JP2014055972A - 観察装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】観察装置が、第1光源分布をもつ光を計測対象物表面に照射する照明装置と、計測対象物表面を撮像する撮像部と、を有する。計測点を通る第1平面上で考えたときに、第1光源分布は、(1)放射輝度L(θ)が角度θに応じて連続的若しくは段階的に変化し、かつ、(2)第1平面上で計測点から見て所定の角度θにある点を中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、L(θ−a)+L(θ<+a)=2×L(θ)が実質的に成り立つように、設定されている。
【選択図】図23
Description
ばらつき)に依存しない、反射光の観察を可能とする技術を提供することである。また本発明の他の目的は、反射率が未知の計測対象物であっても、計測対象物表面の光反射角度に関する情報を取得可能な技術を提供することである。
r,φr)として一般に以下で表すことができる。
ここで、Ωは半球面の立体角である。
ここで、(θis,φis)を内部に含む任意の領域(光源分布の範囲)Ω(θis,φis)において、(1)=(2)を満たすような光源分布Li(p,θ,φ)を用いれば、対象表面が完全鏡面でない物体に対しても、対象が完全鏡面であるかのような取り扱いが可能となる。
む平面上にある球を考えたときに、光源分布が経度に対して線形に変化するような光源分布を挙げることができる。また、光源分布が緯度に対して線形に変化するような光源分布であっても良い。また、発光領域が平面形状で、その平面上で線形に変化する光源分布であっても良い。
前記第1光源分布及び第2光源分布は、
(a)第1特定領域が前記第1平面上で発光中心の角度θCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第1特定領域においても、放射輝度L11(θ)、L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
L12(θC−a)+L12(θC+a)=2×L12(θC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L11(θC)/L12(θC)が第1特定領域ごとに異なる、ように設定されている。
前記第1光源分布及び第3光源分布は、
(a)第2特定領域が前記第2平面上で発光中心の角度φCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第2特定領域においても、放射輝度L21(φ)、L23(φ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L21(φC−a)+L21(φC+a)=2×L21(φC)
L23(φC−a)+L23(φC+a)=2×L23(φC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L21(φC)/L23(φC)が第2特定領域ごとに異なる、ように設定されていることが好ましい。
前記第1光源分布及び第2光源分布は、前記発光領域上の複数の点iに関して、
(1)放射輝度L11(θ)とL12(θ)のうちの少なくとも一方が角度θに応じて連続的若しくは段階的に増加又は減少し、
(2)点iの角度θiを中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L11(θ)、L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θi−a)+L11(θi+a)=2×L11(θi)
L12(θi−a)+L12(θi+a)=2×L12(θi)
が実質的に成り立ち、かつ、
(3)点iにおける放射輝度の比L11(θi)/L12(θi)が角度θiごとに異なる、ように設定されている。
の方向を第1平面内で一意に特定でき、その結果、計測対象物表面の光反射方向に関する情報を求めることができる。反射光の強度は計測対象物表面の反射特性(反射率)に依存する。しかし、上記のように反射光の強度の比をとることで反射率を消去できるため、反射特性が未知の計測対象物であっても光反射方向に関する情報を算出可能である。
前記第1光源分布及び第3光源分布は、前記発光領域上の複数の点jに関して、
(1)放射輝度L23(φ)が角度φに応じて連続的若しくは段階的に増加又は減少し、
(2)点jの角度φjを中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L21(φ)、L23(φ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L21(φj−a)+L21(φj+a)=2×L21(φj)
L23(φj−a)+L23(φj+a)=2×L23(φj)
