JP2014033012A - Printed wiring board and method for manufacturing the same - Google Patents

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Kazutoshi Koshimizu
和敏 小清水
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed wiring board capable of suppressing occurrence of a disconnection failure of jumper wiring.SOLUTION: A printed wiring board 1 comprises: a first wiring pattern 20 provided on a base material 10; a resist layer 30 provided on the base material 10 so as to overlap with a part of the first wiring pattern 20; and a second wiring pattern 40 provided on the base material 10 so as to cross the first wiring pattern 20 via the resist layer 30. Height Hof an end of the resist layer 30 is the lowest height in the resist layer 30.

Description

本発明は、ジャンパ配線を有するプリント配線板及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a printed wiring board having jumper wiring and a manufacturing method thereof.

スクリーン印刷法を用いて、基板上に形成された第1配線層の上に絶縁体を形成し、さらにこの絶縁体の上にジャンパ配線を形成する技術が知られている(例えば、特許文献1(段落0005〜0008、第6図)参照)。   A technique is known in which an insulator is formed on a first wiring layer formed on a substrate using a screen printing method, and a jumper wiring is further formed on the insulator (for example, Patent Document 1). (See paragraphs 0005-0008, FIG. 6)).

特開2010−258377号公報JP 2010-258377 A

スクリーン印刷法に代えてグラビアオフセット印刷法によってジャンパ配線を形成すると、当該ジャンパ配線の膜厚が薄くなるため、絶縁体の端部の段差でジャンパ配線が断線するおそれがあるという問題があった。   When the jumper wiring is formed by the gravure offset printing method instead of the screen printing method, the film thickness of the jumper wiring becomes thin, and there is a problem that the jumper wiring may be disconnected at the step of the end portion of the insulator.

本発明が解決しようとする課題は、ジャンパ配線の断線不良の発生を抑制可能なプリント配線板及びその製造方法を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a printed wiring board capable of suppressing the occurrence of disconnection failure of jumper wiring and a method for manufacturing the same.

[1]本発明に係るプリント配線板は、基材に設けられた第1の配線パターンと、前記第1の配線パターンの一部と重なるように前記基材に設けられた絶縁層と、前記絶縁層を介して前記第1の配線パターンと交差するように前記基材に設けられた第2の配線パターンと、を備え、前記絶縁層の端部の高さが、前記絶縁層の中で最も低いことを特徴とする。   [1] A printed wiring board according to the present invention includes a first wiring pattern provided on a base material, an insulating layer provided on the base material so as to overlap a part of the first wiring pattern, A second wiring pattern provided on the substrate so as to intersect the first wiring pattern via an insulating layer, and the height of the end of the insulating layer is within the insulating layer Characterized by the lowest.

[2]上記発明において、前記絶縁層が、前記絶縁層の端部に向かって漸次的に低くなる傾斜部を有し、前記絶縁層において前記第1の配線パターンと重なっている部分の高さが、前記絶縁層の中で最も高くてもよい。   [2] In the above invention, the insulating layer has an inclined portion that gradually decreases toward an end portion of the insulating layer, and a height of a portion of the insulating layer that overlaps the first wiring pattern However, it may be the highest among the insulating layers.

[3]上記発明において、前記絶縁層の端部は、前記絶縁層上での前記第2の配線パターンの延在方向における端部であってもよい。   [3] In the above invention, the end of the insulating layer may be an end in the extending direction of the second wiring pattern on the insulating layer.

[4]本発明に係るプリント配線板の製造方法は、第1の配線パターンを基材に形成する第1の工程と、前記第1の配線パターンの一部と重なるように、絶縁層を前記基材にグラビアオフセット印刷法によって形成する第2の工程と、前記絶縁層を介して前記第1の配線パターンと交差するように、第2の配線パターンを前記基材にグラビアオフセット印刷法によって形成する第3の工程と、を備え、前記第2の工程が、前記絶縁層に対応した形状を有する凹部を備えたグラビア版を用いることを含み、前記凹部内に複数の突起が設けられており、前記突起の密度が、前記凹部の端部に向かうに従って高くなっていることを特徴とする。   [4] In the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the first step of forming the first wiring pattern on the substrate and the insulating layer so as to overlap a part of the first wiring pattern A second wiring pattern is formed on the substrate by a gravure offset printing method, and a second wiring pattern is formed on the substrate by a gravure offset printing method so as to intersect the first wiring pattern via the insulating layer. A third step, wherein the second step includes using a gravure plate having a recess having a shape corresponding to the insulating layer, and a plurality of protrusions are provided in the recess. The density of the protrusions is increased toward the end of the recess.

[5]上記発明において、前記突起の間隔が、前記凹部の端部に向かうに従って狭くなっていき、複数の前記突起の幅が、実質的に同一であってもよい。   [5] In the above invention, the interval between the protrusions may become narrower toward the end of the recess, and the plurality of protrusions may have substantially the same width.

[6]上記発明において、前記突起が、壁型形状、又は、柱型形状を含んでもよい。   [6] In the above invention, the protrusion may include a wall shape or a column shape.

