JP2014081766A - 導電シート及びタッチパネル - Google Patents

Abstract

【課題】視認性の改善された導電シート及びタッチパネルを提供する。
【解決手段】第一方向に延び、第一方向と交差する第二方向に並ぶ複数の第一電極１２を有する第一電極層１０と、透明絶縁層３０と、第二方向に延び第一方向に並ぶ複数の第二電極４２を有する第二電極層４０と、がこの順で積層された導電シート１であって、第一電極１２は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ第一電極１２は金属細線による複数の第一格子２６で構成され、複数の第一格子２６はＭ×Ｎの格子群で構成され、第二電極４２は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ第二電極４２は金属細線による複数の第二格子５６で構成され、複数の第二格子５６はＭ×Ｎの格子群で構成され、第一電極層１０と第二電極層４０とは、複数の第一格子２６と複数の第二格子５６とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、複数の第一格子２６と複数の第二格子５６とが全面に連続して配置され、Ｍ，Ｎは整数でＭ＋Ｎ≦９である。
【選択図】図６

Description

本発明は、導電シート及びタッチパネルに関する。

近年、携帯端末やコンピューターの入力装置として、タッチパネルが多く利用されている。タッチパネルは、ディスプレイの表面に配置され、指等の接触された位置を検出し、入力操作を行う。タッチパネルにおける位置検出方法として静電容量方式等が知られている。

例えば静電容量方式のタッチパネルでは、視認性の観点から、透明電極パターンの材料としてＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が用いられている。しかしながら、ＩＴＯが高い配線抵抗を有し、充分な透明性を有していないことから、金属細線を用いた透明電極パターンをタッチパネルに使用することが検討されている。

例えば、特許文献１−４は、金属細線による格子で構成され一方向に並列に配置された複数の第１電極と、金属細線による格子で構成され第１電極と直交する方向に並列に配置された複数の第２電極と、を備える導電シートを含むタッチパネルを開示する。

ＷＯ２０１０／０１３６７９号公報 ＷＯ２０１１／０６２３０１号公報 特開２０１１−２３７８３９号公報 特表２０１２−５０８９３７号公報

上述の導電シートを構成する第１電極、及び第２電極は、金属細線の格子が配置されている領域と、金属細線の格子が配置されていない領域とを含んでいる。そして、第１電極と第２電極とを重ね合わせることにより、平面視において格子状の金属細線が全面に均一の配置となるように導電シートは構成されている。これにより導電シートの視認性の改善を図っている。

この導電シートに光が当たった場合、第１電極及び第２電極を構成する金属細線の格子の領域で光が反射される。しかしながら、第１電極と第２電極とで微妙に光の反射率が異なるため、僅かな反射光量の差で電極が視認される問題があった。

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、金属細線の格子の電極を有する導電シート及びタッチパネルであって、視認性が改善された導電シート及びタッチパネルを提供することを目的とする。

本発明の一態様の導電シートは、第一方向に延び、前記第一方向と交差する第二方向に並ぶ複数の第一電極を有する第一電極層と、透明絶縁層と、第二方向に延び第一方向に並ぶ複数の第二電極を有する第二電極層と、がこの順で積層された導電シートであって、第一電極は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ第一電極は金属細線による複数の第一格子で構成され、複数の第一格子はＭ×Ｎの格子群で構成され、第二電極は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ第二電極は金属細線による複数の第二格子で構成され、複数の第二格子はＭ×Ｎの格子群で構成され、第一電極層と第二電極層とは、複数の第一格子と複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とが全面に連続して配置され、Ｍ，Ｎは整数でＭ＋Ｎ≦９である。

好ましくは、導電シートは、第一電極は９８〜９９．８％の開口率と、４０〜８０Ω／ｓｑ．の表面抵抗率を有し、第二電極は９８〜９９．５％の開口率と、４０〜８０Ω／ｓｑ．の表面抵抗率を有する。

好ましくは、導電シートは、第一電極層と第二電極層とは、複数の第一格子と複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、複数の第一格子と複数の第二格子とはそれぞれ４個以下で隣接配置される。

好ましくは、導電シートは、第一格子及び第二格子を構成する各金属細線の単位面積当たりに占める割合は０．２〜２％である。

好ましくは、導電シートは、第一格子及び第二格子は、それぞれ２００〜１０００μｍの一辺を有する。

好ましくは、導電シートは、第一電極及び第二電極は、４〜１２ｍｍの幅を有する。

好ましくは、導電シートは、第一格子及び第二格子は、それぞれ２４０〜５００μｍの一辺を有し、前記第一電極及び前記第二電極は、５〜７ｍｍの幅を有する。

好ましくは、導電シートは、Ｍ，Ｎ共に４以下である。

本発明の二態様のタッチパネルは、上記の導電シートを有する。

本発明の三態様の導電シートは、第一方向に延び、前記第一方向と交差する第二方向に並ぶ複数の第一電極を有する第一電極層と、透明絶縁層と、第二方向に延び第一方向に並ぶ複数の第二電極を有する第二電極層と、がこの順で積層された導電シートであって、第一電極は、金属細線による複数の第一格子を有して構成され、第二電極は、金属細線による複数の第二格子を有し、４以上８以下の第二格子からなる第一感知部と９以上２０以下の第二格子からなる第二感知部とが交互に配置されて構成され、第一電極層と第二電極層とは、複数の第一格子と複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とが全面に連続して配置される。

本発明の四態様の導電シートは、第一方向に延び、前記第一方向と交差する第二方向に並ぶ複数の第一電極を有する第一電極層と、透明絶縁層と、第二方向に延び第一方向に並ぶ複数の第二電極を有する第二電極層と、がこの順で積層された導電シートであって、第一電極は、金属細線による複数の第一格子を有して構成され、第二電極は、金属細線による複数の第二格子を有し、第一感知部と該第一感知部の１．５倍以上の面積を有する第二感知部とが交互に配置されて構成され、第一電極層と第二電極層とは、複数の第一格子と前記複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、複数の第一格子と複数の第二格子とが全面に連続して配置される。

