JP2014026061A - 液晶表示装置 - Google Patents

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JP2014026061A JP2012165332A JP2012165332A JP2014026061A JP 2014026061 A JP2014026061 A JP 2014026061A JP 2012165332 A JP2012165332 A JP 2012165332A JP 2012165332 A JP2012165332 A JP 2012165332A JP 2014026061 A JP2014026061 A JP 2014026061A
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Hideaki Sakai
英明 酒井
Kenji Ogura
健慈 小倉
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Abstract

【課題】 本発明に係る液晶表示装置によれば、広視野角化を実現させるとともに、画素の開口率の低下を抑制できる。
【解決手段】液晶表示装置1は、X方向に隣り合う画素P1,P2において、一方の画素P1の信号電極228には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向
に延在する複数の第1スリットS1が設けられており、他方の画素P2の信号電極228に
は、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜するとともに第1方向とは異なる第2方向に延在する複数の第2スリットS2が設けられており、X方向に隣り合う画素P1,P2に隣接する2つのゲート配線221のうち少なくとも一方のゲート配線221は、一方の画素P1に隣接する部位2211が第1方向に延在しているとともに、他方の画素P2に隣接する部位2212が第2方向に延在していることを特徴とする。
【選択図】 図3

Description

本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機または携帯型情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、互いに対向配置させた一対の基板と、これら一対の基板間に設けられた液晶層とを備える。また、一対の基板のうち一方の基板上には直線状の複数のゲート配線および直線状の複数のソース配線が互いに交差するように設けられており、複数のゲート配線および複数のソース配線を覆うように平坦化膜が設けられている。また、この平坦化膜上であって、複数のゲート配線および複数のソース配線によって囲まれた画素には共通電極が設けられており、この共通電極上には絶縁膜を介して信号電極が設けられている(例えば、特許文献1参照)。この信号電極には、信号電極の長辺方向に配列し、信号電極の短辺方向に対して傾斜して延在する複数のスリットが形成されている。
このような液晶表示装置では、一方の基板上に設けられた信号電極および共通電極に対し電圧を印加することで、信号電極と共通電極との間でスリットを通る電界を発生させ、この電界によって液晶層中の液晶分子の配向を制御して、広視野角化を実現させている。
また、近年では、液晶表示装置に対してさらなる広視野角化が求められている。これに対して、図6の液晶表示装置に示すように、隣り合う画素Pにおいて信号電極228に形成
されたスリットSの延在方向を異ならせて、隣り合う画素Pで電界印加時の液晶分子の配向を変えることで、さらなる広視野角化を実現させている。
特開2007−226175号公報
しかしながら、図6に示す液晶表示装置のように、信号電極228をゲート配線221およびソース配線224に近接して形成した場合は、信号電極228は長方形状となるので、信号電極228の長辺方向(Y方向)に配列するとともに短辺方向(X方向)に対して傾斜する複数
スリットSを信号電極228に形成しようとすると、信号電極228のY方向の端部においてスリットSが形成されにくい領域Dが存在する。スリットSが形成されず、この領域Dに電極部分が残ってしまった場合は、この部分で画素の開口率が低下し、光の透過率が低下しやすくなるという問題点があった。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、広視野角化を実現させるとともに、画素の開口率の低下を抑制した液晶表示装置を提供することである。
本発明に係る液晶表示装置は、主面同士を対向させて配置された第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記第2基板の間に配置された液晶層と、前記第2基板の前記主面上にY方向に配列して設けられた複数のゲート配線と、前記第2基板の前記主面上に前記Y方向と直交するX方向に配列して設けられた、複数の前記ゲート配線に交差する複数の直線状のソース配線と、複数の前記ゲート配線および複数の前記ソース配線を覆うように前記第2基板の前記主面上に設けられた第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた
、複数の前記ゲート配線および複数の前記ソース配線によって囲まれた画素に位置する第1表示電極と、第2絶縁膜を介して前記第1表示電極上に設けられた、前記画素ごとに位置する複数の第2表示電極とを備え、X方向に隣り合う前記画素において、一方の前記画素の前記第2表示電極には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向に延在する複数の第1スリットが設けられており、他方の前記画素の前記第2表示電極には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜するとともに前記第1方向とは異なる第2方向に延在する複数の第2スリットが設けられており、X方向に隣り合う前記画素に隣接する2つの前記ゲート配線のうち少なくとも一方のゲート配線は、一方の前記画素に隣接する部位が前記第1方向に延在しているとともに、他方の前記画素に隣接する部位が前記第2方向に延在していることを特徴とする。
本発明に係る液晶表示装置によれば、広視野角化を実現させるとともに、画素の開口率の低下を抑制できる。
本発明の第1の実施形態における液晶表示装置を示す平面図である。 図1のI−I線に沿った断面図である。 第2基板上の配線、電極および薄膜トランジスタを示す平面図である。 図3のII−II線に沿った断面図である。 本発明の第2の実施形態における液晶表示装置の要部を示す平面図である。 従来の液晶表示装置を示す平面図である。
[第1の実施形態]
本発明の第1の実施形態における液晶表示装置1について、図1〜図4を参照しながら説明する。
液晶表示装置1は、液晶パネル2と、液晶パネル2に向けて光を出射する光源装置3と、液晶パネル2上に配置される第1偏光板4と、液晶パネル2と光源装置3との間に配置される第2偏光板5とを備えている。
液晶パネル2では、第1基板21と第2基板22とが対向配置され、第1基板21と第2基板22との間に液晶層23が設けられているとともに、この液晶層23を取り囲むように第1基板21と第2基板22とを接合するシール材24が設けられている。
第1基板21は、画像表示の際に表示面として用いられる第1主面21aと、第1主面21aとは反対側に位置する第2主面21bとを有している。第1基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。
第1基板21の第2主面21b上には、遮光膜211およびカラーフィルタ212が設けられている。
遮光膜211は光を遮光する機能を有する。遮光膜211は、第1基板21の第2主面21b上に各画素Pの外周に沿って格子状に設けられている。遮光膜211の材料は、例えば、遮光性
の高い色(例えば黒色)の染料または顔料が添加された樹脂、またはクロムなどの金属が挙げられる。なお、本実施形態における遮光膜211は第2主面21b上に格子状に形成され
ているが、これには限られない。
カラーフィルタ212は、可視光のうち特定の波長のみを透過させる機能を有する。複数
のカラーフィルタ212は、第1基板21の第2主面21b上に位置しており、各画素Pごとに
設けられている。各カラーフィルタ212は、赤(R)、緑(G)および青(B)のいずれ
かの色を有している。また、カラーフィルタ212は、上記の色に限られず、例えば、黄色
(Y)、白(W)などの色を有してもよい。カラーフィルタ212の材料としては、例えば
染料または顔料を添加した樹脂が挙げられる。
第2基板22は、第1基板21の第2主面21bに対向する第1主面22aと、第1主面22aの反対側に位置する第2主面22bとを有している。第2基板22は第1基板21と同様の材料で形成できる。
第2基板22の第1主面22a上には、複数のゲート配線221が設けられており、複数のゲ
ート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。このゲート絶縁膜222上に
は複数のソース配線224が設けられているとともに、複数のソース配線224を覆うように第1層間絶縁膜223が設けられている。また、第1層間絶縁膜223上には覆うように平坦化膜225が設けられている。また、平坦化膜225上には共通電極226が設けられている。共通電
極226を覆うように平坦化膜225上には第2層間絶縁膜227が設けられており、この第2層
間絶縁膜227上には信号電極228が設けられている。
ゲート配線221は、駆動IC(図示せず)から供給される電圧を薄膜トランジスタTFTに印加する機能を有する。図3に示すように、複数のゲート配線221はY方向に沿って配列
されている。また、ゲート配線221は屈曲しながらX方向に延在している。
図3には、2つのゲート配線221および4つのソース配線224によって囲まれた第1画素P1、第2画素P2および第3画素P3が示されている。図3に示されている2つのゲート配線221は、第1画素P1、第2画素P2および第3画素P3に隣接している。また、
2つのゲート配線221は、第1画素P1に隣接する第1部位2211、第2画素P2に隣接す
る第2部位2212、および第3画素P3に隣接する第3部位2213を有している。ゲート配線221の第1部位2211、第2部位2212および第3部位2213は、X方向に対して傾斜し延在し
ている。
