JP2014038053A - 温度変化検出装置 - Google Patents

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隆太 津田
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Abstract

【課題】簡単な回路構成で、しかも温度変化した箇所を特定すること。
【解決手段】温度によって抵抗値が変化する直列接続された複数の抵抗素子(サーミスタ31〜33)と、直列接続された複数の抵抗素子の各節点に接続され、抵抗素子とともに所定の時定数を形成する少なくとも1の時定数素子(コンデンサ41,42)と、複数の抵抗素子に対して基準信号を印加する基準信号源(基準信号発生部11)と、時定数の変化による基準信号の特性変化に基づいて温度変化した抵抗素子を特定する特定手段(制御部13)とを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は、温度変化検出装置に関するものである。
例えば、プリント基板や電池における複数箇所の温度を検出する方法としては、特許文献1,2に開示されている方法がある。
特許文献1には、正の温度係数を有する複数のサーミスタを直列接続して電池ケース内に分散配置し、抵抗値の変化から電池ケース内の温度を検出する技術が開示されている。
また、特許文献2には、複数のスイッチング用FETに対して、温度センサをそれぞれ配置して温度を検出し、スイッチング用FETの加熱による破損等を防止する技術が開示されている。
特開平05−74481号公報 特開2004−80890号公報
ところで、特許文献1に開示された技術では、複数のサーミスタのいずれが発熱しているかを検出することはできないため、発熱箇所の特定が困難であるという問題点がある。
また、特許文献2に開示された技術では、発熱箇所の特定は可能であるが、各温度センサにA/D変換部や判定部を設ける必要が生じるため、回路構成が複雑になるとともに、製造コストが高くつくという問題点がある。
本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであり、簡単な回路構成で、しかも温度変化した箇所を特定可能な温度変化検出装置を提供することを目的としている。
上記課題を解決するために、本発明は、温度によって抵抗値が変化する直列接続された複数の抵抗素子と、前記直列接続された複数の抵抗素子の各節点に接続され、前記抵抗素子とともに所定の時定数を形成する少なくとも1の時定数素子と、前記複数の抵抗素子に対して基準信号を印加する基準信号源と、前記時定数の変化による前記基準信号の特性変化に基づいて温度変化した前記抵抗素子を特定する特定手段と、を有することを特徴とする。
このような構成によれば、簡単な回路構成で、しかも温度変化した箇所を特定することが可能となる。
また、本発明の一側面は、前記時定数素子はコンデンサ素子であり、前記特定手段は、前記抵抗素子の温度変化によって前記コンデンサ素子と前記抵抗素子によって形成される前記時定数が変わることにより生じる前記基準信号の特性変化に基づいて温度変化した前記抵抗素子を特定することを特徴とする。
このような構成によれば、基準信号の変化をサイズの小さな時定数素子で確実に検出することが可能になる。
また、本発明の一側面は、前記コンデンサ素子は、プリント基板の2枚の導体パターンが対向配置されることによって形成されることを特徴とする。
このような構成によれば、プリント基板の一部を用いて時定数素子を簡易に構成することができる。
また、本発明の一側面は、前記基準信号源は、矩形波を基準信号として出力し、前記特定手段は、前記矩形波を印加した場合の過渡応答特性が前記時定数に応じて変化することを検出することで、温度変化した前記抵抗素子を特定することを特徴とする。
このような構成によれば、矩形波信号による過渡応答に基づいて、抵抗素子の抵抗値の変化を確実かつ簡易に検出することができる。
また、本発明の一側面は、前記基準信号源は、正弦波を基準信号として出力し、前記特定手段は、前記正弦波の振幅特性または位相特性が時定数に応じて変化することを検出することで、温度変化した前記抵抗素子を特定することを特徴とする。
このような構成によれば、正弦波信号による振幅特性または位相特性の変化に基づいて、抵抗値の変化から温度変化を確実に検出することができる。
また、本発明の一側面は、前記時定数素子は、前記抵抗素子の節点とグランドとの間に接続されていることを特徴とする。
このような構成によれば、同じ素子値の時定数素子を用いて、抵抗値の変化から温度変化を検出することができる。
また、本発明の一側面は、前記時定数素子は、前記抵抗素子と並列に接続されていることを特徴とする。
