JP2014063543A - Method for manufacturing glass substrate for information recording medium - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium capable of integrating a glass substrate for an information recording medium into an information recording medium, and then providing a glass substrate for an information recording medium in which the deterioration of recording characteristics does not occur.SOLUTION: In a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium, a process of extracting a polished glass substrate 1G from a polishing pad 310 by using a glass substrate extraction jig 100 includes processes of: inserting the glass substrate extraction jig 100 in a closed state into a hole 11 of the glass substrate 1G from a surface 14 side to a rear face 15 side; putting the glass substrate extraction tool 100 in a state that it is opened to the outside of the radial direction of the glass substrate 1G; and pulling upward the glass substrate 1G by using the glass substrate extraction jig 100 in a state that an annular corner part P1 where the rear face 15 side of the glass substrate 1G and an inner peripheral edge face 13 of the hole 11 cross each other is placed on each of a first holding surface 132a and a second holding surface 142a.

Description

本発明は、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a glass substrate for an information recording medium.

コンピュータなどに用いられる情報記録媒体(磁気ディスク記録媒体)には、従来からアルミニウム基板またはガラス基板が用いられている。これらの基板上に磁気薄膜層が形成され、磁気薄膜層を磁気ヘッドで磁化することにより、磁気薄膜層に情報が記録される。   Conventionally, an aluminum substrate or a glass substrate is used as an information recording medium (magnetic disk recording medium) used in a computer or the like. A magnetic thin film layer is formed on these substrates, and information is recorded on the magnetic thin film layer by magnetizing the magnetic thin film layer with a magnetic head.

近年、ハードディスクドライブ(HDD)装置においては、記録密度が増々高密度化されてきている。記録密度の高密度化により、情報記録媒体(メディア)と情報記録媒体上を浮上しながら記録の読み書きを行なうヘッドとのギャップ(フライングハイト)は数nm程度にまで狭小化している。   In recent years, in a hard disk drive (HDD) device, the recording density has been increased. As the recording density is increased, the gap (flying height) between the information recording medium (medium) and the head that reads and writes the recording while floating on the information recording medium is reduced to about several nanometers.

フライングハイトが小さくなるにつれて、情報記録媒体をハードディスクドライブ装置に用いた場合の、媒体に記録されたデータにアクセスする際のリード/ライトエラー、磁気ヘッドが媒体表面に衝突するヘッドクラッシュなどの問題が発生しやすくなっている。これらの問題を抑制するために、情報記録媒体として許容される基板表面の欠陥の大きさもより小さくなる為、情報記録媒体用ガラス基板としても、より表面平滑性の高さが追及されており、ガラス基板表面に付着する異物や、ガラス基板表面のうねりを抑制する為、製造方法に様々な工夫がなされてきた。   As the flying height becomes smaller, there are problems such as read / write errors when accessing data recorded on the medium and head crashes when the magnetic head collides with the medium surface when the information recording medium is used in a hard disk drive. It is likely to occur. In order to suppress these problems, since the size of defects on the substrate surface allowed as an information recording medium is also smaller, even as a glass substrate for information recording media, higher surface smoothness has been pursued, In order to suppress foreign matter adhering to the glass substrate surface and undulation of the glass substrate surface, various devices have been devised in the manufacturing method.

一方、近年では、HDDの記憶容量は更に向上され、現在では2.5インチの記録媒体1枚で、記録容量が500GB(片面250GB)、面記録密度が630Gbit/平方インチ以上の記録密度を有するものが開発されている。   On the other hand, in recent years, the storage capacity of HDDs has been further improved. Currently, a single 2.5-inch recording medium has a recording capacity of 500 GB (single-sided 250 GB) and a surface recording density of 630 Gbit / square inch or more. Things are being developed.

情報記録媒体用ガラス基板の製造工程においては、両面研磨装置を用いて、ガラス基板の表面を研磨する工程が採用されている。たとえば、特開2010−238291号公報(特許文献1)には、研磨後のガラス基板を、下側定盤上に載置された下側研磨パッドから回収するための特殊な構造を有する治具が用いられる。   In the manufacturing process of the glass substrate for information recording media, the process of grind | polishing the surface of a glass substrate using a double-side polish apparatus is employ | adopted. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 2010-238291 (Patent Document 1) discloses a jig having a special structure for recovering a polished glass substrate from a lower polishing pad placed on a lower surface plate. Is used.

特開2010−238291号公報JP 2010-238291 A

上記した治具を用いて、研磨後のガラス基板を下側定盤上の下側研磨パッドから取り出す際に、ガラス基板が下側研磨パッドに強固に吸着している場合がある。下側研磨パッドによるガラス基板を吸着する吸着力が大きいと、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す際に大きな力が必要となる。   When the glass substrate after polishing is taken out from the lower polishing pad on the lower surface plate using the jig described above, the glass substrate may be firmly adsorbed to the lower polishing pad. If the adsorbing force for adsorbing the glass substrate by the lower polishing pad is large, a large force is required when taking out the glass substrate from the lower polishing pad.

その際、上記特許文献1に開示される治具では、ガラス基板の孔に治具を挿入後、治具を半径方向外方に拡径して、孔の内周端面との平面的な摩擦力に基づきガラス基板を保持して、下側研磨パッドからガラス基板を取り出す方法が採用されている。   At that time, in the jig disclosed in Patent Document 1, after the jig is inserted into the hole of the glass substrate, the diameter of the jig is increased radially outward, and planar friction with the inner peripheral end surface of the hole is achieved. A method of taking out the glass substrate from the lower polishing pad while holding the glass substrate based on the force is employed.

しかし、孔の内周端面に治具が強固に面状に押し付けられると、研磨後のスラリー等が孔の内周端面に押し付けられて内周端面に強固に付着することになる。その結果、内周端面においては、スラリー等の付着形態が、他のガラス基板の領域に比べて強固な付着形態に変化し、後の洗浄工程では完全に除去できないおそれがある。このように、スラリー等の汚れが付着したままのガラス基板を情報記録媒体(磁気ディスク)化した後には、内周端部の付着物の面内への回り込み等による記録特性の低下を招くことになる。   However, when the jig is firmly pressed into the hole on the inner peripheral end surface of the hole, the polished slurry or the like is pressed against the inner peripheral end surface of the hole and firmly adhered to the inner peripheral end surface. As a result, on the inner peripheral end face, the adherence form of slurry or the like changes to an adherence form stronger than other glass substrate regions, and there is a possibility that it cannot be completely removed in a subsequent cleaning step. As described above, after the glass substrate on which dirt such as slurry is adhered is converted into an information recording medium (magnetic disk), the recording characteristics are deteriorated due to the wraparound of the deposit at the inner peripheral edge. become.

本発明は、上記の実情に鑑みてなされたものであって、情報記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体化した後に、記録特性の低下を招くことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an information recording medium glass substrate that does not cause deterioration in recording characteristics after the information recording medium glass substrate is converted into an information recording medium. An object of the present invention is to provide a method for producing a glass substrate for an information recording medium.

本発明に基づいた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨装置を用いる研磨工程を備える、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、以下の工程を備える。   The manufacturing method of the glass substrate for information recording media based on this invention is a glass substrate for information recording media provided with the grinding | polishing process using the grinding | polishing apparatus which grind | polishes the surface of the glass substrate which has a hole in the center using a polishing pad. A manufacturing method comprising the following steps.

上記研磨工程は、上記ガラス基板を上記研磨パッド上に配置する工程と、上記研磨装置により、上記ガラス基板の表面を研磨する工程と、上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程とを備える。   The polishing step includes a step of placing the glass substrate on the polishing pad, a step of polishing the surface of the glass substrate by the polishing apparatus, and taking out the glass substrate after polishing from the polishing pad. And a step of taking out using a jig.

上記ガラス基板取出治具は、連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じる位置と拡がる位置との間を開閉可能に可動する第1柄部および第2柄部と、上記第1柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第1拡径部を有する第1保持部と、上記第2柄部の一方の先端側に設けられ、上記第1拡径部とは反対方向の外側に向けて張り出す第2拡径部を有する第2保持部とを有する。   The glass substrate take-out jig is connected to be rotatable about a connecting shaft, and is movable between a closed position and an extended position so as to be openable and closable, and the first handle part. A first holding portion having a first enlarged diameter portion provided on one distal end side of the second handle portion, and a first enlarged diameter portion provided on one distal end side of the second handle portion. And a second holding part having a second diameter-expanding part that projects outward in the opposite direction.

上記第1拡径部の上面には、上記第1柄部と上記第2柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第1保持面を有し、上記第2拡径部の上面には、上記第1柄部と上記第2柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第2保持面を有する。   The upper surface of the first enlarged diameter portion has a first holding surface that is inclined downward toward the outside in a state where the first handle portion and the second handle portion are closed, and the second enlarged portion. The upper surface of the diameter portion has a second holding surface that is inclined downward toward the outside in a state where the first handle portion and the second handle portion are closed.

上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、上記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、上記ガラス基板取出治具を閉じた状態にして、上記ガラス基板の上記孔に表面側から裏面側に向けて挿通した後、上記ガラス基板取出治具を上記ガラス基板の半径方向の外側に開いた状態にすることで、上記第1保持面および上記第2保持面に、上記ガラス基板の上記裏面側と上記孔の内周端面とが交差する環状角部が載置された状態にして、上記ガラス基板を上記ガラス基板取出治具を用いて上方に引き上げる工程を含む。   In the step of taking out the glass substrate after polishing from the polishing pad using the glass substrate take-out jig, the glass substrate take-out jig is closed, and the back surface from the front side to the hole of the glass substrate After being inserted toward the side, the glass substrate take-out jig is opened to the outside in the radial direction of the glass substrate, so that the first holding surface and the second holding surface have the above-mentioned glass substrate. And a step of pulling the glass substrate upward using the glass substrate take-out jig in a state where an annular corner portion where the back surface side and the inner peripheral end surface of the hole intersect is placed.

他の形態においては、上記環状角部と、上記第1保持面および上記第2保持面とは線接触により接している。   In another embodiment, the annular corner is in contact with the first holding surface and the second holding surface by line contact.

他の形態においては、上記環状角部と、上記第1保持面および上記第2保持面とは点接触により接している。   In another embodiment, the annular corner is in contact with the first holding surface and the second holding surface by point contact.

