JP2013221045A - Composition for forming protective film, and method of producing direct drawing waterless lithographic printing plate using the same - Google Patents

Composition for forming protective film, and method of producing direct drawing waterless lithographic printing plate using the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for forming a protective film capable of preventing deterioration in sensitivity to laser exposure and preventing adhesion of foreign matter to the surface of a silicone rubber layer, and a method of producing a direct drawing waterless lithographic printing plate using the composition for forming a protective film.SOLUTION: A composition for forming a protective film includes a polymer compound and a compound represented by general formula (I), wherein R is a 3-4C saturated hydrocarbon group.

Description

本発明は、保護膜形成用組成物に関するものであり、加えて、保護膜形成用組成物を用いた直描型水なし平版印刷版原版の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a protective film-forming composition and, in addition, to a method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor using the protective film-forming composition.

平版印刷は、インキ受容性の画線部とインキ反発性の非画線部を印刷版のほぼ同一平面に存在させ、インキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写する印刷方法である。平版印刷のための印刷版(以下、平版印刷版)には、湿し水の作用によって非画線部をインキ反発性とする平版印刷版と、湿し水を用いることなく、シリコーンゴムやフッ素樹脂をインキ反発性の非画線部として使用する水なし平版印刷版がある。   In lithographic printing, an ink-receptive image area and an ink repellent non-image area are present on the same plane of the printing plate, and ink is applied only to the image area using the difference in ink adhesion. After that, the printing method is to transfer the ink to a printing medium such as paper. Printing plates for lithographic printing (hereinafter referred to as lithographic printing plates) include lithographic printing plates in which non-image areas are repelled by the action of dampening water, silicone rubber and fluorine without using dampening water. There is a waterless lithographic printing plate that uses a resin as an ink repellent non-image area.

平版印刷版の作製には、画線部と非画線部を形成するために平版印刷版原版を露光する工程が含まれる。露光方法としては様々な方法が提案されている。これらは、原画フィルムを介して紫外線照射を行う方式と、原画フィルムを用いることなく原稿から直接画像を書き込むコンピュータートゥプレート(以下、CTPという)方式とに大別される。CTP方式としては、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、インクジェットでインキ反発層またはインキ受容層を形成する方法などが挙げられる。これらの中で、レーザー光を照射する方法は、解像度および製版速度の面で、他の方式よりも優れている。   Preparation of a lithographic printing plate includes a step of exposing the lithographic printing plate precursor to form an image area and a non-image area. Various exposure methods have been proposed. These are broadly classified into a method of irradiating ultraviolet rays through an original image film and a computer-to-plate (hereinafter referred to as CTP) method in which an image is directly written from an original without using the original image film. Examples of the CTP method include a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode, and a method of forming an ink repellent layer or an ink receiving layer by inkjet. Among these methods, the method of irradiating laser light is superior to other methods in terms of resolution and plate making speed.

レーザー光を照射する方法は、光反応によるフォトンモード方式と、光熱変換を行って熱反応を起こさせるヒートモード方式の2つの方式に分けられる。特にヒートモード方式は、明室で取り扱える利点と、光源となる半導体レーザーの急激な進歩によって、その有用性は大きくなっている。   There are two methods for irradiating laser light: a photon mode method using a photoreaction and a heat mode method in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction. In particular, the heat mode method has become more useful due to the advantage that it can be handled in a bright room and the rapid progress of semiconductor lasers as light sources.

このようなヒートモード方式に対応した直描型水なし平版印刷版原版に関して、これまでに様々な画像形成システムの提案がなされてきた。例えば、画像形成された層(1または2層以上)中の物質を破壊的に除去または揮発および除去することを含むレーザーアブレーションにより画像形成することを含む画像形成システムが挙げられる(例えば、特許文献1参照)。   Various image forming systems have been proposed so far for the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor corresponding to such a heat mode system. For example, an imaging system that includes imaging by laser ablation that includes destructively removing or volatilizing and removing material in an imaged layer (one or more layers) (eg, patent literature). 1).

また、第1の層およびこれに付着された第2の層を含み、これら第1の層と第2の層がインクおよびインク忌避性液体からなる群より選ばれる少なくとも1つの印刷液体に対して異なる親和性を有する印刷部材を加熱して、前記第2の層を実質的に融除することなしに、前記第1の層を前記第2の層からイメージに関連するパターンでもって不可逆的に分離させる画像形成システムや、第1の層と、この第1の層の下側に付着して配置された第2の層と、この第2の層の下側に配置された第3の層とを含み、前記第1の層と他の層の少なくとも一方がインクおよびインク忌避性液体からなる群より選ばれる少なくとも1つの印刷液体に対して異なる親和性を有する印刷部材を加熱して、前記第2の層を融除することなしに、前記第1の層を前記第2の層からイメージに関連するパターンでもって不可逆的に分離させる画像形成システムが挙げられる(例えば、特許文献2参照)。   And a first layer and a second layer attached thereto, wherein the first layer and the second layer are for at least one printing liquid selected from the group consisting of an ink and an ink repellent liquid. The first layer can be irreversibly patterned with an image-related pattern from the second layer without heating the printing member having a different affinity to substantially ablate the second layer. An image forming system to be separated; a first layer; a second layer disposed to adhere to the lower side of the first layer; and a third layer disposed to the lower side of the second layer And heating at least one of the first layer and the other layer having a different affinity for at least one printing liquid selected from the group consisting of ink and ink repellent liquid, Without ablating the second layer, the first layer Image forming system for irreversibly separated with a pattern associated with the image from the second layer and the like (e.g., see Patent Document 2).

さらに、感熱層中に光熱変換剤、発泡剤、熱可塑性樹脂を含むことを特徴とし、レーザー光照射により加熱部が体積膨張し、画線部のシリコーンゴム層が凸の状態となり、現像性を向上することができる直描型水なし平版印刷版原版が開示されている(例えば、特許文献3参照)。   Furthermore, the heat-sensitive layer contains a light-to-heat conversion agent, a foaming agent, and a thermoplastic resin. The heated part expands by laser light irradiation, and the silicone rubber layer in the image line part becomes a convex state. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor that can be improved is disclosed (for example, see Patent Document 3).

また、画像形成層の少なくとも一部が可溶化し、前処理液および/または現像液を使用することにより、画像形成された領域においてシリコーンゴム層が除去される画像形成システムが挙げられる(例えば、特許文献4参照)。さらに、少ないレーザー照射エネルギーで製版でき、画像再現性が良好な直描型水なし平版印刷版原版として、感熱層中に気泡や液泡を有する直描型水なし平版印刷版原版が開示されている(例えば、特許文献5、6参照)。   Further, there is an image forming system in which at least a part of the image forming layer is solubilized and the silicone rubber layer is removed in the image formed region by using a pretreatment liquid and / or a developer (for example, (See Patent Document 4). Furthermore, as a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor that can be made with less laser irradiation energy and has good image reproducibility, a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having bubbles and liquid bubbles in the heat-sensitive layer is disclosed. (For example, refer to Patent Documents 5 and 6).

水なし平版印刷版原版のシリコーンゴム層は傷つきやすいため、その保護などを目的として、シリコーンゴム層上にカバーフィルムをラミネートする方法や、ポリマー塗膜を形成する方法が提案されている(例えば、特許文献7〜9参照)。一方、カバーフィルムを装着したままで露光した場合には、カバーフィルムによってシリコーンゴム層が盛り上がることが阻害され、感度が低下するため、カバーフィルムを剥離した状態でレーザー露光することが提案されている(例えば、特許文献10参照)。   Since the silicone rubber layer of a waterless lithographic printing plate precursor is easily damaged, a method of laminating a cover film on the silicone rubber layer and a method of forming a polymer coating have been proposed for the purpose of protection thereof (for example, (See Patent Documents 7 to 9). On the other hand, when the exposure is performed with the cover film attached, the silicone rubber layer is hampered by the cover film, and the sensitivity is lowered. Therefore, it is proposed to perform laser exposure with the cover film peeled off. (For example, refer to Patent Document 10).

米国特許第5,353,705号明細書(特許請求の範囲)US Pat. No. 5,353,705 (Claims) 米国特許第6,107,001号明細書(特許請求の範囲)US Pat. No. 6,107,001 (Claims) 特開平11−254854号公報(特許請求の範囲、[0029]段)Japanese Patent Laid-Open No. 11-254854 (Claims, [0029] stage) 特開平11−221977号公報([0059]段)JP-A-11-221977 (stage [0059]) 特開2005−300586号公報(特許請求の範囲)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-300586 (Claims) WO2010/113989号公報(特許請求の範囲)WO2010 / 113989 (Claims) 特開昭55−55343号公報(特許請求の範囲)JP-A-55-55343 (Claims) 特開昭61−27547号公報(特許請求の範囲)JP 61-27547 A (Claims) 特開平2−301762号公報(特許請求の範囲)JP-A-2-301762 (Claims) 特開2000−309175号公報(特許請求の範囲、[0120]段)JP 2000-309175 A (claims, [0120] stage)

前記特許文献1〜3で提案された画像形成システムにおいて、シリコーンゴム層上にカバーフィルムをラミネートする方法では、前記の通りシリコーンゴム層が盛り上がることが阻害され、感度が低下する課題があった。また、特許文献5,6で提案された直描型印刷版原版においても、感熱層の少なくとも一部が熱膨張し、前記特許文献1〜3で提案された画像形成システムと同様にシリコーンゴム層上にカバーフィルムをラミネートする方法では感度が低下する課題があった。一方、前記特許文献7〜9で提案されたカバーフィルムやポリマー塗膜が、前記特許文献10で提案されているようにレーザー露光するときにない場合には、粘着性のシリコーンゴム層が印刷版原版の最上部となるために印刷版原版やその積層体や包装体に含まれる合紙や包装資材に由来する異物、あるいは作業環境に起因する飛来物が印刷版原版表面に付着し、レーザー光を遮ることによって露光阻害の要因となることがあった。前記異物や飛来物としては、合紙や包装資材に由来する紙粉が代表的であり、加えてその他のほこりや塵埃が挙げられる。以下、これらを総称して「異物」とする。   In the image forming systems proposed in Patent Documents 1 to 3, the method of laminating the cover film on the silicone rubber layer has a problem that the silicone rubber layer is hampered as described above and the sensitivity is lowered. Also in the direct-drawing type printing plate precursors proposed in Patent Documents 5 and 6, at least a part of the heat-sensitive layer is thermally expanded, and the silicone rubber layer is the same as the image forming system proposed in Patent Documents 1 to 3. The method of laminating the cover film on top has a problem that the sensitivity is lowered. On the other hand, when the cover film and polymer coating film proposed in Patent Documents 7 to 9 are not present when laser exposure is performed as proposed in Patent Document 10, an adhesive silicone rubber layer is formed on the printing plate. In order to become the top of the original plate, foreign materials derived from slip sheets and packaging materials contained in the printing plate original plate, its laminates and packages, or flying objects resulting from the work environment adhere to the surface of the printing plate original, and laser light Shielding the light could cause exposure inhibition. Typical examples of the foreign matters and flying objects include paper dust derived from slip sheets and packaging materials, and in addition, other dust and dust. Hereinafter, these are collectively referred to as “foreign substances”.

本発明は、レーザー露光に対する感度低下を抑制し、かつ、シリコーンゴム層表面への異物付着を抑制することができる保護膜形成用組成物、およびそれを用いた直描型水なし平版印刷版原版の製造方法を提供することを目的とする。特に、シリコーンゴム層表面への異物付着を抑制できる高分子化合物を含有し、かつ、感度低下を抑制できる程度に膜厚の小さい保護膜を容易に形成できる保護膜形成用組成物、およびそれを用いた直描型水なし平版印刷版原版の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention relates to a protective film-forming composition capable of suppressing a decrease in sensitivity to laser exposure and suppressing adhesion of foreign matter to the surface of a silicone rubber layer, and a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor using the same It aims at providing the manufacturing method of. In particular, a composition for forming a protective film that contains a polymer compound that can suppress adhesion of foreign matter to the surface of the silicone rubber layer and that can easily form a protective film that is thin enough to suppress a decrease in sensitivity, and An object of the present invention is to provide a method for producing the directly drawn waterless planographic printing plate precursor used.

上記課題を解決するため、本発明は、高分子化合物と下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする保護膜形成用組成物である。   In order to solve the above problems, the present invention provides a protective film-forming composition comprising a polymer compound and a compound represented by the following general formula (I).

Figure 2013221045
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ここで、Rは炭素数3〜4個の飽和炭化水素基を表す。 Here, R represents a saturated hydrocarbon group having 3 to 4 carbon atoms.

また、基板上に少なくとも感熱層、シリコーンゴム層および保護膜をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層を形成した後、上記保護膜形成用組成物をシリコーンゴム層上に塗布後、乾燥して保護膜を形成することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版の製造方法である。   Further, a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer, a silicone rubber layer and a protective film on a substrate in this order, and after forming at least the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer on the substrate, A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, wherein the protective film-forming composition is applied onto a silicone rubber layer and then dried to form a protective film.

本発明の保護膜形成用組成物により、シリコーンゴム層上に膜厚の小さい保護膜を容易に形成することができる。このため、本発明の保護膜形成用組成物を用いて、直描型水なし平版印刷版原版のレーザー露光に対する感度低下を抑制し、かつ、シリコーンゴム層表面への異物付着を抑制することができる。   With the protective film forming composition of the present invention, a protective film having a small thickness can be easily formed on the silicone rubber layer. Therefore, by using the composition for forming a protective film of the present invention, it is possible to suppress a decrease in sensitivity to laser exposure of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor and to suppress foreign matter adhesion on the surface of the silicone rubber layer. it can.

本発明は、保護膜形成用組成物、およびそれを用いた直描型水なし平版印刷版原版の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a protective film forming composition and a method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor using the same.

保護膜形成用組成物は、高分子化合物と下記一般式(I)で表される化合物を含有する。また、必要に応じて、高分子化合物との反応性を有する架橋剤を含有してもよい。高分子化合物と架橋剤の反応によって保護膜の軟化点やガラス転移温度、硬さを増大することができる。   The composition for forming a protective film contains a polymer compound and a compound represented by the following general formula (I). Moreover, you may contain the crosslinking agent which has the reactivity with a high molecular compound as needed. The softening point, glass transition temperature, and hardness of the protective film can be increased by the reaction between the polymer compound and the crosslinking agent.

Figure 2013221045
Figure 2013221045

ここで、Rは炭素数3〜4個の飽和炭化水素基を表す。 Here, R represents a saturated hydrocarbon group having 3 to 4 carbon atoms.

本発明において、高分子化合物とは、重量平均分子量が10,000〜500,000の範囲の重合体を指す。特に、重合鎖が炭素、水素、窒素、酸素、ケイ素の元素から構成される有機重合体(ポリマー)が好ましい。さらに、前記一般式(I)で表される化合物に溶解することが好ましく、また、高分子化合物自体がフィルム形成能を有することが好ましい。高分子化合物を含有することにより、保護膜形成用組成物から形成される保護膜の作製が容易となり、十分な膜強度を保持させることができる。ここで、高分子化合物の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で測定することができる。本発明における高分子化合物の重量平均分子量は、GPCで測定し、標準ポリスチレンで換算した値とする。   In the present invention, the polymer compound refers to a polymer having a weight average molecular weight in the range of 10,000 to 500,000. In particular, an organic polymer (polymer) whose polymer chain is composed of carbon, hydrogen, nitrogen, oxygen, and silicon elements is preferred. Furthermore, it is preferable to dissolve in the compound represented by the general formula (I), and it is preferable that the polymer compound itself has a film forming ability. By containing the polymer compound, it is easy to produce a protective film formed from the protective film-forming composition, and sufficient film strength can be maintained. Here, the weight average molecular weight of the polymer compound can be measured by gel permeation chromatography (GPC). The weight average molecular weight of the polymer compound in the present invention is a value measured by GPC and converted to standard polystyrene.

フィルム形成能を有するポリマーの例としては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体および共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマーの単独重合体および共重合体、ポリ酢酸ビニル等のビニルエステル類の単独重合体および酢酸ビニル−塩化ビニル等の共重合体、その他のビニル系単独重合体および共重合体、イソプレン、スチレン−ブタジエン等の各種合成ゴム類、ポリエステル、ポリカーボネート等の縮合系ポリマー、分子内に活性水素を有するポリマー等が挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。ここで、(メタ)アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを示し、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸またはメタクリル酸を示す。   Examples of polymers having film-forming ability include homopolymers and copolymers of (meth) acrylic acid esters such as polymethyl (meth) acrylate and polybutyl (meth) acrylate, styrene monomers such as polystyrene and α-methylstyrene Homopolymers and copolymers of the above, homopolymers of vinyl esters such as polyvinyl acetate and copolymers such as vinyl acetate-vinyl chloride, other vinyl homopolymers and copolymers, isoprene, styrene-butadiene And other synthetic rubbers, condensation polymers such as polyester and polycarbonate, and polymers having active hydrogen in the molecule. Two or more of these may be contained. Here, (meth) acrylate indicates acrylate or methacrylate, and (meth) acrylic acid indicates acrylic acid or methacrylic acid.

活性水素を有するポリマーとしては、例えば、−OH、−SH、−NH、−NH−、−CO−NH、−CO−NH−、−OC(=O)−NH−、−NH−CO−NH−、−CO−OH、−CS−OH、−CO−SH、−CS−SH、−SOH、−PO、−SO−NH、−SO−NH−、−CO−CH−CO−などの活性水素を有する構造単位を有するポリマーを挙げることができる。このような構造単位を有するポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸などのカルボキシル基を含有するモノマーの単独重合体もしくは共重合体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基を含有する(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体もしくは共重合体、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドの単独重合体もしくは共重合体、アミン類と(メタ)アクリル酸グリシジルまたはアリルグリシジルとの反応物の単独重合体もしくは共重合体、p−ヒドロキシスチレン、ビニルアルコールの単独重合体もしくは共重合体などの活性水素を有するエチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(共重合モノマー成分としては、活性水素を有する他のエチレン性不飽和モノマーでもよく、活性水素を含有しないエチレン性不飽和モノマーでもよい。)や、ポリウレタン、ポリウレア、ポリアミド(ナイロン樹脂)、エポキシ樹脂、ポリアルキレンイミン、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、セルロース誘導体などの主鎖に活性水素を有する構造単位を有する縮合体などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。 Examples of the polymer having active hydrogen include —OH, —SH, —NH 2 , —NH—, —CO—NH 2 , —CO—NH—, —OC (═O) —NH—, —NH—CO. -NH -, - CO-OH, -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -SO 3 H, -PO 3 H 2, -SO 2 -NH 2, -SO 2 -NH -, - polymers can be exemplified having a structure unit having an active hydrogen, such as CO-CH 2 -CO-. Examples of the polymer having such a structural unit include a homopolymer or copolymer of a monomer containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. Homopolymers or copolymers of (meth) acrylic acid esters containing hydroxyl groups such as N-alkyl (meth) acrylamide, homopolymers or copolymers of (meth) acrylamide, amines and (meth) acrylic acid A homopolymer or copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having active hydrogen such as a homopolymer or copolymer of a reaction product with glycidyl or allyl glycidyl, a homopolymer or copolymer of p-hydroxystyrene or vinyl alcohol Combined (active hydrogen Other ethylenically unsaturated monomers may be used, and ethylenically unsaturated monomers containing no active hydrogen may be used.), Polyurethane, polyurea, polyamide (nylon resin), epoxy resin, polyalkyleneimine, novolac resin, resole resin, Examples thereof include condensates having a structural unit having active hydrogen in the main chain such as a cellulose derivative. Two or more of these may be contained.

後述する直描型水なし平版印刷版原版において、必要に応じて使用される合紙などとの接触による保護膜表面の擦過および保護膜のシリコーンゴム層からの欠落を抑制することは、本発明の効果を高めるために好ましい。擦過による保護膜の欠落を抑制する目的から、シリコーンゴム層に対する保護膜の接着性を向上することが有効である。保護膜とシリコーンゴム層との接着性を向上する目的から、高分子化合物として、ポリオルガノシロキサンを分子内に含有するポリマーが好ましい。   In the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor described later, it is possible to suppress scratching of the surface of the protective film due to contact with a slip sheet or the like used as necessary, and loss of the protective film from the silicone rubber layer. It is preferable for enhancing the effect. In order to suppress the loss of the protective film due to rubbing, it is effective to improve the adhesion of the protective film to the silicone rubber layer. For the purpose of improving the adhesion between the protective film and the silicone rubber layer, a polymer containing polyorganosiloxane in the molecule is preferred as the polymer compound.

ポリオルガノシロキサンを分子内に含有するポリマーとしては、例えば、ラジカル重合性官能基を有するポリオルガノシロキサンのマクロモノマーを、その他のラジカル重合性モノマーと共重合したポリオルガノシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体が挙げられる。その他のラジカル重合性モノマーとしては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基を有する化合物が好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する化合物としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドや、水酸基を有する2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、カルボン酸を有する(メタ)アクリル酸などが挙げられる。また、ビニル基を有する化合物としては、例えば、スチレン、α―メチルスチレン、酢酸ビニルなどが挙げられる。   Examples of the polymer containing polyorganosiloxane in the molecule include, for example, an acrylic polymer having a polyorganosiloxane having a radical polymerizable functional group and a polyorganosiloxane copolymerized with another radical polymerizable monomer in the side chain. A silicone graft copolymer is mentioned. As other radical polymerizable monomers, compounds having a (meth) acryloyl group and a vinyl group are preferable. Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate having a hydroxyl group, and 2-hydroxypropyl (meth). Examples thereof include (meth) acrylic acid having acrylate and carboxylic acid. Examples of the compound having a vinyl group include styrene, α-methylstyrene, vinyl acetate and the like.

保護膜形成用組成物から形成される保護膜の十分な硬さを保持し、シリコーンゴム層表面への異物付着を抑制する効果をより安定に維持する観点から、上記フィルム形成能を有するポリマーのうち、軟化点が30℃以上の保護膜を形成するポリマーが好ましい。さらに、ガラス転移温度が30℃以上の保護膜を形成するポリマーがより好ましい。例えば、スチレン、ポリ(α−スチレン)、ポリビニルピロリドンは、ポリマー単独でガラス転移温度が30℃以上のポリマーであり、好ましいポリマーとして挙げられる。また、“サイマック(登録商標)”US−270、GS−30、GS−101(東亞合成(株)製)等は、ポリマー単独でガラス転移温度が30℃以上のポリオルガノシロキサンを分子内に含有する高分子化合物であり、好ましいポリマーとして挙げられる。これらポリマーを含有することにより、架橋剤との反応を要することなくガラス転移温度が30℃以上である保護膜を形成することができる。   From the viewpoint of maintaining the sufficient hardness of the protective film formed from the composition for forming a protective film and more stably maintaining the effect of suppressing the adhesion of foreign matter to the surface of the silicone rubber layer, the polymer having the film-forming ability is used. Among them, a polymer that forms a protective film having a softening point of 30 ° C. or higher is preferable. Furthermore, a polymer that forms a protective film having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher is more preferable. For example, styrene, poly (α-styrene), and polyvinylpyrrolidone are polymers having a glass transition temperature of 30 ° C. or more by themselves, and are preferable polymers. In addition, “Symac (registered trademark)” US-270, GS-30, GS-101 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like contain a polyorganosiloxane having a glass transition temperature of 30 ° C. or more alone in the molecule. And is a preferred polymer. By containing these polymers, a protective film having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher can be formed without requiring a reaction with a crosslinking agent.