このような構成によれば、時定数素子をグランドに接続する必要がなくなることから、配線の引き回しを少なくし、回路のレイアウトを簡略化することができる。
また、本発明の一側面は、前記抵抗素子は、発熱体からの熱が伝導するように配置され、前記特定手段は、抵抗値が所定値以上変化した前記抵抗素子を特定することで、加熱している前記発熱体を特定することを特徴とする。
このような構成によれば、発熱体の加熱を簡易に検出することができる。
また、本発明の一側面は、前記特定手段によって加熱が特定された発熱体の動作を制限する制限手段を有することを特徴とする。
このような構成によれば、加熱している発熱体を特定して、その動作を制限することで、発熱体の寿命の短縮化や、破損を防ぐことができる。
また、本発明の一側面は、前記直列接続された複数の抵抗素子と時定数素子とによって構成される検出ユニットを複数有し、これら複数の検出ユニットのいずれかを択一的に選択する選択手段を有し、前記基準信号源は、前記選択手段によって選択された前記検出ユニットに前記基準信号を印加し、前記特定手段は、前記選択手段によって選択された前記検出ユニットを構成する抵抗素子の中から、温度変化した前記抵抗素子を特定する、ことを特徴とする
このような構成によれば、複数の検出ユニットにより、より多くの箇所の温度変化を検出することが可能になる。
本発明によれば、簡単な回路構成で、しかも温度変化した箇所を特定可能な温度変化検出装置を提供することが可能となる。
本発明の実施形態に係る温度変化検出装置の構成例を示す図である。 図1に示すサーミスタの周囲温度と抵抗値との関係の一例を示す図である。 図1に示すコンデンサの構成例を示す図である。 図1に示す実施形態の電気的等価回路を示す図である。 図1に示す実施形態の動作を説明するための図である。 図1に示すマイクロコンピュータにおいて実行される処理の流れの一例を説明するフローチャートである。 図4に示す回路において、コンデンサの容量を増加した場合の動作を説明するための図である。 図4に示す回路において、異なる容量のコンデンサを用いた場合の動作を説明するための図である。 コンデンサをラダー型に接続した場合の実施形態を示す図である。 図9に示す実施形態の動作を説明するための図である。 複数のサーミスタが加熱した場合における動作を説明するための図である。 直列接続したサーミスタを複数用いる実施形態を示す図である。
次に、本発明の実施形態について説明する。
(A)実施形態の構成の説明
図1は、本発明の実施形態に係る温度変化検出装置について説明する図である。この図1に示すように、本発明の実施形態に係る温度変化検出装置1は、マイクロコンピュータ10、抵抗素子20、サーミスタ31〜33、コンデンサ41,42を有し、例えば、プリント基板上に配置されて構成される。また、温度変化検出装置1は、半導体スイッチ51〜53の温度変化を検出し、半導体スイッチ51〜53が加熱した状態となった場合には、スイッチング制御を制限する。なお、本明細書中において「加熱」とは、想定された温度(例えば、設計値)を超えて熱を発生している状態をいうものとする。
マイクロコンピュータ10は、基準信号発生部11、電圧監視部12、および、制御部13を有しており、制御部13によって半導体スイッチ51〜53をスイッチング制御するとともに、基準信号発生部11から基準信号を発生し、電圧監視部12によって基準信号の特性変化を監視することで、半導体スイッチ51〜53の加熱を検出し、加熱を検出した場合には、該当する半導体スイッチのスイッチングを制限する。
ここで、基準信号発生部11は、例えば、矩形波を発生して出力する。電圧監視部12は、抵抗素子20とサーミスタ31の間の電圧を監視する。制御部13は、基準信号発生部11および電圧監視部12を制御するとともに、半導体スイッチ51〜53をスイッチング制御する。また、制御部13は、電圧監視部12による監視結果に基づいて、半導体スイッチ51〜53の加熱を検出し、加熱が検出された半導体スイッチについては、スイッチングの制限を実施する。
抵抗素子20は、通常の抵抗素子(温度によらず抵抗値が一定の素子)であり、例えば、チップ抵抗素子等によって構成され、基準信号発生部11から出力される基準信号を、抵抗素子20とサーミスタ31〜33によって分圧する。
サーミスタ31は、半導体スイッチ51と熱結合するように配置されており、半導体スイッチ51が発生する熱によって温度が上昇し、温度上昇に応じて抵抗値が変化する。図2はサーミスタ31の周囲温度(℃)と、抵抗値(kΩ)との関係の一例を示す図である。この図2に示す例は、ハッチングが施されている領域は、素子のバラツキの範囲を示している。この図2に示す例では、例えば、130〜140℃では素子値は10kΩ程度であり、147〜153℃では素子値は100kΩ程度となる。
