びフェニルホスホネートの金属塩等を挙げることができる。これらの無機系結晶核剤は、組成物中での分散性を高めるために、有機物で修飾されていてもよい。
As the nucleating agent (B) used by blending with the polybutylene terephthalate (A) according to the present invention, known organic crystal nucleating agents and inorganic crystal nucleating agents can be used.
Inorganic crystal nucleating agents include talc, kaolin, montmorillonite, synthetic mica, clay, zeolite, silica, graphite, carbon black, zinc oxide, magnesium oxide, titanium oxide, calcium sulfide, boron nitride, calcium carbonate, barium sulfate, oxidation Examples thereof include aluminum, neodymium oxide, dibasic aluminum phosphate, tricalcium phosphate, and metal salts of phenylphosphonate. These inorganic crystal nucleating agents may be modified with an organic substance in order to enhance the dispersibility in the composition.

有機系結晶核剤としては、フェニルホスホン酸(塩)又はその誘導体、例えば、フェニルホスホン酸亜鉛、フェニルホスホン酸ジクロライド、フェニルホスホン酸ジメチル、リン酸メラミン、ビス(p-メチルペンジリデン)ソルビトール,ビス(p-トルイリデン)ソルビトール等が好ましい。   Organic crystal nucleating agents include phenylphosphonic acid (salts) or derivatives thereof, such as zinc phenylphosphonate, phenylphosphonic dichloride, dimethyl phenylphosphonate, melamine phosphate, bis (p-methylpentylidene) sorbitol, bis (p-Toluylidene) sorbitol and the like are preferable.

その他の有機系結晶核剤としては、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、安息香酸カルシウム、安息香酸マグネシウム、安息香酸バリウム、テレフタル酸リチウム、テレフタル酸ナトリウム、テレフタル酸カリウム、シュウ酸カルシウム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸カリウム、ミリスチン酸ナトリウム、ミリスチン酸カリウム、ミリスチン酸カルシウム、オクタコサン酸ナトリウム、オクタコサン酸カルシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸バリウム、モンタン酸ナトリウム、モンタン酸カルシウム、トルイル酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、サリチル酸カリウム、サリチル酸亜鉛、アルミニウムジベンゾエート、カリウムジベンゾエート、リチウムジベンゾエート、ナトリウムβ−ナフタレート、ナトリウムシクロヘキサンカルボキシレート等の有機カルボン酸金属塩、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、スルホイソフタル酸ナトリウム等の有機スルホン酸塩、ステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、パルチミン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、エルカ酸アミド、トリメシン酸トリス(t−ブチルアミド)等のカルボン酸アミド、エチレン−アクリル酸又はメタクリル酸コポリマーのナトリウム塩、スチレン−無水マレイン酸コポリマーのナトリウム塩等のカルボキシル基を有する重合体のナトリウム塩又はカリウム塩(いわゆるアイオノマー)、ベンジリデンソルビトール及びその誘導体、ナトリウム2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート、等のリン化合物金属塩、及び2,2−メチルビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ナトリウム等を挙げることができる。   Other organic crystal nucleating agents include sodium benzoate, potassium benzoate, lithium benzoate, calcium benzoate, magnesium benzoate, barium benzoate, lithium terephthalate, sodium terephthalate, potassium terephthalate, calcium oxalate, Sodium laurate, potassium laurate, sodium myristate, potassium myristate, calcium myristate, sodium octacosanoate, calcium octacosanoate, sodium stearate, potassium stearate, lithium stearate, calcium stearate, magnesium stearate, barium stearate , Sodium montanate, calcium montanate, sodium toluate, sodium salicylate, potassium salicylate, zinc salicylate, Organic carboxylic acid metal salts such as minium dibenzoate, potassium dibenzoate, lithium dibenzoate, sodium β-naphthalate, sodium cyclohexanecarboxylate, etc., organic sulfonates such as sodium p-toluenesulfonate, sodium sulfoisophthalate, stearic acid amide , Carboxylic acid amides such as ethylenebislauric acid amide, palmitic acid amide, hydroxystearic acid amide, erucic acid amide, trimesic acid tris (t-butylamide), sodium salt of ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, styrene-maleic anhydride Sodium salt or potassium salt of polymer having carboxyl group such as sodium salt of acid copolymer (so-called ionomer), benzylidene sorbitol and its derivatives, nato Examples include phosphorus compound metal salts such as 2,2,2'-methylenebis (4,6-ditert-butylphenyl) phosphate, sodium 2,2-methylbis (4,6-di-t-butylphenyl), etc. Can do.

