JP2014027200A5 - - Google Patents

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特開2012−79457JP2012-79457

本発明における請求項1記載の発明は、以下の工程からなる導電性インクの製造方法であり、
(a)還元促進剤と光活性物質の混同物質を生成する
(b)前記混合物質に対し、多価アルコールを混合し、中間体Aを生成する
(c)前記中間体Aに対し、金属源を添加し導電性インクを精製する
(d)前記導電性インクを撹拌し、金属源の粒径を調整する、
請求項2記載の発明は、光活性物質がベンゾイン型光活性物質であることを特徴とする、請求項1記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項3記載の発明は、還元促進剤が、還元促進作用の他、感紫外線物質を併せ持つことを特徴とする請求項1又は2の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項4記載の発明は、還元促進剤が、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートであることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項5記載の発明は、還元希釈剤が多価アルコールであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項6記載の発明は、還元促進剤と光活性物質の重量混合比が100:0.5乃至100:5の範囲であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項7記載の発明は、中間体Aと金属源の重量混合比が1:3であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法であり、
請求項8記載の発明は、酸化銀を金属源とする導電性インクであって、
前記金属源の他、還元促進剤及び、光活性物質、還元希釈剤を含有することを特徴とする導電性インクであり、
請求項9記載の発明は、含有される金属源粉末の平均直径が3μm以下であることを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の製造方法から製造された導電性インク、又は請求項8記載導電性インクであり、
請求項10記載の発明は、請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法で製造された導電性インク、または請求項8、9の何れか1項に記載の導電性インクにより、回路を製造する方法であって、以下の工程からなることを特徴とする。
(a)基板上に所望の回路パターンの開口を有するステンシルを載置する
(b)ステンシルを介して、導電性インクを基板上に転写する
(c)ステンシルを基板上から取り外し、紫外線を照射して導電性インクを硬化させる
(d)光硬化された導電性インクからなる回路パターンを、基板ごと熱焼成し、当該インクを固化させるとともに、含有される酸化銀を銀へと還元させる
また、請求項11記載の発明は、請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法で製造された導電性インク、または請求項8、9の何れか1項に記載の導電性インクにより、回路を製造する方法であって、以下の工程からなることを特徴とする。
(a)フォトリソグラフィ法により、所望の回路パターンのトレンチをフォトレジストにより形成する。
(b)トレンチに当該導電性インクを充填し、平坦化を行う
(c)導電性インクに紫外線を照射して、硬化させる
(d)光硬化された導電性インクからなる回路パターンを、基板ごと熱焼成し、当該インクを固化させるとともに、含有される酸化銀を銀へと還元させる
また、請求項12記載の発明は、熱焼成温度が200℃乃至250℃であり、かつ熱焼成時間が10分乃至180分であることを特徴とする、請求項10又は11の何れか1項に記載の回路製造方法である。
また、請求項13記載の発明は、紫外線照射量が250mJ以上である請求項10又は11の何れか1項に記載の回路製造方法である。
Invention of Claim 1 in this invention is a manufacturing method of the conductive ink which consists of the following processes,
(A) A mixture of a reduction accelerator and a photoactive substance is generated (b) A polyhydric alcohol is mixed with the mixed substance to generate an intermediate A (c) A metal source for the intermediate A (D) stirring the conductive ink to adjust the particle size of the metal source,
The invention according to claim 2 is the method for producing a conductive ink according to claim 1 , wherein the photoactive substance is a benzoin type photoactive substance.
The invention according to claim 3 is the method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 and 2, wherein the reduction accelerator has an ultraviolet-sensitive substance in addition to the reduction promoting action. ,
Invention of Claim 4 is a manufacturing method of the conductive ink of any one of Claim 1 thru | or 3, wherein a reduction accelerator is dipentaerythritol pentaacrylate,
