JP2014037629A - スパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、スパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置に係り、より詳しくは、ブラックマトリックスの形成のためのスパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置に関する。
【解決手段】このために、本発明は、ブラックマトリックスを蒸着させるためのスパッタリング工程に用いられるスパッタリングターゲットであって、前記スパッタリングターゲットは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とするスパッタリングターゲットを提供する。
【選択図】図1
【解決手段】このために、本発明は、ブラックマトリックスを蒸着させるためのスパッタリング工程に用いられるスパッタリングターゲットであって、前記スパッタリングターゲットは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とするスパッタリングターゲットを提供する。
【選択図】図1
Description
本発明は、スパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置に関し、より詳しくは、ブラックマトリックスの形成のためのスパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置に関する。
一般に、有機発光素子(organic light emitting diode;OLED)は、アノード(anode)、有機発光層、及びカソード(cathode)を含んでなる。ここで、アノードとカソードとの間に電圧を印加すると、正孔はアノードから正孔注入層内に注入され、正孔輸送層を経て発光層へと移動し、電子はカソードから電子注入層内に注入され、電子輸送層を経て発光層へと移動する。このとき、発光層内に注入された正孔と電子は発光層で再結合して励起子(exciton)を生成し、このような励起子が励起状態(excited state)から基底状態(ground state)に遷移しながら光を放出するようになる。
一方、この種の有機発光素子からなる有機発光表示装置は、マトリックス形態で配置されたN×M個の画素を駆動する方式に応じて、パッシブマトリックス(passive matrix)方式とアクティブマトリックス(active matrix)方式とに分けられる。
ここで、アクティブマトリックス方式の場合、単位画素領域には発光領域を画成する画素電極と、該画素電極に電流または電圧を印加するための単位画素駆動回路が配設される。このとき、単位画素駆動回路は、少なくとも二つの薄膜トランジスター(thin film transistor;TFT)と一つのキャパシタを具備し、これらを介して、画素数に関わらず一定の電流の供給が可能になり、安定した輝度を示すことができる。この種のアクティブマトリックス方式の有機発光表示装置は、電力消耗が少ないため、高解像度及び大型ディスプレイへの適用に有利であるという長所を持っている。
しかし、有機発光素子を構成する有機発光層は、その厚さが極めて薄いため、楕円偏光板のような光学フィルターを有機発光ディスプレイ装置に取り付けていない場合、外部光がカソードまたはアノードで反射することで、フルブラック(Full Black)の実現が難しいという不具合がある。特に、現在商用化された有機発光ディスプレイ装置の場合、カソードとアノードのいずれも金属からなるMM構造を選択しており、その結果、外部光が内部反射層で反射して明室におけるコントラスト比を低下させるという問題がより深化する。
これを解決するために、有機発光ディスプレイ装置に楕円偏光板を取り付ける方法が採用されている。
しかしながら、楕円偏光板は、線偏光板と位相差板とで構成されているため、外部光を遮断させる役割をするものの、逆に内部発生光を消滅させるという不具合を招く。さらには、楕円偏光板は、線偏光板と位相差板とを接合してなるため、一般の光学フィルターに比べて価格が高く且つ板厚が厚いため、フレキシブルまたは折り畳み可能なディスプレイに適用した場合、線偏光板と位相差板とが分離されたり、基板から剥離されたりする問題を生じさせることがある。
これを解決するために、楕円偏光板に代わって、ブラックマトリックス(black matrix)と光学フィルターの使用を試みる研究が行われている。
しかしながら、有機発光ディスプレイ装置は、液晶ディスプレイ装置(LCD)とは違って、駆動素子としてエキシマレーザーを用いて結晶化した多結晶シリコン薄膜トランジスタ(poly-Si TFT)を使用し、このとき、エキシマレーザーによる結晶化過程を従来の有機ブラックマトリックスが耐えられないという不具合があった。さらには、従来のブラックマトリックスに多く使用されていたクロム(Cr)及びクロム酸化物(Cr2O3)の場合、環境汚染物質として判定され、もはやその使用が難しい実情である。
また、このような問題点は、OLED用ブラックマトリックスに限るものではなく、ブラックマトリックスが使用されるLCDやタッチセンサ分野の全般において見られている。
本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、高抵抗、低反射特性を有するブラックマトリックスを形成することができるスパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置を提供することである。
このために、本発明は、ブラックマトリックスを蒸着させるためのスパッタリング工程に用いられるスパッタリングターゲットであって、前記スパッタリングターゲットは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とするスパッタリングターゲットを提供する。
また、本発明は、第1の領域と第2の領域が画成されている基板;前記第2の領域に形成されるブラックマトリックス;前記第1の領域と前記ブラックマトリックス上に形成される絶縁層;前記第1の領域に対応する前記絶縁層上に形成される有機発光素子;及び前記第2の領域に対応する前記絶縁層上に形成される薄膜トランジスター;を含み、前記ブラックマトリックスは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置を提供する。
