JP2014001177A - 不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的エナンチオ選択的製造法 - Google Patents

不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的エナンチオ選択的製造法 Download PDF

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Tetsuo Shibata
哲男 柴田
Hiroyuki Kawai
洋幸 河合
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【課題】不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的エナンチオ選択的製造法
【解決手段】発明者らは鍵反応として,シンコナアルカロイド相間移動触媒を用いて,シアノヒドリンからのシアノアニオンのβ−置換−β−トリフルオロメチルエノンへの高エナンチオ選択的共役付加反応に成功した。また得られた化合物のシアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応を行うことで,高エナンチオ選択的に不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンを得ることに成功した。
【選択図】なし

Description

本発明は,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的エナンチオ選択的製造法に関するものである。
トリフルオロメチル基を有する複素環化合物は医薬・農薬分子の骨格として多く見られ,このため簡便かつ広範囲な合成法の開発が望まれている。近年,トリフルオロメチル置換ジヒドロアゾール化合物は有害生物防除剤として注目を集めている。トリフルオロメチル置換ジヒドロアゾール化合物群の中でも,トリフルオロメチル置換ピロリンはイソキサゾリン化合物と同様に高い殺虫活性を示す農薬候補化合物群として知られ,その有用性から非常に多くの誘導体が合成されている。一方で,市場に出ている農薬分子でも光学活性体の場合は,片方のエナンチオマーがもう一方のエナンチオマーの活性を低下させる,あるいは片方のエナンチオマーには農薬活性が皆無である場合が非常に多い。実際に,トリフルオロメチル置換ジヒドロアゾール化合物の一つであるイソキサゾリン化合物は,2つの鏡像異性体のうち,片方のエナンチオマーのみが強い殺虫活性を示すことが明らかにされている(非特許文献1,2)。以前までの報告では,トリフルオロメチル基の結合炭素に水素を有するトリフルオロメチルピロリンの不斉合成法はいくつか報告されている(非特許文献3,4)。しかし殺虫活性を示すのは,3,5位にジアリール基を有するトリフルオロメチルピロリンであるため(特許文献1,2,3,4,5),本手法を農薬候補化合物分子の合成に用いることはできない。不斉合成例はβ−アリール−β−トリフルオロメチルエノン対する,ニトロメタンの不斉共役付加反応を鍵反応とした手法一例のみである(特許文献6)。しかし本手法は鍵反応に高温を要し,収率も中程度である。よって,農薬の実用化に向けて,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的不斉合成法の開発が求められていた。
Iwata, A.; Yano, M.; Mizui, A. 2008, JP2008133273. Mita, T.; Ikeda, E.; Takahashi, H.; Komoda, M. 2009, WO 2009072621. Goergens, U.; Yoneta, Y.; Murata, T.; Mihara, J.; Domon, K.; Shimojo, E.; Shibuya, K.; Ichihara, T. 2009, WO2009097992. Murata, T.; Yoneta, Y.; Kishikawa, H.; Mihara, J.; Yamazaki, D.; Hatazawa, M.; Sasaki, N.; Domon, K.; Shimojo, E.; Ichihara, T.; Shibuya, K.; Ataka, M.; Goergens, U. 2010, WO 2010133336. Murata, T.; Ataka, M.; Yoneta, Y.; Watanabe, H.; Shimojo, E.; Shibuya, K.; Ichihara, T. 2011, WO2011054871. El Qacemi, M.; Smits, H.; Cassayre, J. Y.; Mulholland, N. P.; Renold, P.; Godineau, E.; Pitterna, T. 2011, WO 2011154555.
Ozoe, Y.; Asahi, M.; Ozoe, F.; Nakahira, K.; Mita, T. Biochem. Biophys. Res. Commun. 2010, 391, 744. Matoba, K.; Kawai, H.; Furukawa, T.; Kusuda, A.; Tokunaga, E.; Nakamura, S.; Shiro, M.; Shibata, N. Angew. Chem. Int. Ed., 2010, 49, 5762. Kawai, H.; Sugita, Y.; Tokunaga, E.; Sato, H.; Shiro, M.; Shibata, N. Chem. Commun. 2012, 48, 3632. Kawai, H.; Kitayama, T.; Tokunaga, E.; Matsumoto, T.; Sato, H.; Shiro, M.; Shibata, N. Chem. Commun. 2012, 48, 4067.
本発明は上記点に鑑みて,シアノアニオンのβ−置換−β−トリフルオロメチルエノンに対するエナンチオ選択的共役付加反応を鍵反応とした,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンの触媒的エナンチオ選択的合成法の開発を目的とする。
上記目的を達成するため,発明者らは鍵反応として,シンコナアルカロイド相間移動触媒を用いて,シアノヒドリンからのシアノアニオンのβ−置換−β−トリフルオロメチルエノンへの高エナンチオ選択的共役付加反応に成功した。また得られた化合物のシアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応を行うことで,高エナンチオ選択的に不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル置換ピロリンを得ることに成功した。すなわち
請求項1に記載の発明は,下記の一般式(1)で表されるβ−置換−β−トリフルオロメチルエノンと,下記の一般式(2)で表されるシアノヒドリンを溶媒中,塩基存在下,触媒量のシンコナアルカロイド相間移動触媒存在下で反応させることにより,高エナンチオ選択的に下記一般式(3)で表される,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル化合物が得られることを特徴とする製造方法にある。

