JP2014014794A - Coating film forming method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、塗布膜形成方法に関し、特にスピンコート法(回転塗布法)により基板上に塗布膜を形成する技術に関する。 The present invention relates to a coating film forming method, and more particularly to a technique for forming a coating film on a substrate by spin coating (rotary coating).
従来から、基板上に塗布膜を形成する方法の1つとして、スピンコート法が知られている。スピンコート法では、高速回転させた基板の上面に、塗布膜を構成する材料を含む塗布剤を滴下し、その塗布剤を遠心力により基板の上面に広げて、均一な厚みの塗布膜を形成する。
ところで、基板上に塗布膜を形成する際には、基板の外周縁部に塗布剤が付着しないことが好ましい場合がある。基板の外周縁部は、基板を取り扱う際に治具や収納ケースと接触し易いため、外周縁部に塗布剤が付着していると、治具や収納ケースが塗布剤で汚れるからである。そして、治具や収納ケースが塗布剤で汚れると、二次汚染により基板も汚れるからである。
Conventionally, a spin coating method is known as one of methods for forming a coating film on a substrate. In the spin coat method, a coating agent containing the material constituting the coating film is dropped onto the top surface of the substrate rotated at high speed, and the coating agent is spread on the top surface of the substrate by centrifugal force to form a coating film with a uniform thickness. To do.
By the way, when forming a coating film on a board | substrate, it may be preferable that a coating agent does not adhere to the outer periphery part of a board | substrate. This is because the outer peripheral edge portion of the substrate easily comes into contact with the jig or the storage case when handling the substrate, and therefore, if the coating agent adheres to the outer peripheral edge portion, the jig or the storage case becomes dirty with the coating agent. This is because if the jig or the storage case becomes dirty with the coating agent, the substrate also becomes dirty due to secondary contamination.
基板の外周縁部に塗布剤が付着することを防止する方法の1つとして、特許文献1には、図16(a)に示すように、基板901の外周縁部の上面に枠状の保護フィルム902を貼り付け、図16(b)に示すように、その状態でスピンコート法により塗布剤903を塗布し、図16(c)に示すように、塗布後は保護フィルム902を基板901から剥離することによって、図16(d)に示すように、基板901の外周縁部の上面に塗布剤903を付着させることなく塗布膜904を形成することが記載されている。
As one method for preventing the coating agent from adhering to the outer peripheral edge of the substrate,
また、特許文献2には、図7に示すように、基板911の外周縁部の上面にブロック層912を形成するとともに、当該外周縁部の下面および側面にもブロック層913,914を形成し、その状態でスピンコート法により塗布剤を塗布して、塗布後はそれらブロック層912〜914を、加熱により蒸発させることによって除去し、或いは溶剤により溶解させることによって除去し、基板911の外周縁部の上面だけでなく下面および側面にも、塗布剤の飛沫915を付着させることなく塗布膜を形成することが記載されている。
In
しかしながら、特許文献1に記載の塗布膜形成方法は、基板901の外周縁部の上面に塗布剤903が付着することを防止できるものの、当該外周縁部の下面および側面に塗布剤903の飛沫が付着することまでは防止できない。一方、特許文献2に記載の塗布膜形成方法は、基板911の外周縁部の下面および側面に塗布剤の飛沫915が付着することまでも防止できるものの、ブロック層912〜914を除去するために加熱が必要であったり、或いは溶剤の使用が必要であったりする。そのため、熱に弱い塗布剤を塗布する際には活用できない、或いは溶剤に溶解する塗布剤を塗布する際には活用できないと言ったように、使用できる塗布剤の種類が制限されることから、塗布膜形成方法としての汎用性に乏しい。
However, although the coating film forming method described in
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであって、基板の外周縁部の下面および側面への塗布剤の付着を防止でき、且つ、汎用性も高い塗布膜形成方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a coating film forming method that can prevent the coating agent from adhering to the lower and side surfaces of the outer peripheral edge of the substrate and has high versatility. And
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法は、基板上の所定領域にスピンコート法により塗布剤を塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、前記所定領域に応じた領域に開口が設けられ且つ前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第1保護フィルムを、前記基板の上面に、前記開口内に前記所定領域が含まれ且つ前記第1保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第1保護フィルム貼付工程と、前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第2保護フィルムを、前記基板の下面に、前記第2保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第2保護フィルム貼付工程と、前記第1保護フィルム貼付工程および前記第2保護フィルム貼付工程後に、第1保護フィルムの外周縁部と第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せるフィルム貼り合せ工程と、前記フィルム貼り合せ工程後に、前記所定領域にスピンコート法により前記塗布剤を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、前記第1保護フィルムおよび前記第2保護フィルムを前記基板から剥離するフィルム剥離工程と、を含む。 In order to achieve the above object, a coating film forming method according to an aspect of the present invention is a coating film forming method in which a coating agent is applied to a predetermined region on a substrate by spin coating to form a coating film, A first protective film having an opening provided in a region corresponding to the predetermined region and having an outer contour larger than the outer contour of the substrate is formed on the upper surface of the substrate, the predetermined region is included in the opening, and the first A first protective film application step for attaching the outer peripheral edge of the protective film so as to protrude from the outer peripheral edge of the substrate, and a second protective film having an outer contour larger than the outer contour of the substrate, on the lower surface of the substrate, A second protective film attaching step for attaching an outer peripheral edge portion of the second protective film so as to protrude from an outer peripheral edge of the substrate; the first protective film attaching step; and the second protective film attaching step. In addition, a film bonding step for bonding the outer peripheral edge portion of the first protective film and the outer peripheral edge portion of the second protective film, and after the film bonding step, the coating agent is applied to the predetermined region by a spin coating method. And a film peeling step of peeling the first protective film and the second protective film from the substrate after the coating step.
本発明の一態様に係る塗布膜形成方法は、基板の上面に貼り付けた第1保護フィルムの外周縁部と、前記基板の下面に貼り付けた第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せた後に、スピンコート法により塗布剤を塗布するため、前記基板の外周縁部の上面、下面および側面への塗布剤の付着を防止できる。また、第1保護フィルムおよび第2保護フィルムを剥離により除去するため、除去工程を考慮して塗布剤の種類を制限する必要がなく、汎用性の高い塗布膜形成方法である。 The coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention bonds the outer peripheral part of the 1st protective film affixed on the upper surface of the board | substrate, and the outer peripheral part of the 2nd protective film affixed on the lower surface of the said board | substrate. After that, since the coating agent is applied by a spin coating method, it is possible to prevent the coating agent from adhering to the upper surface, the lower surface, and the side surface of the outer peripheral edge of the substrate. In addition, since the first protective film and the second protective film are removed by peeling, it is not necessary to limit the type of coating agent in consideration of the removal step, and this is a highly versatile coating film forming method.
