JP2014092743A - 表示装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】シャッタが設けられた基板とこれに対向する基板を電気的に導通させることを目的とする。
【解決手段】表示装置は、第１基板１０と、第１基板１０に設けられたシャッタ１４及びシャッタ１４と接続された駆動部４２と、第１基板１０に設けられてシャッタ１４と電気的に接続された第１配線４４と、第１基板１０に設けられた第１凸部５０と、間隔をあけて第１基板１０に対向するように配置された第２基板１２と、第２基板１２に設けられた第２配線５６と、第２基板１２に設けられた第２凸部６２と、を有する。第１凸部５０の少なくとも一部は、第１配線４４と電気的に接続された第１導電膜５２からなる。第２凸部６２の少なくとも一部は、第２配線５６と電気的に接続された第２導電膜６６からなる。第１凸部５０及び第２凸部６２は、一方が他方に嵌り込み、第１導電膜５２及び第２導電膜６６が電気的に接続する。
【選択図】図３

Description

本発明は、表示装置及びその製造方法に関する。

ＭＥＭＳディスプレイ（Micro Electro Mechanical System Display）は、液晶ディスプレイに取って代わると期待されているディスプレイである（特許文献１参照）。このディスプレイは、偏光を利用した液晶シャッタ方式とは異なり、機械シャッタ方式によって光の透過窓を開閉する。詳しくは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）が形成されたＴＦＴ基板には画素ごとにシャッタが設けられており、このシャッタを静電力により水平方向に動作させることで、開口部を開閉して画像を表示する。

特開２００８−１９７６６８号公報

通常、対向基板へのシャッタの貼り付きを防止するため、シャッタと対向基板を同電位にする必要がある。そのため、対向基板とＴＦＴ基板は、導電性の材料を用いて導通を図る。導通を図るプロセスは、対向基板とＴＦＴ基板を貼り合わせて両者を切断した後に行うので、貼り合わせ工程での静電気の影響は避けられなかった。また、シャッタが設けられたＴＦＴ基板は、貼り合わせ前は表面がパッシベーション膜で覆われているので、電気的に導通を図ることは難しい。

本発明は、シャッタが設けられた基板とこれに対向する基板を電気的に導通させることを目的とする。

（１）本発明に係る表示装置は、第１基板と、前記第１基板に設けられたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、前記第１基板に設けられて前記シャッタと電気的に接続された第１配線と、前記第１基板に設けられた第１凸部と、間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、前記第２基板に設けられた第２配線と、前記第２基板に設けられた第２凸部と、を有し、前記第１凸部の少なくとも一部は、前記第１配線と電気的に接続された第１導電膜からなり、前記第２凸部の少なくとも一部は、前記第２配線と電気的に接続された第２導電膜からなり、前記第１凸部及び前記第２凸部は、一方が他方に嵌り込み、前記第１導電膜及び前記第２導電膜が電気的に接続することを特徴とする。本発明によれば、第１基板に設けられたシャッタは、第１配線、第１凸部の少なくとも一部である第１導電膜、第２凸部の少なくとも一部である第２導電膜及び第２配線を介して、第２基板と電気的に接続される。これにより、シャッタと第２基板が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。

（２）（１）に記載された表示装置において、前記第１凸部の最表層は、パッシベーション膜からなり、前記パッシベーション膜は、前記第１配線を覆うように形成され、前記第２凸部の最表層は、前記第２導電膜からなり、前記第２凸部が、前記パッシベーション膜を貫通して前記第１凸部に嵌り込むことを特徴としてもよい。

（３）（１）又は（２）に記載された表示装置において、前記第１凸部は、中空形状であることを特徴としてもよい。

（４）（１）から（３）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第１凸部は、内部に樹脂層を有することを特徴としてもよい。

（５）（１）から（４）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第２凸部は、先端が前記第１基板に到達するように、前記第１凸部に嵌り込むことを特徴としてもよい。

（６）（１）から（４）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第２凸部は、先端が前記第１基板から離れて位置するように、前記第１凸部に嵌り込むことを特徴としてもよい。

