JP2013536993A5 - - Google Patents
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1970年代、モジュールがモノ結晶シリコンおよびポリ結晶シリコンを含む結晶シリコンに基づく場合に、シリコン材は、第1世代の太陽電池と一般に知られているいわゆる標準的な太陽光発電用途のために研究されていた。
最近では、二酸化炭素を排出することなくエネルギーを要するため、シリコン量子ドット(Si−QDs)で有利な量子閉じ込め効果を生じる現代の太陽光発電用途で重要な役割を果たすシリコンが盛り返してきた。単一の入射する高エネルギーの光子が太陽電池の表面と接触する際、電子正孔対が生じ、残りのエネルギーが熱として失われる。現代の考えでは、第2又はそれよりも多い電子放射を形成するために(熱効果を通じて失われた)このエネルギーが利用される。
多重励起子生成(MEG)に由来するこの技術は、第3世代の太陽電池のうちの1つとして知られている。太陽光発電用途のためSi−QDs合成での最新の開発がされている中、マグネトロンプラズマ蒸着による量子ドット(QDs)の精巧が認識されている。他の類似の研究が、ノージックらにより特にPbS、PbSe、PbTe、CdS、CdSeおよびInAs材料を使用して行われている。
この時、追加の注入ステップで適当なドーパントによりQDsをドープすることが可能である。ドーパントは、n−タイプ基板の場合p−タイプ、又はp−タイプ基板の場合n−タイプであってよく、射光により生じる電荷キャリアを集めるためp−n又はn−p接合を生じさせる。好ましくは、p−タイプのドーパントはホウ素である。有利には、n−タイプのドーパントはリンである。
次いで、前側コンタクトおよび後側コンタクトを基板の前面および背面に設けてよい。前側コンタクトは、図1に示すような製造された太陽電池を部分的に覆う不透明な電極、又は図7に示すようなITO材料により製造された電極等の透明な導体電極のいずれか一方であり得る。後側コンタクトは不透明な電極、好ましくはアルミニウムであり得る。
光吸収に直接的に依存し、および酸化物の厚さで電気伝導度に間接的に依存するため、吸収/伝導の中間物は最適化される。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP10175311A EP2426724A1 (en) | 2010-09-03 | 2010-09-03 | Process for the production of photovoltaic cells |
EP10175311.9 | 2010-09-03 | ||
US38059210P | 2010-09-07 | 2010-09-07 | |
US61/380,592 | 2010-09-07 | ||
PCT/EP2011/065255 WO2012028738A1 (en) | 2010-09-03 | 2011-09-05 | Process for the production of photovoltaic cells |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013536993A JP2013536993A (ja) | 2013-09-26 |
JP2013536993A5 true JP2013536993A5 (ja) | 2014-09-25 |
Family
ID=44359436
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013526498A Pending JP2013536993A (ja) | 2010-09-03 | 2011-09-05 | 太陽電池を生産するための方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20130273684A1 (ja) |
EP (2) | EP2426724A1 (ja) |
JP (1) | JP2013536993A (ja) |
CN (1) | CN103081131A (ja) |
WO (1) | WO2012028738A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104377114B (zh) * | 2013-08-13 | 2017-04-05 | 国家纳米科学中心 | 一种锗量子点的生长方法、锗量子点复合材料及其应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7170001B2 (en) | 2003-06-26 | 2007-01-30 | Advent Solar, Inc. | Fabrication of back-contacted silicon solar cells using thermomigration to create conductive vias |
TWI312190B (en) * | 2006-05-23 | 2009-07-11 | Art Talent Ind Limite | Novel nano-crystal device for image sensing |
ES2402779T3 (es) | 2007-12-14 | 2013-05-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Célula solar de película delgada y procedimiento para su fabricación |
CN101388324B (zh) * | 2008-10-14 | 2010-06-09 | 厦门大学 | 一种锗量子点的制备方法 |
WO2010110888A1 (en) * | 2009-03-23 | 2010-09-30 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Quantum confinement solar cell fabriacated by atomic layer deposition |
US20110139248A1 (en) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | Honeywell International Inc. | Quantum dot solar cells and methods for manufacturing solar cells |
US20110263108A1 (en) * | 2010-04-27 | 2011-10-27 | Technische Universitat Berlin | Method of fabricating semiconductor quantum dots |
-
2010
- 2010-09-03 EP EP10175311A patent/EP2426724A1/en not_active Withdrawn
-
2011
- 2011-09-05 US US13/820,232 patent/US20130273684A1/en not_active Abandoned
- 2011-09-05 WO PCT/EP2011/065255 patent/WO2012028738A1/en active Application Filing
- 2011-09-05 CN CN2011800426403A patent/CN103081131A/zh active Pending
- 2011-09-05 EP EP11752224.3A patent/EP2612368A1/en not_active Withdrawn
- 2011-09-05 JP JP2013526498A patent/JP2013536993A/ja active Pending
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