が実質的に成り立ち、かつ、
(3)点jにおける放射輝度の比L21(φj)/L23(φj)が角度φjごとに異なる、
ように設定されているとよい。
前記第1光源分布は、
(a)第1特定領域が前記第1平面上で発光中心の角度θCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第1特定領域においても、放射輝度L11(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の値L11(θC)が第1特定領域ごとに異なる、
ように設定されている。
前記第2光源分布は、
(a)第1特定領域が前記第1平面上で発光中心の角度θCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第1特定領域においても、放射輝度L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L12(θC−a)+L12(θC+a)=2×L12(θC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L11(θC)/L12(θC)が第1特定領域ごとに異なる、ように設定されているとよい。
前記第1光源分布及び第3光源分布は、
(a)第2特定領域が前記第2平面上で発光中心の角度φCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第2特定領域においても、放射輝度L21(φ)、L23(φ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L21(φC−a)+L21(φC+a)=2×L21(φC)
L23(φC−a)+L23(φC+a)=2×L23(φC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L21(φC)/L23(φC)が第2特定領域ごとに異なる、ように設定されていることが好ましい。
、前記計測点を通る第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある前記発光領域上の点から前記計測点へ向かう方向の第1の光源分布での放射輝度をL11(θ)と表記する場合に、
前記第1光源分布は、
(1)放射輝度L11(θ)が角度θに応じて連続的若しくは段階的に変化し、かつ、
(2)前記第1平面上で前記計測点から見て所定の角度θCにある点を中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L11(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
が実質的に成り立つように、設定されている。
前記第2光源分布は、
前記局所領域において、放射輝度L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L12(θC−a)+L12(θC+a)=2×L12(θC)
が実質的に成り立つように、設定されているとよい。
本発明において、「第1平面」及び「第2平面」は、計測したい角度の方向に応じて任意に設定できるものであり、「第1平面」及び「第2平面」は計測対象物が配置されるステージに対して垂直な面でも、平行な面でもよい。
計測点へ向かう方向の放射輝度」は、発光要素から放射される光の一部(計測点上の微小領域に到達したもののみ)をさす。発光要素から放射される光が広がりをもつ場合は、その放射輝度が第1平面上において当該発光要素と計測点とを通る直線に関して線対称に分布していることが好ましい。
〈概要〉
第1の実施形態に係る表面形状計測装置(法線計測装置)は、鏡面物体の3次元計測を行う3次元計測装置の一部として用いられる。3次元計測(3角測量)は、図18に示すように、異なる撮像角度の複数のカメラで撮影した画像から、画素の対応関係を調べ、視差を算出することで距離を計測する技術である。通常は、対応する画素を調べる際に輝度値を特徴量として類似度を算出することで対応する画素を調べている。
計測対象物4の表面形状(法線)を算出する処理について、詳しく説明する。
まず、表面形状を計測するための装置の構成について説明する。表面形状計測のために、図1に示すように、ドーム形状の照明装置3から照射される光で計測対象物4を照らし、その反射光をカメラ1,2で撮影する。この撮影画像をコンピュータ6が画像処理することで、表面形状を計測する。照明装置3には、カメラ1,2が撮影できるように、2つ
の穴部3a,3bが設けられている。
。ここで、正反射方向からのずれ(角度)とスパイクに対するローブの光強度の比が反射特性を表す。反射特性が均一ではない物体では、各表面位置における表面粗さに応じて鏡面ローブの形状が異なる。鏡面ローブと鏡面スパイクの比は1に近くなり、両者の区別がつきにくくなる。