他の形態においては、上記第1保持部および上記第2保持部には、上記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する複数の洗浄液噴出口がさらに設けられ、上記研磨パッドから研磨後の上記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、上記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、上記孔の上記内周端面を洗浄する工程を有する。   In another embodiment, the first holding part and the second holding part are further provided with a plurality of cleaning liquid jets for ejecting a cleaning liquid toward the radially outer side of the glass substrate, and polishing is performed from the polishing pad. In the step of taking out the subsequent glass substrate using a glass substrate take-out jig, there is a step of cleaning the inner peripheral end face of the hole by ejecting a cleaning liquid from the cleaning liquid outlet.

他の形態においては、上記孔の上記内周端面を洗浄する工程は、上記洗浄液に超音波を印加して上記内周端面の洗浄を行なう。   In another embodiment, in the step of cleaning the inner peripheral end face of the hole, the inner peripheral end face is cleaned by applying ultrasonic waves to the cleaning liquid.

本発明によれば、情報記録媒体用ガラス基板を情報記録媒体化した後に、記録特性の低下を招くことのない情報記録媒体用ガラス基板を提供することが可能な、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを可能とする。   According to the present invention, an information recording medium glass substrate capable of providing a glass substrate for information recording medium that does not cause deterioration in recording characteristics after the information recording medium glass substrate is converted into an information recording medium. It is possible to provide a manufacturing method.

磁気ディスクに用いられるガラス基板を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the glass substrate used for a magnetic disc. ガラス基板を備えた磁気ディスクを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the magnetic disc provided with the glass substrate. 実施の形態におけるガラス基板の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the glass substrate in embodiment. 研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図である。It is a fragmentary perspective view of the double-side polish apparatus used for a grinding | polishing process. 第2ポリッシュ工程の内訳を示す図である。It is a figure which shows the breakdown of a 2nd polishing process. 実施の形態1におけるガラス基板取出治具の全体構造を示す正面図である。It is a front view which shows the whole structure of the glass substrate extraction jig | tool in Embodiment 1. FIG. 図6中のVII−VII線矢視図である。It is the VII-VII line arrow directional view in FIG. 実施の形態1におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。3 is a partially enlarged perspective view showing an external structure of a holding portion of the glass substrate take-out jig in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。It is a figure which shows the holding | maintenance state of the glass substrate using the glass substrate extraction jig | tool in Embodiment 1. FIG. 実施の形態1の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大図である。FIG. 9 is a partial enlarged view showing an external structure of a holding portion of a glass substrate take-out jig in a modification of the first embodiment. 実施の形態1の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。FIG. 10 is a partially enlarged perspective view showing an external structure of a holding portion of a glass substrate take-out jig in another modification of the first embodiment. 実施の形態1の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大断面図である。FIG. 10 is a partial enlarged cross-sectional view showing an external structure of a holding part of a glass substrate take-out jig in another modification of the first embodiment. 実施の形態1の他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。It is an expansion perspective view which shows the external appearance structure of the holding | maintenance part of the glass substrate extraction jig | tool in the other modification of Embodiment 1. FIG. 実施の形態1のさらに他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing an external structure of a holding portion of a glass substrate take-out jig in still another modified example of the first embodiment. 実施の形態1のさらに他の変形例におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大断面図である。FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view showing an external structure of a holding portion of a glass substrate take-out jig in still another modified example of the first embodiment. 実施の形態2におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。6 is an enlarged perspective view showing an external structure of a holding portion of a glass substrate take-out jig in Embodiment 2. FIG. 実施の形態2におけるガラス基板取出治具の保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。6 is a schematic plan view showing a glass substrate holding state in a holding portion of a glass substrate take-out jig in Embodiment 2. FIG. 実施の形態3におけるガラス基板取出治具の構造を示す断面図である。10 is a cross-sectional view showing a structure of a glass substrate extraction jig in Embodiment 3. FIG. 実施の形態3におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の内周端面の洗浄状態を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a cleaning state of an inner peripheral end surface of a glass substrate using a glass substrate take-out jig in Embodiment 3. 実施の形態3におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a holding state of a glass substrate using a glass substrate taking out jig in Embodiment 3. 実施の形態4におけるガラス基板取出治具の構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the glass substrate extraction jig | tool in Embodiment 4. FIG. 実施の形態1から4および比較例において製造されたガラス基板を用いた情報記録媒体(メディア)の評価結果を示す図である。It is a figure which shows the evaluation result of the information recording medium (medium) using the glass substrate manufactured in Embodiment 1-4 and the comparative example.

本発明に基づいた実施の形態および実施例について、以下、図面を参照しながら説明する。実施の形態および実施例の説明において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。実施の形態および実施例の説明において、同一の部品、相当部品に対しては、同一の参照番号を付し、重複する説明は繰り返さない場合がある。   Embodiments and examples based on the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description of the embodiments and examples, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like, unless otherwise specified. In the description of the embodiments and examples, the same parts and corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description may not be repeated.

(実施の形態1)
(ガラス基板1G・磁気ディスク1)
図1および図2を参照して、まず、本実施の形態に基づく情報記録媒体用ガラス基板の製造方法によって得られるガラス基板1G、およびガラス基板1Gを備えた磁気ディスク1について説明する。図1は、磁気ディスク1(図2参照)に用いられるガラス基板1Gを示す斜視図である。図2は、情報記録媒体として、ガラス基板1Gを備えた磁気ディスク1を示す斜視図である。
(Embodiment 1)
(Glass substrate 1G, magnetic disk 1)
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, first, a glass substrate 1G obtained by the method for manufacturing a glass substrate for information recording medium according to the present embodiment and a magnetic disk 1 provided with the glass substrate 1G will be described. FIG. 1 is a perspective view showing a glass substrate 1G used for the magnetic disk 1 (see FIG. 2). FIG. 2 is a perspective view showing a magnetic disk 1 provided with a glass substrate 1G as an information recording medium.

図1に示すように、磁気ディスク1に用いられるガラス基板1G(情報記録媒体用ガラス基板)は、中心に孔11が形成された環状の円板形状を呈している。円形ディスク形状のガラス基板1Gは、表主表面14、裏主表面15、内周端面13、および外周端面12を有している。また、内周端面13の表主表面14側および裏主表面15側にはそれぞれテーパ面としてのチャンファ面13a,13bが形成されている。   As shown in FIG. 1, a glass substrate 1G (glass substrate for information recording medium) used for a magnetic disk 1 has an annular disk shape with a hole 11 formed in the center. The circular disk-shaped glass substrate 1 </ b> G has a front main surface 14, a back main surface 15, an inner peripheral end surface 13, and an outer peripheral end surface 12. Further, chamfer surfaces 13a and 13b as tapered surfaces are formed on the front main surface 14 side and the back main surface 15 side of the inner peripheral end surface 13, respectively.

ガラス基板1Gの大きさは、特に制限はなく、たとえば外径0.8インチ、1.0インチ、1.8インチ、2.5インチ、または3.5インチなどである。ガラス基板1Gの厚さは、破損防止の観点から、たとえば0.30mm〜2.2mmである。本実施の形態におけるガラス基板1Gの大きさは、外径が約65mm、内径が約20mm、厚さが約0.8mmである。ガラス基板1Gの厚さとは、ガラス基板1G上の点対称となる任意の複数の点で測定した値の平均によって算出される値である。   The size of the glass substrate 1G is not particularly limited, and is, for example, an outer diameter of 0.8 inch, 1.0 inch, 1.8 inch, 2.5 inch, or 3.5 inch. The thickness of the glass substrate 1G is, for example, 0.30 mm to 2.2 mm from the viewpoint of preventing breakage. As for the size of the glass substrate 1G in the present embodiment, the outer diameter is about 65 mm, the inner diameter is about 20 mm, and the thickness is about 0.8 mm. The thickness of the glass substrate 1G is a value calculated by averaging the values measured at a plurality of arbitrary points that are point-symmetric on the glass substrate 1G.

図2に示すように、磁気ディスク1は、上記したガラス基板1Gの表主表面14上に磁性膜が成膜されて、磁気記録層を含む磁気薄膜層23が形成される。図2中では、表主表面14上にのみ磁気薄膜層23が形成されているが、裏主表面15上にも磁気薄膜層23が形成されていてもよい。   As shown in FIG. 2, in the magnetic disk 1, a magnetic film is formed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G, and a magnetic thin film layer 23 including a magnetic recording layer is formed. In FIG. 2, the magnetic thin film layer 23 is formed only on the front main surface 14, but the magnetic thin film layer 23 may also be formed on the back main surface 15.

磁気薄膜層23は、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂をガラス基板1Gの表主表面14上にスピンコートすることによって形成される(スピンコート法)。磁気薄膜層23は、ガラス基板1Gの表主表面14に対してスパッタリング法、または無電解めっき法等により形成されてもよい。   The magnetic thin film layer 23 is formed by spin-coating a thermosetting resin in which magnetic particles are dispersed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G (spin coating method). The magnetic thin film layer 23 may be formed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G by a sputtering method, an electroless plating method, or the like.

ガラス基板1Gの表主表面14に形成される磁気薄膜層23の膜厚は、スピンコート法の場合は約0.3μm〜約1.2μm、スパッタリング法の場合は約0.04μm〜約0.08μm、無電解めっき法の場合は約0.05μm〜約0.1μmである。薄膜化および高密度化の観点からは、磁気薄膜層23はスパッタリング法または無電解めっき法によって形成されるとよい。   The film thickness of the magnetic thin film layer 23 formed on the front main surface 14 of the glass substrate 1G is about 0.3 μm to about 1.2 μm in the case of the spin coating method, and about 0.04 μm to about 0.00 in the case of the sputtering method. In the case of the electroless plating method, the thickness is about 0.05 μm to about 0.1 μm. From the viewpoint of thinning and high density, the magnetic thin film layer 23 is preferably formed by sputtering or electroless plating.

磁気薄膜層23に用いる磁性材料としては、特に限定はなく従来公知のものが使用できるが、高い保持力を得るために結晶異方性の高いCoを基本とし、残留磁束密度を調整する目的でNiやCrを加えたCo系合金などが好適である。また、熱アシスト記録用に好適な磁性層材料として、FePt系の材料が用いられてもよい。   The magnetic material used for the magnetic thin film layer 23 is not particularly limited, and a conventionally known material can be used. However, in order to obtain a high coercive force, Co having high crystal anisotropy is basically used for the purpose of adjusting the residual magnetic flux density. A Co-based alloy to which Ni or Cr is added is suitable. Further, as a magnetic layer material suitable for heat-assisted recording, an FePt-based material may be used.

