JP2013256584A - Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same - Google Patents

Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same Download PDF

Info

Publication number
JP2013256584A
JP2013256584A JP2012133103A JP2012133103A JP2013256584A JP 2013256584 A JP2013256584 A JP 2013256584A JP 2012133103 A JP2012133103 A JP 2012133103A JP 2012133103 A JP2012133103 A JP 2012133103A JP 2013256584 A JP2013256584 A JP 2013256584A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermosetting resin
flux
acid
resin composition
solder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2012133103A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Taro Fukui
太郎 福井
Hirohisa Hino
裕久 日野
Yasuo Fukuhara
康雄 福原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2012133103A priority Critical patent/JP2013256584A/en
Publication of JP2013256584A publication Critical patent/JP2013256584A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thermosetting resin composition capable of performing component packaging that is excellent in solder aggregation in a batch reflow step and is excellent in reliability to dropping impact and moisture absorption, and to provide a flux composition and a semiconductor apparatus using them.SOLUTION: A thermosetting resin composition comprises solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component. The thermosetting resin composition further comprises, as the flux component, a salt of a dicarboxylic or tricarboxylic acid and diethanol or triethanol amines.

Description

本発明は、例えば、回路基板への半導体部品の実装などに使用される熱硬化性樹脂組成物、およびフラックス組成物、ならびにこれらを用いて半導体部品を実装した半導体装置に関するものである。   The present invention relates to a thermosetting resin composition and a flux composition used for mounting a semiconductor component on a circuit board, for example, and a semiconductor device in which a semiconductor component is mounted using these.

近年、半導体パッケージなどの半導体装置の高密度化・多ピン化に伴い、従来のQFP(Quad Flat Package)のようにリードを用いてはんだ付けにより回路基板に実装する方法に代替する方法が急増してきている。このような方法の代表的なものとしては、BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)のようにはんだボール(はんだバンプ)を用いて回路基板に実装する方法がある。   In recent years, as the density of semiconductor devices such as semiconductor packages has increased and the number of pins has increased, there has been a rapid increase in methods to replace the method of mounting on circuit boards by soldering using leads, such as the conventional QFP (Quad Flat Package). ing. A typical example of such a method is a method of mounting on a circuit board using solder balls (solder bumps) such as BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Size Package).

従来、回路基板などに半導体部品を実装する際には、クリームはんだと呼ばれる材料が使用されている。   Conventionally, when a semiconductor component is mounted on a circuit board or the like, a material called cream solder has been used.

クリームはんだは、はんだ粒子、フラックス成分、および溶剤を含む組成物である。このクリームはんだを使用した部品実装では、クリームはんだがリフロー炉中ではんだ粒子の融点以上の温度に加熱されることで、はんだ粒子が溶融する。それと共に、高温でフラックス成分によりはんだ粒子表面の酸化層が除去されて、はんだ粒子が一体化し、これにより回路基板などの導体配線と半導体部品との間の導通が確保される。このようなクリームはんだを使用した部品実装プロセス(はんだリフロープロセス)では多くの部品を一括して接続でき、生産性を高めることができる。   Cream solder is a composition containing solder particles, a flux component, and a solvent. In component mounting using the cream solder, the solder particles are melted by heating the cream solder to a temperature equal to or higher than the melting point of the solder particles in a reflow furnace. At the same time, the oxide layer on the surface of the solder particles is removed by the flux component at a high temperature, and the solder particles are integrated, thereby ensuring conduction between the conductor wiring such as a circuit board and the semiconductor component. In a component mounting process (solder reflow process) using such cream solder, many components can be connected together, and productivity can be improved.

添加されるフラックス成分としては、アビエチン酸に代表されるロジン成分材料や各種アミンおよびその塩、さらにはセバシン酸、アジピン酸などの高融点有機酸などが知られている。   As the flux component to be added, rosin component materials represented by abietic acid, various amines and salts thereof, and high melting point organic acids such as sebacic acid and adipic acid are known.

近年では、携帯電話、スマートフォンに代表される様々なモバイル機器が実用化されているが、携帯して持ち歩くという性質上、機器が落下した際の衝撃に対して部品接続部にトラブルが起こらないように、部品接続強度の向上が望まれている。   In recent years, various mobile devices typified by mobile phones and smartphones have been put into practical use. However, due to the nature of being carried around, there is no problem with parts connection parts due to the impact when the device falls. In addition, improvement of component connection strength is desired.

部品接続部に接着剤を塗布して強度補強する、いわゆるアンダーフィルも有効であるが、組立プロセスの増加やスループットが長くなるという点の改善が望まれている。   So-called underfill, in which strength is strengthened by applying an adhesive to the component connecting portion, is also effective, but improvement in the point that the assembly process is increased and the throughput is increased is desired.

そこで、リフローはんだ付けと同時に電気接続部を熱硬化性樹脂で補強する方法が提案され、実用化が進められている。具体的には、フラックス成分として特定のカルボン酸を熱硬化性樹脂バインダー、はんだ粒子とともに含有させる組成物が提案されている(特許文献1)。   Then, the method of reinforcing an electrical connection part with a thermosetting resin simultaneously with reflow soldering is proposed, and practical use is advanced. Specifically, a composition containing a specific carboxylic acid as a flux component together with a thermosetting resin binder and solder particles has been proposed (Patent Document 1).

特許第4535050号公報Japanese Patent No. 4535050

しかしながら、カルボン酸を熱硬化性バインダー中でフラックスとして作用させるには、バインダー樹脂に対して通常10〜50PHRの配合が必要である。   However, in order for carboxylic acid to act as a flux in a thermosetting binder, it is usually necessary to add 10 to 50 PHR to the binder resin.

これよりも配合量が少ないと、見かけ上はんだ粒子の一体化は起こるが、ボール残りと呼ばれるはんだ粒子が樹脂中に残存し、電気絶縁性や信頼性を低下させる要因になっていた。   If the blending amount is less than this, the solder particles are apparently integrated, but the solder particles called the ball residue remain in the resin, which is a factor of lowering electrical insulation and reliability.

有効なカルボン酸を多量に配合すればこのような問題は生じないものの、リフロー工程を通じて硬化した樹脂中に、多量のカルボン酸が未反応で残存してしまい、可塑剤として残ることになる。そのため、樹脂硬化物が脆くなり落下衝撃への補強性能が十分に得られない。   If a large amount of effective carboxylic acid is added, such a problem does not occur, but a large amount of carboxylic acid remains unreacted in the resin cured through the reflow process and remains as a plasticizer. For this reason, the cured resin becomes brittle, and sufficient reinforcement performance against drop impact cannot be obtained.

さらに、樹脂硬化物が吸湿しやすくなって吸湿による絶縁抵抗劣化を起こしてしまったり、樹脂による接着補強が吸湿によってほとんど得られなくなる場合もあった。   Furthermore, the cured resin may easily absorb moisture, causing deterioration of insulation resistance due to moisture absorption, or adhesion reinforcement by resin may be hardly obtained due to moisture absorption.

本発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、一括リフロー工程でのはんだ凝集性に優れ、落下衝撃や吸湿に対する信頼性にも優れた部品実装が可能な熱硬化性樹脂組成物とそれを用いた半導体装置を提供することを課題としている。   The present invention has been made in view of the circumstances as described above, and is a thermosetting resin composition that is excellent in solder cohesiveness in a batch reflow process and can be mounted with excellent reliability in terms of drop impact and moisture absorption. An object is to provide an object and a semiconductor device using the object.

また本発明は、はんだボールまたははんだバンプの導電接続による半導体部品の実装において、フラックスとして作用し良好な実装性が得られ、かつ補強樹脂として作用し、その実装強度を大幅に高めることができるフラックス組成物とそれを用いた半導体装置を提供することを課題としている。   In addition, the present invention provides a flux that can act as a flux in mounting a semiconductor component by conductive connection of solder balls or solder bumps to obtain a good mounting property, and can act as a reinforcing resin to greatly increase its mounting strength. It is an object to provide a composition and a semiconductor device using the composition.

上記の課題を解決するために、本発明の熱硬化性樹脂組成物は、はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、およびフラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物において、フラックス成分として、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩を含有することを特徴としている。   In order to solve the above-described problems, the thermosetting resin composition of the present invention includes a dicarboxylic acid or a dicarboxylic acid as a flux component in a thermosetting resin composition containing solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component. It is characterized by containing a salt of tricarboxylic acid and diethanolamines or triethanolamines.

この熱硬化性樹脂組成物において、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸が、アジピン酸、グルタル酸、ジグリコール酸、プロパントリカルボン酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、およびコハク酸から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。   In this thermosetting resin composition, the dicarboxylic acid or tricarboxylic acid is at least one selected from adipic acid, glutaric acid, diglycolic acid, propanetricarboxylic acid, citric acid, tartaric acid, oxalic acid, and succinic acid. Is preferred.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、およびフラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物において、フラックス成分として、カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を含有することを特徴としている。   The thermosetting resin composition of the present invention is a thermosetting resin composition containing solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component. As the flux component, a carboxylic acid anhydride and diethanolamines or triethanolamines are used. And an addition reaction product.

