JP2013222590A - Conductive pattern formation substrate and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、導電パターン形成基板及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a conductive pattern forming substrate and a manufacturing method thereof.
従来、基板上に形成された導電パターンの例として、ITO(インジウムスズ酸化物)や銀ナノワイヤーを有する導電パターンが知られている。これらの導電パターンは、光透過性を有する導電パターンを構成することができ、タッチパネルの画面上に配置される透明電極などに採用されている。 Conventionally, as an example of a conductive pattern formed on a substrate, a conductive pattern having ITO (indium tin oxide) or silver nanowires is known. These conductive patterns can constitute a light-transmitting conductive pattern, and are employed for transparent electrodes arranged on the screen of the touch panel.
例えば特許文献1には、導電パターンと、導電パターンから絶縁された絶縁パターンとが、基材(基体シート)上に形成された導電パターン形成基板(導電性ナノファイバーシート)が開示されている。
特許文献1に記載の導電パターンは、導電性ナノワイヤーを含んでいる。そして、レーザーによって導電性ナノワイヤーを焼き切ったり、酸やアルカリなどを用いたエッチングにより導電性ナノワイヤーを腐食させたりすることにより、絶縁パターンが形成されている。また、絶縁パターンは、導電パターンに対して、光透過率の差が10%以下且つヘイズ値の差が5%以下となるように、導電性ナノワイヤーの一部が残存した状態とされている。
For example, Patent Document 1 discloses a conductive pattern forming substrate (conductive nanofiber sheet) in which a conductive pattern and an insulating pattern insulated from the conductive pattern are formed on a base material (base sheet).
The conductive pattern described in Patent Document 1 includes conductive nanowires. An insulating pattern is formed by burning the conductive nanowires with a laser or corroding the conductive nanowires by etching using acid or alkali. The insulating pattern is in a state in which part of the conductive nanowire remains so that the difference in light transmittance is 10% or less and the difference in haze value is 5% or less with respect to the conductive pattern. .
しかしながら、特許文献1に記載の導電性ナノファイバーシートでは、導電パターンと絶縁パターンとの境界は依然として明瞭なので、パターンが見えてしまう場合があるという問題がある。 However, the conductive nanofiber sheet described in Patent Document 1 has a problem in that the pattern may be visible because the boundary between the conductive pattern and the insulating pattern is still clear.
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであって、その目的は、パターン見えを軽減することができる導電パターン形成基板及びその製造方法を提供することである。 This invention is made | formed in view of the situation mentioned above, The objective is to provide the conductive pattern formation board | substrate which can reduce pattern appearance, and its manufacturing method.
上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の導電パターン形成基板は、光透過性を有する基材と、前記基材上に設けられた透明導電層と、前記透明導電層上に設けられた保護層と、前記透明導電層に前記保護層を固定するための固定手段と、を備え、前記透明導電層は、微小金属粒子が光透過性樹脂内に分散された導電パターンと、前記微小金属粒子及び前記光透過性樹脂を含む層から前記微小金属粒子が除去されて形成され、形成前に前記微小金属粒子が占めていた領域に対応する隙間が空いている絶縁パターンと、を有し、前記固定手段は、前記絶縁パターンにおける前記隙間に気体が存在する状態で前記透明導電層に前記保護層を固定していることを特徴とする導電パターン形成基板である。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
The conductive pattern forming substrate of the present invention includes a light-transmitting base material, a transparent conductive layer provided on the base material, a protective layer provided on the transparent conductive layer, and the transparent conductive layer. Fixing means for fixing a protective layer, wherein the transparent conductive layer is a layer containing a conductive pattern in which fine metal particles are dispersed in a light-transmitting resin, and the fine metal particles and the light-transmitting resin. The fine metal particles are removed from the insulating pattern, and a gap corresponding to a region occupied by the fine metal particles before the formation is formed, and the fixing means includes the insulating pattern in the insulating pattern. The conductive pattern forming substrate is characterized in that the protective layer is fixed to the transparent conductive layer in a state where a gas exists in a gap.