好ましくは、導電シートは、第一格子と第二格子が同じ形状である。

好ましくは、導電シートは、第一電極の２以上の第一格子からなる感知部が第二電極の第二感知部を囲んでいる。

好ましくは、導電シートは、第二感知部が７ｍｍ^２以下の面積を有する。

本発明によれば、金属細線の格子で構成された電極を有する導電シート及びタッチパネルにおいて、視認性を改善することができる。

導電シートの概略平面図。 導電シートの概略断面図。 ダイヤモンドパターンで構成された導電シートの平面図。 第一電極層の概略平面図。 第二電極層の概略平面図。 第一電極層と第二電極層とを重ねた導電シートの概略平面図。 導電シートの部分拡大図。 導電シートの部分拡大図。 第一電極と第二電極との重なり状態を示す平面図。 タッチパネルの構成を示す分解斜視図。

以下、添付図面に従って本発明の好ましい実施の形態について説明する。本発明は以下の好ましい実施の形態により説明されるが、本発明の範囲を逸脱することなく、多くの手法により変更を行うことができ、本実施の形態以外の他の実施の形態を利用することができる。したがって、本発明の範囲内における全ての変更が特許請求の範囲に含まれる。なお、本明細書において数値範囲を示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。

図１は、タッチパネル用の導電シート１の概略平面図であり、図２は、導電シート１の概略断面図である。導電シート１は、第一方向（Ｘ方向）に延び、第一方向と交差する第二方向（Ｙ方向）に並ぶ複数の第一電極１２を有する第一電極層１０と、透明絶縁層３０と、第二方向（Ｙ方向）に延び第一方向（Ｘ方向）に並ぶ複数の第二電極４２を有する第二電極層４０とを備える。

各第一電極１２は、その一端において、第一電極端子１４と電気的に接続される。さらに、各第一電極端子１４は導電性の第一配線１６と電気的に接続される。各第二電極４２は、その一端において、第二電極端子４４と電気的に接続される。各第二電極端子４４は導電性の第二配線４６と電気的に接続される。第一電極１２及び第二電極４２は、それぞれ金属細線の格子で構成されている。

導電シート１は、第１の主面と第２の主面とを有する透明絶縁層３０と、透明絶縁層３０の第１の主面に配置された第一電極層１０と、透明絶縁層３０の第２の主面に配置された第二電極層４０と、を有する。図２に示すように、第一電極１２と第二電極４２とは透明絶縁層３０を挟んで形成されるが、第一電極１２と第二電極４２とは対向する位置に設けられていない。一方、導電シート１を上面視した場合には、全面に均一な電極と見えるように第一電極１２と第二電極４２とは透明絶縁層３０の第１の主面と第２の主面とに形成されている。

本発明者は、上述の構成の導電シートに光が当たった際に生じる、僅かな反射光量の差で電極が視認される問題について鋭意検討した。

図３は、一般的な、いわゆるダイヤモンドパターンで構成される導電シート１０１の概略平面図である。導電シート１０１は第一電極１１２と第二電極１４２と備えている。第一電極１１２は複数の金属細線の格子１２６で構成され、第二電極１４２は複数の金属細線の格子１５６で構成されている。第一電極１１２と第二電極１４２とを明確にするため、第一電極１１２を第二電極１４２より太く表示している。第一電極１１２は、８×８の複数の格子１２６からなる２つの格子群１３２を有している。同様に、第二電極１４２も８×８の複数の格子１５６からなる２つの格子群１６２を有している。

導電シート１０１に光が当たると、格子群１３２及び格子群１６２の領域で光が反射される。格子群１３２及び格子群１６２は、いずれも８×８の複数の格子１２６,１５６で構成され、格子群１３２及び格子群１６２は比較的大きな面積を有している。格子群１３２と格子群１６２とで、反射率の差が小さいとしても、面積が大きいと僅かな反射光量の差であっても電極が視認されやすいことを見出した。

その結果、第一電極及び第二電極をできるだけ細分化してその面積を小さくし、さらに、第一電極及び第二電極を、幅方向に広がるように分岐させた分岐電極を構成するようにすることで、僅かな反射光量の違いが人の目に視認されにくくなることを見出し、本発明するに至った。

図４は、本実施形態の一例を示す第一電極層１０の概略平面図である。第一電極層１０は第一方向（Ｘ方向）に延び、第一方向と交差する第二方向（Ｙ方向）に並ぶ複数の第一電極１２を有している。第一電極１２は金属細線の複数の第一格子２６で構成されている。第一格子２６は、金属細線同士を互いに導通する状態で囲むことで構成され、第一格子２６には開口領域が形成されている。本実施の形態の第一格子２６は４つの辺により開口領域が形成されている。

第一電極１２を全体として見れば第一方向に延びている。第一電極１２を構成する各第一格子２６を見れば、第一格子２６-１を起点に、第三方向に沿って第一電極１２の幅方向に広がるように連続して延びている。また、第一格子２６-１を起点に、第四方向に沿って第一電極１２の幅方向に広がるように連続して延びている。つまり、第一電極１２は、第一格子２６-１を起点に第三方向および第四方に沿って延びる分岐電極を有していることとなる。分岐電極を有することでセンシングできるエリアは広くすることができる。

第一格子２６が連続するとは、２つの第一格子２６が一つの辺を共有して隣接配置されている状態を意味する。但し、辺は共有せず角だけで２つの第一格子２６が配置されている場合、第一格子２６が連続する状態ではない。

第三方向に沿って連続する第一格子２６は、金属細線により導通され第１の方向に延びる。同様に第四方向に沿って連続する第一格子２６は、金属細線により導通され第１の方向に延びる。

第三方向の連続して広がるように延びた第一格子２６は、次に第四方向に沿って、第一格子２６−２向かって連続して延びる。また、第四方向の連続して広がるように延びた第一格子２６は、次に第三方向に沿って、第一格子２６−２向かって連続して延びる。これにより、丸印で囲んだ第一電極１２の繰り返しパターンが構成される。本実施形態では一つの繰り返しパターンは６角形の形状を有しており、３つ繰り返しパターンが第一方向に延びている。

隣接する繰り返しパターンは、第一格子２６−２と第一格子２６−３とするにより、また、第一格子２６−４と第一格子２６−５とにより電気的に接続される。但し、第一格子２６−２と第一格子２６−３とは角同士が接続しており、また、第一格子２６−４と第一格子２６−５とは角同士が接続しているので、連続する第一格子２６には該当しない。