以下に、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法について、図面を参照しながら説明する。
<本発明の一態様の概要>
本発明の一態様に係る塗布膜形成方法は、基板上の所定領域にスピンコート法により塗布剤を塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成方法であって、前記所定領域に応じた領域に開口が設けられ且つ前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第1保護フィルムを、前記基板の上面に、前記開口内に前記所定領域が含まれ且つ前記第1保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第1保護フィルム貼付工程と、前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第2保護フィルムを、前記基板の下面に、前記第2保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第2保護フィルム貼付工程と、前記第1保護フィルム貼付工程および前記第2保護フィルム貼付工程後に、第1保護フィルムの外周縁部と第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せるフィルム貼り合せ工程と、前記フィルム貼り合せ工程後に、前記所定領域にスピンコート法により前記塗布剤を塗布する塗布工程と、塗布工程後に、前記第1保護フィルムおよび前記第2保護フィルムを前記基板から剥離するフィルム剥離工程と、を含む。
Hereinafter, a coating film forming method according to one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
<Outline of One Embodiment of the Present Invention>
A coating film forming method according to an aspect of the present invention is a coating film forming method for forming a coating film by applying a coating agent to a predetermined region on a substrate by a spin coating method, and the coating film forming method is provided in a region corresponding to the predetermined region. A first protective film having an opening and having an outer contour larger than the outer contour of the substrate is formed on the upper surface of the substrate, the predetermined region is included in the opening, and the outer peripheral edge of the first protective film is A first protective film sticking step for sticking so as to protrude from the outer peripheral edge of the substrate, and a second protective film having an outer contour larger than the outer contour of the substrate on the lower surface of the substrate. After the second protective film sticking step, the peripheral edge portion sticking out of the outer peripheral edge of the substrate, the first protective film sticking step, and the second protective film sticking step, A film laminating step for laminating the peripheral edge portion and the outer peripheral edge portion of the second protective film, an application step of applying the coating agent to the predetermined region by a spin coating method after the film laminating step, and after the application step, A film peeling step of peeling the first protective film and the second protective film from the substrate.
また、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の特定の局面では、前記開口は前記所定領域と同じ形状であって、前記第1保護フィルム貼付工程において、前記第1保護フィルムを、前記基板の上面に、前記開口と前記所定領域とが一致するように貼り付ける。
また、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の特定の局面では、前記フィルム貼り合せ工程において、第1保護フィルムの外周縁部と第2保護フィルムの外周縁部とを周方向における全周に亘って貼り合せる。
Moreover, in a specific aspect of the coating film forming method according to an aspect of the present invention, the opening has the same shape as the predetermined region, and the first protective film is attached to the substrate in the first protective film attaching step. Affixed to the upper surface of the substrate so that the opening and the predetermined region coincide.
Moreover, in the specific situation of the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention, in the said film bonding process, the outer periphery part of a 1st protective film and the outer periphery part of a 2nd protective film are the perimeters in the circumferential direction. Paste over.
また、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の特定の局面では、前記塗布剤には粘着剤が含有されている。
また、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の特定の局面では、前記第2保護フィルムの厚みは、前記第1保護フィルムの厚みよりも厚い。
また、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の特定の局面では、前記開口は方形である。
Moreover, in a specific aspect of the coating film forming method according to an aspect of the present invention, the coating agent contains an adhesive.
Moreover, in the specific situation of the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention, the thickness of a said 2nd protective film is thicker than the thickness of a said 1st protective film.
Moreover, in the specific situation of the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention, the said opening is a square.
<本発明に至った経緯>
スピンコート法により均一な厚みの塗布膜を形成する基板の一例として、フレキシブル表示装置の製造時に使用される粘着層付き支持基板が挙げられる。当該支持基板の上面には塗布膜として粘着層が形成される。フレキシブル有機ELディスプレイの製造時、フレキシブル基板は、粘着層を介して支持基板に貼り付けられることによって上面の平坦性が保たれ、これにより当該上面にデバイスを微細なパターンで形成することが可能になる。
<Background to the Present Invention>
An example of a substrate on which a coating film having a uniform thickness is formed by a spin coating method is a support substrate with an adhesive layer that is used during the manufacture of a flexible display device. An adhesive layer is formed as a coating film on the upper surface of the support substrate. When manufacturing a flexible organic EL display, the flexible substrate is adhered to the support substrate via an adhesive layer, so that the flatness of the upper surface is maintained, thereby enabling the device to be formed in a fine pattern on the upper surface. Become.
このような粘着層付き支持基板の外周縁部にも、塗布剤としての粘着剤が付着していないことが好ましい。外周縁部に粘着剤が付着していると、治具や収納ケースにも粘着剤が付着するからである。また、治具や収納ケースに付着した粘着剤によって、支持基板が二次汚染されるからである。例えば、二次汚染により粘着剤からなるパーティクル(粘着剤の微細な固まり)が粘着層の上面に載ってしまった場合、その上からフレキシブル基板が貼り付けられると、パーティクルによってフレキシブル基板の上面に凹凸が生じ、デバイスを微細なパターンで形成することが困難になる。 It is preferable that the adhesive as the coating agent is not attached to the outer peripheral edge of the support substrate with the adhesive layer. This is because if the adhesive is attached to the outer peripheral edge, the adhesive is also attached to the jig or the storage case. In addition, the support substrate is secondarily contaminated by the adhesive attached to the jig or the storage case. For example, when particles made of an adhesive (fine adhesive mass) are placed on the upper surface of the adhesive layer due to secondary contamination, when the flexible substrate is attached from there, the particles are uneven on the upper surface of the flexible substrate. This makes it difficult to form a device with a fine pattern.
特許文献1に記載の塗布膜形成方法は、基板901の外周縁部の上面に粘着剤が付着することを防止できるものの、外周縁部の下面および側面に粘着剤が付着することまでは防止できないため、上記問題に対して十分に対処できているとは言えない。特に、粘度の高い粘着剤を塗布する場合は、スピンコート時に遠心力で飛ばされる粘着剤が糸を引いて支持基板の下面および側面に回り込み易いため、外周縁部の下面および側面への粘着剤の付着を防止できないことは致命的な欠点となりうる。
Although the coating film forming method described in
加えて、特許文献1に記載の塗布膜形成方法では、保護フィルムにおける支持基板からはみ出した部分が、スピンコート時の高速回転によってばたつくため、そのばたつきによってパーティクルが上方に巻き上げられ、粘着膜上にパーティクルが付着するといった問題も起こりうる。だからといって、ばたつきを抑えるために、フィルムはみ出し幅を狭くすると、支持基板の外周縁部の下面および側面に粘着剤がより回り込み易くなってしまう。
In addition, in the coating film forming method described in
一方、特許文献2に記載の塗布膜形成方法は、基板の外周縁部の上面のみならず、下面および側面にも粘着剤が付着しないため、特許文献1に記載の塗布膜形成方法に対して挙げたような問題は生じない。しかしながら、ブロック層912〜914を除去するために加熱が必要であったり、或いは溶剤を使用する必要があったりするため、熱に弱い粘着剤の塗布には活用できなかったり、或いは溶剤に溶解する粘着剤の塗布には活用できなかったりして、塗布できる粘着剤の種類が制限される。
On the other hand, in the coating film forming method described in
以上のような課題に対して発明者は鋭意検討を重ね、基板の外周縁部の下面および側面への塗布剤の付着を防止でき、且つ、汎用性も高い塗布膜形成方法を発明するに至った。本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、基板の外周縁部に塗布剤が付着するのを防止するために2枚の保護フィルムを使用する。それら保護フィルムは、塗布剤を塗布する前に基板の上面および下面に貼り付けて使用され、塗布剤を塗布した後は剥離により除去される。したがって、保護フィルムを除去するために加熱したり溶剤を使用したりする必要がなく、その結果、保護フィルムの除去工程を考慮して使用する塗布剤の種類を制限する必要がないため、汎用性の高い塗布膜形成方法である。 The inventors have made extensive studies on the above problems, and have invented a coating film forming method that can prevent the coating agent from adhering to the lower surface and side surfaces of the outer peripheral edge of the substrate and has high versatility. It was. In the coating film forming method according to one embodiment of the present invention, two protective films are used to prevent the coating agent from adhering to the outer peripheral edge of the substrate. These protective films are used by being attached to the upper and lower surfaces of the substrate before applying the coating agent, and are removed by peeling after the coating agent is applied. Therefore, it is not necessary to heat or use a solvent to remove the protective film, and as a result, it is not necessary to limit the type of coating agent used in consideration of the protective film removal process. This is a high coating film forming method.