ここで、ポリマーのガラス転移温度は、示差走査型熱量測定により求めることができる。約5mgのポリマーを測定試料とし、JISK7121−1987に基づいて、−50℃で5分間保持後20℃/分の昇温速度にて100℃まで昇温させて示差走査型熱量計により測定を行い、観測されたDSC曲線の中間点をガラス転移温度とする。   Here, the glass transition temperature of the polymer can be determined by differential scanning calorimetry. Using about 5 mg of polymer as a measurement sample, based on JISK7121-1987, hold at -50 ° C for 5 minutes, then increase the temperature to 100 ° C at a rate of temperature increase of 20 ° C / min, and measure with a differential scanning calorimeter. The midpoint of the observed DSC curve is taken as the glass transition temperature.

高分子化合物の含有量は、保護膜形成用組成物の全固形分中25重量%以上であることが好ましく、より好ましくは50重量%以上である。   The content of the polymer compound is preferably 25% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, based on the total solid content of the protective film-forming composition.

高分子化合物との反応性を有する架橋剤としては、多官能性化合物や有機錯化合物が挙げられる。多官能性化合物としては、例えば、多官能イソシアネート、多官能ブロックドイソシアネート、多官能エポキシ化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能アルデヒド、多官能メルカプト化合物、多官能アルコキシシリル化合物、多官能アミン化合物、多官能カルボン酸、多官能ビニル化合物、多官能ジアゾニウム塩、多官能アジド化合物、ヒドラジンなどが挙げられる。有機錯化合物としては、例えば、金属に有機配位子が配位した有機錯塩、金属に有機配位子および無機配位子が配位子した有機無機錯塩、金属と有機分子が酸素を介して共有結合している金属アルコキシド類などが挙げられる。   Examples of the crosslinking agent having reactivity with the polymer compound include polyfunctional compounds and organic complex compounds. Examples of the polyfunctional compound include polyfunctional isocyanate, polyfunctional blocked isocyanate, polyfunctional epoxy compound, polyfunctional (meth) acrylate compound, polyfunctional aldehyde, polyfunctional mercapto compound, polyfunctional alkoxysilyl compound, polyfunctional amine. Examples thereof include compounds, polyfunctional carboxylic acids, polyfunctional vinyl compounds, polyfunctional diazonium salts, polyfunctional azide compounds, and hydrazine. Examples of the organic complex compound include an organic complex salt in which an organic ligand is coordinated to a metal, an organic inorganic complex salt in which an organic ligand and an inorganic ligand are liganded to a metal, and a metal and an organic molecule via oxygen. Examples thereof include metal alkoxides that are covalently bonded.

本発明の保護膜形成用組成物は、前記一般式(I)で表される化合物を含有する。前記一般式(I)で表される化合物を含有することによってシリコーンゴム層表面に対する塗工性が向上し、シリコーンゴム層上に膜厚の小さい保護膜を容易に形成することができる。さらに、高分子化合物の溶解性が高いため、高分子化合物の選択幅が広い。また、保護膜形成用組成物の固形分濃度の制約が小さいため、経済的に有利な保護膜の作製方法を選択できる。   The composition for forming a protective film of the present invention contains the compound represented by the general formula (I). By containing the compound represented by the general formula (I), the coating property on the surface of the silicone rubber layer is improved, and a protective film having a small thickness can be easily formed on the silicone rubber layer. Furthermore, since the solubility of the polymer compound is high, the selection range of the polymer compound is wide. Moreover, since the restrictions on the solid content concentration of the protective film-forming composition are small, an economically advantageous protective film manufacturing method can be selected.

前記一般式(I)で表される化合物の具体例としては、メチルプロピルエーテル、n−ブチルメチルエーテル、sec−ブチルメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルなどが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。前記一般式(I)で表される化合物はいずれも大気圧下25℃において液体であり、高分子化合物の溶剤として作用する。前記一般式(I)で表される化合物の中でも、n−ブチルメチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルが塗工性や溶解性の点から好ましく、n−ブチルメチルエーテルがより好ましい。   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include methyl propyl ether, n-butyl methyl ether, sec-butyl methyl ether, tert-butyl methyl ether and the like. Two or more of these may be contained. All of the compounds represented by the general formula (I) are liquid at 25 ° C. under atmospheric pressure, and act as a solvent for the polymer compound. Among the compounds represented by the general formula (I), n-butyl methyl ether and tert-butyl methyl ether are preferable from the viewpoint of coating properties and solubility, and n-butyl methyl ether is more preferable.

保護膜形成用組成物中の前記一般式(I)で表される化合物の含有率は、塗工性や溶解性の点から、50重量%以上であることが好ましく、80重量%以上であることがより好ましく、90重量%以上であることがさらに好ましい。   The content of the compound represented by the general formula (I) in the composition for forming a protective film is preferably 50% by weight or more and 80% by weight or more from the viewpoint of coating property and solubility. More preferably, it is more preferably 90% by weight or more.

本発明の保護膜形成用組成物は、必要に応じて、さらに界面活性剤などを含有してもよい。   The composition for forming a protective film of the present invention may further contain a surfactant or the like, if necessary.

また、本発明の保護膜形成用組成物は、前記一般式(I)で表される化合物とともに他の溶剤を使用してもよい。他の溶剤は、高分子化合物を溶解し、保護膜形成用組成物を構成できるものであれば限定されない。例えば、飽和炭化水素類、芳香族炭化水素類、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミド類等の溶剤が挙げられる。保護膜形成用組成物の全溶剤中、前記一般式(I)で表される化合物の含有量は、80重量%以上が好ましく、95重量%以上がより好ましい。   Moreover, the composition for protective film formation of this invention may use another solvent with the compound represented by the said general formula (I). The other solvent is not limited as long as it can dissolve the polymer compound and constitute the protective film-forming composition. Examples thereof include solvents such as saturated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, ethers, ketones, esters and amides. The content of the compound represented by the general formula (I) in the total solvent of the composition for forming a protective film is preferably 80% by weight or more, and more preferably 95% by weight or more.

本発明の保護膜形成用組成物は、高分子化合物と下記一般式(I)で表される化合物、必要に応じて架橋剤や界面活性剤、他の溶剤を加えて、室温または加温下で撹拌混合することによって製造できる。   The composition for forming a protective film of the present invention comprises a polymer compound, a compound represented by the following general formula (I), a cross-linking agent, a surfactant, and other solvents as necessary, at room temperature or under heating. And stirring and mixing.

次に本発明の保護膜形成用組成物を用いた直描型水なし平版印刷版原版とその製造方法について、以下に説明する。   Next, a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor using the protective film-forming composition of the present invention and a method for producing the same will be described below.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、基板上に少なくとも感熱層、シリコーンゴム層および保護膜をこの順に有する。保護膜が、シリコーンゴム層表面を被覆することによって、シリコーンゴム層に対する異物付着が抑制される。このため、印刷版原版の表面に異物が接触した場合の付着を防止できる。あるいは、露光工程の前や露光工程と同時に実施可能な印刷版原版表面の清浄化工程において、印刷版原版表面からの付着物の除去が容易になる。これらの作用によって、印刷版原版の露光においてレーザー光線を遮ることによって起こる露光阻害の要因を低減することが可能となる。保護膜は、その表面がシリコーンゴム層表面よりも硬いことが好ましい。また、保護膜のガラス転移温度は30℃以上であることが好ましい。   The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention has at least a heat-sensitive layer, a silicone rubber layer, and a protective film in this order on a substrate. When the protective film covers the surface of the silicone rubber layer, foreign matter adhesion to the silicone rubber layer is suppressed. For this reason, adhesion when a foreign material contacts the surface of the printing plate precursor can be prevented. Alternatively, in the cleaning process of the printing plate precursor surface that can be performed before the exposure process or simultaneously with the exposure process, it is easy to remove the deposits from the printing plate precursor surface. By these actions, it becomes possible to reduce the factor of exposure inhibition caused by blocking the laser beam in the exposure of the printing plate precursor. The surface of the protective film is preferably harder than the surface of the silicone rubber layer. Moreover, it is preferable that the glass transition temperature of a protective film is 30 degreeC or more.

基板としては、従来印刷版の基板として用いられてきた寸法的に安定な公知の紙、金属、ガラス、フィルムなどを使用することができる。具体的には、紙;プラスチック(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙;アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などの金属板;ソーダライム、石英などのガラス板;シリコンウエハー;セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのプラスチックのフィルム;上記金属がラミネートまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムは透明でも不透明でもよいが、検版性の観点からは、不透明のフィルムが好ましい。   As the substrate, known dimensionally stable paper, metal, glass, film, etc., which have been conventionally used as a printing plate substrate, can be used. Specifically, paper; paper laminated with plastic (polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.); metal plate such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper; glass plate such as soda lime, quartz; silicon wafer; Plastic films such as cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal; paper or plastic film on which the above metal is laminated or vapor-deposited. The plastic film may be transparent or opaque, but an opaque film is preferred from the viewpoint of plate inspection.

これら基板のうち、アルミニウム板は寸法的に極めて安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。また、軽印刷用の柔軟な基板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。   Of these substrates, an aluminum plate is particularly preferable because it is extremely dimensionally stable and inexpensive. A polyethylene terephthalate film is particularly preferable as a flexible substrate for light printing.

基板の厚みは特に限定されず、平版印刷に使用される印刷機に対応した厚みを選択すればよい。   The thickness of the substrate is not particularly limited, and a thickness corresponding to a printing machine used for lithographic printing may be selected.

次に、本発明に好ましく用いることができる感熱層について説明する。感熱層は、レーザー描画により物性が変化する層および/またはレーザー描画によりシリコーンゴム層との接着力が低下する層が好ましい。例えば、活性水素を有するポリマー、架橋剤、光熱変換物質を含む組成物や、活性水素を有するポリマー、有機錯化合物、光熱変換物質を含む組成物を塗布、(加熱)乾燥して得られる層が挙げられる。   Next, the thermosensitive layer that can be preferably used in the present invention will be described. The heat-sensitive layer is preferably a layer whose physical properties change by laser drawing and / or a layer whose adhesive force with the silicone rubber layer decreases by laser drawing. For example, a layer obtained by applying a composition containing an active hydrogen-containing polymer, a crosslinking agent, a photothermal conversion substance, or an active hydrogen-containing polymer, an organic complex compound, or a photothermal conversion substance, and drying (heating). Can be mentioned.

活性水素を有するポリマーとしては、保護膜形成用組成物に含有される高分子化合物において、活性水素を有するポリマーとして例示したものを用いることができる。これらを2種以上含有してもよい。中でも、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基を有するポリマーが好ましく、フェノール性水酸基を有するポリマー(p−ヒドロキシスチレンの単独重合体もしくは共重合体、ノボラック樹脂、レゾール樹脂など)がより好ましい。   As the polymer having active hydrogen, those exemplified as the polymer having active hydrogen in the polymer compound contained in the composition for forming a protective film can be used. Two or more of these may be contained. Among them, a polymer having an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, or a carboxyl group is preferable, and a polymer having a phenolic hydroxyl group (such as a homopolymer or copolymer of p-hydroxystyrene, a novolak resin, or a resole resin) is more preferable.

活性水素を有するポリマーの含有量は、感熱層の全固形分中50重量%〜90重量%が好ましい。   The content of the polymer having active hydrogen is preferably 50% by weight to 90% by weight in the total solid content of the heat-sensitive layer.

活性水素を有するポリマーとともに、活性水素を有しない、フィルム形成能を有するポリマー(他のポリマーと称する)を含有することも好ましく行われる。他のポリマーとしては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体もしくは共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマーの単独重合体もしくは共重合体、イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニルなどのビニルエステルなどの単独重合体もしくは酢酸ビニル−塩化ビニルなどの共重合体、ポリエステル、ポリカーボネートなどの縮合系各種ポリマーなどが挙げられる。   It is also preferable to contain a polymer having active hydrogen and a film-forming polymer that does not have active hydrogen (referred to as another polymer). Other polymers include homopolymers or copolymers of (meth) acrylic acid esters such as polymethyl (meth) acrylate and polybutyl (meth) acrylate, homopolymers of styrene monomers such as polystyrene and α-methylstyrene, or Copolymers, various synthetic rubbers such as isoprene and styrene-butadiene, homopolymers such as vinyl esters such as polyvinyl acetate, copolymers such as vinyl acetate-vinyl chloride, various condensation polymers such as polyester and polycarbonate, etc. Is mentioned.

これら他のポリマーの含有量は、感熱層の全固形分中30重量%以下が好ましく、より好ましくは10重量%以下である。   The content of these other polymers is preferably 30% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, based on the total solid content of the heat-sensitive layer.

架橋剤としては、架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられる。例えば、保護膜形成用組成物に含有されてもよい架橋剤において、多官能性化合物として例示したものを用いることができる。   Examples of the crosslinking agent include known polyfunctional compounds having crosslinkability. For example, what was illustrated as a polyfunctional compound in the crosslinking agent which may be contained in the composition for protective film formation can be used.

有機錯化合物は、金属と有機化合物からなり、活性水素を有するポリマーの架橋剤として、および/または、熱硬化反応の触媒として機能する。有機錯化合物が架橋剤として機能する場合であっても、感熱層にさらに前述の架橋剤を含有してもよい。   The organic complex compound is composed of a metal and an organic compound, and functions as a crosslinking agent for a polymer having active hydrogen and / or as a catalyst for a thermosetting reaction. Even when the organic complex compound functions as a cross-linking agent, the heat-sensitive layer may further contain the above-described cross-linking agent.

本発明における有機錯化合物としては、金属に有機配位子が配位した有機錯塩、金属に有機配位子および無機配位子が配位子した有機無機錯塩、金属と有機分子が酸素を介して共有結合している金属アルコキシド類などが挙げられる。これらの中でも、配位子が2個以上のドナー原子を有し、金属原子を含む環を形成するような金属キレート化合物が、有機錯化合物自身の安定性や感熱層組成物溶液の安定性などの面から好ましく用いられる。   Examples of the organic complex compound in the present invention include an organic complex salt in which an organic ligand is coordinated to a metal, an organic inorganic complex salt in which an organic ligand and an inorganic ligand are liganded to a metal, and a metal and an organic molecule through oxygen. Metal alkoxides covalently bonded to each other. Among these, the metal chelate compound in which the ligand has two or more donor atoms and forms a ring containing a metal atom, the stability of the organic complex compound itself, the stability of the thermosensitive layer composition solution, etc. It is preferably used from the aspect of.

有機錯化合物を形成する主な金属としては、Al(III)、Ti(IV)、Mn(II)、Mn(III)、Fe(II)、Fe(III)、Co(II)、Co(III)、Ni(II)、Ni(IV)、Cu(I)、Cu(II)、Zn(II)、Ge、In、Sn(II)、Sn(IV)、Zr(IV)、Hf(IV)が好ましい。Al(III)は感度向上効果が得られやすい点から特に好ましく、Ti(IV)は印刷インキやインキ洗浄剤に対する耐性が発現しやすい点から特に好ましい。   The main metals forming the organic complex compounds are Al (III), Ti (IV), Mn (II), Mn (III), Fe (II), Fe (III), Co (II), Co (III ), Ni (II), Ni (IV), Cu (I), Cu (II), Zn (II), Ge, In, Sn (II), Sn (IV), Zr (IV), Hf (IV) Is preferred. Al (III) is particularly preferable from the viewpoint that the effect of improving the sensitivity is easily obtained, and Ti (IV) is particularly preferable from the viewpoint that resistance to the printing ink and the ink cleaning agent is easily exhibited.

また、配位子としては、酸素、窒素、硫黄などをドナー原子として有する配位基を有する化合物が挙げられる。配位基の具体例としては、酸素をドナー原子とするものとしては、−OH(アルコール、エノールおよびフェノール)、−COOH(カルボン酸)、>C=O(アルデヒド、ケトン、キノン)、−O−(エーテル)、−COOR(エステル、R:脂肪族または芳香族炭化水素を表す)、−N=O(ニトロソ化合物)、−NO(ニトロ化合物)、>N−O(N−オキシド)、−SOH(スルホン酸)、−PO(亜リン酸)など、窒素をドナー原子とするものとしては、−NH(1級アミン、アミド、ヒドラジン)、>NH(2級アミン、ヒドラジン)、>N−(3級アミン)、−N=N−(アゾ化合物、複素環化合物)、=N−OH(オキシム)、−NO(ニトロ化合物)、−N=O(ニトロソ化合物)、>C=N−(シッフ塩基、複素環化合物)、>C=NH(アルデヒド、ケトンイミン、エナミン類)、−NCS(イソチオシアナト)など、硫黄をドナー原子とするものとしては、−SH(チオール)、−S−(チオエーテル)、>C=S(チオケトン、チオアミド)、=S−(複素環化合物)、−C(=O)−SH、−C(=S)−OH、−C(=S)−SH(チオカルボン酸)、−SCN(チオシアナト)などが挙げられる。 Moreover, as a ligand, the compound which has a coordination group which has oxygen, nitrogen, sulfur, etc. as a donor atom is mentioned. Specific examples of the coordinating group include oxygen as a donor atom: -OH (alcohol, enol and phenol), -COOH (carboxylic acid),> C = O (aldehyde, ketone, quinone), -O - (ether), - COOR (ester, R: represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon), - N = O (nitroso compounds), - NO 2 (nitro compound),> NO (N-oxide), Examples of —SO 3 H (sulfonic acid) and —PO 3 H 2 (phosphorous acid) that use nitrogen as a donor atom include —NH 2 (primary amine, amide, hydrazine),> NH (secondary amine). , hydrazine),> N- (3 amine), - N = N- (azo compounds, heterocyclic compounds), = N-OH (oxime), - NO 2 (nitro compound), - N = O (nitroso compounds ),> C = N- ( Examples of compounds having sulfur as a donor atom, such as Cuff base, heterocyclic compound),> C = NH (aldehyde, ketone imine, enamines), -NCS (isothiocyanato), -SH (thiol), -S- (thioether) ),> C = S (thioketone, thioamide), = S- (heterocyclic compound), -C (= O) -SH, -C (= S) -OH, -C (= S) -SH (thiocarboxylic acid) ), -SCN (thiocyanato) and the like.

上記のような金属と配位子から形成される有機錯化合物のうち、好ましく用いられる化合物としては、Al(III)、Ti(IV)、Fe(II)、Fe(III)、Mn(III)、Co(II)、Co(III)、Ni(II)、Ni(IV)、Cu(I)、Cu(II)、Zn(II)、Ge、In、Sn(II)、Sn(IV)、Zr(IV)、Hf(IV)などの金属のβ−ジケトン類、アミン類、アルコール類、カルボン酸類との錯化合物が挙げられ、Al(III)、Fe(II)、Fe(III)、Ti(IV)、Zr(IV)のアセチルアセトン錯体、アセト酢酸エステル錯体などが特に好ましい。   Among the organic complex compounds formed from the above metals and ligands, the compounds preferably used include Al (III), Ti (IV), Fe (II), Fe (III), and Mn (III). , Co (II), Co (III), Ni (II), Ni (IV), Cu (I), Cu (II), Zn (II), Ge, In, Sn (II), Sn (IV), Zr (IV), Hf (IV) and other metal β-diketones, amines, alcohols, complex compounds with carboxylic acids, Al (III), Fe (II), Fe (III), Ti Particularly preferred are (IV), acetylacetone complexes of Zr (IV), acetoacetate complexes, and the like.

このような化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物を挙げることができる。アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(プロピルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ブチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ノニルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキサフルオロペンタジオネート)、アルミニウムトリス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、アルミニウムビス(エチルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(アセチルアセトネート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(プロピルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(ブチルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(プロピルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ブチルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ノニルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジブトキシドモノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウム−s−ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジ−s−ブトキシドモノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(−9−オクタデセニルアセトアセテート)など。チタニウムトリイソプロポキシドモノ(アリルアセトアセテート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(トリエタノールアミン)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(トリエタノールアミン)、チタニウムジイソプロポキシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(エチルアセトアセテート)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、チタニウムトリ−n−ブトキシドモノ(エチルアセトアセテート)、チタニウムトリイソプロポキシドモノ(メタクリルオキシエチルアセトアセテート)、チタニウムオキサイシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムテトラ(2−エチル−3−ヒドロキシヘキシルオキサイド)、チタニウムジヒドロキシビス(ラクテート)、チタニウム(エチレングリコーレート)ビス(ジオクチルフォスフェート)など。ジルコニウムジ−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラキス(ヘキサフルオロペンタンジオネート)、ジルコニウムテトラキス(トリフルオロペンタンジオネート)、ジルコニウムトリ−n−プロポキシドモノ(メタクリルオキシエチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラキス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、トリグリコラートジルコン酸、トリラクテートジルコン酸など。鉄(III)アセチルアセトネート、ジベンゾイルメタン鉄(II)、トロポロン鉄、トリストロポロノ鉄(III)、ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ鉄(III)、アセト酢酸エステル鉄(III)、鉄(III)ベンゾイルアセトネート、鉄(III)ジフェニルプロパンジオネート、鉄(III)テトラメチルヘプタンジオネート、鉄(III)トリフルオロペンタンジオネートなど。これらを2種以上含有してもよい。   Specific examples of such compounds include the following compounds. Aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), aluminum tris (propyl acetoacetate), aluminum tris (butyl acetoacetate), aluminum tris (hexyl acetoacetate), aluminum tris (nonyl acetoacetate), aluminum tris (Hexafluoropentadionate), aluminum tris (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), aluminum bis (ethyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (acetylacetate) Nate) mono (ethyl acetoacetate), aluminum bis (propyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (butyl acetoacetate) G) Mono (acetylacetonate), aluminum bis (hexyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (propyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), aluminum bis (butyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate) Aluminum bis (hexyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), Aluminum bis (nonyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), Aluminum dibutoxide mono (acetylacetonate), Aluminum diisopropoxide mono (acetylacetonate) Aluminum diisopropoxide mono (ethyl acetoacetate), aluminum-s-butoxide bis (ethyl acetoacetate), aluminum di-s- Tokishidomono (ethylacetoacetate), aluminum di-isopropoxide mono (9-octadecenyl acetoacetate), etc.. Titanium triisopropoxide mono (allyl acetoacetate), titanium diisopropoxide bis (triethanolamine), titanium di-n-butoxide bis (triethanolamine), titanium diisopropoxide bis (acetylacetonate), titanium Di-n-butoxide bis (acetylacetonate), titanium diisopropoxide bis (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), titanium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate) Titanium di-n-butoxide bis (ethyl acetoacetate), titanium tri-n-butoxide mono (ethyl acetoacetate), titanium triisopropoxide mono (methacryloxyethyl acetoacetate), titanium oxide Dobisu (acetylacetonate), titanium tetra (2-ethyl-3-hydroxyhexyl oxide), titanium dihydroxy bis (lactate), and titanium (ethylene glycolate) bis (dioctyl phosphate). Zirconium di-n-butoxide bis (acetylacetonate), zirconium tetrakis (hexafluoropentanedionate), zirconium tetrakis (trifluoropentanedionate), zirconium tri-n-propoxide mono (methacryloxyethylacetoacetate), zirconium Tetrakis (acetylacetonate), zirconium tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), triglycolate zirconate, trilactate zirconate and the like. Iron (III) acetylacetonate, dibenzoylmethane iron (II), tropolone iron, tristroporono iron (III), hinokitiol iron, tris hinokitioro iron (III), acetoacetate iron (III), iron (III) benzoyl Acetonate, iron (III) diphenylpropane dionate, iron (III) tetramethylheptane dionate, iron (III) trifluoropentane dionate, etc. Two or more of these may be contained.

