JP2013254056A - Display substrate laminating apparatus and method, and method for manufacturing display substrate - Google Patents

Display substrate laminating apparatus and method, and method for manufacturing display substrate Download PDF

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洋希 栫井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display substrate laminating apparatus and method and a method for manufacturing a display substrate, capable of suppressing quality deterioration of the display substrate.SOLUTION: A display substrate laminating apparatus includes a chamber unit 100, a first stage 200, and a second stage 300, the apparatus for laminating a first substrate 10 and a second substrate 20 together. The display substrate laminating apparatus includes, when viewed from a direction in which the first stage 200 and the second stage 300 are arranged: a plurality of exhaust ports 400 positioned on both sides of the first stage 200 and the second stage 300; and a control unit 700 for controlling an inclination of the first stage 200 or the second stage 300. The control unit 700, when air is exhausted from the plurality of exhaust ports 400 to reduce pressure in the chamber unit, adjusts the inclination of the first stage 200 or the second stage 300 to adjust an interval between the first substrate 10 and the second substrate 20.

Description

本発明は、表示基板貼り合わせ装置、表示基板貼り合わせ方法および表示基板の製造方法に関し、特に、表示パネルの品質の低下を抑止することができる表示基板貼り合わせ装置、表示基板貼り合わせ方法、表示基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a display substrate bonding apparatus, a display substrate bonding method, and a display substrate manufacturing method, and in particular, a display substrate bonding apparatus, a display substrate bonding method, and a display capable of suppressing deterioration in the quality of a display panel. The present invention relates to a method for manufacturing a substrate.

表示基板、半導体装置の製造工程においては、基板貼り合わせ装置を用いて、第1基板および第2基板を貼り合わせる。第1基板および第2基板を平行にして貼り合わせることが好ましく、基板を保持するステージを精密に制御することが必要である。   In the manufacturing process of the display substrate and the semiconductor device, the first substrate and the second substrate are bonded using a substrate bonding apparatus. The first substrate and the second substrate are preferably bonded in parallel, and the stage holding the substrate needs to be precisely controlled.

上記問題を解決するための基板貼り合わせ装置が、例えば特開2011-192828号公報(特許文献1)に開示されている。特許文献1においては、第1基板を保持する第1ステージと、第1ステージに対向して配置され、第1ステージに対し移動可能であり、第2基板を保持する第2ステージと、第2ステージに取り付けられ、基準面に対する平行基準となる平行基準マークと、第1ステージに固定され、平行基準マークおよび第2基板の表面に設けられたアライメントマークを観察する第1マーク観察部とを備える基板貼り合わせ装置が開示されている。   A substrate bonding apparatus for solving the above problem is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-192828 (Patent Document 1). In Patent Document 1, a first stage that holds a first substrate, a second stage that is arranged to face the first stage, is movable with respect to the first stage, and holds a second substrate; A parallel reference mark that is attached to the stage and serves as a parallel reference with respect to the reference surface, and a first mark observation unit that is fixed to the first stage and that observes the parallel reference mark and the alignment mark provided on the surface of the second substrate. A substrate bonding apparatus is disclosed.

特許文献1に記載の基板貼り合わせ装置においては、第2ステージに取り付けられた各平行基準マークに対して、第1マーク観察部が計測した距離が一定になるように第2ステージを制御する。これにより、第2ステージを水平に調整して、その位置を第2ステージの平行基準位置として設定する。   In the substrate bonding apparatus described in Patent Document 1, the second stage is controlled such that the distance measured by the first mark observation unit is constant with respect to each parallel reference mark attached to the second stage. Thereby, the second stage is adjusted horizontally, and the position is set as the parallel reference position of the second stage.

特開2011-192828号公報JP 2011-192828 A

表示基板貼り合わせ装置のチャンバユニット内を減圧した状態で基板の貼り合わせを行う場合がある。この減圧時において、第1ステージまたは第2ステージが傾斜することにより、チャンバユニット内の排気の状態が変化する。排気の状態を制御できなければ、第1基板および第2基板の表面に付着したガスや水分を十分に除去することできず、表示基板の品質が低下する場合がある。   In some cases, substrates are bonded together in a state where the pressure in the chamber unit of the display substrate bonding apparatus is reduced. At the time of this pressure reduction, the state of exhaust in the chamber unit changes due to the inclination of the first stage or the second stage. If the exhaust state cannot be controlled, the gas and moisture adhering to the surfaces of the first substrate and the second substrate cannot be sufficiently removed, and the quality of the display substrate may deteriorate.

特許文献1に記載の基板貼り合わせ装置では、このような問題については、考慮されていない。   In the substrate bonding apparatus described in Patent Document 1, such a problem is not considered.

本発明は、上記のような課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、表示基板の品質の低下を抑止することができる表示基板貼り合わせ装置、表示基板貼り合わせ方法および表示基板の製造方法を提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a display substrate bonding apparatus, a display substrate bonding method, and a display substrate that can suppress a deterioration in the quality of the display substrate. It is to provide a manufacturing method.

本発明に係る表示基板貼り合わせ装置は、チャンバユニットと、チャンバユニット内に設けられ、第1基板を保持する第1ステージと、チャンバユニット内における第1ステージに対向する位置に設けられ、第2基板を保持する第2ステージとを備え、第1ステージが第2ステージに向けて移動し、第1基板と第2基板とを貼り合わせる表示基板貼り合わせ装置である。   A display substrate bonding apparatus according to the present invention is provided in a chamber unit, a first stage that is provided in the chamber unit, holds the first substrate, and is positioned at a position facing the first stage in the chamber unit. A display substrate bonding apparatus including a second stage for holding a substrate, the first stage moving toward the second stage, and bonding the first substrate and the second substrate.

本発明に係る表示基板貼り合わせ装置は、上記第1ステージおよび第2ステージが並ぶ方向から見たときに、チャンバユニットにおける第1ステージおよび第2ステージの両側に位置する複数の排気口と、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する制御部とを備える。上記制御部は、複数の排気口からチャンバユニット内の気体を排出してチャンバユニット内を減圧する時に、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整して、第1基板と第2基板との隙間を調整する。   When the display substrate bonding apparatus according to the present invention is viewed from the direction in which the first stage and the second stage are arranged, a plurality of exhaust ports located on both sides of the first stage and the second stage in the chamber unit, And a control unit that controls the inclination of the first stage or the second stage. The control unit adjusts the inclination of the first stage or the second stage to discharge the gas in the chamber unit from the plurality of exhaust ports and depressurize the inside of the chamber unit. Adjust the gap.

1つの実施態様では、上記制御部は、第1基板と第2基板とが平行になるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する。   In one embodiment, the control unit controls the inclination of the first stage or the second stage so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other.

1つの実施態様では、上記制御部は、第1基板および第2基板の一方の端部における第1基板と第2基板との隙間と、第1基板および第2基板の他方の端部における第1基板と第2基板との隙間とを異ならせるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する。   In one embodiment, the control unit includes a gap between the first substrate and the second substrate at one end portion of the first substrate and the second substrate, and a first portion at the other end portion of the first substrate and the second substrate. The inclination of the first stage or the second stage is controlled so that the gap between the first substrate and the second substrate is different.

1つの実施態様では、上記表示基板貼り合わせ装置は、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を検知する傾斜検知部を備える。上記傾斜検知部は、第1ステージまたは第2ステージの側面から突出するように、第1ステージまたは第2ステージの中心に対して対称となる位置に配置された一対のセンサ装置と、センサ装置に対向する位置に配置された一対の基準マークとを含む。上記傾斜検知部は、一対のセンサ装置から一対の基準マークまでの距離を測定することによって第1ステージまたは第2ステージの傾斜を検知する。上記制御部は、傾斜検知部による検知結果に基づいて第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する。   In one embodiment, the display substrate bonding apparatus includes an inclination detection unit that detects the inclination of the first stage or the second stage. The tilt detection unit includes a pair of sensor devices arranged at positions symmetrical to the center of the first stage or the second stage so as to protrude from the side surface of the first stage or the second stage, and the sensor device. And a pair of fiducial marks arranged at opposing positions. The tilt detection unit detects the tilt of the first stage or the second stage by measuring the distance from the pair of sensor devices to the pair of reference marks. The said control part controls the inclination of a 1st stage or a 2nd stage based on the detection result by an inclination detection part.

