JP2014007988A - 植物栽培システム及び植物栽培システムを用いた植物栽培方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムであって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物における休眠後に当該植物を低温で保存する低温区画とし、当該低温区画にエチレン除去装置を備える。
【選択図】図2
Description
(1)環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムであって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物における休眠後に当該植物を低温で保存する低温区画とし、当該低温区画にエチレン除去装置を備えることを特徴とする植物栽培システム。
(2)上記低温区画は、湿度調節装置を備えることを特徴とする(1)記載の植物栽培システム。
(3)上記低温区画は、内部温度を5.5±1.5℃の範囲に調節し、上記湿度調節装置により湿度を95〜99%の範囲に調節していることを特徴とする(2)記載の植物栽培システム。
(4)上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の受粉を行う受粉区画とし、当該授粉区画にエチレン除去装置を備えることを特徴とする(1)記載の植物栽培システム。
(5)上記受粉区画は、授粉処理時の湿度を30〜50%とし、授粉処理後の湿度を50〜70%とすることを特徴とする(4)記載の植物栽培システム。
(6)上記受粉区画は、上記低温区画から移動した栽培対象の植物に対して照射する光強度を移動直後から徐々に強くすることを特徴とする(4)記載の植物栽培システム。
(7)上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、人工光源を用いて長日条件とすることを特徴とする(1)記載の植物栽培システム。
(8)上記光合成促進区画における上記人工光源は、波長660nmの赤色を含む人工光を照射する光源であることを特徴とする(7)記載の植物栽培システム。
(9)上記光合成促進区画はエチレン除去装置を備えることを特徴とする(7)記載の植物栽培システム。
(10)上記光合成促進区画は、上記人工光源を用いて長日条件から短日条件へと照射条件を調節することを特徴とする(7)記載の植物栽培システム。
(11)環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムを利用した植物の栽培方法であって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物における休眠後に当該植物を低温で保存する低温区画とし、当該低温区画内のエチレンを除去しながら植物を保存することを特徴とする植物栽培方法。
(12)上記低温区画内の湿度を調節しながら、植物を保存することを特徴とする(11)記載の植物栽培方法。
(13)上記低温区画の内部温度を5.5±1.5℃の範囲に調節し、上記低温区画の湿度を95〜99%の範囲に調節することを特徴とする(12)記載の植物栽培方法。
(14)上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の受粉を行う受粉区画とし、当該授粉区画内のエチレンを除去することを特徴とする(11)記載の植物栽培方法。
(15)上記受粉区画の授粉処理時の湿度を30〜50%とし、授粉処理後の湿度を50〜70%とすることを特徴とする(14)記載の植物栽培方法。
(16)上記受粉区画は、上記低温区画から移動した栽培対象の植物に対して照射する光強度を移動直後から徐々に強くすることを特徴とする(14)記載の植物栽培方法。
(17)上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、人工光源を用いて長日条件とすることを特徴とする(11)記載の植物栽培方法。
(18)上記光合成促進区画における上記人工光源は、波長660nmの赤色を含む人工光を照射する光源であることを特徴とする(17)記載の植物栽培方法。
(19)上記光合成促進区画内のエチレンを除去することを特徴とする(17)記載の植物栽培方法。
(20)上記光合成促進区画は、上記人工光源を用いて長日条件から短日条件へと照射条件を調節することを特徴とする(17)記載の植物栽培方法。
(21)環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムであって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、当該光合成促進区画の環境条件を高温長日とする第1条件と、当該光合成促進区画の環境条件を低温短日とする第2条件とを繰り返すことを特徴とする植物栽培システム。
(22)上記第1条件の温度条件を28.0±3.0℃とし、上記第2条件の温度条件を22.0±3.0℃とすることを特徴とする(21)記載の植物栽培システム。
(23)上記第1条件下で果実が肥大すると共に、新梢の葉が5枚から8枚展開した段階で上記第2条件へと移行し、上記第2条件下で新梢の先端,えき芽(側芽)に花芽が形成され、その後に花芽が肥厚した、あるいは、開花が開始した段階又は所定の日数が経過した段階で上記第1条件へと移行することを特徴とする(21)記載の植物栽培システム。
(24)環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムを利用した植物の栽培方法であって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、当該光合成促進区画の環境条件を高温長日とする第1条件と、当該光合成促進区画の環境条件を低温短日とする第2条件とを繰り返すことを特徴とする植物栽培方法。
(25)上記第1条件の温度条件を28.0±3.0℃とし、上記第2条件の温度条件を22.0±3.0℃とすることを特徴とする(24)記載の植物栽培方法。