このように汎用性が高いにも拘わらず、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、基板の外周縁部の上面だけでなく、下面および側面への塗布剤の付着も防止可能である。なぜなら、基板の上面に貼り付けた第1保護フィルムによって前記基板の外周縁部の上面が保護され、前記基板の下面に貼り付けた第2保護フィルムによって前記基板の外周縁部の下面が保護され、さらには、前記第1保護フィルムの外周縁部と前記第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せることによって、前記基板の外周縁部の側面が保護されるからである。 In spite of such high versatility, the coating film forming method according to one embodiment of the present invention can prevent adhesion of the coating agent to the lower surface and side surfaces as well as the upper surface of the outer peripheral edge of the substrate. . This is because the upper surface of the outer peripheral edge portion of the substrate is protected by the first protective film attached to the upper surface of the substrate, and the lower surface of the outer peripheral edge portion of the substrate is protected by the second protective film attached to the lower surface of the substrate. Furthermore, the side surface of the outer peripheral edge of the substrate is protected by bonding the outer peripheral edge of the first protective film and the outer peripheral edge of the second protective film.
さらに、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、第1保護フィルムの外周縁部と前記第2保護フィルムの外周縁部とが貼り合わされるため、結果的に保護フィルムの基板からはみ出した部分の厚みが増す。そのため、はみ出した部分がスピンコート時の高速回転によってばたつき難い。しかも、第1保護フィルムの外周縁部と第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せる構成であるため、フィルムはみ出し幅が広くなくても、外周縁部の下面および側面への塗布剤の付着を確実に防止できる。そのため、はみ出した部分がよりばたつき難い。以上のことから、パーティクルが上方に巻き上げられ難く、粘着層上にパーティクルが付着し難い。 Furthermore, in the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention, since the outer periphery part of the 1st protective film and the outer periphery part of the said 2nd protective film were bonded together, it protruded from the board | substrate of the protective film as a result. The thickness of the part increases. For this reason, the protruding portion is difficult to flutter due to high-speed rotation during spin coating. And since it is the structure which bonds the outer periphery part of a 1st protective film, and the outer periphery part of a 2nd protective film, even if a film protrusion width is not wide, adhesion of the coating agent to the lower surface and side surface of an outer periphery part Can be reliably prevented. Therefore, the protruding part is more difficult to flutter. From the above, it is difficult for the particles to be rolled up, and the particles are difficult to adhere on the adhesive layer.
なお、基板の外周縁部に塗布剤が付着していない塗布膜付き基板を得る方法としては、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法や、特許文献1および特許文献2に記載の塗布膜形成方法以外に、例えば、スピンコート法による塗布工程後に、基板の外周縁部の上面、下面および側面から研磨等によって塗布剤を物理的に除去する方法も考えられる。しかしながら、このような方法は、基板に負担がかかるだけでなく、研磨等によって生じる粉末が塗布層上に付着するおそれがある。
In addition, as a method of obtaining the board | substrate with a coating film in which the coating agent has not adhered to the outer periphery part of a board | substrate, the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention, and the coating film of
<第1の実施形態>
以下では、基板上の所定領域にスピンコート法により塗布剤を塗布して塗布膜を形成する塗布膜形成方法の一例として、基板10としての支持基板に、塗布剤2としての粘着剤を塗布して、塗布膜40としての粘着層を形成する方法について説明する。なお、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法は、塗布膜として粘着膜を形成するものに限定されず、例えば、塗布膜としてレジストを形成するものであっても良い。
<First Embodiment>
In the following, as an example of a coating film forming method for forming a coating film by applying a coating agent to a predetermined region on a substrate by spin coating, an adhesive as
(塗布膜形成方法の概略)
図1は、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の概略を説明するための概念図である。本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、まず、図1(a)に示すように、基板10に上下から第1保護フィルム20および第2保護フィルム30を貼り付け、それら保護フィルム20,30によって基板10の外周縁部11を覆い、その後、基板10をスピンコーターの回転ステージ1に取り付ける(フィルム貼り付け)。次に、図1(b)に示すように、回転ステージ1を高速回転させながら基板10上に塗布剤2を滴下して、基板10上に塗布剤2を広げる(スピンコート)。次に、図1(c)に示すように、基板10を回転ステージ1から取り外し、基板10から第1保護フィルム20および第2保護フィルム30を剥離して除去する(フィルム除去)。
(Outline of coating film forming method)
FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining an outline of a coating film forming method according to one embodiment of the present invention. In the coating film forming method according to one aspect of the present invention, first, as shown in FIG. 1A, the first
以上により、均一な厚みの塗布膜40が形成された基板10が得られ、第1保護フィルム20および第2保護フィルム30で覆われていた基板10の外周縁部11には塗布剤2は付着していない。
図2は、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法を示す工程図である。図2に示すように、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法は、基板準備工程(ステップS1)、第1保護フィルム貼付工程(ステップS2)、第2保護フィルム貼付工程(ステップS3)、フィルム貼り合わせ工程(ステップS4)、塗布工程(ステップS5)、および、フィルム除去工程(ステップS6)を含む。
Thus, the
FIG. 2 is a process diagram showing a coating film forming method according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention is a board | substrate preparation process (step S1), a 1st protective film sticking process (step S2), a 2nd protective film sticking process (step S3), A film bonding process (step S4), an application process (step S5), and a film removal process (step S6) are included.
(基板準備工程)
図3は、第1の実施形態に係る塗布膜形成方法を説明するための平面図である。図4は、第1の実施形態に係る塗布膜形成方法を説明するための断面図であって、図3(a)〜(f)に示すA−A線に沿った断面図である。
基板準備工程では、図3(a)および図4(a)に示すように、塗布膜を形成する基板10を準備する。本実施の形態では基板10の形状は方形であるが、基板の形状は方形に限定されず任意である。また、基板10の材質、サイズ、厚みなども任意である。基板10の材料としては、ガラス、金属、樹脂、セラミックなどが挙げられる。
(Board preparation process)
FIG. 3 is a plan view for explaining the coating film forming method according to the first embodiment. FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the coating film forming method according to the first embodiment, and is a cross-sectional view along the line AA shown in FIGS.
