JP2013500874A - 磁気粘弾性流体仕上げを使用して光学素子を処理する為の方法及びシステム - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 297
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 75
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title description 29
- 238000012545 processing Methods 0.000 title description 16
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 31
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 30
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 20
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 18
- 238000012634 optical imaging Methods 0.000 claims description 3
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 32
- 230000006870 function Effects 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 8
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 7
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 7
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 5
- PXFBZOLANLWPMH-UHFFFAOYSA-N 16-Epiaffinine Natural products C1C(C2=CC=CC=C2N2)=C2C(=O)CC2C(=CC)CN(C)C1C2CO PXFBZOLANLWPMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000013178 mathematical model Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000000368 destabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000007730 finishing process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 210000005003 heart tissue Anatomy 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229940087654 iron carbonyl Drugs 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
- H01S3/0057—Temporal shaping, e.g. pulse compression, frequency chirping
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
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Abstract
Description
[連邦出資の研究開発の下に行われた発明に対する権利についての陳述書]
[0002]米国政府は、米国のエネルギ省及びローレンスリバモア国家安全保障会社との間の契約第DE-AC52-07NA27344に従って、ローレンスリバモア国家安全保障事業に対し、本発明における権利を有する。
Claims (18)
- (独立)
光学素子を仕上げ処理する方法において:
前記光学素子と重なる複数の基準を有する光学マウントに前記光学素子を取り付けるステップと;
前記光学素子と前記複数の基準に対し第1計量マップを取得するステップと;
複数の基準を伴わずに前記光学素子に対し第2計量マップを取得するステップと;
前記第1計量マップと前記第2計量マップとの間の差異マップを形成するステップと;
前記第1計量マップと前記第2計量マップを整列させるステップと;
前記差異マップを使用して前記第2計量マップ上に数学的基準を置き、第3計量マップを形成するステップと;
前記第3計量マップを前記光学素子に関連付けるステップと;
前記光学素子をMRFツール内の取付け具に取り付けるステップと;
前記取付け具に前記光学素子を位置決めするステップと;
前記複数の基準を除去するステップと;
前記光学素子を仕上げ処理するステップと;
を備える、方法。 - (従属)
前記複数の基準は、ワイヤグリッドを有し、前記ワイヤグリッドは、前記光学素子の表面に実質的に平行に向けられている、請求項1に記載の方法。 - (従属)
前記第1計量マップは、前記基準に関連した加工品を備える、請求項1に記載の方法。 - (従属)
前記光学素子が、チタン:サファイヤまたはサファイヤ結晶のうちの少なくとも1つを備える、請求項1に記載の方法。 - (従属)
前記MRFツールが:
空間範囲で200μm未満の除去機能を与えるように動作可能なホィールと;
20μm未満の空間解像度を持つカメラシステムと;
を備える、請求項1に記載の方法。 - (独立)
光学素子を研磨する為のMRFシステムにおいて:
プロセッサと;
前記プロセッサに結合されたMRFツールであって、前記MRFツールが:
所定の除去機能を与えるように動作可能なホィールと;
前記光学素子と複数の基準とを受けるように動作可能な光学マウントと;
前記プロセッサに結合され、MRFツールを制御して前記光学素子を研磨する為に複数のインストラクションを保存するコンピュータ読み取り可能媒体であって、前記複数のインストラクションは:
前記データプロセッサに、前記光学素子及び前記複数の基準の為に第1計量マップを取得させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記複数の基準を伴わずに前記光学素子の為に第2計量マップを取得させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記第1計量マップと前記第2計量マップとの間の差異マップを形成させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記第1計量マップと前記第2計量マップとを整列させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記差異マップを使用して前記第2計量マップ上に数学的基準を配置し、第3計量マップを形成させるインストラクション;
前記データプロセッサに、前記第3計量マップを前記光学素子に関連付けさせるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記MRFツールを制御させ、前記光学素子を仕上げ処理させるインストラクションと;
を備える、MRFシステム。 - (従属)
前記複数の基準がワイヤグリッドを備え、前記ワイヤグリッドは、前記光学素子の表面に対して実質的に平行に向けられている、請求項6に記載のMRFシステム。 - (従属)
前記第1計量マップは、前記基準に関連した加工品を含む、請求項6に記載のMRFシステム。 - (従属)
前記光学素子は、チタン:サファイヤまたはサファイヤ結晶のうちの少なくとも1つを備える、請求項6に記載のMRFシステム。 - (従属)
前記MRFツールが:
空間範囲で200μm未満の除去機能を与えるように動作可能なホィールと;
20μm未満の空間解像度を持つカメラシステムと;
を備える、請求項6に記載のMRFシステム。 - (独立)
光学素子を研磨する為の方法において:
前記光学素子を受けるように動作可能な領域と、前記領域に隣接して位置決めされた複数の基準とを有する光学マウントに前記光学素子を取り付けるステップと;