ゲート配線221は、導電性を有する材料によって形成され、例えば、アルミニウム、モ
リブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される。
なお、ゲート配線221は例えば下記方法によって形成される。
まず、スパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法によって、金属材料を第2基板22の第1主面22a上に金属膜として形成する。この金属膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、金属膜をエッチング液でエッチングして、金属膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように、金属材料を成膜およびパターニングすることでゲート配線221を形成できる。
ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第1主面22a上に設けられている。ゲート絶縁膜222は、窒化シリコン、酸化シリコンなどの絶縁性を有する材料によって形成さ
れる。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法または化学気相成長
法などによって第2基板22の第1主面22a上に形成できる。
ソース配線224は、駆動ICから供給される信号電圧を薄膜トランジスタTFTを介して信号電極228に印加する機能を有する。ソース配線224はゲート絶縁膜222上に設けられてい
る。図3に示すように、複数のソース配線224は直線状に形成されているとともに、Y方
向に延在している。また、複数のソース配線224はX方向に沿って配列されている。ソー
ス配線224はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。なお、ソース配線224はゲー
ト配線221と同様の方法によって形成できる。
第1層間絶縁膜223はソース配線224を覆うようにゲート絶縁膜222上に設けられている
。第1層間絶縁膜223は絶縁性を有する材料によって形成され、例えば、窒化シリコン、
酸化シリコンなどの無機材料が挙げられる。
薄膜トランジスタTFTは、非晶質シリコン、多結晶シリコンまたは酸化物半導体などの
半導体層と、この半導体層上に設けられるとともに、ソース配線224に接続されたソース
電極と、ドレイン電極とを有する。また、薄膜トランジスタTFTのドレイン電極はコンタ
クトホールを介して信号電極228に接続されている。
薄膜トランジスタTFTでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極228への
画像信号の書き込みまたは非書き込みが制御される。
平坦化膜225は、ソース配線224と共通電極226とを電気的に絶縁させる機能を有する。
平坦化膜225は、有機材料によって形成され、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂
またはポリイミド系樹脂などの樹脂で形成される。なお、平坦化膜225の膜厚は例えば1
μm〜5μmの範囲で設定されている。
共通電極226は、駆動ICから印加された電圧によって信号電極228との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極226は平坦化膜225上に設けられている。共通電極226は、
透光性および導電性を有する材料によって形成され、例えばITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、ATO(Antimony Tin Oxide)、AZO(Al-Doped Zinc Oxide)、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
第2層間絶縁膜227は、信号電極228と共通電極226とを電気的に絶縁する機能を有する
。第2層間絶縁膜227は第1層間絶縁膜223と同様の材料で形成してもよい。
信号電極228は、駆動ICから印加された信号電圧によって共通電極226との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極228は第2層間絶縁膜227上に設けられており、画素Pごとに位置している。なお、信号電極228は共通電極226と同様の材料で形成してもよい。
信号電極228には複数のスリットSが設けられている。図3において、第1画素P1に
位置する信号電極228には、ソース配線224の配列方向(X方向)に対し傾斜して延在する第1スリットS1が設けられている。また、第2画素P2に位置する信号電極228には、
X方向に対して傾斜するとともに、第1スリットS1とは異なる方向に延在する第2スリットS2が設けられている。なお、第1画素P1に位置する信号電極228と同様に、第3
画素P3に位置する信号電極228には複数の第1スリットS1が設けられている。また、
本実施形態では、スリットSが長方形状を成しているが、これには限定されず、例えば楕円状などでもよい。
また、図3に示すように、ゲート配線221の第1部位2211が第1スリットS1の延在方