また、磁気記録ヘッドの滑りをよくするために磁気薄膜層23の表面に潤滑剤を薄くコーティングしてもよい。潤滑剤としては、たとえば液体潤滑剤であるパーフロロポリエーテル(PFPE)をフレオン系などの溶媒で希釈したものが挙げられる。   Further, a lubricant may be thinly coated on the surface of the magnetic thin film layer 23 in order to improve the sliding of the magnetic recording head. Examples of the lubricant include those obtained by diluting perfluoropolyether (PFPE), which is a liquid lubricant, with a solvent such as Freon.

さらに、必要により下地層や保護層を設けてもよい。磁気ディスク1における下地層は磁性膜に応じて選択される。下地層の材料としては、たとえば、Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、またはNiなどの非磁性金属から選ばれる少なくとも一種以上の材料が挙げられる。   Furthermore, you may provide a base layer and a protective layer as needed. The underlayer in the magnetic disk 1 is selected according to the magnetic film. Examples of the material for the underlayer include at least one material selected from nonmagnetic metals such as Cr, Mo, Ta, Ti, W, V, B, Al, and Ni.

また、下地層は単層とは限らず、同一または異種の層を積層した複数層構造としても構わない。たとえば、Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV等の多層下地層としてもよい。   Further, the underlayer is not limited to a single layer, and may have a multi-layer structure in which the same or different layers are stacked. For example, a multilayer underlayer such as Cr / Cr, Cr / CrMo, Cr / CrV, NiAl / Cr, NiAl / CrMo, or NiAl / CrV may be used.

磁気薄膜層23の摩耗や腐食を防止する保護層としては、たとえば、Cr層、Cr合金層、カーボン層、水素化カーボン層、ジルコニア層、シリカ層などが挙げられる。これらの保護層は、下地層、磁性膜など共にインライン型スパッタ装置で連続して形成できる。また、これらの保護層は、単層としてもよく、あるいは、同一または異種の層からなる多層構成としてもよい。   Examples of the protective layer that prevents wear and corrosion of the magnetic thin film layer 23 include a Cr layer, a Cr alloy layer, a carbon layer, a hydrogenated carbon layer, a zirconia layer, and a silica layer. These protective layers can be formed continuously with an in-line type sputtering apparatus, such as an underlayer and a magnetic film. In addition, these protective layers may be a single layer, or may have a multilayer structure including the same or different layers.

上記保護層上に、あるいは上記保護層に替えて、他の保護層を形成してもよい。たとえば、上記保護層に替えて、Cr層の上にテトラアルコキシシランをアルコール系の溶媒で希釈した中に、コロイダルシリカ微粒子を分散して塗布し、さらに焼成して酸化ケイ素(SiO2)層を形成してもよい。   Another protective layer may be formed on the protective layer or instead of the protective layer. For example, instead of the protective layer, colloidal silica fine particles are dispersed and coated on a Cr layer with tetraalkoxysilane diluted with an alcohol solvent, and then fired to form a silicon oxide (SiO2) layer. May be.

(ガラス基板1Gの製造工程)
次に、図3を参照して、本実施の形態に係るガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を説明する。図3は、ガラス基板1Gおよび情報記録媒体1の製造方法を示すフロー図である。
(Manufacturing process of glass substrate 1G)
Next, a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1 according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a flowchart showing a method for manufacturing the glass substrate 1G and the information recording medium 1.

まず、ステップ10(以下、「S10」と略す。ステップ11以降も同様。)の「ガラス溶融工程」において、ガラス基板を構成するガラス素材を溶融する。   First, in the “glass melting step” of step 10 (hereinafter abbreviated as “S10”, the same applies to step 11 and subsequent steps), the glass material constituting the glass substrate is melted.

S11の「プレス成形工程」において、溶融させたガラス素材を上型および下型を用いたプレスによりガラス基板を作製した。使用したガラス組成は、一般的なアルミノシリケートガラスを用いた。ガラス基板の作製方法としては成形に限らず、公知の手法である板ガラスからの切り出し等でも構わず、ガラス組成もこれに限らない。   In the “press molding step” of S11, a glass substrate was produced by pressing the molten glass material using an upper mold and a lower mold. The glass composition used was a general aluminosilicate glass. The method for producing the glass substrate is not limited to molding, and may be cut out from plate glass, which is a known technique, and the glass composition is not limited thereto.

S12の「第1ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面をラッピング加工した。この第1ラップ工程は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置を用いて行なった。具体的には、ガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行なった。このラッピング加工により、おおよそ平坦な主表面を有するガラス基板を得た。   In the “first lapping step” of S12, both main surfaces of the glass substrate were lapped. This first lapping step was performed using a double-sided lapping device using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen was pressed on both surfaces of the glass substrate from above and below, the grinding liquid was supplied onto the main surface of the glass substrate, and these were moved relatively to perform lapping. By this lapping process, a glass substrate having a substantially flat main surface was obtained.

S13の「コアリング工程」において、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ガラス基板の中心部に孔を形成し、円環状のガラス基板を作製した。ガラス基板の内周端面、および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を実施した。   In the “coring step” of S13, an annular glass substrate was produced by forming a hole in the center of the glass substrate using a cylindrical diamond drill. The inner peripheral end surface and the outer peripheral end surface of the glass substrate were ground with a diamond grindstone, and a predetermined chamfering process was performed.

S14の「第2ラップ工程」において、ガラス基板の両主表面について、上記第1ラップ工程(S12)と同様に、ラッピング加工を行なった。この第2ラップ工程を行なうことにより、前工程のコアリングや端面加工において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができる。その結果、後工程での主表面の研磨時間を短縮することができる。   In the “second lapping step” of S14, lapping was performed on both main surfaces of the glass substrate in the same manner as in the first lapping step (S12). By performing the second lapping step, the fine uneven shape formed on the main surface in the coring and end face processing in the previous step can be removed in advance. As a result, the polishing time of the main surface in the subsequent process can be shortened.

S15の「外周/内周研磨工程」において、ガラス基板の外周端面および内周端面について、ブラシ研磨による鏡面研磨を行なった。このとき研磨砥粒としては、一般的な酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いた。   In the “outer periphery / inner periphery polishing step” of S15, the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface of the glass substrate were subjected to mirror polishing by brush polishing. At this time, as the abrasive grains, a slurry containing general cerium oxide abrasive grains was used.

S16の「第1ポリッシュ工程」において、主表面研磨を行なった。この第1ポリッシュ工程は、上述の第1および第2ラップ工程(S12,S14)において主表面に残留したキズや反りを矯正することを主目的とするものである。この第1ポリッシュ工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により主表面の研磨を行なった。研磨剤として
は、一般的な酸化セリウム砥粒を用いた。
In the “first polishing step” of S16, main surface polishing was performed. The first polishing step is mainly intended to correct scratches and warpage remaining on the main surface in the first and second lapping steps (S12, S14) described above. In the first polishing step, the main surface was polished by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, general cerium oxide abrasive grains were used.

S17の「化学強化工程」において、ガラス基板1Gの主表面に対して表面強化層を形成した。具体的には、300℃に加熱された硝酸カリウム(70%)と硝酸ナトリウム(30%)の混合溶液中に、ガラス基板1Gを約30分間接触させることによって化学強化を行なった。その結果、ガラス基板の内周端面および外周端面のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、圧縮応力層が形成されることでガラス基板の主表面及び端面が強化された。   In the “chemical strengthening step” of S17, a surface reinforcing layer was formed on the main surface of the glass substrate 1G. Specifically, chemical strengthening was performed by bringing the glass substrate 1G into contact with a mixed solution of potassium nitrate (70%) and sodium nitrate (30%) heated to 300 ° C. for about 30 minutes. As a result, the lithium ion and sodium ion on the inner peripheral end surface and outer peripheral end surface of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, and a compressive stress layer is formed, thereby forming the main surface of the glass substrate and The end face was strengthened.

S18の「第2ポリッシュ工程」において、主表面研磨工程を施した。この第2ポリッシュ工程は上述までの工程で発生、残存している主表面上の微小欠陥等を解消して鏡面状に仕上げること、反りを解消し所望の平坦度に仕上げることを目的とする。この第2ポリッシュ工程は、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により研磨を行なった。研磨剤としては、平滑面を得る為に平均粒径が約20nmのコロイダルシリカを用いた。   In the “second polishing step” of S18, a main surface polishing step was performed. This second polishing step aims to eliminate the fine defects on the main surface that have been generated and remain in the above-described steps and finish it in a mirror shape, to eliminate warpage and finish it to a desired flatness. In the second polishing step, polishing was performed by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, colloidal silica having an average particle diameter of about 20 nm was used to obtain a smooth surface.

次いで、S19の「最終洗浄工程(Final Cleaning)」において、ガラス基板の主表面、端面の最終洗浄を実施する。これによりガラス基板上に残存する付着物を除去する。なお、最終洗浄工程は、ガラス基板の製造工程の最後に行われる工程であり、適宜乾燥工程も含むものである。   Next, in the “Final Cleaning” of S19, final cleaning of the main surface and the end surface of the glass substrate is performed. Thereby, the deposits remaining on the glass substrate are removed. The final cleaning process is a process performed at the end of the glass substrate manufacturing process, and includes a drying process as appropriate.

本実施の形態におけるガラス基板の製造方法は、以上のように構成される。このガラス基板の製造方法を用いることで、図1に示すガラス基板1Gが得られる。その後、このようにして得られたガラス基板1Gを用いて、図2に示す情報記録媒体1が得る。   The manufacturing method of the glass substrate in this Embodiment is comprised as mentioned above. The glass substrate 1G shown in FIG. 1 is obtained by using this glass substrate manufacturing method. Thereafter, the information recording medium 1 shown in FIG. 2 is obtained using the glass substrate 1G thus obtained.

また、情報記録媒体の製造における磁気薄膜層成膜工程としては、上述の工程を経て得られたガラス基板1Gの洗浄後に、ガラス基板1Gの両主表面に、Cr合金からなる密着層、CoFeZr合金からなる軟磁性層、Ruからなる配向制御下地層、CoCrPt合金からなる垂直磁気記録層、C系の保護層、F系からなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録方式の情報記録媒体を製造する。この構成は垂直磁気記録方式の構成の一例であり、面内情報記録媒体として磁性層等を構成してもよい。その後、熱処理工程等を実施することで、情報記録媒体1が完成する。   In addition, as a magnetic thin film layer film forming step in the manufacture of the information recording medium, after cleaning the glass substrate 1G obtained through the above-described steps, an adhesion layer made of a Cr alloy, a CoFeZr alloy is formed on both main surfaces of the glass substrate 1G. Information recording in a perpendicular magnetic recording system by sequentially forming a soft magnetic layer made of Ru, an orientation control underlayer made of Ru, a perpendicular magnetic recording layer made of a CoCrPt alloy, a protective layer made of C, and a lubricating layer made of F Produce media. This configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic recording system, and a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane information recording medium. Thereafter, the information recording medium 1 is completed by performing a heat treatment step and the like.