第一電極１２は、図４に示すように、Ｍ×Ｎの複数の第一格子２６による格子群で構成されている。ここで、Ｍ×Ｎの複数の第一格子２６で構成される格子群とは、辺を共有する複数の第一格子２６が行列状にＭ×Ｎで配置されている状態を意味する。このとき、Ｍ，Ｎは整数でＭ＋Ｎ≦９となるよう、複数の第一格子２６は配列される。複数の第一格子２６がＭ×Ｎで配置されている場合において、格子群の面積が大きくなりすぎるのを防止する趣旨である。第一電極１２の第一格子２６による格子群をＭ＋Ｎ≦９とすることにより、視認性を改善することができる。さらに、Ｍ，Ｎ共に４以下であることが好ましい。

Ｍ，Ｎについて、例えばＭ＝７、Ｎ＝２の場合、Ｍ＋Ｎ＝９であり、Ｍ＋Ｎ≦９を満たす。Ｍ×Ｎ＝７×２となり、格子群は１４個の第一格子２６を含む。格子群の面積が大きくなりすぎないので視認性を改善することができる。

一方、Ｍ＝５、Ｎ＝５の場合、Ｍ＋Ｎ＝１０であり、Ｍ＋Ｎ≦９を満たさない。第一格子２６で構成される格子群は全体として大きな面積を有するため、視認性の観点から好ましくない。

図４においては、第三方向に沿って第一格子２６がＭ×Ｎ＝１×５で連続して格子群を形成する。また、第四方向に沿って、第一格子２６がＭ×Ｎ＝１×５で連続して格子群を形成する。図４においては、これらが最大面積を持つ格子群となる。図４の格子群はＭ＋Ｎ≦９を満たすので、視認性を改善することができる。第一電極１２は細長の形状を有しているので、Ｍ×Ｎ＝２×７が好ましく、Ｍ×Ｎ＝２×５がより好ましく、Ｍ×Ｎ＝１×５がさらに好ましい。

また、別に観点から、第一電極１２において、第一格子２６が第三方向に対して７以上連続する場合に第四方向に３以上連続することがないよう第一格子２６を配置する。つまり、第一格子２６が７×３以上の行列状に配置されず、格子群が大きな面積を占めるのを規制するものである。Ｍ＋Ｎ≦９を満たすことが重要となる。

なお、方向に関して、第一電極１２延びる方向と並ぶ方向とを第一方向と第二方向とし、連続する第一格子２６の延びる方向を第三方向と第四方向とした。連続する第一格子２６の延びる方向は第三方向と第四方向とに限定されず、第五方向等多くの方向を採りえることができる。

第一方向と第三方向、第二方向と第四方向とはそれぞれ同じであってもよいしそれぞれ一定の傾斜角度があってもよい。本実施の形態の図４では第一方向と第三方向、第二方向と第四方向とは一定の傾斜角度を有している。

一般的に第一方向と第二方向は、導電シート１が使用される画面表示の縦と横の方向を指すがここでは特に特定しない。連続する第一格子２６の方向と第一電極１２の方向とに、モアレを起こしにくい角度を持たせることが好ましい。第一電極１２の方向は画面の縦横方向に大略一致するが完全に同じでなくてもよい。

第一電極１２を構成する金属細線は３０μｍ以下の線幅を有し、金属細線は金、銀、銅などの金属材料や金属酸化物等の導電材料で構成される。

金属細線の線幅に関して、３０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは９μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下であり、０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上であることが望ましい。

第一電極１２は交差する金属細線で構成される複数の第一格子２６を含んでいる。第一格子２６は金属細線で囲まれる開口領域を含んでいる。第一格子２６は２００〜１０００μｍの一辺を有するのが好ましい。第一格子２６は２４０〜５００μｍの一辺を有することがさらに好ましい。この範囲とすることにより光透過率に優れ細線を視認しがたくすることができる。

第一電極１２は４〜１２ｍｍ以下の幅Ｗ１の範囲であり、好ましくは５〜７ｍｍの幅Ｗ１の範囲である。この範囲とすることにより指タッチに適合した電極幅にすることができる。

特に、第一格子２６の一辺を２４０〜５００μｍとし、第一電極１２の幅を５〜７ｍｍとすることで、低抵抗と視認性改良という効果を奏することができる。

第一電極１２は可視光透過率の点から９８〜９９．８％の開口率であることが好ましい。開口率とは、所定領域において第一電極１２の金属細線に占められていない透光性部分の面積の全体に占める割合に相当する。つまり、金属細線の単位面積当たりに占める割合を１から引いたものに相当し、百分率で表したものである。したがって、金属細線の単位面積当たりに占める割合は、は０．２〜２％となる。

第一電極１２の表面抵抗率は１０〜１２０Ω／ｓｑ．、特に４０〜８０Ω／ｓｑ．以下の範囲である。開口率と表面抵抗率とはトレードオフの関係がある。本実施の形態の導電シート１が適用される例えば電子ペーパ向けのディスプレイの場合、第一格子２６を大きくして開口率を上げることを優先させ、パソコンモニターやタブレットＰＣ向けのディスプレイの場合、表面抵抗率を下げることを優先させる。したがって、適用されるディスプレイを考慮して、開口率と表面抵抗率とが決定される。

表面抵抗率は、三菱化学株式会社製ＭＣＰ−Ｔ６１０の表面抵抗計で求めることができる。なお、測定の際には、電極と同じ線幅、格子の大きさ、開口率の約１０ｃｍ×１０ｃｍの全面メッシュサンプル（切断部などのないもの）を作製して測定する。

上述の導電シート１では、第一格子２６は矩形の形状を有している。但し、その他、多角形状としてもよい。また、一辺の形状を直線状の他、湾曲形状でもよいし、円弧状にしてもよい。円弧状とする場合は、例えば対向する２辺については、外方に凸の円弧状とし、他の対向する２辺については、内方に凸の円弧状としてもよい。また、各辺の形状を、外方に凸の円弧と内方に凸の円弧が連続した波線形状としてもよい。もちろん、各辺の形状を、サイン曲線にしてもよい。