The invention according to claim 5 is the method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 4, wherein the reducing diluent is a polyhydric alcohol.
Invention of claim 6, wherein the weight mixing ratio of the reduction promoter and a photoactive substance 100: 0.5 to 100: characterized in that it is a range of 5 according to any one of claims 1 to 5 A conductive ink manufacturing method of
The invention according to claim 7 is the method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 6 , wherein the weight mixing ratio of the intermediate A and the metal source is 1: 3. ,
The invention according to claim 8 is a conductive ink using silver oxide as a metal source,
In addition to the metal source, a conductive ink characterized by containing a reduction accelerator, a photoactive substance, and a reducing diluent,
The conductive ink produced from the production method according to any one of claims 1 to 7, wherein the metal source powder contained in the invention according to claim 9 has an average diameter of 3 µm or less. Or a conductive ink according to claim 8,
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a circuit using the conductive ink produced by the method according to any one of the first to seventh aspects or the conductive ink according to any one of the eighth or ninth aspects. Is a method comprising the following steps.
(A) A stencil having a desired circuit pattern opening is placed on the substrate. (B) The conductive ink is transferred onto the substrate via the stencil. (C) The stencil is removed from the substrate and irradiated with ultraviolet rays. (D) The circuit pattern made of the photocured conductive ink is thermally baked together with the substrate to solidify the ink, and the contained silver oxide is reduced to silver .
An eleventh aspect of the present invention is based on the conductive ink produced by the method according to any one of the first to seventh aspects, or the conductive ink according to any one of the eighth and ninth aspects. A method of manufacturing a circuit, comprising the following steps.
(A) A trench having a desired circuit pattern is formed of a photoresist by photolithography.
(B) Fill the trench with the conductive ink and perform planarization. (C) Irradiate the conductive ink with ultraviolet rays to cure (d) A circuit pattern made of photocured conductive ink for each substrate. Heat-baking is performed to solidify the ink, and the contained silver oxide is reduced to silver .
The invention of claim 12, wherein is the thermal firing temperature is 200 ° C. to 250 ° C., and wherein the thermal firing time is 10 minutes to 180 minutes, either one of claims 10 or 11 it is a circuit method according to.
The invention according to claim 13 is the circuit manufacturing method according to any one of claims 10 and 11, wherein the ultraviolet irradiation amount is 250 mJ or more.

