JP2013244475A - Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method - Google Patents
Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013244475A JP2013244475A JP2012121438A JP2012121438A JP2013244475A JP 2013244475 A JP2013244475 A JP 2013244475A JP 2012121438 A JP2012121438 A JP 2012121438A JP 2012121438 A JP2012121438 A JP 2012121438A JP 2013244475 A JP2013244475 A JP 2013244475A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed
- rotation
- temperature
- centrifuge
- revolution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 title claims description 31
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 175
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 29
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 36
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 19
- 238000007710 freezing Methods 0.000 claims description 6
- 230000008014 freezing Effects 0.000 claims description 6
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 4
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 9
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000003479 dental cement Substances 0.000 description 1
- 239000002978 dental impression material Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000006072 paste Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Crushing And Grinding (AREA)
- Mixers With Rotating Receptacles And Mixers With Vibration Mechanisms (AREA)
Abstract
Description
本発明は、被処理材料を公転させながら自転させることによって処理する遠心機、及び処理方法に関する。併せて、本発明は、遠心機に用いられる制御機構に関する。 The present invention relates to a centrifuge for processing by rotating a material to be processed while rotating, and a processing method. In addition, the present invention relates to a control mechanism used in a centrifuge.
収納容器を公転させながら自転させることによって、当該収納容器に収納された被処理材料を処理する遠心機(自転公転式の遠心機)が知られている。この遠心機は、例えば特許文献1にあるように撹拌脱泡装置として利用され、被処理材料の撹拌処理と脱泡処理とを同時に行う。又、この遠心機は、被処理材料を粉砕するボールミル(特許文献2参照)、更には、被処理材料を乳化する乳化装置(特許文献3参照)等として利用される。 2. Description of the Related Art There is known a centrifuge (rotation and revolution type centrifuge) that processes a material to be processed stored in the storage container by rotating the storage container while revolving. This centrifuge is used as a stirring and defoaming device as disclosed in Patent Document 1, for example, and simultaneously performs a stirring process and a defoaming process on a material to be processed. The centrifuge is used as a ball mill for pulverizing the material to be processed (see Patent Document 2), an emulsifying device for emulsifying the material to be processed (see Patent Document 3), and the like.
ここで、遠心機においては、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受ける場合がある。 Here, in a centrifuge, a material to be processed and a storage container that stores the material to be processed may be damaged by a temperature rise based on heat generated by processing the material to be processed.
本発明は、上記事情を鑑みなされたものであって、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる遠心機を提供することを目的とする。併せて、本発明は、遠心機に用いられる制御機構、及び被処理材料の処理方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and prevents the material to be processed and the storage container for storing the material to be damaged from being damaged by a temperature rise based on heat generated by processing the material to be processed. An object of the present invention is to provide a centrifuge that can be used. In addition, an object of the present invention is to provide a control mechanism used in a centrifuge and a method for processing a material to be processed.
本発明の一つの実施態様は、
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御部と、
を備える遠心機を提供する。
One embodiment of the present invention is:
A revolution body rotatable around the revolution axis,
A rotating body that is held by the revolution body and is rotatable about a rotation axis;
A storage container that rotates together with the rotating body and stores a material to be processed;
A drive unit for rotating the revolution body and the rotation body;
A detection unit for detecting temperature information;
When the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is determined to be equal to or higher than the upper limit based on the temperature information detected by the detection unit, the rotation of the rotating body in a state where the revolution body is rotated. A first control unit that controls the drive unit so that the speed becomes a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation of the rotating body stops.
A centrifuge is provided.
この遠心機は、第1制御部により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本遠心機は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 In this centrifuge, the first control unit can promote the temperature drop of the material to be processed and the storage member that stores the material to be processed. Thereby, this centrifuge can prevent that the to-be-processed material and the storage container which stores the to-be-processed material receive a damage by the temperature rise based on the heat | fever generate | occur | produced by the process of to-be-processed material.
この遠心機において、
更に、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第2制御部を備えてもよい。
In this centrifuge,
Furthermore, based on the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of the material to be processed and the storage container is lower than the lower limit, the rotation speed of the revolution body and the rotation body is the normal rotation speed. As such, a second control unit that controls the drive unit may be provided.
この遠心機において、
前記第1制御部は、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御するものであってもよい。
In this centrifuge,
When the first control unit determines that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value based on the temperature information detected by the detection unit, the rotation speed of the revolution body is normally You may control the said drive part so that it may become a rotational speed different from a rotational speed.
この遠心機において、
前記自転体は、前記公転体が前記公転軸線を中心に回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられてもよい。
In this centrifuge,
The rotating body has a rotating body body provided with an inflow / outflow portion for allowing the heat medium to flow into and out of the hollow portion by rotating the revolving body about the revolving axis.
The storage container is disposed in a hollow portion of the rotating body,
The inflow / outflow portion may be provided on a wall surface of the rotation body main body that can face upstream or downstream in the rotation direction of the revolution body.
この遠心機において、
更に、前記公転体の回転する領域を含む空間を区画する区画体と、
前記区画体内を満たす前記熱媒体の温度を氷点下以下とすることが可能な温調機と、
を備えてもよい。
In this centrifuge,
Furthermore, a partition body that partitions a space including a region where the revolution body rotates,
A temperature controller capable of setting the temperature of the heat medium filling the compartment to below freezing point;
May be provided.
この遠心機において、
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体の中空部に向かって突出する凸状体を備えてもよい。
In this centrifuge,
Furthermore, you may provide the convex-shaped body which protrudes toward the hollow part of the said division body from the wall surface of the said division body.
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御部
を備える制御機構を提供する。
Another embodiment of the present invention is:
A control mechanism used in a centrifuge that includes a drive unit that rotates around a rotation axis while rotating a storage container that stores a material to be processed around a rotation axis, and a detection unit that detects temperature information. ,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A control mechanism comprising one control unit is provided.
この制御機構は、第1制御部により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本制御機構は、遠心機において、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる In this control mechanism, the first control unit can promote a decrease in the temperature of the material to be processed and the storage member that stores the material to be processed. Thereby, this control mechanism can prevent that the processing material and the storage container storing the processing material are damaged by the temperature rise based on the heat generated by the processing of the processing material in the centrifuge.
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備えて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御を行う処理方法を提供する。
Another embodiment of the present invention is:
A process for processing the material to be processed, comprising: a drive unit for rotating the storage container storing the material to be processed around the revolution axis while rotating the container about the rotation axis; and a detection unit for detecting temperature information. A method,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A processing method for performing one control is provided.
この処理方法は、第1制御を行うことで、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本処理方法は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 This processing method can promote the fall of the temperature of the material to be processed and the storage member for storing the material to be processed by performing the first control. Thereby, this processing method can prevent that a to-be-processed material and the storage container which stores a to-be-processed material receive damage by the temperature rise based on the heat | fever which generate | occur | produces by the process of a to-be-processed material.