1つの実施態様では、上記複数の排気口の内部に一対の基準マークが設けられる。
本発明に係る基板貼り合わせ方法は、チャンバユニット内に設けられた第1ステージによって第1基板を保持する工程と、チャンバユニット内において第1ステージに対向する第2ステージによって第2基板を保持する工程と、第1ステージおよび第2ステージが並ぶ方向から見たときに、第1ステージおよび第2ステージの両側に位置する複数の排気口から、チャンバユニット内の気体を排出して、チャンバユニット内を減圧する工程と、第1ステージを第2ステージに向けて移動させる工程とを備える。上記減圧する工程は、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整して、第1基板と第2基板との隙間を調整することを含む。
In one embodiment, a pair of reference marks are provided inside the plurality of exhaust ports.
In the substrate bonding method according to the present invention, the first substrate is held by the first stage provided in the chamber unit, and the second substrate is held by the second stage facing the first stage in the chamber unit. When viewed from the process and the direction in which the first stage and the second stage are arranged, the gas in the chamber unit is exhausted from a plurality of exhaust ports located on both sides of the first stage and the second stage. And a step of moving the first stage toward the second stage. The step of reducing the pressure includes adjusting a gap between the first substrate and the second substrate by adjusting an inclination of the first stage or the second stage.

1つの実施態様では、上記第1基板と第2基板とが平行になるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整する。   In one embodiment, the inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other.

1つの実施態様では、上記第1基板および第2基板の一方の端部における第1基板と第2基板との隙間と、第1基板および第2基板の他方の端部における第1基板と第2基板との隙間とを異ならせるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整する。   In one embodiment, the gap between the first substrate and the second substrate at one end of the first substrate and the second substrate, and the first substrate and the second substrate at the other end of the first substrate and the second substrate. The inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that the gap between the two substrates is different.

本発明に係る表示基板の製造方法は、貼り合わされて表示基板を構成する第1基板および第2基板を準備する工程と、チャンバユニット内に設けられた第1ステージによって第1基板を保持する工程と、チャンバユニット内において第1ステージに対向する第2ステージによって第2基板を保持する工程と、第1ステージおよび第2ステージが並ぶ方向から見たときに、第1ステージおよび第2ステージの両側に位置する複数の排気口から、チャンバユニット内の気体を排出して、チャンバユニット内を減圧する工程と、第1ステージを第2ステージに向けて移動させる工程とを備える。上記減圧する工程は、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整して、第1基板と第2基板との隙間を調整することを含む。   The display substrate manufacturing method according to the present invention includes a step of preparing a first substrate and a second substrate that are bonded together to form a display substrate, and a step of holding the first substrate by a first stage provided in the chamber unit. And a step of holding the second substrate by the second stage facing the first stage in the chamber unit, and both sides of the first stage and the second stage when viewed from the direction in which the first stage and the second stage are aligned. A step of exhausting the gas in the chamber unit from a plurality of exhaust ports located at a position to depressurize the chamber unit, and a step of moving the first stage toward the second stage. The step of reducing the pressure includes adjusting a gap between the first substrate and the second substrate by adjusting an inclination of the first stage or the second stage.

1つの実施態様では、貼り合わされた第1基板および第2基板を分断して、同一パターンを有する複数の貼り合わせ基板を作製する工程を備える。上記第1基板と第2基板とが平行になるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整する。   In one embodiment, the method includes a step of dividing the bonded first substrate and second substrate to produce a plurality of bonded substrates having the same pattern. The inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other.

1つの実施態様では、貼り合わされた第1基板および第2基板を分断して、互いに異なるパターンを各々有する複数の貼り合わせ基板を作製する工程を備える。第1基板および第2基板の一方の端部における第1基板と第2基板との隙間と、第1基板および第2基板の他方の端部における第1基板と第2基板との隙間とを異ならせるように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整する。   In one embodiment, the method includes a step of dividing the bonded first substrate and second substrate to produce a plurality of bonded substrates each having a different pattern. A gap between the first substrate and the second substrate at one end of the first substrate and the second substrate, and a gap between the first substrate and the second substrate at the other end of the first substrate and the second substrate. The inclination of the first stage or the second stage is adjusted so as to be different.

1つの実施態様では、表示基板の製造方法は、上記第1基板と第2基板とを貼り合わせて作製した貼り合わせ基板における滴下跡または気泡を検知する工程を備える。上記滴下跡または気泡の検知結果に基づいて、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を調整する。   In one embodiment, a method for manufacturing a display substrate includes a step of detecting a drop mark or a bubble in a bonded substrate manufactured by bonding the first substrate and the second substrate. The inclination of the first stage or the second stage is adjusted based on the detection result of the dropping trace or the bubble.

1つの実施態様では、検知された上記滴下跡の多い側において、第1基板と第2基板との隙間を小さくするように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する。   In one embodiment, the inclination of the first stage or the second stage is controlled so as to reduce the gap between the first substrate and the second substrate on the side where the detected dripping trace is large.

1つの実施態様では、検知された上記気泡の多い側において、第1基板と第2基板との隙間を大きくするように、第1ステージまたは第2ステージの傾斜を制御する。   In one embodiment, the inclination of the first stage or the second stage is controlled so as to increase the gap between the first substrate and the second substrate on the detected side with a large amount of bubbles.

本発明によれば、表示基板の品質の低下を抑止することができる表示基板貼り合わせ装置および表示基板貼り合わせ方法、表示基板の製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the display substrate bonding apparatus which can suppress the fall of the quality of a display substrate, the display substrate bonding method, and the manufacturing method of a display substrate can be provided.

液晶表示基板を製造する製造フローを示す製造フロー図である。It is a manufacturing flowchart which shows the manufacturing flow which manufactures a liquid crystal display substrate. 本発明の実施の形態1に係る表示基板貼り合わせ装置の概略図である。It is the schematic of the display substrate bonding apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 図2に示す下部チャンバユニットの平面図である。It is a top view of the lower chamber unit shown in FIG. 本発明の実施の形態1に係る表示基板貼り合わせ装置の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the display substrate bonding apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. 貼り合わせ後の基板に気泡が発生した状態を説明する図である。It is a figure explaining the state which the bubble generate | occur | produced in the board | substrate after bonding. 本発明の実施の形態1に係るチャンバユニット内を減圧する時の排気の状態を説明する図である。It is a figure explaining the state of exhaust when decompressing the inside of the chamber unit concerning Embodiment 1 of the present invention. 気泡の発生率を示すグラフである。It is a graph which shows the bubble generation rate. 貼り合わせ後の基板に滴下跡が発生した状態を説明する図である。It is a figure explaining the state which the drop mark generate | occur | produced in the board | substrate after bonding. 本発明の実施の形態2、3において、チャンバユニット内を減圧する時の排気の状態を説明する図である。In Embodiment 2 and 3 of this invention, it is a figure explaining the state of the exhaust_gas | exhaustion at the time of decompressing the inside of a chamber unit. 貼り合わせ後の基板に気泡が発生した状態を説明する図である。It is a figure explaining the state which the bubble generate | occur | produced in the board | substrate after bonding.

以下、本発明の表示基板貼り合わせ装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお同一または対応する構成要素には、各図において同一の符号を付し、詳細な説明は繰り返さない場合がある。   Hereinafter, embodiments of a display substrate bonding apparatus of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to each figure to the same or corresponding component, and detailed description may not be repeated.

なお、以下の説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。また、以下の実施の形態において、各々の構成要素は、特に記載がある場合を除き、本発明にとって必ずしも必須のものではない。   Note that in the embodiment described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified. In the following embodiments, each component is not necessarily essential for the present invention unless otherwise specified.