ば、対象表面が鏡面でない場合でも、対象が鏡面であるかのような取り扱いが可能となる。すなわち、計測対象の反射特性が変わっても常に正反射方向のスペクトル特徴を検出可能となる。(1)=(2)を満たす光源分布は、前記発光領域上の任意の点対称領域において、当該点対称領域の光源分布の重心の放射輝度が当該点対称領域中心の放射輝度と一致する光源分布であると表現することもできる。
近似解を用いることが実際的である。本実施形態において用いる、上記で説明したような経度方向に対して輝度が線形に変化するパターン(図5A)はそのような近似解の一つである。また、そのようなパターンを組み合わせた照明パターン(図4)も、近似解である。さらに、Liは球面調和関数展開により表すことができる。
で異なるスペクトル分布の光を発する照明装置3を利用することで、1枚の画像のみから計測対象物4の表面形状(法線)を計測することができる。このことを図11を参照して説明する。計測対象物4の表面のある位置における法線の向きが矢印Nの向きであり、天頂角がθ、方位角がφであるとする。このとき、鏡面反射では光源色が保存されることから、カメラ1によって撮影されるその位置の色は、照明装置3の領域Rで発光し計測対象物4へ入射する光の反射光となる。このように、表面の法線の向き(θ、φ)と、入射光の方向(照明装置3の発光領域における位置)は1対1に対応する。照明装置3は、異なる方向から入射される光は異なるスペクトル分布である(発光領域の全ての位置で異なるスペクトル分布の光を発している)ことから、撮影画像の色(スペクトル分布)を調べることで、その位置における法線の向きを天頂角および方位角の両方について、算出することができる。
次に、コンピュータ6における表面形状算出部7について説明しつつ、表面形状算出処理の詳細について説明する。図12は、表面形状算出部7のより詳細な機能ブロックを示す図である。図に示すように、表面形状算出部7は、画像入力部71、特徴量算出部72、法線−特徴量テーブル73、および法線算出部74を含む。
1.反射特性が不均一の物体の表面形状が計測可能
上述のように、本実施形態における表面形状計測装置は、反射特性が不均一な対象であっても、完全鏡面と同様のスペクトル特徴を有する画像を撮影可能である。したがって、反射特性が不均一な対象あるいは反射特性が均一であってもリファレンス物体の反射特性と異なる場合であっても、精度良くその表面形状(法線の向き)を算出可能である。
本実施形態における表面形状計測装置は、全ての入射角方向について異なるスペクトル分布の光が入射するような照明装置を利用していることから、1枚の画像だけから計測対象物体の法線の向きを、天頂角成分および方位角成分の両方について求めることができる。画像の撮影が1回だけであること、および、法線の向きの算出が法線と特徴量の対応関係を格納したテーブルを調べるだけで分かることから簡単に(高速に)計測対象物の表面形状を計測することが可能である。
拡散物体(均等拡散物体)を撮影する場合、その画像は様々な方向からの入射光が混じり合ったものとなる。本実施形態では、照明装置3の発光領域を、RGBの3つの成分の光を図4に示すように均等な方向(互いに120度の向き)に変化させ、かつ、その変化の度合いを同じにしている。したがって、図13に示すように、任意の天頂角についてその天頂角における全方位角方向からの1色あたりの光強度の総和は各色で同一となる。全天頂角について積分しても各色の光強度の総和は同一である。そのため、拡散物体から鉛直方向に位置するカメラ1に入射する光のRGBの成分光は全て同じ強度となり、その撮影画像は拡散物体に関しては白色の反射光が撮影されることになる。つまり、撮影対象が、鏡面物体(計測対象物体)と拡散物体の両方から構成される場合に、鏡面物体の表面形状を計測可能であるとともに、拡散物体についてはあたかも白色光が照射されたかのような撮影が可能である。これは、例えば、ハンダの接合検査を行う際に、ハンダ以外の対象については色無し画像で自然な検査が実施可能となる。
本実施形態における照明装置を用いると、完全鏡面や鏡面ローブを含む物体が混在する場合であっても、点光源下(平行光)で両者を観測する場合と比べて正反射光と鏡面ローブ光の輝度の差が小さくなる。したがって、あえてカメラのダイナミックレンジを広げる必要がなくなる。
上記の実施形態の説明では、RGBの3色の発光強度が120度ずつ異なる方向に対して角度とともに変化するパターンを重ね合わせた照明装置を利用しているが、発光パターンはこれに限られるものではない。たとえば、図14Aに示すように3色がそれぞれ下方向、右方向、左方向に変化するパターンのように、それぞれが異なる方向に対して変化するパターンを組み合わせたものを利用しても良い。また、3色全てを角度ともに変化させる必要はなく、図14Bに示すように1色については全面で均一の輝度で発光し、その他の2色については異なる方向に角度とともに変化するようなパターンを採用しても良い。