本発明によれば、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる遠心機、遠心機に用いられる制御機構、及び被処理材料の処理方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it uses for the centrifuge and centrifuge which can prevent to-be-processed material and the storage container which stores a to-be-processed material being damaged by the temperature rise based on the heat which generate | occur | produces by the process of to-be-processed material. A control mechanism and a method for processing a material to be processed can be provided.
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。すなわち、以下の実施の形態で説明するすべての構成が本発明にとって必須であるとは限らない。又、本発明は、以下の内容を自由に組み合わせたもの、又、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更を加えたものを含む。 Embodiments to which the present invention is applied will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments. That is, all the configurations described in the following embodiments are not necessarily essential to the present invention. Further, the present invention includes those in which the following contents are freely combined and those in which changes are made without departing from the gist of the present invention.
(1)遠心機1の構成
以下、本実施の形態に係る遠心機1の構成について、図面を参照して説明する。遠心機1は、図1に示すように、回転軸10と、回転軸10に固定された公転体20と、公転体20に取り付けられる自転体30、及びバランス錘40と、自転体30と共に回転する収納容器50と、公転体20と自転体30とを回転させる駆動部60と、被処理材料Mの温度情報を検知する検知部70と、公転体20の回転する領域を含む空間を区画する区画体80と、被処理材料Mを温調する温調機90とを備える。更に遠心機1は、図2に示すように、当該遠心機1の動作を制御する制御機構100を備える。
(1) Configuration of Centrifuge 1 Hereinafter, the configuration of the centrifuge 1 according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the centrifuge 1 rotates together with the rotating shaft 10, the
又、遠心機1は、図1に示すように、区画体80等を支持する支持基板110、支持基板110を含む上記各構成を収納する筐体120を備える。更に、遠心機1は、支持基板110を支持して、その振動を防止するための、防振ワイヤや防振バネ等により構成される図示しない防振手段を備えてもよい。尚、遠心機1は、収納容器50に収納した被処理材料Mを処理するものであり、より具体的には、収納容器50を公転させながら自転させることによって、被処理材料Mを撹拌・脱泡、粉砕、乳化等するものである。
Further, as shown in FIG. 1, the centrifuge 1 includes a support substrate 110 that supports the
回転軸10は、図1に示すように、仮想の直線である公転軸線L1を中心に回転するように構成される。尚、回転軸10は、図示するように鉛直に伸びる公転軸線L1を中心に回転するように構成してよい。但し、回転軸10は、これに限定されるものでなく、例えば、水平に伸びる公転軸線L1を中心に回転するように構成してもよい。 As shown in FIG. 1, the rotating shaft 10 is configured to rotate around a revolution axis L1 that is a virtual straight line. In addition, you may comprise the rotating shaft 10 so that it may rotate centering on the revolution axis L1 extended perpendicularly so that it may show in figure. However, the rotating shaft 10 is not limited to this, and may be configured to rotate around the revolution axis L1 extending horizontally, for example.
公転体20は、図1に示すように、回転軸10に固定されて回転軸10と共に公転軸線L1を中心に回転する。この公転体20は、公転軸線L1に対し直交する一方向に延びて途中で屈曲する自転体30を取り付けるための第1アーム22と、第1アーム22と逆方向に延びてバランス錘40を取り付けるための第2アーム24とを備える。
As shown in FIG. 1, the
自転体30は、図1に示すように、有底形状で中空部31を有し、上端側が開口した自転体本体32と、自転体本体32の底部に取り付けられた自転軸34とを備える。又、自転体30は、自転軸34がベアリング36を介して、公転体20の第1アーム22に、より具体的には、当該第1アーム22の屈曲した部分を介して公転軸線L1から所定距離離れた位置に回転可能に取り付けられる。これにより、自転体30は、公転体20の回転に伴って、公転軸線L1を中心に公転することになる。併せて、自転体30は、公転体20を通る仮想の直線である自転軸線L2を中心に回転可能となる。
As shown in FIG. 1, the rotating body 30 has a bottomed shape and a hollow portion 31, and includes a rotating body
尚、自転体30は、第1アーム22の屈曲した部分を介して公転軸線L1から所定距離離れた位置に取り付けられることに基づき、その自転中心である自転軸線L2が公転軸線L1に対し所定の角度で斜めに交差する。この角度は限定されるものではないが、例えば、図示するように45度としてよい。又、自転体30は、第1アーム22に屈曲した部分を設けないことによって、その自転中心である自転軸線L2が公転軸線L1に対し交差しないように構成してもよい。
The rotation body 30 is attached to a position separated from the revolution axis L1 by a predetermined distance via the bent portion of the
自転体本体32は、図1に示すように、中空部31と当該自転体本体32の外部とを連通し、自転体本体32の外部を満たす熱媒体の中空部31への流入流出口として利用される流入流出部33を備える。尚、熱媒体は、空気、窒素ガス、ヘリウムガス等の気体であってよい。又、変形例として、熱媒体としては、オイル等の液体を使用することも想定される。
As shown in FIG. 1, the rotating body
流入流出部33は、公転体20の回転方向の上流又は下流に対向可能な自転体本体32の壁面に設けられる。即ち、本実施の形態において、流入流出部33は、自転軸線L2に対し直交する方向に位置した自転体本体32の壁面に設けられる。この流入流出部33は、任意の個数設けられるように構成してよい。
The inflow / outflow portion 33 is provided on the wall surface of the rotation body
バランス錘40は、図1に示すように、公転体20の第2アーム24に、公転軸線L1からの距離が変更可能に取り付けられている。このバランス錘40は、公転体20のバランスを調整するものであり、公転軸線L1からの距離を適宜調整することにより、遠心機1を安定して動作させる。
As shown in FIG. 1, the
収納容器50は、図1に示すように、底部を有する円筒状に形成されて、被処理材料Mを収納可能な本体部52と、本体部52の開口した部分を封止する蓋部54とを備える。
As shown in FIG. 1, the storage container 50 is formed in a cylindrical shape having a bottom, and a main body 52 that can store the material M to be processed, and a
本体部52は、樹脂、金属、ガラス、ジルコニア等の材質により構成される。この本体部52は、自転体30の自転体本体32の中空部31に、その底部側から挿入されることで、自転体本体32に装着されて、自転体本体32と共に公転軸線L1を中心に公転、かつ、自転軸線L2を中心に自転可能に構成される。又、本体部52は、自転体本体32への装着時、外周部から突出する凸部53が自転体本体32の上端と当接することで、図1に示すように、自転体本体32の底部と離間した状態となる。又、本体部52は、自転体本体32への装着時、当該本体部52の中心を通る仮想の直線である中心軸線が自転軸線L2と重なるように配置される。
The main body 52 is made of a material such as resin, metal, glass, zirconia. The main body 52 is inserted into the hollow portion 31 of the rotating body
尚、本体部52には、より確実に自転体本体32と共に回転できるように、自転体本体32に対し固定するための図示しない公知の固定機構等を設けてもよい。又、変形例として、本体部52は、自転体本体32への装着時、当該本体部52の前記中心軸線と自転軸線L2とが重ならないように配置してもよい。