次に、図4から図9を参照して、本実施の形態における、最終研磨工程である第2ポリッシュ工程(S18)の、両面研磨装置から研磨後のガラス基板を取り出す工程について説明する。図4は、研磨工程に用いられる両面研磨装置の部分斜視図、図5は、第2ポリッシュ工程の内訳を示す図、図6は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の全体構造を示す正面図、図7は、図6中のVII−VII線矢視図、図8は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具の保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図9は、本実施の形態におけるガラス基板取出治具を用いたガラス基板の保持状態を示す図である。   Next, with reference to FIG. 4 to FIG. 9, a step of taking out the glass substrate after polishing from the double-side polishing apparatus in the second polishing step (S18) which is the final polishing step in the present embodiment will be described. FIG. 4 is a partial perspective view of a double-side polishing apparatus used in the polishing process, FIG. 5 is a diagram showing a breakdown of the second polishing process, and FIG. 6 shows the entire structure of the glass substrate extraction jig in the present embodiment. FIG. 7 is a front view, FIG. 7 is a view taken along arrow VII-VII in FIG. 6, FIG. 8 is a partially enlarged perspective view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate take-out jig in the present embodiment, and FIG. It is a figure which shows the holding state of the glass substrate using the glass substrate extraction jig | tool in this Embodiment.

まず、図4を参照して、両面研磨装置2000の概略構成について説明する。図4は、研磨工程に用いられる両面研磨装置2000の部分斜視図である。   First, a schematic configuration of the double-side polishing apparatus 2000 will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a partial perspective view of a double-side polishing apparatus 2000 used in the polishing process.

両面研磨装置2000は、上定盤(上側砥石保持定盤)300と、下定盤(下側砥石保持定盤)400と、上定盤300の下定盤400に対向する側(ガラス基板側)の下面に装着された上側研磨パッド310と、下定盤400の上定盤300に対向する側(ガラス基板側)の上面に装着された下側研磨パッド410と、を備える。   The double-side polishing apparatus 2000 includes an upper surface plate (upper whetstone holding surface plate) 300, a lower surface plate (lower whetstone holding surface plate) 400, and a side (glass substrate side) facing the lower surface plate 400 of the upper surface plate 300. The upper polishing pad 310 mounted on the lower surface and the lower polishing pad 410 mounted on the upper surface on the side facing the upper surface plate 300 (glass substrate side) of the lower surface plate 400 are provided.

上側研磨パッド310および下側研磨パッド410は、ガラス基板1Gの両主表面を研磨加工するための加工部材である。上定盤300と下定盤400とは、キャリア500の公転方向に対して互いに反対方向に回転するようになっている。下定盤400と対向する上側研磨パッド310の表面は、上側の研磨面311を形成する。上定盤300と対向する下側研磨パッド410の表面は、下側の研磨面411を形成する。上定盤300と下定盤400との間に形成される隙間に、キャリア500が配置される。ディスク状のガラス基板1は、このキャリア500に複数枚保持される。   The upper polishing pad 310 and the lower polishing pad 410 are processing members for polishing both main surfaces of the glass substrate 1G. The upper surface plate 300 and the lower surface plate 400 rotate in directions opposite to each other with respect to the revolution direction of the carrier 500. A surface of the upper polishing pad 310 facing the lower surface plate 400 forms an upper polishing surface 311. The surface of the lower polishing pad 410 facing the upper surface plate 300 forms a lower polishing surface 411. Carrier 500 is arranged in a gap formed between upper surface plate 300 and lower surface plate 400. A plurality of disk-shaped glass substrates 1 are held by the carrier 500.

ガラス基板1Gは、上定盤300と下定盤400との間に挟まれ、上定盤300と下定盤400とによってガラス基板の厚み方向に応力が加えられる。これにより、ガラス基板の両主表面は、上側研磨パッド310の研磨面311および下側研磨パッド410の研磨面411に押圧される。この状態で、ガラス基板の一方の主表面に対して上側研磨パッド310の研磨面311が相対移動することにより、当該一方の主表面が研磨される。同時に、ガラス基板の他方の主表面に対して下側研磨パッド410の研磨面411が相対移動することにより、当該他方の主表面が研磨される。このようにして、両面研磨装置2000を使用して、ガラス基板の両主表面が同時に研磨される。   Glass substrate 1G is sandwiched between upper surface plate 300 and lower surface plate 400, and stress is applied in the thickness direction of the glass substrate by upper surface plate 300 and lower surface plate 400. As a result, both main surfaces of the glass substrate are pressed against the polishing surface 311 of the upper polishing pad 310 and the polishing surface 411 of the lower polishing pad 410. In this state, the polishing surface 311 of the upper polishing pad 310 moves relative to one main surface of the glass substrate, whereby the one main surface is polished. At the same time, the polishing surface 411 of the lower polishing pad 410 moves relative to the other main surface of the glass substrate, whereby the other main surface is polished. In this manner, both main surfaces of the glass substrate are simultaneously polished using the double-side polishing apparatus 2000.

上記両面研磨装置2000を使用した精密研磨後、上側研磨パッド310の研磨面311および下側研磨パッド410の研磨面411に貼り付いたガラス基板1を、研磨パッドから取り出す。   After precision polishing using the double-side polishing apparatus 2000, the glass substrate 1 adhered to the polishing surface 311 of the upper polishing pad 310 and the polishing surface 411 of the lower polishing pad 410 is taken out from the polishing pad.

図5を参照して、第2ポリッシュ工程S18は、キャリア配置工程(S181)、ガラス基板配置工程(S182)、研磨工程(S183)、ガラス基板取出工程(S184)、およびキャリア取出工程(S185)を有している。   Referring to FIG. 5, the second polishing step S18 includes a carrier placement step (S181), a glass substrate placement step (S182), a polishing step (S183), a glass substrate removal step (S184), and a carrier removal step (S185). have.

(ガラス基板取出治具100)
図6から図9を参照して、ガラス基板取出工程S334に用いられるガラス基板取出治具100の構造、および、そのガラス基板取出治具100を用いたガラス基板取出工程(S184)について説明する。
(Glass substrate extraction jig 100)
With reference to FIGS. 6 to 9, the structure of the glass substrate extraction jig 100 used in the glass substrate extraction step S334 and the glass substrate extraction step (S184) using the glass substrate extraction jig 100 will be described.

図6から図8を参照して、このガラス基板取出治具100は、連結軸R1を中心として回動可能に連結され、閉じる位置(図6に示す位置)と拡がる位置(図9参照)との間を開閉可能に可動する第1柄部110および第2柄部120とを有する。第1柄部110および第2柄部120の材料は、剛性を有する材料であればどのような材料でも構わない。   With reference to FIGS. 6 to 8, the glass substrate take-out jig 100 is connected so as to be rotatable about a connection axis R <b> 1, and a closed position (position shown in FIG. 6) and an expanded position (see FIG. 9). A first handle portion 110 and a second handle portion 120 that can be opened and closed. The material of the first handle part 110 and the second handle part 120 may be any material as long as it has rigidity.

第1柄部110の一方の先端側には、樹脂材料等から構成される第1保持部130が設けられている。この第1保持部130は、第1柄部110の先端に固定される第1ベース部131と、この第1ベース部131と一体に設けられ、外側に向けて張り出す第1拡径部132とを有する。第1柄部110の他方の側には、環状のグリップ部150が設けられている。   A first holding part 130 made of a resin material or the like is provided on one tip side of the first handle part 110. The first holding part 130 includes a first base part 131 that is fixed to the tip of the first handle part 110, and a first enlarged diameter part 132 that is provided integrally with the first base part 131 and projects outward. And have. An annular grip 150 is provided on the other side of the first handle 110.

第2柄部120の一方の先端側には、樹脂材料等から構成される第2保持部140が設けられている。この第2保持部140は、第2柄部120の先端に固定される第2ベース部141と、この第2ベース部141と一体に設けられ、上述した第1拡径部132とは反対方向の外側に向けて張り出す第2拡径部142とを有する。第2柄部120の他方の側には、環状のグリップ部160が設けられている。   A second holding part 140 made of a resin material or the like is provided on one tip side of the second handle part 120. The second holding part 140 is provided integrally with the second base part 141 fixed to the tip of the second handle part 120 and the second base part 141, and is opposite to the first diameter-expanding part 132 described above. And a second enlarged-diameter portion 142 projecting toward the outside. On the other side of the second handle 120, an annular grip 160 is provided.

第1ベース部131の外表面131aは、半円筒形状を有している。第1拡径部132の上面は、第2拡径部142とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第1保持面132aを有し、全体として半円錐形状を有している。   The outer surface 131a of the first base portion 131 has a semicylindrical shape. The upper surface of the first enlarged diameter portion 132 has a first holding surface 132a that inclines downward toward the outer side opposite to the second enlarged diameter portion 142, and has a semiconical shape as a whole.

第2ベース部141の外表面141aは、半円筒形状を有している。第2拡径部142の上面は、第1拡径部132とは反対側の外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第2保持面142aを有し、全体として半円錐形状を有している。   The outer surface 141a of the second base portion 141 has a semicylindrical shape. The upper surface of the second enlarged diameter portion 142 has a second holding surface 142a that inclines downward toward the outer side opposite to the first enlarged diameter portion 132, and has a semiconical shape as a whole.

本実施の形態においては、図6〜図8に示すガラス基板取出治具100が閉じた状態においては、第1保持部130の第1ベース部131と第2保持部140の第2ベース部141とが重ね合わされることで円柱形状の外観を呈し、第1拡径部132と第2拡径部142とが重ね合わされることで円錐形状の外観を呈する。   In the present embodiment, when the glass substrate extraction jig 100 shown in FIGS. 6 to 8 is closed, the first base portion 131 of the first holding portion 130 and the second base portion 141 of the second holding portion 140 are used. And the first enlarged portion 132 and the second enlarged portion 142 are overlapped to give a conical appearance.

次に、図9を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具100を用いたガラス基板取出工程(S184)について説明する。   Next, with reference to FIG. 9, the glass substrate extraction process (S184) using the glass substrate extraction jig | tool 100 which has the said structure is demonstrated.