コンデンサ41は、サーミスタ31とサーミスタ32の節点と、グランドとの間に接続され、サーミスタ32とともに時定数を形成する。図3はコンデンサ41の構成例を示す図である。この図3に示すように、コンデンサ41は、誘電体材料によって構成されるプリント基板100を挟んで対向配置された2枚の導体パターン411,412によって構成される。このコンデンサ41の素子値は、導体パターン411,412の対向する面積と、これらの距離と、プリント基板100の誘電率によって決まる。なお、図3の例では、プリント基板100には、配線101〜103が形成されるとともに、サーミスタ31が配置され、サーミスタ31の接続端子が配置されて電気的に接続されるパッド311,312が形成されている。なお、図3の例では、導体パターンによってコンデンサを形成するようにしたが、例えば、チップコンデンサ等の素子を用いるようにしてもよい。
半導体スイッチ51は、例えば、FET(Field Effect Transistor)素子等によって構成され、制御部13によって制御され、電源から供給される電力をオン/オフし、図示しない負荷に対して電力を供給する。
サーミスタ32は、サーミスタ31と同様の温度特性を有し、半導体スイッチ52と熱結合され、この半導体スイッチ52が発生する熱に応じて素子値が変化する。コンデンサ42は、例えば、図3と同様の構成とされ、サーミスタ33とともに時定数を形成する。半導体スイッチ52は、制御部13によって制御され、電源から供給される電力をオン/オフし、図示しない負荷に対して電力を供給する。
サーミスタ33は、サーミスタ31と同様の温度特性を有し、半導体スイッチ53と熱結合され、この半導体スイッチ53が発生する熱に応じて素子値が変化する。半導体スイッチ53は、制御部13によって制御され、電源から供給される電力をオン/オフし、図示しない負荷に対して電力を供給する。
図4は図1に示す等価回路を示す図である。この図4に示すように図1に示す回路は、抵抗素子20およびサーミスタ31〜33が直列接続され、抵抗素子20の一端とグランドに基準信号発生部11が接続され、また、サーミスタ31,32の節点とグランドの間にコンデンサ41が接続され、サーミスタ32,33の節点とグランドの間にコンデンサ42が接続されている。さらに、抵抗素子20とサーミスタ31の節点は電圧監視部12に接続される。なお、図4の例では、抵抗素子20の抵抗値は30kΩとされ、サーミスタ31〜33の通常動作時(半導体スイッチ51〜53が加熱していない場合)の抵抗値は10kΩとされ、また、コンデンサ41,42の容量値は10nFとされている。もちん、以上に示した素子値は一例であり、これ以外の素子値でもよいことは言うまでもない。
(B)実施形態の動作の説明
つぎに、本発明の実施形態の動作について説明する。以下では、まず、実施形態の動作の概要について説明した後、図6に示すフローチャートを参照して詳細な動作について説明する。
半導体スイッチ51〜53が加熱していない場合には、サーミスタ31〜33は、図4の等価回路に示すように、10kΩ程度の抵抗値を有する。抵抗素子20とサーミスタ31の節点には、基準信号が約1/2に分圧された電圧が出力される。ここで、基準信号発生部11からは、図5に波形W1で示す矩形波が基準信号として出力される。図5では、約5mSecで立ち上がり、波高値が約5Vで、約10mSecで立ち下がる矩形波が示されている。
このような基準信号が印加されると、半導体スイッチ51〜53が加熱していない場合には、抵抗素子20とサーミスタ31の節点には、約2.5Vの電圧が出力される。マイクロコンピュータ10の制御部13は、基準信号発生部11から基準信号を出力した際に、電圧監視部12によって検出される抵抗素子20とサーミスタ31の節点に現れる電圧の波高値が、例えば、3V未満である場合には正常である(加熱はない)と判定する。また、半導体スイッチ51〜53のいずれかで加熱が発生している場合には、加熱が発生している半導体スイッチと熱結合されたサーミスタは抵抗値が10kΩから100kΩ程度に増加するため、抵抗素子20とサーミスタ31の節点の電圧が増加する。このため、マイクロコンピュータ10の制御部13は、電圧監視部12によって検出される電圧の波高値が、例えば、3V以上の場合には半導体スイッチ51〜53のいずれかが加熱していると判定する。
図5に示す例では、波形W5は発熱していない場合に検出される波形であり、この場合には波高値は3V未満であるので加熱していないと判定することができる。また、波形W2〜W4は半導体スイッチ51〜53のいずれかが加熱している場合であり、この場合には波高値は3V以上になるので、加熱していると判定することができる。