The main body 52 may be provided with a known fixing mechanism (not shown) or the like for fixing to the
蓋部54は、本体部52の開口した部分に取り付けられて、図1に示すように、中蓋55と外蓋57とを含み構成される。外蓋57は、中蓋55を本体部52の開口した部分に取り付けた後に、例えば、本体部52と螺合できるようにする図示しないねじ機構を利用して、本体部52に取り付けられる。
The
駆動部60は、公転体20と自転体30とを回転させることで、収納容器50を、公転軸線L1を中心として公転させながら、自転軸線L2を中心として自転させるものであり、図1に示すように、モータ61、プーリー62、プーリー63、ベルト64、及び自転力付与機構65を備える。モータ61は、支持基板110に固定されており、その回転軸に固定されたプーリー62、回転軸10に固定されたプーリー63、プーリー62とプーリー63とに掛け回されるベルト64を利用して回転軸10に回転力を付与して公転体20を回転させることで、公転軸線L1を中心に収納容器50を公転させる。
The
自転力付与機構65は、自転体30の自転軸34に固定された自転歯車66と、回転軸10と同心になるように支持基板110に固定された自転力付与歯車67と、自転歯車66、及び自転力付与歯車67間で動力を伝達する自転動力伝達歯車68とを備える。自転動力伝達歯車68は、公転体20にベアリング69を介して回転可能に取り付けられており、自転歯車66と噛み合う第1歯車と、自転力付与歯車67と噛み合う第2歯車とが固定されることで構成される。
The rotation
上記構成を有することにより、自転力付与機構65は、自転動力伝達歯車68によって、自転歯車66、及び自転力付与歯車67の回転角速度が関連付けされるため、自転歯車66、及び自転力付与歯車67が遊星歯車機構と同様の挙動を示す。従って、自転力付与機構65は、モータ61により公転体20が回転する回転速度に応じた回転速度にて自転歯車66を回転させる。これにより、自転力付与機構65は、自転軸線L2を中心として収納容器50を自転させる。
With the above configuration, the rotation
検知部70は、図1に示すように、収納容器50に取り付けられて、収納容器50に収納された被処理材料Mの温度情報を検知する。この検知部70は、被処理材料Mに接触することでその温度情報を検知するものであってよく、図示するように、被処理材料Mと非接触にその温度情報を検知するものであってもよい。又、検知部70は、検知した被処理材料Mの温度情報を、赤外線通信等の無線回線、及び必要に応じて設けられるインターフェースユニットを介し、図2に示すCPU102に送る。
As shown in FIG. 1, the detection unit 70 is attached to the storage container 50 and detects temperature information of the processing material M stored in the storage container 50. The detection unit 70 may detect the temperature information by contacting the material to be processed M, and detect the temperature information in a non-contact manner with the material to be processed M as illustrated. Also good. Further, the detection unit 70 sends the detected temperature information of the material M to be processed to the
区画体80は、図1に示すように、有底形状で中空部81を有し、上端側が開口したものであり、前記開口した部分を開閉可能に取り付けられる蓋部82と、当該区画体80の壁面から中空部81に向かって突出した凸状体84とを備える。区画体80は、公転体20の回転する領域を含む空間を区画するものであり、蓋部82を開けることにより、自転体30の自転体本体32を露出させて、収納容器50を自転体本体32に着脱可能とする。又、区画体80は、温調機90により被処理材料Mが好適に温調できるように、熱伝導性の高い材料で構成される。
As shown in FIG. 1, the
凸状体84は、図1に示すように、公転軸線L1を中心とする円周と直交するように伸びる板状部材により構成されて、区画体80の底面に沿って伸びて、当該底面と接する底面部85と、区画体80の側面に沿って伸びて、当該側面と接する側面部86とにより構成される。
As shown in FIG. 1, the
尚、凸状体84は、任意の個数設けてよいが、例えば、等間隔に4個設けるように構成してよい。又、凸状体84は、変形例として、区画体80の底面に沿って伸びる底面部85のみにより構成してよく、区画体80の側面に沿って伸びる側面部86のみにより構成してもよい。又、変形例として、凸状体84は、公転軸線L1を中心とする円周と斜めに交差するように伸びる形状としてもよい。
Note that an arbitrary number of the
温調機90は、図1に示すように、水、オイル等の熱媒体(以下、「熱流体」という)の流路であって区画体80の外周に巻かれたパイプ状の熱交換部92と、熱流体の温度を調節する図示しない温調部と、当該温調部で温調された熱流体を熱交換部92内に循環させる図示しないポンプとを備える。この温調機90は、収納容器50に収納された被処理材料Mを温調すべく、熱交換部92内を流れる温調された熱流体と区画体80との間で熱交換を行わせる。これにより、温調機90は、区画体80内を満たす前記熱媒体を温調し、当該熱媒体を介して収納容器50と共に被処理材料Mを温調する。尚、温調機90は、被処理材料Mの種類等に応じて、上記のごとく、熱交換部92内に流す熱流体の温度を所定範囲で自在に前記温調部により調整可能である。但し、以下において、温調機90は、被処理材料Mを冷却することを目的としたものであるとして説明を行う。
As shown in FIG. 1, the
制御機構100は、図2に示すように、マイクロプロセッサ(CPU102)と、駆動部60の動作を制御する駆動制御部104と、温調機90の動作を制御する温調機制御部106とを備える。
As shown in FIG. 2, the control mechanism 100 includes a microprocessor (CPU 102), a
CPU102には、検知部70、ユーザが遠心機1を操作する際に使用する操作部107、公転体20の回転速度を検知する回転センサ108、及びユーザ向けに遠心機1の状態等を表示する表示部109が、有線又は無線回線、及び必要に応じた図示しないインターフェースユニットを介し接続される。このCPU102は、操作部107を介しユーザから入力された遠心機1の運転条件、検知部70、及び回転センサ108からの情報等に基づき、駆動制御部104及び温調機制御部106に指示を出すと共に、ユーザ向けに遠心機1の状態を示す情報を表示部109に表示させる。尚、CPU102は、図示しない記憶部を備えて、検知部70による被処理材料Mの温度情報、あらかじめ設定される遠心機1の運転条件等を記憶するように構成してもよい。
The
駆動制御部104は、CPU102からの指示に基づき、駆動部60の動作を制御する。例えば、モータ61としてインダクションモータを採用した場合において、駆動制御部104は、CPU102から指示された公転体20の回転速度を実現できるように、周波数を定めた交流電力をモータ61に供給する。温調機制御部106は、CPU102からの指示に基づき、温調機90の前記温調部の設定温度と、前記ポンプの動作とを制御する。回転センサ108は、自転体30の回転速度を検知するように構成してもよい。
The
(2)被処理材料M
本実施の形態に適用可能な被処理材料Mは、流体として挙動するものであればよく、その組成や用途は特に限定されるものではない。被処理材料Mとして、流体成分(樹脂等)のみを含む材料や、流体成分のほかに粒状成分(粉状成分)を含む材料などを適用することができる。被処理材料Mとして、例えば、接着剤、シーラント剤、液晶材料、LEDの蛍光体と樹脂とを含む混合材料、半田ペースト、歯科用印象材料、歯科用セメント(穴埋め剤等)、液状の薬剤等の種々の材料を適用することができる。又、被処理材料Mとして、粒状(粉状)材料と、これを粉砕するためのメディア(例えばジルコニアボール)を適用することも可能である。あるいは、被処理材料Mとして、乳化処理の対象となる流体を適用することも可能である。
(2) Material to be processed M
The material to be treated M applicable to the present embodiment is not particularly limited as long as it behaves as a fluid, and its composition and use are not particularly limited. As the material to be processed M, a material including only a fluid component (resin or the like), a material including a granular component (powder component) in addition to the fluid component, or the like can be applied. Examples of the material to be processed M include adhesives, sealants, liquid crystal materials, mixed materials including phosphors and resins of LEDs, solder pastes, dental impression materials, dental cements (such as hole filling agents), and liquid drugs. Various materials can be applied. Further, as the material to be processed M, a granular (powdered) material and a medium for pulverizing the material (for example, zirconia balls) can be applied. Alternatively, as the material to be processed M, it is possible to apply a fluid to be subjected to an emulsification process.