(式中,R,R2及びR3は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基を示す。)
(式中,R4及びR5は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基を示す。)
(式中,R,R2及びR3は式(1)に記載の通りである。)

請求項2に記載の発明は,上記の一般式(3)で表されるb−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物のシアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応を行うことで,高エナンチオ選択的に,下記の一般式(4)で表されるトリフルオロメチル置換ピロリンを得ることを特徴とする製造方法にある。
(式中,R,R2及びR3は式(1)に記載の通りである。)
本明細書において,R1 ,R及びRのアルキル基としては,例えば,炭素数1乃至20程度のアルキル基を用いることができる。具体的には,メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基,オクチル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘキサデシル基,ヘプタデシル基,オクタデシル基,ノナデシル基,イコシル基,又はこれらの環状アルキル基,分鎖アルキル基などを用いることができる。
R1 ,R及びRのアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが,好ましくは1乃至2個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は,直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
R1 ,R及びRが示すアリール基としては,ヘテロアリール基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2〜30のアリール基,具体的にはフェニル基,ナフチル基,アンスラニル基,ピレニル基,ビフェニル基,インデニル基,テトラヒドロナフチル基,ピリジル基,ピリミジニル基,ピラジニル基,ピリダニジル基,ピペラジニル基,ピラゾリル基,イミダゾリル基,キニリル基,ピロリル基,インドリル基,フリル基などが挙げることができる。
アルキル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルケニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アラルキル基は,例としてベンジル基,ペンタフルオロベンジル基,o−メチルベンジル基,m−メチルベンジル基,p−メチルベンジル基,p−ニトロベンジル基,ナフチルメチル基,フルフリル基,α−フェネチル基等が挙げられる。
アリール基はアルキル基,フッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
本明細書において,R及びRのアルキル基としては,例えば,炭素数1乃至20程度のアルキル基を用いることができる。具体的には,メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基,オクチル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘキサデシル基,ヘプタデシル基,オクタデシル基,ノナデシル基,イコシル基,又はこれらの環状アルキル基,分鎖アルキル基などを用いることができる。
R及びRのアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが,好ましくは1乃至2個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は,直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
R及びRが示すアリール基としては,ヘテロアリール基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2〜30のアリール基,具体的にはフェニル基,ナフチル基,アンスラニル基,ピレニル基,ビフェニル基,インデニル基,テトラヒドロナフチル基,ピリジル基,ピリミジニル基,ピラジニル基,ピリダニジル基,ピペラジニル基,ピラゾリル基,イミダゾリル基,キニリル基,ピロリル基,インドリル基,フリル基などが挙げることができる。
アルキル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルケニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アラルキル基は,例としてベンジル基,ペンタフルオロベンジル基,o−メチルベンジル基,m−メチルベンジル基,p−メチルベンジル基,p−ニトロベンジル基,ナフチルメチル基,フルフリル基,α−フェネチル基等が挙げられる。
アリール基はアルキル基,フッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
シンコナアルカロイド相間移動触媒は特に限定されないが,下記の一般式(5),(6),(7)及び(8)で表される。
(式中,R6は置換もしくは未置換のアルコキシ基またはアミノ基,ウレア基,チオウレア基を示す。式中,Rは,エチル基もしくはビニル基を示す。式中,Rはアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アリール基を示す。式中,Rは,置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基,アルコキシ基またはアミノ基を示す。)
本明細書において,R及びRのアルキル基としては,例えば,炭素数1乃至20程度のアルキル基を用いることができる。具体的には,メチル基,エチル基,プロピル基,ブチル基,ペンチル基,ヘキシル基,ヘプチル基,オクチル基,ノニル基,デシル基,ウンデシル基,ドデシル基,トリデシル基,テトラデシル基,ペンタデシル基,ヘキサデシル基,ヘプタデシル基,オクタデシル基,ノナデシル基,イコシル基,又はこれらの環状アルキル基,分鎖アルキル基などを用いることができる。
及びRのアルケニル基又はアルキニル基に含まれる不飽和結合の数は特に限定されないが,好ましくは1乃至2個程度である。該アルケニル基又はアルキニル基は,直鎖状又は分枝鎖状のいずれでもよい。
及びRが示すアリール基としては,ヘテロアリール基も含有し,具体例としては,例えば炭素数2〜30のアリール基,具体的にはフェニル基,ナフチル基,アンスラニル基,ピレニル基,ビフェニル基,インデニル基,テトラヒドロナフチル基,ピリジル基,ピリミジニル基,ピラジニル基,ピリダニジル基,ピペラジニル基,ピラゾリル基,イミダゾリル基,キニリル基,ピロリル基,インドリル基,フリル基などが挙げることができる。
アルキル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルケニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アルキニル基はフッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
アラルキル基は,例としてベンジル基,ペンタフルオロベンジル基,o−メチルベンジル基,m−メチルベンジル基,p−メチルベンジル基,p−ニトロベンジル基,ナフチルメチル基,フルフリル基,α−フェネチル基等が挙げられる。
アリール基はアルキル基,フッ素原子,塩素原子,臭素原子,ヨウ素原子,シアノ基,ニトロ基,アリール基,アシル基,アルコキシ基,アリールオキシ基,アシルオキシ基などの置換基で置換されていてもよく,2個以上の置換基を有する場合には,それらは同一でも異なっていてもよい。
およびRが示すアミノ基は,N上に水素,置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アラルキル基,アルキニル基,アリール基の置換基が1つか2つ置換しているものが挙げられる。置換基はそれぞれ独立しており,同一である必要はない。アミノ基は,置換基を組み合わせて形成されうる環状構造を形成することができる。特に3員環から20員環でなる単環,双環,またはそれ以上の多環の構造を示すことができる。また,ヘテロ原子の介在もしくは非介在で環状構造の一部を形成してもよい。
6およびRが示すアルコキシ基は炭素数が1〜20のアルコキシ基が好ましく,炭素数が1〜10のアルコキシ基がさらに好ましい。アルコキシ基の場合も上記のアルキル基の場合と同様の置換基により置換されていてもよい。
が示すウレア基は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基有する。
が示すチオウレア基は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基有する。
Xが示すカウンターアニオンはフロリド,クロリド,ブロミド,ヨード,フェノキシド,トリフルオロボレート(BF4),ヘキサフルオロフォスフェート(PF6)などが挙げられる。