これら核剤の中では、ビス(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、ナトリウム2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート、ステアリン酸マグネシウム、エチレン・ビスステアリン酸アミドなどが好ましい。   Among these nucleating agents, bis (4-methylbenzylidene) sorbitol, sodium 2,2'-methylenebis (4,6-ditert-butylphenyl) phosphate, magnesium stearate, ethylene / bisstearic acid amide and the like are preferable.

<離型フィルム>
本発明の離型フィルムは、上記ポリブチレンテレフタレート(A)を含む離型フィルムであって、当該離型フィルムに含まれるオリゴマー量が、2500ppm以下、好ましくは2000ppm以下、さらに好ましくは1500ppm以下である。離型フィルムに含まれるオリゴマー量の下限値は特に限定はされないが、通常、100ppmである。
<Release film>
The release film of the present invention is a release film containing the polybutylene terephthalate (A), and the amount of oligomers contained in the release film is 2500 ppm or less, preferably 2000 ppm or less, more preferably 1500 ppm or less. . Although the lower limit of the amount of oligomer contained in the release film is not particularly limited, it is usually 100 ppm.

本発明に係るオリゴマーの量は、上記同様、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)により測定した量である。
本発明の離型フィルムとして、上記ポリブチレンテレフタレート(A)100質量部に対して、核剤(B)を0.01質量部以上含む組成物を用いた場合は、得られる離型フィルムは、よりエポキシ樹脂系接着剤層との剥離性に優れる離型フィルムとなる。
The amount of the oligomer according to the present invention is the amount measured by high performance liquid chromatography (HPLC) as described above.
When the composition containing 0.01 parts by mass or more of the nucleating agent (B) is used as the release film of the present invention with respect to 100 parts by mass of the polybutylene terephthalate (A), The release film is more excellent in releasability from the epoxy resin adhesive layer.

本発明の離型フィルムは、上記ポリブチレンテレフタレート(A)を含む層を有している限り、他の層と積層されていてもよい。
本発明に係る離型フィルムは、上記ポリブチレンテレフタレート(A)を含むが、離型フィルムが、他の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂を含む場合は、離型フィルムに含まれるポリブチレンテレフタレート(A)の量は、通常、50質量%以上、好ましくは80質量%以上であり、他の熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂を含まないポリブチレンテレフタレート(A)からなる離型フィルムであってもよい。
The release film of the present invention may be laminated with other layers as long as it has a layer containing the polybutylene terephthalate (A).
The release film according to the present invention contains the polybutylene terephthalate (A). However, when the release film contains other thermoplastic resin and thermosetting resin, the polybutylene terephthalate ( The amount of A) is usually 50% by mass or more, preferably 80% by mass or more, and it is a release film made of polybutylene terephthalate (A) that does not contain other thermoplastic resins and thermosetting resins. Good.

本発明の離型フィルムとして積層フィルムを用いる場合は、少なくとも片面、すなわち、ポリブチレンテレフタレート(A)からなる層が、離型層すなわちエポキシ樹脂系接着剤などの接着剤との接合面となる必要がある。   When a laminated film is used as the release film of the present invention, at least one side, that is, a layer made of polybutylene terephthalate (A) needs to be a release layer, that is, a bonding surface with an adhesive such as an epoxy resin adhesive. There is.

本発明の離型フィルムを使用する際に、加熱プレスの圧力を均一にかけることができ、プリント配線の凹凸に追従できる他の層と積層して使用することができる。このようなクッション性に優れる他の層としては、具体的には50℃から150℃、好ましくは70℃から120℃の範囲で軟化する樹脂を含むフィルムが好ましく、具体的には低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンメチルメタクリレート共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンプロピレン共重合体、エチレンブテン共重合体、プロピレンブテン共重合体などのポリオレフィン樹脂、またはこれらは単独で使用しても2種類以上が併用されても良い。   When using the release film of this invention, the pressure of a heating press can be applied uniformly and it can be used by laminating | stacking with the other layer which can follow the unevenness | corrugation of a printed wiring. As such other layers excellent in cushioning properties, specifically, a film containing a resin that softens in the range of 50 ° C. to 150 ° C., preferably 70 ° C. to 120 ° C. is preferable, specifically low density polyethylene, Polyolefin resins such as polypropylene, ethylene methyl methacrylate copolymer, ethylene vinyl acetate copolymer, ethylene propylene copolymer, ethylene butene copolymer, propylene butene copolymer, or these may be used alone or in combination of two or more May be used in combination.