図５は本実施形態の一例を示す第二電極層４０の概略平面図である。第二電極層４０は第二方向（Ｙ方向）に延び、第二方向と交差する第一方向（Ｘ方向）に並ぶ複数の第二電極４２を有している。第二電極４２は金属細線の複数の第二格子５６で構成されている。第二格子５６は、金属細線同士を互いに導通する状態で囲むことで構成され、第二格子５６には開口領域が形成されている。本実施の形態の第二格子５６は４つの辺により開口領域が形成されている。

第二電極４２を全体として見れば第二方向に延びている。図５においては、第二格子５６が第三方向と第四方向に連続して行列状に配置された複数の格子群を構成している。具体的には、第二電極４２は、丸印で囲んだ区域Ａに示される面積の小さい格子群と、丸印で囲んだ区域Ｂに示される面積の大きな格子群とを含んでいる。面積の小さい格子群と面積の大きな格子群とが第二方向に沿って交互に配置されている。面積の小さい格子群と面積の大きな格子群とは金属細線により電気的に接続されている。面積の小さい格子群は第一感知部を構成し、面積の大きな格子群は第二感知部を構成する。

第一感知部は、Ｍ＋Ｎ≦９であり、７個の第二格子５６による格子群で構成されている。本実施の形態における第一感知部は、Ｍ×Ｎ＝２×２の第二格子５６で構成される格子群を含んでいる。第一感知部は、４以上８以下の数の第二格子５６から構成されることが好ましい。

また、別に観点から、第二電極４２において、第二格子５６が第三方向に対して７以上連続する場合に第四方向に５以上連続することがないよう第二格子５６を配置する。つまり、第二格子５６が７×３以上の行列状に配置されず、格子群が大きな面積を占めるのを規制するものである。Ｍ＋Ｎ≦９を満たすことが重要となる。

第二感知部は、Ｍ＋Ｎ≦９であり、１４個の第二格子５６による格子群で構成されている。本実施の形態における第二感知部は、Ｍ×Ｎ＝３×３の第二格子５６で構成される格子群を含んでいる。第二感知部は、９以上２０以下の第二格子５６から構成されることが好ましい。

第二感知部と第一感知部との大きさに関して、第二感知部は第一感知部の１．５倍以上面積を持つのが好ましい。また、第二感知部の面積は７ｍｍ^２以下であることが好ましい。面積は（第二格子５６の面積）×（第二格子５６の数）で求めることができる。

第二電極４２は、第一感知部から第一方向に延びる２つの分岐電極を備えている。分岐電極を有することでセンシングできるエリアは広くすることができる。分岐電極は、繰り返し配置される第一感知部に設けられている。

第二電極４２を構成する金属細線の線幅と材料に関して、第一電極１２と同じものを適用することができる。第二格子５６を構成する一辺の長さは、第一格子２６と同様に、２００〜１０００μｍ、好ましくは、２４０〜５００μｍである。

第二電極４２は４〜１２ｍｍの幅Ｗ２の範囲であり、好ましくは５〜７ｍｍ以下の幅Ｗ２の範囲である。第一電極１２と同様に、第二格子５６の一辺を２４０〜５００μｍとし、第二電極４２の幅を５〜７ｍｍとすることが好ましい。

第二電極４２の開口率は９８〜９９．８％の範囲であり。第二電極４２の金属細線の単位面積当たりに占める割合は、は０．２〜２％となる。また、第二電極４２の表面抵抗率は４０〜８０Ω／ｓｑ．の範囲である。上述の導電シート１では、第二格子５６は矩形の形状を有しているが、これに限定されず、第一格子２６と同様の形状を有することができる。

図６は、第一電極層１０と第二電極層４０とを対向配置させた導電シート１の平面図である。第一電極１２と第二電極４２とは直交するように配置され、導電シート１を構成する。

第一電極層１０と第二電極層４０とを対向配置されるが、第一電極１２と第二電極４２とは向き合わない位置、平面視で第一電極１２の第一格子２６と第二電極４２の第二格子５６とは重なり合わないよう配置される。つまり、第一電極層１０の第一電極１２が形成されている領域と第二電極層４０の第二電極４２が形成されていない領域とが重なり合い、第一電極層１０の第一電極１２が形成されていない領域と、第二電極層４０の第二電極４２が形成されている領域とが重なり合う。図６では、第一電極１２と第二電極４２とを認識しやすいように、第二電極４２を第一電極１２よりも太い線で表示している。

第一電極層１０と第二電極層４０とを対向配置されることで、図６に示すように、複数の第一格子２６と複数の第二格子５６とが全面に連続して配置される。複数の第一格子２６と複数の第二格子５６とが全面に連続して配置とは、第一格子２６と第二格子５６とが一見して連続している状態を意味する。第一格子２６は第一電極層１０に形成され、第二格子５６は第二電極層４０に形成されているので、第一格子２６と第二格子５６とは物理的には接続されていない。第一電極層１０と第二電極層４０を重ねて透視した際に、連続しているように状態であれば良い。また。一見すると連続している状態には、第一格子２６の金属細線と第二格子５６の金属細線とが正確に直線状に連続していないが、人間の裸眼にはそのように見え、拡大レンズを通して見ると断線部があったり線が少しずれていたりする状態をも含むものである。

図７は、図６に示す導電シート１の部分拡大図である。上面視において第一電極１２と第二電極４２とは重なり合わないように配置されている。上面視において、区域Ｃには、第一電極１２の一部を構成する４つの第一格子２６−１〜２６−４が含まれている。第一格子２６−１〜２６−４は、区域Ｃにおいて第二電極４２を構成する金属細線又は第二格子５６−１〜５６−２と隣接配置されている。本実施の形態では第一格子２６と第二格子５６とはそれぞれ４個以下で隣接配置されている。

このように第一格子２６と第二格子５６と配置することにより、静電容量Ｃｍを小さくすることができる。静電容量Ｃｍが小さくなると指で触れた際に変化する静電容量ΔＣｍの割合ΔＣｍ／Ｃｍは大きくなり、指の有りなしの検出が容易となる。接する部分を小さくした場合であっても、センシングエリアを大きくするため、第一電極１２は繰り返しパターンが６角形の形状を有しており、第二電極４２は第二電極４２の幅方向に広がる分岐電極を備えている。