溶媒の種類は特に限定されないが,ジエチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,n−ブチルメチルエーテル,tert−ブチルメチルエーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン等のエーテル系溶媒;ヘプタン,ヘキサン,シクロペンタン,シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒;クロロホルム,四塩化炭素,塩化メチレン,ジクロロエタン,トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ベンゼン,トルエン,キシレン,クメン,シメン,メシチレン,ジイソプロピルベンゼン,ピリジン,ピリミジン,ピラジン,ピリダジン等の芳香族系溶媒;ジメチルスルホキシド,ジメチルホルムアミド等の溶媒;メタノール,エタノール,プロパノール,i-プロピルアルコール,アミノエタノール,N,N-ジメチルアミノエタノール等のアルコール系溶媒が挙げられる。これらは単独で使用し得るのみならず,2種類以上を混合して用いることも可能である。b−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物のエナンチオ選択的合成にはジイソプロピルエーテルが最も好ましく,シアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応による,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル化合物の合成にはメタノールが好ましい。
用いる塩基は無機塩基,有機塩基,有機金属試薬等が使用できるが,例えば,炭酸カリウム,炭酸セシウム等の炭酸塩;酢酸ナトリウム,酢酸カリウムなどの酢酸塩;テトラメチルアンモニウムフロリド,テトラエチルアンモニウムフロリド,テトラブチルアンモニウムフロリドなどのアンモニウムフロリド;フッ化カリウム,フッ化セシウムなどのフッ化アルカリ金属類;水酸化ナトリウム,水酸化カリウム等の水酸化物;ナトリウムメトキシド,カリウムtert−ブトキシド等のアルコキシド化合物;DABCO,DBU,トリエチルアミン,N,N−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基;n−ブチルリチウム,sec−ブチルリチウム,tert−ブチルリチウム,リチウムジイソプロピルアミド,ヘキサメチルジシラザンリチウム塩などのリチウム塩などが挙げられるが炭酸セシウムが最も好ましい。使用量は一般的に式(1)に対して,1〜10当量で,好ましくは3.0当量である。
一般式(3)で表されるb−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物のシアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応による,トリフルオロメチル置換ピロリンの合成には,還元剤の種類は特に限定されないが,Raney-Ni,水素/Raney-Ni,水素/Pd-C,水素/Pt2O,水素化ホウ素ナトリウム/Pd-C, 水素化アルミニウムリチウム,亜鉛/塩化水素,錫/塩化水素,鉄/塩化水素,鉄/酢酸などが挙げられが,Raney-Niの反応系が最も好ましい。
本発明の化合物の絶対配置は(S,S),(S,R),(R,S)及び(R,R)配置のいずれであってもよく,光学異性体又はジアステレオ異性体などの立体異性体はいずれも本発明の範囲に包含される。光学的に純粋な形態の異性体は本発明の好ましい態様である。また,立体異性体の任意の混合物,ラセミ体なども本発明の範囲に包含される。
反応温度は特に限定されるものではないが、通常−80℃〜120℃であり,より好ましくは室温付近である。反応器は大気開放型の反応器,またはオートクレーブ等の密閉型の反応器のいずれも可能である。反応圧力は大気圧下,または加圧下のいずれも可能である。反応時間は特に限定されるものではないが,通常1時間〜5日で反応は完結する。
反応後,前記一般式(3)で示されるb−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ,例えば反応液を濃縮した後,シリカゲル,アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製,塩析,再結晶等が挙げられる。
反応後,前記一般式(4)で示される不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル化合物の合成は一般的な手法によって反応液から単離および精製することができ,例えば反応液を濃縮した後,シリカゲル,アルミナ等の吸着剤を用いたカラムクロマトグラフ法での精製,塩析,再結晶等が挙げられる。
以下,実施形態により本発明をさらに具体的に説明するが,本発明の範囲は下記の実施形態に限定されることはない。
前記一般式(3)の一般的な製造方法:
β−アリール−β−トリフルオロメチルエノン1(0.10 mmol),炭酸セシウム(0.30 mmol),下記の構造式5aで示すシンコナアルカロイド相間移動触媒(0.01 mmol)をジイソプロピルエーテル6mLに溶かし,0 ℃において下記の構造式2aで示すアセトンシアノヒドリン(27.5 μL, 0.30 mmol)を加えた。10〜69時間撹拌した後,飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した。ジエチルエーテルを用いて抽出し,集めた有機相を飽和食塩水で洗浄し,無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。減圧下で溶媒を留去し,シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,b−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物3を得た。