(3)被処理材料Mの処理方法
遠心機1における被処理材料Mの処理方法について、図3を参照して説明する。S1において、自転体30の自転体本体32には、被処理材料Mが収納された収納容器50がユーザにより装着される。
(3) Processing method of to-be-processed material M The processing method of the to-be-processed material M in the centrifuge 1 is demonstrated with reference to FIG. In S <b> 1, the storage container 50 in which the material to be processed M is stored is attached to the rotation body
S2において、ユーザが操作部107を介して入力すること等により設定された運転条件に基づき、遠心機1の運転が開始される。即ち、CPU102は、前記運転条件に基づく指示を駆動制御部104、及び温調機制御部106に対し行う。これにより、駆動制御部104は、CPU102から指示された公転体20の回転速度を実現するべく、駆動部60のモータ61を制御する。これにより、公転体20、及び自転体30は、被処理材料Mを処理するための通常の回転速度(以下、「通常回転速度」という)で回転する。従って、収納容器50は、通常回転速度にて、公転軸線L1を中心に公転しつつ、自転軸線L2を中心に自転するので、被処理材料Mの処理が行われる。又、温調機制御部106は、CPU102から指示に基づき、被処理材料Mを冷却すべく、前記温調部の設定温度と、前記ポンプの動作とを制御する。これにより、区画体80内を満たす前記熱媒体が冷却されるので、被処理材料Mは、当該熱媒体により収納容器50と共に冷却される。
In S <b> 2, the operation of the centrifuge 1 is started based on the operation condition set by the user inputting through the
ここで、遠心機1では、上記のように、温調機90により被処理材料Mを収納容器50と共に冷却している。しかし、収納容器50が公転軸線L1を中心に公転しつつ、自転軸線L2を中心に自転することで被処理材料Mに働く力による発熱により、被処理材料M、及び収納容器50の温度上昇が発生する場合がある。この際、被処理材料M、及び収納容器50の温度が、それらの劣化を生じさせる温度、又は劣化を促進させる温度を超えないようにしなければならない。そのため、S3において、CPU102は、検知部70が検知した被処理材料Mの温度情報に基づき、被処理材料Mの温度、及び被処理材料Mと略同温度となる被処理材料Mと触れている部分の収納容器50の温度が、それらを劣化させる温度、又は劣化を促進させる温度(以下、「上限値」という)以上となっているか否かを判断する。CPU102は、被処理材料Mと収納容器50との少なくとも一方の温度が上限値(この上限値は、安全性を考慮して、被処理材料Mや収納容器50を劣化等させる温度より所定温度低い温度とすることも許容される。)以上となっていると判断した場合において(S3にてY)、処理はS4に進む。又、CPU102が被処理材料M、及び収納容器50の温度が上限値以下であると判断した場合において(S3にてN)、処理はS7に進む。
Here, in the centrifuge 1, the material to be processed M is cooled together with the storage container 50 by the
S4において、CPU102が公転体20の回転速度を低下させるべく、駆動制御部104に指示を出す。これにより、駆動制御部104は、CPU102から指示された公転体20の回転速度を実現するべく、駆動部60のモータ61を制御する。この制御により、公転体20、及び自転体30の回転速度は低下する。
In S <b> 4, the
ここで、遠心機1では、公転体20、及び自転体30が、通常回転速度より低速な回転速度(以下、「低回転速度」という)で回転することで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。これは、公転体20、及び自転体30が低回転速度で回転している場合には、公転体20、及び自転体30が通常回転速度で回転している場合に比べ、被処理材料Mに働く力が小さくなるので発熱も小さくなる(この際、被処理材料Mの処理は、停止又は低速化される。)。更に、公転体20が低回転速度で回転することで、自転体30の自転体本体32の流入流出部33から、温調機90により温調された熱媒体が中空部31に流入し、収納容器50との間で熱交換を行った後、自転体本体32から流出する。これにより、遠心機1では、単に公転体20、及び自転体30の回転を停止させた場合に比べ、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。尚、S3とS4とのステップを合わせて、第1制御部と呼ぶ。
Here, in the centrifuge 1, the revolving
S5において、CPU102は、検知部70で検知した被処理材料Mの温度情報に基づき、被処理材料M、及び収納容器50の温度が、十分に低下して下限値以下となっているか否かを判断する。この下限値とは、上限値より十分に低い値であり、再び公転体20、及び自転体30を通常回転数で回転させて被処理材料Mの処理を再開可能な温度である。CPU102が被処理材料M、及び収納容器50の温度が下限値以下であると判断した場合において(S5にてY)、処理はS6に進む。又、CPU102が被処理材料M、及び収納容器50の温度が下限値以上であると判断した場合において(S5にてN)、処理はS4に戻る。
In S <b> 5, the
S6において、遠心機1では、被処理材料Mの処理が再開される。即ち、CPU102は、公転体20が通常回転速度にて回転するように駆動制御部104に指示を出す。これにより、駆動制御部104は、CPU102から指示された公転体20の回転速度を実現するべく、駆動部60のモータ61を制御する。この制御により、公転体20、及び自転体30は通常回転速度にて回転する。尚、S5とS6とのステップを合わせて、第2制御部と呼ぶ。
In S6, the centrifuge 1 resumes the processing of the material M to be processed. That is, the
S7において、CPU102は、被処理材料Mの処理が終了したか否かを判断する。この判断は、例えば、遠心機1の運転条件に基づき行うとしてよい。CPU102が被処理材料Mの処理が終了していると判断した場合において(S7にてY)、処理はS8に進む。又、CPU102が被処理材料Mの処理が終了していないと判断した場合において(S7にてN)、処理はS3に戻る。
In S7, the
S8において、遠心機1は運転を終了する。即ち、CPU102は、駆動制御部104、及び温調機制御部106に対し指示を行い、駆動部60、及び温調機90を停止させる。以上により、遠心機1における被処理材料Mの処理は完了する。
In S8, the centrifuge 1 ends its operation. That is, the
(4)作用効果
以下、本実施の形態における遠心機1が奏する作用効果について説明する。
(4) Operational Effects Hereinafter, the operational effects exhibited by the centrifuge 1 in the present embodiment will be described.