(液晶表示基板の製造工程)
図1および後述の図2を参照して、液晶表示基板の製造工程を説明する。ガラス基板で形成され、主表面を有する第1基板10を準備する(S10工程)。準備された第1基板の主表面に、黒色樹脂膜を形成し、フォトリソグラフィ法によって黒色樹脂膜をパターニングしてブラックマトリックスを形成する。続いて赤色樹脂膜を形成し、フォトリソグラフィ法によって、赤色樹脂膜をパターニングし、赤色カラーフィルタ形成する。同様の方法で、順次、緑色カラーフィルタ、青色カラーフィルタを形成し、CF(Color Filter)層を形成する(S11工程)。
(Manufacturing process of liquid crystal display substrate)
A manufacturing process of the liquid crystal display substrate will be described with reference to FIG. 1 and FIG. A first substrate 10 formed of a glass substrate and having a main surface is prepared (step S10). A black resin film is formed on the main surface of the prepared first substrate, and the black resin film is patterned by photolithography to form a black matrix. Subsequently, a red resin film is formed, and the red resin film is patterned by photolithography to form a red color filter. In the same manner, a green color filter and a blue color filter are sequentially formed, and a CF (Color Filter) layer is formed (step S11).

スパッタ法によりITO(Indium Tin Oxide)膜を積層し、フォトリソグラフィ法によってパターニングして、対向電極を形成する(S12工程)。このようにして、第1基板10からCFマザー基板が形成される。CFマザー基板は、同一または互いに異なるパターンからなる複数のCF基板を含む。   An ITO (Indium Tin Oxide) film is laminated by sputtering and patterned by photolithography to form a counter electrode (step S12). In this way, a CF mother substrate is formed from the first substrate 10. The CF mother substrate includes a plurality of CF substrates having the same or different patterns.

対向電極上に、印刷法またはインクジェット法によって、液晶材の配向を制御する配向膜を形成する(S13工程)。CFマザー基板に形成されている各CF基板の表示領域を囲うように、シール材が描画される(S14工程)。シール材は、後に、貼り合わせ後の基板(CFマザー基板とTFTマザー基板とが貼り合わされた基板)を分断することにより取得されるべき液晶表示基板の封止材として作用する。シール材としては、たとえば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、光/熱併用型樹脂が用いられる。   An alignment film for controlling the alignment of the liquid crystal material is formed on the counter electrode by a printing method or an inkjet method (step S13). A sealing material is drawn so as to surround the display area of each CF substrate formed on the CF mother substrate (step S14). The sealing material acts as a sealing material for the liquid crystal display substrate to be obtained later by dividing the substrate after bonding (the substrate on which the CF mother substrate and the TFT mother substrate are bonded). As the sealing material, for example, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a light / heat combination type resin is used.

シール材によって囲まれた領域に、液晶が滴下される(S15工程)。CFマザー基板とTFTマザー基板とが貼り合わされた後のセル厚と、TFT基板およびCF基板のサイズとを考慮して、液晶の量が、決定される。   Liquid crystal is dropped onto the region surrounded by the sealing material (step S15). The amount of liquid crystal is determined in consideration of the cell thickness after the CF mother substrate and the TFT mother substrate are bonded together and the sizes of the TFT substrate and the CF substrate.

第1基板についての上記工程(S10〜S15)とは別に、ガラス基板で形成され、主表面を有する第2基板20を準備する。(S20工程)。準備された第2基板の主表面に、一般的な製造方法を用いて、TFT(TFT:Thin Film Transistor)層を形成し、TFTマザー基板を製造する(S21工程)。TFTマザー基板は同一または互いに異なるパターンからなる複数のTFT基板を含む。TFT基板は、素子基板上に、画素電極および配向膜が形成されている。素子基板上に、互いに交差する複数のゲート信号線と、複数のソース信号線とが配置され、ゲート信号線とソース信号線とが交差する部分に、TFTが設けられる。TFTは、ゲート電極がゲート信号線に接続され、ソース電極がソース信号線に接続され、ドレイン電極が画素電極に接続される。   Separately from the above steps (S10 to S15) for the first substrate, a second substrate 20 formed of a glass substrate and having a main surface is prepared. (Step S20). A TFT (Thin Film Transistor) layer is formed on the main surface of the prepared second substrate using a general manufacturing method, and a TFT mother substrate is manufactured (step S21). The TFT mother substrate includes a plurality of TFT substrates having the same or different patterns. In the TFT substrate, a pixel electrode and an alignment film are formed on an element substrate. On the element substrate, a plurality of gate signal lines and a plurality of source signal lines intersecting each other are arranged, and a TFT is provided at a portion where the gate signal lines and the source signal lines intersect. The TFT has a gate electrode connected to the gate signal line, a source electrode connected to the source signal line, and a drain electrode connected to the pixel electrode.

液晶が滴下されたCFマザー基板は、滴下された液晶層を挟んで、TFT層が形成されたTFTマザー基板と貼り合わされる(S30工程)。基板の貼り合わせ後の検査工程にて、白色光やナトリウムランプを用いて、貼り合わせ後の基板が検査される。(S40工程)。この検査により、気泡や滴下跡等の品質不良を検知することができる。貼り合わせ後の基板にスクライブ分断等を施すことにより、貼り合わせ後の基板を所望のパターン毎に分断し、液晶表示基板を製造する(S50工程)。   The CF mother substrate on which the liquid crystal is dropped is bonded to the TFT mother substrate on which the TFT layer is formed with the dropped liquid crystal layer interposed therebetween (step S30). In the inspection process after bonding the substrates, the bonded substrates are inspected using white light or a sodium lamp. (Step S40). By this inspection, quality defects such as bubbles and dripping marks can be detected. By subjecting the bonded substrates to scribe division or the like, the bonded substrates are divided into desired patterns to manufacture a liquid crystal display substrate (step S50).

液晶表示基板の検査用端子に検査針を接続し、点灯検査用の駆動信号を外部から供給し、液晶表示基板を点灯させる。液晶表示基板を点灯させた状態で、表示品位を検査する。この検査により、気泡や滴下跡等の品質不良を検知することができる(S60工程)。   An inspection needle is connected to the inspection terminal of the liquid crystal display substrate, and a driving signal for lighting inspection is supplied from the outside to light the liquid crystal display substrate. The display quality is inspected with the liquid crystal display substrate turned on. By this inspection, it is possible to detect quality defects such as bubbles and dripping marks (step S60).

ここでは、第1基板10にシール材を描画し、液晶40を滴下すると説明したが、第1基板10にシール材を描画し、第2基板20に液晶40を滴下しても良い。第2基板20にシール材を描画し、第1基板10に液晶を滴下しても良い。また、第2基板20にシール材を描画し、液晶40を滴下しても良い。また第1基板10にTFT層を形成し、第2基板20にCF層を形成しても良い。   Here, the sealing material is drawn on the first substrate 10 and the liquid crystal 40 is dropped. However, the sealing material may be drawn on the first substrate 10 and the liquid crystal 40 may be dropped on the second substrate 20. A sealing material may be drawn on the second substrate 20, and the liquid crystal may be dropped on the first substrate 10. Alternatively, a sealing material may be drawn on the second substrate 20 and the liquid crystal 40 may be dropped. Alternatively, a TFT layer may be formed on the first substrate 10 and a CF layer may be formed on the second substrate 20.

(実施の形態1)
図2は、実施の形態1に係る表示基板貼り合わせ装置1を示す図である。図2に示すように表示基板貼り合わせ装置1は、チャンバユニット100と、チャンバユニット100の内部に設けられた上部ステージ200および下部ステージ300と、排気口400と、傾斜検知部500と、減圧装置600と、制御部700と、気体供給装置800とを含む。
(Embodiment 1)
FIG. 2 is a diagram showing the display substrate bonding apparatus 1 according to the first embodiment. As shown in FIG. 2, the display substrate bonding apparatus 1 includes a chamber unit 100, an upper stage 200 and a lower stage 300 provided in the chamber unit 100, an exhaust port 400, an inclination detection unit 500, and a decompression device. 600, the control part 700, and the gas supply apparatus 800 are included.

チャンバユニット100は、上部チャンバユニット110と下部チャンバユニット120とを含む。上部チャンバユニット110を移動させ、下部チャンバユニット120に当接させることで、チャンバユニット100を密閉することができる。制御部700は、上部チャンバユニット110の移動を制御する。   The chamber unit 100 includes an upper chamber unit 110 and a lower chamber unit 120. By moving the upper chamber unit 110 and bringing it into contact with the lower chamber unit 120, the chamber unit 100 can be sealed. The controller 700 controls the movement of the upper chamber unit 110.