前記光学素子と前記複数の基準を含む第1計量マップを取得するステップと;
前記光学素子を含み、前記複数の基準を持たない第2計量マップを取得するステップと;
前記第1計量マップ及び前記第2計量マップに基づき、差異計量マップを形成するステップと;
前記第1計量マップと前記第2計量マップに整列させるステップと;
前記第2計量マップに数学的基準を追加し、第3計量マップを形成するステップと;
MRFツールに前記光学マウントを位置決めするステップと;
前記第3計量マップを使用して前記MRFツールに前記光学マウントを登録するステップと;
前記光学素子を研磨するステップと;
を備える、方法。 - (従属)
前記複数の基準は、前記光学素子の表面に対して実質的に平行な面に配置された複数のパターンを備える、請求項11に記載の方法。 - (従属)
前記光学素子が、チタン:サファイヤまたはサファイヤ結晶のうちの少なくとも1つを備える、請求項11に記載の方法。 - (従属)
前記MRFツールが:
空間範囲で200μm未満の除去機能を与えるように動作可能なホィールと;
20μm未満の空間解像度を持つカメラシステムと;
を備える、請求項11に記載の方法。 - (独立)
光学素子を研磨する為のMRFシステムにおいて:
プロセッサと;
光学画像システムと;
前記プロセッサに結合されたMRFツールと;
を備え、前記MRFツールは:
所定の除去機能を与えるように動作可能なホィールと;
前記光学素子を受けるように動作可能であり、複数の外部基準を含む、光学マウントと;
前記プロセッサに結合され、前記MRFツールを制御し前記光学素子を研磨する為に複数のインストラクションを保存するコンピュータ読み取り可能媒体と;
を備え、前記複数のインストラクションは:
前記データプロセッサに、前記光学素子を光学マウントに取り付けさせるインストラクションであって、前記光学マウントは、前記光学素子を受けるように動作可能な領域と、前記領域に隣接して位置決めされた複数の基準とを有する、前記インストラクションと;
前記データプロセッサに、前記光学素子及び前記複数の基準を含む第1計量マップを取得させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記光学素子を含み前記複数の基準を持たない第2計量マップを取得させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記第1計量マップ及び前記第2計量マップに基づき差異計量マップを形成させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、前記第1計量マップを前記第2計量マップに整列させるインストラクションと;
前記データプロセッサに、数学的基準を前記第2計量マップに追加させ、第3計量マップを形成させるインストラクションと;
前記データプロセッサに前記MRFツールを制御させ、前記光学素子を研磨させるインストラクションと;
を備える、MRFシステム。 - (従属)
前記複数の基準は、前記光学素子の表面に対して実質的に平行な面に配置された複数のパターンを備える、請求項15に記載の方法。 - (従属)
前記光学素子が、チタン:サファイヤまたはサファイヤ結晶のうちの少なくとも1つを備える、請求項15に記載の方法。 - (従属)
前記所定の除去機能が、空間範囲で200μm未満であり、前記光学画像システムが20μm未満の空間解像度により特徴付けられる、請求項15に記載の方法。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23079309P | 2009-08-03 | 2009-08-03 | |
US61/230,793 | 2009-08-03 | ||
US12/760,418 | 2010-04-14 | ||
US12/760,418 US8271120B2 (en) | 2009-08-03 | 2010-04-14 | Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing |
US12/782,566 US8780440B2 (en) | 2009-08-03 | 2010-05-18 | Dispersion compensation in chirped pulse amplification systems |
US12/782,566 | 2010-05-18 | ||
PCT/US2010/044138 WO2011017266A1 (en) | 2009-08-03 | 2010-08-02 | Method and system for processing optical elements using magnetorheological finishing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013500874A true JP2013500874A (ja) | 2013-01-10 |
JP5668944B2 JP5668944B2 (ja) | 2015-02-12 |
Family
ID=47179048
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012523682A Active JP5668944B2 (ja) | 2009-08-03 | 2010-08-02 | 磁気粘弾性流体仕上げを使用して光学素子を処理する為の方法及びシステム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8780440B2 (ja) |
JP (1) | JP5668944B2 (ja) |
RU (1) | RU2559609C2 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP6036854B2 (ja) | 2013-01-31 | 2016-11-30 | 株式会社島津製作所 | レーザパルス圧縮用回折格子を用いたレーザ装置 |
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KR102146831B1 (ko) * | 2014-01-29 | 2020-08-21 | 한국전자통신연구원 | 레이저 시스템 |
GB2528023A (en) * | 2014-03-18 | 2016-01-13 | Stfc Science & Technology | High power laser with chirped pulse amplification |
EP2933882B1 (en) | 2014-04-14 | 2016-11-23 | Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY | Device and method for stretching or compressing laser pulses |
CN104577690B (zh) * | 2015-01-22 | 2017-07-14 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 超宽带相干合成啁啾脉冲放大激光系统 |
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2010
- 2010-05-18 US US12/782,566 patent/US8780440B2/en active Active
- 2010-08-02 RU RU2012108114/02A patent/RU2559609C2/ru active
- 2010-08-02 JP JP2012523682A patent/JP5668944B2/ja active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
RU2012108114A (ru) | 2013-09-10 |
RU2559609C2 (ru) | 2015-08-10 |
US8780440B2 (en) | 2014-07-15 |
JP5668944B2 (ja) | 2015-02-12 |
US20110026105A1 (en) | 2011-02-03 |
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