本発明の離型フィルムとクッション層を共押出成形により多層化することもできる。その場合には、例えば3台の押出機からなる3層T−ダイフィルム成形機を用いて、本発明のポリブチレンテレフタレート(A)からなる離型層を外層とし、低密度ポリエチレン層を内層とする2種3層フィルムを成形することができる。また、上記低密度ポリエチレンの代わりに、酸変性したポリエチレン、例えばエチレンメチルメタクリレート共重合体を使用する、または離型層との層間接着強度を上げる目的で、エチレンメチルメタクリレート共重合体とポリブチレンテレフタレート(A)の組成物を内層に用いても良い。その場合の組成は、エチレンメチルメタクリレート共重合体が主成分でマトリックスになるのが好ましく、エチレンメチルメタクリレート共重合体が50から95質量%、ポリブチレンテレフタレート(A)が5から50質量%、好ましくは、エチレンメチルメタクリレート共重合体が60から85質量%、ポリブチレンテレフタレート(A)が15から40質量%が好ましい。またさらに層間接着強度を上げるために、離型層とクッション層の間に接着層を設けても良い。   The release film and cushion layer of the present invention can be multilayered by coextrusion. In that case, for example, using a three-layer T-die film molding machine comprising three extruders, the release layer comprising the polybutylene terephthalate (A) of the present invention is used as the outer layer, and the low density polyethylene layer is used as the inner layer. A two-layer three-layer film can be formed. In addition, in order to use an acid-modified polyethylene such as an ethylene methyl methacrylate copolymer instead of the low density polyethylene, or to increase the interlayer adhesion strength with the release layer, the ethylene methyl methacrylate copolymer and the polybutylene terephthalate are used. The composition (A) may be used for the inner layer. The composition in that case is preferably an ethylene methyl methacrylate copolymer as a main component and a matrix, ethylene methyl methacrylate copolymer is 50 to 95% by mass, polybutylene terephthalate (A) is 5 to 50% by mass, preferably The ethylene methyl methacrylate copolymer is preferably 60 to 85% by mass and the polybutylene terephthalate (A) is preferably 15 to 40% by mass. In order to further increase the interlayer adhesive strength, an adhesive layer may be provided between the release layer and the cushion layer.

本発明の離型フィルムは、引張速度300mm/分での180度剥離によるエポキシ樹脂系接着剤層と離型フィルム間の剥離強度が、通常、2.5N/15mm以下、好ましくは0.1〜2.0N/15mmの範囲にあるので、エポキシ樹脂系接着剤層との剥離性に優れる。   In the release film of the present invention, the peel strength between the epoxy resin adhesive layer and the release film by 180 degree peeling at a tensile speed of 300 mm / min is usually 2.5 N / 15 mm or less, preferably 0.1 to 0.1 mm. Since it exists in the range of 2.0N / 15mm, it is excellent in peelability with an epoxy resin adhesive layer.

<離型フィルムの製造方法>
本発明の離型フィルムは、種々公知のフィルムの成形方法により製造し得る。例えば、上記ポリブチレンテレフタレート(A)からなる単層フィルムを製造する場合は、T−ダイフィルム成形、インフレーションフィルム成形などの成形方法により製造し得る。
<Method for producing release film>
The release film of the present invention can be produced by various known film forming methods. For example, when producing a monolayer film comprising the polybutylene terephthalate (A), it can be produced by a molding method such as T-die film molding or inflation film molding.

また、本発明の離型フィルムとして積層フィルムを製造する場合は、多層T−ダイあるいは多層環状ダイを用いて、共押出成形することにより製造し得る。
中でも、多層T−ダイを用いてなる共押出成形法が各層の膜厚を均一にでき、また幅広化ができる点で優れている。さらに、幅広の積層体を製造した後、多種多様なFPCの幅に合わせた幅にスリットすることが容易なため、FPC製造用の離型フィルムの製造方法として好ましい。
Moreover, when manufacturing a laminated | multilayer film as a release film of this invention, it can manufacture by coextrusion molding using a multilayer T-die or a multilayer cyclic | annular die.
Among these, the coextrusion method using a multilayer T-die is excellent in that the thickness of each layer can be made uniform and the width can be increased. Furthermore, after manufacturing a wide laminate, it is easy to slit to a width corresponding to a wide variety of FPC widths, which is preferable as a method for manufacturing a release film for FPC manufacturing.