In the substrate preparation step, as shown in FIGS. 3A and 4A, a
(第1保護フィルム貼付工程)
第1保護フィルム貼付工程では、図3(b)および図4(b)に示すように、基板準備工程で準備した基板10の上面12に第1保護フィルム20を貼り付ける。第1保護フィルム20は、開口21を有する方形枠状である。第1保護フィルム20の外輪郭は、基板10の外輪郭よりも大きく、第1保護フィルム20は外周縁部22が基板10の外周縁からはみ出すようにして基板10に貼り付けられる。第1保護フィルム20の開口21は、基板10の外輪郭よりも小さく、塗布膜40が形成される領域12aに応じた領域に設けられている。第1保護フィルム20を基板10に貼り付けた状態において、開口21は塗布膜40が形成される領域12aと一致する。
(First protective film application process)
In the first protective film attaching step, as shown in FIGS. 3B and 4B, the first
なお、第1保護フィルム20の外輪郭の形状は、方形に限定されず任意であるが、第1保護フィルム20の外輪郭は、基板10の外輪郭よりも大きいことが好ましい。また、第1保護フィルム20の開口21の形状は、方形に限定されず任意であるが、第1保護フィルム20を基板10に貼り付けた際に、塗布膜40が形成される領域12aの全体が開口21内に含まれることが好ましい。
In addition, although the shape of the outer contour of the first
より好ましくは、開口21と塗布膜40が形成される領域12aとは同じ形状であって、第1保護フィルム20を基板10に貼り付けた際に、開口21と塗布膜40が形成される領域12aとが一致していることが好ましい。そうすれば、開口21の形状およびサイズを調節することによって、塗布膜40の形状やサイズを任意に選択することができる。
第1保護フィルム20は、例えば、フィルムと、当該フィルムの基板10側の主面に形成された粘着層とで構成される粘着層付きフィルムである。なお、第1保護フィルム20は、粘着層の粘着力により基板10に貼り付けられる粘着層付きフィルムに限定されず、ヒートシール法などにより熱圧着で基板10に貼り付けられるフィルムであっても良い。
More preferably, the region 21a where the
The 1st
第1保護フィルム20を構成するフィルムとしては、PET、PEN、PC、PIなどからなる樹脂フィルムが挙げられ、塗布剤2に対して耐性を有する高分子フィルムであることが好ましい。
第1保護フィルム20を構成する粘着層としては、スピンコート時に第1保護フィルム20が基板10から剥がれない程度、且つ、スピンコート後に第1保護フィルム20を基板10から剥離可能な程度に、粘着力を有するものが好ましい。また、第1保護フィルム20を構成する粘着層は、基板10から第1保護フィルム20を剥離した後には、基板10に粘着剤が残らないものが好ましい。さらに、第1保護フィルム20は、スピンコート時に第1保護フィルム20と基板10との間に塗布剤2が入り込まないように、基板10に隙間なく貼り付けられることが好ましい。そのためには、第1保護フィルム20を構成する粘着層は、第1保護フィルム20を構成するフィルムの基板10側の主面の全体に形成されていることが好ましい。
Examples of the film constituting the first
The pressure-sensitive adhesive layer constituting the first
第1保護フィルム20を基板10に貼り付けた状態において、基板10の上面12における第1保護フィルム20によって覆われた領域12bの幅W1は、3mm以上であることが好ましい。幅W1が3mm未満の場合は、第1保護フィルム20を基板10に貼り付け難く、また、スピンコート時の高速回転による遠心力で第1保護フィルム20が基板10から剥離するおそれがある。
In a state where the first
図5は、塗布膜の外周縁部の厚みを測定した結果を示す図である。図5において、実線は、厚膜の第1保護フィルム20(厚み50μmのフィルムに厚み25μmの粘着層が形成された厚み75μmの粘着層付きフィルム)を使用して塗布膜40を形成した場合の塗布膜の外周縁部の表面高さを示し、破線は、薄膜の第1保護フィルム20(厚み25μmのフィルムに厚み1μmの粘着層が形成された厚み26μmの粘着層付きフィルム)を使用して塗布膜40を形成した場合の塗布膜の外周縁部の表面高さを示す。
FIG. 5 is a diagram showing the results of measuring the thickness of the outer peripheral edge of the coating film. In FIG. 5, the solid line indicates the case where the
第1保護フィルム20の厚みが塗布膜40の厚みよりも厚い場合は、第1保護フィルム20が厚膜であろうが薄膜であろうが、塗布膜40の外周縁部41(図3(f)参照)に、図5に示すような肉厚の部分41a,41bが生じてしまう。したがって、第1保護フィルム20の厚みは、塗布膜40の厚みと同等であることが好ましい。
塗布膜40の外周縁部41に肉厚の部分41a,41bが生じるのは、スピンコート時に、第1保護フィルム20の内周縁部23(図3(b)参照)で、開口21内の塗布剤2が堰き止められ、開口21の外周付近に液溜まりが生じるからである。このような肉厚の部分41a,41bが生じる現象は、図5に示すように、第1保護フィルム20が厚膜である場合に顕著である。したがって、第1保護フィルム20は薄膜であることが好ましい。
When the thickness of the 1st
(第2保護フィルム貼付工程)
第2保護フィルム貼付工程では、図3(c)および図4(c)に示すように、第1保護フィルム20を貼り付け後の基板10の下面13に、第2保護フィルム30を貼り付ける。なお、本実施の形態では、先に第1保護フィルム20を基板10に貼り付けるが、第1保護フィルム20よりも先に第2保護フィルム30を基板10に貼り付けても良い。すなわち、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、第1保護フィルム貼付工程と第2保護フィルム貼付工程とは、どちらが先に行われても良い。
(Second protective film application process)
In the second protective film attaching step, as shown in FIGS. 3C and 4C, the second
第2保護フィルム30は、開口31を有する方形枠状である。第2保護フィルム30の外輪郭は、基板10の外輪郭よりも大きく、第2保護フィルム30はその外周縁部32が基板10の外周縁からはみ出すようにして基板10に貼り付けられる。第2保護フィルム30の開口31は、基板10をスピンコーターの回転ステージ1に真空吸着などにより取り付けるためのスペースを確保するために設けられている。基板10の下面13に塗布剤2が付着するのを防止するために、開口31は、回転ステージ1に基板10を取り付け可能な範囲で出来るだけ小さいことが好ましい。
The second
なお、第2保護フィルム30の外輪郭の形状は、方形に限定されず任意であるが、第2保護フィルム30の外輪郭は、基板10の外輪郭よりも大きいことが好ましい。また、第1保護フィルム20の開口21も、方形に限定されず任意である。
第2保護フィルム30は、例えば、第1保護フィルム20と同様に、フィルムと、当該フィルムの基板10側の主面に形成された粘着層とで構成される粘着層付きフィルムである。なお、第2保護フィルム30は、粘着層の粘着力により基板10に貼り付けられる粘着層付きフィルムに限定されず、ヒートシール法などにより熱圧着で基板10に貼り付けられるフィルムであっても良い。
In addition, although the shape of the outer contour of the second
The 2nd
第2保護フィルム30を構成するフィルムとしては、PET、PEN、PC、PIなどからなる樹脂フィルムが挙げられ、塗布剤2に対して耐性を有する高分子フィルムであることが好ましい。
第2保護フィルム30を構成する粘着層としては、スピンコート時に第2保護フィルム30が基板10から剥がれない程度、且つ、スピンコート後に第2保護フィルム30を基板10から剥離可能な程度に、粘着力を有するものが好ましい。また、第2保護フィルム30を構成する粘着層は、基板10から第2保護フィルム30を剥離した後には、基板10に粘着剤が残らないものが好ましい。第2保護フィルム30を基板10に貼り付けた状態において、基板10の下面13が第2保護フィルム30によって覆われる領域の幅W2は、3mm以上であることが好ましい。幅W2が3mm未満の場合は、第2保護フィルム30を基板10に貼り付け難く、また、スピンコート時の高速回転による遠心力で第2保護フィルム30が基板10から剥離するおそれがある。