向に屈曲しているとともに、第2部位2212が第2スリットS2の延在方向に屈曲している。なお、ゲート配線221の第3部位2213は第1スリットS1の延在方向に屈曲している。
液晶表示装置1では、2つのゲート配線221の第1部位2211が第1スリットS1の延在
方向に屈曲しているとともに、第2部位2212が第2スリットS2の延在方向に屈曲している。すなわち、ゲート配線221が信号電極228の第1スリットS1および第2スリットS2の延在方向に合わせて屈曲している。これによって、信号電極228をソース配線224およびゲート配線221に近接して形成した場合であっても、信号電極228のY方向の端辺はゲート配線221の屈曲方向に対応して傾斜することになる。したがって、第1画素P1の信号電
極228におけるY方向の端辺近傍まで第1スリットS1を形成できるとともに、第2画素
P2の信号電極228におけるY方向の端辺近傍まで第2スリットS2を形成できるので、
信号電極228におけるY方向の端部の電極形成領域を小さくでき、画素Pの開口率の低下
を抑制し、光の透過率の低下を抑制できる。
なお、液晶表示装置1では、第1画素P1および第2画素P2に隣接する2つのゲート配線221において第1部位2211、第2部位2212および第3部位2213を傾斜させているが、
これには限られない。すなわち、2つのゲート配線221における少なくとも一方のゲート
配線221の第1部位2211、第2部位2212および第3部位2213を傾斜させればよい。
また、液晶表示装置1では、X方向に隣り合う第1画素P1と第2画素P2との間に位置する直線状のソース配線224を基準にして、第1スリットS1の延在方向と第2スリッ
トS2の延在方向とは対称になっている。これによって、第1画素P1と第2画素P2とにおける液晶層23の電界印加時の液晶分子の配向方向が対称的になるので、視野角特性が向上する。
なお、本実施形態では、共通電極226、第2層間絶縁膜227、信号電極228の順に設けて
いるが、これに限られない。すなわち、信号電極228上に第2層間絶縁膜227を介して共通電極226を形成させ、信号電極228、第2層間絶縁膜227、共通電極226の順に設けてもよい。なお、この場合、共通電極226にスリットSを形成すればよい。
液晶層23は、第1基板21と第2基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶などを含んでいる。
シール材24は、第1基板21と第2基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は第1基板21と第2基板22との間に設けられている。このシール材24は、エポキシ樹脂などによって形成される。
光源装置3は、液晶パネル2に向けて光を出射する機能を有する。光源装置3は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置3では、光源31にLEDなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
第1偏光板4は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第1偏光板4は、液晶パネル2の第1基板21の第1主面21aに対向するように配置されている。
第2偏光板5は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第2偏光板5は、第2基板22の第2主面22bに対向するように配置されている。
[第2の実施形態]
図5は、第2の実施形態における液晶表示装置1Aの要部を示す平面図である。
液晶表示装置1Aは液晶表示装置1に比べて下記の点で異なる。
第1画素P1の信号電極228には、Y方向の一端側(図5の下側)に複数の第1スリッ
トS1が設けられているとともに、Y方向の他端側(図5の上側)にY方向に沿って配列
するとともに第2スリットS2の延在方向に延在する複数の第3スリットS3が設けられている。また、第2画素P2の信号電極228には、Y方向の一端側に複数の第2スリット
S2が設けられているとともに、Y方向の他端側にY方向に沿って配列するとともに、第1スリットS1の延在方向に延在する複数の第4スリットS4が設けられている。
これによって、液晶表示装置1Aでは、第1画素P1(第2画素P2)において、異なる方向に延在する第1スリットS1(第2スリットS2)および第3スリットS3(第4スリットS4)が形成されているので、1つの画素P内でマルチドメインを形成でき、液晶表示装置1の視野角特性が向上する。
また、図5に示すように、2つのゲート配線221のうち一端側(図5の下側)のゲート
配線221は、第1画素P1に隣接する第1部位2211が第1スリットS1の延在方向に屈曲
しているとともに、第2画素P2に隣接する第2部位2212が第2スリットS2に延在方向に屈曲している。
また、図5に示すように、2つのゲート配線221のうち他端側(図5の上側)のゲート
配線221は、第1画素P1に隣接する第1部位2211が第3スリットS3の延在方向(第2
スリットS2の延在方向)に屈曲しているとともに、第2画素P2に隣接する第2部位2212が第4スリットS4に延在方向(第1スリットS1の延在方向)に屈曲している。
すなわち、液晶表示装置1では、一端側(図5の下側)のゲート配線221は、第1画素