このような有機錯化合物の含有量は、感熱層の全固形分中3〜30重量%が好ましい。有機錯化合物の含有量を3重量%以上とすることによって、上記のような効果をより高めることができる。一方、30重量%以下とすることによって、印刷版の高い耐刷性を維持することができる。   The content of such an organic complex compound is preferably 3 to 30% by weight in the total solid content of the heat-sensitive layer. By making the content of the organic complex compound 3% by weight or more, the above effects can be further enhanced. On the other hand, when the content is 30% by weight or less, high printing durability of the printing plate can be maintained.

光熱変換物質としては、レーザー光を吸収するものであれば特に限定されるものではなく、赤外線または近赤外線を吸収する顔料、染料が好ましい。例えば、カーボンブラック、カーボングラファイト、アニリンブラック、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、結晶水含有無機化合物、鉄、銅、クロム、ビスマス、マグネシウム、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、コバルト、バナジウム、マンガン、タングステンなどの金属粉、またはこれら金属の硫化物、水酸化物、珪酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ジアミン化合物錯体、ジチオール化合物錯体、フェノールチオール化合物錯体、メルカプトフェノール化合物錯体などを挙げることができる。   The photothermal conversion substance is not particularly limited as long as it absorbs laser light, and pigments and dyes that absorb infrared rays or near infrared rays are preferable. For example, black pigments such as carbon black, carbon graphite, aniline black, cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine-based green pigment, crystal water-containing inorganic compounds, iron, copper, chromium, bismuth, magnesium, aluminum, titanium, zirconium, cobalt , Metal powders such as vanadium, manganese and tungsten, or sulfides, hydroxides, silicates, sulfates, phosphates, diamine compound complexes, dithiol compound complexes, phenolthiol compound complexes, mercaptophenol compound complexes of these metals, etc. Can be mentioned.

また、赤外線または近赤外線を吸収する染料としては、エレクトロニクス用や記録用の染料で、最大吸収波長が700nm〜1500nmの範囲にあるシアニン系染料、アズレニウム系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、インドアニリン金属錯体染料、分子間型CT染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ましく使用される。   In addition, as dyes that absorb infrared rays or near infrared rays, they are dyes for electronics and recording, and cyanine dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, azo dyes having a maximum absorption wavelength in the range of 700 nm to 1500 nm. Disperse dyes, bisazostilbene dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, perylene dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine metal complex dyes, polymethine dyes, dithiol nickel complex dyes, indoaniline metal complex dyes, molecules Intercalated CT dyes, benzothiopyran spiropyrans, nigrosine dyes and the like are preferably used.

これらの染料のなかでも、モル吸光度係数εの大きなものが好ましく使用される。具体的には、εは1×10以上が好ましく、より好ましくは1×10以上である。εが1×10以上であれば、初期感度をより向上させることができる。 Among these dyes, those having a large molar absorbance coefficient ε are preferably used. Specifically, ε is preferably 1 × 10 4 or more, more preferably 1 × 10 5 or more. If ε is 1 × 10 4 or more, the initial sensitivity can be further improved.

これらの光熱変換物質を2種以上含有してもよい。吸収波長の異なる2種以上の光熱変換物質を含有することにより、発信波長の異なる2種以上のレーザーに対応させることができる。   You may contain 2 or more types of these photothermal conversion substances. By containing two or more kinds of photothermal conversion substances having different absorption wavelengths, it is possible to cope with two or more kinds of lasers having different emission wavelengths.

これらのなかでも、光熱変換率、経済性および取り扱い性の面から、カーボンブラック、赤外線または近赤外線を吸収する染料が好ましい。   Among these, carbon black, dyes that absorb infrared rays or near infrared rays are preferable from the viewpoint of photothermal conversion, economic efficiency, and handleability.

これら光熱変換物質の含有量は、感熱層の全固形分中0.5〜40重量%が好ましい。光熱変換物質の含有量を0.5重量%以上とすることで、レーザー光に対する感度をより向上させることができる。一方、40重量%以下とすることで、印刷版の高い耐刷性を維持することができる。   The content of these photothermal conversion substances is preferably 0.5 to 40% by weight in the total solid content of the heat-sensitive layer. By setting the content of the photothermal conversion substance to 0.5% by weight or more, the sensitivity to laser light can be further improved. On the other hand, when the content is 40% by weight or less, high printing durability of the printing plate can be maintained.

また、本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、感熱層は必要に応じて各種の添加剤を含有してもよい。例えば、塗布性を改良するためにシリコーン系界面活性剤やフッ素系界面活性剤などを含有してもよい。また、シリコーンゴム層との接着性を強化するためにシランカップリング剤、チタンカップリング剤などを含有してもよい。これら添加剤の含有量はその使用目的によって異なるが、一般的には感熱層の全固形分中0.1〜30重量%である。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the heat-sensitive layer may contain various additives as necessary. For example, a silicone surfactant or a fluorine surfactant may be contained in order to improve the coating property. Further, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or the like may be contained in order to enhance the adhesiveness with the silicone rubber layer. The content of these additives varies depending on the purpose of use, but is generally 0.1 to 30% by weight in the total solid content of the heat-sensitive layer.

また、高感度化の目的で、本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、感熱層に気泡を有していてもよい。感熱層に気泡を形成する方法としては、例えば、特開2005−300586号公報や特開2005−331924号公報に記載の方法を挙げることができる。   For the purpose of increasing sensitivity, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention may have bubbles in the heat-sensitive layer. Examples of the method for forming bubbles in the heat-sensitive layer include the methods described in JP-A-2005-300586 and JP-A-2005-331924.

さらに、原版作製直後の高感度化に加えて、経時後においても高感度を維持する目的で、本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、感熱層に液泡を有していてもよい。感熱層に、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む液泡を有することがより好ましい。感熱層に液泡を形成する方法としては、例えば、特許第4807472号公報に記載の方法を挙げることができる。   Furthermore, for the purpose of maintaining high sensitivity even after lapse of time in addition to high sensitivity immediately after the original plate is produced, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention may have liquid bubbles in the heat-sensitive layer. . More preferably, the heat-sensitive layer has liquid bubbles containing a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. Examples of the method for forming liquid bubbles in the heat sensitive layer include the method described in Japanese Patent No. 4807472.

上記の感熱層に気泡を有する場合や液泡を有する場合には、感熱層の少なくとも一部が熱膨張するため、シリコーンゴム層上にカバーフィルムをラミネートする方法では感度が低下する課題があった。本発明の保護膜を形成することによって、シリコーンゴム層表面への異物付着が抑制された高感度の直描型水なし平版印刷版原版を得ることができる。   When the heat-sensitive layer has bubbles or liquid bubbles, at least a part of the heat-sensitive layer thermally expands, so that the method of laminating the cover film on the silicone rubber layer has a problem that the sensitivity is lowered. By forming the protective film of the present invention, a highly sensitive direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor in which foreign matter adhesion to the surface of the silicone rubber layer is suppressed can be obtained.

上記の気泡や液泡を有する高感度の直描型水なし平版印刷版原版は、露光後に物理的な力を加えるだけで現像できる。このため、直描型水なし平版印刷版原版を露光して水なし平版印刷版を製造する工程において、露光部のシリコーンゴム層が浮き上がる「火膨れ」と呼ばれる現象が生じる場合がある。「火膨れ」現象が起きた場合、露光後の直描型水なし平版印刷版原版を搬送する際に、好ましくないことに、浮き上がったシリコーンゴム層が露光機や自動現像機内の搬送ローラーに転写する場合がある。搬送ローラーに転写したシリコーンゴム層は、次に処理する版の版面へ再転写し、露光阻害や現像阻害などの原因となる。この火膨れの現象は、直描型水なし平版印刷版原版が高感度であるほど、起こりやすくなる。また、火膨れの現象は、露光量が多くなるほど、起こりやすくなる。   The highly sensitive direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having bubbles and liquid bubbles can be developed by simply applying a physical force after exposure. For this reason, in the process of producing a waterless lithographic printing plate by exposing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, a phenomenon called “blowing” may occur in which the silicone rubber layer in the exposed area is lifted. When a “fire blistering” phenomenon occurs, when the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor after exposure is transported, the lifted silicone rubber layer is undesirably transferred to the transport roller in the exposure machine or automatic processor. There is a case. The silicone rubber layer transferred to the transport roller is retransferred to the plate surface of the next plate to be processed, which causes exposure inhibition and development inhibition. This blistering phenomenon is more likely to occur as the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor has higher sensitivity. Also, the blistering phenomenon is more likely to occur as the exposure amount increases.

前記の火膨れ現象の抑制のために、感熱層として、非感光性粒子を含み、該非感光性粒子の平均粒径が、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層平均膜厚の1/2倍以上である感熱層や、ノボラック樹脂、ポリウレタンならびに光熱変換物質を少なくとも含有し、かつ、少なくともノボラック樹脂を含む相と、ポリウレタンを含む相とを有する相分離構造を有する感熱層を用いてもよい。   In order to suppress the above-mentioned blistering phenomenon, the heat-sensitive layer contains non-photosensitive particles, and the average particle diameter of the non-photosensitive particles is ½ of the average heat-sensitive layer thickness of the portion where the non-photosensitive particles are not present. A heat-sensitive layer having a phase separation structure having at least a novolac resin, polyurethane, and a photothermal conversion substance, and having a phase containing at least a novolak resin and a phase containing polyurethane may be used. .

感熱層に非感光性粒子を含む場合には、非感光性粒子の平均粒径は、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層平均膜厚の1/2倍以上が好ましく、3/4倍以上がより好ましく、1倍以上がより好ましく、5/4倍以上がさらに好ましい。非感光性粒子の平均粒径を、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層平均膜厚の1/2倍以上とすることにより、火膨れ耐性の向上効果がより向上する。一方、非感光性粒子に起因する印刷時の非画線部の地汚れを抑制する観点からは、非感光性粒子の平均粒径が、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層とシリコーンゴム層の合計の平均膜厚以下であることが好ましい。   In the case where the heat-sensitive layer contains non-photosensitive particles, the average particle diameter of the non-photosensitive particles is preferably 1/2 times or more of the heat-sensitive layer average film thickness of the portion where the non-photosensitive particles are not present, and 3/4 The above is more preferable, 1 times or more is more preferable, and 5/4 times or more is further preferable. By making the average particle diameter of the non-photosensitive particles at least 1/2 times the average thickness of the heat-sensitive layer in the portion where the non-photosensitive particles are not present, the effect of improving the blister resistance is further improved. On the other hand, from the viewpoint of suppressing scumming in the non-image area at the time of printing due to non-photosensitive particles, the average particle diameter of the non-photosensitive particles is a portion of the heat-sensitive layer and the silicone rubber where no non-photosensitive particles exist. It is preferable that it is below the total average film thickness of a layer.

本発明において、非感光性粒子の粒径とは、粒子が真球であると仮定した際の等体積球相当径を指す。また、非感光性粒子の平均粒径とは、複数個の前記粒径の粒子から算出した数平均値を指す。感熱層に含まれる非感光性粒子の平均粒径は、透過型電子顕微鏡(TEM)観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率2000倍の条件で感熱層のTEM観察を行う。水平断面の三次元情報に基づき、ランダムに選んだ50個の非感光性粒子についてその粒径を計測し、その数平均値を算出することにより、平均粒径を求めることができる。シリコーンゴム層の平均膜厚の測定方法は後述する。   In the present invention, the particle diameter of the non-photosensitive particles refers to an equivalent volume sphere equivalent diameter when the particles are assumed to be true spheres. The average particle size of the non-photosensitive particles refers to a number average value calculated from a plurality of particles having the above particle sizes. The average particle diameter of the non-photosensitive particles contained in the heat-sensitive layer can be determined by observation with a transmission electron microscope (TEM). More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method, and TEM observation of the thermosensitive layer is performed under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. The average particle diameter can be obtained by measuring the particle diameter of 50 randomly selected non-photosensitive particles based on the three-dimensional information of the horizontal section and calculating the number average value thereof. A method for measuring the average film thickness of the silicone rubber layer will be described later.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層の平均膜厚は、0.3μm以上が好ましく、0.8μm以上がより好ましい。一方、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましい。非感光性粒子が存在しない部分の感熱層の平均膜厚を0.3μm以上とすることで現像性の低下が起こりにくく、10μm以下とすることで火膨れ耐性の向上効果が発現しやすく、また、経済的な見地からも不利とならない。ここで、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層の平均膜厚は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率2000倍の条件でTEM観察を行う。垂直断面のTEM写真において、非感光性粒子が存在せずに平滑な部分の感熱層からランダムに選んだ10箇所について膜厚を計測し、その数平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the average film thickness of the heat-sensitive layer in the portion where non-photosensitive particles are not present is preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.8 μm or more. On the other hand, it is preferably 10 μm or less, and more preferably 7 μm or less. When the average film thickness of the heat-sensitive layer where the non-photosensitive particles are not present is 0.3 μm or more, the developability is hardly lowered, and when it is 10 μm or less, the effect of improving the blister resistance is easily exhibited. It is not disadvantageous from an economic point of view. Here, the average film thickness of the heat-sensitive layer where no non-photosensitive particles are present can be determined by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by an ultrathin section method, and TEM observation is performed under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. In a TEM photograph of a vertical cross section, the film thickness was measured at 10 locations randomly selected from the heat-sensitive layer in a smooth portion without non-photosensitive particles, and the average film thickness was calculated by calculating the number average value thereof. Can be sought.

また、本発明における非感光性粒子とは、少なくとも露光に用いられる近赤外線領域(700〜1500nm)の波長の光に対して吸収を持たない粒子を指し、カーボンブラックやその他の光熱変換能を有する顔料とは明確に異なる。感熱層に含まれる非感光性粒子の存在は、TEMなどの分析機器を用いて、感熱層の垂直断面や水平断面を観察することによって、形態的に観察可能である。   The non-photosensitive particles in the present invention refer to particles that do not absorb at least light in the near-infrared region (700-1500 nm) used for exposure, and have carbon black and other photothermal conversion capabilities. Clearly different from pigments. The presence of non-photosensitive particles contained in the heat-sensitive layer can be observed morphologically by observing the vertical and horizontal cross sections of the heat-sensitive layer using an analytical instrument such as TEM.

非感光性粒子の種類としては、無機粒子であっても有機粒子であっても、また、無機・有機ハイブリッド粒子であっても本発明の火膨れ耐性の向上効果を発現する。これらを2種以上含んでもよい。   As the kind of non-photosensitive particles, whether they are inorganic particles, organic particles, or inorganic / organic hybrid particles, the effect of improving the blister resistance of the present invention is exhibited. Two or more of these may be included.

無機粒子としては、例えば、SiO、Al、TiO、SnO、Sb、Fe、ZrO、CeO、Yなどの非感光性無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましい。 Examples of the inorganic particles include non-photosensitive inorganic particles such as SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , SnO 2 , Sb 2 O 5 , Fe 2 O 3 , ZrO 2 , CeO 2 , and Y 2 O 3. It is done. Among these, silica particles are preferable.

有機粒子としては、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸誘導体、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、オレフィンの重合体や、これらの共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ラテックス、ポリウレタン、フェノール樹脂、ベンゾグアナミン・メラミン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、シリコーン樹脂、セルロース、フッ素樹脂、ポリ(フルオロメチルメタクリレート)などの非感光性有機粒子が挙げられる。ここで、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸とメタクリル酸の総称である。これらの中でも、(メタ)アクリル酸および/または(メタ)アクリル酸誘導体、スチレンの重合体や、これらの共重合体、シリコーン樹脂が好ましい。   Organic particles include (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid derivatives, styrene, vinyl acetate, acrylonitrile, olefin polymers, copolymers thereof, polyester, polyamide, latex, polyurethane, phenolic resin, benzoguanamine, Non-photosensitive organic particles such as melamine resin, polyethersulfone resin, silicone resin, cellulose, fluororesin, poly (fluoromethyl methacrylate) and the like can be mentioned. Here, (meth) acrylic acid is a general term for acrylic acid and methacrylic acid. Among these, (meth) acrylic acid and / or (meth) acrylic acid derivatives, styrene polymers, copolymers thereof, and silicone resins are preferable.

また、有機粒子として、異種有機成分がそれぞれコア部、シェル部を構成するコアシェル構造を持ったコアシェル型非感光性有機粒子を用いることもできる。   Further, as the organic particles, core-shell type non-photosensitive organic particles having a core-shell structure in which different organic components constitute a core part and a shell part, respectively, can be used.

これら非感光性粒子は、通常、感熱層組成物溶液中に分散されて用いられるため、感熱層組成物溶液中における分散安定性に優れ、自然沈降しにくいことが好ましい。前述の非感光性粒子の中で、有機粒子は一般的に無機粒子に比べ密度が小さく、感熱層組成物溶液中における分散安定性の点でより好ましい。   Since these non-photosensitive particles are usually used by being dispersed in the heat-sensitive layer composition solution, it is preferable that the non-photosensitive particles have excellent dispersion stability in the heat-sensitive layer composition solution and are not likely to spontaneously settle. Among the above-mentioned non-photosensitive particles, organic particles generally have a smaller density than inorganic particles, and are more preferable in terms of dispersion stability in the heat-sensitive layer composition solution.

また、非感光性粒子は、感熱層組成物溶液に対して不溶であることが好ましい。一般的に無機粒子は有機溶剤に溶解しにくいが、未架橋の有機粒子は有機溶剤に溶解することがある。このため、有機粒子を用いる場合には架橋構造を有する有機粒子を用いることが好ましく、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸誘導体、スチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、オレフィンの架橋構造を有する重合体や、これらの架橋構造を有する共重合体、架橋ポリエステル、架橋ポリアミド、架橋ラテックス、架橋ポリウレタン、架橋フェノール樹脂、架橋ベンゾグアナミン・メラミン樹脂、架橋ポリエーテルスルホン樹脂、架橋シリコーン樹脂、架橋セルロース、架橋フッ素樹脂、架橋ポリ(フルオロメチルメタクリレート)などの非感光性有機粒子が挙げられる。   The non-photosensitive particles are preferably insoluble in the heat-sensitive layer composition solution. In general, inorganic particles are difficult to dissolve in an organic solvent, but uncrosslinked organic particles may be dissolved in an organic solvent. Therefore, when organic particles are used, it is preferable to use organic particles having a crosslinked structure, and polymers having a crosslinked structure of (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid derivatives, styrene, vinyl acetate, acrylonitrile, and olefins. And copolymers having these crosslinked structures, crosslinked polyesters, crosslinked polyamides, crosslinked latexes, crosslinked polyurethanes, crosslinked phenol resins, crosslinked benzoguanamine / melamine resins, crosslinked polyethersulfone resins, crosslinked silicone resins, crosslinked cellulose, and crosslinked fluorine resins. And non-photosensitive organic particles such as crosslinked poly (fluoromethyl methacrylate).

非感光性粒子の形状としては、球状、半球状、異形球状、中凹球状、扁平状、レンズ状、立方体状、柱状、板状、片状、粒状、棒状、針状、繊維状、塊状、樹枝状、海綿状、角状、圭角状、丸み状などが挙げられ、何れの形状であっても火膨れ耐性の向上効果を発現する。中でも、球状粒子は他の形状と異なり方向性を持たないことから、火膨れ耐性の向上効果を安定的に発現できる点で特に好ましい。   As the shape of the non-photosensitive particles, spherical, hemispherical, irregular spherical, middle concave spherical, flat shape, lens shape, cubic shape, columnar shape, plate shape, flake shape, granular shape, rod shape, needle shape, fibrous shape, lump shape, A dendritic shape, a spongy shape, a square shape, a horn shape, a round shape, and the like can be mentioned, and any shape exhibits an effect of improving the blister resistance. Among these, spherical particles are particularly preferable in that they have no directivity unlike other shapes, and thus the effect of improving the blister resistance can be stably expressed.

非感光性粒子の粒度としては、分布が狭く、単分散に近い粒子を用いることが好ましい。粒子の単分散性を表す指標として、CV(Coefficient of Variation)値(CV値[%]=(標準偏差/平均粒径)×100)が一般的に用いられるが、本発明においては、非感光性粒子のCV値が15%以下であることが好ましく、10%以下がより好ましく、5%以下がさらに好ましい。非感光性粒子のCV値が15%以下であれば、非感光性粒子の含有量が少なくても火膨れ耐性をより効果的に向上させることができる。   As the particle size of the non-photosensitive particles, it is preferable to use particles having a narrow distribution and close to monodispersion. A CV (Coefficient of Variation) value (CV value [%] = (standard deviation / average particle size) × 100) is generally used as an index representing the monodispersity of particles. The CV value of the conductive particles is preferably 15% or less, more preferably 10% or less, and further preferably 5% or less. When the CV value of the non-photosensitive particles is 15% or less, the blister resistance can be more effectively improved even if the content of the non-photosensitive particles is small.

非感光性粒子のCV値は、一般的なレーザー回折・散乱式粒度分布測定装置(例えば“SALD(登録商標)”シリーズ((株)島津製作所製)など)や、動的光散乱式粒度分布測定装置(例えば“LB”シリーズ((株)堀場製作所製)など)を用いて測定される平均粒径と標準偏差から前記式より求められる。球状の非感光性粒子の場合には、透過式光学顕微鏡(倍率が100倍以上の対物レンズを用いることが好ましい)に接続されたデジタルカメラで画像を撮影し(モニター上の総合倍率で2000倍以上が好ましい)、画像解析計測ソフトウェア(例えば“WinROOF”(三谷商事(株)製)など)により平均粒径、標準偏差を測定し、前記式に当てはめることでCV値が求められる。また、直描型水なし平版印刷版原版中の非感光性粒子のCV値は、前述の非感光性粒子の粒径測定法により得られる50個以上の非感光性粒子の等体積球相当径の情報から、数平均粒径および標準偏差を算出し、これらの値を前記式に当てはめることで求められる。同じ非感光性粒子を用いていれば、非感光性粒子、直描型水なし平版印刷版原版のどちらで測定しても、CV値は等しい。   The CV value of the non-photosensitive particles can be determined by using a general laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer (for example, “SALD (registered trademark)” series (manufactured by Shimadzu Corporation)) or dynamic light scattering particle size distribution. It is obtained from the above formula from the average particle diameter and standard deviation measured using a measuring device (for example, “LB” series (manufactured by Horiba, Ltd.)). In the case of spherical non-photosensitive particles, an image is taken with a digital camera connected to a transmission optical microscope (preferably an objective lens with a magnification of 100 times or more) (total magnification on the monitor is 2000 times). The average particle diameter and standard deviation are measured by image analysis measurement software (for example, “WinROOF” (manufactured by Mitani Corp.)) and applied to the above formula to obtain the CV value. The CV value of the non-photosensitive particles in the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor is the equivalent volume sphere equivalent diameter of 50 or more non-photosensitive particles obtained by the particle size measuring method of the non-photosensitive particles described above. From the above information, the number average particle diameter and the standard deviation are calculated, and these values are applied to the above formula. If the same non-photosensitive particles are used, the CV value is the same regardless of whether the non-photosensitive particles or the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor is used.