成していた。この法線−特徴量テーブルを参照して計測対象物のスペクトル分布の特徴量から法線の向きを求めていた。しかしながら、法線の向きとカメラで撮影されるスペクトル分布の関係が、幾何配置等から定式化できるのであれば、この算出式を用いて法線を算出しても良い。
第1の実施形態では、反射特性が変化しても撮影画像においては常に正反射方向のスペクトル特徴を検出可能な照明パターンの近似解として、図5Aに示すような経度方向の角度に対して発光強度が線形に変化するパターンを採用した。本実施形態では、図15に示すように緯度方向に対して発光強度が線形に変化するパターンを採用する。このような照明パターンも近似解の1つであり、拡散光の影響をほぼ相殺して正反射光を検出することが可能となる。
第3の実施形態に係る表面形状計測装置では、第1,2の実施形態とは異なる形状の照明装置を利用する。図16に示すように、本実施形態では平板形状の照明装置11を用いる。本実施形態においても、発光領域での各位置における発光のスペクトル分布が全ての位置で異なるようにする。具体的には、第1の実施形態と同様に、赤色光(R)、緑色光(G)および青色光(B)の3色の光成分の合成で発光を決める場合に、図17に示すように各色を異なる方向に対して変化させる。ここでは、Rの発光強度が右方向に行くほど大きくなり、Gの発光強度が左方向に行くほど大きくなり、Bの発光強度が上方向に行くほど大きくなる。発光強度の変化の割合は、位置(距離)に対して線形とする。
以下、本発明の基本アイデアを別の観点から補足的に説明するとともに、本発明のさらなる実施形態について説明する。
ここで、L(θ)は光源分布であり、角度θの光源から計測点Pの方向へ放射される放射輝度を表す。Rσ(θ)は計測対象物の反射特性分布であり、正反射角方向から角度θだけ離れた光源から放射された光のうち、鏡面ローブとして視線ベクトルvの方向に反射される輝度の割合を表す。Aは、θs−θσmax (s)≦θ≦θs+θσmax (s)の領域であり、σmaxは、想定される計測対象物のうち、最も鏡面ローブの広がりが大きいものに対応するパラメータである。
すように設定する(図22参照)。
L(θs−a)+L(θs+a)=2×L(θs) ・・・(4)
この条件は、光源分布L(θ)が点(θs,L(θs))に関して奇関数である、ということもできる。このような条件を満たすことにより、光源分布L(θ)は、領域Aの範囲で所定のオフセット値L(θs)をもち、正反射角θsよりも角度の小さい領域(θs−θσmax (s)≦θ<θs)から放射されるエネルギーと、正反射角θsよりも角度の大
きい領域(θs<θ≦θs+θσmax (s))から放射されるエネルギーとが、L(θs
)を基準として相殺される。換言すれば、正反射角θsよりも角度の小さい領域(θs−θσmax (s)≦θ<θs)から放射された光に由来する鏡面ローブの影響と、正反射角
θsよりも角度の大きい領域(θs<θ≦θs+θσmax (s))から放射された光に由
来する鏡面ローブの影響とが相殺される(これをローブキャンセル効果とよぶ)。よって、鏡面ローブの影響を無視することができ、計測対象物表面の反射光を完全鏡面の場合と同じように観察することができる。すなわち、以下の関係式が成り立つ。
ここで、kσは計測対象物の反射特性に依存する係数(反射率)である。
係数kσと法線ベクトルの向きnが既知の場合、式(5)より、カメラで観測された反射光の輝度から、計測対象物表面の法線ベクトルがnであるか否かを「鏡面ローブの広がり度合いに依存せずに」判定できる。
)よりも大きい値に設定する。照明装置3の断面形状は円弧に限らず、照明装置3の断面形状は直線や、円弧以外の曲線でもよい。照明装置3の光源分布L(θ)は式(4)の条件を満たすように設定される。図23において、照明装置3から計測点Pに向かう矢印は、発光領域内の各発光要素から計測点Pの方向へ向かう放射輝度L(θ)を模式的に示している。
kσが未知の場合には、2種類の光源分布を用いるとよい。例えば2種類の光源分布L1(θ)、L2(θ)を用意し、これらの光源から放射される光で計測対象物を照射し、カメラで撮像することで、以下のベクトルIσが算出できる。
法線ベクトルの向きnが複数又は未知の場合は、照明装置3に、式(5)又は(7)を満たす領域(これを特定領域とよぶ)を複数設けるとよい。図24は、3つの特定領域31〜33を設けた例を示している。各特定領域31〜33の大きさは、θ方向の広がりが互いに等しくなるように(つまり、点Pを中心とする単位半径の円に特定領域31〜33を投影したときに、弧の長さが互いに等しくなるように)設定される。また、各特定領域31〜33の発光中心θc1〜θc3の放射輝度L(θc1)〜L(θc3)は、互いに異なるように設定される。2種類以上の光源分布を用いる場合は、発光中心θc1〜θc3の放射輝度の比が特定領域ごとに異なるように設定すればよい。この構成によれば、カ