この熱硬化性樹脂組成物において、カルボン酸無水物が、グルタル酸無水物、ジグリコール酸無水物、およびコハク酸無水物から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。   In this thermosetting resin composition, the carboxylic acid anhydride is preferably at least one selected from glutaric acid anhydride, diglycolic acid anhydride, and succinic acid anhydride.

この熱硬化性樹脂組成物において、フラックス成分の含有量が、熱硬化性樹脂バインダーに対して1〜10PHRであることが好ましい。   In the thermosetting resin composition, the content of the flux component is preferably 1 to 10 PHR with respect to the thermosetting resin binder.

この熱硬化性樹脂組成物において、熱硬化性樹脂バインダーが、エポキシ樹脂組成物であることが好ましい。   In this thermosetting resin composition, the thermosetting resin binder is preferably an epoxy resin composition.

本発明の半導体装置は、前記の熱硬化性樹脂組成物を用いて、半導体部品の端子と回路基板の電極とが接合された接合部を備えることを特徴としている。   The semiconductor device of the present invention is characterized in that it includes a joint portion in which a terminal of a semiconductor component and an electrode of a circuit board are joined using the thermosetting resin composition.

本発明のフラックス組成物は、はんだボールまたははんだバンプの導電接続にフラックスとして用いられる熱硬化性のフラックス組成物であって、熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を含有し、フラックス成分として、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩を含有することを特徴としている。   The flux composition of the present invention is a thermosetting flux composition used as a flux for the conductive connection of solder balls or solder bumps, and contains a thermosetting resin binder and a flux component. Alternatively, it is characterized by containing a salt of tricarboxylic acid and diethanolamines or triethanolamines.

本発明のフラックス組成物は、はんだボールまたははんだバンプの導電接続にフラックスとして用いられる熱硬化性のフラックス組成物であって、熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を含有し、フラックス成分として、カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を含有することを特徴としている。   The flux composition of the present invention is a thermosetting flux composition used as a flux for the conductive connection of solder balls or solder bumps, and contains a thermosetting resin binder and a flux component. It is characterized by containing an addition reaction product of an anhydride with diethanolamines or triethanolamines.

本発明の半導体装置は、前記のフラックス組成物をはんだボールまたははんだバンプ用フラックスとして用いて、半導体部品の端子と回路基板の電極とがはんだボールまたははんだバンプによって接合された接合部を備えることを特徴としている。   A semiconductor device according to the present invention includes a joint portion in which a terminal of a semiconductor component and an electrode of a circuit board are joined by a solder ball or a solder bump, using the flux composition as a flux for a solder ball or a solder bump. It is a feature.

本発明の熱硬化性樹脂組成物とそれを用いた半導体装置によれば、一括リフロー工程でのはんだ凝集性に優れ、落下衝撃や吸湿に対する信頼性にも優れた部品実装が可能である。   According to the thermosetting resin composition of the present invention and a semiconductor device using the same, it is possible to mount components with excellent solder cohesiveness in a batch reflow process and excellent reliability against drop impact and moisture absorption.

本発明のフラックス組成物とそれを用いた半導体装置によれば、はんだボールまたははんだバンプの導電接続による半導体部品の実装において、フラックスとして作用し良好な実装性が得られ、かつ補強樹脂として作用し、その実装強度を大幅に高めることができる。   According to the flux composition of the present invention and the semiconductor device using the same, it acts as a flux in the mounting of semiconductor parts by conductive connection of solder balls or solder bumps, and good mountability is obtained, and also acts as a reinforcing resin. The mounting strength can be greatly increased.

以下に、本発明について詳細に説明する。   The present invention is described in detail below.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、およびフラックス成分を含有する。   The thermosetting resin composition of the present invention contains solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component.

はんだ粒子としては、特に限定されないが、例えば、Snをベースとした合金などを用いることができる。具体的は、例えば、SnとPb、Ag、Cu、Bi、Zn、Inなどの金属との合金などを用いることができる。   Although it does not specifically limit as a solder particle, For example, the alloy etc. which were based on Sn can be used. Specifically, for example, an alloy of Sn and a metal such as Pb, Ag, Cu, Bi, Zn, or In can be used.

はんだ粒子としては、凝集性と充填性のバランスから、通常は平均粒径5〜40μmのものが用いられる。   As the solder particles, those having an average particle diameter of 5 to 40 μm are usually used from the balance of cohesiveness and fillability.

熱硬化性樹脂バインダーとしては、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリエステル樹脂などを、適宜に硬化剤などと組み合わせて用いることができる。   Although it does not specifically limit as a thermosetting resin binder, For example, an epoxy resin, a polyimide resin, a cyanate ester resin, a benzoxazine resin, a polyester resin etc. can be used in combination with a hardening | curing agent etc. suitably.

はんだ粒子の融点よりも10〜20℃高い温度でリフロー実装が行われることが一般的であるが、部品を実装し、かつ補強性を持たせるためには、その温度で十分な硬化性を有する必要がある。このような点を考慮すると、リフロー温度での短時間での硬化性および接着性に優れていることから、エポキシ樹脂が特に好ましい。   In general, reflow mounting is performed at a temperature that is 10 to 20 ° C. higher than the melting point of the solder particles. However, in order to mount the component and to provide reinforcement, it has sufficient curability at that temperature. There is a need. In consideration of such points, an epoxy resin is particularly preferable because it is excellent in curability and adhesion in a short time at the reflow temperature.

熱硬化性樹脂バインダーとしてエポキシ樹脂組成物を用いることで、溶融接合したはんだの周囲を硬化したエポキシ樹脂で覆うことができるため、接合強度を高め、はんだの劣化を抑制することができる。   By using the epoxy resin composition as the thermosetting resin binder, the periphery of the melt-bonded solder can be covered with the cured epoxy resin, so that the bonding strength can be increased and the deterioration of the solder can be suppressed.

そしてエポキシ樹脂組成物を熱硬化性樹脂バインダーとして用いる場合には、エポキシ樹脂(通常は液状エポキシ樹脂)に硬化剤、さらに必要に応じて硬化剤の硬化補助成分である硬化促進剤を配合する。   And when using an epoxy resin composition as a thermosetting resin binder, a hardening agent is further mix | blended with an epoxy resin (usually liquid epoxy resin) and the hardening auxiliary component of a hardening | curing agent as needed.

ここで、液状エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールF型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂などを用いることができる。   Here, as the liquid epoxy resin, for example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, novolac type epoxy resin, A naphthalene type epoxy resin or the like can be used.

また、固形のエポキシ樹脂を併用することで液状化されたものも用いることができる。固形のエポキシ樹脂としては、例えば、ビフェニル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリアジン骨格エポキシ樹脂などを用いることができる。   Moreover, what was liquefied by using a solid epoxy resin together can also be used. As the solid epoxy resin, for example, a biphenyl type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a triazine skeleton epoxy resin, or the like can be used.

硬化剤としては、特に限定されないが、例えば、アミン類、イミダゾール類、フェノール類、酸無水物類、ヒドラジド類、ポリメルカプタン類、ルイス酸−アミン錯体などを用いることができる。   Although it does not specifically limit as a hardening | curing agent, For example, amines, imidazoles, phenols, acid anhydrides, hydrazides, polymercaptans, a Lewis acid-amine complex, etc. can be used.

アミン類としては、分子内に1級または2級アミノ基を少なくとも一つ有している化合物を用いることができ、特に限定されないが、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノジフェニルスルフィド、メタキシレンジアミン、3,3’−ジエチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’,5,5’−テトラエチル−4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、2,2−ビス−[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)−ヘキサフルオロプロパン、2,4−ジアミノトルエン、1,4−ジアミノベンゼン、1,3−ジアミノベンゼン、ジエチルトルエンジアミン、ジメチルトルエンジアミン、アニリン類、アルキル化アニリン類、N−アルキル化アニリン類などを用いることができる。   As the amine, a compound having at least one primary or secondary amino group in the molecule can be used, and is not particularly limited. For example, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, diaminodiphenylsulfide, metaxylene Diamine, 3,3′-diethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 3,3 ′, 5,5′-tetraethyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 4,4 ′ -Diaminodiphenyl sulfide, 2,2-bis- [4- (4-aminophenoxy) phenyl] -hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) -hexafluoropropane, 2,4-diaminotoluene, 1,4-diaminobenzene, 1,3-diaminobenzene, diethyltoluene Diamine, dimethyltoluenediamine, anilines, alkylated anilines, N-alkylated anilines and the like can be used.