[7]上記発明において、前記第3の工程が、前記第2の配線パターンに対応した形状を有する第2の凹部を備えた第2のグラビア版を用いることを含み、前記絶縁層上での前記第2の配線パターンの延在部分に対応する前記第2の凹部の部分は、前記第2のグラビア版において第1の方向に沿って延在しており、前記凹部の端部は、前記第1の方向における端部であってもよい。   [7] In the above invention, the third step includes using a second gravure plate having a second concave portion having a shape corresponding to the second wiring pattern, and on the insulating layer. The portion of the second recess corresponding to the extending portion of the second wiring pattern extends along the first direction in the second gravure plate, and the end of the recess is It may be an end portion in the first direction.

本発明によれば、絶縁層の端部の高さが当該絶縁層の中で最も低くなっているので、絶縁層の端部の段差が小さくなる。このため、第2の配線パターンを薄くしても第2の配線パターンの断線の発生を抑制することができる。   According to the present invention, since the height of the end portion of the insulating layer is the lowest among the insulating layers, the step at the end portion of the insulating layer is reduced. For this reason, even if the second wiring pattern is thinned, occurrence of disconnection of the second wiring pattern can be suppressed.

また、本発明によれば、グラビア版のインク充填部の凹部内に複数の突起が設けられており、この突起の密度が、凹部の端部に向かうに従って高くなっているので、絶縁層の端部の高さを当該絶縁層の中で最も低くすることができる。このため、絶縁層の端部の段差を小さくすることができ、第2の配線パターンの断線の発生を抑制することができる。   Further, according to the present invention, the plurality of protrusions are provided in the concave portion of the ink filling portion of the gravure plate, and the density of the protrusions increases toward the end portion of the concave portion. The height of the portion can be made the lowest among the insulating layers. For this reason, the level | step difference of the edge part of an insulating layer can be made small, and generation | occurrence | production of the disconnection of a 2nd wiring pattern can be suppressed.

図1は、本発明の実施形態におけるプリント配線板を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. 図2は、図1のII-II線に沿った断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II-II in FIG. 図3は、図1のIII-III線に沿った断面図である。3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 図4は、グラビアオフセット印刷機の一例を示す概要図である。FIG. 4 is a schematic diagram illustrating an example of a gravure offset printing machine. 図5は、本発明の実施形態におけるプリント配線板の製造方法を示すフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. 図6は、図5のステップS20で使用されるグラビア版の凹部を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a concave portion of the gravure plate used in step S20 of FIG. 図7は、図6のVII-VII線に沿った断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII in FIG. 図8は、図5のステップS20で使用されるグラビア版の凹部の変形例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing a modification of the concave portion of the gravure plate used in step S20 of FIG.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

先ず、本実施形態におけるプリント配線板の構成について、図1〜図3を参照しながら説明する。図1〜図3は本実施形態におけるプリント配線板を示す図である。   First, the configuration of the printed wiring board in the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1-3 is a figure which shows the printed wiring board in this embodiment.

本実施形態におけるプリント配線板1は、図1〜図3に示すように、基材10と、2つの配線パターン20,40と、当該配線パターンの間に介在するレジスト層30と、を備えている。こうしたプリント配線板1は、例えば、タッチパネルやタッチパッド等の用途に使用される。なお、本実施形態におけるレジスト層30が、本発明における絶縁層の一例に相当する。   As shown in FIGS. 1 to 3, the printed wiring board 1 in this embodiment includes a base material 10, two wiring patterns 20 and 40, and a resist layer 30 interposed between the wiring patterns. Yes. Such a printed wiring board 1 is used for applications such as a touch panel and a touch pad, for example. Note that the resist layer 30 in the present embodiment corresponds to an example of an insulating layer in the present invention.

基材10は、可撓性と電気絶縁性を有するフィルムである。この基材10を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等を例示することができる。   The substrate 10 is a film having flexibility and electrical insulation. Examples of the material constituting the substrate 10 include polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN).

第1の配線パターン20は、この基材10の表面上に設けられており、本例では、図1中のX軸方向に沿って直線状に形成されている。この第1の配線パターン20は、グラビア(凹版)オフセット印刷法によってインクを基材10上に印刷することで形成されている。この第1の配線パターン20を形成するインクの具体例としては、例えば、銀(Ag)や銅(Cu)等の導電材を含有した導電性ペーストを挙げることができる。なお、この第1の配線パターン20については、グラビアオフセット印刷法以外の印刷方法(例えば、スクリーン印刷法、活版印刷法、シルク印刷法、オンデマンド印刷法など)によって形成してもよい。   The first wiring pattern 20 is provided on the surface of the substrate 10, and in this example, is formed linearly along the X-axis direction in FIG. The first wiring pattern 20 is formed by printing ink on the substrate 10 by a gravure (intaglio) offset printing method. Specific examples of the ink for forming the first wiring pattern 20 include a conductive paste containing a conductive material such as silver (Ag) or copper (Cu). Note that the first wiring pattern 20 may be formed by a printing method other than the gravure offset printing method (for example, a screen printing method, a letterpress printing method, a silk printing method, an on-demand printing method, or the like).