Examples of the film constituting the second
The pressure-sensitive adhesive layer constituting the second
第2保護フィルム30は、第1保護フィルム20の基板10からはみ出した部分を下側から支持し、それによって、はみ出した部分が自重で下方にたわむのを防止する役割を果たせる厚みを有することが好ましい。したがって、第2保護フィルム30の厚みは、第1保護フィルム20厚みと同じかそれ以上であることが好ましい。
(フィルム貼り合せ工程)
フィルム貼り合せ工程では、図3(d)および図4(d)に示すように、第1保護フィルム20の外周縁部22と、第2保護フィルム30の外周縁部32とを貼り合わせる。第1保護フィルム20および第2保護フィルム30は、それぞれ粘着層を有するため簡単に貼り合わせることができ、貼り合わせのために粘着剤を塗布するといった工程は必要ない。
The second
(Film bonding process)
In the film bonding step, the outer
第1保護フィルム20の外周縁部22と第2保護フィルム30の外周縁部32とは、塗布剤2が第1保護フィルム20と第2保護フィルム30との間に入り込み、基板10の側面14に塗布剤2が付着するのを確実に防止するために、周方向における全周に亘って貼り合わされている(図3(d)において模様が入っている部分が貼り合わせ領域3である)。
In the outer
但し、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、必ずしも全周に亘って貼り合わされていなくても良く、基板10の側面14に塗布剤2が付着しない程度で、不連続に貼り合わされていても良い。図6は、変形例1に係るフィルム貼り合せ工程を説明するための図であり、図6(a)は平面図、図6(b)は図6(a)に示すA−A線に沿った断面図、図6(c)は図6(a)に示すB−B線に沿った断面図である。例えば、図6に示すように、第1保護フィルム20の外周縁部22と第2保護フィルム30の外周縁部32とは、対向する一対の辺のみにおいて貼り合わされていても良い(図6(a)において模様が入っている領域4,5が貼り合わされている領域である)。
However, in the coating film forming method according to one embodiment of the present invention, the coating film may not necessarily be bonded over the entire circumference, and the
本発明の一態様に係る塗布膜形成方法では、第1保護フィルム20の外周縁部22と、第2保護フィルム30の外周縁部32とを貼り合わせるため、第1保護フィルム20の基板10からのはみ出し幅W3(図3(b)および図4(b)参照)を広くしなくても、基板10の外周縁部11の下面および側面への塗布剤2の付着を防止できる。
(塗布工程)
塗布工程では、図3(e)および図4(e)に示すように、回転ステージ1を高速回転させながら、基板10の上方に配置した吐出ノズルから基板10の上面12の中央位置に向けて液状の塗布剤2を滴下する。そうすると、塗布剤2が広がり、基板10の上面12における塗布膜40が形成される領域12aと、第1保護フィルム20の上面全体に塗布剤2が塗布される。しかしながら、基板10の上面12における第1保護フィルム20によって覆われた領域12bには塗布剤2が塗布されない。
In the coating film forming method according to an aspect of the present invention, the outer
(Coating process)
In the coating process, as shown in FIGS. 3 (e) and 4 (e), while rotating the
スピンコート時は、基板10の高速回転による遠心力で、基板10の上面12に滴下された塗布剤2が基板10の上面12からはみ出し、飛散する。しかしながら、基板10には第1保護フィルム20および第2保護フィルム30が貼り付けてあるため、それら第1保護フィルム20および第2保護フィルム30で覆い隠された基板10の外周縁部11の上面、下面および側面には塗布剤2が付着しない。
At the time of spin coating, the
本実施の形態では、塗布剤2として粘着剤そのもの(原液)を塗布するが、このような場合は塗布剤2の粘度が高い。塗布剤2の粘度が高いと、スピンコート時に塗布剤2が糸を引いて基板10の下面13および側面14に回り込み易いため、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の効果が発揮される。特に、塗布剤2の粘度が50mPa・s以上の場合は塗布剤2が基板10の下面13および側面14に回り込み易いため、より本発明の一態様に係る塗布膜形成方法の効果が発揮される。なお、本実施の形態に係る塗布剤2は粘着剤を含んでいれば良く、粘着剤そのものでも、粘着剤を溶剤に溶解させ希釈したものでも良い。
In the present embodiment, the adhesive itself (stock solution) is applied as the
(フィルム除去工程)
フィルム除去工程では、図3(f)および図4(f)に示すように、基板10から第1保護フィルム20および第2保護フィルム30を剥離して除去する。第1保護フィルム20および第2保護フィルム30を除去することにより、塗布剤2の付着していない基板10の外周縁部11の上面および下面が露出する。これにより、外周縁部11に塗布膜40が形成されていない基板10が得られる。
(Film removal process)
In the film removal step, the first
<第2の実施形態>
図7は、第2の実施形態に係る塗布膜形成方法を説明するための平面図である。図7に示すように、第2の実施形態に係る塗布膜形成方法は、基板110、第1保護フィルム120、および第2保護フィルム130の形状が、第1の実施形態に係る基板10、第1保護フィルム20、および第2保護フィルム30の形状と異なる点以外は、基本的に第1の実施形態に係る塗布膜形成方法と同様である。したがって、共通する部分の説明は省略するか簡略するにとどめ、異なる点を中心に説明する。
<Second Embodiment>
FIG. 7 is a plan view for explaining the coating film forming method according to the second embodiment. As shown in FIG. 7, in the coating film forming method according to the second embodiment, the shape of the
(基板準備工程)
基板準備工程では、図7(a)に示すように、塗布膜を形成する対象となる基板110を準備する。本実施の形態では基板110の形状は、直線で切り欠いた切欠部115を外周縁の一箇所に有する略円形である。
(第1保護フィルム貼付工程)
第1保護フィルム貼付工程では、図7(b)に示すように、基板準備工程で準備した基板110の上面112に第1保護フィルム120を貼り付ける。第1保護フィルム20は、開口121を有する略円環状である。第1保護フィルム120の外輪郭は、基板110の外輪郭よりも大きく、第1保護フィルム120はその外周縁部122が基板10の外周縁からはみ出すようにして基板110に貼り付けられる。第1保護フィルム120の開口121は、基板110の外輪郭と同一の形状であるが、基板110の外輪郭よりも小さい。第1保護フィルム120を基板110に貼り付けた状態において、開口121は塗布膜140が形成される領域112aと一致する。
(Board preparation process)
In the substrate preparation step, as shown in FIG. 7A, a
(First protective film application process)
In the first protective film attaching step, as shown in FIG. 7B, the first
なお、第1保護フィルム120の外輪郭の形状は、略円形に限定されず任意であるが、第1保護フィルム120の外輪郭は、基板110の外輪郭よりも大きいことが好ましい。また、第1保護フィルム120の開口121の形状は、略円形に限定されず任意であるが、第1保護フィルム120を基板110に貼り付けた際に、塗布膜140が形成される領域12aの全体が開口121内に含まれることが好ましい。
In addition, although the shape of the outer contour of the first