Compound 3a: (R)−4−オキソ−2,4−ジフェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.96, 4.30 (AB quartet, J = 18.3 Hz, 2H), 7.40-7.44 (m, 3H), 7.47-7.52 (m, 2H), 7.58-7.65 (m, 3H), 7.91-7.93 (m, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.3, 50.0 (q, J = 28.2 Hz), 115.8, 123.8 (q, J= 284.2 Hz), 127.1, 128.0, 128.9, 129.1, 129.4, 129.6, 134.2, 135.4, 191.2; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.8 (s, 3F) ; IR (KBr) 3367, 3072, 2937, 2260, 1689, 1596, 1503, 1451, 1359, 1248, 1017, 939, 759, 690, 623, 573, 506, 462 cm-1; mp = 82.0-83.0 oC; MS (EI, m/z) 303 (M+), HRMS calcd. for C17H12F3NO : 303.0871 Found: 303.0854 ; The ee of the product was determined by HPLC using an AD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 29.7 min, τmin= 36.6 min); [a]D 25 = +150.6 (c = 0.32, CHCl3), 90%収率,92% ee.
Compound 3b: (R)−4−オキソ−4−フェニル−2−m−トリル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.37 (s, 3H), 3.93, 4.28 (AB quartet, J = 18.2 Hz, 2H), 7.20-7.34 (m, 3H), 7.44-7.52 (m, 3H), 7.60-7.65 (m, 1H), 7.91-7.94 (m, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.5, 40.3, 50.0 (q, J = 28.2 Hz), 115.9, 123.81, 123.83 (q, J = 284.2 Hz), 128.0, 128.1, 128.89, 128.92, 129.3, 130.5, 134.2, 135.5, 139.0, 191.3; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3367, 3068, 2927, 2255, 1690, 1597, 1450, 1421, 1358, 1200, 1035, 968, 877, 759, 726, 693, 624, 569, 461 cm-1; mp = 68.0-69.0 oC; MS (EI, m/z) 317 (M+), HRMS calcd. for C18H14F3NO : 317.1027 Found: 317.0998 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 26.0 min, τmin = 21.1 min); [a]D 25 = +184.1 (c = 0.48, CHCl3), 99%収率,91% ee.
Compound 3c: (R)−4−オキソ−4−フェニル−2−p−トリル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.34 (s, 3H), 3.93, 4.28 (AB quartet, J = 18.2 Hz, 2H), 7.21-7.26 (m, 2H), 7.45-7.52 (m, 4H), 7.60-7.65 (m, 1H), 7.93 (d, J = 7.5 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.0, 40.3, 49.7 (q, J = 28.7 Hz), 115.9, 123.8 (q, J = 284.2 Hz), 126.4, 127.0, 128.0, 128.9, 129.8, 134.2, 135.5, 139.7, 191.3; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.9 (s, 3F) ; IR (neat) 3367, 3072, 2926, 2255, 1909, 1698, 1597, 1517, 1450, 1359, 1246, 1096, 1015, 965, 812, 756, 688, 626, 576, 514 cm-1; MS (EI, m/z) 317 (M+), HRMS calcd. for C18H14F3NO : 317.1027 Found: 317.1031 ; The ee of the product was determined by HPLC using an AD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 38.9 min, τmin = 34.4 min); [a]D 25 = +144.5 (c = 1.08, CHCl3), 99%収率,91% ee.
Compound 3d: (R)−2−(4−メトキシフェニル)−4−オキソ−4−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.80 (s, 3H), 3.92, 4.25 (AB quartet, J = 17.9 Hz, 2H), 6.92 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.47-7.52 (m, 4H), 7.63 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.93 (d, J = 7.5 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.2, 49.4 (q, J = 28.2 Hz), 55.3, 114.5, 116.0, 121.2, 123.8 (q, J = 283.7 Hz), 128.0, 128.4, 128.9, 134.2, 135.5, 160.4, 191.3; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -73.2 (s, 3F) ; IR (neat) 3370, 3062, 2937, 2841, 2253, 1885, 1694, 1583, 1511, 1464, 1425, 1094, 1002, 930, 911, 808, 602, 500 cm-1; MS (EI, m/z) 333 (M+), HRMS calcd. for C18H14F3NO2 : 333.0977 Found: 333.0950 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 56.1 min, τmin = 44.8 min); [a]D 25 = +145.7 (c = 1.03, CHCl3), 93%収率,90% ee.