イミダゾール類としては、例えば、2MZ、C11Z、2PZ、2E4MZ、2P4MZ、1B2MZ、1B2PZ、2MZ−CN、2E4MZ−CN、2PZ−CN、C11Z−CN、2PZ−CNS、C11Z−CNS、2MZ−A、C11Z−A、2E4MZ−A、2P4MHZ、2PHZ、2MA−OK、2PZ−OK(四国化成工業社製、製品名)などや、これらのイミダゾール類をエポキシ樹脂と付加させた化合物などを用いることができる。また、これら硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子物質などで被覆してマイクロカプセル化したものを用いることもできる。   Examples of imidazoles include 2MZ, C11Z, 2PZ, 2E4MZ, 2P4MZ, 1B2MZ, 1B2PZ, 2MZ-CN, 2E4MZ-CN, 2PZ-CN, C11Z-CN, 2PZ-CNS, C11Z-CNS, 2MZ-A, and C11Z. -A, 2E4MZ-A, 2P4MHZ, 2PHZ, 2MA-OK, 2PZ-OK (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., product name) and the like, and compounds obtained by adding these imidazoles to an epoxy resin can be used. In addition, it is also possible to use a microcapsule obtained by coating these curing agents with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance.

フェノール類としては、例えば、ビスフェノール樹脂、フェノールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂、アリル化フェノールノボラック樹脂、ビフェノール樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールナフトールホルムアルデヒド重縮合物、トリフェニルメタン型多官能フェノール樹脂、キシリレン変性フェノールノボラック樹脂、キシリレン変性ナフトールノボラック樹脂、各種多官能フェノール樹脂などを用いることができる。   Examples of phenols include bisphenol resin, phenol novolak resin, naphthol novolak resin, allylated phenol novolak resin, biphenol resin, cresol novolak resin, phenol aralkyl resin, cresol naphthol formaldehyde polycondensate, triphenylmethane type polyfunctional phenol resin. Xylylene-modified phenol novolak resin, xylylene-modified naphthol novolak resin, various polyfunctional phenol resins, and the like can be used.

酸無水物類としては、例えば、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルハイミック酸無水物、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,4−ジメチル−6−(2−メチル−1−プロペニル)−1,2,3,6−テトラヒドロフタル酸無水物、1−イソプロピル−4−メチル−ビシクロ[2.2.2]オクト−5−エン−2,3−ジカルボン酸無水物などを用いることができる。   Examples of acid anhydrides include methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylheimic anhydride, pyromellitic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic acid Anhydride, 3,4-dimethyl-6- (2-methyl-1-propenyl) -1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1-isopropyl-4-methyl-bicyclo [2.2.2 Oct-5-ene-2,3-dicarboxylic anhydride and the like can be used.

硬化剤の使用量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂のエポキシ当量に対する硬化剤の化学量論上の当量比が0.8〜1.2の範囲となるようにすることが好ましい。   Although the usage-amount of a hardening | curing agent is not specifically limited, It is preferable to make it make the stoichiometric equivalent ratio of the hardening | curing agent with respect to the epoxy equivalent of an epoxy resin become the range of 0.8-1.2.

また、硬化促進剤としては、例えば、各種イミダゾール類、各種アミン類、各種リン化合物、Feアセチルアセトナートなどの金属錯体およびそれらのアダクト化合物などを用いることができる。   Moreover, as a hardening accelerator, various imidazoles, various amines, various phosphorus compounds, metal complexes, such as Fe acetylacetonate, those adduct compounds, etc. can be used, for example.

これらの硬化促進剤の配合量はゲル化時間や保存安定性を考慮して適宜に設定される。   The blending amount of these curing accelerators is appropriately set in consideration of gelation time and storage stability.

フラックス成分としては、(1)ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩、または(2)カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物が用いられる。   As the flux component, (1) a salt of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diethanolamine or triethanolamine, or (2) an addition reaction product of carboxylic acid anhydride and diethanolamine or triethanolamine is used.

(1)のジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩は、酸−塩基反応により形成される。ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸を液体であるジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類と混合すると、室温でも発熱し、酸−塩基反応により、塩コンプレックスを形成する。   The salt of (1) dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diethanolamines or triethanolamines is formed by an acid-base reaction. When dicarboxylic acid or tricarboxylic acid is mixed with liquid diethanolamines or triethanolamines, heat is generated even at room temperature, and a salt complex is formed by an acid-base reaction.

ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸の融点以上に加熱し、液体同士で反応を完結することが好ましいが、多くの場合、融点未満でも加熱中に完全に均一な液体性状となるので、融点まで加熱する必要はない。   It is preferable to complete the reaction between the liquids by heating to above the melting point of the dicarboxylic acid or tricarboxylic acid, but in many cases, even if it is less than the melting point, it becomes a completely uniform liquid property during heating, so it is necessary to heat to the melting point Absent.

ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸と、ジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との混合比は、カルボキシル基とアミノ基のモル比で1:0.5〜1:1が好ましい。アミノ基を1:0.5のモル比以上にすることで、塩を形成せずに残留する分子を低減できるため、本発明の効果を得るのに適している。アミノ基を1:1のモル比以下にすることで、アミン化合物が塩形成されずそのまま残留する分子を低減し、硬化物の吸湿性が高くなったり硬化剤などを添加した場合にポットライフが悪くなってしまうことを抑制できる。   The mixing ratio of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid to diethanolamines or triethanolamines is preferably 1: 0.5 to 1: 1 in terms of the molar ratio of carboxyl group to amino group. By setting the amino group to a molar ratio of 1: 0.5 or more, remaining molecules can be reduced without forming a salt, which is suitable for obtaining the effects of the present invention. By reducing the amino group to a molar ratio of 1: 1 or less, the amine compound is not salt-formed and the remaining molecules are reduced, and the pot life is increased when the hygroscopicity of the cured product is increased or a curing agent is added. It can suppress becoming worse.

ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸としては、特に限定されないが、例えば、グルタル酸、コハク酸、マロン酸、シュウ酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、ジグリコール酸、チオジグリコール酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、プロパントリカルボン酸、クエン酸、酒石酸などを用いることができる。   Although it does not specifically limit as dicarboxylic acid or tricarboxylic acid, For example, glutaric acid, succinic acid, malonic acid, oxalic acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, diglycolic acid, thiodiglycolic acid, phthalic acid Isophthalic acid, terephthalic acid, propanetricarboxylic acid, citric acid, tartaric acid and the like can be used.

中でも、より少量でフラックス活性を発揮できる点から、アジピン酸、グルタル酸、ジグリコール酸、プロパントリカルボン酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、コハク酸が好ましい。   Among these, adipic acid, glutaric acid, diglycolic acid, propanetricarboxylic acid, citric acid, tartaric acid, oxalic acid, and succinic acid are preferable because they can exhibit flux activity in a smaller amount.

ジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類としては、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルジエタノールアミンなどを用いることができる。   The diethanolamines or triethanolamines are not particularly limited, and for example, triethanolamine, diethanolamine, methyldiethanolamine, ethyldiethanolamine and the like can be used.

(2)のカルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物は、これらの付加反応によって形成される。   The addition reaction product of the carboxylic anhydride and the diethanolamines or triethanolamines of (2) is formed by these addition reactions.

カルボン酸無水物を液体であるジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類と混合すると室温でも発熱し、アルコール性水酸基がカルボン酸無水物に付加反応し、開環してハーフエステルを形成する反応が起こると考えられる。   When carboxylic acid anhydride is mixed with liquid diethanolamines or triethanolamines, heat is generated even at room temperature, and an alcoholic hydroxyl group is added to the carboxylic acid anhydride to cause ring opening to form a half ester. It is done.

カルボン酸無水物の融点以上に加熱し、液体同士で反応を完結することが好ましいが、多くの場合、融点以下でも加熱中に完全に均一な液体性状となるので、融点まで加熱する必要はない。   It is preferable to complete the reaction between the liquids by heating above the melting point of the carboxylic acid anhydride, but in many cases it is not necessary to heat to the melting point because the liquid properties are completely uniform during heating even below the melting point. .

カルボン酸無水物とアミンの混合比は、カルボン酸無水物とアミノ基のモル比で3:1〜1:1が好ましい。アミノ基を3:1のモル比以上にすることで、付加物を形成せずに残留する分子を低減できるため、本発明の効果を得るのに適している。アミノ基を1:1のモル比以下にすることで、付加物が形成されずそのまま残留する分子を低減し、硬化物の吸湿性が高くなったり硬化剤などを添加した場合にポットライフが悪くなってしまうことを抑制できる。   The mixing ratio of carboxylic acid anhydride and amine is preferably 3: 1 to 1: 1 as the molar ratio of carboxylic acid anhydride to amino group. By setting the amino group to a molar ratio of 3: 1 or more, remaining molecules can be reduced without forming an adduct, which is suitable for obtaining the effects of the present invention. By reducing the amino group to a molar ratio of 1: 1 or less, adducts are not formed and the remaining molecules are reduced. When the hygroscopicity of the cured product is increased or a curing agent is added, the pot life is poor. It can suppress becoming.