（７）（１）から（６）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第２凸部は、内部に樹脂層を有することを特徴としてもよい。

（８）（１）から（７）のいずれか１項に記載された表示装置において、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に積層された光反射膜及び前記光反射膜に積層された遮光膜をさらに有することを特徴としてもよい。

（９）（８）に記載された表示装置において、前記第２基板に前記光反射膜が積層され、前記遮光膜は、前記光反射膜の前記第２基板とは反対側の面に積層されていることを特徴としてもよい。

（１０）（９）に記載された表示装置において、前記光反射膜が、前記第２配線であり、前記遮光膜は、貫通穴を有し、前記貫通穴から前記第２凸部が突出し、前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴としてもよい。

（１１）（９）に記載された表示装置において、前記遮光膜が、前記第２配線であり、前記光反射膜上に前記第２凸部が形成され、前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴としてもよい。

（１２）（９）に記載された表示装置において、前記光反射膜と前記遮光膜の間に前記第２配線が配置され、前記遮光膜は、貫通穴を有し、前記第２凸部は、前記光反射膜上に配置されて前記貫通穴から突出し、前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴としてもよい。

（１３）（９）に記載された表示装置において、前記遮光膜の前記光反射膜とは反対の面に前記第２配線が積層され、前記第２凸部は、前記光反射膜及び前記遮光膜の上に配置され、前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴としてもよい。

（１４）本発明に係る表示装置の製造方法は、第１基板を用意する工程と、第２基板を用意する工程と、間隔をあけて前記第１基板に対向するように第２基板を配置する工程と、を含み、前記第１基板を用意する工程では、前記第１基板に、シャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、前記シャッタと電気的に接続する第１配線と、少なくとも一部が前記第１配線と電気的に接続された第１導電膜からなる第１凸部と、を設け、前記第２基板を用意する工程では、前記第２基板に、第２配線と、少なくとも一部が前記第２配線と電気的に接続された第２導電膜からなる第２凸部と、を設け、前記第２基板を配置する工程では、前記第１凸部及び前記第２凸部の一方を他方に嵌め込んで、前記第１導電膜及び前記第２導電膜を電気的に接続することを特徴とする。本発明によれば、第１基板に設けられたシャッタは、第１配線、第１凸部の少なくとも一部である第１導電膜、第２凸部の少なくとも一部である第２導電膜及び第２配線を介して、第２基板と電気的に接続される。これにより、シャッタと第２基板が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。

本発明の実施形態に係る表示装置の断面図である。 シャッタ及びその駆動部の斜視図である。 シャッタ及び駆動部を含む構造の拡大断面図である。 本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。 本発明の実施形態の変形例１に係る表示装置の断面図である。 本発明の実施形態の変形例２に係る表示装置の断面図である。 本発明の実施形態の変形例３に係る表示装置の断面図である。 本発明の実施形態の変形例４に係る表示装置の断面図である。 本発明の実施形態の変形例５に係る表示装置の断面図である。 第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の形状を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。 第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の外形を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。 第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の外形を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。 第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の外形を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。 第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の外形を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。

図１は、本発明の実施形態に係る表示装置の概略を示す断面図である。表示装置は、光透過性の第１基板１０（例えばガラス基板）と、光透過性の第２基板１２（例えばガラス基板）と、を有する。第１基板１０及び第２基板１２は、間隔をあけて対向するように配置されている。第１基板１０は、図示しない薄膜トランジスタや配線などが形成された回路基板又はＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板である。第１基板１０には、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４は、図示しない薄膜トランジスタや配線などの上に設けられている。

図２は、シャッタ及びその駆動部の斜視図である。図３は、シャッタ及び駆動部を含む構造の詳細を示す拡大断面図である。

シャッタ１４は、無機材料からなる。シャッタ１４は、図３に示すように、アモルファスシリコンなどの半導体、或いは金属からなる第１膜１６と、アルミニウムなどの金属からなる第２膜１８を含み、これらがＳｉＮやＡｌ_２Ｏ_３などのパッシベーション膜２０で覆われている。シャッタ１４は、駆動開口２２を有するプレートである。また、シャッタ１４には、強度を高めるために凹部２４が形成されているが、この凹部２４は貫通していない。駆動開口２２を光が通過し、駆動開口２２以外の部分で光を遮断する。駆動開口２２は一方向に長い形状になっている。なお、光は、第２基板１２に重ねられたバックライト２６から供給される。