メラ1で観測された反射光の強度に基づいて、計測対象物表面の法線ベクトルの向きが、n1か、n2か、n3か、それ以外かを判別することができる。
式(5)又は(7)のように反射特性等をモデル化し、これらを満たすL(θ)を解析的に求める。式(4)や、L(θ)がθの一次式であることは、具体的な解の例である。
計測対象物の法線の自由度を2にすると、(A)による方法は解析が困難である。この場合は、シミュレーションにより光源のあらゆる組み合わせの中から式(5)や(7)における左辺と右辺の残差(例えば二乗誤差など)が最小となるL(θ)を算出する。計算効率化のため、L(θ)をモデル化して(例えば、θに関する二次や三次の多項式、あるいは球面調和関数)、それらのモデルパラメータを最小二乗法などにより算出してもよい。
実際に光源(LEDなど)を複数配置することで、照明装置を構築する。図24のようにカメラ1を固定し、計測対象物の向き(法線ベクトルn)を変えながら、反射光の輝度を観測する。そして、完全鏡面物体を観測した場合の輝度値との差が最小となるように、各光源の明るさを調整する。
Claims (10)
- 所定の計測点に配置された計測対象物表面での反射光を観察する観察装置であって、
第1光源分布をもつ光を前記計測対象物表面に照射する照明装置と、
前記照明装置で光を照射された前記計測対象物表面を撮像する撮像部と、を有し、
前記計測点を通る第1平面での断面において、前記照明装置は、各々が複数の発光要素を含む複数の第1特定領域を有しており、
前記複数の第1特定領域は、前記第1平面上で、前記計測点を中心とする単位半径の円上に投影したときの弧の長さが互いに等しく、
前記弧の中心に投影される第1特定領域上の点を当該第1特定領域の発光中心と定義したときに、前記複数の第1特定領域の発光中心の位置は互いに異なっており、
前記第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある発光要素から前記計測点へ向かう方向の前記第1光源分布での放射輝度をL11(θ)と表記する場合に、
前記第1光源分布は、
(a)第1特定領域が前記第1平面上で発光中心の角度θCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第1特定領域においても、放射輝度L11(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の値L11(θC)が第1特定領域ごとに異なる、
ように設定されている観察装置。 - 前記照明装置は、さらに第2光源分布をもつ光を照射可能であり、
前記第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある発光要素から前記計測点へ向かう方向の前記第2光源分布での放射輝度をL12(θ)と表記する場合に、
前記第2光源分布は、
(a)第1特定領域が前記第1平面上で発光中心の角度θCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第1特定領域においても、放射輝度L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L12(θC−a)+L12(θC+a)=2×L12(θC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L11(θC)/L12(θC)が第1特定領域ごとに異なる、
ように設定されている
請求項1に記載の観察装置。 - 各発光要素から放射される光の放射輝度は、前記第1平面上において、当該発光要素と前記計測点とを通る直線に関して線対称に分布している
請求項1に記載の観察装置。 - 前記照明装置は、さらに第3光源分布をもつ光を照射可能であり、
前記計測点を通り前記第1平面とは異なる第2平面での断面において、前記照明装置は、各々が複数の発光要素を含む複数の第2特定領域を有しており、
前記複数の第2特定領域は、前記第2平面上で、前記計測点を中心とする単位半径の円上に投影したときの弧の長さが互いに等しく、
前記弧の中心に投影される第2特定領域上の点を当該第2特定領域の発光中心と定義したときに、前記複数の第2特定領域の発光中心の位置は互いに異なっており、
前記第2平面上で、前記計測点から見て角度φにある発光要素から前記計測点へ向かう方向の前記第1光源分布及び第3光源分布での放射輝度をそれぞれL21(φ)、L23(φ)と表記する場合に、
前記第1光源分布及び第3光源分布は、
(a)第2特定領域が前記第2平面上で発光中心の角度φCを中心として±σの広がりをもつときに、いずれの第2特定領域においても、放射輝度L21(φ)、L23(φ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L21(φC−a)+L21(φC+a)=2×L21(φC)