Compound 3e: (R)−2−(4−クロロフェニル)−4−オキソ−4−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.98, 4.24 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.41 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.48-7.54 (m, 4H), 7.65 (t, J = 7.4 Hz, 1H), 7.92 (d, J = 7.5 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.4, 49.7 (q, J = 28.7 Hz), 115.4, 123.6 (q, J= 284.7 Hz), 128.0, 128.1, 128.5, 129.0, 129.4, 134.4, 135.2, 136.0, 191.1; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.8 (s, 3F) ; IR (neat) 3371, 3068, 2933, 2251, 1901, 1694, 1597, 1496, 1450, 1423, 1358, 1246, 1099, 1012, 966, 910, 823, 756, 689, 624, 575 cm-1; MS (EI, m/z) 337 (M+), HRMS calcd. for C17H11ClF3NO : 337.0481 Found: 337.0467 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 32.7 min, τmin= 25.7 min); [a]D 25 = +149.1 (c = 1.03, CHCl3), 96%収率,90%.
Compound 3f: (R)−2−(4−ブロモフェニル)−4−オキソ−4−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.98, 4.23 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.45-7.58 (m, 6H), 7.64 (t, J = 7.5 Hz, 1H), 7.92 (d, J = 7.2 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.4, 49.8 (q, J = 28.7 Hz), 115.4, 123.5 (q, J= 284.7 Hz), 124.2, 128.0, 128.7, 128.8, 129.0, 132.3, 134.4, 135.2, 191.1; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (neat) 3371, 3064, 2933, 2251, 1901, 1694, 1596, 1493, 1450, 1358, 1246, 1080, 1011, 966, 819, 756, 688, 624, 575, 511 cm-1; MS (EI, m/z) 381 (M+), HRMS calcd. for C17H11BrF3NO : 380.9976 Found: 380.9992 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 38.5 min, τmin = 31.4 min); [a]D 25 = +133.2 (c = 1.26, CHCl3), 92%収率,90% ee.
Compound 3g: (R)−2−(ナフタレン−2−イル)−4−オキソ−4−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 4.03, 4.43 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.45-7.55 (m, 4H), 7.59-7.62 (m, 2H), 7.81-7.93 (m, 5H), 8.14 (s, 1H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.5, 50.3 (q, J = 28.7 Hz), 115.9, 123.3, 123.9 (q, J = 284.7 Hz), 126.7, 127.0, 127.4, 127.6, 127.7, 128.0, 128.5, 128.9, 129.1, 132.9, 133.3, 134.2, 135.4, 191.2; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.4 (s, 3F) ; IR (KBr) 3363, 3065, 1686, 1596, 1579, 1449, 1418, 1371, 1127, 1029, 972, 934, 859, 817, 753, 687, 651, 620, 571, 478 cm-1; mp = 157.0-158.5 oC; MS (EI, m/z) 353 (M+), HRMS calcd. for C21H14F3NO : 353.1027 Found: 353.1013 ; The ee of the product was determined by HPLC using an IC column (n-hexane/i-PrOH = 98/2, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 37.7 min, τmin= 45.2 min); [a]D 25 = +205.1 (c = 0.59, CHCl3), 92%,90% ee.
Compound 3h: (R)−4−オキソ−2−フェニル−4−p−トリル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.43 (s, 3H), 3.92, 4.27 (AB quartet, J = 18.2 Hz, 2H), 7.26-7.30 (m, 3H), 7.40-7.43 (m, 3H), 7.58 (d, J= 4.2 Hz, 2H), 7.82 (d, J = 8.1 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.7, 40.2, 50.1 (q, J = 28.2 Hz), 115.9, 123.8 (q, J = 283.7 Hz), 127.1, 128.1, 129.1, 129.55, 129.59, 133.0, 145.3, 190.8; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3355, 3004, 2937, 2256, 1686, 1610, 1495, 1451, 1358, 1253, 1184, 1072, 1018, 910, 806, 733, 679, 575, 549 cm-1; mp = 126.0-128.0 oC; MS (EI, m/z) 317 (M+), HRMS calcd. for C18H14F3NO : 317.1027 Found: 317.1039 ; The ee of the product was determined by HPLC using an IC column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 27.3 min, τmin = 40.6 min); [a]D 25 = +175.6 (c = 0.40, CHCl3), 92%収率,92% ee.
Compound 3i: (R)−4−(4−メトキシフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.88 (s, 3H), 3.90, 4.25 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 6.95 (d, J = 8.8 Hz, 2H), 7.40-7.44 (m, 3H), 7.57-7.60 (m, 2H), 7.90 (d, J = 9.0 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 39.9, 50.1 (q, J = 28.2 Hz), 55.6, 114.1, 115.9, 123.9 (q, J = 284.2 Hz), 127.1, 128.6, 129.1, 129.57, 129.63, 130.4, 164.3, 189.6; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3343, 2940, 2842, 2252, 1678, 1603, 1512, 1452, 1422, 1357, 1253, 1172, 1019, 965, 912, 831, 732, 694, 591, 462 cm-1; mp = 91.0-92.5 oC; MS (EI, m/z) 333 (M+), HRMS calcd. for C18H14F3NO2: 333.0977 Found: 333.0997 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 60.1 min, τmin = 48.1 min); [a]D 25 = +180.0 (c = 0.74, CHCl3),98%収率,94% ee.