まず、ガラス基板取出治具100を閉じた状態にして、ガラス基板1Gの孔11に表主表面14側から裏主表面15側に向けてガラス基板取出治具100を挿通する。その後、図9に示すように、ガラス基板取出治具100をガラス基板1Gの半径方向の外側に開いた状態にする。   First, the glass substrate extraction jig 100 is closed, and the glass substrate extraction jig 100 is inserted into the hole 11 of the glass substrate 1G from the front main surface 14 side to the back main surface 15 side. Then, as shown in FIG. 9, the glass substrate extraction jig 100 is opened to the outside in the radial direction of the glass substrate 1G.

これにより、第1保持面132aおよび第2保持面142aに、ガラス基板1Gの裏主表面15側と孔11の内周端面13とが交差する環状角部P1が載置された状態にする。その後、ガラス基板1Gをガラス基板取出治具100を用いて上方に引き上げる。なお、本実施の形態におけるガラス基板1Gには、内周端面13の表主表面14側および裏主表面15側にはそれぞれテーパ面としてのチャンファ面13a,13bが形成されている。よって、本実施の形態において、環状角部P1は、裏主表面15側と孔11の内周端面13に相当するチャンファ面13bとが交差する領域によって規定される。   Thereby, the annular corner P1 where the back main surface 15 side of the glass substrate 1G and the inner peripheral end surface 13 of the hole 11 intersect is placed on the first holding surface 132a and the second holding surface 142a. Thereafter, the glass substrate 1G is pulled upward using the glass substrate extraction jig 100. In the glass substrate 1G in the present embodiment, chamfer surfaces 13a and 13b are formed as tapered surfaces on the front main surface 14 side and the back main surface 15 side of the inner peripheral end surface 13, respectively. Therefore, in the present embodiment, the annular corner portion P1 is defined by a region where the back main surface 15 side and the chamfer surface 13b corresponding to the inner peripheral end surface 13 of the hole 11 intersect.

これにより、環状角部P1が、第1保持面132aおよび第2保持面142aに線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で、第1保持面132aおよび第2保持面142aとガラス基板1Gとの間に大きな圧力が加えられることなく、第1保持面132aおよび第2保持面142aとガラス基板1Gとの間の接触面積を低減させた状態で、ガラス基板1Gの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔11の内周端面13に押し付けられて内周端面13に強固に付着することを抑制することが可能となる。   Thereby, the annular corner P1 is in line contact with the first holding surface 132a and the second holding surface 142a (point contact when viewed in cross section), and the first holding surface 132a and the second holding surface 142a Without applying a large pressure between the glass substrate 1G and the contact area between the first holding surface 132a and the second holding surface 142a and the glass substrate 1G is reduced, the glass substrate 1G is pulled upward. Is possible. As a result, it becomes possible to prevent the polished slurry and the like from being pressed against the inner peripheral end surface 13 of the hole 11 and firmly attached to the inner peripheral end surface 13.

また、このようにして得られたガラス基板1Gを情報記録媒体(磁気ディスク)化した場合であっても、ガラス基板1Gの付着物の低減を図っていることから、記録特性の低下を招くこともない。   Further, even when the glass substrate 1G obtained in this way is used as an information recording medium (magnetic disk), the deposits on the glass substrate 1G are reduced, so that the recording characteristics are deteriorated. Nor.

なお、上記ガラス基板取出治具100は、保持部を、第1保持部130と第2保持部140とに2分する2分割構造を採用した場合について説明したが、2分割構造に限定されず、3分割、4分割、またはそれ以上の分割構造を採用することも可能である。   In addition, although the said glass substrate extraction jig | tool 100 demonstrated the case where the 2 division | segmentation structure which divides a holding part into the 1st holding | maintenance part 130 and the 2nd holding | maintenance part 140 was employ | adopted, it is not limited to a 2 division | segmentation structure It is also possible to adopt a division structure of three divisions, four divisions, or more.

(変形例:ガラス基板取出治具100A)
次に、図10を参照して、上記ガラス基板取出治具100の変形例としてのガラス基板取出治具100Aについて説明する。なお、図10は、ガラス基板取出治具100Aの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図である。
(Modification: Glass substrate extraction jig 100A)
Next, with reference to FIG. 10, a glass substrate extraction jig 100A as a modification of the glass substrate extraction jig 100 will be described. FIG. 10 is a partially enlarged perspective view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate extraction jig 100A.

上記ガラス基板取出治具100は、ガラス基板取出治具100が閉じた状態においては、第1保持部130の第1ベース部131と第2保持部140の第2ベース部141とが重ね合わされることで円柱形状の外観を呈し、第1拡径部132と第2拡径部142とが重ね合わされることで円錐形状の外観を呈していたが、図10に示すガラス基板取出治具100Aは、ガラス基板取出治具100の一部を矩形形状に切り出したものであり、第1保持部130Aの第1ベース部131と第2保持部140Aの第2ベース部141とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈し、第1保持部130Aの第1拡径部132と第2保持部140Aの第2拡径部142とが重ね合わされることで略矩形形状の外観を呈する。   In the glass substrate extraction jig 100, the first base portion 131 of the first holding portion 130 and the second base portion 141 of the second holding portion 140 are overlapped when the glass substrate extraction jig 100 is closed. In this way, a cylindrical appearance was exhibited, and the first enlarged portion 132 and the second enlarged portion 142 were overlapped to give a conical appearance, but the glass substrate extraction jig 100A shown in FIG. The glass substrate take-out jig 100 is partially cut out in a rectangular shape, and the first base portion 131 of the first holding portion 130A and the second base portion 141 of the second holding portion 140A are overlapped. It has a substantially rectangular appearance, and the first enlarged diameter portion 132 of the first holding portion 130A and the second enlarged diameter portion 142 of the second holding portion 140A are overlapped to give a substantially rectangular appearance.

この形状を有するガラス基板取出治具100Aにおいても、図9に示したガラス基板取出治具100を用いたガラス基板取出工程(S184)と同様に、第1保持面132aおよび第2保持面142aに、ガラス基板1Gの裏主表面15側と孔11の内周端面13とが交差する環状角部P1を、線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具100Aによっても、ガラス基板取出治具100と同様の作用効果を得ることができる。   Similarly to the glass substrate extraction step (S184) using the glass substrate extraction jig 100 shown in FIG. 9, the glass substrate extraction jig 100A having this shape also has the first holding surface 132a and the second holding surface 142a. The annular corner P1 where the back main surface 15 side of the glass substrate 1G and the inner peripheral end face 13 of the hole 11 intersect can be placed in a line contact state (point contact when viewed in cross section). . As a result, the same effect as the glass substrate extraction jig 100 can be obtained by the glass substrate extraction jig 100A.

(他の変形例:ガラス基板取出治具100B)
次に、図11から図13を参照して、上記ガラス基板取出治具100の他の変形例としてのガラス基板取出治具100Bについて説明する。なお、図11は、ガラス基板取出治具100Bの保持部の外観構造を示す部分拡大斜視図、図12は、ガラス基板取出治具100Bの保持部の外観構造を示す部分拡大断面図、図13は、ガラス基板取出治具100Bの保持部の外観構造を示す拡大斜視図である。
(Other modifications: glass substrate extraction jig 100B)
Next, with reference to FIG. 11 to FIG. 13, a glass substrate extraction jig 100B as another modification of the glass substrate extraction jig 100 will be described. 11 is a partially enlarged perspective view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate extraction jig 100B. FIG. 12 is a partial enlarged cross-sectional view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate extraction jig 100B. These are expansion perspective views which show the external appearance structure of the holding | maintenance part of the glass substrate extraction jig | tool 100B.

上記ガラス基板取出治具100は、第1拡径部132の第1保持面132aは円錐面を有していたが、ガラス基板取出治具100Bにおいて、第1保持部130Bの第1保持面132bは、下方に向けて湾曲する凹面を有している。また、第2保持部140Bの第2保持面142bも、下方に向けて湾曲する凹面を有している。その他形態は、上記ガラス基板取出治具100と同じである。   In the glass substrate unloading jig 100, the first holding surface 132a of the first enlarged diameter portion 132 has a conical surface. However, in the glass substrate unloading jig 100B, the first holding surface 132b of the first holding portion 130B. Has a concave surface that curves downward. In addition, the second holding surface 142b of the second holding unit 140B also has a concave surface that curves downward. Other forms are the same as those of the glass substrate extraction jig 100.

この形状を有するガラス基板取出治具100Bにおいても、図13に示すように、第1保持面132bおよび第2保持面142bに、ガラス基板1Gの裏主表面15側と孔11の内周端面13とが交差する環状角部P1を、線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具100Bによっても、ガラス基板取出治具100と同様の作用効果を得ることができる。   Also in the glass substrate take-out jig 100B having this shape, as shown in FIG. 13, the first holding surface 132b and the second holding surface 142b are provided on the back main surface 15 side of the glass substrate 1G and the inner peripheral end surface 13 of the hole 11. Can be placed in a state of line contact (point contact when viewed in a cross section). As a result, the same effect as the glass substrate extraction jig 100 can be obtained by the glass substrate extraction jig 100B.

なお、このガラス基板取出治具100Bを図10に示したガラス基板取出治具100Aと同様の外観形態に変形することも可能である。   In addition, it is also possible to deform | transform this glass substrate extraction jig | tool 100B into the external appearance form similar to 100A of glass substrate extraction jig | tool shown in FIG.

(さらに他の変形例:ガラス基板取出治具100C)
次に、図14を参照して、上記ガラス基板取出治具100のさらに他の変形例としてのガラス基板取出治具100Cについて説明する。なお、図14は、ガラス基板取出治具100Cの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
(Still another modified example: glass substrate taking out jig 100C)
Next, with reference to FIG. 14, a glass substrate extraction jig 100C as still another modified example of the glass substrate extraction jig 100 will be described. FIG. 14 is an enlarged cross-sectional view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate extraction jig 100C.

このガラス基板取出治具100Cは、第1保持部130Cにおいて、第1保持面132aを有する第1拡径部132の上側に対向する領域に、第1保持面132aに対向する第3保持面133aを有する第3拡径部133が設けられている。第3保持面133aは、第2保持部140Cとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。   The glass substrate take-out jig 100C includes a third holding surface 133a facing the first holding surface 132a in a region facing the upper side of the first enlarged diameter portion 132 having the first holding surface 132a in the first holding portion 130C. The 3rd enlarged diameter part 133 which has is provided. The third holding surface 133a is inclined upwardly toward the outer side opposite to the second holding portion 140C.

同様に、第2保持部140Cにおいて、第2保持面142aを有する第2拡径部142の上側に対向する領域に、第2保持面142aに対向する第4保持面143aを有する第4拡径部143が設けられている。第4保持面143aは、第1保持部130Cとは反対側の外側に向かうにしたがって上方に傾斜している。   Similarly, in the second holding portion 140C, a fourth diameter expansion having a fourth holding surface 143a facing the second holding surface 142a in a region facing the upper side of the second diameter expanding portion 142 having the second holding surface 142a. A portion 143 is provided. The fourth holding surface 143a is inclined upward toward the outer side opposite to the first holding portion 130C.