ここで、前記有機発光ディスプレイ装置は、背面発光型であってよい。
そして、前記絶縁層は、Siからなるものであってよい。
また、前記ブラックマトリックスは、5%以下の透過率を有することが好ましい。
さらに、前記スパッタリング工程は、DCマグネトロンスパッタリング工程であってよい。
本発明によれば、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、MoまたはWの含有量がSiの含有量の0.5倍以上であるスパッタリングターゲットを用いることで、従来の有機ブラックマトリックスとは異なり、高温工程における酸化及び脱気(degassing)現象を防止することができ、且つ高抵抗及び低反射率を有するブラックマトリックスを形成することができる。
以下、添付の図面を参照して本発明の実施例に係るスパッタリングターゲット及びこれによって蒸着されたブラックマトリックスを含む有機発光ディスプレイ装置について詳しく説明する。
なお、本発明を説明するにあたって、関連公知機能あるいは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を不要に曖昧にし得ると判断された場合、その詳細な説明は省略することにする。
本発明の実施例に係るスパッタリングターゲットは、図1に示すように、有機発光ディスプレイ装置において外部光を遮断し、且つ複数の画素領域を画成する役割をするブラックマトリックス(black Matrix)105を蒸着させるためのスパッタリング工程に用いられるターゲットである。本発明に係る有機発光ディスプレイ装置は、図1に示す構造のものに限定されるものではなく、その他種々の構造を有していてよい。ここで、スパッタリングとは、プラズマ粒子をターゲットに高速で衝突させて、そこから飛び出したターゲットの粒子をターゲットの向かい側にある基板100上に蒸着させる方法である。これによって、スパッタリングターゲットを成す物質とこれによって蒸着される物質とは同一の物質になる。
従来のCに基づく有機ブラックマトリックスを成す材料を除いて、金属と金属酸化物とが混合されたサーメット構造であって、ブラックマトリックスを実現することができる金属としては、Mo、Al、Ag、Fe、Co、Mn、Ni、Cu、Zr、W、Cr、Si、Snなどがある。しかし、Crの場合は、有害性の問題のため商用製品への使用が困難であり、Ni、Coの場合は、磁性のため、現在の大面積生産ラインで主に用いられているDCマグネトロンスパッタへの適用は困難である。
そこで、本発明のスパッタリングターゲットは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、MoまたはWの含有量がSiの含有量の0.5倍以上となるように構成される。
スパッタリングターゲットがサーメット構造のMo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなることで、本発明のスパッタリングターゲットを用いて高抵抗特性を有するブラックマトリックスを実現することができる。
また、MoまたはWの含有量がSiの含有量の0.5倍以上となるように構成することで、本発明のスパッタリングターゲットを用いて低反射特性を有するブラックマトリックスを実現することができる。特に、MoまたはWの含有量をSiの含有量の0.5倍未満とする場合、黒膜の性能を示すことができず、ブラックマトリックスとしての使用は不可能である。
このように、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、MoまたはWの含有量がSiの含有量の0.5倍以上であるスパッタリングターゲットを形成し、これを用いてスパッタリング工程にて有機発光ディスプレイ装置の基板100上にブラックマトリックス105を蒸着させると、従来の有機ブラックマトリックスとは異なり、高温工程における酸化及び脱気現象を防止することができ、且つ高抵抗及び低反射率を有するブラックマトリックスを形成することができるため、従来用いられていた楕円偏光板を省略することができる。また、高抵抗特性により、従来、ブラックマトリックスの低抵抗、伝導性特性によりブラックマトリックスと有機発光素子との間に寄生容量が生じるという問題を低減することができる。
このようなスパッタリングターゲットは、金属及び金属酸化物粉末を混合した後、コールドプレス(cold press)、スリップキャスティング(slip casting)、フィルタープレス(filter press)、冷間静水圧プレス(cold isostatic press)、ゲルキャスティング(gel casting)、遠心沈降(centrifugal sedimentation)、重力沈降(gravimetric sedimentation)などの成形法にて成形した後、これに対して焼結を施すことで製造されていてよい。また、このようにして製造されたターゲットは、例えば、金属材からなるバックキングプレート(backing plate)と接合されて支持された状態でスパッタリング工程に供されていてよい。
一方、図1に示すように、本発明の実施例に係るスパッタリングターゲットを用いて蒸着されたブラックマトリックス105を含む有機発光ディスプレイ装置は、基板100、ブラックマトリックス105、絶縁層115、有機発光素子、及び薄膜トランジスターを含む。このとき、有機発光ディスプレイ装置は、背面発光構造を成す。
基板100には、有機発光素子が形成される第1の領域101と、薄膜トランジスターが形成される第2の領域102とが画成されている。
ブラックマトリックス105は、有機発光素子が形成される第1の領域101を除いた第2の領域102に形成される。このとき、ブラックマトリックス105は、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、MoまたはWの含有量がSiの含有量の0.5倍以上であるスパッタリングターゲットにて基板100上に蒸着される。
スパッタリングターゲットにて基板100上にブラックマトリックス105を蒸着するスパッタリング工程は、大型化が可能で且つ維持費が低廉であり、高密度の欠点のない薄膜を蒸着可能なDCマグネトロンスパッタリング工程であってよい。