カルボン酸無水物としては、特に限定されないが、例えば、グルタル酸無水物、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、ジグリコール酸無水物、フタル酸無水物、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸などを用いることができる。   The carboxylic acid anhydride is not particularly limited. For example, glutaric anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, diglycolic anhydride, phthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, For example, methyltetrahydrophthalic anhydride can be used.

中でも、より少量でフラックス活性を発揮できる点から、グルタル酸無水物、ジグリコール酸無水物、コハク酸無水物が好ましい。   Among these, glutaric acid anhydride, diglycolic acid anhydride, and succinic acid anhydride are preferable from the viewpoint that the flux activity can be exhibited with a smaller amount.

ジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類としては、特に限定されないが、例えば、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルジエタノールアミンなどを用いることができる。   The diethanolamines or triethanolamines are not particularly limited, and for example, triethanolamine, diethanolamine, methyldiethanolamine, ethyldiethanolamine and the like can be used.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上述の塩(1)と付加反応物(2)を1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。また、他の一般に用いられるフラックス成分と併用してもよい。   In the thermosetting resin composition of the present invention, the aforementioned salt (1) and addition reaction product (2) may be used singly or in combination of two or more. Moreover, you may use together with other generally used flux components.

フラックス成分の含有量は、熱硬化性樹脂バインダーに対して1〜10PHRの範囲内が好ましく、3〜10PHRの範囲内がより好ましい。フラックス成分の含有量をこの範囲内にすると、フラックスとして十分な作用を発揮でき、かつ、熱硬化性樹脂組成物の硬化後の性能が十分に得られる。   The content of the flux component is preferably in the range of 1 to 10 PHR and more preferably in the range of 3 to 10 PHR with respect to the thermosetting resin binder. When the content of the flux component is within this range, a sufficient effect as a flux can be exhibited, and the performance after curing of the thermosetting resin composition can be sufficiently obtained.

熱硬化性樹脂バインダーとフラックス成分の合計量は、熱硬化性樹脂組成物の全量に対して5〜30質量%の範囲内が好ましい。この合計量を5質量%以上にすると、流動可能な熱硬化性樹脂組成物が得られ、はんだが一体化した後にボイドを多く含んだり補強作用が低下したりすることを抑制できる。この合計量を30質量%以下にすると、はんだの溶融一体化を促進し、接続抵抗の上昇も抑制できる。   The total amount of the thermosetting resin binder and the flux component is preferably in the range of 5 to 30% by mass with respect to the total amount of the thermosetting resin composition. When the total amount is 5% by mass or more, a flowable thermosetting resin composition can be obtained, and it is possible to suppress a lot of voids or a decrease in reinforcing action after the solder is integrated. When this total amount is 30% by mass or less, melting and integration of solder is promoted, and an increase in connection resistance can be suppressed.

本発明の熱硬化性樹脂組成物には、上述の成分のほか、通常用いられる改質剤、添加剤などを配合してもよい。また、熱硬化性樹脂組成物の粘度を低減し、流動性を付与する目的で、低沸点の溶剤や可塑剤を添加することもできる。さらに、印刷形状を保持するためのチクソ性付与剤として、硬化ヒマシ油やステアリン酸アミドなどを添加することもできる。   The thermosetting resin composition of the present invention may be blended with commonly used modifiers, additives and the like in addition to the components described above. Moreover, a low boiling-point solvent and a plasticizer can also be added in order to reduce the viscosity of a thermosetting resin composition and to provide fluidity. Furthermore, hydrogenated castor oil or stearamide can be added as a thixotropic agent for maintaining the printed shape.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、フラックス成分、および必要に応じてその他の成分を、ディスパーなどを用いて均一に混合または混練することによって製造することができる。   The thermosetting resin composition of the present invention can be produced by uniformly mixing or kneading solder particles, a thermosetting resin binder, a flux component, and other components as necessary using a disper or the like. it can.

本発明の熱硬化性樹脂組成物に使用されるフラックス成分は活性が高いため、温度や混練シェアに注意が必要な場合がある。過酷な条件で混練すると製造中にはんだ粒子表面の酸化膜が取れてしまい、粒子同士が凝集する恐れがあるためである。また、予め溶剤中で混合し、後で溶剤を乾燥除去する製造方法も可能である。   Since the flux component used in the thermosetting resin composition of the present invention has high activity, attention may be required for temperature and kneading share. This is because, when kneaded under severe conditions, an oxide film on the surface of the solder particles may be removed during production, and the particles may aggregate. Further, a production method in which the solvent is mixed in advance and the solvent is dried and removed later is also possible.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、フラックス成分が少量ではんだ凝集を達成できるため、樹脂硬化物の性能を悪化させることなく、はんだ実装と補強樹脂形成を同時に達成できる。   Since the thermosetting resin composition of the present invention can achieve solder aggregation with a small amount of flux component, it can simultaneously achieve solder mounting and reinforcing resin formation without deteriorating the performance of the cured resin.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、通常のはんだペースト(クリームはんだ)と同様に、回路基板の半導体部品接合部に印刷法などで所定量供給した後、その上に電気的に接合されるべき半導体部品の電極を搭載し、リフロー炉などではんだ粒子を溶融する。これによって、半導体部品を回路基板に電気的に接続した半導体装置を得ることができる。   The thermosetting resin composition of the present invention, like a normal solder paste (cream solder), is electrically bonded onto a semiconductor component bonding portion of a circuit board after a predetermined amount is supplied by a printing method or the like. Mount the electrodes of the semiconductor parts to be melted and melt the solder particles in a reflow furnace. Thereby, a semiconductor device in which the semiconductor component is electrically connected to the circuit board can be obtained.

すなわち、本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いて、導体配線を有する回路基板などに半導体部品を実装することができる。本発明の半導体装置は、上述の熱硬化性樹脂組成物を用いて、半導体部品の端子と回路基板の電極とが接合された接合部を備えている。   That is, a semiconductor component can be mounted on a circuit board or the like having conductor wiring using the thermosetting resin composition of the present invention. The semiconductor device of the present invention includes a joint portion in which a terminal of a semiconductor component and an electrode of a circuit board are joined using the thermosetting resin composition described above.

例えば半導体部品として表面実装用のチップ部品を用い、回路基板としてプリント配線板を用いる場合には、熱硬化性樹脂組成物をプリント配線板上の電極(パッド)に塗布する。ここで、回路基板としては、例えば、ガラスエポキシ積層板などに導体パターンを設けて形成されたリジッドプリント配線板や、ポリイミドフィルム、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルムなどに導体パターンを設けて形成されたフレキシブルプリント配線板などを用いることができる。   For example, when a chip component for surface mounting is used as a semiconductor component and a printed wiring board is used as a circuit board, a thermosetting resin composition is applied to electrodes (pads) on the printed wiring board. Here, as a circuit board, for example, a rigid printed wiring board formed by providing a conductive pattern on a glass epoxy laminated board, a polyimide film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene naphthalate (PEN) film, etc. A flexible printed wiring board formed with a pattern can be used.

そして、熱硬化性樹脂組成物の塗布は、例えば、電極と同じ位置に貫通孔を設けたメタルマスクを回路基板に重ねた後、メタルマスクの表面に供給した熱硬化性樹脂組成物をスキージで貫通孔に充填することによって行うことができる。   The thermosetting resin composition can be applied, for example, by superimposing a metal mask having a through hole at the same position as the electrode on the circuit board, and then applying the thermosetting resin composition supplied to the surface of the metal mask with a squeegee. This can be done by filling the through hole.

その後、メタルマスクを回路基板から離すと、電極ごとに熱硬化性樹脂組成物が塗布された回路基板を得ることができる。   Thereafter, when the metal mask is separated from the circuit board, a circuit board coated with the thermosetting resin composition for each electrode can be obtained.

次に、熱硬化性樹脂組成物が未硬化状態のまま、半導体部品の端子と回路基板の電極とが対向するように、チップマウンターなどを用いて半導体部品と回路基板とを重ねる。ここで、半導体部品としては、端子としてはんだボールを設けて形成されたCSP、BGA、端子としてリードを設けて形成されたQFPなどの半導体パッケージのほか、パッケージに収容されずに端子を設けて形成された半導体素子(ベアチップ)を用いることができる。   Next, the semiconductor component and the circuit board are stacked using a chip mounter or the like so that the terminal of the semiconductor component and the electrode of the circuit board face each other while the thermosetting resin composition is in an uncured state. Here, as semiconductor parts, in addition to semiconductor packages such as CSP and BGA formed by providing solder balls as terminals and QFP formed by providing leads as terminals, terminals are provided without being accommodated in the package. A semiconductor element (bare chip) can be used.

この状態で、チップ部品が配置されたプリント配線板をリフロー炉内で加熱するはんだリフロープロセスなどにより、熱硬化性樹脂組成物を所定の加熱温度まで加熱する。   In this state, the thermosetting resin composition is heated to a predetermined heating temperature by, for example, a solder reflow process in which the printed wiring board on which the chip components are arranged is heated in a reflow furnace.