レジスト層30は、この第1の配線パターン20の一部を覆うように基材10の表面上に設けられており、本例では、図1のY軸方向に沿った略短冊形状を有している。このレジスト層30は、第1の配線パターン20と同様に、グラビアオフセット印刷法によってインクを基材10上に印刷することで形成されている。このレジスト層30を形成するインクとしては、例えば、ウレタンアクリレート樹脂等をベースとした液状のレジストインクを例示することができる。   The resist layer 30 is provided on the surface of the base material 10 so as to cover a part of the first wiring pattern 20, and in this example, has a substantially strip shape along the Y-axis direction of FIG. ing. Similar to the first wiring pattern 20, the resist layer 30 is formed by printing ink on the substrate 10 by a gravure offset printing method. Examples of the ink for forming the resist layer 30 include liquid resist inks based on urethane acrylate resin or the like.

第2の配線パターン40は、レジスト層30を介して第1の配線パターン20と交差するように基材10の表面上に設けられており、本例では、図1のY軸方向に沿って直線状に形成されている。この第2の配線パターン40も、第1の配線パターン20と同様に、グラビアオフセット印刷法によってインクを基材10上に印刷することで形成されている。この第2の配線パターン40を形成するインクとしては、上述の第1の配線パターン20と同様に、例えば、銀(Ag)や銅(Cu)等の導電材を含有した導電性ペーストを例示することができる。   The second wiring pattern 40 is provided on the surface of the base material 10 so as to intersect the first wiring pattern 20 via the resist layer 30, and in this example, along the Y-axis direction of FIG. It is formed in a straight line. Similarly to the first wiring pattern 20, the second wiring pattern 40 is also formed by printing ink on the substrate 10 by a gravure offset printing method. As the ink for forming the second wiring pattern 40, for example, a conductive paste containing a conductive material such as silver (Ag) or copper (Cu) is exemplified as in the first wiring pattern 20 described above. be able to.

なお、上述した第1及び第2の配線パターン20,40の形状は一例に過ぎず、レジスト層30を介して2つの配線パターン20,40が交差していれば、第1及び第2の配線パターン20,40の形状は特に限定されない。同様に、上述したレジスト層30の形状も一例に過ぎず、第1の配線パターン20と第2の配線パターン40の間に介在していれば、レジスト層30の形状は特に限定されない。   Note that the shapes of the first and second wiring patterns 20 and 40 described above are merely examples, and if the two wiring patterns 20 and 40 intersect via the resist layer 30, the first and second wiring patterns are formed. The shape of the patterns 20 and 40 is not particularly limited. Similarly, the shape of the resist layer 30 described above is merely an example, and the shape of the resist layer 30 is not particularly limited as long as the resist layer 30 is interposed between the first wiring pattern 20 and the second wiring pattern 40.

本実施形態におけるレジスト層30は、図3に示すように、中央部31、端部32、及び傾斜部33を有している。   As shown in FIG. 3, the resist layer 30 in the present embodiment has a central portion 31, an end portion 32, and an inclined portion 33.

レジスト層30の中央部31は、第1の配線パターン20を覆っている。この中央部31の高さHは、当該レジスト層30の中で最も高くなっている。 A central portion 31 of the resist layer 30 covers the first wiring pattern 20. The height H 1 of the central portion 31 is the highest in the resist layer 30.

一方、レジスト層30の端部32は、レジスト層30上での第2の配線パターン40の延在方向(図中のY軸方向)における両方の端部である。この端部32の高さHは、当該レジスト層30の中で最も低くなっている。なお、本例におけるレジスト層30の高さ(高さH,Hを含む。)は、基材10の表面を基準とした高さである。 On the other hand, the end portions 32 of the resist layer 30 are both end portions in the extending direction (Y-axis direction in the drawing) of the second wiring pattern 40 on the resist layer 30. The height H 2 of the end portion 32 is the lowest in the resist layer 30. Note that the height (including heights H 1 and H 2 ) of the resist layer 30 in this example is a height based on the surface of the substrate 10.

傾斜部33は、レジスト層30において中央部31の両端と端部32との間に延在している。この傾斜部33は、中央部31から端部32に向かうに従って漸次的に低くなるような傾斜を有している。   The inclined portion 33 extends between both ends of the central portion 31 and the end portion 32 in the resist layer 30. The inclined portion 33 has an inclination that gradually decreases from the central portion 31 toward the end portion 32.

以上のように、本実施形態では、レジスト層30の端部32が当該レジスト層30の中で最も低くなっているので、レジスト層30の端部32により生じる段差が小さくなる。このため、第2の配線パターン40の断線の発生を抑制することができる。   As described above, in this embodiment, since the end portion 32 of the resist layer 30 is the lowest in the resist layer 30, the level difference caused by the end portion 32 of the resist layer 30 is reduced. For this reason, generation | occurrence | production of the disconnection of the 2nd wiring pattern 40 can be suppressed.

次に、本実施形態においてプリント配線板を製造する際に用いられるグラビアオフセット方式の印刷機の構成について、図4を参照しながら概説する。図4はグラビアオフセット印刷機50の構成の一例を示す概要図である。   Next, the configuration of a gravure offset type printing machine used when manufacturing a printed wiring board in the present embodiment will be outlined with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the gravure offset printing machine 50.