ブラックマトリックス105は、外部光を効率よく遮断するために、5%以下の透過率を有することが好ましい。
絶縁層115は、ブラックマトリックス105と第1の領域101を含む基板100上に形成される。また、第2の領域102に形成された絶縁層115上にソース/ドレイン領域121、122が形成された半導体層120と、その上部に形成されたゲート電極131、及びコンタクトホール136、137からソース/ドレイン領域121、122とそれぞれコンタクトされるソース/ドレイン電極141、142を含む薄膜トランジスターが形成される。
ここで、絶縁層115は、Siからなるものであってよい。
また、第2の領域102上には、ゲート電極131と同一の物質からなる第1の電極132、及びソース/ドレイン電極141、142のうちの一方、例えば、ソース電極141に接続される第2の電極143を具備したキャパシタが形成される。さらに、半導体層120、ゲート電極131、及び第1の電極132の間、そしてソース/ドレイン電極141、142及び第2の電極143の間には、ゲート絶縁膜125と層間絶縁膜135がそれぞれ形成される。
そして、ソース/ドレイン電極141、142のうちの一方、例えば、ドレイン電極142の一部分を露出させるビアホール155を有する保護膜150が、基板100を基準に前面に形成され、保護膜150上にはビアホール155を介してドレイン電極142とコンタクトされる画素電極160が形成される。
画素電極160を含む保護膜150上には、画素電極160を露出させる開口部175を有する平坦化膜170が形成され、その上に有機発光層180とカソード電極190が形成されて、画素電極160をアノードとする有機発光素子が形成される。
すなわち、有機発光素子は、アノードである画素電極160、有機発光層180、及びカソード電極190の積層構造からなる。このとき、画素電極160は、正孔注入が起こりやすいように仕事関数の大きい金属のAu、In、SnまたはITOのような金属或いは酸化物からなるものであってよく、また、カソード電極190は、電子注入が起こりやすいように仕事関数の小さいAl、Al:LiまたはMg:Agの金属薄膜からなるものであってよい。そして、有機発光層180は、画素電極160上に順に積層される正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び電子注入層を含んでなる。このような構造によって、画素電極160とカソード電極190との間に順方向電圧が印加されると、カソード電極190から電子が電子注入層及び電子輸送層を介して発光層に移動し、また、画素電極160から正孔が正孔注入層及び正孔輸送層を介して発光層に移動するようになる。そして、有機発光層180内へ注入された電子と正孔は、有機発光層180で再結合して励起子(exciton)を生成し、このような励起子が励起状態(excited state)から基底状態(ground state)に遷移しながら光を放出するようになり、このとき、放出される光の明るさは画素電極160とカソード電極190との間を流れる電流量に比例するようになる。
以上のように、本発明を限定された実施例や図面に基づいて説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、本発明の属する分野における通常の知識を有する者であれば、このような記載から種々の修正及び変形が可能である。
したがって、本発明の範囲は前述の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲や特許請求の範囲と均等なものなどによって決められるべきである。
100 基板
101、102 第1の領域、第2の領域
105 ブラックマトリックス
115 絶縁層
120 半導体層
121、122 ソース/ドレイン領域
125 ゲート絶縁膜
132、143 第1の電極、第2の電極
135 層間絶縁膜
136、137 コンタクトホール
141、142 ソース/ドレイン電極
150 保護膜
160 画素電極
170 平坦化膜
175 開口部
180 有機発光層
190 カソード電極
101、102 第1の領域、第2の領域
105 ブラックマトリックス
115 絶縁層
120 半導体層
121、122 ソース/ドレイン領域
125 ゲート絶縁膜
132、143 第1の電極、第2の電極
135 層間絶縁膜
136、137 コンタクトホール
141、142 ソース/ドレイン電極
150 保護膜
160 画素電極
170 平坦化膜
175 開口部
180 有機発光層
190 カソード電極
Claims (6)
- ブラックマトリックスを蒸着させるためのスパッタリング工程に用いられるスパッタリングターゲットであって、
前記スパッタリングターゲットは、Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、
前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 - 第1の領域と第2の領域が画成されている基板;
前記第2の領域に形成されるブラックマトリックス;
前記第1の領域と前記ブラックマトリックス上に形成される絶縁層;
前記第1の領域に対応する前記絶縁層上に形成される有機発光素子;及び
前記第2の領域に対応する前記絶縁層上に形成される薄膜トランジスター;
を含み、
前記ブラックマトリックスは、
Mo−Si−O、W−Si−O、及びMo−W−Si−Oのいずれかからなり、前記MoまたはWの含有量が前記Siの含有量の0.5倍以上であることを特徴とする有機発光ディスプレイ装置。 - 前記有機発光ディスプレイ装置は、背面発光型であることを特徴とする請求項2に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記絶縁層は、Siからなることを特徴とする請求項2に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記ブラックマトリックスは、5%以下の透過率を有することを特徴とする請求項2に記載の有機発光ディスプレイ装置。
- 前記スパッタリング工程は、DCマグネトロンスパッタリング工程であることを特徴とする請求項2に記載の有機発光ディスプレイ装置。
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