本発明の離型フィルムは、上記記載の製造方法で得られたフィルムを、さらに加熱処理すると離型性が向上するので好ましい。
加熱条件としては大気中で加熱温度100〜200℃が好ましく、さらには150〜190℃が好ましい。加熱時間は加熱方法により適宜条件を決めればよい。
The release film of the present invention is preferable since the release property is improved when the film obtained by the production method described above is further heat-treated.
As heating conditions, a heating temperature of 100 to 200 ° C is preferable in the air, and 150 to 190 ° C is more preferable. The heating time may be determined appropriately depending on the heating method.

本発明の離型フィルムを加熱処理する方法は、種々公知の方法、具体的には、T−ダイで成形して得たロール状の離型フィルムを加熱された熱風オーブンにロールトゥロールで通す方法、または、ロールトゥロールで通しているライン上に、IRヒーターなどのヒーターを設置して離型フィルムを加熱する方法、ロール状の離型フィルムをシート状にカットした後、熱風オーブンで加熱処理する方法、T−ダイで成形したロール状の離型フィルムをロールトゥロールで加熱したロールに接触させる方法などを例示できる。   The method for heat-treating the release film of the present invention can be performed by various known methods, specifically, a roll-shaped release film obtained by molding with a T-die is passed through a heated hot air oven by roll-to-roll. Method, or a method of heating a release film by installing a heater such as an IR heater on a line passing through a roll-to-roll, or cutting a roll-shaped release film into a sheet and then heating in a hot air oven The method of processing, the method of making the roll-shaped release film shape | molded with the T-die contact the roll heated with the roll toe roll, etc. can be illustrated.

離型フィルムを加熱する熱源としては特に限定されないが、遠赤外線ヒーターや短波長赤外線ヒーター、中波長赤外線ヒーター、カーボンヒーターなどが好ましい。
中でも、T−ダイで成形したロール状の離型フィルムをロールトゥロールで加熱したロールに接触させる方法は、加熱したロールに直接離型フィルムが接触するため、離型フィルム表面の熱伝達が早くて済むため、加熱処理時間が比較的短時間にできるため生産性が高い。
Although it does not specifically limit as a heat source which heats a release film, A far-infrared heater, a short wavelength infrared heater, a medium wavelength infrared heater, a carbon heater, etc. are preferable.
Among them, the method of bringing a roll-shaped release film formed with a T-die into contact with a roll heated with a roll-to-roll makes the heat transfer on the surface of the release film fast because the release film directly contacts the heated roll. Therefore, productivity is high because the heat treatment time can be made relatively short.

以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。使用した樹脂組成物等は次の通りである。
本発明の実施例及び比較例で用いたポリブチレンテレフタレートを以下に示す。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded. The resin composition used is as follows.
The polybutylene terephthalate used in Examples and Comparative Examples of the present invention is shown below.

(1)ポリブチレンテレフタレート(単独重合体)
(A−1)Tm=224℃、IV=1.1、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5010CS〕
(D−1)Tm=224℃、IV=1.2、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5020〕
(D−2)Tm=224℃、IV=1.2、〔東レ(株)製、商品名:トレコン 1400S〕
(D−3)Tm=224℃、IV=1.0、〔東レ(株)製、商品名:トレコン 1200S〕
(D−4)Tm=224℃、IV=0.8、〔東レ(株)製、商品名:トレコン 1100S〕
(2)ポリブチレンテレフタレートとポリテトラメチレングリコールとの共重合体
(A−2)Tm=222℃、IV=1.2、〔三菱エンジニアリングプラスチックス(株)製、商品名:ノバデュラン 5505S〕
(1) Polybutylene terephthalate (homopolymer)
(A-1) Tm = 224 ° C., IV = 1.1, [Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Nova Duran 5010CS]
(D-1) Tm = 224 ° C., IV = 1.2, [Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: Nova Duran 5020]
(D-2) Tm = 224 ° C., IV = 1.2, [manufactured by Toray Industries, Inc., trade name: Toraycon 1400S]
(D-3) Tm = 224 ° C., IV = 1.0, [manufactured by Toray Industries, Inc., trade name: Toraycon 1200S]
(D-4) Tm = 224 ° C., IV = 0.8, [manufactured by Toray Industries, Inc., trade name: Toraycon 1100S]
(2) Copolymer of polybutylene terephthalate and polytetramethylene glycol (A-2) Tm = 222 ° C., IV = 1.2, [Mitsubishi Engineering Plastics Co., Ltd., trade name: NOVADURAN 5505S]