図4に示すように、グラビアオフセット方式の印刷機50では、版胴52に巻回されたグラビア版(凹版)51をインク槽53に浸漬した後に、ドクターブレード54により余分なインクを掻き取ってグラビア版51の凹部(例えば、図6に示す凹部511)のみにインクを充填する。次いで、この凹部に充填されたインクをブランケット55に受理し、さらにブランケット55を基材10に押し付けながら転動させて、当該ブランケット55に保持されていたインクを基材10に転写することで、インクを基材10に印刷する。   As shown in FIG. 4, in the gravure offset type printing machine 50, a gravure plate (intaglio) 51 wound around a plate cylinder 52 is immersed in an ink tank 53, and then excess ink is scraped off by a doctor blade 54. Only the concave portion (for example, the concave portion 511 shown in FIG. 6) of the gravure plate 51 is filled with ink. Next, the ink filled in the concave portion is received by the blanket 55, and the blanket 55 is rolled while being pressed against the base material 10 to transfer the ink held by the blanket 55 to the base material 10, Ink is printed on the substrate 10.

なお、本実施形態で用いることのできるグラビアオフセット印刷機の構成は、上記に特に限定されない。例えば、図4に示すグラビアオフセット印刷機50では、被印刷体である基材10をテーブル56上に保持しているが、基材10をブランケット55と圧胴との間を通過させる輪転式のグラビアオフセット印刷機を用いてもよい。   In addition, the structure of the gravure offset printing machine which can be used by this embodiment is not specifically limited above. For example, in the gravure offset printing machine 50 shown in FIG. 4, the base material 10 that is the printing medium is held on the table 56, but the base material 10 passes through between the blanket 55 and the impression cylinder. A gravure offset printing machine may be used.

次に、本実施形態におけるプリント配線板1の製造方法について、図5〜図8を参照しながら説明する。   Next, the manufacturing method of the printed wiring board 1 in this embodiment is demonstrated, referring FIGS.

図5は本実施形態におけるプリント配線板の製造方法を示すフローチャート、図6は図5のステップS20で使用されるグラビア版の凹部を示す平面図、図7は図6の平面図に対応した断面図、図8はそのグラビア版の凹部の変形例を示す平面図である。   FIG. 5 is a flowchart showing a method for manufacturing a printed wiring board according to the present embodiment, FIG. 6 is a plan view showing a concave portion of a gravure plate used in step S20 of FIG. 5, and FIG. 7 is a cross section corresponding to the plan view of FIG. FIG. 8 is a plan view showing a modification of the concave portion of the gravure plate.

先ず、図5のステップS10において、基材10の上に第1の配線パターン20を形成する。具体的には、このステップS10では、図4に示すグラビアオフセット印刷機50を用いて、基材10上に導電性ペーストを印刷し、次いで、赤外線加熱炉等を用いてこの導電性ペーストを乾燥させて硬化させることで、第1の配線パターン20を形成する。   First, in step S <b> 10 of FIG. 5, the first wiring pattern 20 is formed on the base material 10. Specifically, in Step S10, the conductive paste is printed on the substrate 10 using the gravure offset printing machine 50 shown in FIG. 4, and then the conductive paste is dried using an infrared heating furnace or the like. Then, the first wiring pattern 20 is formed by curing.

なお、グラビアオフセット印刷に代えて、例えばスクリーン印刷等によってこの第1の配線パターン20を形成してもよい。   Note that the first wiring pattern 20 may be formed by, for example, screen printing instead of gravure offset printing.

次いで、図5のステップS20において、第1の配線パターン20の一部を覆うようにレジスト層30を基材10の上に形成する。具体的には、このステップS20では、図4に示すグラビアオフセット印刷機50を用いて、基材10上にレジストインクを印刷し、紫外線照射等によってこのレジストインクを硬化させることで、レジスト層30を形成する。   Next, in step S <b> 20 of FIG. 5, a resist layer 30 is formed on the substrate 10 so as to cover a part of the first wiring pattern 20. Specifically, in step S20, a resist ink is printed on the substrate 10 using the gravure offset printing machine 50 shown in FIG. Form.

この際、本実施形態では、図6及び図7に示すような凹部511を備えたグラビア版51Aを用いて印刷を行う。このグラビア版51Aの凹部511は、レジスト層30の輪郭に対応した外形を有しており、さらにこの凹部511の中には複数の突起513が設けられている。なお、図6及び図7では、版胴52から取り外し展開した状態のグラビア版51を示している。また、図6では凹部511の外縁を一点鎖線にて示している。   At this time, in this embodiment, printing is performed using a gravure plate 51A having a recess 511 as shown in FIGS. The concave portion 511 of the gravure plate 51 </ b> A has an outer shape corresponding to the contour of the resist layer 30, and a plurality of protrusions 513 are provided in the concave portion 511. 6 and 7 show the gravure plate 51 removed from the plate cylinder 52 and developed. In FIG. 6, the outer edge of the recess 511 is indicated by a one-dot chain line.

それぞれの突起513は、凹部511の底面に立設され且つ図中のX軸方向に沿って延在する壁型形状を有している。この突起513は、凹部511のY軸方向における端部512の近傍のみに配置されており、凹部511のY軸方向における中央部分は、突起513が設けられておらず単に窪んだ形状となっている。従って、凹部511は、この突起513によって、当該凹部511の端部512の近傍でY軸方向において複数に仕切られており、結果的に、隣接する突起513同士の間に溝を形成したような形状となっている。   Each protrusion 513 has a wall shape that is erected on the bottom surface of the recess 511 and extends along the X-axis direction in the drawing. The protrusion 513 is disposed only in the vicinity of the end portion 512 in the Y-axis direction of the concave portion 511, and the central portion of the concave portion 511 in the Y-axis direction is not provided with the protrusion 513 and is simply recessed. Yes. Therefore, the concave portion 511 is partitioned into a plurality of portions in the Y-axis direction in the vicinity of the end portion 512 of the concave portion 511 by the projection 513. As a result, a groove is formed between the adjacent projections 513. It has a shape.