この加熱温度は、はんだ粒子が十分に溶融し、かつ熱硬化性樹脂バインダーの硬化反応が充分に進行する適宜の温度に設定される。   This heating temperature is set to an appropriate temperature at which the solder particles are sufficiently melted and the curing reaction of the thermosetting resin binder proceeds sufficiently.

また、この加熱温度は、はんだ粒子が溶融しきる前にエポキシ樹脂の硬化反応が進行してはんだ粒子の凝集が阻害されるようなことがないように設定されることが好ましい。   The heating temperature is preferably set so that the curing reaction of the epoxy resin proceeds before the solder particles are completely melted and the aggregation of the solder particles is not hindered.

そのための好ましい加熱温度は、はんだ粒子の融点よりも10℃高い温度以上であり、且つはんだ粒子の融点よりも60℃高い温度以下である。   The preferable heating temperature for that is not less than a temperature 10 ° C. higher than the melting point of the solder particles and not more than 60 ° C. higher than the melting point of the solder particles.

その後、リフロー方式により、熱硬化性樹脂組成物中のはんだ粒子と、半導体部品の端子を形成しているはんだボールとが溶融する温度まで加熱する。この加熱で熱硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、半導体部品と回路基板とを電気的に接続する接合部を設ける。すなわち、加熱されて溶融したはんだ粒子およびはんだボールは一体化してはんだ部を形成すると共に、このはんだ部の周囲を被覆するように、熱硬化性樹脂組成物中の熱硬化性樹脂バインダーが硬化することによって樹脂硬化部を形成する。このように接合部は、はんだ粒子およびはんだボールが溶融一体化したはんだ部と、このはんだ部の周囲を被覆する樹脂硬化部とで形成される。   Then, it heats to the temperature which the solder particle in the thermosetting resin composition and the solder ball which forms the terminal of a semiconductor component fuse | melt by a reflow system. By curing the thermosetting resin composition by this heating, a bonding portion that electrically connects the semiconductor component and the circuit board is provided. That is, the heated solder particles and the solder balls are integrated to form a solder portion, and the thermosetting resin binder in the thermosetting resin composition is cured so as to cover the periphery of the solder portion. Thus, the resin cured portion is formed. As described above, the joint portion is formed by a solder portion in which the solder particles and the solder balls are fused and integrated, and a resin cured portion that covers the periphery of the solder portion.

熱硬化性樹脂組成物が加熱されると、はんだ粒子が溶融すると共に、熱硬化性樹脂組成物中のフラックス成分がフラックス作用を発揮する。   When the thermosetting resin composition is heated, the solder particles are melted and the flux component in the thermosetting resin composition exhibits a flux action.

このフラックス作用によりはんだ粒子の表面の酸化層が除去され、はんだ粒子の一体化が促進されると共にはんだ粒子が電極および端子とも溶融接合し、チップ部品の端子とプリント配線板の電極との間の電気的接合がなされる。   This flux action removes the oxide layer on the surface of the solder particles, promotes the integration of the solder particles, and melts and joins the solder particles to the electrodes and terminals, and between the terminals of the chip component and the electrodes of the printed wiring board. An electrical connection is made.

さらに、熱硬化性樹脂バインダーの熱硬化反応、たとえばエポキシ樹脂組成物の場合ではエポキシ樹脂と硬化剤の熱硬化反応が進行し、半導体部品と回路基板との機械的接合がなされる。これにより、回路基板に半導体部品が実装され、半導体装置が作製される。   Further, the thermosetting reaction of the thermosetting resin binder, for example, in the case of the epoxy resin composition, the thermosetting reaction of the epoxy resin and the curing agent proceeds, and the semiconductor component and the circuit board are mechanically joined. Thereby, the semiconductor component is mounted on the circuit board, and the semiconductor device is manufactured.

以上に説明した態様の他に、本発明の別の態様では、フラックス組成物が提供される。   In addition to the aspects described above, in another aspect of the present invention, a flux composition is provided.

以上に説明した態様では、はんだ粒子を含有させることで、クリームはんだと同様なプロセスを実現するものであるが、予めはんだがパッケージ側に搭載されているBGA、CSP、フリップチップなどの半導体素子の搭載には、必ずしもはんだ粒子を含有した材料を用いる必要はない。   In the embodiment described above, a solder particle is included to realize a process similar to that of cream solder. However, a semiconductor element such as a BGA, CSP, or flip chip in which solder is previously mounted on the package side is realized. For mounting, it is not always necessary to use a material containing solder particles.

すなわち、はんだボールやはんだバンプが溶融接続を達成する材料があれば、はんだ接続を達成することができ、かつ上述の熱硬化性樹脂組成物と同じ熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を用いれば、同時に硬化樹脂による補強構造を形成することができる。したがって通常のフラックスを用いた実装に比べて、高い接合強度が達成でき、耐熱衝撃信頼性や落下衝撃性を向上させることもできる。   That is, if there is a material in which solder balls and solder bumps achieve fusion connection, solder connection can be achieved, and if the same thermosetting resin binder and flux component as the above-mentioned thermosetting resin composition are used, At the same time, a reinforced structure with a cured resin can be formed. Therefore, compared with the mounting using a normal flux, high joint strength can be achieved, and the thermal shock reliability and the drop impact property can be improved.

すなわち、本発明のフラックス組成物は、熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を含有する。そしてフラックス成分として、(1)ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩、または(2)環状カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物が用いられる。   That is, the flux composition of the present invention contains a thermosetting resin binder and a flux component. As the flux component, (1) a salt of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diethanolamine or triethanolamine, or (2) an addition reaction product of cyclic carboxylic acid anhydride and diethanolamine or triethanolamine is used. .

本発明のフラックス組成物の具体的な構成は、はんだ粒子を除いては、上述の熱硬化性樹脂組成物と同様である。また、接合プロセスを補助したり印刷性を向上させる目的で、はんだ粒子を少量配合してもよい。   The specific composition of the flux composition of the present invention is the same as that of the above-mentioned thermosetting resin composition except for the solder particles. Moreover, you may mix | blend a small amount of solder particles in order to assist a joining process or to improve printability.

このフラックス組成物をはんだボールまたははんだバンプ用フラックスとして用いて、例えば上述したような方法によって、半導体部品の端子と回路基板の電極とを接合した半導体装置を作製することができる。   By using this flux composition as a solder ball or solder bump flux, a semiconductor device in which a terminal of a semiconductor component and an electrode of a circuit board are bonded can be manufactured by the method described above, for example.

本発明のフラックス組成物は、CSPなどのはんだボール搭載パッケージの実装において、従来のフラックスと同等の実装性が得られ、かつ補強樹脂として作用し、その実装強度を大幅に高めることができる。   The flux composition of the present invention can provide mounting performance equivalent to that of conventional flux in mounting a solder ball mounting package such as CSP, and acts as a reinforcing resin, and can greatly increase the mounting strength.

以下に、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
(実施例1)
クエン酸一水和物6.3g(0.03モル)にトリエタノールアミン13.4g(0.09モル)を加え、120℃オイルバス中で、5分間攪拌しながらクエン酸を溶融させた。この配合は、カルボキシル基とアミノ基のモル比で、1:1である。得られたクエン酸トリエタノールアミン塩は、粘稠液体であった。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
Example 1
13.4 g (0.09 mol) of triethanolamine was added to 6.3 g (0.03 mol) of citric acid monohydrate, and citric acid was melted with stirring in a 120 ° C. oil bath for 5 minutes. This formulation is 1: 1 in terms of the molar ratio of carboxyl groups to amino groups. The obtained citric acid triethanolamine salt was a viscous liquid.

はんだ粒子として、三井金属鉱業社製のもの(組成:Sn42/Bi58、平均粒径15μm、融点は139℃)を用いた。このはんだ粒子81質量部、液状エポキシ樹脂YD128(東都化成社製)16.2質量部、硬化剤アミキュアPN23(味の素ファインテクノ社製)2質量部、クエン酸トリエタノールアミン塩0.8質量部を混合し、ディスパーを用いて均一に混合した。   As the solder particles, those manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. (composition: Sn42 / Bi58, average particle size 15 μm, melting point 139 ° C.) were used. 81 parts by mass of this solder particle, 16.2 parts by mass of liquid epoxy resin YD128 (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd.), 2 parts by mass of curing agent Amicure PN23 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), 0.8 parts by mass of triethanolamine citrate salt Mix and mix uniformly using a disper.

得られたペースト状の熱硬化性樹脂組成物を用いて、通常の方法で、FR−4基板上のAuメッキされたパッド部にスクリーン印刷ではんだを供給した。ペーストの供給厚みは、約70μmであった。   By using the obtained paste-like thermosetting resin composition, solder was supplied by screen printing to the Au-plated pad portion on the FR-4 substrate by an ordinary method. The supply thickness of the paste was about 70 μm.