Compound 3j: (R)−4−(4−クロロフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.93, 4.25 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.42-7.48 (m, 5H), 7.57 (d, J = 4.2 Hz, 2H), 7.86 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.3, 50.0 (q, J = 28.7 Hz), 115.7, 123.7 (q, J = 284.2 Hz), 127.1, 129.2, 129.3, 129.4, 129.7, 133.7, 140.9, 190.1; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3358, 2942, 2251, 1686, 1592, 1491, 1451, 1420, 1359, 1249, 1195, 1016, 910, 820, 730, 694, 662, 573, 528, 466 cm-1; mp = 112.5-114.0 oC; MS (EI, m/z) 337 (M+), HRMS calcd. for C17H11ClF3NO : 337.0481 Found: 337.0485 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 41.6 min, τmin= 31.1 min); [a]D 25 = +163.6 (c = 0.74, CHCl3), 99%収率,96% ee.
Compound 3k: (R)−4−(3−ブロモフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.93, 4.24 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.35-7.44 (m, 4H), 7.57 (m, 1H), 7.75 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.84 (d, J = 8.1 Hz, 1H), 8.03 (s, 1H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.5, 50.0 (q, J = 28.2 Hz), 115.6, 123.3, 123.7 (q, J = 283.7 Hz), 126.5, 127.1, 129.17, 129.23, 129.8, 130.5, 131.0, 137.0, 130.1, 190.0; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3375, 3067, 2928, 2251, 1956, 1694, 1568, 1453, 1415, 1350, 1198, 1016, 964, 909, 785, 728, 694, 620, 457 cm-1; mp = 101.0-103.0 oC; MS (EI, m/z) 381 (M+), HRMS calcd. for C17H11BrF3NO : 380.9976 Found: 380.9985 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 46.5 min, τmin = 28.4 min); [a]D 25 = +134.2 (c = 0.95, CHCl3), 99%収率,90% ee.
Compound 3l: (R)−4−(4−ブロモフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.92, 4.24 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.42-7.44 (m, 3H), 7.57-7.59 (m, 2H), 7.63 (d, J = 8.7 Hz, 2H), 7.78 (d, J = 8.4 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.3, 50.0 (q, J = 28.2 Hz), 115.7, 123.7 (q, J= 284.7 Hz), 127.0, 129.1, 129.3, 129.4, 129.6, 129.7, 132.3, 134.1, 190.4; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3358, 2941, 2251, 1686, 1587, 1451, 1399, 1360, 1249, 1195, 1071, 992, 909, 817, 734, 694, 636, 572, 505, 455 cm-1; mp = 124.5-125.5 oC; MS (EI, m/z) 381 (M+), HRMS calcd. for C17H11BrF3NO : 380.9976 Found: 381.0005 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 47.7 min, τmin= 36.7 min); [a]D 25 = +146.7 (c = 1.06, CHCl3), 99%収率,95% ee.
Compound 3m: (R)−4−(4−ニトロフェニル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 4.02, 4.30 (AB quartet, J = 17.9 Hz, 2H), 7.44-7.46 (m, 3H), 7.58-7.59 (m, 2H), 8.09 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 8.35 (d, J = 9.0 Hz, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 41.0, 50.0 (q, J = 28.7 Hz), 115.4, 123.6 (q, J= 284.2 Hz), 124.2, 127.0, 129.0, 129.1, 129.3, 130.0, 139.6, 150.9, 190.0; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.7 (s, 3F) ; IR (KBr) 3379, 2992, 2925, 2262, 1697, 1603, 1531, 1420, 1350, 1319, 1202, 1073, 1020, 908, 848, 734, 694, 659, 571, 507 cm-1; mp = 106.0-107.0 oC; MS (EI, m/z) 348 (M+), HRMS calcd. for C17H11F3N2O3: 348.0722 Found: 348.0711 ; The ee of the product was determined by HPLC using an AD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 80/20, flow rate 1.0 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 17.3 min, τmin = 15.5 min); [a]D 25 = +139.0 (c = 0.74, CHCl3), 99%収率,94% ee.