上部ステージ200は、昇降機構210を含み、液晶40が滴下された第1基板10を保持しながら下部ステージ300に対して移動することができる。昇降機構210は、カム211およびカムフォロア212と、上部ステージ200を支持する支持部213とを含む。   The upper stage 200 includes an elevating mechanism 210 and can move relative to the lower stage 300 while holding the first substrate 10 onto which the liquid crystal 40 has been dropped. The elevating mechanism 210 includes a cam 211 and a cam follower 212, and a support portion 213 that supports the upper stage 200.

昇降機構210は、上部チャンバユニット110の上部に位置する板部111の上に形成されている。カム211とカムフォロア212と支持部213とは連動している。カムフォロア212が、表示基板貼り合わせ装置1の中央から離れるように移動すると、カム211が下降し、支持部213が下降する。支持部213が下降すると同時に上部ステージ200が下降する。一方、カムフォロア212が表示基板貼り合わせ装置1の中央に近づくように移動すると、カム211が上昇し、支持部213が上昇する。支持部213が上昇すると同時に上部ステージ200が上昇する。カムフォロア212の移動が、制御部700によって制御され、昇降機構210が制御される。   The elevating mechanism 210 is formed on the plate portion 111 located on the upper portion of the upper chamber unit 110. The cam 211, the cam follower 212, and the support part 213 are interlocked. When the cam follower 212 moves away from the center of the display substrate bonding apparatus 1, the cam 211 is lowered and the support portion 213 is lowered. At the same time as the support portion 213 is lowered, the upper stage 200 is lowered. On the other hand, when the cam follower 212 moves so as to approach the center of the display substrate bonding apparatus 1, the cam 211 rises and the support portion 213 rises. At the same time as the support portion 213 is raised, the upper stage 200 is raised. The movement of the cam follower 212 is controlled by the control unit 700, and the lifting mechanism 210 is controlled.

上部ステージ200には、一対の傾斜検知部500が設けられている。傾斜検知部500は上部ステージ200の傾斜を検知し、検知された結果を制御部700に送る。検知された結果に基づいて制御部700は、昇降機構210を制御する。この結果、上部ステージ200の傾斜が調整される。   The upper stage 200 is provided with a pair of tilt detection units 500. The tilt detection unit 500 detects the tilt of the upper stage 200 and sends the detected result to the control unit 700. Based on the detected result, the control unit 700 controls the lifting mechanism 210. As a result, the inclination of the upper stage 200 is adjusted.

下部ステージ300は、支持部310と駆動部320とを含む。支持部310は、下部ステージを支持する。駆動部320は、制御部700により制御され、X方向、Y方向、θ方向に移動することができる。駆動部320は架台900の上に配置される。   The lower stage 300 includes a support part 310 and a drive part 320. The support part 310 supports the lower stage. The driving unit 320 is controlled by the control unit 700 and can move in the X direction, the Y direction, and the θ direction. The driving unit 320 is disposed on the gantry 900.

下部チャンバユニット120には排気口400が形成されている。排気口400は配管410を介して真空ポンプを含む減圧装置600につながっている。排気口400は、下部ステージ300を挟むように2つ形成されている。   An exhaust port 400 is formed in the lower chamber unit 120. The exhaust port 400 is connected to a decompression device 600 including a vacuum pump through a pipe 410. Two exhaust ports 400 are formed so as to sandwich the lower stage 300.

傾斜検知部500は、センサ装置510と基準マーク520を含む。センサ装置510は上部ステージ200の側面から突出するように、上部ステージ200の中央に対し対称となるように配置されている。センサ装置510は、たとえばギャップセンサを含む。センサ装置510は、排気口400に対向するように設けられる。ギャップセンサとしては、渦電流式、静電容量式、超音波式、光学式を適宜選択することができる。基準マーク520は、センサ装置510に対向するように排気口400内に配置される。   The tilt detection unit 500 includes a sensor device 510 and a reference mark 520. The sensor device 510 is disposed so as to be symmetrical with respect to the center of the upper stage 200 so as to protrude from the side surface of the upper stage 200. Sensor device 510 includes, for example, a gap sensor. Sensor device 510 is provided to face exhaust port 400. As the gap sensor, an eddy current type, a capacitance type, an ultrasonic type, or an optical type can be appropriately selected. The reference mark 520 is disposed in the exhaust port 400 so as to face the sensor device 510.

減圧装置600は、密閉されたチャンバユニット100内を減圧する。減圧されたチャンバユニット100内は、気体供給装置800により、チャンバユニット100内に気体を供給することで大気圧に戻すことができる。   The decompression device 600 decompresses the inside of the sealed chamber unit 100. The decompressed chamber unit 100 can be returned to atmospheric pressure by supplying gas into the chamber unit 100 by the gas supply device 800.

図3は、下部チャンバユニット120の平面図である。図3に示すように、下部チャンバユニット120の内側に、下部ステージ300が配置されている。2つの排気口400は、下部チャンバユニット120の側壁と下部ステージ300との間に位置し、下部ステージ300の中央に対し対称となるように配置されている。   FIG. 3 is a plan view of the lower chamber unit 120. As shown in FIG. 3, the lower stage 300 is disposed inside the lower chamber unit 120. The two exhaust ports 400 are located between the side wall of the lower chamber unit 120 and the lower stage 300, and are arranged so as to be symmetric with respect to the center of the lower stage 300.

図4を参照して、本実施の形態に係る表示基板貼り合わせ装置1の動作を説明する。図4(a)は、上部ステージ200および下部ステージ300が、第1基板10および第2基板20を保持する状態を示す。図4(b)は、チャンバユニット100を密閉し、第1基板および第2基板を貼り合せる状態を示す。図4(c)は、チャンバユニット100を開放し、貼り合わせ後の基板30を取り出す状態を示す。   With reference to FIG. 4, operation | movement of the display substrate bonding apparatus 1 which concerns on this Embodiment is demonstrated. FIG. 4A shows a state in which the upper stage 200 and the lower stage 300 hold the first substrate 10 and the second substrate 20. FIG. 4B shows a state where the chamber unit 100 is sealed and the first substrate and the second substrate are bonded together. FIG. 4C shows a state in which the chamber unit 100 is opened and the substrate 30 after bonding is taken out.

図4(a)に示すように、第1基板10が、上部チャンバユニット110内に設けられた上部ステージ200に保持される。上部ステージ200は、真空吸着/静電吸着方により第1基板10を吸着して保持する。第2基板20が、下部チャンバユニット120内に設けられた下部ステージ300に保持される。下部ステージ300は、真空吸着法により第2基板20を保持する。基板吸着方法は、粘着方式でも良く、上述の吸着方法が適宜組み合わされても良い。   As shown in FIG. 4A, the first substrate 10 is held on the upper stage 200 provided in the upper chamber unit 110. The upper stage 200 sucks and holds the first substrate 10 by vacuum suction / electrostatic suction. The second substrate 20 is held on the lower stage 300 provided in the lower chamber unit 120. The lower stage 300 holds the second substrate 20 by a vacuum suction method. The substrate adsorption method may be an adhesive method, and the above-described adsorption methods may be combined as appropriate.

図4(b)に示すように、上部チャンバユニット110が下降し、下部チャンバユニット120に当接することで、チャンバユニット100が、密閉される。密閉されたチャンバユニット100内が、排気口400を介して減圧装置600によって減圧される。チャンバユニット100内が減圧され、第1基板10および第2基板20の表面に付着したガスおよび水分が、除去(脱気)される。   As shown in FIG. 4B, the upper chamber unit 110 descends and comes into contact with the lower chamber unit 120, whereby the chamber unit 100 is sealed. The inside of the sealed chamber unit 100 is decompressed by the decompression device 600 via the exhaust port 400. The pressure in the chamber unit 100 is reduced, and the gas and moisture attached to the surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20 are removed (degassed).