シャッタ１４は、第１バネ２８に支持されて第１基板１０から浮くようになっている。複数の第１バネ２８によってシャッタ１４が支持されている。第１バネ２８は、第１アンカー部３０で第１基板１０に固定されている。

第１バネ２８は、弾性変形可能な材料からなる。第１バネ２８は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第１バネ２８は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。

第１バネ２８は、シャッタ１４から離れる方向（駆動開口２２の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第１部３２と、駆動開口２２の長さ方向に沿った方向であって駆動開口２２の長さ方向の中央から外方向に向かって延びる第２部３４と、さらにシャッタ１４から離れる方向（駆動開口２２の長さ方向に交差（例えば直交）する方向）に延びる第３部３６と、を有する。そして、シャッタ１４は、図２に矢印で示すように、駆動開口２２の長さ方向に交差（例えば直交）する方向に移動できるように第１バネ２８に支持されている。

第１基板１０には、第２アンカー部３８に支持された第２バネ４０が設けられている。第２バネ４０も、弾性変形可能な材料からなる。第２バネ４０は、厚みの薄い板状をなしており、厚み方向を横方向（第１基板１０の板面に平行な方向）に向けて、幅方向を上下方向（第１基板１０の板面に垂直な方向）に向けて配置されている。これにより、第２バネ４０は、その厚み方向である横方向に変形できるようになっている。また、第２バネ４０は、ループ状になっており、第２アンカー部３８から延びた帯状部が、屈曲して折り返されて、同じ第２アンカー部３８に戻るようになっている。

第２バネ４０は、第１バネ２８の第２部３４よりもシャッタ１４から離れた側で、この第２部３４に対向するようになっている。第２アンカー部３８に電圧を印加し、第１バネ２８の第２部３４との電位差によって生じる静電引力によって、第２部３４が第２バネ４０に引き寄せられるようになっている。第２部３４が引き寄せられると、第２部３４と一体的な第１部３２を介して、シャッタ１４も引き寄せられる。つまり、第１バネ２８及び第２バネ４０は、シャッタ１４を機械的に駆動するための駆動部４２を構成するためのものである。

駆動部４２は、シャッタ１４の少なくとも一部と同じ材料から形成されている。例えば、第１バネ２８及び第２バネ４０は、シャッタ１４を構成する膜の一部（例えばアモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６）及びこれを覆うパッシベーション膜２０を含む。駆動部４２のその他の部分（例えば第１アンカー部３０）は、図３に示すように、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６と、アルミニウムなどの金属からなる第２膜１８と、これらを覆うパッシベーション膜２０とを含む。

図３に示すように、第１基板１０には第１配線４４が形成されている。第１配線４４は、図示しない薄膜トランジスタのゲート電極と同時に同じ材料（例えばアルミニウム）で形成してもよい。第１配線４４は、遮光性を有する材料からなる第１遮光膜４６であり、遮光の必要がある領域で光漏れを防ぐようになっている。第１配線４４を覆うようにパッシベーション膜２０が形成されている。

第１配線４４は、シャッタ１４と電気的に接続されている。例えば、第１配線４４の上に第１アンカー部３０が電気的に接続するように設けられている。詳しくは、第１配線４４の上にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる接続層４８が形成され、その上に第１アンカー部３０の第１膜１６が設けられている。アルミニウムからなる第１配線４４と、第１アンカー部３０の一部を構成する半導体からなる第１膜１６とは、密着性に劣るため、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる接続層４８が介在している。