遠心機1では、上記の第1制御部に係るステップが行われることで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。表1は、この効果を確認するために行った実験の結果を示すものである。即ち、同表は、遠心機1において、通常回転速度にて公転体20、及び自転体30を回転させることで、被処理材料M、及び収納容器50の温度が上限値となった後に、第1制御部に係るステップを行った場合における被処理材料M、及び収納容器50の温度の測定結果を示すものであり、温度が上限値に対して時間経過と共にどれだけ低下したかを示す。又、同表では、比較例として、被処理材料M、及び収納容器50の温度が上限値となった後に、単に公転体20、及び自転体30の回転を停止させた場合おける同様の測定の結果も示している。
In the centrifuge 1, the temperature reduction of the material to be processed M and the storage container 50 can be promoted by performing the steps related to the first control unit. Table 1 shows the results of experiments conducted to confirm this effect. That is, the table shows that after the
表1より明らかであるように、遠心機1では、第1制御部に係るステップにより、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。そのため、遠心機1は、被処理材料M、及び収納容器50が、被処理材料Mの処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 As is clear from Table 1, in the centrifuge 1, it is possible to promote a decrease in the temperature of the material to be processed M and the storage container 50 by the steps related to the first control unit. Therefore, the centrifuge 1 can prevent the material to be processed M and the storage container 50 from being damaged by the temperature rise based on the heat generated by the processing of the material to be processed M.
尚、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させる別の方法としては、温調機90の冷却能力を向上させることも考えられる。しかし、温調機90の冷却能力を向上させることは、高コスト化、大型化等のデメリットがある。これに対し、遠心機1は、そのようなデメリットを生じさせることがない。
In addition, as another method for promoting the decrease in the temperature of the material to be processed M and the storage container 50, it is conceivable to improve the cooling capacity of the
又、遠心機1では、上記のように、迅速に被処理材料M、及び収納容器50の温度を低下させて、その後第2制御ステップに係るステップにより、被処理材料Mの処理を再開できるので、被処理材料Mの処理を短時間に行うことができる。更に、遠心機1では、第1制御部、及び第2制御部のステップが自動的に行われるので、ユーザにより高い利便性を供給することもできる。 Further, in the centrifuge 1, as described above, the temperature of the material to be processed M and the storage container 50 can be quickly lowered, and then the processing of the material to be processed M can be resumed by the step related to the second control step. The processing of the material to be processed M can be performed in a short time. Further, in the centrifuge 1, since the steps of the first control unit and the second control unit are automatically performed, higher convenience can be supplied to the user.
又、遠心機1では、自転体30の自転体本体32に流入流出部33が設けられている。そのため、遠心機1では、公転体20が回転することで、区画体80内を満たす熱媒体が流入流出部33を介して自転体本体32の中空部31に流入し、収納容器50と熱交換した後、再び流入流出部33を介して自転体本体32の外部に排出される。これにより、遠心機1では、効率よく被処理材料M、及び収納容器50の温度を低下させることができる。この効果は、公転体20、及び自転体30を通常回転速度にて回転させた場合であっても、低回転速度にて回転させた場合であっても発揮される。
In the centrifuge 1, an inflow / outflow portion 33 is provided in the rotation body
更に、遠心機1では、収納容器50が自転体本体32の底部と離間して配置されることにより、中空部31に流入した熱媒体と収納容器50との接触が広い面積にて行われるので、更に効率よく熱媒体と収納容器50との熱交換を行うことができる。これにより、遠心機1では、更に効率よく被処理材料M、及び収納容器50の温度を低下させることができる。
Further, in the centrifuge 1, the storage container 50 is disposed apart from the bottom of the rotating body
又、遠心機1では、第1制御部に係るステップにより、運転中、常に公転体20、及び自転体30の回転が行われている。そのため、温調機90により区画体80内の熱媒体が氷点下以下とされた場合であっても、ベアリング36、ベアリング69等の凍結を防止することができ、もって、それに起因した故障を防止することができる。
In the centrifuge 1, the
又、遠心機1では、凸状体84が設けられることで、効率よく被処理材料M、及び収納容器50の温度を低下させることができる。これは、区画体80内を満たす前記熱媒体は、公転体20の回転に伴って流動し、凸状体84に衝突する。凸状体84に衝突した熱媒体は、公転体20の回転方向への移動が阻止されるため、凸状体84に沿って区画体80の内側(公転軸線L1)に向かって移動する。そして、公転軸線L1の近傍にまで移動してきた熱媒体は、公転体20の回転に伴う流動を開始し、区画体80の外周に向かう移動を開始する。又、区画体80の外周近傍では、凸状体84の近傍の圧力が低くなることから、当該凸状体84に向かう熱媒体の流れが発生する。これらの現象が連続的に発生することで、区画体80内の熱媒体の対流が発生する。これにより、遠心機1では、温調機90が、区画体80を満たす熱媒体を冷却した後、当該熱媒体により被処理材料M、及び収納容器50の温度をより効率的に低下させることができる。この効果は、公転体20を通常回転速度にて回転させた場合であっても、低回転速度にて回転させた場合であっても発揮される。
Further, in the centrifuge 1, by providing the
(5)変形例
尚、遠心機1は、公転体20の回転速度と自転体30の回転速度とを独立して制御できるように構成してもよい。例えば、遠心機1は、駆動部60の自転力付与機構65にかわって、モータ61と異なる図示しないモータを備えるよう構成し、前記図示しないモータを用いて、自転体30を回転させることで、公転体20の回転速度と自転体30の回転速度を独立して制御できる。
(5) Modifications Note that the centrifuge 1 may be configured such that the rotation speed of the
又、上記変形例において、遠心機1は、第1制御部のステップにおいて、公転体20を任意の回転速度で回転させた状態にて、自転体30を低回転速度で回転させ、又は、自転体30の回転を停止させるように構成してもよい。このように構成することによっても、被処理材料Mに働く力を小さくして、発熱を小さくすることができる。又、この場合において、遠心機1は、公転体20を通常回転速度、又は、通常回転速度より高速な高回転速度で回転させることも可能であるため、自転体30の自転体本体32の流入流出部33から中空部31に流入する熱媒体を多くして、より迅速に被処理材料Mの温度を低下させることができる。
In the above-described modification, the centrifuge 1 rotates the rotating body 30 at a low rotation speed while rotating the
又、遠心機1は、温調機90による強制的な冷却が必要なく、自然冷却でよい場合には、温調機90を設けなくてもよい。この場合においても、遠心機1は、第1制御部に係るステップを行うことで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。
In addition, the centrifuge 1 does not need to be forcedly cooled by the
又、遠心機1は、検知部70により、収納容器50(特に、被処理材料Mと触れる部分)の温度情報を検知するように構成してもよい。この場合において、遠心機1では、CPU102が、検知部70が検知した収納容器50の温度情報に基づき、被処理材料Mと収納容器50との少なくとも一方の温度が上限値以上になっているか否かの判断等を行う。更に、遠心機1は、検知部70により、収納容器50と被処理材料Mとの両方の温度情報を検知するように構成してもよい。
In addition, the centrifuge 1 may be configured to detect temperature information of the storage container 50 (particularly, a portion in contact with the material to be processed M) by the detection unit 70. In this case, in the centrifuge 1, based on the temperature information of the storage container 50 detected by the detection unit 70, the
1…遠心機、 10…回転軸、 20…公転体、 22…第1アーム、 24…第2アーム、 30…自転体、 31…中空部、 32…自転体本体、 33…流入流出部、 34…自転軸、 36…ベアリング、 40…バランス錘、 50…収納容器、 52…本体部、 53…凸部、 54…蓋部、 55…中蓋、 57…外蓋、 60…駆動部、 61…モータ、 62…プーリー、 63…プーリー、 64…ベルト、 65…自転力付与機構、 66…自転歯車、 67…自転力付与歯車、 68…自転動力伝達歯車、 69…ベアリング、 70…検知部、 80…区画体、 81…中空部、 82…蓋部、 84…凸状体、 85…底面部、 86…側面部、 90…温調機、 92…熱交換部、 100…制御機構、 102…CPU、 104…駆動制御部、 106…温調機制御部、 107…操作部、 108…回転センサ、 109…表示部、 110…支持基板、 120…筐体、 L1…公転軸線、 L2…自転軸線、M…被処理材料