また、感熱層組成物溶液中での非感光性粒子の分散性向上や、他の成分との親和性向上、架橋点の確保などの目的で、非感光性粒子表面にカルボキシル基、水酸基、エポキシ基、グリシジル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基などの官能基を導入してもよい。   In addition, for the purpose of improving the dispersibility of the non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer composition solution, improving the affinity with other components, and securing the cross-linking point, the surface of the non-photosensitive particles has a carboxyl group, a hydroxyl group, and an epoxy. A functional group such as a group, glycidyl group, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group or allyl group may be introduced.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、感熱層中の非感光性粒子の面内占有率は、感熱層全面積(100面積%)中40面積%以下が好ましく、30面積%以下がより好ましい。非感光性粒子の占有率が40面積%以下であれば、感熱層の深さ方向で非感光性粒子が重なりにくく、露光時の露光阻害や、印刷時の非画線部の地汚れを抑制することができる。一方、火膨れ耐性をより向上させる観点からは、非感光性粒子の面内占有率は0.5面積%以上が好ましく、1.0面積%以上がより好ましい。ここで、感熱層中の非感光性粒子の面内占有率とは、感熱層の任意の水平断面における非感光性粒子の占める割合(面積%)を指す。感熱層中の非感光性粒子の面内占有率は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率2000倍の条件で感熱層の水平断面のTEM観察を行う。単位面積中の非感光性粒子の占める面積を算出することにより、非感光性粒子の面内占有率(面積%)を求めることができる。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer is preferably 40 area% or less, and 30 area% or less in the total area (100 area%) of the heat-sensitive layer. Is more preferable. If the non-photosensitive particle occupancy is 40 area% or less, the non-photosensitive particles are unlikely to overlap in the depth direction of the heat-sensitive layer, thereby preventing exposure inhibition during exposure and non-image area smearing during printing. can do. On the other hand, from the viewpoint of further improving the blistering resistance, the in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles is preferably 0.5 area% or more, and more preferably 1.0 area% or more. Here, the in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer refers to a ratio (area%) of the non-photosensitive particles in an arbitrary horizontal section of the heat-sensitive layer. The in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer can be obtained by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method, and a TEM observation of the horizontal section of the thermosensitive layer is performed under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. By calculating the area occupied by the non-photosensitive particles in the unit area, the in-plane occupancy ratio (area%) of the non-photosensitive particles can be obtained.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版の感熱層が、少なくともノボラック樹脂を含む相と、ポリウレタンを含む相との相分離構造を有する場合に、感熱層は、(A)ノボラック樹脂、(B)ポリウレタンならびに、(C)光熱変換物質を少なくとも含有し、(D)有機錯化合物をさらに含有してもよい。前記の活性水素を有するポリマーの一部または全部を(A)ノボラック樹脂、(B)ポリウレタンに置き換えてもよい。   When the heat-sensitive layer of the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention has a phase separation structure of at least a phase containing a novolac resin and a phase containing a polyurethane, the heat-sensitive layer contains (A) a novolak resin, ( B) It contains at least polyurethane and (C) a photothermal conversion substance, and may further contain (D) an organic complex compound. Part or all of the polymer having active hydrogen may be replaced with (A) a novolak resin and (B) polyurethane.

(A)ノボラック樹脂
本発明の直描型水なし印刷版原版に用いられるノボラック樹脂の例としては、下記に例示するフェノール類と、下記に例示するアルデヒド類とを酸性触媒下で反応させて得られるノボラック樹脂が挙げられる。
(A) Novolak resin As an example of the novolak resin used in the direct-drawing waterless printing plate precursor of the present invention, it is obtained by reacting the phenols exemplified below with the aldehydes exemplified below under an acidic catalyst. And novolak resin.

前記フェノール類としては、例えば、フェノール;m−クレゾール、p−クレゾール、o−クレゾール等のクレゾール類;2,3−キシレノール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、3,4−キシレノール等のキシレノール類;アルキルフェノール類;アルコキシフェノール類;イソプロペニルフェノール類;アリールフェノール類;ポリヒドロキシフェノール類等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのフェノール類の中では、フェノールまたはo−クレゾールが好ましい。   Examples of the phenols include phenol; cresols such as m-cresol, p-cresol, o-cresol; 2,3-xylenol, 2,5-xylenol, 3,5-xylenol, 3,4-xylenol, and the like. Xylenols; alkylphenols; alkoxyphenols; isopropenylphenols; arylphenols; polyhydroxyphenols and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among these phenols, phenol or o-cresol is preferable.

前記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、また2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのアルデヒド類の中では、ホルムアルデヒドが好ましい。   Examples of the aldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, trioxane, acetaldehyde, propionaldehyde, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Of these aldehydes, formaldehyde is preferred.

前記酸性触媒としては、塩酸、硫酸、ギ酸、シュウ酸、パラトルエンスルホン酸等を使用することができる。   As the acidic catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, formic acid, oxalic acid, p-toluenesulfonic acid and the like can be used.

上記のノボラック樹脂の中では、フェノールノボラック樹脂またはo−クレゾールノボラック樹脂が好ましい。   Among the above-mentioned novolak resins, phenol novolak resins or o-cresol novolak resins are preferable.

ノボラック樹脂の重量平均分子量は、5000以下が好ましく、4000以下がより好ましい。重量平均分子量が5000以下のノボラック樹脂を用いることで、レーザー照射時の架橋切断が容易となり、感度をより向上させることができる。一方、ノボラック樹脂の重量平均分子量は、500以上が好ましく、800以上がより好ましい。重量平均分子量が500以上のノボラック樹脂を用いることで、感熱層とシリコーンゴム層の接着性が向上する。なお、本発明において、ノボラック樹脂の重量平均分子量は、GPC法により求めたものを言う。本発明における重量平均分子量は、標準ポリスチレンで換算した値とする。   The weight average molecular weight of the novolak resin is preferably 5000 or less, and more preferably 4000 or less. By using a novolak resin having a weight average molecular weight of 5000 or less, cross-linking at the time of laser irradiation becomes easy, and the sensitivity can be further improved. On the other hand, the weight average molecular weight of the novolak resin is preferably 500 or more, and more preferably 800 or more. By using a novolak resin having a weight average molecular weight of 500 or more, the adhesion between the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer is improved. In the present invention, the weight average molecular weight of the novolak resin is determined by the GPC method. The weight average molecular weight in the present invention is a value converted with standard polystyrene.

ノボラック樹脂の含有量は、塗工性の観点から感熱層の全固形分中20〜87重量%が好ましい。下限は50重量%以上がより好ましく、また、上限は85重量%以下がより好ましい。   The content of the novolak resin is preferably 20 to 87% by weight in the total solid content of the heat sensitive layer from the viewpoint of coatability. The lower limit is more preferably 50% by weight or more, and the upper limit is more preferably 85% by weight or less.

(B)ポリウレタン
本発明の直描型水なし印刷版原版に用いられるポリウレタンの例としては、下記に例示するポリイソシアネートと多価アルコールより得られるポリウレタンを挙げることができる。ポリウレタンは直鎖でも分岐していてもよく、また、水酸基などの種々の官能基を有してもよい。これらを2種以上含有してもよい。
(B) Polyurethane Examples of the polyurethane used in the direct-drawing waterless printing plate precursor of the present invention include polyurethanes obtained from polyisocyanates and polyhydric alcohols exemplified below. The polyurethane may be linear or branched, and may have various functional groups such as hydroxyl groups. Two or more of these may be contained.

ポリイソシアネートとしては、芳香族ポリイソシアネート、脂環族ポリイソシアネートまたは脂肪族ポリイソシアネートを使用できる。芳香族ポリイソシアネートが好ましい。   As the polyisocyanate, aromatic polyisocyanate, alicyclic polyisocyanate or aliphatic polyisocyanate can be used. Aromatic polyisocyanates are preferred.

芳香族ポリイソシアネートとしては、パラフェニレンジイソシアネ−ト、2,4−または2,6−トルイレンジイソシアネート(TDI)、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、トリジンジイソシアネート(TODI)、キシリレンジイソシアネート(XDI)等が例示される。これらを2種以上用いてもよい。   Aromatic polyisocyanates include paraphenylene diisocyanate, 2,4- or 2,6-toluylene diisocyanate (TDI), 4,4'-diphenylmethane diisocyanate (MDI), tolidine diisocyanate (TODI), xylylene diene An isocyanate (XDI) etc. are illustrated. Two or more of these may be used.

脂肪族または脂環族ポリイソシアネートとして、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添m−キシレンジイソシアネート等が例示される。これらを2種以上用いてもよい。   Examples of the aliphatic or alicyclic polyisocyanate include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, norbornane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, and hydrogenated m-xylene diisocyanate. Two or more of these may be used.

また、前記ポリイソシアネートの変性体、誘導体等を用いることができる。このような変性体または誘導体としては、例えば、ポリイソシアネートとアルコールとの反応物であるウレタン変性体;2個あるいは3個のポリイソシアネートの反応物としての二量体(別名ウレチジオン)または三量体(別名イソシアヌレート);脱炭酸ガスにより生成するポリカルボジイミド;あるいはポリイソシアネート、アルコール、アミン化合物などとの反応物であるアロハネート変性体、ビュレット変性体、ウレア変性体など;さらにはブロックドイソシアネートなどが挙げられる。   In addition, modified products and derivatives of the polyisocyanate can be used. Examples of such a modified product or derivative include a urethane-modified product that is a reaction product of polyisocyanate and alcohol; a dimer (also known as uretidione) or a trimer as a reaction product of two or three polyisocyanates. (Also known as isocyanurate); polycarbodiimide produced by decarbonation gas; or allophanate modified, burette modified, urea modified, etc., which are reaction products with polyisocyanate, alcohol, amine compound, etc .; Can be mentioned.

ポリイソシアネートは、少なくとも50モル%が芳香族ポリイソシアネートであることが好ましく、すべてが芳香族ポリイソシアネートであることがより好ましい。芳香族ポリイソシアネートが50モル%以上のとき、直描型水なし平版印刷版原版は高感度で火膨れが生じにくい。   The polyisocyanate is preferably at least 50 mol% aromatic polyisocyanate, more preferably all aromatic polyisocyanate. When the aromatic polyisocyanate is 50 mol% or more, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor has high sensitivity and hardly causes blistering.

多価アルコールは、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、およびその他に大きく分類することができる。   Polyhydric alcohols can be broadly classified into polyether polyols, polyester polyols, and others.

ポリエーテルポリオールとしては、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリエチレングリコール、p−キシリレングリコール、水素化ビスフェノールA、ビスフェノールジヒドロキシプロピルエーテル等が挙げられる。   Specific examples of the polyether polyol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,5-pentanediol, and 1,6-hexane. Examples include diol, diethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, triethylene glycol, p-xylylene glycol, hydrogenated bisphenol A, and bisphenol dihydroxypropyl ether.

ポリエステルポリオールは、縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオール、ポリカーボネートポリオールなどにさらに分類することができる。   Polyester polyols can be further classified into condensed polyester polyols, lactone polyester polyols, polycarbonate polyols and the like.

縮合系ポリエステルポリオールは、多価カルボン酸およびその無水物とグリコールおよび/またはトリオールとの脱水縮合により得られる。   The condensed polyester polyol is obtained by dehydration condensation of a polyvalent carboxylic acid and its anhydride and glycol and / or triol.

多価カルボン酸および多価カルボン酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水ヘット酸、無水ハイミック酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸等が挙げられる。   Examples of polycarboxylic acids and polycarboxylic anhydrides include phthalic anhydride, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic anhydride, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrabromo Examples thereof include phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, het acid anhydride, hymic anhydride, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, trimellitic anhydride, methylcyclohexeric carboxylic anhydride, pyromellitic anhydride, and the like.

縮合系ポリエステルポリオールとしては、具体的には、ポリエチレンアジペート、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリネオペンチルアジペート、ポリヘキサメチレンネオペンチルアジペート、ポリエチレンヘキサメチレンアジペート、ポリテトラメチレンアジペート等を例として挙げることができる。   Specific examples of condensed polyester polyols include polyethylene adipate, polypropylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyneopentyl adipate, polyhexamethylene neopentyl adipate, polyethylene hexamethylene adipate, polytetramethylene adipate, etc. Can do.

ラクトン系ポリエステルポリオールとしては、例えば、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等のラクトン類の開環重合より得られるものが挙げられる。   Examples of the lactone polyester polyol include those obtained by ring-opening polymerization of lactones such as β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, and ε-caprolactone.

ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブチレングリコール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等の低分子量ポリオールを開始剤とするエチレンカーボネートの開環重合物や、例えば、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオールなどの2価アルコールと、エチレンカーボネートの開環重合物とを共重合した非晶性ポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。   Examples of the polycarbonate polyol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,3-butylene glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and the like. Ring opening polymer of ethylene carbonate with molecular weight polyol as initiator, for example, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, etc. An amorphous polycarbonate polyol obtained by copolymerizing a dihydric alcohol and a ring-opening polymer of ethylene carbonate.

その他の多価アルコールとしては、例えば、β−ヒドロキシエチルメタクリレートなどの水酸基を有するアクリル(あるいはメタクリル)単量体とアクリル(あるいはメタクリル)酸エステルとの共重合体であるアクリルポリオール、末端に水酸基を含有するブタンジエンおよびそれらの共重合体であるポリブタジエンポリオール、部分ケン化したエチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)などが挙げられる。さらには種々のリン含有ポリオール、ハロゲン含有ポリオール、フェノール系ポリオールなどが挙げられる。   Other polyhydric alcohols include, for example, an acrylic polyol that is a copolymer of an acrylic (or methacrylic) monomer having a hydroxyl group such as β-hydroxyethyl methacrylate and an acrylic (or methacrylic acid) ester, and a hydroxyl group at the end. Examples thereof include butanediene and polybutadiene polyol which is a copolymer thereof, partially saponified ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), and the like. Furthermore, various phosphorus-containing polyols, halogen-containing polyols, phenol-based polyols and the like can be mentioned.

多価アルコールとしては、ポリエステルポリオールが好ましく、ポリエステルポリオールの中でも、縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールが好ましい。   As the polyhydric alcohol, a polyester polyol is preferable, and among the polyester polyols, a condensed polyester polyol and a lactone polyester polyol are preferable.

本発明において、感熱層の相分離構造は、前記ノボラック樹脂とポリウレタンとの溶解性の違いを利用して形成することができる。特に、熱軟化点が200℃以上であるポリウレタンを使用することで、ノボラック樹脂を主成分とする相とポリウレタンを主成分とする相を相分離構造が形成されやすいことが、実験的に明らかになっている。   In the present invention, the phase separation structure of the heat sensitive layer can be formed by utilizing the difference in solubility between the novolac resin and polyurethane. In particular, it has been experimentally clarified that by using polyurethane having a heat softening point of 200 ° C. or more, a phase-separated structure can be easily formed between a phase mainly composed of novolac resin and a phase mainly composed of polyurethane. It has become.

ここで、ポリウレタンの熱軟化点は、高化式フローテスターCFT−500D((株)島津製作所製)を用い、JIS−K 7210(1999年)に基づいて測定することができる。1gの測定試料を昇温温度6℃/分で加熱しながら、プランジャーにより1.96MPaの荷重を与え、直径1mm、長さ1mmのノズルから押し出して、プランジャー降下量−温度曲線を描き、プランジャーの降下量の最大値の1/2(測定試料の半分が流出したときの温度)に対応する温度を、軟化点とする。   Here, the heat softening point of polyurethane can be measured based on JIS-K 7210 (1999) using Koka-type flow tester CFT-500D (manufactured by Shimadzu Corporation). While heating 1 g of a measurement sample at a temperature rising temperature of 6 ° C./min, a load of 1.96 MPa was applied by a plunger, extruded from a nozzle having a diameter of 1 mm and a length of 1 mm, and a plunger descending amount-temperature curve was drawn. The softening point is defined as a temperature corresponding to ½ of the maximum value of the plunger drop (the temperature when half of the measurement sample flows out).

感熱層の全固形分に占めるノボラック樹脂とポリウレタンの含有量は、両者の合計が25重量%以上であることが好ましく、55重量%以上であることがより好ましく、70重量%以上であることがさらに好ましい。ノボラック樹脂とポリウレタンの合計含有量が25重量%であれば、相分離構造を形成しやすい。   The total content of the novolak resin and polyurethane in the total solid content of the heat-sensitive layer is preferably 25% by weight or more, more preferably 55% by weight or more, and 70% by weight or more. Further preferred. If the total content of novolac resin and polyurethane is 25% by weight, a phase separation structure is easily formed.

感熱層の全固形分中のポリウレタンの含有量は、相分離構造の形成の観点から、感熱層の全固形分中5重量%以上が好ましい。一方、感度をより高く維持する観点から、感熱層の全固形分中30重量%以下が好ましく、20重量%以下がより好ましい。   The content of polyurethane in the total solid content of the heat-sensitive layer is preferably 5% by weight or more in the total solid content of the heat-sensitive layer from the viewpoint of forming a phase separation structure. On the other hand, from the viewpoint of maintaining higher sensitivity, it is preferably 30% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, based on the total solid content of the heat-sensitive layer.

ノボラック樹脂とポリウレタンの合計に対して、ポリウレタンが8重量%以上であることが火膨れ抑制のために好ましく、10重量%以上であることがより好ましい。また、ノボラック樹脂とポリウレタンの合計に対して、ポリウレタンが25重量%以下であることが直描型水なし平版印刷版原版を高感度とするために好ましい。   The polyurethane content is preferably 8% by weight or more, more preferably 10% by weight or more, based on the total of the novolak resin and the polyurethane, in order to suppress blistering. Moreover, it is preferable that the polyurethane is 25% by weight or less based on the total of the novolak resin and the polyurethane in order to make the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor highly sensitive.

感熱層の相分離構造は、直描型水なし平版印刷版原版の感熱層を、光学顕微鏡を用いて、1000倍の倍率で観察することにより観察することができる。例えば、1辺10cmの正方形に断裁した試料を、光学顕微鏡:“ECLIPSE”L200((株)ニコン製、透過モード、対物レンズ:“CFI LU Plan Apo EPI”50×((株)ニコン製))に接続されたデジタルカメラ:“DXM”1200F((株)ニコン製)で1080×1280ピクセルの解像度で画像を撮影(モニター上の総合倍率:1000倍、観察視野180×240μm)することにより、相分離構造を観察できる。この際、個々の相分離構造が、いずれかの方向に対して、1μm以上の直線的な大きさを有している場合に相分離構造を形成していると判定した。なお、感熱層上にシリコーンゴム層を積層した状態で光学顕微鏡観察を行うと、ノイズが多く、相分離構造の観察が困難となる場合があるため、感熱層が露出された試料を観察することが好ましい。   The phase separation structure of the heat-sensitive layer can be observed by observing the heat-sensitive layer of the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor with a magnification of 1000 using an optical microscope. For example, an optical microscope: “ECLIPSE” L200 (manufactured by Nikon Corporation, transmission mode, objective lens: “CFI LU Plan Apo EPI” 50 × (manufactured by Nikon Corporation)) Digital camera connected to: “DXM” 1200F (manufactured by Nikon Co., Ltd.), taking an image with a resolution of 1080 × 1280 pixels (total magnification on monitor: 1000 ×, observation field of view 180 × 240 μm) The separation structure can be observed. At this time, it was determined that the phase separation structure was formed when each phase separation structure had a linear size of 1 μm or more in any direction. Observe the sample with the heat-sensitive layer exposed, as observation with an optical microscope with a silicone rubber layer laminated on the heat-sensitive layer may cause a lot of noise and make it difficult to observe the phase separation structure. Is preferred.

相分離構造の個別の相の大きさは、感熱層において、ポリウレタンと他の構成成分との相溶性を選択することによって制御できる。また、感熱層を形成する方法を選択することによっても制御できる。感熱層構成成分を含む感熱層組成物溶液を基板に塗布した後、乾燥することにより感熱層を作製する方法を用いる場合、溶液濃度や乾燥速度を選択することによって相分離構造の個別の相の大きさを制御できる。   The size of the individual phases of the phase separation structure can be controlled by selecting the compatibility between polyurethane and other components in the heat sensitive layer. It can also be controlled by selecting a method for forming the heat-sensitive layer. When applying a method for producing a heat-sensitive layer by applying a heat-sensitive layer composition solution containing a heat-sensitive layer constituent component to a substrate and then drying, the individual phases of the phase separation structure can be selected by selecting the solution concentration and the drying speed. The size can be controlled.

相分離構造の個別の相の大きさを制御することによって、火膨れ耐性と精細度の高い画像形成を両立できる。この場合には、光学顕微鏡の観察視野全体でポリウレタンを相対的に多く含む相の面積率が50面積%以下であることが好ましい。一方、火膨れ耐性をより向上させる観点からは、ポリウレタンを相対的に多く含む相の面内占有率は5面積%以上が好ましく、10面積%以上がより好ましい。   By controlling the size of the individual phases of the phase separation structure, it is possible to achieve both blistering resistance and high-definition image formation. In this case, the area ratio of the phase containing a relatively large amount of polyurethane in the entire observation field of the optical microscope is preferably 50% by area or less. On the other hand, from the viewpoint of further improving the blister resistance, the in-plane occupation ratio of the phase containing a relatively large amount of polyurethane is preferably 5 area% or more, and more preferably 10 area% or more.

また、感熱層の相分離構造は、透過型電子顕微鏡(TEM)観察によっても観察することができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率15000倍の条件で感熱層のTEM観察を行うことにより、相分離構造を確認することができる。感熱層上にシリコーンゴム層を積層した試料を用いる場合に有用な観察方法である。   The phase separation structure of the heat sensitive layer can also be observed by observation with a transmission electron microscope (TEM). More specifically, a phase separation structure is obtained by preparing a sample from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method and performing TEM observation of the thermosensitive layer under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 15000 times. Can be confirmed. This observation method is useful when using a sample in which a silicone rubber layer is laminated on a heat sensitive layer.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、感熱層の平均膜厚は、0.3μm以上が好ましく、0.8μm以上がより好ましい。一方、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましい。感熱層の平均膜厚を0.3μm以上とすることで現像性の低下が起こりにくく、10μm以下とすることで火膨れ耐性の向上効果が発現しやすく、経済的な見地からも不利とならない。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the average thickness of the heat-sensitive layer is preferably 0.3 μm or more, and more preferably 0.8 μm or more. On the other hand, it is preferably 10 μm or less, and more preferably 7 μm or less. When the average thickness of the heat-sensitive layer is 0.3 μm or more, the developability is hardly lowered, and when it is 10 μm or less, the effect of improving the blister resistance is easily exhibited, and this is not disadvantageous from an economical viewpoint.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、シリコーンゴム層としては、付加反応型シリコーンゴム層組成物または縮合反応型シリコーンゴム層組成物を塗布して得られる層、これらの組成物の溶液を塗布、(加熱)乾燥して得られる層が挙げられる。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, as the silicone rubber layer, a layer obtained by applying an addition reaction type silicone rubber layer composition or a condensation reaction type silicone rubber layer composition, Examples include a layer obtained by applying a solution and (heating) drying.