また、第１基板１０には第１凸部５０が設けられている。第１凸部５０は、中空形状である。第１凸部５０の少なくとも一部は、第１導電膜５２からなる。第１導電膜５２は、シャッタ１４の少なくとも一部と同じ材料（例えば、アモルファスシリコンなどの半導体からなる第１膜１６及びアルミニウムなどの金属からなる第２膜１８）から形成されている。第１導電膜５２は第１配線４４と電気的に接続されている。例えば、第１配線４４の上に接続層４８が形成され、その上に第１導電膜５２が形成されている。アルミニウムからなる第１配線４４と、第１導電膜５２の一部を構成する半導体からなる第１膜１６とは、密着性に劣るため、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる接続層４８を介在させている。第１凸部５０の最表層は、ＳｉＮやＡｌ_２Ｏ_３などのパッシベーション膜２０からなる。

図３に示すように、第１基板１０及び第２基板１２の少なくとも一方（例えばバックライト２６が配置された側の第２基板１２）には、光反射膜５４が積層されている。光反射膜５４は、バックライト２６からの光を反射して再利用するようになっている。光反射膜５４は、導電材料からなる第２配線５６である。光反射膜５４に第２遮光膜５８が積層されている。第２遮光膜５８は、遮光の必要がある領域で光漏れを防ぐようになっている。第２遮光膜５８は、光反射膜５４の第２基板１２とは反対側の面に積層されている。第２遮光膜５８は、貫通穴６０を有している。

第２基板１２には第２凸部６２が設けられている。第２遮光膜５８の貫通穴６０から第２凸部６２が突出している。第２凸部６２は、内部に樹脂層６４を有する。第２凸部６２の少なくとも一部（例えば最表層）は、第２導電膜６６からなる。第２導電膜６６は第２配線５６（光反射膜５４）と電気的に接続されている。具体的には、図３の例では第２配線５６と一体的に第２導電膜６６が延びる。

第１凸部５０及び第２凸部６２は、一方が他方に嵌り込んでいる。例えば、第２凸部６２が、パッシベーション膜２０を貫通して第１凸部５０に嵌り込む。第２凸部６２は、先端が第１基板１０に到達するように、第１凸部５０に嵌り込む。したがって、第２凸部６２は、第１基板１０及び第２基板１２の間隔を保持するスペーサの機能を果たしている。

また、第２凸部６２が第１凸部５０に嵌り込むことで、第１導電膜５２及び第２導電膜６６は、電気的に接続する。したがって、第１基板１０に設けられたシャッタ１４は、第１配線４４、第１凸部５０の少なくとも一部である第１導電膜５２、第２凸部６２の少なくとも一部である第２導電膜６６及び第２配線５６を介して、第２基板１２と電気的に接続される。これにより、シャッタ１４と第２基板１２が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。

図３に示すように、第１基板１０に形成された第１遮光膜４６には、第１固定開口６８が形成されている。また、第２基板１２に形成された第２遮光膜５８及び光反射膜５４には、第２固定開口７０が形成されている。第１固定開口６８と第２固定開口７０は、対向するように形成されている。

シャッタ１４の上述した駆動開口２２（図２参照）と第１固定開口６８及び第２固定開口７０とは、対向する位置に配置されており、両者が連通すれば光が通過し、シャッタ１４の移動によって第１固定開口６８及び第２固定開口７０が遮蔽されると光が遮断される。言い換えると、第１固定開口６８及び第２固定開口７０への光の通過及び遮断を制御するように、シャッタ１４は機械的に駆動される。１つのシャッタ１４が１画素に対応し、多数の画素によって画像が表示されるようになっている。そのため、複数（多数）のシャッタ１４が設けられている。シャッタ１４及び駆動部４２は、駆動開口２２並びに第１固定開口６８及び第２固定開口７０を通過する光の有無及び出射時間によって画像を表示する表示領域に配置されている。

図１に示すように、第１基板１０及び第２基板１２は、シール材７２によって間隔をあけて固定されている。第１基板１０及び第２基板１２の間（シール材７２によって封止されたスペース）にはオイル７４（例えばシリコーンオイル）が満たされている。シャッタ１４及び駆動部４２は、オイル７４内に配置されている。オイル７４の誘電率が低いためシャッタ１４の駆動電圧を下げることができる。第１基板１０及び第２基板１２がガラスからなる場合、ガラスと屈折率の近いオイル７４を使用すれば、オイル７４を満たすことで、第１基板１０及び第２基板１２との界面での光の反射を減らすことができる。