半導体スイッチ51〜53のいずれかが加熱していると判定した場合、マイクロコンピュータ10は、基準信号発生部11に基準信号を再度発生させる。電圧監視部12は基準信号を印加した場合における信号の遅延時間を検出する。
ここで、遅延時間について説明する。図4の等価回路において、半導体スイッチ51が加熱した場合、この半導体スイッチ51に熱結合されているサーミスタ31の温度が上昇するので、サーミスタ31の抵抗値が通常の10kΩから100kΩ程度に増加する。この結果、基準信号の電圧の大半は、サーミスタ31に分圧され、サーミスタ32,33に印加される電圧は僅少となる。サーミスタ32,33にはコンデンサ41,42がそれぞれ並列接続されているので、コンデンサ41,42に電荷がチャージされるまでの間、電圧の立ち上がりに遅延時間が生じる。しかし、サーミスタ32,33に印加される電圧は、前述したように僅少であることから、この遅延時間は非常に短いものとなる。すなわち、半導体スイッチ51が加熱した場合の応答波形は、図5に示す波形W2のような立ち上がりとなる。そこで、図5の下段に拡大して示すように、電圧監視部12によって検出される電圧が3.5Vになる時点における遅延時間τが、時間t1未満である場合にはサーミスタ31の抵抗が増加したと判定できるので、その場合には、半導体スイッチ51の加熱であると判定することができる。
一方、半導体スイッチ52が加熱した場合にはサーミスタ32に基準信号の大半の電圧が分圧される。サーミスタ32にはコンデンサ41が並列接続されているので、このコンデンサ41がチャージされるまでの間、電圧の立ち上がりに遅延時間が生じる。すなわち、半導体スイッチ52が加熱した場合の応答波形は、図5に示す波形W3のような立ち上がりとなる。そこで、図5の下段に拡大して示すように、電圧監視部12によって検出される電圧が3.5Vになる時点における遅延時間τが、時間t1以上かつt2未満である場合にはサーミスタ32の抵抗が増加したと判定できるので、その場合には、半導体スイッチ52の加熱であると判定することができる。
半導体スイッチ53が加熱した場合にはサーミスタ33に基準信号の大半の電圧が分圧される。サーミスタ33にはコンデンサ42が並列接続されており、また、サーミスタ33にはサーミスタ32が直列接続され、このサーミスタ32にはコンデンサ41が並列接続されている。このため、これらのコンデンサ41,42がチャージされるまでの間、電圧の立ち上がりに遅延時間が生じる。すなわち、半導体スイッチ53が加熱した場合の応答波形は、図5に示す波形W4のような立ち上がりとなる。そこで、図5の下段に拡大して示すように、電圧監視部12によって検出される電圧が3.5Vになる時点における遅延時間τが、時間t2以上である場合にはサーミスタ33の抵抗が増加したと判定できるので、その場合には、半導体スイッチ53の加熱であると判定することができる。
以上の処理によって、半導体スイッチ51〜53の加熱の有無を検出するとともに、加熱している半導体スイッチを特定した場合には、マイクロコンピュータ10の制御部13は、加熱している半導体スイッチに対する制限を実施する。例えば、加熱している半導体スイッチの動作を一定期間停止したり、スイッチング周波数を低く設定したり、あるいは、スイッチングのデューティを低く設定することで発熱を抑えることができる。このようにして、制限を実行した場合に、加熱が収まったときには、半導体スイッチの動作を制限前と同様に再開させるか、あるいは、負荷を減らした状態で動作を再開させる。
つぎに、本発明の実施形態の詳細な動作について説明する。図6は図1に示すマイクロコンピュータ10において実行される処理の流れを説明するための図である。図6に示す処理は、半導体スイッチ51〜53がスイッチング動作を実行している際に、例えば、定期的に実行される。この図6に示すフローチャートの処理が開始されると、以下のステップが実行される。
ステップS10では、制御部13は、基準信号発生部11を制御し、基準信号を出力させる。具体的には、基準信号発生部11は、図5に波形W1で示す矩形波を基準信号として出力する。図5では、約5mSecで立ち上がり、約10mSecで立ち下がる矩形波が示されている。
ステップS11では、制御部13は、電圧監視部12によって、ステップS10において基準信号を印加した場合において、抵抗素子20とサーミスタ31の節点に現れる波高値Vを検出する。例えば、基準信号の立ち上がりから4mSecが経過した際の波高値Vが検出される。図5では、5mSecにおいて基準信号が立ち上がってから4mSecが経過した9mSecにおける波高値Vが検出される。
ステップS12では、制御部13は、ステップS11で検出した波高値Vが閾値Th(例えば、3V)以上か否かを判定し、波高値Vが閾値Th以上と判定した場合(ステップS12:Yes)にはステップS13に進み、それ以外の場合(ステップS12:No)には処理を終了する。例えば、半導体スイッチ51〜53のいずれかが加熱している場合には、波高値Vが閾値Th(例えば、3V)を超えるので、ステップS13に進む。