図８は、図６に示す導電シート１の部分拡大図である。図８の導電シートは、図７の導電シートと異なり、ダミーパターンを備えている。図６では、上面視したとき、第一電極１２と第二電極４２との間に、金属細線の形成されない隙間が存在する。この隙間では光が当たっても反射しないため、パターンとして認識され、視認性に影響を与える。

そこで、図８では、第一電極１２と第二電極４２との隙間に金属細線によりダミーパターン２９，５９を形成している。ダミーパターン２９は、第一電極層１０に形成され、ダミーパターン５９は第二電極層４０に形成される。ダミーパターン２９，５９は、第一電極１２と第二電極４２との隙間に形成されるので、第一電極層１０及び第二電極層４０のいずれに形成してもよい。上面視において、第一電極１２と、第二電極４２と、ダミーパターン２９，５９とにより、第一格子２６と第二格子５６とが一見して連続する状態であれば良い。

第一電極層１０と第二電極層４０と対向配置させた際、工程誤差により第一格子２６及び第二格子５６との間で金属細線の位置に関してずれが生じる場合がある。そのために設計上は第一電極層１０と第二電極層４０とを重ねると全体が均一間隔、均一形状の連続する格子が形成される。しかしながら、図９（Ａ）〜（Ｃ）の現象が発生する。
図９（Ａ）では第一電極１２と第二電極４２とにずれがなく、設計どおりに一致している。図９（Ｂ）では、第一電極１２と第二電極４２とは一直線状に配列されていない。一方で、裸眼では認識されない。図９（Ｃ）では、第一電極１２と第二電極４２とは一部において重なりと、一部において隙間（途切れ）が生じている。第一電極１２と第二電極４２とが重なり部分は、金属細線が太く見えるため視認性を悪化させる要因となる。

上述のような状況においては、以下のようにすることが有効である。第１に図９（Ｂ）のようにズレが発生するように設計する、第二に金属細線を短めに設計し、第一電極１２と第二電極４２とが重ならないようにすることが重要となる。

次に、上述の導電シート１を用いたタッチパネル１００について図１０を参照しながら説明する。タッチパネル１００は、センサ本体１０２と図示しない制御回路（ＩＣ回路等で構成）とを有する。センサ本体１０２は、導電シート１と、その上に積層された保護層１０６とを有する導電シート１及び保護層１０６は、例えば液晶ディスプレイ等の表示装置１０８における表示パネル１１０上に配置されるようになっている。

次に、導電シート１の製造方法について説明する。

導電シート１を製造する場合は、例えば透明の透明絶縁層３０の第１の主面上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、露光部及び未露光部にそれぞれ金属銀部（金属細線）及び光透過性部（開口領域）を形成して第一電極層１０してもよい。なお、さらに金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。

あるいは、透明の透明絶縁層３０の第１の主面上に形成された銅箔上のフォトレジスト膜を露光、現像処理してレジストパターンを形成し、レジストパターンから露出する銅箔をエッチングすることによって、第一電極層１０を形成するようにしてもよい。

あるいは、透明の透明絶縁層３０の第１の主面上に金属微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを行うことによって、第一電極層１０を形成するようにしてもよい。

透明の透明絶縁層３０の第１の主面上に、第一電極層１０をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷形成するようにしてもよい。あるいは、透明の透明絶縁層３０の第１の主面上に、第一電極層１０をインクジェットにより形成するようにしてもよい。

第二電極層４０について、第一電極層１０の同様の製造方法で透明絶縁層３０の第２の主面上に第二電極層４０を形成することができる。

透明の透明絶縁層３０上にめっき前処理材を用いて感光性被めっき層を形成し露光、現像処理した後にめっき処理を施すことにより、露光部及び未露光部にそれぞれ金属部及び光透過性部を形成して第一電極層１０及び第二電極層４０を形成するようにしてもよい。なお、さらに金属部に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属部に導電性金属を担持させるようにしてもよい。なお、より具体的な内容は、特開2003-213437、特開2006-64923、特開2006-58797、特開2006-135271などに開示されている。

図２に示すように、透明絶縁層３０の第１の主面に第一電極層１０を形成し、透明絶縁層３０の第２の主面に第二電極層４０を形成する場合、通常の製法に則って、最初に第１の主面を露光し、その後に、第２の主面を露光する方法を採用すると、所望のパターンを有する第一電極層１０及び第二電極層４０を得ることができない場合がある。

そこで、以下に示す製造方法を好ましく採用することができる。

すなわち、透明絶縁層３０の両面に形成された感光性ハロゲン化銀乳剤層に対して一括露光を行って、透明絶縁層３０の一主面に第一電極層１０を形成し、透明絶縁層３０の他主面に第二電極層４０を形成する。

この製造方法の具体例を説明する。

最初に、長尺の感光材料を作製する。感光材料は、透明絶縁層３０と、透明絶縁層３０の第１の主面に形成された感光性ハロゲン化銀乳剤層（以下、第１感光層という）と、透明絶縁層３０の他方の主面に形成された感光性ハロゲン化銀乳剤層（以下、第２感光層という）とを有する。

次に、感光材料を露光する。この露光処理では、第１感光層に対し、透明絶縁層３０に向かって光を照射して第１感光層を第１露光パターンに沿って露光する第１露光処理と、第２感光層に対し、透明絶縁層３０に向かって光を照射して第２感光層を第２露光パターンに沿って露光する第２露光処理とが行われる（両面同時露光）。

例えば、長尺の感光材料を一方向に搬送しながら、第１感光層に第１光（平行光）を第１フォトマスクを介して照射すると共に、第２感光層に第２光（平行光）を第２フォトマスクを介して照射する。第１光は、第１光源から出射された光を途中の第１コリメータレンズにて平行光に変換されることにより得られ、第２光は、第２光源から出射された光を途中の第２コリメータレンズにて平行光に変換されることにより得られる。

上記の説明では、２つの光源（第１光源及び第２光源）を使用した場合を示しているが、１つの光源から出射した光を光学系を介して分割して、第１光及び第２光として第１感光層及び第２感光層に照射してもよい。