図４は、本発明の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。本実施形態では、第１基板１０を用意する。第１基板１０に、第１配線４４と、少なくとも一部が第１配線４４と電気的に接続された第１導電膜５２からなる第１凸部５０と、を設ける。第１凸部５０は、中空であって上面に穴７６を有するように形成する。第１凸部５０の内面及び外面のみならず、上面に形成された穴７６の内面もパッシベーション膜２０で覆われている。また、図３に示すように、第１基板１０には、シャッタ１４及びシャッタ１４と接続された駆動部４２を形成する。シャッタ１４は、第１配線４４と電気的に接続するように設ける。そのプロセスの詳細は、上述した構造の説明から自明であるため説明を省略する。

また、第２基板１２を用意する。第２基板１２に、第２配線５６と、少なくとも一部が第２配線５６と電気的に接続された第２導電膜６６からなる第２凸部６２と、を設ける。そのプロセスの詳細は、上述した構造の説明から自明であるため説明を省略する。

そして、間隔をあけて第１基板１０に対向するように第２基板１２を配置する。第１凸部５０及び第２凸部６２の一方を他方に嵌め込んで、第１導電膜５２及び第２導電膜６６を電気的に接続する。詳しくは、第１凸部５０の上面に形成された穴７６に、第２凸部６２の先端を挿入する。挿入時の摩擦及び押圧力で第１凸部５０の表層のパッシベーション膜２０を剥離する。こうすることで、図３に示すように、第１導電膜５２及び第２導電膜６６を電気的に接続する。

本実施形態によれば、第１基板１０に設けられたシャッタ１４を、第１配線４４、第１導電膜５２、第２導電膜６６及び第２配線５６を介して、第２基板１２と電気的に接続することができる。これにより、シャッタ１４と第２基板１２が同電位になるので、静電力による両者の貼り付きを防止することができる。

図５は、本発明の実施形態の変形例１に係る表示装置の断面図である。この例では、第２凸部１６２は、先端が第１基板１０から離れて位置するように、第１凸部５０に嵌り込む。すなわち、第２凸部１６２と第１基板１０との間に隙間が形成される。そのため、第２凸部１６２はスペーサの機能を果たさないため、他に第１基板１０と第２基板１２との間に、図示しないスペーサを設けることが好ましい。あるいは、図３に示すようなスペーサの機能を果たす第２凸部６２であっても、他にスペーサを設けてもよい。その他の内容は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。

図６は、本発明の実施形態の変形例２に係る表示装置の断面図である。この例では、遮光膜２７８が第２配線２５６である。したがって、遮光膜２７８が導電材料で形成されている。この場合、光反射膜２５４を構成する材料は、導電性が要求されないが、導電性材料であってもよい。光反射膜２５４上に第２凸部２６２が形成されている。第２配線２５６と一体的に第２導電膜２６６が延びる。その他の内容は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。

図７は、本発明の実施形態の変形例３に係る表示装置の断面図である。この例では、光反射膜３５４と遮光膜３７８の間に第２配線３５６が配置されている。この場合、光反射膜３５４又は遮光膜３７８を構成する材料は、導電性が要求されないが、導電性材料であってもよい。遮光膜３７８は、貫通穴３６０を有している。第２凸部３６２は、光反射膜３５４上に配置されて貫通穴３６０から突出している。第２配線３５６と一体的に第２導電膜３６６が延びる。その他の内容は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。

図８は、本発明の実施形態の変形例４に係る表示装置の断面図である。この例では、遮光膜４７８の光反射膜４５４とは反対の面に第２配線４５６が積層されている。この場合、光反射膜４５４又は遮光膜４７８を構成する材料は、導電性が要求されないが、導電性材料であってもよい。第２凸部４６２は、光反射膜４５４及び遮光膜４７８の上に配置されている。第２配線４５６と一体的に第２導電膜４６６が延びる。その他の内容は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。