ステップS13では、制御部13は、基準信号発生部11を制御し、基準信号を再度出力させる。具体的には、ステップS10と同様に、約15mSecで立ち上がる波形W1(図5参照)で示す矩形波を基準信号として出力する。
ステップS14では、制御部13は、電圧監視部12によって遅延時間τを検出する。具体的には、電圧監視部12は、例えば、基準信号が立ち上がってから3.5V以上になるまでの時間を計測し、計測した時間を遅延時間τとする。
ステップS15では、制御部13は、ステップS14で検出した遅延時間τが時間t1未満であるか否かを検出し、時間t1未満である場合(ステップS15:Yes)にはステップS16に進み、それ以外の場合(ステップS15:No)にはステップS17に進む。例えば、半導体スイッチ51が加熱している場合には、波形W2が観測されるので、その場合にはYesと判定されてステップS16に進む。
ステップS16では、制御部13は、半導体スイッチ51が加熱していると判定し、半導体スイッチ51のスイッチング動作を制限する。具体的には、半導体スイッチ51の動作を一定期間停止したり、スイッチング周波数を低く設定したり、あるいは、スイッチングのデューティを低く設定する。
ステップS17では、制御部13は、ステップS14で検出した遅延時間τが時間t1以上かつt2未満であるか否かを検出し、時間t1以上かつ時間t2未満である場合(ステップS17:Yes)にはステップS18に進み、それ以外の場合(ステップS17:No)にはステップS19に進む。例えば、半導体スイッチ52が加熱している場合には、波形W3が観測されるので、その場合にはYesと判定されてステップS18に進む。
ステップS18では、制御部13は、半導体スイッチ52が加熱していると判定し、半導体スイッチ52のスイッチング動作を制限する。具体的には、ステップS16と同様の制御を半導体スイッチ52に対して実行する。
ステップS19では、制御部13は、ステップS14で検出した遅延時間τが時間t2以上であるか否かを検出し、時間t2以上である場合(ステップS19:Yes)にはステップS20に進み、それ以外の場合(ステップS19:No)には処理を終了する。例えば、半導体スイッチ53が加熱している場合には、波形W4が観測されるので、その場合にはYesと判定されてステップS20に進む。
ステップS20では、制御部13は、半導体スイッチ53が加熱していると判定し、半導体スイッチ53のスイッチング動作を制限する。具体的には、ステップS16と同様の制御を半導体スイッチ53に対して実行する。
以上の処理によれば、半導体スイッチ51〜53の加熱を検出し、加熱している半導体スイッチのスイッチング動作を制限することで、半導体スイッチの寿命が短縮したり、加熱による破損を防いだりすることができる。
以上に説明したように、本発明の実施形態によれば、簡単な回路構成で加熱した半導体スイッチを特定することが可能になる。
また、本実施形態によれば、コンデンサ41,42によって時定数を形成するようにしたので、小さなサイズの素子でも、発熱による時定数の変化を確実に検出することが可能になる。また、例えば、図3に示すように、プリント基板を挟んで対向配置された2枚の導体パターンによって、コンデンサを簡単に構成することができる。また、サーミスタに近接してコンデンサの配置位置を設定することにより、素子のサイズを小型化することができる。さらに、コンデンサ41,42を用いることで、回路の高域におけるインピーダンスを低くすることができるため、回路のノイズ特性を改善することができる。
また、本実施形態では、電圧によって異常の発生を検出した後に、遅延時間によって発熱している半導体スイッチを特定するようにしたので、発熱していない場合には電圧の検出だけを行えばよいことから、マイクロコンピュータ10の負荷を軽減することができる。
また、本実施形態では、サーミスタ31〜33のそれぞれの抵抗値の変化を検出する配線が不要となることから、配線パターンを簡略化することができるため、製造コストを低減するとともに、設計を容易にすることができる。
(C)変形実施形態の説明