次いで、露光後の感光材料を現像処理することで、タッチパネル用の導電シート１が作製される。タッチパネル用の導電シート１は、透明絶縁層３０と、透明絶縁層３０の第１の主面に形成された第１露光パターンに沿った第一電極層１０と、透明絶縁層３０の他方の主面に形成された第２露光パターンに沿った第二電極層４０とを有する。なお、第１感光層及び第２感光層の露光時間及び現像時間は、第１光源及び第２光源の種類や現像液の種類等で様々に変化するため、好ましい数値範囲は一概に決定することができないが、現像率が１００％となる露光時間及び現像時間に調整されている。

そして、本実施の形態の製造方法では、第１露光処理は、第１感光層上に第１フォトマスクを例えば密着配置し、該第１フォトマスクに対向して配置された第１光源から第１フォトマスクに向かって第１光を照射することで、第１感光層を露光する。第１フォトマスクは、透明なソーダガラスで形成されたガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたマスクパターン（第１露光パターン）とで構成されている。したがって、この第１露光処理によって、第１感光層のうち、第１フォトマスクに形成された第１露光パターンに沿った部分が露光される。第１感光層と第１フォトマスクとの間に２〜１０μｍ程度の隙間を設けてもよい。

同様に、第２露光処理は、第２感光層上に第２フォトマスクを例えば密着配置し、該第２フォトマスクに対向して配置された第２光源から第２フォトマスクに向かって第２光を照射することで、第２感光層を露光する。第２フォトマスクは、第１フォトマスクと同様に、透明なソーダガラスで形成されたガラス基板と、該ガラス基板上に形成されたマスクパターン（第２露光パターン）とで構成されている。したがって、この第２露光処理によって、第２感光層のうち、第２フォトマスクに形成された第２露光パターンに沿った部分が露光される。この場合、第２感光層と第２フォトマスクとの間に２〜１０μｍ程度の隙間を設けてもよい。

第１露光処理及び第２露光処理は、第１光源からの第１光の出射タイミングと、第２光源からの第２光の出射タイミングを同時にしてもよいし、異ならせてもよい。同時であれば、１度の露光処理で、第１感光層及び第２感光層を同時に露光することができ、処理時間の短縮化を図ることができる。ところで、第１感光層及び第２感光層が共に分光増感されていない場合、感光材料に対して両側から露光すると、片側からの露光がもう片側（裏側）の画像形成に影響を及ぼすこととなる。

すなわち、第１感光層に到達した第１光源からの第１光は、第１感光層中のハロゲン化銀粒子にて散乱し、散乱光として透明絶縁層３０を透過し、その一部が第２感光層にまで達する。そうすると、第２感光層と透明絶縁層３０との境界部分が広い範囲にわたって露光され、潜像が形成される。そのため、第２感光層では、第２光源からの第２光による露光と第１光源からの第１光による露光が行われてしまい、その後の現像処理にてタッチパネル用導電シート１とした場合に、第２露光パターンによる導電パターン（第二電極層４０）に加えて、導電パターン間に第１光源からの第１光による薄い導電層が形成されてしまい、所望のパターン（第２露光パターン沿ったパターン）を得ることができない。これは、第１感光層においても同様である。

これを回避するため、鋭意検討した結果、第１感光層及び第２感光層の厚みを特定の範囲に設定したり、第１感光層及び第２感光層の塗布銀量を規定することで、ハロゲン化銀自身が光を吸収し、裏面へ光透過を制限できることが判明した。第１感光層及び第２感光層の厚みを１μｍ以上、４μｍ以下に設定することができる。上限値は好ましくは２．５μｍである。また、第１感光層及び第２感光層の塗布銀量を５〜２０ｇ／ｍ^２に規定した。

上述した両面密着の露光方式では、シート表面に付着した塵埃等で露光阻害による画像欠陥が問題となる。塵埃付着防止として、シートに導電性物質を塗布することが知られているが、金属酸化物等は処理後も残存し、最終製品の透明性を損ない、また、導電性高分子は保存性等に問題がある。そこで、鋭意検討した結果、バインダーを減量したハロゲン化銀により帯電防止に必要な導電性が得られることがわかり、第１感光層及び第２感光層の銀／バインダーの体積比を規定した。すなわち、第１感光層及び第２感光層の銀／バインダー体積比は１／１以上であり、好ましくは、２／１以上である。

上述のように、第１感光層及び第２感光層の厚み、塗布銀量、銀／バインダーの体積比を設定、規定することで、第１感光層に到達した第１光源からの第１光は、第２感光層まで達しなくなる。同様に、第２感光層に到達した第２光源からの第２光は、第１感光層まで達しなくなる。その結果、その後の現像処理にて導電シート１とした場合に、透明絶縁層３０の第１の主面には第１露光パターンによる第一電極層１０のみが形成され、透明絶縁層３０の第２の主面には第２露光パターンによる第二電極層４０のみが形成されることとなり、所望のパターンを得ることができる。

このように、上述の両面一括露光を用いた製造方法においては、導電性と両面露光の適性を両立させた第１感光層及び第２感光層を得ることができる。また、１つの透明絶縁層３０への露光処理によって、透明絶縁層３０の両面に同一パターンや異なったパターンを任意に形成することができ、これにより、タッチパネルの電極を容易に形成することができると共に、タッチパネルの薄型化（低背化）を図ることができる。

次に、本実施の形態に係る導電シート１において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法を中心にして述べる。

本実施の形態に係る導電シート１の製造方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。

（１） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は熱現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。

（２） 物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を溶解物理現像して金属銀部を該感光材料上に形成させる態様。

（３） 物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部を非感光性受像シート上に形成させる態様。

上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に光透過性導電膜等の透光性導電性膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は熱現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。

上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀粒子が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀は比表面の小さい球形である。

上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀粒子が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に光透過性導電性膜等の透光性導電性膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。

いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。

ここで、本実施の形態に係る導電シート１の構成について、以下に詳細に説明する。

［透明絶縁層３０］
透明絶縁層３０としては、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。上記プラスチックフィルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）／シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）／シクロオレフィンポリマー（ＣＯＣ）等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いることができる。特に、光透過性や加工性等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。