図９は、本発明の実施形態の変形例５に係る表示装置の断面図である。この例では、第１凸部５５０は、内部に樹脂層５８０を有するので強度が確保されている。第１凸部５５０は、上面に穴５７６が形成されており、穴５７６と連通する中空部を有する。中空部は樹脂層５８０を貫通する空間である。この例では、第１導電膜５５２と第１配線５４４が接触して電気的に接続している。つまり、両者間の接続層が省略されている。その他の内容は、上記実施の形態で説明した内容が該当する。

図１０Ａ〜図１０Ｅは、第１凸部に嵌り込んだ第２凸部の形状を説明するために、第２凸部を第１凸部の上端で切断した断面で示す図である。第１凸部５０の平面形状（第１基板１０（図３参照）の表面に垂直方向に見た平面形状。以下同じ。）は、矩形の角を丸くした形状である。第１凸部５０の、第１配線４４（図３参照）と電気的に接続する部分の平面形状を破線で示してある。図１０Ａ〜図１０Ｅに示す第２凸部は、それぞれ、第２導電膜６６（図３参照）の、第１凸部５０の第１導電膜５２（図３参照）と電気的に接続する部分の形状において異なっている。

図１０Ａに示す第２凸部６６２の横断面における外形形状（第１基板１０の表面に平行な面で切ったときの形状。以下同じ。）は、矩形の角を丸くした形状である。第１凸部５０の平面形状の矩形の辺と、第２凸部６６２の横断面における外形形状の辺は、平行になるように配置されている。

図１０Ｂに示す第２凸部７６２の横断面形状は、矩形であって角部を有する。その角部が、第１凸部５０の平面形状の矩形の辺に対向するように、第２凸部７６２は形成されている。

図１０Ｃに示す第２凸部８６２の横断面形状は、三角形であって角部を有する。

図１０Ｄに示す第２凸部９６２の横断面形状は、矩形の一方の対角の角部を丸くし、他方の対角の角部を直角よりも鋭利な角にした形状である。

図１０Ｅに示す第２凸部１０６２の横断面形状は、三角形の辺を内側に湾曲させた形状である。これによれば、第２導電膜１０６６は、隣同士の側面の間の角度が小さくなっており、鋭利な角を有するようになっている。そのため、第１凸部５０に刺さりやすく、抜けにくくなっている。

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。また、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。

１０ 第１基板、１２ 第２基板、１４ シャッタ、１６ 第１膜、１８ 第２膜、２０ パッシベーション膜、２２ 駆動開口、２４ 凹部、２６ バックライト、２８ 第１バネ、３０ 第１アンカー部、３２ 第１部、３４ 第２部、３６ 第３部、３８ 第２アンカー部、４０ 第２バネ、４２ 駆動部、４４ 第１配線、４６ 第１遮光膜、４８ 接続層、５０ 第１凸部、５２ 第１導電膜、５４ 光反射膜、５６ 第２配線、５８ 第２遮光膜、６０ 貫通穴、６２ 第２凸部、６４ 樹脂層、６６ 第２導電膜、６８ 第１固定開口、７０ 第２固定開口、７２ シール材、７４ オイル、７６ 穴、１６２ 第２凸部、２５４ 光反射膜、２５６ 第２配線、２６２ 第２凸部、２６６ 第２導電膜、２７８ 遮光膜、３５４ 光反射膜、３５６ 第２配線、３６０ 貫通穴、３６２ 第２凸部、３６６ 第２導電膜、３７８ 遮光膜、４５４ 光反射膜、４５６ 第２配線、４６２ 第２凸部、４６６ 第２導電膜、４７８ 遮光膜、５４４ 第１配線、５５０ 第１凸部、５５２ 第１導電膜、５７６ 穴、５８０ 樹脂層、６６２ 第２凸部、７６２ 第２凸部、８６２ 第２凸部、９６２ 第２凸部、１０６２ 第２凸部、１０６６ 第２導電膜。

Claims (14)