P1に隣接する第1部位2211が第1スリットS1の延在方向に屈曲しており、第2画素P2に隣接する第2部位2212が第2スリットS2の延在方向に屈曲しているとともに、他端側(図5の上側)のゲート配線221は、第1画素P1に隣接する第1部位2211が第3スリ
ットS3の延在方向(第2スリットS2の延在方向)に屈曲しているとともに、第2画素P2に隣接する第2部位2212が第4スリットS4の延在方向(第1スリットS1の延在方向)に屈曲している。これによって、信号電極228をソース配線224およびゲート配線221
に近接して形成した場合であっても、信号電極228のY方向の端辺はゲート配線221の屈曲方向に対応して傾斜することになる。したがって、第1画素P1における信号電極228の
Y方向の端辺近傍まで第1スリットS1および第3スリットS3を形成できるとともに、第2画素P2における信号電極228のY方向の端辺近傍まで第2スリットS2および第4
スリットS4を形成できるので、信号電極228におけるY方向の端部での電極形成領域を
小さくでき、画素Pの開口率の低下を抑制し、光の透過率の低下を抑制できる。
また、液晶表示装置1では、X方向に隣り合う第1画素P1と第2画素P2との間に位置する直線状のソース配線224を基準にして、第2スリットS2の延在方向と第1スリッ
トS2の延在方向とは対称になっている。これによって、第1画素P1と第2画素P2とにおける液晶層23の電界印加時の液晶分子の配向方向が対称的になるので、視野角特性が向上する。
本発明は第1および第2の実施形態に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。
1、1A 液晶表示装置
2 液晶パネル
P 画素
P1 第1画素
P2 第2画素
P3 第3画素
21 第1基板
21a 第1主面
21b 第2主面(主面)
211 遮光膜
212 カラーフィルタ
22 第2基板
22a 第1主面(主面)
22b 第2主面
221 ゲート配線
2211 第1部位
2212 第2部位
2213 第3部位
222 ゲート絶縁膜
223 第1層間絶縁膜
224 ソース配線
225 平坦化膜(第1絶縁膜)
226 共通電極(第1表示電極)
227 第2層間絶縁膜(第2絶縁膜)
228 信号電極(第2表示電極)
23 液晶層
24 シール材
3 光源装置
31 光源
32 導光板
4 第1偏光板
5 第2偏光板

Claims (3)

  1. 主面同士を対向させて配置された第1基板および第2基板と、前記第1基板および前記第2基板の間に配置された液晶層と、前記第2基板の前記主面上にY方向に配列して設けられた複数のゲート配線と、前記第2基板の前記主面上に前記Y方向と直交するX方向に配列して設けられた、複数の前記ゲート配線に交差する複数の直線状のソース配線と、複数の前記ゲート配線および複数の前記ソース配線を覆うように前記第2基板の前記主面上に設けられた第1絶縁膜と、該第1絶縁膜上に設けられた、複数の前記ゲート配線および複数の前記ソース配線によって囲まれた画素に位置する第1表示電極と、第2絶縁膜を介して前記第1表示電極上に設けられた、前記画素ごとに位置する複数の第2表示電極とを備え、
    X方向に隣り合う前記画素において、一方の前記画素の前記第2表示電極には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜する第1方向に延在する複数の第1スリットが設けられており、他方の前記画素の前記第2表示電極には、Y方向に沿って配列した、X方向に対して傾斜するとともに前記第1方向とは異なる第2方向に延在する複数の第2スリットが設けられており、
    X方向に隣り合う前記画素に隣接する2つの前記ゲート配線のうち少なくとも一方のゲート配線は、一方の前記画素に隣接する部位が前記第1方向に延在しているとともに、他方の前記画素に隣接する部位が前記第2方向に延在していることを特徴とする液晶表示装置。
  2. X方向に隣り合う前記画素において、一方の前記画素の前記第2表示電極には、Y方向の一端側に複数の前記第1スリットが設けられているとともに、Y方向の他端側にY方向に沿って配列した前記第2方向に延在する複数の第3スリットが設けられており、他方の前記画素の前記第2表示電極には、前記一端側に複数の前記第2スリットが設けられているとともに、前記他端側にY方向に沿って配列した前記第1方向に延在する複数の第4スリットが設けられており、
    X方向に隣り合う前記画素に隣接する2つの前記ゲート配線のうち前記一端側の前記ゲート配線は、一方の前記画素に隣接する部位が前記第1方向に延在するとともに他方の前記画素に隣接する部位が前記第2方向に延在しており、前記他端側の前記ゲート配線は、一方の前記画素に隣接する部位が前記第2方向に延在するとともに他方の前記画素に隣接する部位が前記第1方向に延在していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記第2方向は、X方向に隣り合う前記画素の間に位置する前記ソース配線を基準に前記第1方向と対称となる方向である請求項1または2に記載の液晶表示装置。
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