その後、150℃のオーブン中で10分間処理して外観を顕微鏡で観察した。はんだ粒子が一体化して球状となっているとともに、その周りにはんだ粒子を含まない樹脂が取り囲む完全な二層分離が観察された。また、樹脂部分もタックフリーであった。   Then, it processed in 150 degreeC oven for 10 minutes, and observed the external appearance with the microscope. Solder particles were integrated into a spherical shape, and complete two-layer separation surrounded by a resin not containing solder particles was observed. The resin part was also tack-free.

また、同様の方法で、0Ω1608チップ抵抗を実装し、150℃maxのはんだリフロー条件にてリフロー炉で加熱処理した部品の抵抗値と部品シェア強度を測定すると、それぞれ3mΩ、2.3Kgfであった。   Further, when the resistance value and the component shear strength of a component mounted with a 0Ω1608 chip resistor and heat-treated in a reflow oven at 150 ° C. max were measured by the same method, they were 3 mΩ and 2.3 Kgf, respectively. .

また、この実装基板を、100℃の水で2時間煮沸した後、同様の測定をした結果、接続抵抗値と部品シェア強度はそれぞれ3mΩ、2.0Kgfであった。   Further, the mounting substrate was boiled in water at 100 ° C. for 2 hours and then subjected to the same measurement. As a result, the connection resistance value and the component shear strength were 3 mΩ and 2.0 Kgf, respectively.

これらの結果は表1にも示した。
(実施例2)
フラックス成分としてシュウ酸4.5g(0.05モル)とトリエタノールアミン7.45g(0.05モル)の加熱反応で得られる塩を用いた。それ以外は実施例1と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。ここでは、カルボキシル基とアミノ基のモル比は2:1である。
These results are also shown in Table 1.
(Example 2)
As a flux component, a salt obtained by heating reaction of 4.5 g (0.05 mol) of oxalic acid and 7.45 g (0.05 mol) of triethanolamine was used. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the thermosetting resin composition. Here, the molar ratio of carboxyl group to amino group is 2: 1.

実施例1と同様の評価を実施し、その結果を表1に示した。
(実施例3)
実施例2において、フラックス成分として、通常のカルボン酸を併用し、グルタル酸0.5質量部、アジピン酸0.25質量部、およびシュウ酸トリエタノールアミン塩0.45質量部を用いた。また液状エポキシ樹脂の配合量を15.8質量部に変更した。それ以外は、実施例2と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。
The same evaluation as in Example 1 was performed, and the results are shown in Table 1.
(Example 3)
In Example 2, normal carboxylic acid was used in combination as a flux component, and 0.5 parts by mass of glutaric acid, 0.25 parts by mass of adipic acid, and 0.45 parts by mass of triethanolamine oxalate salt were used. Moreover, the compounding quantity of the liquid epoxy resin was changed to 15.8 mass parts. Other than that was carried out similarly to Example 2, and obtained the thermosetting resin composition.

実施例1と同様の評価を実施し、その結果を表1に示した。
(比較例1)
実施例3において、グルタル酸3質量部、アジピン酸1.5質量部を用い、カルボン酸のトリエタノールアミン塩を全く添加せず、液状エポキシ樹脂の配合量を12.5質量部に変更した。それ以外は、実施例2と全く同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。
The same evaluation as in Example 1 was performed, and the results are shown in Table 1.
(Comparative Example 1)
In Example 3, 3 parts by mass of glutaric acid and 1.5 parts by mass of adipic acid were used, the triethanolamine salt of carboxylic acid was not added at all, and the blending amount of the liquid epoxy resin was changed to 12.5 parts by mass. Otherwise, the thermosetting resin composition was obtained in the same manner as in Example 2.

実施例1と同様の評価を実施し、その結果を表1に示した。   The same evaluation as in Example 1 was performed, and the results are shown in Table 1.

Figure 2013256584
Figure 2013256584

なお、はんだ凝集性の評価は表1、5、6において行ったが、いずれのサンプルも○の評価であり△と×の評価のサンプルはなかった。   In addition, although evaluation of solder cohesion was performed in Tables 1, 5, and 6, all samples were evaluated as ◯, and there were no samples evaluated as Δ and ×.

表1より、フラックス成分としてカルボン酸のトリエタノールアミン塩を配合した実施例1〜3では、一括リフロー工程でのはんだ凝集性に優れ、吸湿に対する信頼性にも優れた部品実装が可能であった。   From Table 1, in Examples 1 to 3 in which a triethanolamine salt of a carboxylic acid was blended as a flux component, it was possible to mount a component with excellent solder cohesiveness in a batch reflow process and excellent reliability against moisture absorption. .

なお、フラックス成分として通常のカルボン酸を用いた比較例1を基準として、フラックス成分の配合量について検討を行った。その結果、フラックス成分の配合量が熱硬化性樹脂バインダーに対して1〜10PHRの範囲内では実施例1〜3に準じた結果が得られた。   In addition, the compounding quantity of the flux component was examined on the basis of the comparative example 1 which used normal carboxylic acid as a flux component. As a result, the results according to Examples 1 to 3 were obtained when the blending amount of the flux component was within the range of 1 to 10 PHR with respect to the thermosetting resin binder.

また、熱硬化性樹脂バインダーとフラックス成分の合計量は、熱硬化性樹脂組成物の全量に対して5〜30質量%の範囲内では実施例1〜3に準じた結果が得られた。
(実施例4〜11)
表2に示す配合量で、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸およびトリエタノールアミンを混合し、120℃オイルバス中で5分間加熱して、塩を得た。いずれの塩も、粘稠な液体または半固形であった。
Moreover, the result according to Examples 1-3 was obtained in the range whose total amount of a thermosetting resin binder and a flux component is 5-30 mass% with respect to the whole quantity of a thermosetting resin composition.
(Examples 4 to 11)
Dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and triethanolamine were mixed in the blending amounts shown in Table 2, and heated in a 120 ° C. oil bath for 5 minutes to obtain a salt. All salts were viscous liquids or semi-solids.

この塩を用いて、表3に示す配合量で実施例1と同様に熱硬化性樹脂組成物を得、さらに実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表5に示した。
(実施例12〜13)
表2の実施例6に示したシュウ酸塩を用いて、表4に示す配合量で試験を行った。それ以外は、実施例4〜11と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得、さらに実施例1と同様の評価を実施した。その結果を表5に示した。
Using this salt, the thermosetting resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 with the blending amounts shown in Table 3, and the same evaluation as in Example 1 was further performed. The results are shown in Table 5.
(Examples 12 to 13)
Using the oxalate shown in Example 6 in Table 2, the test was performed with the blending amounts shown in Table 4. Other than that obtained the thermosetting resin composition like Example 4-11, and also implemented evaluation similar to Example 1. FIG. The results are shown in Table 5.

Figure 2013256584
Figure 2013256584

Figure 2013256584
Figure 2013256584

Figure 2013256584
Figure 2013256584

Figure 2013256584
Figure 2013256584

表5より、いずれの実施例も一括リフロー工程でのはんだ凝集性に優れ、吸湿に対する信頼性にも優れた部品実装が可能であった。
(実施例14)
ジグリコール酸無水物1.16g(0.01モル)にトリエタノールアミン1.49g(0.01モル)を加えたところ、発熱的に反応し、付加物を形成した。反応を完結するため、さらに120℃オイルバス中で、5分間攪拌を行った。この配合は、カルボキシル基とアミノ基のモル比で、1:0.5である。得られたジグリコール酸トリエタノールアミン付加物は、粘稠液体であった。
As can be seen from Table 5, all of the examples were excellent in solder agglomeration in the batch reflow process, and could be mounted with excellent reliability in moisture absorption.
(Example 14)
When 1.49 g (0.01 mol) of triethanolamine was added to 1.16 g (0.01 mol) of diglycolic anhydride, it reacted exothermically to form an adduct. In order to complete the reaction, the mixture was further stirred for 5 minutes in a 120 ° C. oil bath. This formulation is 1: 0.5 in terms of the molar ratio of carboxyl groups to amino groups. The obtained diglycolic acid triethanolamine adduct was a viscous liquid.

はんだ粒子として、三井金属鉱業社製(組成:Sn96.5/Ag3/Cu0.5、平均粒径15μm、融点218℃)を用いた。   As the solder particles, those manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. (composition: Sn96.5 / Ag3 / Cu0.5, average particle size 15 μm, melting point 218 ° C.) were used.