1. 第１基板と、
   前記第１基板に設けられたシャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、
   前記第１基板に設けられて前記シャッタと電気的に接続された第１配線と、
   前記第１基板に設けられた第１凸部と、
   間隔をあけて前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
   前記第２基板に設けられた第２配線と、
   前記第２基板に設けられた第２凸部と、
   を有し、
   前記第１凸部の少なくとも一部は、前記第１配線と電気的に接続された第１導電膜からなり、
   前記第２凸部の少なくとも一部は、前記第２配線と電気的に接続された第２導電膜からなり、
   前記第１凸部及び前記第２凸部は、一方が他方に嵌り込み、前記第１導電膜及び前記第２導電膜が電気的に接続することを特徴とする表示装置。
2. 請求項１に記載された表示装置において、
   前記第１凸部の最表層は、パッシベーション膜からなり、
   前記パッシベーション膜は、前記第１配線を覆うように形成され、
   前記第２凸部の最表層は、前記第２導電膜からなり、
   前記第２凸部が、前記パッシベーション膜を貫通して前記第１凸部に嵌り込むことを特徴とする表示装置。
3. 請求項１又は２に記載された表示装置において、
   前記第１凸部は、中空形状であることを特徴とする表示装置。
4. 請求項１から３のいずれか１項に記載された表示装置において、
   前記第１凸部は、内部に樹脂層を有することを特徴とする表示装置。
5. 請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
   前記第２凸部は、先端が前記第１基板に到達するように、前記第１凸部に嵌り込むことを特徴とする表示装置。
6. 請求項１から４のいずれか１項に記載された表示装置において、
   前記第２凸部は、先端が前記第１基板から離れて位置するように、前記第１凸部に嵌り込むことを特徴とする表示装置。
7. 請求項１から６のいずれか１項に記載された表示装置において、
   前記第２凸部は、内部に樹脂層を有することを特徴とする表示装置。
8. 請求項１から７のいずれか１項に記載された表示装置において、
   前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に積層された光反射膜及び前記光反射膜に積層された遮光膜をさらに有することを特徴とする表示装置。
9. 請求項８に記載された表示装置において、
   前記第２基板に前記光反射膜が積層され、
   前記遮光膜は、前記光反射膜の前記第２基板とは反対側の面に積層されていることを特徴とする表示装置。
10. 請求項９に記載された表示装置において、
    前記光反射膜が、前記第２配線であり、
    前記遮光膜は、貫通穴を有し、
    前記貫通穴から前記第２凸部が突出し、
    前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴とする表示装置。
11. 請求項９に記載された表示装置において、
    前記遮光膜が、前記第２配線であり、
    前記光反射膜上に前記第２凸部が形成され、
    前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴とする表示装置。
12. 請求項９に記載された表示装置において、
    前記光反射膜と前記遮光膜の間に前記第２配線が配置され、
    前記遮光膜は、貫通穴を有し、
    前記第２凸部は、前記光反射膜上に配置されて前記貫通穴から突出し、
    前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴とする表示装置。
13. 請求項９に記載された表示装置において、
    前記遮光膜の前記光反射膜とは反対の面に前記第２配線が積層され、
    前記第２凸部は、前記光反射膜及び前記遮光膜の上に配置され、
    前記第２配線と一体的に前記第２導電膜が延びることを特徴とする表示装置。
14. 第１基板を用意する工程と、
    第２基板を用意する工程と、
    間隔をあけて前記第１基板に対向するように第２基板を配置する工程と、
    を含み、
    前記第１基板を用意する工程では、前記第１基板に、シャッタ及び前記シャッタと接続された駆動部と、前記シャッタと電気的に接続する第１配線と、少なくとも一部が前記第１配線と電気的に接続された第１導電膜からなる第１凸部と、を設け、
    前記第２基板を用意する工程では、前記第２基板に、第２配線と、少なくとも一部が前記第２配線と電気的に接続された第２導電膜からなる第２凸部と、を設け、
    前記第２基板を配置する工程では、前記第１凸部及び前記第２凸部の一方を他方に嵌め込んで、前記第１導電膜及び前記第２導電膜を電気的に接続することを特徴とする表示装置の製造方法。

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