チャンバユニット100内を減圧する時に、上部ステージ200の傾斜が制御される。上部ステージ200に設けられた傾斜検知部500が、センサ装置510から、基準マーク520までの距離を測定し、上部ステージ200と下部ステージ300との垂直方向の相対的な位置ずれを計測する。計測された相対的な位置ずれ結果に基づいて、制御部700が上部ステージ200の傾斜を制御する。   When the pressure in the chamber unit 100 is reduced, the inclination of the upper stage 200 is controlled. An inclination detection unit 500 provided on the upper stage 200 measures the distance from the sensor device 510 to the reference mark 520, and measures the relative positional deviation between the upper stage 200 and the lower stage 300 in the vertical direction. Based on the measured relative displacement result, the control unit 700 controls the inclination of the upper stage 200.

チャンバユニット100内の真空度が、所定の真空度に到達すると、昇降機構210により上部ステージ200が、アライメント調整位置まで下降する。第1基板10に設けられたアライメントマークおよび第2基板20に設けられたアライメントマークを、アライメント用カメラ(不図示)によってそれぞれ撮像することにより、第1基板10と第2基板20の水平方向における相対的な位置ずれを計測する。計測された相対的な位置ずれが解消されるように、下部ステージ300を駆動部320によって水平方向に移動させる。   When the degree of vacuum in the chamber unit 100 reaches a predetermined degree of vacuum, the upper stage 200 is lowered to the alignment adjustment position by the elevating mechanism 210. The alignment mark provided on the first substrate 10 and the alignment mark provided on the second substrate 20 are respectively imaged by an alignment camera (not shown), whereby the first substrate 10 and the second substrate 20 in the horizontal direction. Measure relative displacement. The lower stage 300 is moved in the horizontal direction by the drive unit 320 so that the measured relative displacement is eliminated.

昇降機構210により上部ステージ200を更に下降させ、第1基板10を液晶40、シール材を介して第2基板20に一定時間押しつける。その後、第1基板10の第2基板20への押しつけを解除する。次に、上部ステージ200の第1基板10への保持を解除し、上部ステージ200を昇降機構210によって上昇させる。   The upper stage 200 is further lowered by the elevating mechanism 210, and the first substrate 10 is pressed against the second substrate 20 through the liquid crystal 40 and the sealing material for a predetermined time. Thereafter, the pressing of the first substrate 10 against the second substrate 20 is released. Next, the holding of the upper stage 200 on the first substrate 10 is released, and the upper stage 200 is raised by the lifting mechanism 210.

図4(c)に示すように、気体供給装置800によりチャンバユニット100内に気体を供給し、チャンバユニット100内を大気圧に戻す。その後、上部チャンバユニット110を上昇させる。下部ステージ300による第2基板20への保持を解除し、第1基板10および第2基板20が貼り合わされた、貼り合わせ後の基板30を取り出す。   As shown in FIG. 4C, gas is supplied into the chamber unit 100 by the gas supply device 800, and the inside of the chamber unit 100 is returned to atmospheric pressure. Thereafter, the upper chamber unit 110 is raised. The holding on the second substrate 20 by the lower stage 300 is released, and the bonded substrate 30 on which the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded is taken out.

図5は、貼り合わせ後の基板に気泡が発生している状態を説明する図である。図5に示すように、貼り合わせ後の基板30においては、複数の同一パターンの第1表示体31が形成されている。第1表示体31は、CFマザー基板に形成されたCF基板とTFTマザー基板に形成されたTFT基板が液晶40およびシール材を介して貼り合わされたものである。貼り合わせ後の基板30のA側(図5中の左側)で気泡50が発生している。気泡の表示不良は、貼り合わせ後検査工程、液晶表示基板製造後の検査工程にて検知される。   FIG. 5 is a diagram illustrating a state in which bubbles are generated on the substrates after bonding. As shown in FIG. 5, a plurality of first display bodies 31 having the same pattern are formed on the bonded substrate 30. The first display body 31 is obtained by bonding a CF substrate formed on a CF mother substrate and a TFT substrate formed on the TFT mother substrate through a liquid crystal 40 and a sealing material. Bubbles 50 are generated on the A side (left side in FIG. 5) of the substrate 30 after being bonded. The display defect of bubbles is detected in an inspection process after bonding and an inspection process after manufacturing the liquid crystal display substrate.

チャンバユニット100内を減圧する時に、CFマザー基板およびTFTマザー基板の表面に付着したガスや水分が十分に除去されない場合に、気泡が発生する場合がある。第1表示体31内に、除去されずに残存するガスや水分が気泡として現れる。ガスや水分の除去能力の差は、チャンバユニット100内の減圧時の排気のバランスによって生じる。本実施の形態においては、貼り合わせ後の基板30の第1表示体31は、全て同じ大きさであるため、第1基板10および第2基板20の表面から、ガスや水分を均一に除去することで、気泡の発生を防止することができる。そのため、排気の状態がチャンバユニット100内で均一となるように調整する必要がある。   When the pressure inside the chamber unit 100 is reduced, bubbles may be generated when the gas and moisture attached to the surfaces of the CF mother substrate and the TFT mother substrate are not sufficiently removed. In the first display body 31, gas and moisture remaining without being removed appear as bubbles. The difference in the ability to remove gas and moisture is caused by the balance of exhaust during decompression in the chamber unit 100. In the present embodiment, since the first display bodies 31 of the substrates 30 after bonding are all the same size, gas and moisture are uniformly removed from the surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20. Thus, the generation of bubbles can be prevented. Therefore, it is necessary to adjust the exhaust state so that it is uniform in the chamber unit 100.

図6は、実施の形態1に係るチャンバユニット100内を減圧する時の排気の状態を説明する図である。図6に示すように、上部ステージ200の側面に、2つの傾斜検知部500が、設けられている。センサ装置510に対向する位置に排気口400が設けられており、排気口400には、基準マーク520が設けられている。センサ装置510から基準マーク520までの距離が一定となるように、基準マーク520は、それぞれ同一平面上に設けられている。   FIG. 6 is a diagram for explaining an exhaust state when the pressure in the chamber unit 100 according to Embodiment 1 is reduced. As shown in FIG. 6, two tilt detectors 500 are provided on the side surface of the upper stage 200. An exhaust port 400 is provided at a position facing the sensor device 510, and a reference mark 520 is provided in the exhaust port 400. The reference marks 520 are provided on the same plane so that the distance from the sensor device 510 to the reference mark 520 is constant.

なお、排気口400は、下部ステージ300の中心に対して対称となるように形成されていれば、センサ装置510の対向する位置に設けられている必要はない。基準マーク520は、排気口400に設けられている必要はなく、センサ装置510に対向する位置でありかつ互いに同一平面上に位置していれば良い。   If the exhaust port 400 is formed so as to be symmetric with respect to the center of the lower stage 300, it is not necessary to be provided at a position facing the sensor device 510. The reference mark 520 does not need to be provided in the exhaust port 400, and may be located at a position facing the sensor device 510 and on the same plane.

なお、図6に示すように、基準マーク520が下部ステージ300より下側に設けられることで、第1基板10および第2基板20を貼り合わせる際に、センサ装置510と基準マーク520が衝突することを防止することができる。   As shown in FIG. 6, since the reference mark 520 is provided below the lower stage 300, the sensor device 510 and the reference mark 520 collide when the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together. This can be prevented.