また、前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層とが前記基材の厚さ方向に離間した状態で前記透明導電層と前記保護層とを連結してもよい。 The fixing means may connect the transparent conductive layer and the protective layer in a state where the transparent conductive layer and the protective layer are separated from each other in the thickness direction of the base material.
また、前記保護層は、硬質な光透過性パネルを有し、前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層との両方に接する軟性の透明樹脂フィルムを有してもよい。 Moreover, the said protective layer may have a hard light transmissive panel, and the said fixing means may have a soft transparent resin film which touches both the said transparent conductive layer and the said protective layer.
また、前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層との間に挟みこまれた流動体の硬化物からなり、前記流動体の硬化物は、前記絶縁パターンにおける前記隙間を、空気が封入された状態で封止していてもよい。 Further, the fixing means is made of a cured material of a fluid sandwiched between the transparent conductive layer and the protective layer, and the cured material of the fluid encloses the gap in the insulating pattern with air. You may seal in the state made.
また、前記透明導電層は前記基材の両面に設けられ、前記基材の両面に設けられた前記透明導電層のうちの何れか一方のみに前記固定手段及び前記保護層が設けられていてもよい。 The transparent conductive layer may be provided on both surfaces of the base material, and the fixing means and the protective layer may be provided on only one of the transparent conductive layers provided on both surfaces of the base material. Good.
また、前記透明導電層は、前記基材に対しては当該基材の厚さ方向の一方の面のみに設けられ、前記基材の厚さ方向の他方の面には、前記基材と異なる第二基材が設けられ、前記第二基材には、前記透明導電層とは別の第二透明導電層が設けられていてもよい。 The transparent conductive layer is provided only on one surface in the thickness direction of the substrate with respect to the substrate, and is different from the substrate on the other surface in the thickness direction of the substrate. A second substrate may be provided, and the second substrate may be provided with a second transparent conductive layer different from the transparent conductive layer.
また、前記固定手段は、前記第二透明導電層と前記第一基材とに接し前記第二透明導電層に前記第一基材を固定状態とし、前記第一基材は、前記第二透明導電層に対する前記保護層であってもよい。 The fixing means is in contact with the second transparent conductive layer and the first base material, and the first base material is fixed to the second transparent conductive layer. The first base material is the second transparent conductive layer. The protective layer for the conductive layer may be used.
本発明の導電パターン形成基板及びその製造方法によれば、パターン見えを軽減することができる。 According to the conductive pattern forming substrate and the manufacturing method thereof of the present invention, pattern appearance can be reduced.
本発明の一実施形態の導電パターン形成基板1及びその製造方法について説明する。
まず、導電パターン形成基板1の構成について説明する。図1は、本実施形態の導電パターン形成基板を示す模式的な平面図である。図2は、図1のA−A線における断面図である。図3は、図2の拡大図である。
図1ないし図3に示すように、本実施形態の導電パターン形成基板1は、基材2と、透明導電層3と、保護層8とがこの順に重ねられた層状構造を有する。また、透明導電層3と保護層8とは隙間を開けて設けられている。また、詳細は図示しないが、本実施形態では、透明導電層3上には配線7が形成されている。
The conductive pattern formation board | substrate 1 of one Embodiment of this invention and its manufacturing method are demonstrated.
First, the configuration of the conductive pattern forming substrate 1 will be described. FIG. 1 is a schematic plan view showing a conductive pattern forming substrate of this embodiment. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is an enlarged view of FIG.