以上の各実施形態は一例であって、本発明が上述したような場合のみに限定されるものでないことはいうまでもない。例えば、以上の実施形態では、基準信号の立ち上がりからの遅延時間によって加熱している半導体スイッチを特定するようにしたが、例えば、ピーク電圧によって加熱している半導体スイッチを特定するようにすることもできる。具体的には、図4に示す回路において、コンデンサ41,42をより容量の大きいもの(例えば、50nF)に置換することで、図7に示すように、基準電圧の立ち下がりのタイミングにおいて電圧のピーク(到達電圧)が異なるように設定することができる。そして、このピーク電圧を検出することで、加熱している半導体スイッチを特定することができる。図7の例では、波形W1は基準信号を示し、波形W2は半導体スイッチ51が加熱した場合の波形を示し、波形W3は半導体スイッチ52が加熱した場合の波形を示し、波形W4は半導体スイッチ53が加熱した場合の波形を示し、波形W5は半導体スイッチ51〜53が加熱していない場合の波形を示している。この図7に示すように、加熱していない場合には波形W5に示すようにピーク電圧が3V未満であるので、ピーク電圧が3V未満であることを検出することで加熱の有無を判定することができる。また、波形W2〜W4に示すように、半導体スイッチ51〜53の加熱に応じて基準信号の立ち下がり時のピーク電圧が異なるので、このピーク電圧を検出することで、半導体スイッチ51〜53のいずれが加熱しているかを特定することができる。
また、以上の実施形態では、コンデンサ41,42として同じ容量のコンデンサを用いるようにしたが、異なる容量のコンデンサを用いるようにしてもよい。例えば、コンデンサ41として10nFの容量のものを使用し、コンデンサ42として50nFの容量のものを使用するようにしてもよい。このように、異なる容量のコンデンサを用いた場合、図8に示すような波形となる。この図8を同じ容量のコンデンサを用いた場合の図5と比較すると、半導体スイッチ53が加熱した場合の波形W4の立ち上がりが緩やかになっている。この結果、波形W3と波形W4の遅延時間の差が大きくなるので、これらの判別をより容易に行うことが可能になる。なお、前述したコンデンサの容量10nFと50nFは一例であって、これ以外の値でもよいことはいうまでもない。
また、以上の実施形態では、コンデンサ41,42はそれぞれ接地するようにしたが、例えば、図9に示すように、コンデンサ41を接地するのではなく、サーミスタ32と並列接続してはしご形の回路構成としてもよい。なお、図9の例では、コンデンサ41の容量は10nFとされ、コンデンサ42の容量は50nFとされている。図10は、図9に示す回路構成において、基準信号を印加した場合の応答波形を示している。この図10の例では、図8の場合と略同じ波形となっており、図9に示す構成によっても、加熱の有無を判定するとともに、加熱している半導体スイッチを特定することができる。なお、図9に示す構成の場合には、コンデンサ41を接地する必要がないので、配線の引き回しを単純化することができる。
また、以上の実施形態では、半導体スイッチ51〜53のいずれか1つが加熱する場合について説明したが、2つ以上が同時に加熱する場合も検出することが可能である。図11は、コンデンサ41の容量を10nFとし、コンデンサ42の容量を50nFとした場合に、2つ以上の半導体スイッチが加熱した場合の応答波形を示す図である。図11の下段の拡大図において、波形W1は基準信号を示している。また、波形W2は半導体スイッチ51〜53の全てが加熱した場合の波形を示し、波形W3は半導体スイッチ51,53が加熱した場合の波形を示し、波形W4は半導体スイッチ51,52が加熱した場合の波形を示し、波形W5は半導体スイッチ52,53が加熱した場合の波形を示し、波形W6は加熱がない場合の波形を示している。この図11に示すように、全ての半導体スイッチ51〜53が加熱した波形W2において電圧が最も高くなる。また、波形W2〜W4のように、波形の立ち上がりが速い場合は、半導体スイッチ51の加熱が含まれている。また、波形W3,W4において、立ち上がりが速い波形W3では半導体スイッチ52の加熱が含まれておらず、半導体スイッチ51,53で加熱が発生しており、立ち上がりが遅い波形W4では、半導体スイッチ53の加熱が含まれておらず、半導体スイッチ51,52で加熱が発生している。そこで、電圧が所定の閾値(最大値を判定する閾値)を超えている場合には半導体スイッチ51〜53の全てが加熱している(波形W2)と判定することができる。つぎに、立ち上がりが速いか遅いかを判定することで、半導体スイッチ51の加熱が含まれていない波形W5である判定することができる。また、波形W3,W4については、立ち上がり時間が異なるので、立ち上がり時間が短い場合には波形W3と判定し、立ち上がり時間が長い場合には波形W4と判定することができる。