このはんだ粒子82質量部、液状エポキシ樹脂YD128(東都化成社製)16.2質量部、硬化剤としてイミダゾール化合物2PZCN(四国化成工業社製)1質量部.ジグリコール酸トリエタノールアミン付加物0.8質量部を混合した。そして実施例1と全く同様の操作で熱硬化性樹脂組成物を得た。硬化オーブン温度およびリフロー最高温度を240℃として、実施例1と同様の評価を実施し、その結果を表6に示した。
(実施例15)
実施例14において、トリエタノールアミン1.49gに代えて、ジエタノールアミン1.05g(0.01モル)を用いた。それ以外は実施例14と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。
82 parts by mass of the solder particles, 16.2 parts by mass of liquid epoxy resin YD128 (manufactured by Toto Kasei), 1 part by mass of imidazole compound 2PZCN (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a curing agent. 0.8 parts by mass of diglycolic acid triethanolamine adduct was mixed. A thermosetting resin composition was obtained by the same operation as in Example 1. The same evaluation as in Example 1 was carried out at a curing oven temperature and a maximum reflow temperature of 240 ° C. The results are shown in Table 6.
(Example 15)
In Example 14, 1.05 g (0.01 mol) of diethanolamine was used instead of 1.49 g of triethanolamine. Other than that was carried out similarly to Example 14, and obtained the thermosetting resin composition.

実施例14と同様の評価を実施し、その結果を表6に示した。
(実施例16)
実施例14において、ジグリコール酸無水物に代えて、グルタル酸無水物1.28g(0.01モル)を用いた。それ以外は、実施例14と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。
The same evaluation as in Example 14 was performed, and the results are shown in Table 6.
(Example 16)
In Example 14, 1.28 g (0.01 mol) of glutaric anhydride was used in place of diglycolic anhydride. Other than that was carried out similarly to Example 14, and obtained the thermosetting resin composition.

実施例14と同様の評価を実施し、その結果を表6に示した。
(実施例17)
実施例14において、ジグリコール酸無水物に代えて、コハク酸無水物1.0g(0.01モル)を用いた。それ以外は、実施例14と同様にして熱硬化性樹脂組成物を得た。
The same evaluation as in Example 14 was performed, and the results are shown in Table 6.
(Example 17)
In Example 14, 1.0 g (0.01 mol) of succinic anhydride was used in place of diglycolic anhydride. Other than that was carried out similarly to Example 14, and obtained the thermosetting resin composition.

実施例14と同様の評価を実施し、その結果を表6に示した。   The same evaluation as in Example 14 was performed, and the results are shown in Table 6.

Figure 2013256584
Figure 2013256584

表6より、フラックス成分としてカルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を用いた実施例14〜17は、一括リフロー工程でのはんだ凝集性に優れ、吸湿に対する信頼性にも優れた部品実装が可能であった。
(実施例18)
実施例1においてはんだ粒子を含まない、熱硬化性フラックス組成物を作製した。これを7mm角、144端子の接合評価用CSPとその評価基板により評価した。
From Table 6, Examples 14-17 which used the addition reaction material of carboxylic anhydride and diethanolamines or triethanolamines as a flux component are excellent in the solder cohesiveness in a batch reflow process, and are reliable with respect to moisture absorption. Excellent component mounting was possible.
(Example 18)
A thermosetting flux composition containing no solder particles in Example 1 was prepared. This was evaluated by a 7 mm square, 144 terminal bonding evaluation CSP and its evaluation board.

このCSPは、組成:Sn96.5/Ag3/Cu0.5の0.5mmΦはんだボールが0.8mmピッチで搭載されており、評価基板に実装することにより、デイジーチェーンパターンにより、144端子のはんだ接合を確認できるTEG(Test Element Group)である。   This CSP is composed of Sn96.5 / Ag3 / Cu0.5 0.5mmΦ solder balls mounted at a pitch of 0.8mm. By mounting on the evaluation board, 144 terminal solder joints by daisy chain pattern This is a TEG (Test Element Group).

ディスペンサを用いて、評価基板に配線された接続パッド部(0.5mm角)に、作製した熱硬化性フラックス組成物を少量加えた。さらに接合評価用CSPをアライメントして搭載し、240℃maxの条件ではんだリフロー炉を通して、CSP接合を行った。デイジーチェーンパターンにより、全てのボールが基板と電気的に接合されているかどうかをn=5の繰り返しで確認した。   A small amount of the produced thermosetting flux composition was added to the connection pad portion (0.5 mm square) wired on the evaluation board using a dispenser. Further, the CSP for bonding evaluation was aligned and mounted, and CSP bonding was performed through a solder reflow furnace under the condition of 240 ° C. max. It was confirmed by repeating n = 5 whether all the balls were electrically bonded to the substrate by the daisy chain pattern.

その結果、5個全てが、接合されていることが確認された。すなわち良品率は100%であった。また、ボンドテスターによりCSPの剪断破壊強度を測定したところ、17.2kgfであった。   As a result, it was confirmed that all five were joined. That is, the yield rate was 100%. Further, when the shear fracture strength of CSP was measured by a bond tester, it was 17.2 kgf.

これらの結果は表7にも示した。
(実施例19〜20)
実施例2および3の場合についても、実施例18と同様の実験を行い、それぞれ実施例19および20として得られた熱硬化性フラックス組成物を用いて、実装性評価を行った。これらの実験における良品率、剪断破壊強度を表7に示した。
(比較例2)
比較例1においてはんだ粒子を含まない、熱硬化性フラックス組成物を作製した。この熱硬化性フラックス組成物を用いて、実施例18と同様に実験を行い、実装性評価を行った。
These results are also shown in Table 7.
(Examples 19 to 20)
Also in the case of Examples 2 and 3, the same experiment as in Example 18 was performed, and the mountability evaluation was performed using the thermosetting flux compositions obtained as Examples 19 and 20, respectively. Table 7 shows the yield rate and shear fracture strength in these experiments.
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 1, a thermosetting flux composition containing no solder particles was prepared. Using this thermosetting flux composition, an experiment was conducted in the same manner as in Example 18 to evaluate the mountability.

良品率、剪断破壊強度の結果を表7に示した。
(比較例3)
市販のBGA、CSP接合用フラックスを用いた以外は実施例18と同様に実験を行い、実装性評価を行った。
The results of the yield rate and shear fracture strength are shown in Table 7.
(Comparative Example 3)
An experiment was conducted in the same manner as in Example 18 except that a commercially available flux for BGA and CSP was used, and the mountability was evaluated.

良品率、剪断破壊強度の結果を表7に示した。   The results of the yield rate and shear fracture strength are shown in Table 7.

Figure 2013256584
Figure 2013256584

表7より、フラックス成分としてカルボン酸のトリエタノールアミン塩を配合した実施例18〜20では、落下衝撃などに対する信頼性に優れた部品実装が可能であった。フラックス成分としてカルボン酸を用いた比較例2や市販のフラックスを用いた比較例3に比べても、剪断破壊強度は大きく向上した。
(実施例21〜24)
実施例14〜17の場合についても、実施例18と同様の実験を行い、それぞれ実施例2〜24として得られた熱硬化性フラックス組成物を用いて、実装性評価を行った。これらの実験における良品率、剪断破壊強度を表8に示した。
From Table 7, in Examples 18-20 which mix | blended the triethanolamine salt of carboxylic acid as a flux component, the component mounting excellent in the reliability with respect to a drop impact etc. was possible. Compared to Comparative Example 2 using carboxylic acid as a flux component and Comparative Example 3 using a commercially available flux, the shear fracture strength was greatly improved.
(Examples 21 to 24)
Also in the case of Examples 14 to 17, the same experiment as in Example 18 was performed, and the mountability evaluation was performed using the thermosetting flux compositions obtained as Examples 2 to 24, respectively. The yield rate and shear fracture strength in these experiments are shown in Table 8.

Figure 2013256584
Figure 2013256584

表8より、フラックス成分として、カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を配合した実施例21〜24も、落下衝撃などに対する信頼性に優れた部品実装が可能であった。   From Table 8, Examples 21 to 24, in which an addition reaction product of carboxylic acid anhydride and diethanolamines or triethanolamines was blended as a flux component, could be mounted with excellent reliability against dropping impacts. It was.