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Centrifuge, 10 ... Rotating shaft, 20 ... Revolving body, 22 ... 1st arm, 24 ... 2nd arm, 30 ... Autorotation body, 31 ... Hollow part, 32 ... Autorotation body main body, 33 ... Inflow / outflow part, 34 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Spinning shaft, 36 ... Bearing, 40 ... Balance weight, 50 ... Storage container, 52 ... Main part, 53 ... Convex part, 54 ... Lid part, 55 ... Middle lid, 57 ... Outer cover, 60 ... Drive part, 61 ... Motor: 62 ... Pulley, 63 ... Pulley, 64 ... Belt, 65 ... Rotational force imparting mechanism, 66 ... Rotating gear, 67 ... Rotating force imparting gear, 68 ... Rotating power transmission gear, 69 ... Bearing, 70 ... Detector, 80 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Partition body, 81 ... Hollow part, 82 ... Cover part, 84 ... Convex-like body, 85 ... Bottom part, 86 ... Side surface part, 90 ... Temperature controller, 92 ... Heat exchange part, 100 ... Control mechanism, 102 ...
本発明の一つの実施態様は、
公転軸線を中心に回転可能な公転体と、
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御を行う制御機構と、
を備える遠心機を提供する。
One embodiment of the present invention is:
A revolution body rotatable around the revolution axis,
A rotating body that is held by the revolution body and is rotatable about a rotation axis;
A storage container that rotates together with the rotating body and stores a material to be processed;
A drive unit for rotating the revolution body and the rotation body;
A detection unit for detecting temperature information;
When the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is determined to be equal to or higher than the upper limit based on the temperature information detected by the detection unit, the rotation of the rotating body in a state where the revolution body is rotated. A control mechanism that performs a first control for controlling the drive unit so that the rotation speed is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation of the rotating body is stopped;
A centrifuge is provided.
この遠心機は、制御機構が行う第1制御により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本遠心機は、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 The centrifuge can promote a decrease in the temperature of the material to be processed and the storage member that stores the material to be processed by the first control performed by the control mechanism . Thereby, this centrifuge can prevent that the to-be-processed material and the storage container which stores the to-be-processed material receive a damage by the temperature rise based on the heat | fever generate | occur | produced by the process of to-be-processed material.
この遠心機において、
前記制御機構は、前記第1制御後において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料、及び前記収納容器の温度が下限値以下と判断した場合に、前記公転体、及び前記自転体の回転速度が通常回転速度となるように、前記駆動部を制御する第2制御を行ってもよい。
In this centrifuge,
When the control mechanism determines that the temperature of the material to be processed and the storage container is equal to or lower than a lower limit value based on the temperature information detected by the detection unit after the first control, You may perform 2nd control which controls the said drive part so that the rotational speed of a autorotation body may turn into a normal rotational speed.
この遠心機において、
前記制御機構は、前記第1制御において、前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体の回転速度が通常回転速度と異なる回転速度となるように前記駆動部を制御するものであってもよい。
In this centrifuge,
In the first control , when the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is determined to be an upper limit value or more based on the temperature information detected by the detection unit in the first control , The drive unit may be controlled so that the rotation speed is different from the normal rotation speed.
この遠心機において、
前記自転体は、前記公転体が回転することにより、熱媒体をその中空部に流入させ、又、流出させる流入流出部が設けられた自転体本体を有し、
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられてもよい。
In this centrifuge,
The rotating body has a rotating body main body provided with an inflow / outflow portion for allowing the heat medium to flow into the hollow portion by rotating the revolution body , and for flowing out,
The storage container is disposed in a hollow portion of the rotating body,
The inflow / outflow portion may be provided on a wall surface of the rotation body main body that can face upstream or downstream in the rotation direction of the revolution body.
この遠心機において、
更に、前記区画体の壁面から、当該区画体内に向かって突出する凸状体を備えてもよい。
In this centrifuge,
Furthermore, from a wall surface of said partition body may comprise a convex body which projects toward the partition body.
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを備える遠心機に用いられる制御機構であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御を行う制御機構を提供する。
Another embodiment of the present invention is:
A control mechanism used in a centrifuge that includes a drive unit that rotates around a rotation axis while rotating a storage container that stores a material to be processed around a rotation axis, and a detection unit that detects temperature information. ,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A control mechanism for performing one control is provided.
この制御機構は、第1制御により、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納部材の温度の低下を促進させることができる。これにより、本制御機構は、遠心機において、被処理材料、及び被処理材料を収納する収納容器が、被処理材料の処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 This control mechanism can promote a decrease in the temperature of the material to be processed and the storage member that stores the material to be processed by the first control. Thereby, this control mechanism can prevent that the to-be-processed material and the storage container which stores a to-be-processed material are damaged by the temperature rise based on the heat which generate | occur | produces by the process of a to-be-processed material in a centrifuge .