また、以上の実施形態では、3つのサーミスタ31〜33を直列接続して、3つの半導体スイッチ51〜53の加熱を検出するようにしたが、図12に示すように、3つのサーミスタが直列接続された検出ユニット30a〜30cを、半導体スイッチ61a〜61cによって選択的にオンすることで任意の1つの検出ユニットを選び、図1の場合と同様の動作によって、それぞれのサーミスタ31a〜33a,31b〜33b,31c〜33cに熱結合されている対象物(例えば、図示しない半導体スイッチ)の加熱を検出することができる。具体的には、図12に示す温度変化検出装置1Aでは、半導体スイッチ61aのみをオンにして図6に示す処理を実行することで、検出ユニット30aを構成するサーミスタ31a〜33aに熱結合された対象物の加熱を検出し、半導体スイッチ61bのみをオンにして図6に示す処理を実行することで、検出ユニット30bを構成するサーミスタ31b〜33bに熱結合された対象物の加熱を検出し、半導体スイッチ61cのみをオンにして図6に示す処理を実行することで、検出ユニット30cを構成するサーミスタ31c〜33cに熱結合された対象物の加熱を検出することができる。なお、図12の例では、直列接続した3つのサーミスタを、3組用いるようにしたが、直列接続した2つまたは4以上のサーミスタを、2組または4組用いるようにしてもよい。
また、図1および図12に示す各実施形態では、3つのサーミスタを直列接続するようにしたが、例えば、2つのサーミスタまたは4つ以上のサーミスタを直列接続するようにしてもよい。2つのサーミスタを直列接続する場合には、少なくとも一方のサーミスタにコンデンサを並列接続し、遅延時間もしくはピーク電圧によって加熱を検出するようにできる。また、4つ以上のサーミスタを直列接続する場合には、3つ以上のコンデンサを並列接続し、3つ以上の閾値との比較で判断するようにすることができる。
また、以上の実施形態では、時定数素子としては、コンデンサを用いるようにしたが、例えば、コイルを用いるようにしてもよい。その場合、例えば、図1に示すコンデンサ41,42をコイルに置換するとともに、基準信号発生部11によって発生された基準信号を印加した際に、回路に流れる電流の変化を検出することで、サーミスタ31〜33の加熱を検出することができる。
また、以上の実施形態では、温度を検出する対象物としては、半導体スイッチ51〜53を例に挙げて説明したが、これ以外の対象物の温度を検出するようにしてもよい。例えば、発熱するデバイスとして、トランジスタ、FET(Field Effect Transistor)、IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)等の半導体素子(能動素子)のみならず、例えば、抵抗素子等の受動素子の温度を検出するようにしてもよい。また、アナログ回路のみならず、IC(Integrated Circuit)、LSI(Large Scale Integrated Circuit)等のデジタル回路の温度を検出することも可能である。また、一次電池または二次電池の各セルに対してサーミスタを配置し、このサーミスタの抵抗値の変化から、温度変化が生じたセルを特定するようにしてもよい。すなわち、温度変化を生じる対象であれば、どのような対象に対しても本発明を適用可能である。なお、温度変化としては、温度が上昇する場合のみならず、温度が下降する場合を検出することも可能である。
また、以上の実施形態では、基準信号として矩形波を印加して回路の過渡特性を監視することで、サーミスタの温度を検出するようにしたが、矩形波以外の信号(例えば、正弦波)を印加して、振幅特性または位相特性の変化に基づいて時定数の変化を検出し、サーミスタの温度を検出するようにしてもよい。具体的には、所定の周波数の正弦波を基準信号として印加して、この電圧監視部12によって応答波形の振幅特性または位相特性を監視することで、時定数の変化を検出するようにすることができる。あるいは、周波数をスイープ(掃引)し、各周波数における振幅特性または位相特性を監視することで、時定数の変化を検出することも可能である。また、矩形波以外の波形として、例えば、ランプ波、三角波、インパルス波等を基準信号として用いることも可能である。
また、以上の実施形態では、図6に示すように、電圧が所定の閾値Th以上になった場合に、遅延時間(または、ピーク電圧)を検出するようにしたが、例えば、これらの判定を1回の処理で実行するようにしてもよい。また、図6の処理では、一定の時間毎に処理を実行するようにしたが、これ以外にも、例えば、電圧監視部12によって検出される電圧が所定の閾値Th以上になった場合に割り込みを発生するようにし、割り込みが発生した場合に、遅延時間(または、ピーク電圧)を検出するようにしてもよい。
また、以上の実施形態では、サーミスタ31〜33を直列接続し、サーミスタ31〜33の接点に時定数素子であるコンデンサ41,42を接続するようにしたが、例えば、直列接続したサーミスタと時定数素子(コンデンサまたはコイル)を複数並列接続し、これら並列接続した回路に入力抵抗を付加し、温度による時定数の変化を、例えば、正弦波信号を基準信号として印加した場合の振幅特性または位相特性の変化として検出するようにしてもよい。