Claims (10)

はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、およびフラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物において、前記フラックス成分として、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。   A thermosetting resin composition containing solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component, wherein the flux component contains a salt of dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diethanolamine or triethanolamine. A thermosetting resin composition. 前記ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸が、アジピン酸、グルタル酸、ジグリコール酸、プロパントリカルボン酸、クエン酸、酒石酸、シュウ酸、およびコハク酸から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項1に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The dicarboxylic acid or tricarboxylic acid is at least one selected from adipic acid, glutaric acid, diglycolic acid, propanetricarboxylic acid, citric acid, tartaric acid, oxalic acid, and succinic acid. The thermosetting resin composition as described. はんだ粒子、熱硬化性樹脂バインダー、およびフラックス成分を含有する熱硬化性樹脂組成物において、前記フラックス成分として、カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。   In the thermosetting resin composition containing solder particles, a thermosetting resin binder, and a flux component, the flux component contains an addition reaction product of a carboxylic acid anhydride and diethanolamines or triethanolamines. A thermosetting resin composition. 前記カルボン酸無水物が、グルタル酸無水物、ジグリコール酸無水物、およびコハク酸無水物から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項3に記載の熱硬化性樹脂組成物。   4. The thermosetting resin composition according to claim 3, wherein the carboxylic acid anhydride is at least one selected from glutaric acid anhydride, diglycolic acid anhydride, and succinic acid anhydride. 前記フラックス成分の含有量が、前記熱硬化性樹脂バインダーに対して1〜10PHRであることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 4, wherein a content of the flux component is 1 to 10 PHR with respect to the thermosetting resin binder. 前記熱硬化性樹脂バインダーが、エポキシ樹脂組成物であることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the thermosetting resin binder is an epoxy resin composition. 請求項1から6のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を用いて、半導体部品の端子と回路基板の電極とが接合された接合部を備えることを特徴とする半導体装置。   A semiconductor device comprising: a junction part in which a terminal of a semiconductor component and an electrode of a circuit board are joined using the thermosetting resin composition according to any one of claims 1 to 6. はんだボールまたははんだバンプの導電接続にフラックスとして用いられる熱硬化性のフラックス組成物であって、熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を含有し、前記フラックス成分として、ジカルボン酸もしくはトリカルボン酸とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との塩を含有することを特徴とするフラックス組成物。   A thermosetting flux composition used as a flux for conductive connection of solder balls or solder bumps, comprising a thermosetting resin binder and a flux component, and as the flux component, dicarboxylic acid or tricarboxylic acid and diethanolamines or A flux composition comprising a salt with triethanolamines. はんだボールまたははんだバンプの導電接続にフラックスとして用いられる熱硬化性のフラックス組成物であって、熱硬化性樹脂バインダーおよびフラックス成分を含有し、前記フラックス成分として、カルボン酸無水物とジエタノールアミン類もしくはトリエタノールアミン類との付加反応物を含有することを特徴とするフラックス組成物。   A thermosetting flux composition used as a flux for conductive connection of solder balls or solder bumps, comprising a thermosetting resin binder and a flux component, and the flux component includes a carboxylic acid anhydride and diethanolamines or A flux composition comprising an addition reaction product with ethanolamines. 請求項8または9に記載のフラックス組成物をはんだボールまたははんだバンプ用フラックスとして用いて、半導体部品の端子と回路基板の電極とが前記はんだボールまたははんだバンプによって接合された接合部を備えることを特徴とする半導体装置。   A flux composition according to claim 8 or 9 is used as a solder ball or solder bump flux, and the semiconductor component terminal and the circuit board electrode are joined by the solder ball or solder bump. A featured semiconductor device.
JP2012133103A 2012-06-12 2012-06-12 Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same Pending JP2013256584A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012133103A JP2013256584A (en) 2012-06-12 2012-06-12 Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012133103A JP2013256584A (en) 2012-06-12 2012-06-12 Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013256584A true JP2013256584A (en) 2013-12-26

Family

ID=49953286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012133103A Pending JP2013256584A (en) 2012-06-12 2012-06-12 Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2013256584A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017112312A (en) * 2015-12-18 2017-06-22 日立化成株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
EP3214138A4 (en) * 2014-10-31 2018-06-06 Senju Metal Industry Co., Ltd Resin composition and flux
KR20180105110A (en) 2016-01-25 2018-09-27 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Conductive material and connection structure
JP2018161673A (en) * 2017-03-27 2018-10-18 株式会社タムラ製作所 Thermosetting flux composition, solder composition and method for manufacturing electronic substrate
JP2019016595A (en) * 2017-07-06 2019-01-31 積水化学工業株式会社 Conductive material, connection structure and method for producing connection structure
CN111372994A (en) * 2017-11-27 2020-07-03 纳美仕有限公司 Film-like semiconductor sealing material
CN111745324A (en) * 2019-03-28 2020-10-09 松下知识产权经营株式会社 Solder paste and mounting structure
JP2020188268A (en) * 2015-12-18 2020-11-19 昭和電工マテリアルズ株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
JP2022160604A (en) * 2020-07-14 2022-10-19 昭和電工マテリアルズ株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
JP7497136B2 (en) 2017-07-06 2024-06-10 積水化学工業株式会社 Conductive material, connection structure, and method for manufacturing the connection structure

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004025305A (en) * 2002-04-16 2004-01-29 Tadatomo Suga Residue-free solder paste
JP2009263500A (en) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd Thermosetting resin composition and process for producing the same
WO2010114874A2 (en) * 2009-04-02 2010-10-07 Ormet Circuits Inc. Conductive compositions containing blended alloy fillers
WO2011078918A2 (en) * 2009-11-05 2011-06-30 Ormet Circuits, Inc. Preparation of metallurgic network compositions and methods of use thereof

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004025305A (en) * 2002-04-16 2004-01-29 Tadatomo Suga Residue-free solder paste
JP2009263500A (en) * 2008-04-24 2009-11-12 Panasonic Electric Works Co Ltd Thermosetting resin composition and process for producing the same
WO2010114874A2 (en) * 2009-04-02 2010-10-07 Ormet Circuits Inc. Conductive compositions containing blended alloy fillers
WO2011078918A2 (en) * 2009-11-05 2011-06-30 Ormet Circuits, Inc. Preparation of metallurgic network compositions and methods of use thereof

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3214138A4 (en) * 2014-10-31 2018-06-06 Senju Metal Industry Co., Ltd Resin composition and flux
US10160827B2 (en) 2014-10-31 2018-12-25 Senju Metal Industry Co., Ltd. Resin composition and flux
JP7321979B2 (en) 2015-12-18 2023-08-07 株式会社レゾナック CONDUCTIVE ADHESIVE COMPOSITION, CONNECTION STRUCTURE, AND FLEXIBLE WIRING BOARD WITH SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE
JP2017112312A (en) * 2015-12-18 2017-06-22 日立化成株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
JP2020188268A (en) * 2015-12-18 2020-11-19 昭和電工マテリアルズ株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
KR20180105110A (en) 2016-01-25 2018-09-27 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Conductive material and connection structure
JP2018161673A (en) * 2017-03-27 2018-10-18 株式会社タムラ製作所 Thermosetting flux composition, solder composition and method for manufacturing electronic substrate
JP2019016595A (en) * 2017-07-06 2019-01-31 積水化学工業株式会社 Conductive material, connection structure and method for producing connection structure
JP7497136B2 (en) 2017-07-06 2024-06-10 積水化学工業株式会社 Conductive material, connection structure, and method for manufacturing the connection structure
CN111372994A (en) * 2017-11-27 2020-07-03 纳美仕有限公司 Film-like semiconductor sealing material
CN111372994B (en) * 2017-11-27 2023-03-14 纳美仕有限公司 Film-like semiconductor sealing material
CN111745324A (en) * 2019-03-28 2020-10-09 松下知识产权经营株式会社 Solder paste and mounting structure
JP2022160604A (en) * 2020-07-14 2022-10-19 昭和電工マテリアルズ株式会社 Conductive adhesive composition, connection structure, and semiconductor light emitting element mounting flexible wiring board
JP7405196B2 (en) 2020-07-14 2023-12-26 株式会社レゾナック Conductive adhesive composition, connection structure, and flexible wiring board with semiconductor light emitting device mounted

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013256584A (en) Thermosetting resin composition, flux composition, and semiconductor apparatus using the same
JP6534122B2 (en) Resin flux solder paste and mounting structure
JP6967726B2 (en) Solder paste and mounting structure
US8540903B2 (en) Electrically conductive paste, and electrical and electronic device comprising the same
JP2006199937A (en) Conductive adhesive and conductive part and electronic part module using the same
JP5144489B2 (en) Thermosetting resin composition
WO2016017076A1 (en) Semiconductor mounting component and method for manufacturing same
US20180229333A1 (en) Solder paste and mount structure obtained by using same
JP2017080797A (en) Solder paste, flux for soldering, and mounting structure using the same
WO2010084858A1 (en) Surface mounting method for component to be mounted, structure with mounted component obtained by the method, and liquid epoxy resin composition for underfill used in the method
JP5571730B2 (en) Thermosetting resin composition and semiconductor device
JP7126167B2 (en) Solder paste and mounting structure
JP2012072211A (en) Thermosetting resin composition and semiconductor component mounting board
CN113649727A (en) Resin flux paste and mounting structure
JP6956365B2 (en) Solder paste and the resulting mounting structure
JP2008085264A (en) Semiconductor device
JP2020089897A (en) Solder paste and mounting structure
JP5351786B2 (en) Thermosetting resin composition and method for producing the same
JP4556631B2 (en) Liquid resin composition, method of manufacturing semiconductor device using the same, and semiconductor device
WO2020095634A1 (en) Curable resin composition and mounting structure
JP6115762B2 (en) Circuit device manufacturing method
JP2014057008A (en) Circuit device manufacturing method, semiconductor component mounting structure, and circuit device
JPWO2018134860A1 (en) Semiconductor mounting products
JP2004059778A (en) Liquid epoxy resin composition for encapsulation filler
JP2009104930A (en) Conductive paste and package using this

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20150225

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20151216

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20151222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160218

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20160524