この構成を備えるガラス基板取出治具100Cにおいて、第1保持面132aおよび第2保持面142aの機能は、上記ガラス基板取出治具100と同じである。ここで、第1保持面132aおよび第2保持面142aのガラス基板1Gを載置した場合に、第1保持面132aおよび第2保持面142aの斜面に沿って、ガラス基板1Gが上方に摺り動くことが考えられる。   In the glass substrate extraction jig 100 </ b> C having this configuration, the functions of the first holding surface 132 a and the second holding surface 142 a are the same as those of the glass substrate extraction jig 100. Here, when the glass substrate 1G of the first holding surface 132a and the second holding surface 142a is placed, the glass substrate 1G slides upward along the slopes of the first holding surface 132a and the second holding surface 142a. It is possible.

この場合に、このガラス基板取出治具100Cによれば、第3保持面133aおよび第4保持面143aが設けられていることから、第3保持面133aおよび第4保持面143aに、ガラス基板1Gの内周端面13とチャンファ面13aとが交差する環状角部P2を、線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で当接させることができる。   In this case, according to the glass substrate take-out jig 100C, the third holding surface 133a and the fourth holding surface 143a are provided. Therefore, the glass substrate 1G is provided on the third holding surface 133a and the fourth holding surface 143a. The annular corner P2 where the inner peripheral end surface 13 and the chamfer surface 13a intersect can be brought into contact with each other in a line contact state (point contact when viewed in a cross section).

この形状を有するガラス基板取出治具100Cにおいても、図14に示すように、ガラス基板取出治具100の場合と同様に、第1保持面132aおよび第2保持面142aに、ガラス基板1Gの裏主表面15側と孔11の内周端面13とが交差する環状角部P1を、線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で載置することができる。その結果、このガラス基板取出治具100Cによっても、ガラス基板取出治具100と同様の作用効果を得ることができる。   Also in the glass substrate extraction jig 100C having this shape, as shown in FIG. 14, the back of the glass substrate 1G is placed on the first holding surface 132a and the second holding surface 142a as in the case of the glass substrate extraction jig 100. The annular corner P1 where the main surface 15 side and the inner peripheral end face 13 of the hole 11 intersect can be placed in a line contact state (point contact when viewed in a cross section). As a result, the same effect as the glass substrate extraction jig 100 can be obtained by the glass substrate extraction jig 100C.

さらに、第3保持面133aおよび第4保持面143aに、ガラス基板1Gの内周端面13とチャンファ面13aとが交差する環状角部P2を、線接触(断面で見た場合には点接触)した状態で当接させることができるため、ガラス基板取出治具100Cによるガラス基板1Gの保持時に、ガラス基板1Gの移動を抑制することができる。   Further, an annular corner P2 where the inner peripheral end surface 13 of the glass substrate 1G and the chamfer surface 13a intersect with the third holding surface 133a and the fourth holding surface 143a is in line contact (point contact when viewed in cross section). Therefore, the movement of the glass substrate 1G can be suppressed when the glass substrate 1G is held by the glass substrate extraction jig 100C.

なお、ガラス基板取出治具100Cにおいても、ガラス基板取出治具100Bおよびガラス基板取出治具100Cと同様の変形を適用することが可能である。   It should be noted that the glass substrate extraction jig 100C can be modified in the same manner as the glass substrate extraction jig 100B and the glass substrate extraction jig 100C.

(さらに他の変形例:ガラス基板取出治具100D)
次に、図15を参照して、上記ガラス基板取出治具100のさらに他の変形例としてのガラス基板取出治具100Dについて説明する。なお、図15は、ガラス基板取出治具100Dの保持部の外観構造を示す拡大断面図である。
(Still another modification: glass substrate take-out jig 100D)
Next, with reference to FIG. 15, a glass substrate extraction jig 100D as still another modification of the glass substrate extraction jig 100 will be described. FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view showing the external structure of the holding portion of the glass substrate extraction jig 100D.

このガラス基板取出治具100Dは、上記ガラス基板取出治具100Cの構成と対比した場合、第1保持部130Dにおいて、第1保持面132aと第3保持面133aとが直接交差し、断面視において略V字形状の保持面を形成している。同様に、第2保持部140Dにおいて、第2保持面142aと第4保持面143aとが直接交差し、断面視において略V字形状の保持面を形成している。   When the glass substrate extraction jig 100D is compared with the configuration of the glass substrate extraction jig 100C, the first holding surface 132a and the third holding surface 133a are directly intersected with each other in the first holding portion 130D. A substantially V-shaped holding surface is formed. Similarly, in the second holding portion 140D, the second holding surface 142a and the fourth holding surface 143a directly intersect to form a substantially V-shaped holding surface in a cross-sectional view.

この構成を備えるガラス基板取出治具100Dによれば、上記ガラス基板取出治具100Cと同様の作用効果を得ることができる。また、ガラス基板取出治具100Dにおいても、ガラス基板取出治具100Bおよびガラス基板取出治具100Cと同様の変形を適用することが可能である。   According to the glass substrate extraction jig 100 </ b> D having this configuration, the same effects as those of the glass substrate extraction jig 100 </ b> C can be obtained. Also, the glass substrate extraction jig 100D can be modified in the same manner as the glass substrate extraction jig 100B and the glass substrate extraction jig 100C.

(実施の形態2:ガラス基板取出治具100E)
次に、図16および図17を参照して、実施の形態2におけるガラス基板取出治具100Eについて説明する。なお、上記実施の形態1におけるガラス基板取出治具100から100Dとは、第1保持部130Eおよび第2保持部140Eの構造のみが相違し、他の構成は同じであるため、ここでは、第1保持部130Eおよび第2保持部140Eの構造について詳細に説明する。図16は、ガラス基板取出治具100Eの保持部の外観構造を示す拡大斜視図、図17は、ガラス基板取出治具100Eの保持部におけるガラス基板の保持状態を示す平面模式図である。
(Embodiment 2: Glass substrate extraction jig 100E)
Next, with reference to FIG. 16 and FIG. 17, the glass substrate extraction jig | tool 100E in Embodiment 2 is demonstrated. Note that the glass substrate extraction jigs 100 to 100D in the first embodiment are different from each other only in the structure of the first holding unit 130E and the second holding unit 140E, and the other configurations are the same. The structures of the first holding unit 130E and the second holding unit 140E will be described in detail. FIG. 16 is an enlarged perspective view showing the external structure of the holding part of the glass substrate extraction jig 100E, and FIG. 17 is a schematic plan view showing the holding state of the glass substrate in the holding part of the glass substrate extraction jig 100E.

図16を参照して、このガラス基板取出治具100Eは、図10に示したガラス基板取出治具100Aと近似する構造を有しているが、第1保持部130Eの第1ベース部131e外面、および第1拡径部132eの第1保持面132fが、平坦面形状を有している。同様に、第2保持部140Eの第2ベース部141e外面、および第2拡径部142eの第2保持面142fも平坦面形状を有している。   Referring to FIG. 16, this glass substrate take-out jig 100E has a structure similar to that of glass substrate take-out jig 100A shown in FIG. 10, but the outer surface of first base portion 131e of first holding portion 130E. And the 1st holding surface 132f of the 1st enlarged diameter part 132e has a flat surface shape. Similarly, the outer surface of the second base portion 141e of the second holding portion 140E and the second holding surface 142f of the second enlarged diameter portion 142e also have a flat surface shape.

その結果、図17に示すように、このガラス基板取出治具100Eを用いてガラス基板1Gを保持した場合には、第1保持面132fおよび第2保持面142fと、環状角部P1との接触箇所は、それぞれ2箇所の点接触状態で、第1保持面132fおよび第2保持面142fによりガラス基板1Gを保持することとなる。   As a result, as shown in FIG. 17, when the glass substrate 1G is held using the glass substrate take-out jig 100E, the first holding surface 132f and the second holding surface 142f are in contact with the annular corner portion P1. The locations hold the glass substrate 1G by the first holding surface 132f and the second holding surface 142f in two point contact states, respectively.

これにより、第1保持面132aおよび第2保持面142aとガラス基板1Gとの間の接触面積をさらに低減させた状態で、ガラス基板1Gの上方へ引き上げが可能になる。その結果、研磨後のスラリー等が孔11の内周端面13に押し付けられて内周端面13に強固に付着することをさらに抑制することが可能となる。   Thereby, it is possible to pull the glass substrate 1G upward while further reducing the contact area between the first holding surface 132a and the second holding surface 142a and the glass substrate 1G. As a result, it is possible to further suppress the polishing slurry and the like from being pressed against the inner peripheral end surface 13 of the hole 11 and firmly attached to the inner peripheral end surface 13.

なお、上記ガラス基板取出治具100Eは、保持部を、第1保持部130Eと第2保持部140Eとに2分する2分割構造を採用した場合について説明したが、2分割構造に限定されず、3分割、4分割、またはそれ以上の分割構造を採用することも可能である。   In addition, although the said glass substrate extraction jig | tool 100E demonstrated the case where the 2 division | segmentation structure which divides a holding part into the 1st holding | maintenance part 130E and the 2nd holding | maintenance part 140E was employ | adopted, it is not limited to a 2 division | segmentation structure It is also possible to adopt a division structure of three divisions, four divisions, or more.

また、上述したガラス基板取出治具100B、100C、100Dに適用した変形例をこのガラス基板取出治具100Eに適用することも可能である。   Moreover, it is also possible to apply to this glass substrate extraction jig | tool 100E the modification applied to the glass substrate extraction jig | tool 100B, 100C, 100D mentioned above.

(実施の形態3:ガラス基板取出治具100F)
次に、図18から図20を参照して、実施の形態3におけるガラス基板取出治具100Fについて説明する。なお、本実施の形態におけるガラス基板取出治具100Fは、第1保持部および第2保持部に、ガラス基板1Gの半径方向外方に向けて洗浄液を噴出することができる構成を採用したものであり、ガラス基板取出治具自体の構成は、上記ガラス基板取出治具100、100A〜100Eと同じである。
(Embodiment 3: Glass substrate extraction jig 100F)
Next, with reference to FIG. 18 to FIG. 20, a glass substrate extraction jig 100F in the third embodiment will be described. In addition, glass substrate extraction jig 100F in the present embodiment employs a configuration in which a cleaning liquid can be ejected outward in the radial direction of glass substrate 1G to the first holding unit and the second holding unit. The configuration of the glass substrate extraction jig itself is the same as that of the glass substrate extraction jig 100, 100A to 100E.