チャンバユニット100内の減圧時に、傾斜検知部500は、センサ装置510から、基準マーク520までの距離を測定し、上部ステージ200の両端における上部ステージ200と下部ステージ300との垂直方向の相対的な位置ずれを計測する。計測された相対的な位置ずれ結果が制御部700に送られる。制御部700は、相対的な位置ずれを解消するように上部ステージ200を制御する。すなわち、上部ステージ200は、下部ステージ300に対して実質的に平行となるように調整される。この結果、上部ステージ200に保持された第1基板10と下部ステージ300に保持された第2基板20とは平行になる。排気口400は、下部ステージ300の中心に対して、対称となるように2つ形成されているため、第1基板10と第2基板20とが平行になると、減圧時の排気能力が、矢印A1に示すようにチャンバユニット100内の両側(A側、B側)で均一になる。したがって、第1基板10および第2基板20の表面から除去されるガスおよび水分は、チャンバユニット100内のA側およびB側で均一になり、第1基板10と第2基板20とを貼り合わせた時に、気泡の発生を防止することができる。   When the pressure in the chamber unit 100 is reduced, the tilt detection unit 500 measures the distance from the sensor device 510 to the reference mark 520, and the vertical relationship between the upper stage 200 and the lower stage 300 at both ends of the upper stage 200 is measured. Measure misalignment. The measured relative displacement result is sent to the control unit 700. The controller 700 controls the upper stage 200 so as to eliminate the relative displacement. That is, the upper stage 200 is adjusted to be substantially parallel to the lower stage 300. As a result, the first substrate 10 held on the upper stage 200 and the second substrate 20 held on the lower stage 300 become parallel. Since the two exhaust ports 400 are formed so as to be symmetric with respect to the center of the lower stage 300, when the first substrate 10 and the second substrate 20 are parallel, the exhaust capability during decompression is indicated by an arrow. As shown in A1, it becomes uniform on both sides (A side, B side) in the chamber unit 100. Therefore, the gas and moisture removed from the surfaces of the first substrate 10 and the second substrate 20 are uniform on the A side and the B side in the chamber unit 100, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together. Generation of bubbles can be prevented.

図7は、気泡の発生率を示すグラフである。グラフの左側に傾斜検知部500を用いずに第1基板10と第2基板20とを貼り合わせた際の気泡の発生率を示す。グラフの右側に、傾斜検知部500を用いて、上部ステージ200の傾斜を調整し、第1基板10と第2基板20とを貼り合わせた際の気泡の発生率を示す。傾斜検知部500を用いて、上部ステージ200の傾斜を調整し、第1基板10と第2基板20とを貼り合わせた際の気泡の発生率は、傾斜検知部500を用いずに第1基板10と第2基板20とを貼り合わせた際の発生率に比べて、約5%低くなっている。   FIG. 7 is a graph showing the bubble generation rate. On the left side of the graph, the bubble generation rate when the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together without using the inclination detection unit 500 is shown. On the right side of the graph, the incidence rate of bubbles when the inclination of the upper stage 200 is adjusted using the inclination detection unit 500 and the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together is shown. The inclination rate of the upper stage 200 is adjusted using the inclination detection unit 500, and the bubble generation rate when the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together is the first substrate without using the inclination detection unit 500. Compared to the rate of occurrence when 10 and the second substrate 20 are bonded together, it is about 5% lower.

(実施の形態2)
実施の形態2に係る表示基板貼り合わせ装置1は、チャンバユニット100内を減圧する時に、上部ステージ200が下部ステージ300に対して傾斜するように制御される点で、実施の形態1と構成が異なる。
(Embodiment 2)
The display substrate bonding apparatus 1 according to the second embodiment is configured in the same manner as in the first embodiment in that the upper stage 200 is controlled to be inclined with respect to the lower stage 300 when the inside of the chamber unit 100 is decompressed. Different.

図8は、貼り合わせ後の基板に滴下跡が発生している状態を説明する図である。図8に示すように、貼り合わせ後の基板30には、互いに異なるパターンを有する第1表示体31および第2表示体32がそれぞれ形成されている。第1表示体31および第2表示体32は、CFマザー基板に形成されたCF基板とTFTマザー基板に形成されたTFT基板とが液晶40およびシール材を介して貼り合わされたものである。   FIG. 8 is a diagram for explaining a state in which dripping marks are generated on the substrates after bonding. As shown in FIG. 8, a first display body 31 and a second display body 32 having different patterns are formed on the substrate 30 after bonding. The first display body 31 and the second display body 32 are obtained by bonding a CF substrate formed on a CF mother substrate and a TFT substrate formed on the TFT mother substrate through a liquid crystal 40 and a sealing material.

第1表示体31のサイズは、第2表示体32のサイズよりも小さい。第1表示体31および第2表示体32は、貼り合わせ後の基板30のA側(図8中の左側)からB側(図8中の右側)にかけて交互に並んでいる。貼り合わせ後の基板30のA側で、液晶40の滴下跡60が見えている。液晶40の滴下跡60による不良は、貼り合わせ後検査工程、液晶表示基板製造後検査工程で検知される。   The size of the first display body 31 is smaller than the size of the second display body 32. The first display body 31 and the second display body 32 are alternately arranged from the A side (left side in FIG. 8) to the B side (right side in FIG. 8) of the substrate 30 after bonding. A dripping trace 60 of the liquid crystal 40 is visible on the A side of the substrate 30 after bonding. The defect due to the dropping trace 60 of the liquid crystal 40 is detected in the post-bonding inspection process and the liquid crystal display substrate manufacturing inspection process.

液晶40の滴下跡60は、液晶40が滴下された部分と滴下されていない部分との表面状態の違いによって発生する場合がある。第1基板10に液晶40を滴下する前に、第1基板10の表面にはガスや水分が付着している。チャンバユニット内を減圧する時に、第1基板10の表面において、液晶40が滴下されていない部分からはガスおよび水分が除去されやすい。逆に液晶40が滴下されている部分からは、液晶40が障害となり、ガスおよび水分が除去されにくい。ガスおよび水分を除去した後の第1基板10の表面状態が、液晶40が滴下された部分と、液晶40が滴下されていない部分とで顕著に異なる場合に、液晶40の滴下跡60が見えやすくなる。   The dropping trace 60 of the liquid crystal 40 may be generated due to a difference in surface state between a portion where the liquid crystal 40 is dropped and a portion where the liquid crystal 40 is not dropped. Before the liquid crystal 40 is dropped on the first substrate 10, gas and moisture are attached to the surface of the first substrate 10. When the pressure inside the chamber unit is reduced, gas and moisture are easily removed from the portion of the surface of the first substrate 10 where the liquid crystal 40 is not dropped. On the contrary, the liquid crystal 40 becomes an obstacle from the portion where the liquid crystal 40 is dripped, and it is difficult to remove gas and moisture. When the surface state of the first substrate 10 after removing the gas and moisture is significantly different between the portion where the liquid crystal 40 is dropped and the portion where the liquid crystal 40 is not dropped, the dripping trace 60 of the liquid crystal 40 can be seen. It becomes easy.

滴下される液晶40の量は、TFT基板およびCF基板サイズを考慮して、決定される。したがって、第1表示体31のサイズと第2表示体32のサイズとが異なる場合には、第1表示体31の液晶40の量と第2表示体32の液晶40の量が異なる。すなわち、第1基板10のA側とB側とで滴下される液晶40の量が異なる。   The amount of liquid crystal 40 to be dropped is determined in consideration of the TFT substrate and the CF substrate size. Therefore, when the size of the first display body 31 and the size of the second display body 32 are different, the amount of the liquid crystal 40 of the first display body 31 and the amount of the liquid crystal 40 of the second display body 32 are different. That is, the amount of liquid crystal 40 dropped on the A side and the B side of the first substrate 10 is different.

このため、第1基板10のA側およびB側の排気の状態が同じであると、ガスおよび水分が除去される速さがA側とB側とで異なり、滴下跡60が見えやすくなる。したがって、A側とB側で排気のバランスを調整する必要が生じる。本実施の形態においては、滴下跡が検知された側で、液晶40が滴下された部分と滴下されていない部分との表面状態の差が軽減されるように、排気能力を弱める必要がある。   For this reason, if the exhaust states on the A side and the B side of the first substrate 10 are the same, the speed at which the gas and moisture are removed differs between the A side and the B side, and the drip trace 60 is easily visible. Therefore, it is necessary to adjust the exhaust gas balance between the A side and the B side. In the present embodiment, it is necessary to weaken the exhaust capability so that the difference in the surface state between the portion where the liquid crystal 40 is dropped and the portion where the liquid crystal 40 is not dropped is reduced on the side where the drop mark is detected.