また、以上の実施形態では、サーミスタ31〜33として、図2に示すPTC(Positive Temperature Coefficient)特性を有するサーミスタを用いたが、これ以外にも、例えば、NTC(Negative Temperature Coefficient)特性を有するサーミスタや、あるいは、CTR(Critical Temperature Resistor)を用いることも可能である。もちろん、温度によって抵抗値が変化すれものであれば、前述した以外の抵抗素子を用いることも可能である。
また、以上の実施形態では、サーミスタ31〜33を図3に示すように、プリント基板100上に配置するようにしたが、プリント基板100に内蔵するようにしてもよい。そのような構成によれば、サイズを小型化することが可能になる。
1 温度変化検出装置
10 マイクロコンピュータ
11 基準信号発生部(基準信号源)
12 電圧監視部
13 制御部(特定手段、制限手段)
20 抵抗素子
30a〜30c 検出ユニット
31〜33 サーミスタ(抵抗素子)
41,42 コンデンサ(時定数素子)
51〜53 半導体スイッチ(発熱体)
61a〜61c 選択手段
100 プリント基板
411,412 導体パターン

Claims (10)

  1. 温度によって抵抗値が変化する直列接続された複数の抵抗素子と、
    前記直列接続された複数の抵抗素子の各節点に接続され、前記抵抗素子とともに所定の時定数を形成する少なくとも1の時定数素子と、
    前記複数の抵抗素子に対して基準信号を印加する基準信号源と、
    前記時定数の変化による前記基準信号の特性変化に基づいて温度変化した前記抵抗素子を特定する特定手段と、
    を有することを特徴とする温度変化検出装置。
  2. 前記時定数素子はコンデンサ素子であり、
    前記特定手段は、前記抵抗素子の温度変化によって前記コンデンサ素子と前記抵抗素子によって形成される前記時定数が変わることにより生じる前記基準信号の特性変化に基づいて温度変化した前記抵抗素子を特定する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の温度変化検出装置。
  3. 前記コンデンサ素子は、プリント基板の2枚の導体パターンが対向配置されることによって形成される、
    ことを特徴とする請求項2に記載の温度変化検出装置。
  4. 前記基準信号源は、矩形波を基準信号として出力し、
    前記特定手段は、前記矩形波を印加した場合の過渡応答特性が前記時定数に応じて変化することを検出することで、温度変化した前記抵抗素子を特定する、
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
  5. 前記基準信号源は、正弦波を基準信号として出力し、
    前記特定手段は、前記正弦波の振幅特性または位相特性が時定数に応じて変化することを検出することで、温度変化した前記抵抗素子を特定する、
    ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
  6. 前記時定数素子は、前記抵抗素子の節点とグランドとの間に接続されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
  7. 前記時定数素子は、前記抵抗素子と並列に接続されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
  8. 前記抵抗素子は、発熱体からの熱が伝導するように配置され、
    前記特定手段は、抵抗値が所定値以上変化した前記抵抗素子を特定することで、加熱している前記発熱体を特定する、
    ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
  9. 前記特定手段によって加熱が特定された発熱体の動作を制限する制限手段を有することを特徴とする請求項8に記載の温度変化検出装置。
  10. 前記直列接続された複数の抵抗素子と時定数素子とによって構成される検出ユニットを複数有し、
    これら複数の検出ユニットのいずれかを択一的に選択する選択手段を有し、
    前記基準信号源は、前記選択手段によって選択された前記検出ユニットに前記基準信号を印加し、
    前記特定手段は、前記選択手段によって選択された前記検出ユニットを構成する抵抗素子の中から、温度変化した前記抵抗素子を特定する、
    ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の温度変化検出装置。
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