As shown in FIG. 1 thru | or FIG. 3, the conductive pattern formation board | substrate 1 of this embodiment has the layered structure on which the
基材2は、板状、シート状、フィルム状、若しくは膜状の絶縁性部材である。基材2は、光透過性を有する。基材2の材料としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂などの樹脂を好適に採用することができる。基材2の具体的な材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、環状ポリオレフィン、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアクリル樹脂、シクロオレフィンポリマー、及び、光透過性を有する他の樹脂材料を採用することができる。
The
基材2の光線透過率は85%以上であることが好ましい。また、基材2は無色透明であることが好ましい。なお、基材2は、光透過性を有し且つ着色されていてもよい。
基材2の厚さは、0.05mm以上0.2mm以下であることが好ましい。また、基材2の厚さは、0.1mm以上0.15mm以下であるとより好ましい。基材2の厚さが0.05mm以上であれば、導電パターン4等の構造を基材2上に形成するのが容易である。また、基材2の厚さが0.2mm以下であると、基材2の厚さ方向への光透過性に優れ、また導電パターン形成基板1を薄型とすることができる。
さらに、基材2は、可撓性を有していてもよい。
The light transmittance of the
It is preferable that the thickness of the
Furthermore, the
透明導電層3は、導電パターン4及び絶縁パターン5と、オーバーコート層6とを有している。
The transparent
導電パターン4は、微小金属粒子を含み基材2に対して位置関係が固定された状態でパターン形状を有して設けられている。導電パターン4を構成する微小金属粒子としては、金、銀、銅、ニッケル等を含む粒子を採用することができる。また、導電パターン4を構成する微小金属粒子の形状は、球状、粒状、ワイヤ状、およびロッド状とすることができる。本実施形態では、導電パターン4は、銀ナノワイヤーNWがオーバーコート層6により基材2に固定されることによって構成されている。導電パターン4に含まれる微小金属粒子は、互いに接することにより導通し、電極等として機能する。さらに導電パターン4は、微小金属粒子間に隙間が空いていることにより、光透過性を有する。
なお、導電パターン4は、必ずしも電気が流れるパターンである必要はなく、例えば電気的に浮いた状態として構成されたシールド等のパターンも導電パターン4に含まれてよい。
The
The
絶縁パターン5は、透明導電層3のうち、導電パターン4以外の部分である。図3に示すように、本実施形態では、絶縁パターン5において、微小金属粒子が除去されたことにより残る微小な孔5aが、オーバーコート層6内に形成されている。
The insulating
オーバーコート層6は、微小金属粒子と基材2との密着を強化する目的で設けられた光透過性を有する層である。オーバーコート層6の厚さは、基材2上の微小金属粒子(本実施形態では銀ナノワイヤーNW)の一部がオーバーコート層6内に埋没する厚さであることが好ましい。また、微小金属粒子の一部がオーバーコート層6の外面に露出されている。微小金属粒子は、配線7と接触しており、微小金属粒子と配線7とが接触していることにより透明導電層3と配線7とは導通している。
The
オーバーコート層6の材料としては、光透過性を有する樹脂であって、所定の硬化処理によって硬化する流動体を適宜選択して採用することができる。所定の硬化処理とは、例えば、熱硬化、紫外線硬化、電子線硬化、その他の処理であって、材料に対応して適宜選択される。
すなわち、オーバーコート層6の材料としては、熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂、あるいは接着剤などを採用することができる。例えば、オーバーコート層6の材料として好適に使用可能な熱可塑性樹脂としては、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル‐酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート、ポリアクリル樹脂、及びポリメチルメタクリレート等を挙げることができる。また、例えば、紫外線、熱、電子線、あるいは放射線が照射されることによって硬化する硬化性樹脂の例として、エーテル系ポリウレタン、エステル系ポリウレタン、ポリウレタンアクリレート、エポキシ樹脂、及びポリイミド樹脂を挙げることができる。
As a material for the
That is, as the material of the