図9は、チャンバユニット内の減圧時の排気の状態を説明する図である。図9に示すように、チャンバユニット100内の減圧時に、傾斜検知部500は、センサ装置510から、基準マーク520までの距離を測定し、上部ステージ200と下部ステージ300との垂直方向の相対的な位置ずれを計測する。計測された相対的な位置ずれ結果が制御部700に送られる。制御部700は、下部ステージ300に対してA側(図9中の左側)が近づき、B側(図9中の右側)が遠のくように、上部ステージ200を傾斜させる。A側の第1基板10と第2基板20との隙間が、B側の第1基板10と第2基板20との隙間よりも小さくなる。チャンバユニット100内のA側において、矢印A2に示すように排気が弱くなり、B側において、矢印A3が示すように排気が強くなる。この結果、第1基板10のA側およびB側で、除去されるガスおよび水分を調整することができ、液晶40の滴下跡60は見えにくくなる。   FIG. 9 is a view for explaining the state of exhaust during decompression in the chamber unit. As shown in FIG. 9, when the pressure in the chamber unit 100 is reduced, the tilt detection unit 500 measures the distance from the sensor device 510 to the reference mark 520, and the vertical relationship between the upper stage 200 and the lower stage 300 is measured. Measure misalignment. The measured relative displacement result is sent to the control unit 700. The control unit 700 tilts the upper stage 200 so that the A side (left side in FIG. 9) approaches the lower stage 300 and the B side (right side in FIG. 9) is further away. The gap between the first substrate 10 on the A side and the second substrate 20 is smaller than the gap between the first substrate 10 on the B side and the second substrate 20. On the A side in the chamber unit 100, the exhaust becomes weaker as indicated by the arrow A2, and on the B side, the exhaust becomes stronger as indicated by the arrow A3. As a result, the gas and moisture to be removed can be adjusted on the A side and B side of the first substrate 10, and the dripping trace 60 of the liquid crystal 40 becomes difficult to see.

(実施の形態3)
実施の形態3に係る貼り合わせ装置1は、実施の形態2の更なる変形例であるが、気泡50による不良が検知されたことに基づいて、上部ステージの傾斜を制御する点で、実施の形態2と異なる。
(Embodiment 3)
The bonding apparatus 1 according to the third embodiment is a further modification of the second embodiment. However, the bonding apparatus 1 according to the third embodiment is different from the second embodiment in that the inclination of the upper stage is controlled based on the detection of the defect due to the bubbles 50. Different from Form 2.

図10は、貼り合わせ後の基板の状態を説明する図である。図10に示すように、貼り合わせ後の基板30のB側(図10中の右側)の第2表示体32にて気泡50が発生している。気泡50による不良は、貼り合わせ後検査工程、液晶表示基板製造後検査工程で検知される。   FIG. 10 is a diagram illustrating the state of the substrates after bonding. As shown in FIG. 10, bubbles 50 are generated in the second display body 32 on the B side (right side in FIG. 10) of the substrate 30 after bonding. Defects due to the bubbles 50 are detected in an inspection process after bonding and an inspection process after manufacturing the liquid crystal display substrate.

上述のように、チャンバユニット100内の減圧時に除去されずに残存するガスや水分が、気泡50として現れる。したがって、本実施の形態においては、気泡50が発生した側で、排気能力を高める必要がある。   As described above, the gas and moisture remaining without being removed when the pressure in the chamber unit 100 is reduced appear as the bubbles 50. Therefore, in the present embodiment, it is necessary to increase the exhaust capacity on the side where the bubbles 50 are generated.

チャンバユニット100内の減圧時において、下部ステージ300に対してA側(図9中の左側)が近づき、B側(図9中の右側)が遠のくように、上部ステージ200を傾斜させる。B側の第1基板10と第2基板20との隙間が、A側の第1基板10と第2基板との隙間よりも大きくなる。その結果、チャンバユニット100内のA側で排気が弱くなり、B側で排気が強くなる。この結果、第1基板10のA側およびB側で、除去されるガスおよび水分を調整することができ、気泡による不良の発生を防止することができる。   When the pressure in the chamber unit 100 is reduced, the upper stage 200 is tilted so that the A side (left side in FIG. 9) approaches the lower stage 300 and the B side (right side in FIG. 9) is further away. The gap between the first substrate 10 on the B side and the second substrate 20 is larger than the gap between the first substrate 10 on the A side and the second substrate. As a result, the exhaust becomes weak on the A side in the chamber unit 100 and the exhaust becomes strong on the B side. As a result, the gas and moisture to be removed can be adjusted on the A side and the B side of the first substrate 10, and the occurrence of defects due to bubbles can be prevented.

以上、本発明の実施の形態について説明したが、今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明は、表示基板貼り合わせ装置、表示基板貼り合わせ方法、表示基板製造方法に適用することができる。   The present invention can be applied to a display substrate bonding apparatus, a display substrate bonding method, and a display substrate manufacturing method.

1 表示基板貼り合わせ装置、10 第1基板、20 第2基板、30 貼り合わせ後の基板、31 第1表示体、32 第2表示体、40 液晶、50 気泡、60 滴下跡、100 チャンバユニット、110 上部チャンバユニット、111 板部、120 下部チャンバユニット、200 上部ステージ、210 昇降機構、211 カム、212 カムフォロア、213,310 支持部、300 下部ステージ、320 駆動部、400 排気口、410 配管、500 傾斜検知部、510 センサ装置、520 基準マーク、600 減圧装置、700 制御部、800 気体供給装置、900 架台。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display board | substrate bonding apparatus, 10 1st board | substrate, 20 2nd board | substrate, 30 board | substrate after bonding, 31 1st display body, 32 2nd display body, 40 liquid crystal, 50 bubble, 60 dripping trace, 100 chamber unit, 110 Upper chamber unit, 111 plate part, 120 Lower chamber unit, 200 Upper stage, 210 Elevating mechanism, 211 Cam, 212 Cam follower, 213, 310 Support part, 300 Lower stage, 320 Drive part, 400 Exhaust port, 410 Piping, 500 Tilt detection unit, 510 sensor device, 520 reference mark, 600 decompression device, 700 control unit, 800 gas supply device, 900 frame.

Claims (14)