付加反応型のシリコーンゴム層組成物は、少なくともビニル基含有オルガノポリシロキサン、SiH基含有化合物(付加反応型架橋剤)および硬化触媒を含むことが好ましい。さらに、反応抑制剤を含有してもよい。   The addition reaction type silicone rubber layer composition preferably contains at least a vinyl group-containing organopolysiloxane, a SiH group-containing compound (addition reaction type crosslinking agent) and a curing catalyst. Furthermore, you may contain reaction inhibitor.

ビニル基含有オルガノポリシロキサンは、主鎖末端もしくは主鎖中にビニル基を有するものである。中でも主鎖末端にビニル基を有するものが好ましい。これらを2種以上含有してもよい。主鎖に結合した置換基のうち全体の50モル%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。また、取扱い性や印刷版のインキ反発性、耐傷性の観点から、ビニル基含有オルガノポリシロキサンの重量平均分子量は1万〜60万が好ましい。   The vinyl group-containing organopolysiloxane has a vinyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a vinyl group at the end of the main chain are preferred. Two or more of these may be contained. From the viewpoint of ink repellency of the printing plate, it is preferred that 50 mol% or more of the substituents bonded to the main chain are methyl groups. Further, from the viewpoints of handleability, ink repellency of the printing plate, and scratch resistance, the weight average molecular weight of the vinyl group-containing organopolysiloxane is preferably 10,000 to 600,000.

SiH基含有化合物としては、例えば、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーが挙げられ、好ましくはオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。これらを2種以上含有してもよい。   Examples of the SiH group-containing compound include organohydrogenpolysiloxanes and organic polymers having a diorganohydrogensilyl group, and organohydrogenpolysiloxanes are preferred. Two or more of these may be contained.

オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有し、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ポリメチルハイドロジェンシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサンなどが挙げられる。   Organohydrogenpolysiloxane has a linear, cyclic, branched, and network molecular structure, with both molecular chain terminal trimethylsiloxy group-capped polymethylhydrogensiloxane and molecular chain both terminal trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane methyl. Hydrogen siloxane copolymer, trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain dimethylhydrogensiloxy group-capped dimethylpolysiloxane, molecular chain both-end dimethylhydro Examples include a dimethylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, a molecular chain both-end dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylphenylpolysiloxane, and the like.

ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーとしては、例えば、ジメチルハイドロジェンシリル(メタ)アクレート、ジメチルハイドロジェンシリルプロピル(メタ)アクリレートなどのジメチルハイドロジェンシリル基含有(メタ)アクリル系モノマーと、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、スチレン、α−メチルスチレン、マレイン酸、酢酸ビニル、酢酸アリルなどのモノマーとを共重合したオリゴマーなどが挙げられる。   Examples of the organic polymer having a diorganohydrogensilyl group include dimethylhydrogensilyl group-containing (meth) acrylic monomers such as dimethylhydrogensilyl (meth) acrylate, dimethylhydrogensilylpropyl (meth) acrylate, and ( Methyl) methacrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethyl hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, maleic acid, vinyl acetate, allyl acetate, etc. And oligomers obtained by copolymerization with the above monomers.

SiH基含有化合物の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the SiH group-containing compound is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer. Moreover, 20 weight% or less is preferable and 15 weight% or less is more preferable.

反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられ、アセチレン基含有アルコールが好ましく用いられる。これらを2種以上含有してもよい。これらの反応抑制剤を含有することにより、シリコーンゴム層の硬化速度を調整することができる。反応抑制剤の含有量は、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.01重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   Examples of the reaction inhibitor include nitrogen-containing compounds, phosphorus compounds and unsaturated alcohols, and acetylene group-containing alcohols are preferably used. Two or more of these may be contained. By containing these reaction inhibitors, the curing rate of the silicone rubber layer can be adjusted. The content of the reaction inhibitor is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more in the silicone rubber layer composition, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition or its solution. Further, from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

硬化触媒は公知のものから選ばれる。好ましくは白金系化合物であり、具体的には白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキサン錯体などを挙げることができる。これらを2種以上含有してもよい。硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The curing catalyst is selected from known ones. Preferred are platinum compounds, and specific examples include platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin coordinated platinum, platinum alcohol-modified complexes, platinum methylvinylpolysiloxane complexes, and the like. Two or more of these may be contained. The content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, more preferably 0.01% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and the solution thereof, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

また、これらの成分の他に、水酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類などが好ましく、特にビニル基やアリル基を有するものが好ましい。   In addition to these components, hydroxyl group-containing organopolysiloxane, hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), known fillers such as silica for the purpose of improving rubber strength, and known for the purpose of improving adhesiveness. The silane coupling agent may be contained. As the silane coupling agent, alkoxysilanes, acetoxysilanes, ketoximinosilanes and the like are preferable, and those having a vinyl group or an allyl group are particularly preferable.

縮合反応型のシリコーンゴム層組成物は、少なくとも水酸基含有オルガノポリシロキサン、架橋剤および硬化触媒を含むことが好ましい。   The condensation reaction type silicone rubber layer composition preferably contains at least a hydroxyl group-containing organopolysiloxane, a crosslinking agent and a curing catalyst.

水酸基含有オルガノポリシロキサンは、主鎖末端もしくは主鎖中に水酸基を有するものである。中でも主鎖末端に水酸基を有するものが好ましい。これらを2種以上含有してもよい。   The hydroxyl group-containing organopolysiloxane has a hydroxyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a hydroxyl group at the end of the main chain are preferred. Two or more of these may be contained.

架橋剤としては、脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アセトン型、脱アミド型、脱ヒドロキシルアミン型などのケイ素化合物を挙げることができる。   Examples of the crosslinking agent include silicon compounds such as a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deacetone type, a deamide type, and a dehydroxylamine type.

具体的な化合物としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシランなどのアセトキシシラン類、ビニルメチルビス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、メチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、アリルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、フェニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、テトラキス(メチルエチルケトキシミノ)シランなどのケトキシミノシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシランなどのアルコキシシラン類、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ジイソプロペノキシジメチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシランなどのアルケニルオキシシラン類、テトラアリロキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中では、シリコーンゴム層の硬化速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類が好ましい。これらを2種以上含有してもよい。   Specific compounds include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, allyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, tetraacetoxysilane and other acetoxysilanes, vinylmethylbis (methylethylketoximino) silane , Methyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, ethyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, vinyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, allyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, phenyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, tetrakis (methyl ethyl ketoximino) silane, etc. Ketoximinosilanes, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethylto Alkoxysilanes such as ethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrisisopropenoxysilane, diisopropenoxydimethylsilane Alkenyloxysilanes such as triisopropenoxymethylsilane, tetraallyloxysilane, and the like, but are not limited thereto. Among these, acetoxysilanes and ketoximinosilanes are preferable from the viewpoint of the curing speed of the silicone rubber layer, handling properties, and the like. Two or more of these may be contained.

架橋剤の含有量は、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の強度や印刷版の耐傷性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the crosslinking agent is preferably 0.5% by weight or more and more preferably 1% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and the solution thereof. Further, from the viewpoint of the strength of the silicone rubber layer and the scratch resistance of the printing plate, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

硬化触媒としては、有機カルボン酸、酸類、アルカリ、アミン、金属アルコキシド、金属ジケテネート、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンなどの金属の有機酸塩などが挙げられる。具体的には、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。これらを2種以上含有してもよい。   Examples of the curing catalyst include organic carboxylic acids, acids, alkalis, amines, metal alkoxides, metal diketenates, organic acid salts of metals such as tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese. Specific examples include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate. Two or more of these may be contained.

硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性、接着性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中15重量%以下が好ましく、10重量%以下がより好ましい。   The content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, and more preferably 0.01% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoints of curability and adhesiveness of the silicone rubber layer. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and its solution, it is preferably 15% by weight or less, more preferably 10% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

また、これらの成分の他に、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤を含有してもよい。   In addition to these components, a known filler such as silica may be contained for the purpose of improving rubber strength.

また、現像後の水なし平版印刷版に検版性を付与する目的で、シリコーンゴム層中に有色顔料を含有することが好ましい。ここで、本発明において有色顔料とは、可視光波長域(380〜780nm)における何れかの光を吸収する顔料をいう。   Further, for the purpose of imparting plate inspection properties to the waterless lithographic printing plate after development, it is preferable to contain a colored pigment in the silicone rubber layer. Here, in the present invention, the colored pigment refers to a pigment that absorbs any light in the visible light wavelength region (380 to 780 nm).

一般に、顔料は水や脂肪族炭化水素などの溶剤に不溶であるため、顔料を含むことにより、水や溶剤に可溶な染料を含む場合に比べて、現像工程において用いられる水や有機薬液、印刷工程において用いられるインキ中の溶剤や各種洗浄剤などによる色素抽出が格段に抑えられる。   In general, pigments are insoluble in solvents such as water and aliphatic hydrocarbons. Therefore, by including pigments, water and organic chemicals used in the development process can be used compared to the case of containing dyes that are soluble in water and solvents. Dye extraction with solvents and various cleaning agents in the ink used in the printing process is remarkably suppressed.

現像後の水なし平版印刷版の検版性としては、目視による目視検版性、網点面積率測定装置による機器検版性が挙げられる。一般的に、機器検版性は目視検版性よりも画像識別能が低いため、機器検版性が良好な水なし平版印刷版は目視検版性もまた良好である場合が多い。   Examples of the plate inspection property of the waterless planographic printing plate after development include visual plate inspection property by visual inspection and device plate inspection property by a halftone dot area ratio measuring device. In general, since the image inspection ability is lower than the visual inspection ability, the waterless lithographic printing plate having good inspection performance often has good visual inspection ability.

一般的な網点面積率測定装置は、印刷版上に形成された網点部分に、青色光(波長400〜500nm)、緑色光(波長500〜600nm)、赤色光(波長600〜700nm)、または白色光(波長400〜700nm)の何れかの光を照射し、画線部/非画線部間の反射光量差から網点面積率を算出する。このため、画線部/非画線部間の反射光量差が小さい場合や、反射光量差がない場合は、網点面積率測定が困難となり、機器検版性が低下する。直描型水なし平版印刷版原版の断熱層や感熱層を構成する有機化合物の多くは青色光を吸収するため、青色光を吸収する黄色や橙色などの有色顔料で着色したシリコーンゴム層を用いた場合、画線部/非画線部間の反射光量差が小さくなり、機器検版性が低下する。さらに、目視検版性も低下する場合がある。このような理由から、緑色光または赤色光を吸収する有色顔料を用いることが、機器検版性や目視検版性の観点から好ましい。さらに、緑色光または赤色光を吸収する有色顔料の中でも、密度3g/cm以下の有色顔料が、シリコーンゴム層組成物やその溶液における分散性の観点から好ましい。緑色光または赤色光を吸収する有色顔料の中で、密度が3g/cm以下の有色顔料としては、コバルトブルー、紺青、含水硅酸塩、群青、カーボンブラック、体質顔料(炭酸石灰粉、沈降性炭酸カルシウム、石膏、アスベスト、クレー、シリカ粉、珪藻土、タルク、塩基性炭酸マグネシウム、アルミナホワイト)にローダミン、メチルバイオレット、ピーコックブルー、アルカリブルー、マラカイトグリーン、アリザリンなどの染料を染め付けた捺染系顔料、アルカリブルー、アニリンブラック、リソールレッド、レーキレッドC、ブリリアントカーミン6B、ウォッチヤングレッド、ボルドー10B、パラレッド、レーキレッド4R、ナフトールレッド、クロモフタルスカーレットRN、フタロシアニンブルー、ファストスカイブルー、フタロシアニングリーン、アントラキノン系顔料、ペリレンレッド、チオインジゴレッド、インダントロンブルー、キナクリドンレッド、キナクリドンバイオレット、ジオキサジンバイオレット、ナフトールグリーンBなどが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。 A general halftone dot area ratio measuring device has blue light (wavelength 400 to 500 nm), green light (wavelength 500 to 600 nm), red light (wavelength 600 to 700 nm), on a halftone dot portion formed on a printing plate. Alternatively, white light (wavelength of 400 to 700 nm) is irradiated, and the halftone dot area ratio is calculated from the difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area. For this reason, when the difference in the amount of reflected light between the image area and the non-image area is small, or when there is no difference in the amount of reflected light, it is difficult to measure the dot area ratio, and the device inspection performance is degraded. Many of the organic compounds that make up the heat-insulating and heat-sensitive layers of direct-drawing waterless lithographic printing plate precursors absorb blue light, so use a silicone rubber layer colored with colored pigments such as yellow and orange that absorb blue light. In this case, the difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area is reduced, and the device inspection is deteriorated. Furthermore, the visual plate inspection property may also deteriorate. For these reasons, it is preferable to use a colored pigment that absorbs green light or red light from the viewpoints of instrument inspection and visual inspection. Furthermore, among colored pigments that absorb green light or red light, colored pigments having a density of 3 g / cm 3 or less are preferable from the viewpoint of dispersibility in the silicone rubber layer composition and its solution. Among colored pigments that absorb green light or red light, those having a density of 3 g / cm 3 or less include cobalt blue, bitumen, hydrous oxalate, ultramarine, carbon black, extender pigments (lime carbonate powder, precipitated) Printing pigments in which basic calcium carbonate, gypsum, asbestos, clay, silica powder, diatomaceous earth, talc, basic magnesium carbonate, alumina white) are dyed with dyes such as rhodamine, methyl violet, peacock blue, alkali blue, malachite green, alizarin , Alkali blue, aniline black, resol red, lake red C, brilliant carmine 6B, watch young red, Bordeaux 10B, para red, lake red 4R, naphthol red, chromophthalscarlet RN, phthalocyanine blue, fast sky blue, Examples include phthalocyanine green, anthraquinone pigment, perylene red, thioindigo red, indanthrone blue, quinacridone red, quinacridone violet, dioxazine violet, and naphthol green B. Two or more of these may be contained.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、有色顔料の含有量は、シリコーンゴム層中の0.1体積%以上が好ましく、0.2体積%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層のインキ反発性を維持する観点から、20体積%以下が好ましく、10体積%以下がより好ましい。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the content of the colored pigment is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 0.2% by volume or more in the silicone rubber layer. Moreover, from a viewpoint of maintaining the ink repellency of a silicone rubber layer, 20 volume% or less is preferable and 10 volume% or less is more preferable.

シリコーンゴム層中における有色顔料の分散性を向上させるために、シリコーンゴム層組成物に顔料分散剤を含有することが好ましい。顔料分散剤を含有することにより、シリコーンゴム層組成物を溶剤により希釈する際や、シリコーンゴム層組成物またはその溶液中で経時により発生する有色顔料の凝集を抑制することができる。顔料分散剤としては、顔料表面をよく濡らし、かつオルガノポリシロキサンや、後述する有色顔料含有シリコーン液の希釈に用いられる溶剤などの低極性化合物との親和性が良好な顔料分散剤が好ましい。そのような顔料分散剤であれば公知の顔料分散剤を用いることができる。顔料分散剤は界面活性剤や表面改質剤などの名称で用いられることもある。顔料分散剤としては、金属と有機化合物からなる有機錯化合物、アミン系顔料分散剤、酸系顔料分散剤、ノニオン界面活性剤などを挙げることができる。中でも、金属と有機化合物からなる有機錯化合物、またはアミン系顔料分散剤が好ましい。   In order to improve the dispersibility of the colored pigment in the silicone rubber layer, the silicone rubber layer composition preferably contains a pigment dispersant. By containing the pigment dispersant, it is possible to suppress the aggregation of the colored pigment that occurs with time in the silicone rubber layer composition or its solution when the silicone rubber layer composition is diluted with a solvent. As the pigment dispersant, a pigment dispersant that wets the pigment surface well and has good affinity with low-polar compounds such as organopolysiloxane and a solvent used for diluting the colored pigment-containing silicone liquid described later is preferable. If it is such a pigment dispersant, a well-known pigment dispersant can be used. The pigment dispersant is sometimes used as a name such as a surfactant or a surface modifier. Examples of the pigment dispersant include an organic complex compound composed of a metal and an organic compound, an amine pigment dispersant, an acid pigment dispersant, and a nonionic surfactant. Among these, an organic complex compound composed of a metal and an organic compound or an amine pigment dispersant is preferable.

有機錯化合物を形成する金属および有機化合物としては、感熱層の架橋剤として先に例示した金属錯化合物を形成する金属および有機化合物が挙げられる。中でも、有機化合物としては、カルボン酸やリン酸、スルホン酸などの酸化合物や、金属との間でキレート環を形成できるジケトンやケトエステル、ジエステル化合物が金属との配位力の点から好ましい。   Examples of the metal and organic compound that form the organic complex compound include the metal and organic compound that form the metal complex compound exemplified above as the crosslinking agent of the heat-sensitive layer. Among these, as the organic compound, acid compounds such as carboxylic acid, phosphoric acid, and sulfonic acid, and diketones, ketoesters, and diester compounds capable of forming a chelate ring with a metal are preferable from the viewpoint of coordination power with the metal.

顔料分散剤として用いられる最も単純な有機錯化合物は、上記有機化合物と金属アルコキシドを室温下または加熱下で撹拌し、配位子を交換することにより得ることができる。1つの金属に対し上記有機化合物を1分子以上配位させることが好ましい。   The simplest organic complex compound used as a pigment dispersant can be obtained by stirring the organic compound and metal alkoxide at room temperature or under heating and exchanging the ligand. It is preferable to coordinate one or more molecules of the organic compound to one metal.

市販されている金属と有機化合物からなる有機錯化合物の一例を以下に挙げる。アルミニウム系:“オクトープ”(登録商標)Al、“オリープ”AOO、AOS(以上、ホープ製薬(株)製)、“プレンアクト”(登録商標)AL−M(味の素ファインテクノ(株)製)など。チタニウム系:“プレンアクト”KR−TTS、KR46B、KR55、KR41B、KR38S、KR138S、KR238S、KR338X、KR9SA(以上、味の素ファインテクノ(株)製)、“KEN−REACT”(登録商標)TTS−B、5、6、7、10、11、12、15、26S、37BS、43、58CS、62S、36B、46B、101、106、110S、112S、126S、137BS、158DS、201、206、212、226、237、262S(以上、KENRICH社製)など。   An example of a commercially available organic complex compound composed of a metal and an organic compound is given below. Aluminum type: “Octope” (registered trademark) Al, “Olyp” AOO, AOS (above, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.), “Plenact” (registered trademark) AL-M (produced by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), and the like. Titanium-based: “Pureact” KR-TTS, KR46B, KR55, KR41B, KR38S, KR138S, KR238S, KR338X, KR9SA (above, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), “KEN-REACT” (registered trademark) TTS-B, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 15, 26S, 37BS, 43, 58CS, 62S, 36B, 46B, 101, 106, 110S, 112S, 126S, 137BS, 158DS, 201, 206, 212, 226, 237, 262S (above, manufactured by KENRICH).

上記有機錯化合物は、特に付加反応型シリコーンゴム層に好適に使用できる。中でも、分子中に1級または2級のアミン、リン、硫黄を含まない有機錯化合物は白金触媒の触媒毒として作用しないため、白金触媒を用いて硬化を促進する付加反応型のシリコーンに用いる際に極めて好適である。   The organic complex compound can be suitably used particularly for an addition reaction type silicone rubber layer. In particular, organic complex compounds that do not contain primary or secondary amines, phosphorus, or sulfur in the molecule do not act as catalyst poisons for platinum catalysts. Therefore, when used for addition reaction type silicones that promote curing using platinum catalysts. It is very suitable for.

一方、アミン系顔料分散剤としては、その分子中に1個のアミノ基を有するモノアミンタイプ、分子中に複数個のアミノ基を有するポリアミンタイプがあり、何れも好適に使用できる。具体的には、“ソルスパース”(登録商標)9000、13240、13650、13940、17000、18000、19000、28000(以上、LUBRIZOL社製)などを挙げることができる。   On the other hand, as the amine pigment dispersant, there are a monoamine type having one amino group in the molecule and a polyamine type having a plurality of amino groups in the molecule, both of which can be suitably used. Specific examples include “Solsperse” (registered trademark) 9000, 13240, 13650, 13940, 17000, 18000, 19000, 28000 (above, manufactured by LUBRIZOL).

顔料分散剤は、顔料の表面積に対して、2〜30mg/m含有することが好ましい。言い換えると、例えば、比表面積50m/gの顔料を10g含有する場合、顔料分散剤の含有量は、1〜15gが好ましい。 The pigment dispersant is preferably contained in an amount of 2 to 30 mg / m 2 with respect to the surface area of the pigment. In other words, for example, when 10 g of a pigment having a specific surface area of 50 m 2 / g is contained, the content of the pigment dispersant is preferably 1 to 15 g.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、シリコーンゴム層の平均膜厚は0.5〜20μmが好ましい。感熱層上のシリコーンゴム層の平均膜厚を0.5μm以上とすることで印刷版のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が十分となり、20μm以下とすることで経済的見地から不利とならず、現像性、インキマイレージの低下が起こりにくい。ここで、感熱層に非感光性粒子を含有する直描型水なし平版印刷版原版の場合、シリコーンゴム層の平均膜厚とは、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層上のシリコーンゴム層の平均膜厚を指す。シリコーンゴム層の平均膜厚は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、倍率2000倍の条件でTEM観察を行う。得られた垂直断面のTEM観察像において、シリコーンゴム層からランダムに選んだ10箇所について膜厚を計測し、その数平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。感熱層に非感光性粒子を含有する直描型水なし平版印刷版原版の場合、非感光性粒子が存在せずに平滑な部分の感熱層上のシリコーンゴム層からランダムに選んだ10箇所の膜厚の数平均値を算出する。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the average thickness of the silicone rubber layer is preferably 0.5 to 20 μm. If the average film thickness of the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer is 0.5 μm or more, the ink repellency, scratch resistance and printing durability of the printing plate will be sufficient, and if it is 20 μm or less, it will be disadvantageous from an economic standpoint. Therefore, the developability and ink mileage are not easily lowered. Here, in the case of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor containing non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer, the average film thickness of the silicone rubber layer is the silicone rubber on the heat-sensitive layer in the portion where the non-photosensitive particles are not present Refers to the average film thickness of the layer. The average film thickness of the silicone rubber layer can be determined by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by an ultrathin section method, and TEM observation is performed under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. In the TEM observation image of the obtained vertical section, the average film thickness can be obtained by measuring the film thickness at 10 locations randomly selected from the silicone rubber layer and calculating the number average value thereof. In the case of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor containing non-photosensitive particles in the heat-sensitive layer, 10 spots randomly selected from the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer in a smooth portion without the presence of non-photosensitive particles The number average value of the film thickness is calculated.