本発明の別の実施態様は、
被処理材料を収納した収納容器を、公転軸線を中心に回転させつつ、自転軸線を中心に回転させる駆動部と、温度情報を検知する検知部とを用いて、前記被処理材料を処理する処理方法であって、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御を行う処理方法を提供する。
Another embodiment of the present invention is:
The container accommodating the material to be treated, while rotating about the revolving axis, with a drive part which rotates around the rotation axis, and a detection unit for detecting the temperature information, processing the material to be treated processed A method,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A processing method for performing one control is provided.
ここで、遠心機1では、公転体20、及び自転体30が、通常回転速度より低速な回転速度(以下、「低回転速度」という)で回転することで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。これは、公転体20、及び自転体30が低回転速度で回転している場合には、公転体20、及び自転体30が通常回転速度で回転している場合に比べ、被処理材料Mに働く力が小さくなるので発熱も小さくなる(この際、被処理材料Mの処理は、停止又は低速化される。)。更に、公転体20が低回転速度で回転することで、自転体30の自転体本体32の流入流出部33から、温調機90により温調された熱媒体が中空部31に流入し、収納容器50との間で熱交換を行った後、自転体本体32から流出する。これにより、遠心機1では、単に公転体20、及び自転体30の回転を停止させた場合に比べ、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。尚、S3とS4とのステップを合わせて、第1制御と呼ぶ。
Here, in the centrifuge 1, the revolving
S6において、遠心機1では、被処理材料Mの処理が再開される。即ち、CPU102は、公転体20が通常回転速度にて回転するように駆動制御部104に指示を出す。これにより、駆動制御部104は、CPU102から指示された公転体20の回転速度を実現するべく、駆動部60のモータ61を制御する。この制御により、公転体20、及び自転体30は通常回転速度にて回転する。尚、S5とS6とのステップを合わせて、第2制御と呼ぶ。
In S6, the centrifuge 1 resumes the processing of the material M to be processed. That is, the
遠心機1では、上記の第1制御に係るステップが行われることで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。表1は、この効果を確認するために行った実験の結果を示すものである。即ち、同表は、遠心機1において、通常回転速度にて公転体20、及び自転体30を回転させることで、被処理材料M、及び収納容器50の温度が上限値となった後に、第1制御に係るステップを行った場合における被処理材料M、及び収納容器50の温度の測定結果を示すものであり、温度が上限値に対して時間経過と共にどれだけ低下したかを示す。又、同表では、比較例として、被処理材料M、及び収納容器50の温度が上限値となった後に、単に公転体20、及び自転体30の回転を停止させた場合おける同様の測定の結果も示している。
In the centrifuge 1, the temperature reduction of the material to be processed M and the storage container 50 can be promoted by performing the steps related to the first control. Table 1 shows the results of experiments conducted to confirm this effect. That is, the table shows that after the
表1より明らかであるように、遠心機1では、第1制御に係るステップにより、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。そのため、遠心機1は、被処理材料M、及び収納容器50が、被処理材料Mの処理により発生する熱に基づく温度上昇によりダメージを受けることを防止できる。 As is clear from Table 1, in the centrifuge 1, it is possible to promote a decrease in the temperature of the material to be processed M and the storage container 50 by the steps related to the first control. Therefore, the centrifuge 1 can prevent the material to be processed M and the storage container 50 from being damaged by the temperature rise based on the heat generated by the processing of the material to be processed M.
又、遠心機1では、上記のように、迅速に被処理材料M、及び収納容器50の温度を低下させて、その後第2制御に係るステップにより、被処理材料Mの処理を再開できるので、被処理材料Mの処理を短時間に行うことができる。更に、遠心機1では、第1制御、及び第2制御のステップが自動的に行われるので、ユーザにより高い利便性を供給することもできる。 Further, in the centrifuge 1, as described above, the temperature of the material to be processed M and the storage container 50 can be quickly reduced, and then the processing of the material to be processed M can be resumed by the step related to the second control. The material M can be processed in a short time. Furthermore, since the first control and the second control steps are automatically performed in the centrifuge 1, higher convenience can be supplied to the user.
又、遠心機1では、第1制御に係るステップにより、運転中、常に公転体20、及び自転体30の回転が行われている。そのため、温調機90により区画体80内の熱媒体が氷点下以下とされた場合であっても、ベアリング36、ベアリング69等の凍結を防止することができ、もって、それに起因した故障を防止することができる。
In the centrifuge 1, the
又、上記変形例において、遠心機1は、第1制御のステップにおいて、公転体20を任意の回転速度で回転させた状態にて、自転体30を低回転速度で回転させ、又は、自転体30の回転を停止させるように構成してもよい。このように構成することによっても、被処理材料Mに働く力を小さくして、発熱を小さくすることができる。又、この場合において、遠心機1は、公転体20を通常回転速度、又は、通常回転速度より高速な高回転速度で回転させることも可能であるため、自転体30の自転体本体32の流入流出部33から中空部31に流入する熱媒体を多くして、より迅速に被処理材料Mの温度を低下させることができる。
In the above modification, the centrifuge 1 rotates the rotating body 30 at a low rotation speed while rotating the
又、遠心機1は、温調機90による強制的な冷却が必要なく、自然冷却でよい場合には、温調機90を設けなくてもよい。この場合においても、遠心機1は、第1制御に係るステップを行うことで、被処理材料M、及び収納容器50の温度の低下を促進させることができる。
In addition, the centrifuge 1 does not need to be forcedly cooled by the
Claims (8)
前記公転体に保持されて、自転軸線を中心に回転可能な自転体と、
前記自転体と共に回転して、被処理材料を収納する収納容器と、
前記公転体と前記自転体とを回転させる駆動部と、
温度情報を検知する検知部と、
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転体が回転した状態にて、前記自転体の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転体の回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御部と、
を備える遠心機。 A revolution body rotatable around the revolution axis,
A rotating body that is held by the revolution body and is rotatable about a rotation axis;
A storage container that rotates together with the rotating body and stores a material to be processed;
A drive unit for rotating the revolution body and the rotation body;
A detection unit for detecting temperature information;
When the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is determined to be equal to or higher than the upper limit based on the temperature information detected by the detection unit, the rotation of the rotating body in a state where the revolution body is rotated. A first control unit that controls the drive unit so that the speed becomes a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation of the rotating body stops.
Centrifuge with.
を備える請求項1の遠心機。 Further, when the temperature of the material to be processed and the storage container is determined to be lower than the lower limit based on the temperature information detected by the detection unit by the control by the first control unit, the revolution body and the rotation A second control unit for controlling the drive unit so that the rotation speed of the body becomes a normal rotation speed;
The centrifuge of claim 1 comprising:
前記収納容器が前記自転体本体の中空部に配置され、
前記流入流出部は、前記公転体の回転方向の上流又は下流に対向可能な前記自転体本体の壁面に設けられる請求項1〜3の何れか記載の遠心機。 The rotating body has a rotating body body provided with an inflow / outflow portion for allowing the heat medium to flow into and out of the hollow portion by rotating the revolving body about the revolving axis.