チャンバユニットと、
前記チャンバユニット内に設けられ、第1基板を保持する第1ステージと、
前記チャンバユニット内における前記第1ステージに対向する位置に設けられ、第2基板を保持する第2ステージとを備え、
前記第1ステージが前記第2ステージに向けて移動し、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる基板貼り合わせ装置であって、
前記第1ステージおよび前記第2ステージが並ぶ方向から見たときに、前記チャンバユニットにおける前記第1ステージおよび前記第2ステージの両側に位置する複数の排気口と、
前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する制御部とを備え、
前記制御部は、前記複数の排気口から前記チャンバユニット内の気体を排出して前記チャンバユニット内を減圧する時に、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整して、前記第1基板と前記第2基板との隙間を調整する、表示基板貼り合わせ装置。
A chamber unit;
A first stage provided in the chamber unit and holding a first substrate;
A second stage that is provided at a position facing the first stage in the chamber unit and holds a second substrate;
A substrate laminating apparatus for laminating the first substrate and the second substrate, wherein the first stage moves toward the second stage;
A plurality of exhaust ports located on both sides of the first stage and the second stage in the chamber unit when viewed from the direction in which the first stage and the second stage are arranged;
A control unit for controlling the inclination of the first stage or the second stage,
The control unit adjusts an inclination of the first stage or the second stage when exhausting the gas in the chamber unit from the plurality of exhaust ports to depressurize the chamber unit, thereby controlling the first substrate or the second stage. And a display substrate bonding apparatus for adjusting a gap between the second substrate and the second substrate.
前記制御部は、前記第1基板と前記第2基板とが平行になるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する、請求項1に記載の表示基板貼り合わせ装置。   The display substrate bonding apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls an inclination of the first stage or the second stage so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other. 前記制御部は、前記第1基板および前記第2基板の一方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間と、前記第1基板および前記第2基板の他方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間とを異ならせるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する、請求項1に記載の表示基板貼り合わせ装置。   The control unit includes a gap between the first substrate and the second substrate at one end portion of the first substrate and the second substrate, and the other end portion of the first substrate and the second substrate. The display substrate bonding apparatus according to claim 1, wherein an inclination of the first stage or the second stage is controlled so that a gap between the first substrate and the second substrate is different. 前記表示基板貼り合わせ装置は、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を検知する傾斜検知部を備え、
前記傾斜検知部は、
前記第1ステージまたは前記第2ステージの側面から突出するように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの中心に対して対称となる位置に配置された一対のセンサ装置と、
前記センサ装置に対向する位置に配置された一対の基準マークとを含み、
前記傾斜検知部は、前記一対のセンサ装置から前記一対の基準マークまでの距離を測定することによって前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を検知し、
前記制御部は、前記傾斜検知部による検知結果に基づいて前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の表示基板貼り合わせ装置。
The display substrate bonding apparatus includes an inclination detection unit that detects an inclination of the first stage or the second stage,
The inclination detector is
A pair of sensor devices arranged at positions symmetrical to the center of the first stage or the second stage so as to protrude from the side surface of the first stage or the second stage;
A pair of reference marks arranged at positions facing the sensor device;
The tilt detection unit detects the tilt of the first stage or the second stage by measuring a distance from the pair of sensor devices to the pair of reference marks,
The display substrate bonding apparatus according to claim 1, wherein the control unit controls the tilt of the first stage or the second stage based on a detection result by the tilt detection unit.
前記複数の排気口の内部に前記一対の基準マークが設けられる、請求項4に記載の表示基板貼り合わせ装置。   The display substrate bonding apparatus according to claim 4, wherein the pair of reference marks are provided inside the plurality of exhaust ports. チャンバユニット内に設けられた第1ステージによって第1基板を保持する工程と、
前記チャンバユニット内において前記第1ステージに対向する第2ステージによって第2基板を保持する工程と、
前記第1ステージおよび前記第2ステージが並ぶ方向から見たときに、前記第1ステージおよび前記第2ステージの両側に位置する複数の排気口から、前記チャンバユニット内の気体を排出して、前記チャンバユニット内を減圧する工程と、
前記第1ステージを前記第2ステージに向けて移動させる工程とを備え、
前記減圧する工程は、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整して、前記第1基板と前記第2基板との隙間を調整することを含む、表示基板貼り合わせ方法。
Holding the first substrate by a first stage provided in the chamber unit;
Holding the second substrate by a second stage facing the first stage in the chamber unit;
When viewed from the direction in which the first stage and the second stage are arranged, the gas in the chamber unit is discharged from a plurality of exhaust ports located on both sides of the first stage and the second stage, and Reducing the pressure in the chamber unit;
A step of moving the first stage toward the second stage,
The display substrate bonding method, wherein the depressurizing step includes adjusting a gap between the first substrate and the second substrate by adjusting an inclination of the first stage or the second stage.
前記第1基板と前記第2基板とが平行になるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整する、請求項6に記載の表示基板貼り合わせ方法。   The display substrate bonding method according to claim 6, wherein an inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other. 前記第1基板および前記第2基板の一方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間と、前記第1基板および前記第2基板の他方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間とを異ならせるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整する、請求項6に記載の表示基板貼り合わせ方法。   The gap between the first substrate and the second substrate at one end of the first substrate and the second substrate, the first substrate at the other end of the first substrate and the second substrate, and the The display substrate bonding method according to claim 6, wherein an inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that a gap with the second substrate is different. 貼り合わされて表示基板を構成する第1基板および第2基板を準備する工程と、
チャンバユニット内に設けられた第1ステージによって前記第1基板を保持する工程と、
前記チャンバユニット内において前記第1ステージに対向する第2ステージによって前記第2基板を保持する工程と、
前記第1ステージおよび前記第2ステージが並ぶ方向から見たときに、前記第1ステージおよび前記第2ステージの両側に位置する複数の排気口から、前記チャンバユニット内の気体を排出して、前記チャンバユニット内を減圧する工程と、
前記第1ステージを前記第2ステージに向けて移動させる工程とを備え、
前記減圧する工程は、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整して、前記第1基板と前記第2基板との隙間を調整することを含む、表示基板の製造方法。
Preparing a first substrate and a second substrate that are bonded together to form a display substrate;
Holding the first substrate by a first stage provided in the chamber unit;
Holding the second substrate by a second stage facing the first stage in the chamber unit;
When viewed from the direction in which the first stage and the second stage are arranged, the gas in the chamber unit is discharged from a plurality of exhaust ports located on both sides of the first stage and the second stage, and Reducing the pressure in the chamber unit;
A step of moving the first stage toward the second stage,
The step of depressurizing includes adjusting the inclination of the first stage or the second stage to adjust the gap between the first substrate and the second substrate.
貼り合わされた前記第1基板および前記第2基板を分断して、同一パターンを有する複数の貼り合わせ基板を作製する工程を備え、
前記第1基板と前記第2基板とが平行になるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整する、請求項9に記載の表示基板の製造方法。
A step of dividing the bonded first substrate and the second substrate to produce a plurality of bonded substrates having the same pattern;
The method for manufacturing a display substrate according to claim 9, wherein an inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that the first substrate and the second substrate are parallel to each other.
貼り合わされた前記第1基板および前記第2基板を分断して、互いに異なるパターンを各々有する複数の貼り合わせ基板を作製する工程を備え、
前記第1基板および前記第2基板の一方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間と、前記第1基板および前記第2基板の他方の端部における前記第1基板と前記第2基板との隙間とを異ならせるように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整する、請求項9に記載の表示基板の製造方法。
A step of dividing the bonded first substrate and the second substrate to produce a plurality of bonded substrates each having a different pattern;
The gap between the first substrate and the second substrate at one end of the first substrate and the second substrate, the first substrate at the other end of the first substrate and the second substrate, and the The method for manufacturing a display substrate according to claim 9, wherein an inclination of the first stage or the second stage is adjusted so that a gap with the second substrate is different.
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせて作製した貼り合わせ基板における滴下跡または気泡を検知する工程を備え、
前記滴下跡または前記気泡の検知結果に基づいて、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を調整する、請求項9ないし11のいずれかに記載の表示基板の製造方法。
A step of detecting dripping marks or bubbles in a bonded substrate produced by bonding the first substrate and the second substrate;
The method for manufacturing a display substrate according to claim 9, wherein an inclination of the first stage or the second stage is adjusted based on the dropping trace or the detection result of the bubbles.
検知された前記滴下跡の多い側において、前記第1基板と前記第2基板との隙間を小さくするように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する、請求項12に記載の表示基板の製造方法。   The tilt of the first stage or the second stage is controlled so as to reduce a gap between the first substrate and the second substrate on the side where the detected dripping trace is large. Manufacturing method of display substrate. 検知された前記気泡の多い側において、前記第1基板と前記第2基板との隙間を大きくするように、前記第1ステージまたは前記第2ステージの傾斜を制御する、請求項12に記載の表示基板の製造方法。   The display according to claim 12, wherein an inclination of the first stage or the second stage is controlled so as to increase a gap between the first substrate and the second substrate on the detected bubble-rich side. A method for manufacturing a substrate.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016151646A (en) * 2015-02-17 2016-08-22 クライムプロダクツ株式会社 Display panel sticking device and sticking method
JP2020074324A (en) * 2014-07-25 2020-05-14 株式会社半導体エネルギー研究所 Method for manufacturing laminated structure
JP2020104258A (en) * 2020-02-05 2020-07-09 Aiメカテック株式会社 Substrate assembling device, substrate assembling system using the device, and substrate assembling method using the system

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020074324A (en) * 2014-07-25 2020-05-14 株式会社半導体エネルギー研究所 Method for manufacturing laminated structure
US11437601B2 (en) 2014-07-25 2022-09-06 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of light-emitting semiconductor device with a plurality of spacers between two substrates
JP2016151646A (en) * 2015-02-17 2016-08-22 クライムプロダクツ株式会社 Display panel sticking device and sticking method
WO2016132582A1 (en) * 2015-02-17 2016-08-25 クライムプロダクツ株式会社 Bonding device and bonding method for display panel
JP2020104258A (en) * 2020-02-05 2020-07-09 Aiメカテック株式会社 Substrate assembling device, substrate assembling system using the device, and substrate assembling method using the system

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