Compound 3n: (R)−4−(ナフタレン−2−イル)−4−オキソ−2−フェニル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 4.09, 4.45 (AB quartet, J = 18.0 Hz, 2H), 7.41-7.43 (m, 3H), 7.57-7.67 (m, 4H), 7.88-8.00 (m, 4H), 8.46 (s, 1H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 40.4, 50.2 (q, J = 28.2 Hz), 115.9, 123.2, 123.9 (q, J = 284.7 Hz), 127.15, 127.22, 127.9, 128.9, 129.1, 129.2, 129.5, 129.61, 129.64, 129.9, 132.3, 132.8, 136.0, 191.2; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.6 (s, 3F) ; IR (KBr) 3367, 2988, 2926, 2260, 1693, 1469, 1374, 1187, 1018, 902, 852, 822, 746, 699, 677, 593, 508, 475 cm-1; mp = 83.0-84.0 oC; MS (EI, m/z) 353 (M+), HRMS calcd. for C21H14F3NO : 353.1027 Found: 353.1014 ; The ee of the product was determined by HPLC using an AD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 55.3 min, τmin = 47.2 min); [a]D 25 = +232.3 (c = 0.85, CHCl3), 99%収率,91% ee.
Compound 3o: (R)−4−(4−ブロモ−3−メチルフェニル)−2−(3,5−ジクロロフェニル)−4−オキソ−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.47 (s, 3H), 3.97, 4.11 (AB quartet, J = 18.2 Hz, 2H), 7.44 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 7.47 (s, 1H), 7.58 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 7.68 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.76 (s, 1H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 22.9, 40.6, 49.7 (q, J = 28.7 Hz), 114.7, 123.3 (q, J= 285.2 Hz), 125.8, 126.6, 130.0, 130.2, 132.4, 132.8, 133.1, 133.9, 136.0, 139.2, 190.2; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.2 (s, 3F) ; IR (KBr) 3355, 3084, 2925, 2586, 2251, 1685, 1574, 1419, 1354, 1173, 1031, 976, 859, 807, 707, 677, 640, 596, 510, 472 cm-1; mp = 47.0-49.0 oC; MS (EI, m/z) 463 (M+), HRMS calcd. for C18H11BrCl2F3NO : 462.9353 Found: 462.9379 ; The ee of the product was determined by HPLC using an OD-3 column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 23.8 min, τmin = 29.0 min); [a]D 25 = +161.0 (c = 1.45, CHCl3),99%収率, 95% ee.
Compound 3p: (R)−2−(3,5−ジクロロフェニル)−4−オキソ−4−m−トリル−2−(トリフルオロメチル)ブタンニトリル
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 2.48 (s, 3H), 4.01, 4.16 (AB quartet, J = 18.3 Hz, 2H), 7.37-7.48 (m, 5H), 7.71 (s, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 21.3, 40.7, 49.7 (q, J = 28.7 Hz), 114.8, 123.4 (q, J = 284.7 Hz), 125.2, 125.9, 128.6, 128.9, 130.1, 133.0, 135.0, 135.3, 135.9, 139.0, 190.9; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -72.2 (s, 3F); IR (KBr) 3363, 3075, 2933, 1688, 1574, 1688, 1574, 1427, 1355, 1241, 1177, 1036, 973, 854, 809, 787, 710, 692, 677, 623, 555 cm-1; mp = 114.0-117.0 oC; MS (EI, m/z) 385 (M+); The ee of the product was determined by HPLC using an ID column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 0.5 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 12.6 min, τmin= 16.1 min); [a]D 25 = +138.1 (c = 1.35, CHCl3),94%収率,92% ee.
前記一般式(4)の一般的な製造方法:
Raney-Ni(1.0 g)の懸濁水溶液(14.0 mL)に室温において,水酸化ナトリウム(930 mg)を加えた。一時的な発熱が収まった後,70 ℃の湯浴において20分間加熱撹拌した。室温冷却後,水で3回,MeOHで5回洗浄した。活性化したRaney-Nickelのメタノール溶液(4.0 mL)に対して,上記の構造式3aで示すb−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物(30.3 mg, 92% ee)を室温において加えた。10分間撹拌後,セライトろ過を行い,メタノールで洗い流した。ろ液を減圧下で溶媒を留去し,シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、トリフルオロメチル置換ピロリン化合物4aを得た
Compound 4a: (R)−3,5−ジフェニル−3−(トリフルオロメチル)−3,4−ジヒドロ−2H−ピロール
1H NMR (CDCl3, 300 MHz) δ 3.53 (d, J = 17.7 Hz, 1H), 3.83 (dd, J= 1.7, 17.6 Hz, 1H), 4.52 (d, J = 17.1 Hz, 1H), 4.92 (dd, J = 1.4, 17.0 Hz, 1H), 7.33-7.42 (m, 5H), 7.44-7.48 (m, 3H), 7.85-7.88 (m, 2H); 13C NMR (CDCl3, 150.9 MHz) δ 43.6, 55.5 (q, J = 25.2 Hz), 68.6, 127.5, 127.8 (q, J = 282.2 Hz), 128.1, 128.3, 128.6, 131.0, 133.4, 138.3, 170.9; 19F NMR (CDCl3, 282 MHz) δ -76.5 (s, 3F) ; IR (KBr) 2962, 2925, 1963, 1698, 1621, 1577, 1497, 1449, 1260, 1095, 1028, 800, 764, 702, 627, 563, 509 cm-1; mp = 60.5-63.0 oC; MS (EI, m/z) 289 (M+), HRMS calcd. for C17H14F3N : 289.1078 Found: 289.1098 ; The ee of the product was determined by HPLC using an ID column (n-hexane/i-PrOH = 95/5, flow rate 1.0 mL/min, λ = 254 nm, τmaj = 12.4 min, τmin= 7.8 min); [a]D 25 = +62.4 (c = 0.31, CHCl3),49%収率,93% ee.