微小金属粒子として銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤーが採用されている場合には、オーバーコート層6の厚さは、50nm以上300nm以下であることが好ましい。本実施形態におけるオーバーコート層6の厚さは、基材2の外面を基点として計測した場合の厚さである。オーバーコート層6は、導電パターン4を構成する微小金属粒子の隙間の少なくとも一部を満たすように微小金属粒子間にも配されている。
When metal nanowires such as silver nanowires are employed as the fine metal particles, the thickness of the
配線7は、金属を含有するペーストが固定して形成されたり、蒸着等によって金属層が成膜されたりすることによってオーバーコート層6上に形成されている。本実施形態では、配線7は、銀粒子を含有するペーストによってパターン状に形成された後、当該ペーストが固定されることにより銀粒子同士が結合して導通状態となる。
The
保護層8は、光透過性を有する樹脂やガラス等によって形成されており、軟性の透明樹脂フィルムの両面に粘着剤が設けられた両面粘着テープ9(固定手段)によって透明導電層3に固定されている。両面粘着テープ9は、保護層8及び透明導電層3の周縁に沿って略矩形状に設けられている。これにより、導電パターン形成基板1の厚さ方向から見たときにおける両面粘着テープ9に囲まれた内側領域では、保護層8は、両面粘着テープ9の厚さ分だけ透明導電層3から離間している。
The
次に、導電パターン形成基板1の製造方法について説明する。図4は、本実施形態の導電パターン形成基板の製造方法を示すフローチャートである。図5ないし図9は、導電パターン形成基板の製造工程を示す図である。 Next, the manufacturing method of the conductive pattern formation board | substrate 1 is demonstrated. FIG. 4 is a flowchart showing the method for manufacturing the conductive pattern forming substrate of this embodiment. 5 to 9 are diagrams showing a manufacturing process of the conductive pattern formation substrate.
まず、パターン形状を有する光透過性の導電パターン4を、光透過性を有する基材2の外面上に形成する(図4に示すステップS1)。
導電パターン4の形成工程では、まず、図5に示すように、微小金属粒子(銀ナノワイヤーNW)と水溶性ポリマーとが水系溶媒に含有された溶液を基材2の外面に一様に塗布し、この溶液を乾燥させることにより水系溶媒を除去する。すると、微小金属粒子の外面に水溶性ポリマーが付着した状態で、水溶性ポリマーによって微小金属粒子が基材2の外面に付着する。水溶性ポリマーによって微小金属粒子が基材2に付着した状態では、微小金属粒子は基材2に対して仮固定された状態である。
First, the light-transmitting
In the step of forming the
続いて、微小金属粒子が基材2に付着した状態で、オーバーコート層6の材料となる流動体状の光透過性樹脂を基材2に塗布する。流動体状の光透過性樹脂は、微小金属粒子の隙間に入り込み、微小金属粒子及び基材2に固定可能な状態となる。この状態で、流動体状に光透過性樹脂に対して硬化処理を行なう。これにより、図6に示すように、微小金属粒子と基材2とを固定するオーバーコート層6が形成される。この段階では、微小金属粒子、微量の水溶性ポリマー、及びオーバーコート層6によって、金属のベタパターンと電気的に同様の導電性を有する導電性樹脂層が形成されている。
Subsequently, with the fine metal particles attached to the
オーバーコート層6が形成された後、図7に示すように、レーザーLを照射するレーザーエッチングにより、絶縁パターン5とする領域内の微小金属粒子を除去する。オーバーコート層6に分散された微小金属粒子にレーザー光が照射されると、微小金属粒子は蒸散し、オーバーコート層6内には、微小金属粒子に代えて微小な孔5aが残る。微小金属粒子がレーザーエッチングにより除去された部分が絶縁パターン5となり、微小金属粒子が残された部分が導電パターン4となる。
これにより、導電性樹脂層から、導電パターン4及び絶縁パターン5を有する透明導電層3が形成される。
これでステップS1は終了し、ステップS2へ進む。
After the
Thereby, the transparent
Step S1 is complete | finished now and it progresses to step S2.