［銀塩乳剤層］
導電シート１の第一電極層１０及び第二電極層４０となる銀塩乳剤層は、銀塩とバインダーの他、溶媒や染料等の添加剤を含有する。

本実施の形態に用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩及び酢酸銀等の有機銀塩が挙げられる。本実施の形態においては、光センサーとしての特性に優れるハロゲン化銀を用いることが好ましい。

銀塩乳剤層の塗布銀量（銀塩の塗布量）は、銀に換算して１〜３０ｇ／ｍ^２が好ましく、１〜２５ｇ／ｍ^２がより好ましく、５〜２０ｇ／ｍ^２がさらに好ましい。この塗布銀量を上記範囲とすることで、タッチパネル用導電シート１とした場合に所望の表面抵抗率を得ることができる。

本実施の形態に用いられるバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。

銀塩乳剤層中に含有されるバインダーの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。銀塩乳剤層中のバインダーの含有量は、銀／バインダー体積比で１／４以上が好ましく、１／２以上がより好ましい。銀／バインダー体積比は、１００／１以下が好ましく、５０／１以下がより好ましく、１０／１以下がさらに好ましく、６／１以下が特に好ましい。また、銀／バインダー体積比は１／１〜４／１であることがさらに好ましい。１／１〜３／１であることが最も好ましい。銀塩乳剤層中の銀／バインダー体積比をこの範囲にすることで、塗布銀量を調整した場合でも抵抗値のばらつきを抑制し、均一な表面抵抗率を有するタッチパネル用導電シートを得ることができる。なお、銀／バインダー体積比は、原料のハロゲン化銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（重量比）に変換し、さらに、銀量／バインダー量（重量比）を銀量／バインダー量（体積比）に変換することで求めることができる。

＜溶媒＞
銀塩乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。

本実施の形態の銀塩乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、銀塩乳剤層に含まれる銀塩、バインダー等の合計の質量に対して３０〜９０質量％の範囲であり、５０〜８０質量％の範囲であることが好ましい。

＜その他の添加剤＞
本実施の形態に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限はなく、公知のものを好ましく用いることができる。

［その他の層構成］
銀塩乳剤層の上に図示しない保護層を設けてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダーからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する銀塩乳剤層上に形成される。その厚みは０．５μｍ以下が好ましい。保護層の塗布方法及び形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法及び形成方法を適宜選択することができる。また、銀塩乳剤層よりも下に、例えば下塗り層を設けることもできる。

次に、導電シート１の作製方法の各工程について説明する。

［露光］
本実施の形態では、第一電極層１０及び第二電極層４０を印刷方式によって施す場合を含むが、印刷方式以外は、第一電極層１０及び第二電極層４０を露光と現像等によって形成する。すなわち、透明絶縁層３０上に設けられた銀塩含有層を有する感光材料又はフォトリソグラフィ用フォトポリマーを塗工した感光材料への露光を行う。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。

露光方法に関しては、ガラスマスクを介した方法やレーザー描画によるパターン露光方式が好ましい。

［現像処理］
本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。

本実施の形態での現像処理は、未露光部分の銀塩を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を含むことができる。本発明における定着処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる定着処理の技術を用いることができる。

現像、定着処理を施した感光材料は、硬膜処理、水洗処理や安定化処理を施されるのが好ましい。

現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。

本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、光透過性部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。

以上の工程を経て導電シートは得られるが、得られた導電シートの表面抵抗率は４０〜８０Ω／ｓｑ．以下が好ましい。

このような範囲に表面抵抗率を調整することで、面積が１０ｃｍ×１０ｃｍ以上の大型のタッチパネルでも位置検出を行うことができる。また、現像処理後の導電シートに対しては、さらにカレンダー処理を行ってもよく、カレンダー処理により所望の表面抵抗率に調整することができる。

（現像処理後の硬膜処理）
銀塩乳剤層に対して現像処理を行った後に、硬膜剤に浸漬して硬膜処理を行うことが好ましい。硬膜剤としては、例えば、グルタルアルデヒド、アジポアルデヒド、２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジオキサン等のジアルデヒド類及びほう酸、クロム明礬／カリ明礬等の無機系化合物等の特開平２−１４１２７９号公報に記載のものを挙げることができる。

［物理現像及びめっき処理］
本実施の形態では、前記露光及び現像処理により形成された金属銀部の導電性を向上させる目的で、前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本発明では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属性銀部に担持させてもよく、物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部に担持させてもよい。なお、金属銀部に物理現像及び／又はめっき処理を施したものを含めて「導電性金属部」と称する。

［酸化処理］
本実施の形態では、現像処理後の金属銀部、並びに、物理現像及び／又はめっき処理によって形成された導電性金属部には、酸化処理を施すことが好ましい。酸化処理を行うことにより、例えば、光透過性部に金属が僅かに沈着していた場合に、該金属を除去し、光透過性部の透過性をほぼ１００％にすることができる。

［光透過性部］
本実施の形態における「光透過性部」とは、導電シート１のうち第一電極層１０及び第二電極層４０以外の透光性を有する部分を意味する。光透過性部における透過率は、前述のとおり、透明絶縁層３０の光吸収及び反射の寄与を除いた３８０〜７８０ｎｍの波長領域における透過率の最小値で示される透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であり、さらにより好ましくは９８％以上であり、最も好ましくは９９％以上である。

［導電シート１］
本実施の形態に係る導電シート１における透明絶縁層３０の膜厚は５〜３５０μｍであることが好ましく、３０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。５〜３５０μｍの範囲であれば所望の可視光の透過率が得られ、且つ、取り扱いも容易である。

透明絶縁層３０上に設けられる金属銀部の厚さは、透明絶縁層３０上に塗布される銀塩含有層用塗料の塗布厚みに応じて適宜決定することができる。金属銀部の厚さは、０．００１〜０．２ｍｍから選択可能であるが、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、０．０１〜９μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。また、金属銀部はパターン状であることが好ましい。金属銀部は１層でもよく、２層以上の重層構成であってもよい。金属銀部がパターン状であり、且つ、２層以上の重層構成である場合、異なる波長に感光できるように、異なる感色性を付与することができる。これにより、露光波長を変えて露光すると、各層において異なるパターンを形成することができる。