The storage container is disposed in a hollow portion of the rotating body,
The centrifuge according to any one of claims 1 to 3, wherein the inflow / outflow portion is provided on a wall surface of the main body of the rotating body capable of facing upstream or downstream in a rotation direction of the revolution body.
前記区画体内を満たす前記熱媒体の温度を氷点下以下とすることが可能な温調機と、
を備える請求項4記載の遠心機。 Furthermore, a partition body that partitions a space including a region where the revolution body rotates,
A temperature controller capable of setting the temperature of the heat medium filling the compartment to below freezing point;
A centrifuge according to claim 4.
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御部
を備える制御機構。 A control mechanism used in a centrifuge that includes a drive unit that rotates around a rotation axis while rotating a storage container that stores a material to be processed around a rotation axis, and a detection unit that detects temperature information. ,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A control mechanism comprising one control unit.
前記検知部が検知した温度情報に基づき、前記被処理材料と前記収納容器との少なくとも一方の温度が上限値以上と判断した場合に、前記公転軸線を中心とした回転が行われた状態にて、前記自転軸線を中心とした回転の回転速度が通常回転速度より低速な低回転速度となるように、又は、前記自転軸線を中心とした回転が停止するように、前記駆動部を制御する第1制御を行う処理方法。 A process for processing the material to be processed, comprising: a drive unit for rotating the storage container storing the material to be processed around the revolution axis while rotating the container about the rotation axis; and a detection unit for detecting temperature information. A method,
On the basis of the temperature information detected by the detection unit, when it is determined that the temperature of at least one of the material to be processed and the storage container is equal to or higher than the upper limit value, the rotation about the revolution axis is performed. The drive unit is controlled so that the rotation speed about the rotation axis is a low rotation speed lower than the normal rotation speed, or the rotation about the rotation axis is stopped. A processing method for performing one control.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012121438A JP2013244475A (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012121438A JP2013244475A (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013244475A true JP2013244475A (en) | 2013-12-09 |
JP2013244475A5 JP2013244475A5 (en) | 2015-06-25 |
Family
ID=49844672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012121438A Pending JP2013244475A (en) | 2012-05-29 | 2012-05-29 | Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2013244475A (en) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016159186A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 倉敷紡績株式会社 | Agitation device and temperature measurement unit |
JP2016159188A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 倉敷紡績株式会社 | Agitation device |
JP2017176990A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 共立精機株式会社 | Agitation defoaming machine |
WO2019182105A1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 株式会社写真化学 | State monitoring system |
JP2020093221A (en) * | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 株式会社ビートセンシング | Container for pulverizer and pulverizer equipped with the same |
JP2021010871A (en) * | 2019-07-05 | 2021-02-04 | 共立精機株式会社 | Agitation degassing machine and control method |
US11486766B2 (en) | 2017-10-13 | 2022-11-01 | Shashin Kagaku Co., Ltd. | Temperature measuring device |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000246082A (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Asahi Chem Res Lab Ltd | Mixing and stirring apparatus |
JP2006305512A (en) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Thinky Corp | Stirring and defoaming method and stirring and defoaming apparatus |
JP2009208026A (en) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Thinky Corp | Agitation defoaming apparatus |
JP2011101951A (en) * | 2008-11-13 | 2011-05-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Method for manufacturing plastic rod lens |
-
2012
- 2012-05-29 JP JP2012121438A patent/JP2013244475A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000246082A (en) * | 1999-03-03 | 2000-09-12 | Asahi Chem Res Lab Ltd | Mixing and stirring apparatus |
JP2006305512A (en) * | 2005-05-02 | 2006-11-09 | Thinky Corp | Stirring and defoaming method and stirring and defoaming apparatus |
JP2009208026A (en) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Thinky Corp | Agitation defoaming apparatus |
JP2011101951A (en) * | 2008-11-13 | 2011-05-26 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Method for manufacturing plastic rod lens |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016159186A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 倉敷紡績株式会社 | Agitation device and temperature measurement unit |
JP2016159188A (en) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 倉敷紡績株式会社 | Agitation device |
JP2017176990A (en) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 共立精機株式会社 | Agitation defoaming machine |
US11486766B2 (en) | 2017-10-13 | 2022-11-01 | Shashin Kagaku Co., Ltd. | Temperature measuring device |
WO2019182105A1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 株式会社写真化学 | State monitoring system |
US11964246B2 (en) | 2018-03-22 | 2024-04-23 | Shashin Kagaku Co., Ltd. | State monitoring system |
JP2020093221A (en) * | 2018-12-13 | 2020-06-18 | 株式会社ビートセンシング | Container for pulverizer and pulverizer equipped with the same |
JP2021010871A (en) * | 2019-07-05 | 2021-02-04 | 共立精機株式会社 | Agitation degassing machine and control method |
JP7305470B2 (en) | 2019-07-05 | 2023-07-10 | 共立精機株式会社 | Stirring deaerator and its control method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013244475A (en) | Centrifuge, control mechanism used for the same, and processing method | |
JP5687038B2 (en) | Centrifuge | |
US8092075B2 (en) | Agitation/deaeration device | |
WO2009060550A1 (en) | Churning deaerator | |
JP2009208026A (en) | Agitation defoaming apparatus | |
JP2011050814A (en) | Agitation defoaming apparatus | |
JP2013151621A (en) | Apparatus and method for synthesizing resin | |
JP5506039B2 (en) | Container used for stirring deaerator and stirring deaerator | |
JP2015186795A (en) | Centrifugal machine and temperature control mechanism | |
JP2015016403A (en) | Agitation defoaming device | |
JP4072733B2 (en) | Method and apparatus for stirring and defoaming a material to be stirred | |
JP6647754B2 (en) | Centrifuge and drive mechanism | |
JP2015171702A (en) | Centrifugal machine and transceiver mechanism | |
JP6262087B2 (en) | Stirring deaerator | |
WO2020170772A1 (en) | Detector used in centrifuge, and detection system | |
JP6618405B2 (en) | Stirring deaerator | |
JP2009082895A (en) | Kneading and defoaming apparatus and kneading and defoaming method for material to be kneaded and defoamed | |
EP3157660B1 (en) | Mixer for viscous fluids and method of mixing viscous fluids | |
JP2004074130A (en) | Method and apparatus for agitating and defoaming solvent or the like | |
JP2011036804A (en) | Stirring/defoaming apparatus | |
JP6611125B2 (en) | Centrifuge and rotating mechanism | |
KR20120059420A (en) | Centrifuge | |
JP2006305441A (en) | Agitation defoaming apparatus | |
JP6418553B2 (en) | Centrifugal processing equipment | |
JP2017212889A (en) | Food material stirring device and food material stirring method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150511 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160329 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20161025 |