ステップS2は、配線7を形成するステップである。
ステップS2では、図8に示すように、所定のパターン形状をなす配線7をスクリーン印刷によって形成する。なお、本実施形態では、配線7は、金属粒子を含有するペーストがパターン形状をなしてスクリーン印刷され、その後固定されることによって形成される。
これでステップS2は終了し、ステップS3へ進む。
Step S <b> 2 is a step of forming the
In step S2, as shown in FIG. 8, the
Step S2 is complete | finished now and it progresses to step S3.
ステップS3は、保護層8を形成するステップである。
ステップS3では、図9に示すように、両面粘着テープ9における一方の粘着面を、透明導電層3の周縁部に貼り付ける。さらに、両面粘着テープ9における他方の粘着面と保護層8の周縁部とが接するように保護層8を取り付ける。なお、ステップS3は、大気圧の条件下で行なわれてもよいし、大気圧よりも減圧された条件下(例えば真空引きされたチャンバー内等)で行なわれてもよい。
これでステップS3は終了する。
以上のステップS1からステップS3によって、本実施形態の導電パターン形成基板1が製造される。
Step S3 is a step of forming the
In step S <b> 3, as shown in FIG. 9, one adhesive surface of the double-sided
This ends step S3.
Through the above steps S1 to S3, the conductive pattern forming substrate 1 of the present embodiment is manufactured.
次に、導電パターン形成基板1の作用について説明する。
オーバーコート層6に分散された微小金属粒子と、オーバーコート層6内に形成された微小な孔5aとは、いずれも、透明導電層3と透過する光を屈折させたり反射させたりする界面を有している。このため、微小な孔5aが空洞として残存している状態では、導電パターン4と絶縁パターン5との光透過特性には、パターン見えに繋がるような顕著な差がない場合が多い。
Next, the operation of the conductive pattern forming substrate 1 will be described.
The fine metal particles dispersed in the
しかしながら、微小な孔5aの内部に接着剤やその他の流動体が入り込んだ状態となると、導電パターン4と絶縁パターン5との光透過特性の差が大きくなり、パターン見えに繋がる可能性が高まる。例えば、接着剤を用いて保護層8を透明導電層3に直接貼り付けようとすると、接着剤の一部が絶縁パターン5内の微小な孔5a内に入り込み、絶縁パターン5と導電パターン4との光透過特性に差が生じる場合がある。また、たとえば、保護層8を接着するための接着剤と絶縁パターン5を構成する光透過性樹脂とが光学的に同様の材料である場合には、絶縁パターン5内に微小な孔5aが形成されていないのと同様の光学的特性を示す場合もある。
However, when an adhesive or other fluid enters the
これに対して、本実施形態の導電パターン形成基板1において、保護層8と透明導電層3とは、両面粘着テープ9が接する部分のみにおいて接続されており、他の部分においては両面粘着テープ9の厚さ分だけ離間している。このため、透明導電層3において微小金属粒子が除去されてなる微小な孔5aの内部は、空気が存在する隙間となっている。したがって、保護層8が設けられている状態であっても、導電パターン4と絶縁パターン5との光透過特性は変化せず、パターン見えに繋がるような顕著な差が新たに生じることがない。これにより、導電パターン4と絶縁パターン5との界面が導電パターン形成基板1の使用者に見えにくくなる。すなわち、本実施形態の導電パターン形成基板1では、パターン見えを軽減することができる。
また、保護層8及び透明導電層3の周縁に沿って両面粘着テープ9が略矩形状に設けられているので、導電パターン形成基板1の中央部をタッチパネル式表示装置の表示面として使用する場合などに、使用者から見えない位置に両面粘着テープ9が配されていることとなる。
On the other hand, in the conductive pattern forming substrate 1 of the present embodiment, the
Moreover, since the double-sided
(変形例1)
次に、本実施形態の変形例について説明する。図10は、本変形例の構成を示す断面図である。
図10に示すように、本変形例の導電パターン形成基板1は、両面粘着テープ9及び保護層8に代えて、ラミネートフィルム10を有している。