導電性金属部の厚さは、タッチパネルの用途としては、薄いほど表示パネルの視野角が広がるため好ましく、視認性の向上の点でも薄膜化が要求される。このような観点から、導電性金属部に担持された導電性金属からなる層の厚さは、９μｍ未満、５μｍ未満、３μｍ未満、０．１μｍ以上であることが望ましい。

本実施の形態では、上述した銀塩含有層の塗布厚みをコントロールすることにより所望の厚さの金属銀部を形成し、さらに物理現像及び／又はめっき処理により導電性金属粒子からなる層の厚みを自在にコントロールできるため、５μｍ未満、好ましくは３μｍ未満の厚みを有する導電シート１であっても容易に形成することができる。

なお、本実施の形態に係る導電シートの製造方法では、めっき等の工程は必ずしも行う必要はない。本実施の形態に係る導電シート１の製造方法では銀塩乳剤層の塗布銀量、銀／バインダー体積比を調整することで所望の表面抵抗率を得ることができるからである。

本発明に係る導電シート及びタッチパネルは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採りえることはもちろんである。また、特開2011-113149、特開2011-129501、特開2011-129112、特開2011-134311、特開2011-175628などに開示の技術と適宜組み合わせて使用することができる。

以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜導電パターンの形成＞
（ハロゲン化銀感光材料）
水媒体中のＡｇ１５０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。

また、この乳剤中にはＫ_３Ｒｈ_２Ｂｒ_９及びＫ_２ＩｒＣｌ_６を濃度が１０^−７（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ_２ＰｄＣｌ_４を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１０ｇ／ｍ^２となるように基体３０（ここでは、共にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ））上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は２／１とした。

幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行い、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。

（露光）
露光のパターンについて、格子数、開口率、線幅等を変更させた複数のパターンのフォトマスクを準備し、それらのフォトマスクを介して高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光した。

（現像処理）
・現像液１Ｌ処方
ハイドロキノン ２０ ｇ
亜硫酸ナトリウム ５０ ｇ
炭酸カリウム ４０ ｇ
エチレンジアミン・四酢酸 ２ ｇ
臭化カリウム ３ ｇ
ポリエチレングリコール２０００ １ ｇ
水酸化カリウム ４ ｇ
ｐＨ １０．３に調整
・定着液１Ｌ処方
チオ硫酸アンモニウム液（７５％） ３００ ｍｌ
亜硫酸アンモニウム・１水塩 ２５ ｇ
１，３−ジアミノプロパン・四酢酸 ８ ｇ
酢酸 ５ ｇ
アンモニア水（２７％） １ ｇ
ｐＨ ６．２に調整
上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機 ＦＧ−７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃ ３０秒、定着３４℃ ２３秒、水洗 流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。

＜試験１〜１２＞
複数のフォトマスクを使用し、格子群の大きさ（Ｍ×Ｎ）と、開口率と、表面抵抗率と、金属細線の占有率と、電極幅と、格子一辺の長さの条件を変化させて、試験１〜１２の導電シートを作製した。試験１〜１２について、視認性の評価を行った。視認性の評価は、目視にて判断し、格子群をほぼ視認できない場合をＡ、格子群を僅かだが視認できる場合をＢ、格子群を明らかに視認できる場合をＣとした。表１は試験１〜１２の条件と評価結果とを示している。

表１からＭ＋Ｎ≦９を満たす試験１〜１０は、視認性についてＢ以上の評価を得た。試験１〜１０では、特に、格子の１辺の長さが５００μｍ以下の場合、Ａの評価であった。一方、Ｍ＋Ｎ＞９である試験１１，１２は、格子の１辺の長さが５００μｍであってもＣの評価であった。

１…導電シート、１０…第一電極層、１２…第一電極、１４…第１電極端子、１６…第１配線、２６…第一格子、２９…ダミーパターン、３０…透明絶縁層、４０…第二電極層、４２…第二電極、４４…第二電極端子、４６…第二配線、５０…端子、５４…追加の第２電極端子、５６…第二格子、５９…ダミーパターン

Claims (9)

1. 第一方向に延び、前記第一方向と交差する第二方向に並ぶ複数の第一電極を有する第一電極層と、
   透明絶縁層と、
   前記第二方向に延び前記第一方向に並ぶ複数の第二電極を有する第二電極層と、がこの順で積層された導電シートであって、
   前記第一電極は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ前記第一電極は金属細線による複数の第一格子で構成され、前記複数の第一格子はＭ×Ｎの格子群で構成され、
   前記第二電極は幅方向に広がる分岐電極を有し、かつ前記第二電極は金属細線による複数の第二格子で構成され、前記複数の第二格子はＭ×Ｎの格子群で構成され、
   前記第一電極層と前記第二電極層とは、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とが全面に連続して配置され、Ｍ，Ｎは整数でＭ＋Ｎ≦９である導電シート。
2. 前記第一電極は９８〜９９．５％の開口率と、４０〜８０Ω／ｓｑ．の表面抵抗率を有し、前記第二電極は９８〜９９．８％の開口率と、４０〜８０Ω／ｓｑ．の表面抵抗率を有する請求項１記載の導電シート。
3. 前記第一電極層と前記第二電極層とは、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とが重なり合わないように、且つ上面から見たとき、前記複数の第一格子と前記複数の第二格子とはそれぞれ４個以下で隣接配置される請求項１又は２記載の導電シート。
4. 前記第一格子および前記第二格子を構成する各前記金属細線の単位面積当たりに占める割合は０．２〜２％である請求項１から３のいずれか記載の導電シート。
5. 前記第一格子および前記第二格子は、それぞれ２００〜１０００μｍの一辺を有する請求項１から４のいずれか記載の導電シート。
6. 前記第一電極および前記第二電極は、４〜１２ｍｍの幅を有する請求項１から５のいずれか記載の導電シート。
7. 前記第一格子および前記第二格子は、それぞれ２４０〜５００μｍの一辺を有し、前記第一電極および前記第二電極は、５〜７ｍｍの幅を有する請求項５又は６記載の導電シート。
8. Ｍ，Ｎ共に４以下である請求項１から７のいずれか記載の導電シート。
9. 請求項１から８のいずれか記載の導電シートを有するタッチパネル。

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