2.結晶核剤
(B−1)ビス(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、Tm=260℃〔新日本理化(株)製、商品名: ゲルオールMD〕
(B−2)ナトリウム2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスフェート〔(株)アデカ製 商品名:アデカスタブNA−11〕
(B−3)ステアリン酸マグネシウム、Tm=125℃、〔堺化学工業(株)製〕
(B−4)エチレン・ビスステアリン酸アミド、Tm=144℃〔花王(株)製、商品名:カオーワックスEB−P〕
離型フィルムのオリゴマー量は、以下の方法で測定した。
2. Crystal nucleating agent (B-1) Bis (4-methylbenzylidene) sorbitol, Tm = 260 ° C. (trade name: Gelol MD, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
(B-2) Sodium 2,2′-methylenebis (4,6-ditert-butylphenyl) phosphate [trade name: ADK STAB NA-11, manufactured by Adeka Corporation]
(B-3) Magnesium stearate, Tm = 125 ° C., manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.
(B-4) Ethylene bisstearic acid amide, Tm = 144 ° C. [trade name: Kao wax EB-P, manufactured by Kao Corporation]
The oligomer amount of the release film was measured by the following method.

〈標準品溶液調製〉
(1)標準品各々10mgを10mlのメスフラスコに秤量後、ジメチルホルムアミド(DMF)にて溶解定容。
(2)標準品1000μg/mlのDMF溶液をDMFで希釈し、0.2および20μg/mlの標準品溶液を調製。
<Standard solution preparation>
(1) 10 mg of each standard product was weighed into a 10 ml volumetric flask and dissolved in dimethylformamide (DMF).
(2) Dilute standard 1000 μg / ml DMF solution with DMF to prepare 0.2 and 20 μg / ml standard solutions.

〈試料測定溶液調製〉
(1)試料0.2gを秤量後、HFIP/クロロホルム=1/1(容量比)溶液5mlを添加し試料を溶解。
(2)クロロホルム20mlを添加し希釈後、アセトニトリル70mlに滴下し溶解際沈殿処理を実施。
(3)ろ紙にてろ過を行い、ろ液をエバポレートおよび窒素パージにより乾固。
(4)DMFで溶解後、5mlに定容。
<Sample measurement solution preparation>
(1) After weighing 0.2 g of sample, 5 ml of HFIP / chloroform = 1/1 (volume ratio) solution was added to dissolve the sample.
(2) After adding 20 ml of chloroform and diluting, it was added dropwise to 70 ml of acetonitrile, and precipitation treatment was performed upon dissolution.
(3) Filtration through filter paper, and the filtrate is evaporated to dryness by evaporation and nitrogen purge.
(4) After dissolving with DMF, constant volume to 5 ml.

〈装置および測定条件〉
装置:waters社製 alliance2695/2487
カラム:野村化学社製 Develosil ODS-KH-3(3μ 4.6×150mm)
移動相:0.5%酢酸水溶液/アセトニトリル グラジエント
検出:UV=254nm
〈定量〉
オリゴマー量は、ビスヒドロキシエチルテレフタレート(BHET)標準品溶液20μg/mlのピーク面積による検量線法により定量を行なった。
<Device and measurement conditions>
Device: waters alliance2695 / 2487
Column: Develosil ODS-KH-3 (3μ 4.6 × 150mm) manufactured by Nomura Chemical Co., Ltd.
Mobile phase: 0.5% acetic acid aqueous solution / acetonitrile gradient Detection: UV = 254 nm
<Quantitative>
The amount of oligomer was determined by a calibration curve method using a peak area of 20 μg / ml of a bishydroxyethyl terephthalate (BHET) standard product solution.

〔実施例1〜7及び比較例1〜6〕
〈結晶核剤マスターバッチの作製方法〉
上記記載のポリブチレンテレフタレート:100質量部と上記記載の各結晶核剤:5質量部の組成比でブレンド後、二軸押出機(JSW社製「TEX−30」)を使用し、250℃のシリンダー温度で溶融混練しペレット化し、結晶核剤の濃度が5質量%である結晶核剤マスターバッチを作製した。
[Examples 1-7 and Comparative Examples 1-6]
<Preparation method of crystal nucleating agent master batch>
After blending at a composition ratio of polybutylene terephthalate described above: 100 parts by mass and each crystal nucleating agent described above: 5 parts by mass, using a twin screw extruder (“TEX-30” manufactured by JSW), A crystal nucleating agent master batch having a concentration of 5% by mass of the crystal nucleating agent was prepared by melting and kneading at a cylinder temperature and pelletizing.