基板と感熱層間の接着性向上、光ハレーション防止、検版性向上、断熱性向上、耐刷性向上などを目的に、前述の基板の上に断熱層を有してもよい。本発明に用いられる断熱層としては、例えば特開2004−199016号公報、特開2004−334025号公報、特開2006−276385号公報などに記載された断熱層を挙げることができる。   For the purpose of improving adhesion between the substrate and the heat-sensitive layer, preventing light halation, improving plate inspection, improving heat insulation, and improving printing durability, a heat insulating layer may be provided on the substrate. As a heat insulation layer used for this invention, the heat insulation layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-199016, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-334025, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-276385 etc. can be mentioned, for example.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、シリコーンゴム層上に、前記本発明の保護膜形成用組成物から形成された保護膜を有する。保護膜が、シリコーンゴム層表面を被覆することによって、シリコーンゴム層に対して異物の付着が抑制される。このため、印刷版原版の表面に異物が接触した場合の付着を防止できる。あるいは、露光工程の前や露光工程と同時に実施可能な印刷版原版表面の清浄化において、印刷版原版表面からの付着物の除去が容易になる。これらの作用によって、レーザー光線を遮ることによって起こる露光阻害の要因を低減することが可能となる。   The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention has a protective film formed from the protective film-forming composition of the present invention on a silicone rubber layer. When the protective film covers the surface of the silicone rubber layer, adhesion of foreign matters to the silicone rubber layer is suppressed. For this reason, adhesion when a foreign material contacts the surface of the printing plate precursor can be prevented. Alternatively, in the cleaning of the printing plate precursor surface that can be performed before the exposure process or simultaneously with the exposure process, it is easy to remove the deposits from the printing plate precursor surface. By these actions, it becomes possible to reduce the factor of exposure inhibition caused by blocking the laser beam.

保護膜の膜厚は、0.1μm以上1.0μm以下が好ましい。膜厚を0.1μm以上とすることで、直描型水なし平版印刷版原版表面の粘着性をより抑制し、異物の付着をより抑制することができる。また、膜厚を1.0μm以下とすることで、レーザー露光に対する感度低下をより抑制できる。0.5μm以下がより好ましい。ここで、保護膜の膜厚は、公知の光学式膜厚測定手法によって測定できる。光学式測定法としてはエリプソメーターと反射率分光法(光干渉方式)が挙げられる。また、保護膜の一部を除去した境界部に対してレーザー顕微鏡で表面段差を計測して、保護膜の膜厚を測定できる。また、電子顕微鏡で印刷版断面を観察し、その観察像から保護膜の膜厚を測定できる。   The thickness of the protective film is preferably 0.1 μm or more and 1.0 μm or less. By setting the film thickness to 0.1 μm or more, it is possible to further suppress the adhesiveness of the surface of the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor and further suppress the adhesion of foreign matters. Moreover, the sensitivity fall with respect to laser exposure can be suppressed more by making a film thickness into 1.0 micrometer or less. 0.5 μm or less is more preferable. Here, the film thickness of the protective film can be measured by a known optical film thickness measurement method. Examples of the optical measurement method include an ellipsometer and reflectance spectroscopy (light interference method). In addition, the thickness of the protective film can be measured by measuring the surface level difference with a laser microscope at the boundary part from which a part of the protective film is removed. Moreover, the printing plate cross section is observed with an electron microscope, and the film thickness of the protective film can be measured from the observed image.

保護膜は、印刷版原版の全表面を被覆することが好ましいが、本発明の効果が得られる範囲で印刷版原版の表面の一部が保護膜で被覆されていない態様も選択できる。異物の付着を抑制する目的から、印刷版原版の表面の保護膜で被覆されていない部分には、内接される円の最大直径が1,000μm以上となる広がりをもつ部分が少ないことが好ましく、印刷版原版表面の1cmに対して1個以下であることが好ましい。さらに、内接される円の最大直径が100μm以上となる広がりをもつ部分が印刷版原版表面の1cmに対して100個以下であることが好ましく、30個以下がより好ましく、10個以下がさらに好ましい。保護膜の被覆されていない部分は、印刷版原版を光学顕微鏡を用いて拡大像として観察できる。 The protective film preferably covers the entire surface of the printing plate precursor, but an embodiment in which a part of the surface of the printing plate precursor is not covered with the protective film can be selected as long as the effects of the present invention are obtained. For the purpose of suppressing the adhesion of foreign matter, it is preferable that the portion not covered with the protective film on the surface of the printing plate precursor has a small portion having a spread where the maximum diameter of the inscribed circle is 1,000 μm or more. The number is preferably 1 or less for 1 cm 2 of the surface of the printing plate precursor. Furthermore, it is preferable that the number of the inscribed circles with a maximum diameter of 100 μm or more is 100 or less, more preferably 30 or less, more preferably 10 or less with respect to 1 cm 2 of the printing plate precursor surface. Further preferred. The portion where the protective film is not coated can be observed as an enlarged image of the printing plate precursor using an optical microscope.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、露光に至るまでの過程でシリコーンゴム層が損傷することを防止する目的から、保護膜上にさらに保護フィルムを設けてもよい。この保護フィルムは露光に先立って除去される。さらに、同様の目的から合紙を有してもよい。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, a protective film may be further provided on the protective film for the purpose of preventing the silicone rubber layer from being damaged in the process up to exposure. This protective film is removed prior to exposure. Furthermore, you may have a slip for the same purpose.

次に、本発明の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法について説明する。本発明の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法は、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層を形成した後、前記本発明の保護膜形成用組成物を前記シリコーンゴム層上に塗布後、乾燥して保護膜を形成することを特徴とする。例えば、(a)基板上、または断熱層を積層した基板上に、感熱層組成物溶液を塗布する工程、(b)該感熱層組成物溶液を乾燥して感熱層を形成する工程、(c)該感熱層上にシリコーンゴム層組成物を塗布、またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布後、乾燥してシリコーンゴム層を形成する工程、(d)該シリコーンゴム層上に前記本発明の保護膜形成用組成物を塗布後、乾燥して保護膜を形成する工程を少なくとも有する方法が挙げられる。   Next, a method for producing the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention comprises forming at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer on a substrate and then applying the protective film-forming composition of the present invention onto the silicone rubber layer. Thereafter, the protective film is formed by drying. For example, (a) a step of applying a heat-sensitive layer composition solution on a substrate or a substrate on which a heat insulating layer is laminated, (b) a step of drying the heat-sensitive layer composition solution to form a heat-sensitive layer, (c ) A step of applying a silicone rubber layer composition on the heat-sensitive layer, or applying a silicone rubber layer composition solution and then drying to form a silicone rubber layer; (d) the protection of the present invention on the silicone rubber layer; Examples of the method include at least a step of forming a protective film by applying a film-forming composition and then drying it.

まず、(a)基板上、または断熱層を積層した基板上に、感熱層組成物溶液を塗布する工程について説明する。感熱層組成物溶液は、前述の感熱層構成成分、好ましくは溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤、好ましくは溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤および必要に応じて他の成分を含有する。感熱層組成物溶液中の全固形分の濃度は、2〜50重量%が好ましい。感熱層組成物溶液中に、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤と、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤を含ませることで、感熱層に気泡または液泡を形成することができる。 First, (a) the process of applying a heat-sensitive layer composition solution on a substrate or a substrate on which a heat insulating layer is laminated will be described. The heat-sensitive layer composition solution comprises the above-mentioned heat-sensitive layer constituents, preferably a solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less, preferably a solvent having a solubility parameter of more than 17.0 (MPa) 1/2 and Contains other components as required. The concentration of the total solid content in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 2 to 50% by weight. By adding a solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and a solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 in the heat-sensitive layer composition solution, bubbles are formed in the heat-sensitive layer. Or a liquid bubble can be formed.

特に、感熱層組成物溶液中に、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤と、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤を含ませることが好ましく、感熱層に210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む液泡を形成することができる。 In particular, in the thermosensitive layer composition solution, the solubility parameter is 17.0 (MPa) 1/2 or less and the solvent has a boiling point in the range of 210 to 270 ° C., and the solubility parameter is 17.0 (MPa). It is preferable to include a solvent exceeding 1/2 , and a liquid bubble containing a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. can be formed in the heat-sensitive layer.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤としては、具体的には、炭素数12〜18の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素、ノルマルパラフィングレードM(沸点:219〜247℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、ノルマルパラフィングレードH(沸点:244〜262℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、“NSクリーン”230(沸点:227℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2((株)JOMOサンエナジー製))、“アイソパー”(登録商標)M(沸点:223〜254℃、溶解度パラメーター:14.7(MPa)1/2(エクソンモービルケミカル社製))、“IPソルベント”2028(沸点:213〜262℃、溶解度パラメーター:14.3(MPa)1/2(出光興産(株)製))、“IPクリーン”HX(沸点:222〜261℃、溶解度パラメーター:14.3(MPa)1/2(出光興産(株)製))などの脂肪族飽和炭化水素、“ナフテゾール”(登録商標)220(沸点:221〜240℃、溶解度パラメーター:16.4(MPa)1/2(新日本石油(株)製))などの脂環族炭化水素、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:212℃、溶解度パラメーター:16.0(MPa)1/2)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点:256℃、溶解度パラメーター:15.8(MPa)1/2)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:216℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:261℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点:215℃、溶解度パラメーター:15.1(MPa)1/2)などのアルキレングリコールジアルキルエーテル類などが挙げられる。これらを2種以上含んでもよい。 Specific examples of the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. include straight chain, branched or 12 to 18 carbon atoms. Cyclic hydrocarbon, normal paraffin grade M (boiling point: 219 to 247 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)), normal paraffin grade H (boiling point: 244 to 262) ° C, solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)), “NS Clean” 230 (boiling point: 227 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (( Co., Ltd.) JOMO San Energy)), "Isopar" (registered trademark) M (boiling point: 223~254 ℃, solubility parameter: 14.7 (MPa) 1/2 (Ekusonmobi Chemical Co., Ltd.)), "IP Solvent" 2028 (boiling point: 213~262 ℃, solubility parameter: 14.3 (MPa) 1/2 (Idemitsu Kosan Co., Ltd.)), "IP clean" HX (boiling point: 222 ˜261 ° C., solubility parameter: 14.3 (MPa) 1/2 (manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)) and the like, “Naphthezole” (registered trademark) 220 (boiling point: 221-240 ° C., solubility) Parameters: 16.4 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)) and the like, diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 212 ° C., solubility parameter: 16.0 (MPa) 1 / 2), diethylene glycol dibutyl ether (boiling point: 256 ° C., solubility parameter: 15.8 (MPa) 1/2), triethylene glycol di Chirueteru (boiling point: 216 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2), triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 261 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2), tripropylene glycol Examples include alkylene glycol dialkyl ethers such as dimethyl ether (boiling point: 215 ° C., solubility parameter: 15.1 (MPa) 1/2 ). Two or more of these may be included.

また、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲の一部に沸点を有する溶剤としては、具体的には、“ナフテゾール”200(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、“ダストクリーン”300(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(松村石油(株)製))、“ダストクリーン”300AF(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(松村石油(株)製))、ポリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:264〜294℃、溶解度パラメーター:16.6(MPa)1/2)などが挙げられる。これらを2種以上含んでもよい。 Further, as a solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in a part of the range of 210 to 270 ° C., specifically, “naphthethol” 200 (boiling point: 201 ˜217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation), “Dust Clean” 300 (boiling point: 201-217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1 / 2 (Matsumura Oil Co., Ltd.)), “Dust Clean” 300AF (boiling point: 201-217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (Matsumura Oil Co., Ltd.)), polyethylene glycol dimethyl ether (Boiling point: 264 to 294 ° C., solubility parameter: 16.6 (MPa) 1/2 ) and the like. Two or more of these may be included.

感熱層組成物溶液に含まれる溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤中、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体の割合は80重量%以上が好ましく、90重量%以上がより好ましく、95重量%以上がより好ましく、100重量%がさらに好ましい。 The ratio of the liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. in the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less contained in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 80% by weight or more, and 90% by weight or more. Is more preferable, 95% by weight or more is more preferable, and 100% by weight is further preferable.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤の含有量は、初期感度および経時後感度をより向上させる観点から、感熱層固形分100重量部に対して0.1重量部以上が好ましく、1重量部以上がより好ましい。一方、感熱層組成物溶液の塗布性の観点から、感熱層固形分100重量部に対して60重量部以下が好ましく、25重量部以下がより好ましい。また、初期感度および経時後感度をより向上させる観点から、感熱層組成物溶液中0.1重量%以上が好ましく、0.5重量%以上がより好ましい。一方、感熱層組成物溶液の塗布性の観点から、感熱層組成物溶液中10重量%以下が好ましく、7重量%以下がより好ましく、5重量%以下がより好ましい。 The content of the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is solid from the viewpoint of further improving the initial sensitivity and the sensitivity after aging. 0.1 parts by weight or more is preferable with respect to 100 parts by weight per minute, and 1 part by weight or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of applicability of the heat-sensitive layer composition solution, 60 parts by weight or less is preferable with respect to 100 parts by weight of the heat-sensitive layer solid content, and 25 parts by weight or less is more preferable. Further, from the viewpoint of further improving the initial sensitivity and sensitivity after aging, the content in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more. On the other hand, from the viewpoint of applicability of the heat-sensitive layer composition solution, it is preferably 10% by weight or less, more preferably 7% by weight or less, and more preferably 5% by weight or less in the heat-sensitive layer composition solution.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤としては、感熱層構成成分を溶解または分散できるものが好ましい。例えば、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミド類などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。また、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体と相溶する溶剤が特に好ましい。 As the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , those capable of dissolving or dispersing the heat-sensitive layer constituents are preferable. For example, alcohols, ethers, ketones, esters, amides and the like can be mentioned. Two or more of these may be contained. Further, a solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and compatible with a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is particularly preferable.

液泡の大きさは、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤の沸点、および感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度との間に密接な関係がある。溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤として、感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度で容易に蒸発する低沸点の溶剤を用いた場合は、低沸点の溶剤が速やかに蒸発し、隣接した液泡形成成分が集まる前に乾燥するため、小さな液泡が感熱層に形成される。一方、感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度で容易に蒸発しない高沸点の溶剤を用いた場合は、高沸点の溶剤がゆっくりと蒸発し、隣接した液泡形成成分が集まりながら乾燥するため、大きな液泡が感熱層に形成される。 The size of the liquid bubbles is closely related to the boiling point of the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 and the ambient temperature when the heat-sensitive layer composition solution is applied. As a solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , when a low-boiling solvent that easily evaporates at the ambient temperature when applying the heat-sensitive layer composition solution is used, the low-boiling solvent is quickly used. In order to evaporate and dry before the adjacent liquid bubble forming components gather, small liquid bubbles are formed in the heat sensitive layer. On the other hand, when a high-boiling solvent that does not easily evaporate at the ambient temperature when applying the heat-sensitive layer composition solution is used, the high-boiling solvent evaporates slowly and dries while the adjacent liquid bubble forming components gather. Large liquid bubbles are formed in the heat-sensitive layer.

上記溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤中、沸点30〜200℃の溶剤を80重量%以上含むことが好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。また、沸点80℃以下の溶剤を80重量%以上含むことがより好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。また、沸点70℃以下の溶剤を80重量%以上含むことがより好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。沸点30℃以上の溶剤を80重量%以上含むことにより、特別な冷却装置などを用いることなく常温での安定的な塗液調製を容易に行うことができる。また、沸点200℃以下の溶剤を80重量%以上含むことにより、後述する乾燥により、感熱層から容易に除去することができる。 In the solvent having the solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , the solvent having a boiling point of 30 to 200 ° C. is preferably 80% by weight or more, and more preferably 95% by weight or more. Moreover, it is more preferable to contain 80 weight% or more of solvent with a boiling point of 80 degrees C or less, and it is more preferable to contain 95 weight% or more. Moreover, it is more preferable to contain 80 weight% or more of solvent with a boiling point of 70 degrees C or less, and it is more preferable to contain 95 weight% or more. By containing 80% by weight or more of a solvent having a boiling point of 30 ° C. or higher, a stable coating solution can be easily prepared at room temperature without using a special cooling device. Further, by containing 80% by weight or more of a solvent having a boiling point of 200 ° C. or less, it can be easily removed from the heat-sensitive layer by drying described later.

また、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤の沸点が活性水素を有するポリマーの熱軟化点よりも低いと、液泡の形成に有利である。 Further, when the boiling point of the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 is lower than the thermal softening point of the polymer having active hydrogen, it is advantageous for the formation of liquid bubbles.

上記感熱層組成物溶液を、基板上に直接塗布してもよいし、必要により断熱層などの樹脂層を基板上に積層した上に、感熱層組成物溶液を塗布してもよい。基板は塗布面を脱脂しておくことが好ましい。   The heat-sensitive layer composition solution may be applied directly on the substrate, or if necessary, a heat-sensitive layer composition solution may be applied after a resin layer such as a heat insulating layer is laminated on the substrate. It is preferable to degrease the coated surface of the substrate.

塗布装置の例としては、スリットダイコーター、ダイレクトグラビアコーター、オフセットグラビアコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーター、エアーナイフコーター、ロールブレードコーター、バリバーロールブレードコーター、トゥーストリームコーター、ロッドコーター、ディップコーター、カーテンコーター、スピンコーターなどが挙げられる。塗膜精度や生産性およびコストの面で、スリットダイコーター、グラビアコーター、ロールコーターが特に好ましい。   Examples of coating devices include slit die coaters, direct gravure coaters, offset gravure coaters, reverse roll coaters, natural roll coaters, air knife coaters, roll blade coaters, variver roll blade coaters, two stream coaters, rod coaters, and dip coaters. , Curtain coater, spin coater and the like. A slit die coater, a gravure coater, and a roll coater are particularly preferable in terms of coating film accuracy, productivity, and cost.

感熱層組成物溶液の塗布重量は、印刷版の耐刷性や希釈溶剤が揮散しやすく生産性で優れる点で乾燥後の重量で0.1〜10g/mの範囲が適当であり、好ましくは0.5〜7g/mの範囲である。 The coating weight of the heat-sensitive layer composition solution is suitably in the range of 0.1 to 10 g / m 2 in terms of weight after drying in terms of printing durability of the printing plate and diluting solvent being easy to evaporate and excellent productivity. Is in the range of 0.5-7 g / m 2 .

次に、(b)感熱層組成物溶液を乾燥して感熱層を形成する工程について説明する。感熱層組成物溶液の乾燥は非加熱下、または加熱下において実施される。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、30〜190℃、より好ましくは50〜150℃の温度で、30秒〜5分間乾燥することが好ましい。   Next, the step (b) of forming the heat sensitive layer by drying the heat sensitive layer composition solution will be described. Drying of the heat-sensitive layer composition solution is performed without heating or under heating. In the case of heating, it is preferable to dry at a temperature of 30 to 190 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. for 30 seconds to 5 minutes using a hot air dryer or an infrared dryer.

次に、(c)該感熱層上にシリコーンゴム層組成物を塗布、またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布後、乾燥してシリコーンゴム層を形成する工程について説明する。ここで、シリコーンゴム層組成物は、シリコーンゴム層を形成する材料から構成される無溶剤の液体であり、シリコーンゴム層組成物溶液は、シリコーンゴム層組成物と溶剤を含有する希溶液である。   Next, (c) a step of applying a silicone rubber layer composition on the heat sensitive layer or applying a silicone rubber layer composition solution and then drying to form a silicone rubber layer will be described. Here, the silicone rubber layer composition is a solventless liquid composed of a material forming the silicone rubber layer, and the silicone rubber layer composition solution is a dilute solution containing the silicone rubber layer composition and a solvent. .

有色顔料の分散や、シリコーンゴム層組成物溶液に用いられる溶剤としては、例えば、脂肪族飽和炭化水素、脂肪族不飽和炭化水素、脂環族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル類などが挙げられる。これら溶剤の溶解度パラメーターは、17.0(MPa)1/2以下が好ましく、15.5(MPa)1/2以下がより好ましい。例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、イソオクタン、“アイソパー”C、“アイソパー”E、“アイソパー”G、“アイソパー”H、“アイソパー”K、“アイソパー”L、“アイソパー”M(エクソン化学(株)製)などの脂肪族飽和炭化水素、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセンなどの脂肪族不飽和炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素、トリフルオロトリクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。経済性および安全性の点から、脂肪族および脂環族炭化水素が好ましい。これら脂肪族および脂環族炭化水素の炭素数は4〜20が好ましく、炭素数6〜15がより好ましい。 Examples of the solvent used in the dispersion of the colored pigment and the silicone rubber layer composition solution include aliphatic saturated hydrocarbons, aliphatic unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, and the like. It is done. The solubility parameter of these solvents is preferably 17.0 (MPa) 1/2 or less, and more preferably 15.5 (MPa) 1/2 or less. For example, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, isooctane, “Isopar” C, “Isopar” E, “Isopar” G, “Isopar” H, “Isopar” K, “Isopar” L, “Isopar” "Molecular saturated hydrocarbons such as M (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.), aliphatic unsaturated hydrocarbons such as hexene, heptene, octene, nonene, and decene, and alicyclic hydrocarbons such as cyclopentane, cyclohexane, and methylcyclohexane And halogenated hydrocarbons such as trifluorotrichloroethane, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, and diisobutyl ether. Two or more of these may be used. From the viewpoints of economy and safety, aliphatic and alicyclic hydrocarbons are preferred. These aliphatic and alicyclic hydrocarbons preferably have 4 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 15 carbon atoms.

以下に、(i)シリコーンゴム層組成物、(ii)シリコーンゴム層組成物溶液の具体的な作製方法を記載する。   Below, the specific preparation method of (i) silicone rubber layer composition and (ii) silicone rubber layer composition solution is described.

(i)シリコーンゴム層組成物(無溶剤)
例えば、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサンと、必要により有色顔料、顔料分散剤、微粒子を分散機で均一に分散混合することにより、シリコーンペーストを得る。分散機としては、三本ロール、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ディスパーサー、ホモジナイザー、アトライター、超音波分散機などが挙げられる。得られたシリコーンペースト中に、架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を添加し、撹拌して成分を均一とし、液中に混入した空気の泡を除去することで、シリコーンゴム層組成物を得る。脱泡は自然脱泡でも減圧脱泡でもよいが、減圧脱泡がより好ましい。
(I) Silicone rubber layer composition (solvent-free)
For example, a silicone paste is obtained by uniformly dispersing and mixing a hydroxyl or vinyl group-containing organopolysiloxane and, if necessary, a colored pigment, a pigment dispersant, and fine particles with a disperser. Examples of the disperser include three rolls, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a disperser, a homogenizer, an attritor, and an ultrasonic disperser. In the resulting silicone paste, add a cross-linking agent, reaction catalyst, and other additives (reaction inhibitor, etc.) as necessary. Stir to homogenize the components and remove air bubbles mixed in the liquid. By removing, a silicone rubber layer composition is obtained. The defoaming may be natural defoaming or vacuum defoaming, but vacuum defoaming is more preferable.