この突起513の間隔S,S,Sは、凹部511のY軸方向における両方の端部512に向かうに従って狭くなっており(S<S<S)、すなわち、突起513の密度が凹部511の両方の端部512に向かうに従って高くなっている。この突起513の間隔の具体例としては、例えば、S=30[μm]、S=60[μm]、S=150[μm]である。 The intervals S 1 , S 2 , S 3 of the protrusions 513 are narrower toward both ends 512 in the Y-axis direction of the recess 511 (S 1 <S 2 <S 3 ). The density increases as it goes toward both ends 512 of the recess 511. Specific examples of the interval between the protrusions 513 include, for example, S 1 = 30 [μm], S 2 = 60 [μm], and S 3 = 150 [μm].

なお、突起513の数は、図6及び図7に示す数に特に限定されない。また、同図に示す例では3種類の間隔S,S,Sを設定しているが、突起513の間隔の種類は特にこれに限定されない。また、同図に示す例では、3種類の間隔S,S,Sをそれぞれ3回ずつ繰り返しているが、特にこれに限定されない。例えば、Y軸方向に沿った凹部511の全ての間隔を異ならせてもよい。 The number of protrusions 513 is not particularly limited to the number shown in FIGS. In the example shown in the figure, three types of intervals S 1 , S 2 , and S 3 are set, but the type of the interval between the protrusions 513 is not particularly limited to this. In the example shown in the figure, the three types of intervals S 1 , S 2 , and S 3 are repeated three times each, but the present invention is not limited to this. For example, all the intervals of the recesses 511 along the Y-axis direction may be varied.

一方、突起513のY軸方向に沿った幅Wは、いずれも同一となっている。この突起513の幅Wは、60[μm]以下であることが好ましく、50[μm]以下であることがより好ましい。 On the other hand, the width W 1 along the Y-axis direction of the projection 513 are all the same. The width W 1 of the protrusion 513 is preferably 60 [μm] or less, and more preferably 50 [μm] or less.

こうした凹部511を有するグラビア版51Aを用いてレジストインクを基材10上に印刷する場合には、凹部511に充填されていたレジストインクがブランケット55に受理された後に基材10に転写される。この際、突起513に相当する部分に空間が形成された状態でレジストインクがブランケット55に受理されるが、ブランケット55から基材10への転写時には、ブランケット55が基材10に強く押し付けるため、レジストインクが潰されて当該空間に流れ込む。このため、突起513の密度が高い部分に対応するレジスト層30の端部32では、当該レジスト層30の高さHが低くなるのに対し、突起513が形成されていない中央部31では、レジスト層30の高さHが高くなる。 When the resist ink is printed on the substrate 10 using the gravure plate 51A having such a recess 511, the resist ink filled in the recess 511 is received by the blanket 55 and then transferred to the substrate 10. At this time, the resist ink is received by the blanket 55 in a state where a space is formed in a portion corresponding to the protrusion 513, but the blanket 55 strongly presses the substrate 10 during transfer from the blanket 55 to the substrate 10. The resist ink is crushed and flows into the space. Therefore, the end portion 32 of the resist layer 30 the density of the protrusions 513 corresponding to the high part, while height H 2 of the resist layer 30 is lowered, the central portion 31 projecting 513 is not formed, the height H 1 of the resist layer 30 is increased.

しかも、グラビア版51の突起513の間隔S,S,Sが、凹部511の端部512に向かうに従って徐々に狭くなるように(すなわち空間の密度が高くなるように)設定されているので(S<S<S)、レジスト層30の中央部31と端部32との間には傾斜部33が形成される。 Moreover, the intervals S 1 , S 2 , S 3 of the projections 513 of the gravure plate 51 are set so as to become gradually narrower toward the end portion 512 of the recess 511 (that is, the space density becomes higher). Therefore (S 1 <S 2 <S 3 ), the inclined portion 33 is formed between the central portion 31 and the end portion 32 of the resist layer 30.

因みに、突起513の幅Wが60[μm]よりも大きい場合には、この突起513によって形成される空間が広くなり過ぎ、インクが十分に流れ込まずにピンホールが発生してしまうおそれがある。 Incidentally, when the width W 1 of the protrusion 513 is greater than 60 [[mu] m] is too space is broadened formed by the projection 513, there is a possibility that the ink resulting in pin holes are generated in the not flow sufficiently .

なお、図8に示すように、突起513Bを角柱形状としてもよいし、特に図示しないが、突起513Bを円柱形状としてもよい。この場合には、図中のX軸方向における突起513Bの間隔を、図中のY軸方向に向かうに従って狭くしてもよい。   As shown in FIG. 8, the protrusion 513B may have a prismatic shape, or the protrusion 513B may have a cylindrical shape although not particularly illustrated. In this case, the interval between the protrusions 513B in the X-axis direction in the drawing may be narrowed toward the Y-axis direction in the drawing.