次いで、上記記載のポリブチレンテレフタレートと結晶核剤マスターバッチを表1に示す比率でブレンド後、スクリュ径40mmの押出機のT−ダイフィルム成形機にて、樹脂温度250℃、チルロール温度80℃、エアーチャンバー静圧440mmH2Oの条件下、50μmのポリブチレンテレフタレートの単層フィルムを得た。 Next, after blending the polybutylene terephthalate and crystal nucleating agent master batch described above in the ratio shown in Table 1, in a T-die film molding machine of an extruder with a screw diameter of 40 mm, a resin temperature of 250 ° C., a chill roll temperature of 80 ° C., A single-layer film of 50 μm polybutylene terephthalate was obtained under conditions of an air chamber static pressure of 440 mmH 2 O.

〈オーブン熱処理方法〉
熱風循環式オーブンを用いて大気雰囲気下、180℃で5分間上記単層フィルムを熱処理し自然冷却後のフィルムを離型フィルムとした。
上記の離型フィルムを以下の方法により、離型性評価を行った。
表1に結果を示す。
<Oven heat treatment method>
The above single-layer film was heat-treated at 180 ° C. for 5 minutes in an air atmosphere using a hot air circulation oven, and the film after natural cooling was used as a release film.
The release film was evaluated for release properties by the following method.
Table 1 shows the results.

(1)エポキシ離型性評価
カバーレイフィルム(保護フィルム)〔商品名:カバーレイCISV1215(ニッカン工業(株)製 ポリイミドフィルム厚さ:12μm、エポキシ樹脂系接着剤層厚さ:15μm)〕と離型フィルムを同じ縦方向(MD)になるようにして重ね合わせた。そのとき離型フィルムの離型層とカバーレイフィルムのエポキシ樹脂系接着剤層とが面で接するようにした。更に、その外側にアルミ板とSUS板で挟みこみ、プレス成形を行った。プレスは4MPaの圧力で180℃、30分間の条件で貼り合わせた。プレス成形が終了した後、プレス圧を解放し自然冷却後、カバーレイフィルムと離型フィルムが重なり合った積層体を得た。これをMD方向に15mm幅に切り出し、引張り試験機(東洋精機社製)を用い、引張速度300mm/分でカバーレイフィルムのエポキシ樹脂系接着剤層と離型フィルム間の剥離強度を180度剥離で測定し、対エポキシ系樹脂接着剤との離型強度とした。
(1) Evaluation of epoxy releasability Coverlay film (protective film) [trade name: Coverlay CISV1215 (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd., polyimide film thickness: 12 μm, epoxy resin adhesive layer thickness: 15 μm)] and release The mold films were overlaid with the same machine direction (MD). At that time, the release layer of the release film and the epoxy resin adhesive layer of the coverlay film were in contact with each other at the surface. Further, it was sandwiched between an aluminum plate and a SUS plate on the outside, and press molding was performed. The press was bonded at a pressure of 4 MPa at 180 ° C. for 30 minutes. After the press molding was completed, the press pressure was released, and after natural cooling, a laminate in which the coverlay film and the release film overlapped was obtained. This is cut into a width of 15 mm in the MD direction, and using a tensile tester (manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.), the peel strength between the epoxy resin adhesive layer of the coverlay film and the release film is peeled 180 degrees at a tensile speed of 300 mm / min. And the release strength with respect to the epoxy resin adhesive.