(26)上記第1条件下で果実が肥大すると共に、新梢の葉が5枚から8枚展開した段階で上記第2条件へと移行し、上記第2条件下で新梢の先端、えき芽(側芽)に花芽が形成され、その後に花芽が肥厚した、あるいは、開花が開始した段階又は所定の日数が経過した段階で上記第1条件へと移行することを特徴とする(24)記載の植物栽培方法。
Claims (26)
- 環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムであって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物における休眠後に当該植物を低温で保存する低温区画とし、当該低温区画にエチレン除去装置を備えることを特徴とする植物栽培システム。
- 上記低温区画は、湿度調節装置を備えることを特徴とする請求項1記載の植物栽培システム。
- 上記低温区画は、内部温度を5.5±1.5℃の範囲に調節し、上記湿度調節装置により湿度を95〜99%の範囲に調節していることを特徴とする請求項2記載の植物栽培システム。
- 上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の受粉を行う受粉区画とし、当該授粉区画にエチレン除去装置を備えることを特徴とする請求項1記載の植物栽培システム。
- 上記受粉区画は、授粉処理時の湿度を30〜50%とし、授粉処理後の湿度を50〜70%とすることを特徴とする請求項4記載の植物栽培システム。
- 上記受粉区画は、上記低温区画から移動した栽培対象の植物に対して照射する光強度を移動直後から徐々に強くすることを特徴とする請求項4記載の植物栽培システム。
- 上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、人工光源を用いて長日条件とすることを特徴とする請求項1記載の植物栽培システム。
- 上記光合成促進区画における上記人工光源は、波長660nmの赤色を含む人工光を照射する光源であることを特徴とする請求項7記載の植物栽培システム。
- 上記光合成促進区画はエチレン除去装置を備えることを特徴とする請求項7記載の植物栽培システム。
- 上記光合成促進区画は、上記人工光源を用いて長日条件から短日条件へと照射条件を調節することを特徴とする請求項7記載の植物栽培システム。
- 環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムを利用した植物の栽培方法であって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物における休眠後に当該植物を低温で保存する低温区画とし、当該低温区画内のエチレンを除去しながら植物を保存することを特徴とする植物栽培方法。
- 上記低温区画内の湿度を調節しながら、植物を保存することを特徴とする請求項11記載の植物栽培方法。
- 上記低温区画の内部温度を5.5±1.5℃の範囲に調節し、上記低温区画の湿度を95〜99%の範囲に調節することを特徴とする請求項12記載の植物栽培方法。
- 上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の受粉を行う受粉区画とし、当該授粉区画内のエチレンを除去することを特徴とする請求項11記載の植物栽培方法。
- 上記受粉区画の授粉処理時の湿度を30〜50%とし、授粉処理後の湿度を50〜70%とすることを特徴とする請求項14記載の植物栽培方法。
- 上記受粉区画は、上記低温区画から移動した栽培対象の植物に対して照射する光強度を移動直後から徐々に強くすることを特徴とする請求項14記載の植物栽培方法。
- 上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、人工光源を用いて長日条件とすることを特徴とする請求項11記載の植物栽培方法。
- 上記光合成促進区画における上記人工光源は、波長660nmの赤色を含む人工光を照射する光源であることを特徴とする請求項17記載の植物栽培方法。
- 上記光合成促進区画内のエチレンを除去することを特徴とする請求項17記載の植物栽培方法。
- 上記光合成促進区画は、上記人工光源を用いて長日条件から短日条件へと照射条件を調節することを特徴とする請求項17記載の植物栽培方法。
- 環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムであって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、当該光合成促進区画の環境条件を高温長日とする第1条件と、当該光合成促進区画の環境条件を低温短日とする第2条件とを繰り返すことを特徴とする植物栽培システム。
- 上記第1条件の温度条件を28.0±3.0℃とし、上記第2条件の温度条件を22.0±3.0℃とすることを特徴とする請求項21記載の植物栽培システム。
- 上記第1条件下で果実が肥大すると共に、新梢の葉が5枚から8枚展開した段階で上記第2条件へと移行し、上記第2条件下で新梢の先端、えき芽(側芽)に花芽が形成され、その後に花芽が肥厚した、あるいは開花が開始した段階又は所定の日数が経過した段階で上記第1条件へと移行することを特徴とする請求項21記載の植物栽培システム。
- 環境条件をコントロールすることができ、栽培対象の植物を育成するための複数の区画を備える植物栽培システムを利用した植物の栽培方法であって、上記複数の区画のうち少なくとも1つの区画を栽培対象の植物の光合成を促進する光合成促進区画とし、当該光合成促進区画の環境条件を高温長日とする第1条件と、当該光合成促進区画の環境条件を低温短日とする第2条件とを繰り返すことを特徴とする植物栽培方法。
- 上記第1条件の温度条件を28.0±3.0℃とし、上記第2条件の温度条件を22.0±3.0℃とすることを特徴とする請求項24記載の植物栽培方法。
- 上記第1条件下で果実が肥大すると共に、新梢の葉が5枚から8枚展開した段階で上記第2条件へと移行し、上記第2条件下で新梢の先端、えき芽(側芽)に花芽が形成され、その後に花芽が肥厚した、あるいは開花が開始した段階又は所定の日数が経過した段階で上記第1条件へと移行することを特徴とする請求項24記載の植物栽培方法。
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