ラミネートフィルム10は、ポリエチレンテレフタレートやポリプロピレン等の樹脂製のフィルムであり、厚さ方向の一方の面に、感熱性接着剤11が設けられている。これにより、ラミネートフィルム10は、ラミネート加工により貼り付け対象物に貼り付けられるようになっている。さらに、本変形例では、ラミネートフィルム10は、透明若しくは光透過性を有しており、透明導電層3の全面に貼り付けられている。
ラミネート加工によってラミネートフィルム10を透明導電層3に取り付けると、感熱性接着剤11が流動体状に軟化して透明導電層3に接着される。このとき、感熱性接着剤11が完全には溶融しないような温度設定とすることにより、絶縁パターン5における微小な孔5a内に感熱性接着時が入り込まずに感熱性接着剤11が硬化し、かつ十分な接着力が得られる。
本変形例では、絶縁パターン5における微小な孔5aは感熱性接着剤11の硬化物によって封止されるので、上述の実施形態と同様にパターン見えを軽減することができる。
(Modification 1)
Next, a modification of this embodiment will be described. FIG. 10 is a cross-sectional view showing the configuration of this modification.
As shown in FIG. 10, the conductive pattern forming substrate 1 of this modification has a
The
When the
In the present modification, since the
(変形例2)
次に、本実施形態の他の変形例について説明する。
本変形例では、ラミネートフィルム10に代えて、自己粘着フィルムが設けられている点が異なっている。
自己粘着フィルムは、粘着剤を有しておらず、素材自体のタック性によって貼りつけ対象物に貼り付けることができるフィルムである。このようなフィルムの例としては、例えば、3M社製の高透明性自己粘着型フィルム(CEF08A04)や、東レ社製の自己粘着性表面保護フィルム(製品名、トレテック)等を採用することができる。
本変形例では、絶縁パターン5の微小な孔5a内に粘着剤その他の流動体が入り込まないので、孔内に空気が存在する状態としやすい。
(Modification 2)
Next, another modification of the present embodiment will be described.
This modification is different in that a self-adhesive film is provided instead of the
The self-adhesive film is a film that does not have an adhesive and can be attached to an object to be attached due to the tackiness of the material itself. As an example of such a film, for example, a highly transparent self-adhesive film (CEF08A04) manufactured by 3M, a self-adhesive surface protective film (product name, Toretech) manufactured by Toray can be employed. .
In this modification, since the adhesive or other fluid does not enter into the minute holes 5a of the insulating
(変形例3)
次に、本実施形態の他の変形例について説明する。図11および図12は、本変形例の構成を示す断面図である。
図11に示すように、本変形例では、透明導電層3が2つ設けられている点が異なっている。
透明導電層3は、基材2の厚さ方向の一方の面に設けられた第一透明導電層3aと、基材2の厚さ方向の他方の面に設けられた第二透明導電層3bとを有している。
本変形例においては、第一透明導電層3aは、上述の実施形態で説明したのと同様に両面粘着テープ9により保護層8が取り付けられている。さらに、保護層8の周縁部には、遮光性の額縁印刷部8aが設けられており、両面粘着テープ9が見えないようになっている。
また、第二透明導電層3bは、両面粘着テープ9及び保護層8は設けられていない。
このような構成であっても、上述の実施形態と同様の効果を奏する。また、本変形例では、第一透明導電層3a及び第二透明導電層3bにより2層構造の電極及び配線7を形成することができる。
(Modification 3)
Next, another modification of the present embodiment will be described. 11 and 12 are cross-sectional views showing the configuration of this modification.