本発明により製造された導電インクは、厚膜細線を形成でき、その形状保持性に優れ、かつ高い導電性を有することから、プリンテッドエレクトロニクスを初めとした、導電性インクの印刷により電極や回路を形成する分野において、その製品の性能向上と低価格に対して、格別の効果を有する。
The conductive ink produced according to the present invention can form a thick thin film wire, has excellent shape retention, and has high conductivity. Therefore, the printed ink and other conductive inks can be used to print electrodes and circuits. In the field of forming the product, it has a special effect on the performance improvement and price reduction of the product.

Claims (13)

以下の工程からなる導電性インクの製造方法
(a)還元促進剤と光活性物質の混同物質を生成する
(b)前記混合物質に対し、多価アルコールを混合し、中間体Aを生成する
(c)前記中間体Aに対し、金属源を添加し導電性インクを精製する
(d)前記導電性インクを撹拌し、金属源の粒径を調整する
(A) Producing a mixed substance of a reduction accelerator and a photoactive substance (b) Mixing the mixed substance with a polyhydric alcohol to produce an intermediate A ( c) A metal source is added to the intermediate A to refine the conductive ink. (d) The conductive ink is stirred to adjust the particle size of the metal source.
光活性物質がベンゾイン型光活性物質であることを特徴とする、請求項記載の導電性インクの製造方法。 Wherein the photoactive material is a benzoin type optical active substance, method for producing a conductive ink according to claim 1, wherein. 還元促進剤が、還元促進作用の他、感紫外線物質を併せ持つことを特徴とする請求項1又は2の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法。 Reduction promoter is other reducing promoting action, method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 or 2, characterized in that both sensitive UV materials. 還元促進剤が、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートであることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法。 Reduction promoter The method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 3, characterized in that dipentaerythritol pentaacrylate. 還元希釈剤が多価アルコールであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法。 The method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 4 , wherein the reducing diluent is a polyhydric alcohol. 還元促進剤と光活性物質の重量混合比が100:0.5乃至100:5の範囲であることを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法。 Weight mixing ratio of reduction promoter and a photoactive substance 100: 0.5 to 100: method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 5, characterized in that in the range of 5. 中間体Aと金属源の重量混合比が1:3であることを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の導電性インクの製造方法。 Method for producing a conductive ink according to any one of claims 1 to 6, characterized in that a 3: mixing ratio by weight of Intermediate A and the metal source 1. 酸化銀を金属源とする導電性インクであって、
前記金属源の他、還元促進剤及び、光活性物質、還元希釈剤を含有することを特徴とする導電性インク。
A conductive ink using silver oxide as a metal source,
A conductive ink containing a reduction accelerator, a photoactive substance, and a reducing diluent in addition to the metal source.
含有される金属源粉末の平均直径が3μm以下であることを特徴とする請求項1乃至7の何れか1項に記載の製造方法から製造された導電性インク、又は請求項8記載導電性インク。 Wherein the average diameter of the metal source powder contained is 3μm or less, the conductive ink produced from the manufacturing method according to any one of claims 1 to 7, or claim 8 conductivity according Ink. 請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法で製造された導電性インク、または請求項8、9の何れか1項に記載の導電性インクにより、回路を製造する方法であって、以下の工程からなることを特徴とする。
(a)基板上に所望の回路パターンの開口を有するステンシルを載置する
(b)ステンシルを介して、導電性インクを基板上に転写する
(c)ステンシルを基板上から取り外し、紫外線を照射して導電性インクを硬化させる
(d)光硬化された導電性インクからなる回路パターンを、基板ごと熱焼成し、当該インクを固化させるとともに、含有される酸化銀を銀へと還元させる。
The conductive ink according to any one of claims 1 to any one the conductive ink produced by the method according to 7 or claim 8, 9, to a method of manufacturing a circuit, It consists of the following processes.
(A) A stencil having a desired circuit pattern opening is placed on the substrate. (B) The conductive ink is transferred onto the substrate via the stencil. (C) The stencil is removed from the substrate and irradiated with ultraviolet rays. (D) The circuit pattern made of the photocured conductive ink is thermally baked together with the substrate to solidify the ink, and the contained silver oxide is reduced to silver.
請求項1乃至7の何れか1項に記載の方法で製造された導電性インク、または請求項8、9の何れか1項に記載の導電性インクにより、回路を製造する方法であって、以下の工程からなることを特徴とする。
(a)フォトリソグラフィ法により、所望の回路パターンのトレンチをフォトレジストにより形成する。
(b)トレンチに当該導電性インクを充填し、平坦化を行う
(c)導電性インクに紫外線を照射して、硬化させる
(d)光硬化された導電性インクからなる回路パターンを、基板ごと熱焼成し、当該インクを固化させるとともに、含有される酸化銀を銀へと還元させる。
The conductive ink according to any one of claims 1 to any one the conductive ink produced by the method according to 7 or claim 8, 9, to a method of manufacturing a circuit, It consists of the following processes.
(A) A trench having a desired circuit pattern is formed of a photoresist by photolithography.
(B) Fill the trench with the conductive ink and perform planarization. (C) Irradiate the conductive ink with ultraviolet rays to cure (d) A circuit pattern made of photocured conductive ink for each substrate. Heat-baking is performed to solidify the ink, and the contained silver oxide is reduced to silver.
熱焼成温度が200℃乃至250℃であり、かつ熱焼成時間が10分乃至180分であることを特徴とする、請求項10又は11の何れか1項に記載の回路製造方法。 12. The circuit manufacturing method according to claim 10, wherein the heat baking temperature is 200 ° C. to 250 ° C. and the heat baking time is 10 minutes to 180 minutes. 紫外線照射量が250mJ以上である請求項10又は11の何れか1項に記載の回路製造方法。
The circuit manufacturing method according to claim 10, wherein the ultraviolet irradiation amount is 250 mJ or more.
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