ここでは図15に示した、ガラス基板取出治具100Dに、洗浄液を噴出することができる構成を適用した場合について以下説明するが、上述した他のすべてのガラス基板取出治具100、100A、100B、100C、100Eに、以下に説明する洗浄液を噴出することができる構成を適用することが可能である。   Here, the case where the configuration capable of ejecting the cleaning liquid is applied to the glass substrate extraction jig 100D shown in FIG. 15 will be described below. However, all the other glass substrate extraction jigs 100, 100A, 100B described above are used. , 100C, 100E can be applied with a configuration capable of ejecting the cleaning liquid described below.

図18は、ガラス基板取出治具100Fの構造を示す断面図、図19は、ガラス基板取出治具100Fを用いたガラス基板1Gの内周端面の洗浄状態を示す断面図、図20は、ガラス基板取出治具100Fを用いたガラス基板の保持状態を示す断面図である。   18 is a cross-sectional view showing the structure of the glass substrate take-out jig 100F, FIG. 19 is a cross-sectional view showing the cleaning state of the inner peripheral end surface of the glass substrate 1G using the glass substrate take-out jig 100F, and FIG. It is sectional drawing which shows the holding | maintenance state of the glass substrate using the board | substrate extraction jig | tool 100F.

図18を参照して、このガラス基板取出治具100Fの基本構造は、図15に示すガラス基板取出治具100Dと同じであり、さらに、洗浄液噴出機構200が付加されている。この洗浄液噴出機構200は、第1柄部110の内部に配置される第1管路210と、第1保持部130Dの内部において、一端が第1管路210に連結し、他端が第1保持面132aおよび第3保持面133aに露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路220とを有している。   Referring to FIG. 18, the basic structure of glass substrate extraction jig 100F is the same as glass substrate extraction jig 100D shown in FIG. 15, and a cleaning liquid ejection mechanism 200 is further added. In the cleaning liquid ejection mechanism 200, one end is connected to the first conduit 210 and the other end is the first in the first conduit 210 disposed inside the first handle 110 and the first holding portion 130D. It has a plurality of jet lines 220 that are exposed to the holding surface 132a and the third holding surface 133a and that constitute a cleaning liquid jet port.

同様に、第2柄部120の内部に配置される第1管路210と、第2保持部140Dの内部において、一端が第1管路210に連結し、他端が第2保持面142aおよび第4保持面143aに露出し、洗浄液噴出口を構成する複数の噴出管路220とを有している。   Similarly, in the 1st pipe line 210 arrange | positioned inside the 2nd handle | pattern part 120, and the inside of 2nd holding | maintenance part 140D, one end is connected with the 1st pipe line 210, and the other end is 2nd holding surface 142a and It has a plurality of ejection pipes 220 that are exposed to the fourth holding surface 143a and constitute a cleaning liquid ejection port.

本実施の形態においては、噴出管路220は、第1保持部130Dおよび第2保持部140Dの内部において、ガラス基板1Gの内周端面に洗浄液が集中するように、噴出管路220には、それぞれ所定の角度傾斜するように設けられている。   In the present embodiment, the ejection pipe line 220 is arranged in the ejection pipe line 220 so that the cleaning liquid is concentrated on the inner peripheral end surface of the glass substrate 1G in the first holding part 130D and the second holding part 140D. Each is provided so as to be inclined at a predetermined angle.

第1管路210の他端側には、第1管路210および噴出管路220に洗浄液を供給するための洗浄液供給装置230が連結されている。   A cleaning liquid supply device 230 for supplying a cleaning liquid to the first pipe line 210 and the ejection pipe line 220 is connected to the other end side of the first pipe line 210.

次に、図19および図20を参照して、上記構成を有するガラス基板取出治具100Fを用いたガラス基板取出工程(S184:図5参照)について説明する。   Next, with reference to FIG. 19 and FIG. 20, the glass substrate extraction process (S184: refer FIG. 5) using the glass substrate extraction jig | tool 100F which has the said structure is demonstrated.

図19を参照して、ガラス基板取出治具100Fを閉じた状態にして、ガラス基板1Gの孔11に表主表面14側から裏主表面15側に向けてガラス基板取出治具100Eを挿通する。次に、洗浄液供給装置230を駆動させて、第1管路210および噴出管路220に洗浄液を供給する。洗浄液としては、たとえば、研磨工程S183(図5参照)で用いたコロイダルシリカ研磨材を分散するポリカルボン酸を2%に希釈したものをガラス基板1Gの内周端面13に5秒間程度噴射する。   Referring to FIG. 19, glass substrate extraction jig 100F is closed, and glass substrate extraction jig 100E is inserted into hole 11 of glass substrate 1G from the front main surface 14 side to the back main surface 15 side. . Next, the cleaning liquid supply device 230 is driven to supply the cleaning liquid to the first pipe line 210 and the ejection pipe line 220. As the cleaning liquid, for example, a solution obtained by diluting the polycarboxylic acid for dispersing the colloidal silica abrasive used in the polishing step S183 (see FIG. 5) to 2% is sprayed on the inner peripheral end face 13 of the glass substrate 1G for about 5 seconds.

図20を参照して、ガラス基板取出治具100Eをガラス基板1Gの半径方向の外側に開いた状態にする。   Referring to FIG. 20, glass substrate extraction jig 100E is opened to the outside in the radial direction of glass substrate 1G.

これにより、ガラス基板取出工程(S184)において、ガラス基板1Gの内周端面13の洗浄を行なった後に、図15に示したガラス基板取出治具100Dと同様にして、ガラス基板1Gの取り出し(図20中の矢印D方向)を行なうことができる。   Thereby, in the glass substrate extraction step (S184), after the inner peripheral end face 13 of the glass substrate 1G is cleaned, the glass substrate 1G is extracted in the same manner as the glass substrate extraction jig 100D shown in FIG. 20 in the direction of arrow D).

(実施の形態4:ガラス基板取出治具100G)
次に、図21を参照して、実施の形態4におけるガラス基板取出治具100Gについて説明する。なお、図21は、ガラス基板取出治具100Gの構造を示す断面図である。ガラス基板取出治具100Gの基本構成は、上記ガラス基板取出治具100Fと同じである。相違点は、洗浄液噴出機構200に、超音波印加装置240が付加されている。
(Embodiment 4: Glass substrate extraction jig 100G)
Next, with reference to FIG. 21, the glass substrate extraction jig | tool 100G in Embodiment 4 is demonstrated. FIG. 21 is a cross-sectional view showing the structure of the glass substrate extraction jig 100G. The basic configuration of the glass substrate extraction jig 100G is the same as that of the glass substrate extraction jig 100F. The difference is that an ultrasonic application device 240 is added to the cleaning liquid ejection mechanism 200.

洗浄液供給装置230を駆動させて、第1管路210および噴出管路220に洗浄液を供給する際に、超音波印加装置240を用いて、洗浄液に1MHzの超音波を印加する。これにより、上記ガラス基板取出治具100Fを用いたガラス基板1Gの内周端面13の洗浄効率を高めることが可能になる。   When the cleaning liquid supply device 230 is driven to supply the cleaning liquid to the first pipe line 210 and the ejection pipe line 220, an ultrasonic wave of 1 MHz is applied to the cleaning liquid using the ultrasonic wave application device 240. Thereby, it becomes possible to improve the cleaning efficiency of the inner peripheral end face 13 of the glass substrate 1G using the glass substrate extraction jig 100F.

(品質評価)
上記実施の形態1に開示したガラス基板取出治具100、実施の形態2に開示したガラス基板取出治具100E、実施の形態3に開示した100F、および実施の形態4に開示したガラス基板取出治具100Gを用いて製造されたガラス基板1Gに対して、面記録密度が630Gb/平方インチ以上の磁性膜を成膜して情報記録媒体(メディア)でのリード・アンド・ライト試験(エラー発生率(n=100))を行なった。試験結果の評価を図22に示す。
(quality evaluation)
The glass substrate extraction jig 100 disclosed in the first embodiment, the glass substrate extraction jig 100E disclosed in the second embodiment, 100F disclosed in the third embodiment, and the glass substrate extraction jig disclosed in the fourth embodiment. A read and write test on an information recording medium (medium) by forming a magnetic film having a surface recording density of 630 Gb / in 2 or more on a glass substrate 1G manufactured using the tool 100G (error occurrence rate) (N = 100)). Evaluation of the test results is shown in FIG.

実施の形態1により製造されたガラス基板1Gを用いた情報記録媒体(メディア)での試験結果は、エラーの発生率は1%であり、評価は、使用可能なレベルである「B」であった。   The test result on the information recording medium (medium) using the glass substrate 1G manufactured according to the first embodiment has an error rate of 1%, and the evaluation is “B”, which is a usable level. It was.

実施の形態2により製造されたガラス基板1Gを用いた情報記録媒体(メディア)での試験結果は、エラーの発生率は0.7%であり、評価は、使用可能なレベルである「B」であった。   The test result with the information recording medium (medium) using the glass substrate 1G manufactured according to the second embodiment shows that the error rate is 0.7%, and the evaluation is “B”, which is a usable level. Met.

実施の形態3により製造されたガラス基板1Gを用いた情報記録媒体(メディア)での試験結果は、エラーの発生率は0.5%であり、評価は、十分使用可能なレベルである「A」であった。   The test result with the information recording medium (medium) using the glass substrate 1G manufactured according to the third embodiment shows that the error occurrence rate is 0.5%, and the evaluation is a sufficiently usable level “A "Met.

実施の形態4により製造されたガラス基板1Gを用いた情報記録媒体(メディア)での試験結果は、エラーの発生率は0.1%であり、評価は、十分使用可能なレベルである「A」であった。   The test result on the information recording medium (medium) using the glass substrate 1G manufactured according to the fourth embodiment shows that the error occurrence rate is 0.1%, and the evaluation is a sufficiently usable level “A "Met.

なお、比較例では、ガラス基板1Gの内周端面13に治具を面接触させ、摩擦力に基づき、ガラス基板1Gを取出したガラス基板1Gを用いた。その結果、このガラス基板1Gを用いた情報記録媒体(メディア)での試験結果は、エラーの発生率は2%と高く、評価は、実用途には適さないレベルである「C」であった。   In the comparative example, the glass substrate 1G was used in which a jig was brought into surface contact with the inner peripheral end surface 13 of the glass substrate 1G and the glass substrate 1G was taken out based on the frictional force. As a result, the test result on the information recording medium (medium) using the glass substrate 1G has a high error occurrence rate of 2%, and the evaluation is “C” which is a level not suitable for actual use. .