Claims (2)

  1. 下記の一般式(1)で表されるβ−置換−β−トリフルオロメチルエノンと,下記の一般式(2)で表されるシアノヒドリンを溶媒中,塩基存在下,触媒量のシンコナアルカロイド相間移動触媒存在下で反応させることにより,高エナンチオ選択的に下記一般式(3)で表される,不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル化合物の製造方法。


    (式中,R,R2及びR3は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基を示す。)


    (式中,R4及びR5は置換もしくは未置換のアルキル基,アルケニル基,アルキニル基,アラルキル基,アリール基を示す。)


    (式中,R,R2及びR3は式(1)に記載の通りである。)



  2. 上記の一般式(3)で表されるb−シアノ−b−トリフルオロメチル化合物のシアノ基の還元/縮合/脱水の連続反応を行うことで,高エナンチオ選択的に,下記の一般式(4)で表される不斉四置換炭素を有するトリフルオロメチル化合物を得ることを特徴とする製造方法。

    (式中,R,R2及びRは式(1)に記載の通りである。)

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WO2015129630A1 (ja) * 2014-02-25 2015-09-03 国立大学法人名古屋工業大学 (s)-2-(5-クロロ-2-ニトロフェニル)-4-シクロプロピル-1,1,1-トリフルオロブト-3-イン-2-オールの製造方法

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