図8は、変形例2に係る第1保護フィルムを説明するための図であって、図8(a)は平面図、図8(b)は図8(a)に示すA−A線に沿った断面図である。第1の実施形態に係る第1保護フィルム20および第2の実施形態に係る第1保護フィルム120は、外輪郭の形状と開口21,121の形状とが同一であったが、外輪郭の形状と開口21,121の形状とは異なっていても良い。例えば、図8に示す変形例2に係る第1保護フィルム220のように、外輪郭は第2の実施形態と同じ略円形であるが、開口221は第1の実施形態と同じ方形であっても良い。この場合も、基板210の外周縁部211には第1保護フィルム220が貼り付けられ、上面212における第1保護フィルム220で覆い隠された領域212bには塗布液が付着しない。また、基板210に第1保護フィルム220を貼り付けた状態において、開口221と塗布膜を形成する領域212aとは一致する。
8A and 8B are diagrams for explaining the first protective film according to the modified example 2, in which FIG. 8A is a plan view, and FIG. 8B is an AA line shown in FIG. 8A. FIG. The first
図9は、変形例3に係る第1保護フィルムを説明するための図である。第1の実施形態に係る第1保護フィルム20および第2の実施形態に係る第1保護フィルム120では、基板10,110に第1保護フィルム20,120を貼り付けた状態において、開口21,121と塗布膜40,140を形成する領域とが一致していたが、それらは必ずしも一致する必要はない。すなわち、第1保護フィルム120の開口121は必ずしも塗布膜140が形成される領域を規定するものであるとは限らない。
FIG. 9 is a view for explaining the first protective film according to the third modification. In the first
例えば、図9に示す変形例3では、第1保護フィルム220の開口221よりも小さい領域に塗布膜が形成される。具体的には、まず、図9(a)に示すように、基板110に上下から第1保護フィルム120および第2保護フィルム130を貼り付け、それら保護フィルム120,130によって基板110の外周縁部111を覆い、その後、基板110をスピンコーターの回転ステージ1に取り付ける(フィルム貼り付け)。次に、図9(b)に示すように、第1保護フィルム120の上から補助保護フィルム360を貼り付ける。補助保護フィルム360の外輪郭は第1保護フィルム120の開口121よりも大きいため、図9(c)に示すように、補助保護フィルム360の外周縁部は第1保護フィルム120と重なる。
For example, in
補助保護フィルム360には第1保護フィルム120の開口121よりも小さい開口361が設けられており、その開口361は塗布膜340が形成される領域と一致する。塗布膜340が形成される領域以外は、第1保護フィルム120および補助保護フィルム360によって覆い隠される。
次に、図9(d)に示すように、回転ステージ1を高速回転させながら基板110上に塗布剤102を滴下して、基板110上に塗布剤102を広げる(スピンコート)。次に、図9(e)に示すように、基板110を回転ステージ1から取り外し、基板110から第1保護フィルム120および第2保護フィルム130を剥離して除去する(フィルム除去)。
The auxiliary
Next, as shown in FIG. 9D, the
図10は、変形例4に係る第1保護フィルムを説明するための図であって、図10(a)は平面図、図10(b)は図10(a)に示すB−B線に沿った断面図である。第1の実施形態に係る第1保護フィルム20および第2の実施形態に係る第1保護フィルム120では、開口21,121は1つであったが、開口は1つに限定されない。例えば、図10に示す変形例4に係る第1保護フィルム420のように、開口421が複数形成されていても良い。この場合、基板410の外周縁部411には第1保護フィルム420が貼り付けられ、第1保護フィルム420の上面412における第1保護フィルム420で覆い隠された領域412bには塗布液が付着しない。そして、基板410に第1保護フィルム420を貼り付けた状態において、各開口421と塗布膜を形成する領域412aとが一致する。
10A and 10B are diagrams for explaining the first protective film according to the modified example 4, in which FIG. 10A is a plan view, and FIG. 10B is a BB line shown in FIG. FIG. In the first
(第2保護フィルム貼付工程)
第2保護フィルム貼付工程では、図7(c)に示すように、第1保護フィルム120を貼り付け後の基板110の下面に、第2保護フィルム130を貼り付ける。第2保護フィルム130は、開口131を有する略円環状である。第2保護フィルム130の外輪郭は、基板110の外輪郭よりも大きく、第2保護フィルム130はその外周縁部132が基板110の外周縁からはみ出すようにして基板110に貼り付けられる。第2保護フィルム130の開口131は、基板110をスピンコーターの回転ステージ1に真空吸着などにより取り付けるためのスペースを確保するために設けられている。
(Second protective film application process)
In the second protective film attaching step, as shown in FIG. 7C, the second
(フィルム貼り合せ工程)
フィルム貼り合せ工程では、図7(d)に示すように、第1保護フィルム120の外周縁部122と、第2保護フィルム130の外周縁部132とを貼り合わせる。第1保護フィルム120の外周縁部122と第2保護フィルム130の外周縁部132とは、塗布剤102が第1保護フィルム120と第2保護フィルム130との間に入り込み、基板110の側面に塗布剤102が付着するのを確実に防止するために、周方向における全周に亘って貼り合わされている(図7(d)において模様が入っている部分が貼り合わせ領域103である)。
(Film bonding process)
In the film bonding step, as shown in FIG. 7D, the outer
(塗布工程)
塗布工程では、図7(e)に示すように、塗布剤102を基板110の上面112における塗布膜140が形成される領域112aと、第1保護フィルム120の上面全体に、スピンコート法により塗布剤102が塗布される。しかしながら、基板110の上面112における第1保護フィルム120によって覆われた領域112bには塗布剤102が塗布されない。
(Coating process)
In the coating process, as shown in FIG. 7E, the
スピンコート時は、基板110の高速回転により生じる遠心力により、基板110の上面112に滴下された塗布剤102が基板110の上面112からはみ出したり、飛散したりする。しかしながら、基板110には第1保護フィルム120および第2保護フィルム130が貼り付けてあるため、それら第1保護フィルム120および第2保護フィルム130で覆い隠された基板110の外周縁部111の上面、下面および側面には塗布剤102が付着しない。
At the time of spin coating, the
(フィルム除去工程)
フィルム除去工程では、図7(f)に示すように、基板110から第1保護フィルム120および第2保護フィルム130を剥離して除去する。第1保護フィルム120および第2保護フィルム130を除去することにより、塗布剤102の付着していない基板10の外周縁部111の上面および下面が露出する。これにより、外周縁部111に塗布膜140が形成されていない基板110が得られる。
(Film removal process)
In the film removing step, as shown in FIG. 7F, the first
<実験>
第1保護フィルムと第2保護フィルムとの貼り合せの条件について、種々の実験を行い検討を加えた結果、以下のような知見を得ることができた。
一般的に、スピンコート法により均一な塗布膜40を形成するためには、2500〜3500rpm程度の回転数が必要である。しかし、第1保護フィルムのはみ出し幅W3や、第2保護フィルム30のはみ出し幅W4(図3(c)および図4(c)参照)が広いと、はみ出した部分が自重で下方にたわみ、基板10を高回転数で回転させた際にばたついてしまう。その結果、スピンコーター環境内にあるパーティクルを巻き上げ、塗布膜40上にパーティクルが付着してしまう。そこで、フィルムはみ出し幅をどの程度に収めれば、はみ出した部分のばたつきを抑制され、その結果パーティクルの付着を防止できるのかを、実験により検討した。
<Experiment>
As a result of conducting various experiments and examinations on the conditions for bonding the first protective film and the second protective film, the following findings could be obtained.