次いで、図5のステップS30において、レジスト層30を介して第1の配線パターン20と交差するように、第2の配線パターン40を基板10上に形成する。具体的には、このステップS30では、図4に示すグラビアオフセット印刷機50を用いて、基材10上に導電性ペーストを印刷し、赤外線加熱炉等を用いてこの導電性ペーストを乾燥させて硬化させることで、第2の配線パターン40を形成する。   Next, in step S <b> 30 of FIG. 5, the second wiring pattern 40 is formed on the substrate 10 so as to intersect the first wiring pattern 20 via the resist layer 30. Specifically, in this step S30, the conductive paste is printed on the base material 10 using the gravure offset printing machine 50 shown in FIG. 4, and the conductive paste is dried using an infrared heating furnace or the like. The second wiring pattern 40 is formed by curing.

なお、ステップS10,S30では、上述のステップS20で使用されるグラビア版51Aとは異なり、凹部に突起513が形成されていない従来のグラビア版を用いる。また、特に図示しないが、ステップS30で使用するグラビア版は、第2の配線パターン40に対応した形状を有する凹部を備えており、図6中のY方向は、この凹部の延在方向に対応している。   In steps S10 and S30, unlike the gravure plate 51A used in step S20 described above, a conventional gravure plate in which no protrusion 513 is formed in the concave portion is used. Although not shown in particular, the gravure plate used in step S30 includes a recess having a shape corresponding to the second wiring pattern 40, and the Y direction in FIG. 6 corresponds to the extending direction of the recess. doing.

以上のように、本実施形態では、レジスト層30を形成するためのグラビア版51Aの凹部511内に複数の突起513が設けられており、この突起513の密度が凹部511の端部512に向かうに従って高くなっている。このため、レジスト層30の端部32を当該レジスト層30の中で最も低くすることができるので、レジスト層30の端部32により生じる段差を小さくすることができ、第2の配線パターン40の断線の発生を抑制することができる。   As described above, in the present embodiment, the plurality of projections 513 are provided in the concave portion 511 of the gravure plate 51A for forming the resist layer 30, and the density of the projections 513 is directed toward the end portion 512 of the concave portion 511. According to the higher. For this reason, since the end portion 32 of the resist layer 30 can be made the lowest in the resist layer 30, the level difference caused by the end portion 32 of the resist layer 30 can be reduced, and the second wiring pattern 40 The occurrence of disconnection can be suppressed.

なお、以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記の実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。   The embodiment described above is described for facilitating the understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.

以下に、本発明をさらに具体化した実施例及び比較例により本発明の効果を確認した。以下の実施例及び比較例は、上述した実施形態における断線発生抑制の効果を確認するためのものである。   Below, the effect of the present invention was confirmed by examples and comparative examples that further embody the present invention. The following examples and comparative examples are for confirming the effect of suppressing disconnection occurrence in the above-described embodiment.

<実施例1>
実施例1では、以下のようにサンプルを作製した。先ず、グラビアオフセット印刷機を用いてPETフィルムの上に銀ペーストを印刷した後に、当該銀ペーストを赤外線乾燥炉で乾燥させることで、幅50[μm]、厚さ2.2[μm]の第1の配線パターンを形成した。
<Example 1>
In Example 1, a sample was produced as follows. First, after a silver paste is printed on a PET film using a gravure offset printing machine, the silver paste is dried in an infrared drying furnace, whereby a width of 50 [μm] and a thickness of 2.2 [μm] are obtained. 1 wiring pattern was formed.

この銀ペーストは、銀粉末(大研化学工業株式会社製 S−603)と、バインダ(東洋紡績株式会社製 バイロン(登録商標)300)と、溶剤(カルビトールアセテート)と、を混合したものである。固形分としての銀粉末の混合割合を85重量%とし、固形分としてのバインダの混合割合を15重量%とし、これら固形分に対して20重量%の溶剤を混合した。また、赤外線乾燥炉において、銀ペーストを150℃で4分間乾燥させた。   This silver paste is a mixture of silver powder (S-603 manufactured by Daiken Chemical Industry Co., Ltd.), a binder (Byron (registered trademark) 300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.), and a solvent (carbitol acetate). is there. The mixing ratio of the silver powder as the solid content was 85% by weight, the mixing ratio of the binder as the solid content was 15% by weight, and 20% by weight of the solvent was mixed with the solid content. Further, the silver paste was dried at 150 ° C. for 4 minutes in an infrared drying oven.

次いで、図6及び図7で説明した構成のグラビア版を用いて、第1の配線パターンが形成されたPETフィルムの上にレジストインクを印刷した後に、当該レジストインクに600[mJ/cm]の紫外線を照射することで、長さ1[mm]、幅100[μm]のレジスト層を形成した。 Next, using the gravure plate having the configuration described with reference to FIGS. 6 and 7, a resist ink is printed on the PET film on which the first wiring pattern is formed, and then 600 [mJ / cm 2 ] is applied to the resist ink. A resist layer having a length of 1 [mm] and a width of 100 [μm] was formed.