As shown in FIG. 11, the present modification is different in that two transparent
The transparent
In the present modification, the first transparent
Moreover, the 2nd transparent
Even with such a configuration, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained. Moreover, in this modification, the electrode and
また、本変形例に対するさらに他の構成の例として、例えば図12に示すように、上述の実施形態で説明した基材2(第一基材2a)において、上述の実施形態で説明した透明導電層3(第一導電層3a)が形成された側の面と反対側の面に第二基材2bが設けられ、上述の実施形態で説明した透明導電層3と同様に導電性を有する第二透明導電層3bが第二基材2bに形成された導電パターン形成基板1を挙げることができる。
Further, as an example of still another configuration for this modification, for example, as shown in FIG. 12, in the base material 2 (
この場合、第二基材2bは、接着剤や粘着剤を介して第一基材2aに直接固定されていてもよいし、第二透明導電層3b及び両面粘着テープ9を介して第一基材2に固定されていてもよい。
なお、接着剤や粘着剤を介して第二基材2bが第一基材2に直接固定されている場合には、第二透明導電層3bに保護層8と同様の保護層を別途設けてもよい。また、第二透明導電層3b及び両面粘着テープ9を介して第二基材2bが第一基材2に固定された状態では、第一基材2は、第二透明導電層3bに対する保護層8として機能している。
In this case, the
In addition, when the
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
例えば、上述の実施形態及びその変形例では、絶縁パターンに形成された微小な孔に空気が存在するようになっているが、空気に代えて、空気と異なる組成の気体が微小な孔内に存在していてもよい。また、空気に代えて、空気と略同等の屈折率を有する透明な樹脂が微小な孔内に存在していてもよい。
また、上述の配線の構成は特に限定されない。例えば、配線は、基材に予め金属蒸着等によって形成されていてもよく、配線が形成された基材上に上述の導電性樹脂層が形成されてもよい。
また、上述の実施形態及び各変形例において示した構成要素は適宜に組み合わせて構成することが可能である。
As mentioned above, although embodiment of this invention was explained in full detail with reference to drawings, the concrete structure is not restricted to this embodiment, The design change etc. of the range which does not deviate from the summary of this invention are included.
For example, in the above-described embodiment and its modification, air is present in the minute holes formed in the insulating pattern, but instead of air, a gas having a composition different from air is contained in the minute holes. May be present. Further, instead of air, a transparent resin having a refractive index substantially equal to that of air may be present in the minute holes.
Further, the configuration of the above wiring is not particularly limited. For example, the wiring may be previously formed on the base material by metal vapor deposition or the like, and the above-described conductive resin layer may be formed on the base material on which the wiring is formed.
In addition, the constituent elements shown in the above-described embodiment and each modification can be combined as appropriate.
1 導電パターン形成基板
2 基材
3 透明導電層
4 導電パターン
5 絶縁パターン
5a 微小な孔(隙間)
6 オーバーコート層
7 配線
8 保護層
9 両面粘着テープ(固定手段)
10 ラミネートフィルム(保護層)
11 感熱性接着剤(固定手段)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive
6
10 Laminate film (protective layer)
11 Heat-sensitive adhesive (fixing means)
Claims (8)
前記基材上に設けられた透明導電層と、
前記透明導電層上に設けられた保護層と、
前記透明導電層に前記保護層を固定するための固定手段と、
を備え、
前記透明導電層は、
微小金属粒子が光透過性樹脂内に分散された導電パターンと、
前記微小金属粒子及び前記光透過性樹脂を含む層から前記微小金属粒子が除去されて形成され、形成前に前記微小金属粒子が占めていた領域に対応する隙間が空いている絶縁パターンと、
を有し、
前記固定手段は、前記絶縁パターンにおける前記隙間に気体が存在する状態で前記透明導電層に前記保護層を固定している
ことを特徴とする導電パターン形成基板。 A substrate having optical transparency;
A transparent conductive layer provided on the substrate;
A protective layer provided on the transparent conductive layer;
Fixing means for fixing the protective layer to the transparent conductive layer;
With
The transparent conductive layer is
A conductive pattern in which fine metal particles are dispersed in a light-transmitting resin;
An insulating pattern formed by removing the fine metal particles from the layer containing the fine metal particles and the light-transmitting resin, and having a gap corresponding to a region occupied by the fine metal particles before formation, and
Have
The conductive pattern forming substrate, wherein the fixing means fixes the protective layer to the transparent conductive layer in a state where gas exists in the gap in the insulating pattern.