Generally, in order to form the
図11は、図4(e)における二点鎖線で囲んだ部分を示す拡大断面図である。ここで、フィルムはみ出し幅とは、図11に示すように、第1保護フィルム20と第2保護フィルム30とを貼り合せた状態における、第1保護フィルム20のはみ出し幅W5と、第2保護フィルム30のはみ出し幅W6との、いずれか広い方の幅を意味する。図5に示す例では、幅W5の方が幅W6よりも広いため、フィルムはみ出し幅は、第1保護フィルム20のはみ出し幅W5となる。
FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view showing a portion surrounded by a two-dot chain line in FIG. Here, as shown in FIG. 11, the protruding width of the film is the protruding width W5 of the first
図12は、フィルムはみ出し幅とパーティクル付着数との関係を示す図である。基板10としてシリコンウェハを用い、フィルムはみ出し幅を変化させ、3000rpmで回転させた時の塗布膜40の上面に付着したパーティクル付着数を測定した結果を図12に示す。フィルムはみ出し幅が広くなるほど塗布膜40の上面に付着するパーティクル付着数が増加することから、この観点からはフィルムはみ出し幅は狭い方が好ましいことがわかる。さらに、保護フィルム20,30が張り付けられない場合と比較すると、フィルムはみ出し幅が20mmの場合はパーティクル付着数が同等であるが、フィルムはみ出し幅が30mm以上の場合はパーティクル付着数が増加している。
FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the film protrusion width and the number of adhered particles. FIG. 12 shows the result of measuring the number of adhered particles attached to the upper surface of the
このように、パーティクルの付着を防止するためには、フィルムはみ出し幅は狭い方が好ましい。しかしながら、基板10が厚みを有するため、基板10の側面14と貼り合わせ領域3との間には隙間部分6(図11参照)が存在する。したがって、フィルムはみ出し幅が狭すぎると、保護フィルム20,30同士を貼り合わせることができない。保護フィルム20,30同士を確実に貼り合わすためには、隙間部分6の幅W7を計算に入れてフィルムはみ出し幅を決める必要がある。
Thus, in order to prevent adhesion of particles, it is preferable that the film protrusion width is narrow. However, since the
図13は、ダブルカンチレバー法による剥離実験を説明するための図である。図13に示すように、貼り合せた2枚のフィルム51,52の間にカミソリ53を差し込むと、それらフィルム51,52は剥離する。剥離距離を「a」、フィルム51の厚みを「h−1」、フィルム52の厚みを「h−2」、カミソリ53の厚みを「d」、フィルム51の曲げ弾性率を「E−1」、フィルム52の曲げ弾性率を「E−2」とすると、2枚のフィルム51,52が剥離する際の解離エネルギーGcは、以下の式1で表すことができる。ここで、CはCi=1+0.64(hi/a)である。
したがって、式1に、第1保護フィルム20の厚み、第2保護フィルム30の厚み、基板10の厚み、第1保護フィルム20の曲げ弾性率、第2保護フィルム30の曲げ弾性率、および、第1保護フィルム20と第2保護フィルム30の剥離強度を代入すると、剥離距離aを得ることができる。例えば、第1保護フィルム20の厚みが0.075mm、第2保護フィルム30の厚みが0.075mm、基板10の厚みが0.7mm、第1保護フィルム20の曲げ弾性率が2.2GPa、第2保護フィルム30の曲げ弾性率が2.2GPaであって、第1保護フィルム20と第2保護フィルム30との剥離強度が0.05N/20mmの場合は、剥離距離は15.9mmとなる。
Therefore, in
この剥離距離aが、保護フィルム20,30同士を貼り合せた際に生じる隙間部分6の幅7に相当する。つまり、第1保護フィルム20と第2保護フィルム30を安定に貼り合わせるためには、隙間部分6の幅W7が15.9mmになることを見越して、貼り合せ領域3の幅W8(図11参照)を十分に確保できる程度に、フィルムはみ出し幅を設計する必要がある。
This peeling distance a corresponds to the
図14は、保護フィルムの曲げ弾性率と剥離距離との関係を示す図である。基板10および保護フィルム20,30の厚みや、保護フィルム20,30の曲げ弾性率を種々ことならしめ、それぞれの条件における剥離距離aを算出した結果を図14に示す。図14から、保護フィルム20,30の曲げ弾性率や基板10の厚みの増加に伴い、剥離距離aも増加する傾向にあることがわかる。つまり、曲げ弾性率の高い保護フィルム20,30や厚みの厚い基板10を用いる際は、保護フィルム20,30同士の貼り合せを確実にするために、フィルムはみ出し幅を剥離距離aよりも広く設計する必要がある。
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the bending elastic modulus of the protective film and the peel distance. FIG. 14 shows the results of calculating the peel distance a under various conditions by varying the thicknesses of the
図12から、フィルムはみ出し幅を20mm以下にすればパーティクルが付着し難いことがわかる。フィルムはみ出し幅を20mm以下に抑えるためには、貼り合せ領域3の幅W8を最低限必要な5mmに設定したとしても、隙間部分6の幅W7は15mm以下である必要がある。すなわち、図14において剥離距離aが15mmのラインを下回る範囲で条件を定めなければならない。具体的には、基板10の厚みdが1.0mmの場合、保護フィルム20,30の曲げ弾性率は約1GPa以下であることが好ましい。基板10の厚みdが0.7mmの場合、保護フィルム20,30の曲げ弾性率は約2GPa以下であることが好ましい。基板10の厚みdが0.5mmの場合、保護フィルム20,30の弾性率は約3GPa以下であることが好ましい。
From FIG. 12, it can be seen that if the film protrusion width is 20 mm or less, particles are difficult to adhere. In order to suppress the film protruding width to 20 mm or less, even if the width W8 of the
このように、図14に示す結果は、基板10の厚みに対して、保護フィルム20,30の柔軟性(曲げ弾性率)をどのように設定すれば良いのかの目安となり、塗布膜40へのパーティクルの付着を防止するためには、剥離距離aが15mm以下となるように、保護フィルム20,30の曲げ弾性率および基板10の厚みdを選択することが好ましい。
次に、第2保護フィルムの厚みとパーティクルの付着数との関係について検討した。第1保護フィルム20の厚みは塗布膜40の厚みによって制限されるため、自由に厚くすることが出来ない。したがって、保護フィルム20,30の厚みではみ出した部分のばたつきを抑制し、塗布膜40上にパーティクルが付着するのを防止しようとする場合は、第2保護フィルム30の厚みを厚くする必要がある。
As described above, the result shown in FIG. 14 is a measure of how to set the flexibility (bending elastic modulus) of the
Next, the relationship between the thickness of the second protective film and the number of adhered particles was examined. Since the thickness of the 1st
薄膜の第2保護フィルム30を用いた場合と、厚膜の第2保護フィルム30を用いた場合について、それぞれスピンコート法により塗布膜40を形成した際の塗布膜40上のパーティクルの付着数を測定した結果を図15に示す。図15から、第2保護フィルム30が厚膜である方がパーティクルの付着数が少ないことがわかる。これは、第2保護フィルム30が厚膜である方が、保護フィルム20,30のはみ出した部分のばたつきを抑制できるからであると考えられる。
For the case of using the thin second
<その他>
以上、本発明の一態様に係る塗布膜形成方法を第1および第2の実施形態、並びに、それらの変形例1〜変形例4に基づいて具体的に説明してきたが、本発明の内容は、それらに限定されない。例えば、第1および第2の実施形態、並びに、それらの変形例1〜変形例4の部分的な構成を適宜組み合わせた塗布膜形成方法であっても良い。
<Others>
As mentioned above, although the coating film formation method which concerns on 1 aspect of this invention has been concretely demonstrated based on 1st and 2nd embodiment and those modifications 1-4, the content of this invention is , But not limited to them. For example, the coating film formation method which combined suitably the partial structure of 1st and 2nd embodiment and those modifications 1-4 may be sufficient.