(2)耐シワ性評価
図1に示すポリイミドフィルム2-1とエポキシ樹脂系接着剤層2-2からなるカバーレイフィルム2〔ニッカン工業(株)製、商品名:CISV1215)を用いた。このカバーレイフィルム2にはプリント配線基板3の端子部分に相当する部分が窓部4として打ち抜かれている。窓部4の大きさは4mm×20mmで1枚のカバーレイフィルム2に複数箇所に形成されている。一方、プリント配線基板3は厚さ25μmのポリイミドフィルム上に厚さ12μmの銅箔(図示せず)で配線パターンが形成されている240mm×300mmの大きさを用いた。このプリント配線基板3とカバーレイフィルム2を位置決めして重ね合わせ、その両面側を離型フィルム1で挟み込んだ状態で、加熱プレス機にセットした。温度180℃、圧力4MPa、加圧時間120秒の条件で加熱プレスした。この過程でカバーレイフィルムのエポキシ系接着剤が窓部4で多少流れ出してしまいエポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部5ができてしまう。次にプレス板(図示せず)を開放し冷却した後、離型フィルム1をカバーレイフィルム2が接着したプリント配線基板3から離型させた。離型の際に、エポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部5で離型が重いとプリント配線基板3が折れてしまいシワとなる。1箇所でもシワが発生した場合を×とし、シワが発生しなかった場合を○と判定した。
(2) Evaluation of wrinkle resistance A coverlay film 2 [manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd., trade name: CISV1215] comprising the polyimide film 2-1 and the epoxy resin adhesive layer 2-2 shown in FIG. 1 was used. In the coverlay film 2, a portion corresponding to the terminal portion of the printed wiring board 3 is punched out as a window portion 4. The size of the window 4 is 4 mm × 20 mm, and is formed at a plurality of locations on one coverlay film 2. On the other hand, the printed wiring board 3 used a size of 240 mm × 300 mm in which a wiring pattern is formed of a 12 μm thick copper foil (not shown) on a 25 μm thick polyimide film. The printed wiring board 3 and the coverlay film 2 were positioned and overlapped, and the both sides were sandwiched between the release films 1 and set in a heating press. Heat pressing was performed under the conditions of a temperature of 180 ° C., a pressure of 4 MPa, and a pressing time of 120 seconds. In this process, the epoxy adhesive of the cover lay film flows out somewhat in the window part 4, and the flow-out part 5 of the epoxy resin adhesive is formed. Next, after a press plate (not shown) was opened and cooled, the release film 1 was released from the printed wiring board 3 to which the coverlay film 2 was adhered. At the time of mold release, if the mold release is heavy at the flow-out portion 5 of the epoxy resin adhesive, the printed wiring board 3 is broken and wrinkled. The case where wrinkles occurred even at one place was evaluated as x, and the case where wrinkles did not occur was determined as ◯.

Figure 2014098138
Figure 2014098138

本発明の離型フィルムは、エポキシ系接着剤との剥離強度が0.1〜2.5N/15mmと低く、離型性に優れ、且つ、耐熱性、耐汚染性を有するので、安全かつ容易に廃棄処理できることから、プリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、又は、多層プリント配線板の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレス成形する際に、プレス熱板とプリント配線基板、フレキシブルプリント配線基板、又は、多層プリント配線板との接着を防ぐために好適に用いられる。   The release film of the present invention has a low peel strength of 0.1 to 2.5 N / 15 mm from the epoxy adhesive, has excellent release properties, and has heat resistance and stain resistance, so it is safe and easy. In the manufacturing process of a printed wiring board, flexible printed wiring board, or multilayer printed wiring board, when heat-pressing a copper-clad laminate or copper foil via a prepreg or a heat-resistant film, press heat It is suitably used to prevent adhesion between the board and the printed wiring board, flexible printed wiring board, or multilayer printed wiring board.

1:離型フィルム
2:カバーレイフィルム(保護フィルム)
2−1:ポリイミドフィルム
2−2:エポキシ樹脂系接着剤層
3:プリント配線基板
4:窓部
5:エポキシ樹脂系接着剤の流れ出し部
1: Release film 2: Coverlay film (protective film)
2-1: Polyimide film 2-2: Epoxy resin adhesive layer 3: Printed wiring board 4: Window portion 5: Flow-out portion of epoxy resin adhesive

Claims (5)

ポリブチレンテレフタレート(A)を含む離型フィルムであって、当該離型フィルムに含まれるオリゴマー量が2500ppm以下であることを特徴とする離型フィルム。   A release film containing polybutylene terephthalate (A), wherein the amount of oligomers contained in the release film is 2500 ppm or less. ポリブチレンテレフタレート(A)100質量部に対して、核剤(B)を0.01質量部以上含んでなる請求項1記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1, comprising 0.01 parts by mass or more of the nucleating agent (B) with respect to 100 parts by mass of the polybutylene terephthalate (A). ポリブチレンテレフタレート(A)の固有粘度(IV)が1.0〜1.3である請求項1または2記載の離型フィルム。   The release film according to claim 1 or 2, wherein the polybutylene terephthalate (A) has an intrinsic viscosity (IV) of 1.0 to 1.3. 請求項1〜3の何れかに記載のフィルムが加熱処理されている離型フィルム。   The release film in which the film in any one of Claims 1-3 is heat-processed. プリント配線基板にエポキシ樹脂系接着層を介して保護フィルムを加熱・加圧して熱接着する工程において、保護フィルムと加圧板との間に請求項1〜4のいずれかに記載の離型フィルムを介在させて加熱・加圧して熱接着を行い、熱接着後に該離型フィルムを剥離する工程を含むことを特徴とするプリント配線基板の製造方法。   The release film according to any one of claims 1 to 4 is provided between the protective film and the pressure plate in the step of heating and pressing the protective film to the printed wiring board via an epoxy resin adhesive layer. A method for producing a printed wiring board, comprising the steps of heat-bonding by interposing and heat-bonding, and peeling the release film after heat-bonding.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014231593A (en) * 2013-04-30 2014-12-11 住友ベークライト株式会社 Release film and method of using release film
JP2015013465A (en) * 2013-06-06 2015-01-22 住友ベークライト株式会社 Release film and usage of release film
JP2015058691A (en) * 2013-09-20 2015-03-30 三井化学東セロ株式会社 Multilayer release film
JP2016144897A (en) * 2015-02-09 2016-08-12 住友ベークライト株式会社 Release film
WO2017199764A1 (en) * 2016-05-16 2017-11-23 三井化学東セロ株式会社 Release film suitable for manufacturing multilayer printed circuit board
WO2023132116A1 (en) * 2022-01-06 2023-07-13 興人フィルム&ケミカルズ株式会社 Mold release film