前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層とが前記基材の厚さ方向に離間した状態で前記透明導電層と前記保護層とを連結することを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 1,
The conductive pattern forming substrate, wherein the fixing means connects the transparent conductive layer and the protective layer in a state where the transparent conductive layer and the protective layer are separated from each other in the thickness direction of the base material.
前記保護層は、硬質な光透過性パネルを有し、
前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層との両方に接する軟性の透明樹脂フィルムを有することを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 1,
The protective layer has a hard light transmissive panel,
The conductive pattern forming substrate, wherein the fixing means includes a soft transparent resin film in contact with both the transparent conductive layer and the protective layer.
前記固定手段は、前記透明導電層と前記保護層との間に挟みこまれた流動体の硬化物からなり、
前記流動体の硬化物は、前記絶縁パターンにおける前記隙間を、空気が封入された状態で封止している
ことを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 1,
The fixing means is composed of a cured product of a fluid sandwiched between the transparent conductive layer and the protective layer,
The cured product of the fluid seals the gap in the insulating pattern in a state where air is sealed. The conductive pattern forming substrate.
前記透明導電層は前記基材の両面に設けられ、
前記基材の両面に設けられた前記透明導電層のうちの何れか一方のみに前記固定手段及び前記保護層が設けられている
ことを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 1,
The transparent conductive layer is provided on both sides of the substrate,
The conductive pattern forming substrate, wherein the fixing means and the protective layer are provided on only one of the transparent conductive layers provided on both surfaces of the base material.
前記透明導電層は、前記基材に対しては当該基材の厚さ方向の一方の面のみに設けられ、
前記基材の厚さ方向の他方の面には、前記基材と異なる第二基材が設けられ、
前記第二基材には、前記透明導電層とは別の第二透明導電層が設けられている
ことを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 1,
The transparent conductive layer is provided only on one surface in the thickness direction of the base material with respect to the base material,
On the other surface in the thickness direction of the base material, a second base material different from the base material is provided,
The said 2nd base material is provided with the 2nd transparent conductive layer different from the said transparent conductive layer. The conductive pattern formation board | substrate characterized by the above-mentioned.
前記固定手段は、前記第二透明導電層と前記第一基材とに接し前記第二透明導電層に前記第一基材を固定状態とし、
前記第一基材は、前記第二透明導電層に対する前記保護層である
ことを特徴とする導電パターン形成基板。 The conductive pattern forming substrate according to claim 6,
The fixing means is in contact with the second transparent conductive layer and the first base material, and the first base material is fixed to the second transparent conductive layer,
Said 1st base material is said protective layer with respect to said 2nd transparent conductive layer. The conductive pattern formation board | substrate characterized by the above-mentioned.
前記導電性樹脂層内の微小金属粒子の一部を除去して絶縁パターン及び導電パターンを形成し、
前記微小金属粒子及び前記光透過性樹脂を含む層から前記微小金属粒子が除去された際の隙間に気体が存在する状態で前記導電性樹脂層に光透過性の保護層を固定する
ことを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。 A conductive resin layer in which fine metal particles are dispersed in a light transmissive resin is formed on a light transmissive substrate,
Removing a part of the fine metal particles in the conductive resin layer to form an insulating pattern and a conductive pattern;
A light-transmitting protective layer is fixed to the conductive resin layer in a state where a gas exists in a gap when the fine metal particles are removed from the layer containing the fine metal particles and the light-transmitting resin. A method for producing a conductive pattern forming substrate.
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