本発明の一態様にかかる塗布膜形成方法は、フレキシブル有機ELディスプレイなどの製造時に用いる粘着層付き支持基板などを作製する際において有用である。 The method for forming a coating film according to one embodiment of the present invention is useful in producing a support substrate with an adhesive layer used at the time of producing a flexible organic EL display or the like.
2,102 塗布剤
10,110,210,310,410 基板
12,112,212,412 上面
13,113 下面
20,120,220,420 第1保護フィルム
21,121,221,421 第1保護フィルムの開口
22,122 第1保護フィルムの外周縁部
30,130 第2保護フィルム
31,131 第2保護フィルムの開口
32,132 第2保護フィルムの外周縁部
40,140,340 塗布膜
2,102 Coating agent 10,110,210,310,410 Substrate 12,112,212,412 Upper surface 13,113 Lower surface 20,120,220,420 First protective film 21,121,221,421 of first
Claims (6)
前記所定領域に応じた領域に開口が設けられ且つ前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第1保護フィルムを、前記基板の上面に、前記開口内に前記所定領域が含まれ且つ前記第1保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第1保護フィルム貼付工程と、
前記基板の外輪郭よりも大きい外輪郭を有する第2保護フィルムを、前記基板の下面に、前記第2保護フィルムの外周縁部が前記基板の外周縁からはみ出すように貼り付ける第2保護フィルム貼付工程と、
前記第1保護フィルム貼付工程および前記第2保護フィルム貼付工程後に、第1保護フィルムの外周縁部と第2保護フィルムの外周縁部とを貼り合せるフィルム貼り合せ工程と、
前記フィルム貼り合せ工程後に、前記所定領域にスピンコート法により前記塗布剤を塗布する塗布工程と、
塗布工程後に、前記第1保護フィルムおよび前記第2保護フィルムを前記基板から剥離するフィルム剥離工程と、
を含む、塗布膜形成方法。 A coating film forming method for forming a coating film by applying a coating agent to a predetermined region on a substrate by a spin coating method,
A first protective film having an opening provided in a region corresponding to the predetermined region and having an outer contour larger than the outer contour of the substrate is formed on the upper surface of the substrate, the predetermined region is included in the opening, and the first A first protective film sticking step for sticking the outer peripheral edge of one protective film so as to protrude from the outer peripheral edge of the substrate;
Adhering a second protective film having an outer contour larger than the outer contour of the substrate to the lower surface of the substrate so that the outer peripheral edge of the second protective film protrudes from the outer peripheral edge of the substrate Process,
A film laminating step for laminating the outer peripheral edge of the first protective film and the outer peripheral edge of the second protective film after the first protective film affixing step and the second protective film affixing step;
After the film laminating step, an application step of applying the coating agent to the predetermined region by a spin coating method;
After the coating process, a film peeling process for peeling the first protective film and the second protective film from the substrate;
A coating film forming method comprising:
前記第1保護フィルム貼付工程において、前記第1保護フィルムを、前記基板の上面に、前記開口と前記所定領域とが一致するように貼り付ける、
請求項1に記載の塗布膜形成方法。 The opening has the same shape as the predetermined region,
In the first protective film attaching step, the first protective film is attached to the upper surface of the substrate so that the opening and the predetermined region coincide with each other.
The coating film forming method according to claim 1.
請求項1または2に記載の塗布膜形成方法。 In the film bonding step, the outer peripheral edge of the first protective film and the outer peripheral edge of the second protective film are bonded over the entire circumference in the circumferential direction.
The coating film formation method of Claim 1 or 2.
請求項1〜3のいずれかに記載の塗布膜形成方法。 The coating agent is an adhesive.
The coating film formation method in any one of Claims 1-3.
請求項1〜4のいずれかに記載の塗布膜形成方法。 The thickness of the second protective film is thicker than the thickness of the first protective film,
The coating film formation method in any one of Claims 1-4.
請求項1〜5のいずれかに記載の塗布膜形成方法。 The coating film forming method according to claim 1, wherein the opening has a square shape.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012155133A JP2014014794A (en) | 2012-07-11 | 2012-07-11 | Coating film forming method |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=50109977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012155133A Pending JP2014014794A (en) | 2012-07-11 | 2012-07-11 | Coating film forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
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---|---|---|---|---|
WO2020012777A1 (en) * | 2018-07-13 | 2020-01-16 | 株式会社Screenホールディングス | Substrate processing device and substrate processing method |
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2012
- 2012-07-11 JP JP2012155133A patent/JP2014014794A/en active Pending
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