L23(φC−a)+L23(φC+a)=2×L23(φC)
が実質的に成り立ち、かつ、
(b)発光中心の放射輝度の比L21(φC)/L23(φC)が第2特定領域ごとに異なる、
ように設定されている
請求項2に記載の観察装置。 - 前記照明装置は、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光の波長を異ならせて、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光で同時に前記計測対象物表面を照射し、
前記撮像部は、受光した反射光を波長ごとの光に分離することにより、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光のそれぞれの反射光の強度を検出する
請求項2に記載の観察装置。 - 前記照明装置は、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光と前記第3光源分布の光の波長を互いに異ならせて、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光と前記第3光源分布の光で同時に前記計測対象物表面を照射し、
前記撮像部は、受光した反射光を波長ごとの光に分離することにより、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光と前記第3光源分布の光のそれぞれの反射光の強度を検出する
請求項4に記載の観察装置。 - 所定の計測点に配置された計測対象物表面での反射光を観察する観察装置であって、
第1光源分布をもつ光を前記計測対象物表面に照射する照明装置と、
前記照明装置で光を照射された前記計測対象物表面を撮像する撮像部と、を有し、
前記照明装置は、所定の広さの発光領域を有しており、
前記計測点を通る第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある前記発光領域上の点から前記計測点へ向かう方向の第1の光源分布での放射輝度をL11(θ)と表記する場合に、
前記第1光源分布は、
(1)放射輝度L11(θ)が角度θに応じて連続的若しくは段階的に変化し、かつ、
(2)前記第1平面上で前記計測点から見て所定の角度θCにある点を中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L11(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
が実質的に成り立つように、
設定されている観察装置。 - 前記照明装置は、さらに第1光源分布とは異なる第2光源分布をもつ光を照射可能であり、
前記第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある前記発光領域上の点から前記計測点へ向かう方向の第2の光源分布での放射輝度をL12(θ)と表記する場合に、
前記第2光源分布は、
前記局所領域において、放射輝度L12(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L12(θC−a)+L12(θC+a)=2×L12(θC)
が実質的に成り立つように、
設定されている
請求項7に記載の観察装置。 - 前記照明装置は、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光の波長を異ならせて、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光で同時に前記計測対象物表面を照射し、
前記撮像部は、受光した反射光を波長ごとの光に分離することにより、前記第1光源分布の光と前記第2光源分布の光のそれぞれの反射光の強度を検出する
請求項8に記載の観察装置。 - 所定の計測点に配置された計測対象物表面での反射光を観察する方法であって、
照明装置から第1光源分布をもつ光を前記計測対象物表面に照射するステップと、
光を照射された前記計測対象物表面を撮像部で撮像するステップと、を有し、
前記照明装置は、所定の広さの発光領域を有しており、
前記計測点を通る第1平面上で、前記計測点から見て角度θにある前記発光領域上の点から前記計測点へ向かう方向の第1の光源分布での放射輝度をL11(θ)と表記する場合に、
前記第1光源分布は、
(1)放射輝度L11(θ)が角度θに応じて連続的若しくは段階的に変化し、かつ、
(2)前記第1平面上で前記計測点から見て所定の角度θCにある点を中心とする所定の±σの範囲の局所領域において、放射輝度L11(θ)が0ではなく、0<a≦σである任意のaについて、
L11(θC−a)+L11(θC+a)=2×L11(θC)
が実質的に成り立つように、
設定されている方法。
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