このレジストインクは、樹脂(日本合成化学工業株式会社製 UV−7510B)と、重合開始剤(チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製 Irgacure184)と、を混合したものである。樹脂の混合割合を90重量%とし、重合開始剤の混合割合を10重量%とした。また、グラビア版における全ての突起の幅Wを50[μm]とし、突起の間隔S,S,Sをそれぞれ30[μm],60[μm],150[μm]とした。 This resist ink is a mixture of a resin (UV-7510B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and a polymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.). The mixing ratio of the resin was 90% by weight, and the mixing ratio of the polymerization initiator was 10% by weight. Further, the width W 1 of all the projections in the gravure plate was set to 50 [μm], and the intervals S 1 , S 2 and S 3 of the projections were set to 30 [μm], 60 [μm] and 150 [μm], respectively.

このように形成されたレジスト層の厚さは、突起の間隔Sに対応する部分で2.2[μm]、突起の間隔Sに対応する部分で4.4[μm]、突起の間隔Sに対応する部分で8.2[μm]、突起が形成されていない中央のベタ部分で10.2[μm]であった。 The thickness of the thus formed resist layer, 2.2 [[mu] m] at the portion corresponding to the spacing S 1 of the protrusion, 4.4 [[mu] m] at the portion corresponding to the spacing S 2 of the projection, the projection distance 8.2 [[mu] m] at the portion corresponding to S 3, was 10.2 [[mu] m] in the solid portion of the central protrusion is not formed.

次いで、第1の配線パターン及びレジスト層が形成されたPETフィルムの上に銀ペーストを印刷した後に、当該銀ペーストを赤外線乾燥炉で乾燥させることで、幅50[μm]、厚さ2.2[μm]の第2の配線パターンを形成した。   Next, after printing the silver paste on the PET film on which the first wiring pattern and the resist layer are formed, the silver paste is dried in an infrared drying furnace, so that the width is 50 [μm] and the thickness is 2.2. A second wiring pattern of [μm] was formed.

この銀ペーストは、上述の第1の配線パターンを構成する銀ペーストと同様に、銀粉末(大研化学工業株式会社製 S−603)と、バインダ(東洋紡績株式会社製 バイロン(登録商標)300)と、溶剤(カルビトールアセテート)と、を混合したものである。固形分としての銀粉末の混合割合を85重量%とし、固形分としてのバインダの混合割合を15重量%とし、これら固形分に対して溶剤を20重量%混合した。また、赤外線乾燥炉において、銀ペーストを150℃で4分間乾燥させた。   This silver paste is composed of silver powder (S-603, manufactured by Daiken Chemical Co., Ltd.) and a binder (Byron (registered trademark) 300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) in the same manner as the silver paste constituting the first wiring pattern. ) And a solvent (carbitol acetate). The mixing ratio of the silver powder as the solid content was 85% by weight, the mixing ratio of the binder as the solid content was 15% by weight, and 20% by weight of the solvent was mixed with the solid content. Further, the silver paste was dried at 150 ° C. for 4 minutes in an infrared drying oven.

以上のように作製された30個のサンプルについて、第2の配線パターンの抵抗値を測定することで、第2の配線パターンの断線の発生の有無を判定した。この実施例1では、30個のサンプルにおいて第2の配線パターンの断線が発生しているものはなかった(断線発生率0.0%)。   About 30 samples produced as mentioned above, the resistance value of a 2nd wiring pattern was measured, and the presence or absence of generation | occurrence | production of the disconnection of a 2nd wiring pattern was determined. In Example 1, no disconnection of the second wiring pattern occurred in 30 samples (disconnection occurrence rate: 0.0%).

<比較例1>
比較例1では、レジスト層を形成する際のグラビア版として、凹部内に突起が設けられていない従来のグラビア版を用いたこと以外は、実施例1と同様の要領でサンプルを作製した。この比較例1におけるサンプルのレジスト層の厚さを実施例1と同様の要領で測定したところ、10[μm]のほぼ均一の厚さであった。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, a sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that a conventional gravure plate in which no protrusion was provided in the recess was used as the gravure plate for forming the resist layer. When the thickness of the resist layer of the sample in Comparative Example 1 was measured in the same manner as in Example 1, it was a substantially uniform thickness of 10 [μm].

以上のように作製された30個のサンプルについて、実施例1と同様の要領で、第2の配線パターンの断線の発生の有無を判定した。この比較例1では、30個のサンプルのうち4個のサンプルで第2の配線パターンの断線が発生していた(断線発生率13.3%)   About the 30 samples produced as mentioned above, the presence or absence of occurrence of disconnection of the second wiring pattern was determined in the same manner as in Example 1. In Comparative Example 1, disconnection of the second wiring pattern occurred in 4 samples out of 30 samples (disconnection occurrence rate of 13.3%).

<比較例2>
比較例2では、レジスト層をグラビアオフセット印刷に代えてスクリーン印刷を用いて形成したこと以外は、実施例1と同様の要領でサンプルを作製した。この比較例2におけるサンプルのレジスト層の厚さを実施例1と同様の要領で測定したところ、20[μm]のほぼ均一な厚さであった。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 2, a sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resist layer was formed by screen printing instead of gravure offset printing. When the thickness of the resist layer of the sample in Comparative Example 2 was measured in the same manner as in Example 1, it was a substantially uniform thickness of 20 [μm].

以上のように作製された30個のサンプルについて、実施例1と同様の要領で、第2の配線パターンの断線の有無を判定した。この比較例2では、30個のサンプルのうち8個のサンプルで第2の配線パターンの断線が発生していた(断線発生率26.7%)。   About the 30 samples produced as mentioned above, the presence or absence of disconnection of the second wiring pattern was determined in the same manner as in Example 1. In Comparative Example 2, disconnection of the second wiring pattern occurred in 8 samples out of 30 samples (disconnection rate: 26.7%).