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220001581A1 (en) * 2018-10-04 2022-01-06 Nitto Denko Corporation Heat-resistant release sheet and thermocompression bonding method
KR102435977B1 (en) 2020-09-01 2022-08-25 율촌화학 주식회사 Embo releasing film and the method for producing the same

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001088352A (en) * 1999-07-29 2001-04-03 Samsung Electronics Co Ltd Optical scanning system for printer and driving method thereof
WO2005002850A1 (en) * 2003-07-01 2005-01-13 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Mold release film and process for producing flexible printed wiring board therewith
JP2007175885A (en) * 2005-12-27 2007-07-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Mold release film
WO2009038118A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Sekisui Chemical Co., Ltd. Mold release film
JP2009066984A (en) * 2007-09-14 2009-04-02 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Mold release film for heat press forming
JP2011088352A (en) * 2009-10-22 2011-05-06 Unitika Ltd Release film
WO2011122023A1 (en) * 2010-03-31 2011-10-06 住友ベークライト株式会社 Mould release film
JP2011202156A (en) * 2010-03-04 2011-10-13 Toray Ind Inc Biaxially stretched polyester film

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001088352A (en) * 1999-07-29 2001-04-03 Samsung Electronics Co Ltd Optical scanning system for printer and driving method thereof
WO2005002850A1 (en) * 2003-07-01 2005-01-13 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Mold release film and process for producing flexible printed wiring board therewith
JP2007175885A (en) * 2005-12-27 2007-07-12 Asahi Kasei Chemicals Corp Mold release film
JP2009066984A (en) * 2007-09-14 2009-04-02 Mitsubishi Engineering Plastics Corp Mold release film for heat press forming
WO2009038118A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Sekisui Chemical Co., Ltd. Mold release film
JP2011088352A (en) * 2009-10-22 2011-05-06 Unitika Ltd Release film
JP2011202156A (en) * 2010-03-04 2011-10-13 Toray Ind Inc Biaxially stretched polyester film
WO2011122023A1 (en) * 2010-03-31 2011-10-06 住友ベークライト株式会社 Mould release film

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014231593A (en) * 2013-04-30 2014-12-11 住友ベークライト株式会社 Release film and method of using release film
JP2015013465A (en) * 2013-06-06 2015-01-22 住友ベークライト株式会社 Release film and usage of release film
JP2016026937A (en) * 2013-06-06 2016-02-18 住友ベークライト株式会社 Release film and usage of release film
JP2015058691A (en) * 2013-09-20 2015-03-30 三井化学東セロ株式会社 Multilayer release film
JP2016144897A (en) * 2015-02-09 2016-08-12 住友ベークライト株式会社 Release film
WO2017199764A1 (en) * 2016-05-16 2017-11-23 三井化学東セロ株式会社 Release film suitable for manufacturing multilayer printed circuit board
JP2017205902A (en) * 2016-05-16 2017-11-24 三井化学東セロ株式会社 Release film suitable for manufacture of multilayer printed wiring board
CN109070399A (en) * 2016-05-16 2018-12-21 三井化学东赛璐株式会社 The release film of manufacture suitable for multi-layer printed circuit board
CN109070399B (en) * 2016-05-16 2021-01-26 三井化学东赛璐株式会社 Release film suitable for manufacturing multilayer printed wiring board
WO2023132116A1 (en) * 2022-01-06 2023-07-13 興人フィルム&ケミカルズ株式会社 Mold release film

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