(ii)シリコーンゴム層組成物溶液(溶剤含有)
例えば、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサンと、必要により有色顔料、顔料分散剤、微粒子を前述した分散機で均一に分散混合することにより、シリコーンペーストを得て、これを撹拌しながら溶剤で希釈する。これを紙やプラスチック、またはガラスなどの一般的なフィルターを用いて濾過し、希釈液中の不純物(分散が不十分な有色顔料の巨大粒子など)を取り除くことが好ましい。濾過後の希釈液は、乾燥空気や乾燥窒素などによるバブリングにより系中の水分を除去することが好ましい。十分に水分の除去を行った希釈液に架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を添加し撹拌して成分を均一とし、液中に混入した空気の泡を除去する。脱泡は自然脱泡でも減圧脱泡でもよい。
(Ii) Silicone rubber layer composition solution (containing solvent)
For example, a silicone paste is obtained by uniformly dispersing and mixing a hydroxyl group or vinyl group-containing organopolysiloxane and, if necessary, a colored pigment, a pigment dispersant, and fine particles with the disperser described above, and diluted with a solvent while stirring this. To do. It is preferable to filter this using a general filter such as paper, plastic, or glass to remove impurities (such as giant particles of colored pigment that are not sufficiently dispersed) in the diluent. It is preferable to remove the water in the system by bubbling with dry air, dry nitrogen or the like from the diluted solution after filtration. Add the cross-linking agent, reaction catalyst, and other additives (such as reaction inhibitors) as necessary to the diluted liquid after sufficient water removal, and stir it to make the components uniform. Remove foam. Defoaming may be natural defoaming or vacuum defoaming.

また、有色顔料を含有するシリコーンゴム層組成物溶液の他の作製方法としては、有色顔料分散液とシリコーン液、またはシリコーン希釈液を予め別々に作製しておき、後に両液を混合する方法が挙げられる。有色顔料分散液は、少なくとも顔料分散剤および溶剤を含有する溶液中に、有色顔料、必要により微粒子を添加し、上述の分散機で均一に分散混合することにより得られる。一方、シリコーン液は、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサン、架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を混合することにより得られる。また、得られたシリコーン液を溶剤で希釈することで、シリコーン希釈液を得ることができる。   Further, as another method for producing a silicone rubber layer composition solution containing a colored pigment, there is a method in which a colored pigment dispersion and a silicone liquid or a silicone dilution liquid are separately prepared in advance, and then both liquids are mixed. Can be mentioned. The colored pigment dispersion is obtained by adding a colored pigment and, if necessary, fine particles to a solution containing at least a pigment dispersant and a solvent, and uniformly dispersing and mixing them with the above-described disperser. On the other hand, the silicone liquid is obtained by mixing a hydroxyl group or vinyl group-containing organopolysiloxane, a crosslinking agent, a reaction catalyst, and other additives (such as a reaction inhibitor) as necessary. Moreover, a silicone dilution liquid can be obtained by diluting the obtained silicone liquid with a solvent.

シリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布する際、感熱層表面に付着した水分を可能な限り除去することが接着性の観点から好ましい。具体的には、乾燥ガスを充填、または、連続供給することで水分を除去した空間で、シリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布する方法が挙げられる。塗布装置の例としては、感熱層組成物溶液の塗布装置として例示したものを挙げることができる。   When applying the silicone rubber layer composition or the silicone rubber layer composition solution, it is preferable from the viewpoint of adhesiveness to remove moisture adhering to the surface of the heat sensitive layer as much as possible. Specifically, a method in which the silicone rubber layer composition or the silicone rubber layer composition solution is applied in a space in which moisture is removed by filling or continuously supplying a dry gas can be mentioned. As an example of a coating device, what was illustrated as a coating device of the thermosensitive layer composition solution can be mentioned.

シリコーンゴム感熱層組成物あるいは組成物溶液の塗布重量は、インキ反発性の点から乾燥後の重量で0.5g/m以上、経済的見地やインキマイレージを悪化させない目的から20g/m以下の範囲が適当であり、好ましくは0.5〜5g/mの範囲である。 The coating weight of the silicone rubber heat-sensitive layer composition or the composition solution is 0.5 g / m 2 or more in terms of ink repellent weight after drying, and 20 g / m 2 or less for the purpose of not deteriorating economic viewpoint and ink mileage. Is suitably in the range of 0.5 to 5 g / m 2 .

シリコーンゴム層組成物溶液を塗布する場合には、ついで、シリコーンゴム層組成物溶液を乾燥してシリコーンゴム層を形成する。乾燥や硬化のために加熱処理を行ってもよい。シリコーンゴム層組成物およびシリコーンゴム層組成物溶液は、塗布後、直ちに加熱されることが硬化性や対感熱層接着性の観点から好ましい。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、30〜190℃、より好ましくは50〜150℃の温度で、30秒〜5分間乾燥することが好ましい。   When the silicone rubber layer composition solution is applied, the silicone rubber layer composition solution is then dried to form a silicone rubber layer. You may heat-process for drying and hardening. The silicone rubber layer composition and the silicone rubber layer composition solution are preferably heated immediately after application from the viewpoint of curability and heat-sensitive layer adhesion. In the case of heating, it is preferable to dry at a temperature of 30 to 190 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. for 30 seconds to 5 minutes using a hot air dryer or an infrared dryer.

次に、(d)該シリコーンゴム層上に前記本発明の保護膜形成用組成物を塗布後、乾燥して保護膜を形成する工程について説明する。   Next, (d) the step of forming the protective film by applying the protective film-forming composition of the present invention on the silicone rubber layer and drying it will be described.

保護膜形成用組成物溶液は、前述の保護膜構成成分および必要に応じて他の成分を含有する。保護膜形成用組成物溶液中の全固形分の濃度は、2〜50重量%が好ましい。   The composition solution for forming a protective film contains the above-mentioned protective film constituents and, if necessary, other components. The concentration of the total solid content in the protective film-forming composition solution is preferably 2 to 50% by weight.

上記保護膜形成用組成物溶液を、シリコーンゴム層上に塗布する。塗布装置の例としては、感熱層組成物溶液の塗布装置として例示したものを挙げることができる。   The said protective film formation composition solution is apply | coated on a silicone rubber layer. As an example of a coating device, what was illustrated as a coating device of the thermosensitive layer composition solution can be mentioned.

保護膜形成用組成物溶液の塗布重量は、レーザー露光に対する感度低下をより抑制する観点から、乾燥後の膜厚が1.0μm以下となる重量が好ましく、一方、シリコーンゴム層表面への異物付着をより抑制する観点から、乾燥後の膜厚が0.1μm以上となる重量が好ましい。より好ましくは乾燥後の膜厚が0.1μm以上0.5μm以下となる重量の範囲である。保護膜は、印刷版原版の全表面を被覆することが好ましいが、本発明の効果が得られる範囲で印刷版原版の表面の一部が保護膜で被覆されていない態様も選択できる。異物の付着を抑制する目的から、印刷版原版の表面の保護膜で被覆されていない部分には、内接される円の最大直径が1,000μm以上となる広がりをもつ部分が印刷版原版表面の1cmに対して1個以下であることが好ましい。さらに、内接される円の最大直径が100μm以上となる広がりをもつ部分が印刷版原版表面の1cmに対して100個以下であることが好ましく、30個以下がより好ましく、10個以下がさらに好ましい。印刷版原版の表面の保護膜で被覆されていない部分として、内接される円の最大直径が1,000μm以上となる広がりをもつ部分が印刷版原版表面の1cmに対して1個未満であることによって、印刷版原版表面に付着しレーザー光を遮ることによって露光阻害の要因となる異物の付着を抑制することができる。 The coating weight of the protective film-forming composition solution is preferably such that the film thickness after drying is 1.0 μm or less from the viewpoint of further suppressing the decrease in sensitivity to laser exposure, while foreign matter adheres to the silicone rubber layer surface. From the viewpoint of further suppressing the weight, a weight at which the film thickness after drying is 0.1 μm or more is preferable. More preferably, it is in the weight range where the film thickness after drying is 0.1 μm or more and 0.5 μm or less. The protective film preferably covers the entire surface of the printing plate precursor, but an embodiment in which a part of the surface of the printing plate precursor is not covered with the protective film can be selected as long as the effects of the present invention are obtained. For the purpose of suppressing the adhesion of foreign matter, the portion of the printing plate precursor surface that is not covered with the protective film has a broadened portion where the maximum diameter of the inscribed circle is 1,000 μm or more. It is preferable that the number is 1 or less per 1 cm 2 . Furthermore, it is preferable that the number of the inscribed circles with a maximum diameter of 100 μm or more is 100 or less, more preferably 30 or less, more preferably 10 or less with respect to 1 cm 2 of the printing plate precursor surface. Further preferred. As the portion not covered with the protective film on the surface of the printing plate precursor, the portion having a spread where the maximum diameter of the inscribed circle is 1,000 μm or more is less than 1 with respect to 1 cm 2 of the surface of the printing plate precursor. As a result, it is possible to suppress the adhesion of foreign matters that cause exposure inhibition by adhering to the surface of the printing plate precursor and blocking the laser beam.

保護膜形成用組成物は、前記シリコーンゴム層上に塗布後、乾燥することによって保護膜を形成する。乾燥のために加熱処理を行ってもよい。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、30〜190℃、より好ましくは50〜150℃の温度で、30秒〜5分間乾燥することが好ましい。   The composition for forming a protective film forms a protective film by coating on the silicone rubber layer and then drying. Heat treatment may be performed for drying. In the case of heating, it is preferable to dry at a temperature of 30 to 190 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. for 30 seconds to 5 minutes using a hot air dryer or an infrared dryer.

得られた直描型水なし平版印刷版原版上に、版面保護の観点から必要に応じて保護フィルムおよび/または合紙を積層して保管してもよい。   On the obtained direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, a protective film and / or a slip sheet may be laminated and stored as necessary from the viewpoint of protecting the plate surface.

次に、本発明の直描型水なし平版印刷版原版から水なし平版印刷版を製造する方法について説明する。ここで、水なし平版印刷版とは、表面にインキ反発層となるシリコーンゴム層のパターンを有する印刷版であって、シリコーンゴム層のパターンを非画線部、シリコーンゴム層のない部分を画線部とし、非画線部と画線部のインキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写する印刷方法に使用される印刷版である。水なし平版印刷版の製造方法は、少なくとも上記本発明の直描型水なし平版印刷版原版をレーザービームにより像に従って露光する工程(露光工程)、露光した直描型水なし平版印刷版原版を、液体を使用することなく、あるいは、水または水に界面活性剤を添加した液の存在下で摩擦し、露光部のシリコーンゴム層を除去する工程(現像工程)を含む。必要により、さらに現像カスを除去する工程(水洗工程)を有してもよい。   Next, a method for producing a waterless planographic printing plate from the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described. Here, the waterless lithographic printing plate is a printing plate having a silicone rubber layer pattern as an ink repellent layer on the surface, wherein the silicone rubber layer pattern is defined as a non-image area and a portion without a silicone rubber layer. Used as a printing method in which ink is applied only to the image area using the difference in ink adhesion between the non-image area and the image area, and then the ink is transferred to the printing medium such as paper. Printed version. A method for producing a waterless lithographic printing plate comprises a step of exposing at least the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention according to an image with a laser beam (exposure step), and exposing the exposed direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor And a step (development step) of removing the silicone rubber layer in the exposed portion by rubbing without using a liquid or in the presence of water or a solution obtained by adding a surfactant to water. If necessary, you may have the process (water-washing process) of removing a development waste further.

まず、露光工程について説明する。本発明の直描型水なし平版印刷版原版を、デジタルデータによって走査されるレーザービームにより、像に従って露光する。露光工程で用いられるレーザー光源としては、発光波長領域が700〜1500nmの範囲にあるものが挙げられる。これらの中でも近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザーやYAGレーザーが好ましく用いられ、具体的には、明室での版材の取扱い性などの観点から、780nm、830nm、1064nmの波長のレーザー光が露光に好ましく用いられる。   First, the exposure process will be described. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention is exposed according to an image by a laser beam scanned by digital data. Examples of the laser light source used in the exposure step include those having an emission wavelength region in the range of 700 to 1500 nm. Among these, a semiconductor laser or a YAG laser having an emission wavelength region in the vicinity of the near infrared region is preferably used. Specifically, from the viewpoint of handling of the plate material in a bright room, 780 nm, 830 nm, and 1064 nm. A laser beam having a wavelength is preferably used for exposure.

次に、現像工程について説明する。露光後の原版は、液体を使用することなく、あるいは、水または水に界面活性剤を添加した液(以下、現像液という)の存在下で摩擦することにより、露光部のシリコーンゴム層が除去される。摩擦処理としては、(i)例えば、液体を用いずに、現像用パッドおよび/またはブラシや乾燥木綿パッドで版面を擦る方法、(ii)例えば、現像液を含浸した不織布、脱脂綿、布、スポンジなどで版面を拭き取る方法、(iii)現像液で版面を前処理した後に水道水などをシャワーしながら回転ブラシで擦る方法、(iv)高圧の水や温水、または水蒸気を版面に噴射する方法などが挙げられる。   Next, the development process will be described. After exposure, the exposed original silicon rubber layer is removed by rubbing without using a liquid or in the presence of water or a solution obtained by adding a surfactant to water (hereinafter referred to as a developer). Is done. Examples of the rubbing treatment include (i) a method of rubbing the plate surface with a developing pad and / or a brush or a dry cotton pad without using a liquid, and (ii) for example, a nonwoven fabric impregnated with a developing solution, absorbent cotton, cloth, sponge. (Iii) A method in which the plate surface is pretreated with a developer and then rubbed with a rotating brush while showering tap water, etc. (iv) A method in which high-pressure water, warm water, or steam is jetted onto the plate surface, etc. Is mentioned.

現像前に保護膜を除去してもよい。保護膜の除去方法は、例えば、溶剤で保護膜を溶解する方法、溶剤で保護膜を部分的に膨潤しかき取る方法、粘着剤を介してフィルムなどに転移させる方法などが挙げられる。   The protective film may be removed before development. Examples of the method for removing the protective film include a method in which the protective film is dissolved with a solvent, a method in which the protective film is partially swollen with the solvent, and a method in which the protective film is transferred to a film or the like via an adhesive.

また、現像前に前処理液中に一定時間版を浸漬する前処理を行ってもよい。前処理液としては、例えば、水や水にアルコールやケトン、エステル、カルボン酸などの極性溶媒を添加したもの、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などの少なくとも1種からなる溶媒に極性溶媒を添加したもの、あるいは極性溶媒が用いられる。また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加することも自由に行われる。界面活性剤としては、安全性、廃棄する際のコストなどの点から、水溶液にしたときにpHが5〜8になるものが好ましい。界面活性剤の含有量は現像液の10重量%以下であることが好ましい。このような現像液は安全性が高く、廃棄コストなどの経済性の点でも好ましい。さらに、グリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物を主成分として用いることが好ましく、アミン化合物を共存させることがより好ましい。   Moreover, you may perform the pretreatment which immerses a plate for a fixed time in a pretreatment liquid before image development. As the pretreatment liquid, for example, water or water added with a polar solvent such as alcohol, ketone, ester or carboxylic acid, polar solvent such as aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, etc. A solvent added or a polar solvent is used. In addition, a known surfactant can be freely added to the developer composition. As the surfactant, those having a pH of 5 to 8 when made into an aqueous solution are preferable from the viewpoints of safety and cost for disposal. The content of the surfactant is preferably 10% by weight or less of the developer. Such a developer has high safety and is preferable from the viewpoint of economy such as disposal cost. Furthermore, it is preferable to use a glycol compound or glycol ether compound as a main component, and it is more preferable that an amine compound coexists.

前処理液、現像液としては、特開昭63−179361号公報、特開平4−163557号公報、特開平4−343360号公報、特開平9−34132号公報、特許第3716429号公報に記載された前処理液、現像液を用いることができる。前処理液の具体例としては、PP−1、PP−3、PP−F、PP−FII、PTS−1、PH−7N、CP−1、NP−1、DP−1(何れも東レ(株)製)などを挙げることができる。   Examples of the pretreatment liquid and the developer are described in JP-A-63-179361, JP-A-4-163557, JP-A-4-343360, JP-A-9-34132, and JP-A-3716429. Further, a pretreatment liquid and a developer can be used. Specific examples of the pretreatment liquid include PP-1, PP-3, PP-F, PP-FII, PTS-1, PH-7N, CP-1, NP-1, DP-1 (all of which are Toray Industries, Inc. ) Made).

また、画線部の視認性や網点の計測精度を高める目的から、これらの現像液にクリスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド等の染料を添加して現像と同時に画線部のインキ受容層の染色を行うこともできる。さらには、現像の後に上記の染料を添加した液によって染色することもできる。   In addition, for the purpose of improving the visibility of the image area and the measurement accuracy of the halftone dots, dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red are added to these developers to develop ink reception at the same time as the development. The layer can also be dyed. Furthermore, it can also dye | stain with the liquid which added said dye after image development.

上記現像工程の一部または全部は、自動現像機により自動的に行うこともできる。自動現像機としては現像部のみの装置、前処理部、現像部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部、水洗部がこの順に設けられた装置などを使用できる。このような自動現像機の具体例としては、TWL−650シリーズ、TWL−860シリーズ、TWL−1160シリーズ(何れも東レ(株)製)などや、特開平4−2265号公報、特開平5−2272号公報、特開平5−6000号公報などに開示されている自動現像機を挙げることができ、これらを単独または併用して使用することができる。   Part or all of the development process can be automatically performed by an automatic developing machine. As an automatic processor, a device having only a developing unit, a preprocessing unit, a device in which a developing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit, a device in which a postprocessing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit The apparatus etc. which were provided with the post-processing part and the water washing part in this order can be used. Specific examples of such an automatic processor include TWL-650 series, TWL-860 series, TWL-1160 series (all manufactured by Toray Industries, Inc.), JP-A-4-2265, and JP-A-5- Examples thereof include automatic developing machines disclosed in Japanese Patent No. 2272, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-6000, and the like, and these can be used alone or in combination.

現像処理された水なし平版印刷版を積み重ねて保管する場合には、版面保護の目的で、版と版の間に合紙を挟んでおくことが好ましい。   When the development-processed waterless planographic printing plates are stacked and stored, it is preferable to sandwich a slip sheet between the plates for the purpose of protecting the plate surface.

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。各実施例・比較例における評価は次の方法で行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Evaluation in each Example and Comparative Example was performed by the following method.

(1)直描型水なし平版印刷版原版のTEM観察
レーザー照射前の直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製した。透過型電子顕微鏡:H−1700FA型((株)日立ハイテクノロジーズ製)を使用して、加速電圧100kV、倍率2000倍で感熱層断面を観察した。保護膜、シリコーンゴム層、感熱層、断熱層の平均膜厚、感熱層に含まれる非感光性粒子の平均粒径と非感光性粒子の面内占有率、感熱層に含まれる液泡の数と平均直径は、以下に記載の方法により計測した。
(1) TEM observation of direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor A sample was prepared from the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor before laser irradiation by an ultrathin section method. Transmission electron microscope: H-1700FA type (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation) was used to observe the cross section of the thermosensitive layer at an acceleration voltage of 100 kV and a magnification of 2000 times. The average film thickness of the protective film, silicone rubber layer, heat-sensitive layer, heat-insulating layer, average particle diameter of the non-photosensitive particles contained in the heat-sensitive layer, the in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles, and the number of liquid bubbles contained in the heat-sensitive layer The average diameter was measured by the method described below.

(1−1)保護膜、シリコーンゴム層、感熱層、断熱層の平均膜厚
超薄切片法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の垂直断面のTEM写真において、ランダムに選んだ10箇所について保護膜、シリコーンゴム層、感熱層、断熱層の膜厚を計測し、その数平均値を平均膜厚とした。感熱層に非感光性粒子を含む場合には、非感光性粒子が存在せずに平滑な部分について膜厚を計測し、その数平均値を感熱層の平均膜厚とした。
(1-1) Average film thickness of protective film, silicone rubber layer, heat-sensitive layer, and heat-insulating layer Selected randomly in a TEM photograph of a vertical section of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by an ultrathin section method The film thicknesses of the protective film, the silicone rubber layer, the heat sensitive layer, and the heat insulating layer were measured at 10 locations, and the number average value was defined as the average film thickness. When non-photosensitive particles were included in the heat-sensitive layer, the film thickness was measured for a smooth portion where non-photosensitive particles were not present, and the number average value thereof was taken as the average film thickness of the heat-sensitive layer.

(1−2)感熱層に含まれる非感光性粒子の平均粒径と面内占有率
連続(超薄)切片法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の水平断面の三次元情報から、非感光性粒子の平均粒径と面内占有率を算出した。ランダムに選んだ50個の非感光性粒子についてその粒径(等体積球相当径)を計測し、その数平均値を平均粒径とした。また、単位面積中の非感光性粒子の占める割合を非感光性粒子の面内占有率(面積%)とした。
(非感光性粒子の面内占有率計算例)
全水平断面:100μm
非感光性粒子の個数:20個
非感光性粒子の平均粒径:1μm(半径:0.5μm)
非感光性粒子占有率=100×π(0.5<μm>)×20<個>/100<μm>=15.7<面積%>
(1-2) Average particle size and in-plane occupancy of non-photosensitive particles contained in heat-sensitive layer Three-dimensional information of horizontal section of direct-drawing waterless planographic printing plate precursor obtained by continuous (ultra-thin) section method From these, the average particle size and the in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles were calculated. The particle size (equivalent volume sphere equivalent diameter) of 50 randomly selected non-photosensitive particles was measured, and the number average value was taken as the average particle size. Further, the ratio of the non-photosensitive particles in the unit area was defined as the in-plane occupation ratio (area%) of the non-photosensitive particles.
(Example of in-plane occupancy ratio of non-photosensitive particles)
Total horizontal cross section: 100 μm 2
Number of non-photosensitive particles: 20 Average particle diameter of non-photosensitive particles: 1 μm (radius: 0.5 μm)
Non-photosensitive particle occupancy = 100 × π (0.5 <μm>) 2 × 20 <piece> / 100 <μm 2 > = 15.7 <area%>

(1−3)感熱層に含まれる液泡数
白黒連続階調のTEM観察像において、感熱層の灰色背景中に観察される白い円状箇所(液泡の断面に相当)の有無を観察した。感熱層断面上部5μm(感熱層表面(シリコーンゴム層との界面)から深さ0.5μm×観察幅10μm)内で観察された円状箇所のうち、直径が0.01μm以上の円の総数を液泡数とした。観察領域を区画する線上にある円については、円の面積の半分以上が観察領域内にある場合は計数し、半分に満たない場合は計数しなかった。なお、感熱層中に相分離構造の形成が認められる場合には、液泡を多く含む相(実施例1ではポリウレタンを相対的に少なく含む相)を選択し、液泡数を求めた。
(1-3) Number of liquid bubbles contained in heat-sensitive layer In a black and white continuous tone TEM observation image, the presence or absence of white circular portions (corresponding to the cross-section of liquid bubbles) observed in the gray background of the heat-sensitive layer was observed. The total number of circles having a diameter of 0.01 μm or more among circular portions observed within 5 μm 2 of the heat-sensitive layer cross section (depth 0.5 μm × observation width 10 μm from the heat-sensitive layer surface (interface with the silicone rubber layer)) Was the number of liquid bubbles. For the circles on the line that divides the observation area, counting was performed when more than half of the area of the circle was within the observation area, and when it was less than half, it was not counted. In addition, when formation of the phase-separation structure was recognized in the thermosensitive layer, the phase containing much liquid bubbles (the phase containing relatively little polyurethane in Example 1) was selected, and the number of liquid bubbles was determined.