以上のように、実施例1と比較例1,2を比較することで、グラビア版の凹部内に複数の突起を設け、この突起の間隔を凹部の端部に向かうに従って狭くすることによって、レジスト層の端部の段差が小さくなることが確認された。   As described above, by comparing Example 1 with Comparative Examples 1 and 2, a plurality of projections are provided in the recesses of the gravure plate, and the intervals between the projections are narrowed toward the end portions of the recesses, thereby providing a resist. It was confirmed that the step at the end of the layer was reduced.

また、実施例1と比較例1,2を比較することで、レジスト層の端部の段差を小さくすることによって、第2の配線パターンの断線の発生が抑制されることが確認された。   In addition, by comparing Example 1 with Comparative Examples 1 and 2, it was confirmed that the occurrence of disconnection of the second wiring pattern was suppressed by reducing the step at the end of the resist layer.

1…プリント配線板
10…基材
20…第1の配線パターン
30…レジスト層
31…中央部
32…端部
33…傾斜部
40…第2の配線パターン
50…グラビアオフセット印刷機
51、51A…グラビア版
511…凹部
512…端部
513…突起
52…版胴
53…インク槽
54…ドクターブレード
55…ブランケット
56…テーブル
…中央部の高さ
…端部の高さ
…突起の幅
〜S…突起の間隔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Printed wiring board 10 ... Base material 20 ... 1st wiring pattern 30 ... Resist layer 31 ... Center part 32 ... End part 33 ... Inclined part 40 ... 2nd wiring pattern 50 ... Gravure offset printing machine 51, 51A ... Gravure Plate 511 ... Concave portion 512 ... End portion 513 ... Protrusion 52 ... Plate cylinder 53 ... Ink tank 54 ... Doctor blade 55 ... Blanket 56 ... Table H 1 ... Height H 2 at the center portion ... Height W 1 at the end portion ... Width S 1 to S 3 ... spacing between protrusions

Claims (5)

基材に設けられた第1の配線パターンと、
前記第1の配線パターンの一部と重なるように前記基材に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層を介して前記第1の配線パターンと交差するように前記基材に設けられた第2の配線パターンと、を備え、
前記絶縁層の端部の高さが、前記絶縁層の中で最も低いことを特徴とするプリント配線板。
A first wiring pattern provided on the substrate;
An insulating layer provided on the base material so as to overlap a part of the first wiring pattern;
A second wiring pattern provided on the base material so as to intersect the first wiring pattern via the insulating layer,
The printed wiring board characterized in that the end portion of the insulating layer has the lowest height among the insulating layers.
請求項1に記載のプリント配線板であって、
前記絶縁層が、前記絶縁層の端部に向かって漸次的に低くなる傾斜部を有し、
前記絶縁層において前記第1の配線パターンと重なっている部分の高さが、前記絶縁層の中で最も高いことを特徴とするプリント配線板。
The printed wiring board according to claim 1,
The insulating layer has an inclined portion that gradually decreases toward an end of the insulating layer;
The printed wiring board, wherein a height of a portion of the insulating layer overlapping the first wiring pattern is the highest among the insulating layers.
第1の配線パターンを基材に形成する第1の工程と、
前記第1の配線パターンの一部と重なるように、絶縁層を前記基材にグラビアオフセット印刷法によって形成する第2の工程と、
前記絶縁層を介して前記第1の配線パターンと交差するように、第2の配線パターンを前記基材にグラビアオフセット印刷法によって形成する第3の工程と、を備え、
前記第2の工程が、前記絶縁層に対応した形状を有する凹部を備えたグラビア版を用いることを含み、
前記凹部内に複数の突起が設けられており、
前記突起の密度が、前記凹部の端部に向かうに従って高くなっていることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A first step of forming a first wiring pattern on a substrate;
A second step of forming an insulating layer on the substrate by a gravure offset printing method so as to overlap a part of the first wiring pattern;
A third step of forming a second wiring pattern on the base material by a gravure offset printing method so as to intersect the first wiring pattern via the insulating layer,
The second step includes using a gravure plate having a recess having a shape corresponding to the insulating layer;
A plurality of protrusions are provided in the recess,
The method of manufacturing a printed wiring board, wherein the density of the protrusions increases toward the end of the recess.
請求項3に記載のプリント配線板の製造方法であって、
前記突起の間隔が、前記凹部の端部に向かうに従って狭くなっていき、
複数の前記突起の幅が、実質的に同一であることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
It is a manufacturing method of the printed wiring board according to claim 3,
The interval between the protrusions becomes narrower toward the end of the recess,
A method for manufacturing a printed wiring board, wherein the plurality of protrusions have substantially the same width.
請求項3又は4に記載のプリント配線板の製造方法であって、
前記突起が、壁型形状、又は、柱型形状を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。
A method for producing a printed wiring board according to claim 3 or 4,
The method of manufacturing a printed wiring board, wherein the protrusion includes a wall shape or a column shape.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2018199218A (en) * 2017-05-25 2018-12-20 トッパン・フォームズ株式会社 Gravure offset printing method

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