以上、各実施の形態における評価結果は、比較例に対して良好な結果となった。これは、比較例は、ガラス基板1Gの内周端面13にガラス基板取出治具を面接触させて摩擦力でガラス基板1Gを保持するが、その際に面接触部の付着物がより強固な形態へと変化したため、評価結果が「C」となっている。   As mentioned above, the evaluation result in each embodiment was a favorable result with respect to the comparative example. In the comparative example, the glass substrate take-out jig is brought into surface contact with the inner peripheral end surface 13 of the glass substrate 1G and the glass substrate 1G is held by a frictional force. Since it changed into a form, the evaluation result is “C”.

一方、各実施の形態におけるガラス基板取出治具は、ガラス基板1Gの内周端面13にガラス基板取出治具を面接触させることなく、線接触または点接触により、ガラス基板を下方から保持するようにして、ガラス基板の取り出しを行なっている。これにより、内周端面への付着物が孔11の内周端面13に押し付けられることがなくなり、内周端面13への付着物の付着を抑制することをとしている。なお、実施の形態1(線接触)に比べて、実施の形態2(点接触)の方は、内周端面13への接触部分がすくなくなるため、その分、品質評価も向上している。   On the other hand, the glass substrate take-out jig in each embodiment holds the glass substrate from below by line contact or point contact without bringing the glass substrate take-out jig into surface contact with the inner peripheral end surface 13 of the glass substrate 1G. Thus, the glass substrate is taken out. As a result, the deposit on the inner peripheral end surface is not pressed against the inner peripheral end surface 13 of the hole 11, and the adhesion of the deposit on the inner peripheral end surface 13 is suppressed. In addition, compared with the first embodiment (line contact), the second embodiment (point contact) has fewer contact portions with the inner peripheral end face 13, and the quality evaluation is improved accordingly.

また、実施の形態2(点接触)に比べて、実施の形態3(点接触+洗浄)の方は、内周端面13への接触部分が少なくなるとともに、洗浄を行なっていることから、品質評価もさらに向上している。さらに、実施の形態3(点接触+洗浄)に比べて、実施の形態4(点接触+超音波洗浄)の方は、内周端面13への接触部分が少なくなるとともに、超音波洗浄を行なっていることから、品質評価もより向上している。   Compared to the second embodiment (point contact), the third embodiment (point contact + cleaning) has fewer contact parts with the inner peripheral end face 13 and is cleaned, so the quality is improved. Evaluation has also improved. Furthermore, compared with the third embodiment (point contact + cleaning), the fourth embodiment (point contact + ultrasonic cleaning) reduces the number of contact portions with the inner peripheral end face 13 and performs ultrasonic cleaning. As a result, the quality evaluation has also improved.

なお、上記実施の形態においては、両面研磨装置を用いた場合について説明しているが、両面研磨装置に限定されるもものではない。   In the above embodiment, the case where the double-side polishing apparatus is used has been described. However, the present invention is not limited to the double-side polishing apparatus.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

1 磁気ディスク、1G ガラス基板、11 孔、12 外周端面、13 内周端面、13a,13b チャンファ面、14 表主表面、15 裏主表面、23 磁気薄膜層、100,100A,100B,100C,100D,100E,100F,100G ガラス基板取出治具、110 第1柄部、120 第2柄部、130,130A,130B,130C,130D,130E 第1保持部、131 第1ベース部、131a,141a 外表面、131e 第1ベース部、132 第1拡径部、132a,132b,132f 第1保持面、132e 第1拡径部、133 第3拡径部、133a 第3保持面、140,140A,140B,140C,140D,140E 第2保持部、141,141e 第2ベース部、142 第2拡径部、142a,142f 第2保持面、142e 第2拡径部、143 第4拡径部、143a 第4保持面、150,160 グリップ部、200 洗浄液噴出機構、210 第1管路、220 噴出管路、230 洗浄液供給装置、240 超音波印加装置、300 上定盤(上側砥石保持定盤)、310 上側研磨パッド、311 研磨面、400 下定盤(下側砥石保持定盤)、410 下側研磨パッド、411 研磨面、500 キャリア、2000 両面研磨装置、R1 連結軸、P1,P2 環状角部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magnetic disk, 1G glass substrate, 11 hole, 12 Outer peripheral end surface, 13 Inner peripheral end surface, 13a, 13b Chamfer surface, 14 Front main surface, 15 Back main surface, 23 Magnetic thin film layer, 100, 100A, 100B, 100C, 100D , 100E, 100F, 100G Glass substrate extraction jig, 110 1st handle, 120 2nd handle, 130, 130A, 130B, 130C, 130D, 130E 1st holding part, 131 1st base part, 131a, 141a outside Surface, 131e 1st base part, 132 1st enlarged diameter part, 132a, 132b, 132f 1st holding surface, 132e 1st enlarged diameter part, 133 3rd enlarged diameter part, 133a 3rd holding surface, 140, 140A, 140B , 140C, 140D, 140E second holding portion, 141, 141e second base portion, 142 second diameter expanding portion 142a, 142f 2nd holding surface, 142e 2nd enlarged diameter part, 143 4th enlarged diameter part, 143a 4th holding surface, 150,160 grip part, 200 washing | cleaning liquid ejection mechanism, 210 1st pipe line, 220 ejection pipe line, 230 cleaning liquid supply device, 240 ultrasonic application device, 300 upper surface plate (upper grinding wheel holding surface plate), 310 upper polishing pad, 311 polishing surface, 400 lower surface plate (lower grinding wheel holding surface plate), 410 lower polishing pad, 411 polishing surface, 500 carrier, 2000 double-side polishing apparatus, R1 connecting shaft, P1, P2 annular corners.

Claims (5)

中心に孔を有するガラス基板の表面を、研磨パッドを用いて研磨する研磨装置を用いる研磨工程を備える、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
前記ガラス基板を前記研磨パッド上に配置する工程と、
前記研磨装置により、前記ガラス基板の表面を研磨する工程と、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程と、を備え、
前記ガラス基板取出治具は、
連結軸を中心として回動可能に連結され、閉じる位置と拡がる位置との間を開閉可能に可動する第1柄部および第2柄部と、
前記第1柄部の一方の先端側に設けられ、外側に向けて張り出す第1拡径部を有する第1保持部と、
前記第2柄部の一方の先端側に設けられ、前記第1拡径部とは反対方向の外側に向けて張り出す第2拡径部を有する第2保持部と、を有し、
前記第1拡径部の上面には、前記第1柄部と前記第2柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第1保持面を有し、
前記第2拡径部の上面には、前記第1柄部と前記第2柄部とが閉じた状態において、外側に向かうにしたがって下方に傾斜する第2保持面を有し、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、前記ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記ガラス基板取出治具を閉じた状態にして、前記ガラス基板の前記孔に表面側から裏面側に向けて挿通した後、前記ガラス基板取出治具を前記ガラス基板の半径方向の外側に開いた状態にすることで、前記第1保持面および前記第2保持面に、前記ガラス基板の前記裏面側と前記孔の内周端面とが交差する環状角部が載置された状態にして、前記ガラス基板を前記ガラス基板取出治具を用いて上方に引き上げる工程を含む、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
A method for producing a glass substrate for an information recording medium, comprising a polishing step using a polishing apparatus that polishes the surface of a glass substrate having a hole in the center using a polishing pad,
The polishing step includes
Placing the glass substrate on the polishing pad;
Polishing the surface of the glass substrate by the polishing apparatus;
The step of taking out the glass substrate after polishing from the polishing pad using a glass substrate take-out jig,
The glass substrate take-out jig is
A first handle portion and a second handle portion that are pivotally connected about a connecting shaft and movable between a closing position and an expanding position so as to be openable and closable;
A first holding portion provided on one tip side of the first handle portion and having a first diameter-expanded portion projecting outward;
A second holding part provided on one tip side of the second handle part and having a second enlarged diameter part projecting outward in the direction opposite to the first enlarged diameter part,
On the upper surface of the first enlarged diameter portion, in a state where the first handle portion and the second handle portion are closed, the first holding surface is inclined downward toward the outside,
On the upper surface of the second enlarged diameter portion, in a state where the first handle portion and the second handle portion are closed, it has a second holding surface that is inclined downward toward the outside,
In the step of taking out the glass substrate after polishing from the polishing pad using the glass substrate take-out jig,
After the glass substrate take-out jig was closed and inserted through the hole of the glass substrate from the front side to the back side, the glass substrate take-out jig was opened outward in the radial direction of the glass substrate. By making the state, an annular corner portion where the back surface side of the glass substrate and the inner peripheral end surface of the hole intersect is placed on the first holding surface and the second holding surface, The manufacturing method of the glass substrate for information recording media including the process of pulling up a glass substrate upwards using the said glass substrate extraction jig | tool.
前記環状角部と、前記第1保持面および前記第2保持面とは線接触により接している、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。   The method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium according to claim 1, wherein the annular corner portion is in contact with the first holding surface and the second holding surface by line contact. 前記環状角部と、前記第1保持面および前記第2保持面とは点接触により接している、請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。   The method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium according to claim 1, wherein the annular corner portion, the first holding surface, and the second holding surface are in contact with each other by point contact. 前記第1保持部および前記第2保持部には、前記ガラス基板の半径方向外方に向けて洗浄液を噴出する複数の洗浄液噴出口がさらに設けられ、
前記研磨パッドから研磨後の前記ガラス基板を、ガラス基板取出治具を用いて取り出す工程においては、
前記洗浄液噴出口から洗浄液を噴出して、前記孔の前記内周端面を洗浄する工程を有する、請求項1から3のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
The first holding part and the second holding part are further provided with a plurality of cleaning liquid jets for jetting a cleaning liquid toward the radially outer side of the glass substrate,
In the step of taking out the glass substrate after polishing from the polishing pad using a glass substrate take-out jig,
The manufacturing method of the glass substrate for information recording media in any one of Claim 1 to 3 which has the process of ejecting a washing | cleaning liquid from the said washing | cleaning-liquid ejection port, and wash | cleaning the said inner peripheral end surface of the said hole.
前記孔の前記内周端面を洗浄する工程は、前記洗浄液に超音波を印加して前記内周端面の洗浄を行なう、請求項4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。   5. The method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium according to claim 4, wherein the step of cleaning the inner peripheral end surface of the hole performs cleaning of the inner peripheral end surface by applying an ultrasonic wave to the cleaning liquid.
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