(1−4)液泡平均直径
観察された円状箇所のうち、白色度が高く輪郭の明瞭なもの(液泡のほぼ中心を通る断面に相当)からランダムに選んだ30個の円状箇所の直径を測定し、その数平均値を液泡平均直径とした。1枚のTEM観察像中に、白色度が高く輪郭の明瞭な円状箇所が30個観察されない場合には、撮影箇所が異なる複数枚のTEM観察像から白色度が高く輪郭の明瞭な円状箇所をランダムに30個選び、液泡平均直径を求めた。
(1-4) Liquid bubble average diameter Of the observed circular spots, the diameters of 30 circular spots randomly selected from those having high whiteness and a clear outline (corresponding to a cross section passing through almost the center of the liquid foam) The number average value was defined as the liquid bubble average diameter. When 30 circular portions with high whiteness and a clear outline are not observed in one TEM observation image, a circular shape with high whiteness and a clear outline is obtained from a plurality of TEM observation images with different shooting locations. Thirty locations were selected at random, and the liquid bubble average diameter was determined.

(2)感熱層の相分離構造観察
アルミ基板上にプライマー層および感熱層を設けた、シリコーンゴム層積層前の試料を1辺10cmの正方形に断裁し、光学顕微鏡:“ECLIPSE”L200((株)ニコン製、透過モード、対物レンズ:“CFI LU Plan Apo EPI”50×((株)ニコン製))に接続されたデジタルカメラ:“DXM”1200F((株)ニコン製)で感熱層表面の画像を撮影し(モニター上の総合倍率:1000倍)、評価した。個々の相分離構造が、いずれかの方向に対して1μm以上の直線的な大きさを有している場合に相分離構造を形成していると判定した。個々の相分離構造の大きさが、1μm未満、もしくは相分離が確認できなかった場合は、相分離構造を形成していないと判定した。
(2) Observation of phase-separated structure of heat-sensitive layer A sample having a primer layer and a heat-sensitive layer provided on an aluminum substrate, before being laminated with a silicone rubber layer, was cut into a square with a side of 10 cm, and an optical microscope: “ECLIPSE” L200 (Ltd. ) Nikon, transmission mode, objective lens: “CFI LU Plan Apo EPI” 50 × (Nikon Corporation)) connected to a digital camera: “DXM” 1200F (Nikon Corporation) Images were taken (total magnification on monitor: 1000 times) and evaluated. It was determined that the phase separation structure was formed when each phase separation structure had a linear size of 1 μm or more in any direction. When the size of each phase separation structure was less than 1 μm or phase separation could not be confirmed, it was determined that no phase separation structure was formed.

(3)保護膜の非被覆部の数
保護膜を形成した印刷版原版の表面を光学顕微鏡で観察し、保護膜が形成されていない非被覆部分を検査した。面積1cmの5箇所観察部分に対して、内接される円の最大直径が100μm以上となる広がりをもつ保護膜非被覆部分の数を平均し、これを保護膜の非被覆部の数とした。保護膜の非被覆部の数が少ないほど良好である。
(3) Number of uncovered portions of protective film The surface of the printing plate precursor on which the protective film was formed was observed with an optical microscope, and the uncoated portion where the protective film was not formed was inspected. For the five observation portions with an area of 1 cm 2 , the number of the protective film non-covered portions having a spread where the maximum diameter of the inscribed circle is 100 μm or more is averaged, and this is the number of the non-covered portions of the protective film. did. The smaller the number of non-covered portions of the protective film, the better.

(4)必要露光量(感度)の評価
直描型水なし平版印刷版原版をレーザー露光機:“PlateRite”8800E(大日本スクリーン製造(株)製)に装着し、露光量を変更させてベタ画像を露光し、必要に応じて保護膜の除去を行った後、各実施例、比較例に記載の現像条件で現像を行った。得られた水なし平版印刷版を目視観察し、露光部全体のシリコーンゴム層が完全に剥離できた最低の露光量を必要露光量(感度)とした。ブランク(版面保護成分を設けていない直描型水なし平版印刷版原版:比較例1、比較例5)との比較を行った。ブランクに比べ、必要露光量の増分が小さいほど良好である。
(4) Evaluation of necessary exposure amount (sensitivity) Direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor is mounted on a laser exposure machine: “PlateRite” 8800E (manufactured by Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.). After the image was exposed and the protective film was removed as necessary, development was performed under the development conditions described in each Example and Comparative Example. The obtained waterless lithographic printing plate was visually observed, and the minimum exposure amount at which the silicone rubber layer of the entire exposed portion could be completely peeled was determined as the required exposure amount (sensitivity). Comparison was made with a blank (a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having no plate surface protection component: Comparative Example 1 and Comparative Example 5). Compared to the blank, the smaller the required exposure increment, the better.

(5)版表面の紙粉付着数の評価(初期、合紙擦過後)
直描型水なし平版印刷版原版(表面積:100cm)の表面全体に紙粉として“KCフロック(登録商標)”W−100(日本製紙ケミカル(株)製)10gを均等にふりかけ、その上から荷重1kgのおもりを載せて24時間静置した。おもりを外し、印刷版原版表面全体に圧縮空気を吹き付けた後に、処理後の印刷版原版の表面を光学顕微鏡で観察した。面積1cmの5箇所観察部分で観察された紙粉の個数を平均し、これを紙粉付着数(初期)とした。紙粉付着数が少ないほど良好である。
(5) Evaluation of the number of adhering paper dust on the plate surface (initial, after rubbing paper)
Sprinkle 10 g of “KC Flock (registered trademark)” W-100 (manufactured by Nippon Paper Chemicals Co., Ltd.) evenly over the entire surface of the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor (surface area: 100 cm 2 ) Then, a weight of 1 kg was placed thereon and allowed to stand for 24 hours. After removing the weight and blowing compressed air over the entire printing plate precursor surface, the surface of the treated printing plate precursor was observed with an optical microscope. The number of paper dusts observed at five observation portions having an area of 1 cm 2 was averaged, and this was defined as the paper dust adhesion number (initial). The smaller the number of paper dust attached, the better.

また、別の直描型水なし平版印刷版原版の表面(表面積:100cm)に、6cm×10cmの大きさの合紙“クルパック”(王子製紙(株)製、秤量:73g/m)を載せ、その合紙の上に底面が5cm×5cmの大きさで、重量60gのおもりを載せた。合紙の端部を持って水平方向に10mm/秒の速度でゆっくりと引っ張り、印刷版原版の表面を合紙で擦過した。擦過後の印刷版原版に対して、上記と同様に紙粉付着数を求め、これを紙粉付着数(合紙擦過後)とした。 Further, on the surface (surface area: 100 cm 2 ) of another direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, a slip sheet “Kulpack” having a size of 6 cm × 10 cm (Oji Paper Co., Ltd., weighing: 73 g / m 2 ) A weight of 60 g and a weight of 5 cm × 5 cm was placed on the slip sheet. Holding the edge of the slip sheet, the sheet was slowly pulled in the horizontal direction at a speed of 10 mm / second, and the surface of the printing plate precursor was rubbed with the slip sheet. For the printing plate precursor after rubbing, the number of adhering paper dust was determined in the same manner as described above, and this was used as the number of adhering paper dust (after rubbing the interleaf).

(6)高分子化合物の重量平均分子量の測定
高分子化合物の重量平均分子量は、GPC法を用いて、以下の条件で求めた。高分子化合物をテトラヒドロフランに濃度0.2w/v%となるように加え、室温で緩やかに撹拌した。目視観察で高分子化合物が良好に溶解していることを確認し、得られた溶液をメンブレンフィルター(孔径0.45μm、東ソー(株)製)で濾過したものを試料とした。
装置:ゲル浸透クロマトグラフGPC(東ソー(株)製)
検出器:示差屈折率検出器 RI(8020型、感度32、東ソー(株)製)
カラム:TSKgel G4000HXL、G3000HXL、G2000HXL(東ソー(株)製)
溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0mL/分
注入量:0.200mL
標準試料:単分散ポリスチレン(東ソー(株)製)
(6) Measurement of weight average molecular weight of polymer compound The weight average molecular weight of the polymer compound was determined using the GPC method under the following conditions. The polymer compound was added to tetrahydrofuran at a concentration of 0.2 w / v% and gently stirred at room temperature. It was confirmed by visual observation that the polymer compound was well dissolved, and the obtained solution was filtered through a membrane filter (pore diameter 0.45 μm, manufactured by Tosoh Corporation) as a sample.
Apparatus: Gel permeation chromatograph GPC (manufactured by Tosoh Corporation)
Detector: Differential refractive index detector RI (8020 type, sensitivity 32, manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSKgel G4000HXL, G3000HXL, G2000HXL (manufactured by Tosoh Corporation)
Solvent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL / min Injection amount: 0.200 mL
Standard sample: Monodispersed polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)

(7)高分子化合物のガラス転移温度(Tg(℃))の測定
高分子化合物を約5mg秤量しサンプルパンに詰めて測定試料とした。JIS K7121−1987に基づいて、−50℃で5分間保持後20℃/分の昇温速度にて100℃まで昇温し、示差走査型熱量(DSC)測定を行った。観測されたDSC曲線から中間点をガラス転移温度とした。
(7) Measurement of glass transition temperature (Tg (° C.)) of polymer compound About 5 mg of the polymer compound was weighed and packed in a sample pan to obtain a measurement sample. Based on JIS K7121-1987, it hold | maintained at -50 degreeC for 5 minutes, Then, it heated up to 100 degreeC with the temperature increase rate of 20 degreeC / min, and performed differential scanning calorimetry (DSC) measurement. The intermediate point was defined as the glass transition temperature from the observed DSC curve.

(合成例1)ポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体Aの合成
撹拌器、環流管、温度計、窒素導入管、液供給ポンプを備えたフラスコに、シリコーン系マクロモノマーX−22−174DX(信越化学(株)製、官能基当量4,600)30重量部およびメチルエチルケトン100重量部を仕込み、窒素をバブリングしながら70℃に昇温した。その後、メチルメタクリレート30重量部、ブチルアクリレート10重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート10重量部、スチレン20重量部およびジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート1.5部の混合液を2時間かけてフラスコに供給し、全量供給後、70℃で更に5時間加熱した。得られた溶液を減圧乾燥して、メチルエチルケトンを除去し、ポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体Aを得た。得られたアクリル・シリコーングラフト共重合体Aの重量平均分子量は12万、ガラス転移温度は60℃であった。
Synthesis Example 1 Synthesis of Acrylic / Silicone Graft Copolymer A Having Polydimethylsiloxane in Side Chain A silicone macromonomer X was added to a flask equipped with a stirrer, a reflux tube, a thermometer, a nitrogen introduction tube, and a liquid supply pump. -22-174DX (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., functional group equivalent 4,600) 30 parts by weight and methyl ethyl ketone 100 parts by weight were charged, and the temperature was raised to 70 ° C. while bubbling nitrogen. Thereafter, a mixed solution of 30 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of butyl acrylate, 10 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, 20 parts by weight of styrene and 1.5 parts of dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate is added for 2 hours. The whole amount was supplied and heated at 70 ° C. for another 5 hours. The resulting solution was dried under reduced pressure to remove methyl ethyl ketone to obtain an acrylic / silicone graft copolymer A having polydimethylsiloxane in the side chain. The resulting acrylic / silicone graft copolymer A had a weight average molecular weight of 120,000 and a glass transition temperature of 60 ° C.

(実施例1)
厚さ0.24mmの脱脂したアルミ基板(三菱アルミ(株)製)上に下記の断熱層組成物溶液を塗布し、200℃で90秒間乾燥し、厚み6.0μmの断熱層を設けた。なお、断熱層組成物溶液は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。
Example 1
The following heat insulating layer composition solution was applied onto a 0.24 mm thick degreased aluminum substrate (Mitsubishi Aluminum Co., Ltd.) and dried at 200 ° C. for 90 seconds to provide a heat insulating layer having a thickness of 6.0 μm. In addition, the heat insulation layer composition solution was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature.

<断熱層組成物溶液>
(a)活性水素を有するポリマー:エポキシ樹脂:“エピコート”(登録商標)1010(ジャパンエポキシレジン(株)製):35重量部
(b)活性水素を有するポリマー:ポリウレタン:“サンプレン”(登録商標)LQ−T1331D(三洋化成工業(株)製、固形分濃度:20重量%):375重量部
(c)アルミキレート:“アルミキレート”ALCH−TR(川研ファインケミカル(株)製):10重量部
(d)レベリング剤:“ディスパロン”(登録商標)LC951(楠本化成(株)製、固形分:10重量%):1重量部
(e)酸化チタン:“タイペーク”(登録商標)CR−50(石原産業(株)製)のN,N−ジメチルホルムアミド分散液(酸化チタン50重量%):60重量部
(f)N,N−ジメチルホルムアミド:730重量部
(g)メチルエチルケトン:250重量部
<Insulation layer composition solution>
(A) Polymer having active hydrogen: Epoxy resin: “Epicoat” (registered trademark) 1010 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): 35 parts by weight (b) Polymer having active hydrogen: Polyurethane: “Samprene” (registered trademark) ) LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Industries, solid content concentration: 20% by weight): 375 parts by weight (c) Aluminum chelate: “aluminum chelate” ALCH-TR (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.): 10 weight Part (d) Leveling agent: “Disparon” (registered trademark) LC951 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., solid content: 10% by weight): 1 part by weight (e) Titanium oxide: “Typaque” (registered trademark) CR-50 N, N-dimethylformamide dispersion (Ishihara Sangyo Co., Ltd.) (titanium oxide 50% by weight): 60 parts by weight (f) N, N-dimethylformamide: 30 parts by weight (g) Methyl ethyl ketone: 250 parts by weight

次いで、下記の感熱層組成物溶液−1を前記断熱層上に塗布し、120℃で30秒間加熱し、感熱層を設けた。なお、感熱層組成物溶液−1は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。   Subsequently, the following heat sensitive layer composition solution-1 was apply | coated on the said heat insulation layer, and it heated at 120 degreeC for 30 second, and provided the heat sensitive layer. The heat sensitive layer composition solution-1 was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature.

<感熱層組成物溶液−1>
(a)フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂:“スミライトレジン”(登録商標)PR50716(住友ベークライト(株)製、重量平均分子量:約3500):100重量部
(b)ポリウレタン溶液:“サンプレン”(登録商標)LQ−X5(三洋化成工業(株)製、50モル%以上が芳香族ポリイソシアネートのポリイソシアネートとポリエステルポリオールより得られるポリウレタン、熱軟化点:185℃、固形分濃度:30重量%):56重量部
(c)赤外線吸収染料:“PROJET”825LDI((株)Avecia製):15重量部
(d)チタニウムジ−n−ブトキシビス(アセチルアセトネート)溶液:“ナーセム”(登録商標)チタン(日本化学産業(株)製、固形分濃度:73重量%):12重量部
(e)テトラヒドロフラン(沸点:66℃):620重量部
(f)メチルエチルケトン(沸点:79℃):51重量部
(g)エタノール(沸点:78℃):129重量部
(h)溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体:脂肪族飽和炭化水素:“アイソパー”(登録商標)M(エクソンモービルケミカル社製、沸点:223〜254℃、溶解度パラメーター:14.7(MPa)1/2):17重量部
<Thermosensitive layer composition solution-1>
(A) Phenol formaldehyde novolak resin: “Sumilite Resin” (registered trademark) PR50716 (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., weight average molecular weight: about 3500): 100 parts by weight (b) Polyurethane solution: “Samprene” (registered trademark) LQ-X5 (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., polyurethane obtained by polyisocyanate and polyester polyol of 50 mol% or more of aromatic polyisocyanate, thermal softening point: 185 ° C., solid content concentration: 30 wt%): 56 wt. Part (c) Infrared absorbing dye: “PROJET” 825LDI (manufactured by Avecia): 15 parts by weight (d) Titanium di-n-butoxybis (acetylacetonate) solution: “Narsem” (registered trademark) titanium (Nippon Chemical Co., Ltd.) Sangyo Co., Ltd., solid concentration: 73% by weight): 12 parts by weight (e) Tet Hydrofuran (boiling point: 66 ° C.): 620 parts by weight (f) Methyl ethyl ketone (boiling point: 79 ° C.): 51 parts by weight (g) Ethanol (boiling point: 78 ° C.): 129 parts by weight (h) Solubility parameter is 17.0 (MPa) ) is 1/2 or less, and a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C.: aliphatic saturated hydrocarbon: "Isopar" (trademark) M (Exxon Mobil Chemical Co., boiling point: two hundred twenty-three to two hundred and fifty-four ° C., Solubility parameter: 14.7 (MPa) 1/2 ): 17 parts by weight

上記感熱層を設けた試料を用いて、前記方法により相分離構造の有無を観察したところ、ポリウレタンを相対的に少なく含むマトリックス相の中に、ポリウレタンを相対的に多く含む相が網目状に分布した相分離構造が確認された。   Using the sample provided with the heat-sensitive layer, the presence or absence of a phase separation structure was observed by the above method. As a result, the phase containing a relatively large amount of polyurethane was distributed in a network in the matrix phase containing a relatively small amount of polyurethane. The phase separation structure was confirmed.

次いで、下記のシリコーンゴム層組成物溶液を前記感熱層上に塗布し、130℃で90秒間加熱し、厚み2.0μmのシリコーンゴム層を設けた。   Next, the following silicone rubber layer composition solution was applied onto the heat sensitive layer and heated at 130 ° C. for 90 seconds to provide a silicone rubber layer having a thickness of 2.0 μm.

<シリコーンゴム層組成物溶液>
ジルコニアビーズ:“YTZ”(登録商標)ボール(φ0.6mm、(株)ニッカトー製)2000gを充填した密閉可能なガラス製規格瓶中に、“アイソパー”(登録商標)G(エクソンモービルケミカル社製):420g、“プレンアクト”(登録商標)KR−TTS(味の素ファインテクノ(株)製):40g、N650紺青(大日精化(株)製):100gを投入し、密閉後、小型ボールミル回転架台(アズワン(株)製)にセットし、0.4m/秒の回転速度で336時間分散することで、有色顔料分散液を得た。得られた有色顔料分散液3重量部に対して、下記成分を室温にて撹拌混合することにより、シリコーンゴム層組成物溶液を得た。
(a)イソパラフィン:“アイソパー”(登録商標)E(エクソンモービルケミカル社製):550重量部
(b)両末端ビニルポリジメチルシロキサン:“DMS”V52(ゲレスト社製、重量平均分子量:155000):81.28重量部
(c)SiH基含有ポリシロキサン:“HMS”991(ゲレスト社製):3重量部
(d)ビニルトリス(メチルエチルケトオキシイミノ)シラン:3重量部
(e)3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:“サイラエース”(登録商標)S510(チッソ(株)製):4重量部
(f)白金触媒:“SRX”212(東レダウコーニングシリコーン(株)製):7重量部
<Silicone rubber layer composition solution>
Zirconia beads: “Isopar” (registered trademark) G (manufactured by ExxonMobil Chemical Co., Ltd.) in a sealable glass standard bottle filled with 2000 g of “YTZ” (registered trademark) balls (φ0.6 mm, manufactured by Nikkato Co., Ltd.) ): 420 g, “Plenact” (registered trademark) KR-TTS (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.): 40 g, N650 bitumen (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.): 100 g, and after sealing, a small ball mill rotary mount It was set to (manufactured by ASONE Co., Ltd.) and dispersed for 336 hours at a rotational speed of 0.4 m / sec to obtain a colored pigment dispersion. The silicone rubber layer composition solution was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature with respect to 3 parts by weight of the obtained colored pigment dispersion.
(A) Isoparaffin: “Isopar” (registered trademark) E (manufactured by ExxonMobil Chemical): 550 parts by weight (b) Vinylpolydimethylsiloxane at both ends: “DMS” V52 (manufactured by Gerest, weight average molecular weight: 155000): 81.28 parts by weight (c) SiH group-containing polysiloxane: “HMS” 991 (manufactured by Gerest): 3 parts by weight (d) vinyltris (methylethylketooxyimino) silane: 3 parts by weight (e) 3-glycidoxypropyl Trimethoxysilane: “Syra Ace” (registered trademark) S510 (manufactured by Chisso Corporation): 4 parts by weight (f) Platinum catalyst: “SRX” 212 (manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.): 7 parts by weight

次いで、下記の保護膜形成用組成物−1を前記シリコーンゴム層上全面に塗布し、その後乾燥して、厚み0.3μmの保護膜を設けることで直描型水なし平版印刷版原版を得た。保護膜の乾燥のために100℃で60秒間加熱した。なお、保護膜形成用組成物−1は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。   Next, the following protective film-forming composition-1 was applied to the entire surface of the silicone rubber layer, and then dried to provide a protective film having a thickness of 0.3 μm to obtain a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor. It was. Heating was performed at 100 ° C. for 60 seconds to dry the protective film. The protective film-forming composition-1 was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature.

<保護膜形成用組成物−1>
(a)合成例1のポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体A:5重量部
(b)n−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):95重量部
<Protective film-forming composition-1>
(A) Acrylic / silicone graft copolymer A having a polydimethylsiloxane in the side chain of Synthesis Example 1: 5 parts by weight (b) n-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 95 parts by weight

得られた直描型水なし平版印刷版原版について、前記方法によりTEM観察を行ったところ、感熱層断面上部5μm中に60個の円状箇所が観察された。円状箇所の平均直径は0.2μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認された。 The obtained direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was subjected to TEM observation by the above method. As a result, 60 circular portions were observed in the upper part of the heat-sensitive layer cross section of 5 μm 2 . The average diameter of the circular portion was 0.2 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed.

このように作製された直描型水なし平版印刷版原版について、上記方法で必要露光量増分および紙粉付着数の評価を行った。結果を表1に示す。   The direct exposure type waterless lithographic printing plate precursor produced in this way was evaluated for the necessary exposure increment and the number of adhering paper dust by the above-described methods. The results are shown in Table 1.

(比較例1)
保護膜を形成しないこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 1 except that no protective film was formed. The results are shown in Table 1.

(比較例2)
保護膜を形成する代わりに、カレンダーローラーを用いて厚さ8μmのポリプロピレンフィルム“トレファン(登録商標)”BO(東レ(株)製)をラミネートした。ポリプロピレンフィルムをラミネートした状態で直描型水なし平版印刷版原版を露光した。露光後にポリプロピレンフィルムを剥離し、現像し、必要露光量の評価を行った。また、ポリプロピレンフィルムをラミネートした状態で紙粉付着性の評価を行った。結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
Instead of forming a protective film, a polypropylene film “Trephan (registered trademark)” BO (manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 8 μm was laminated using a calendar roller. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was exposed with the polypropylene film laminated. After exposure, the polypropylene film was peeled off and developed, and the required exposure was evaluated. Also, paper powder adhesion was evaluated in a state where a polypropylene film was laminated. The results are shown in Table 1.

(実施例2)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 2)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−2>
(a)ポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体B(東亞合成(株)製、“サイマック(登録商標)”US−270を減圧乾燥した。ガラス転移温度40℃):5重量部
(b)n−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):95重量部
<Protective film-forming composition-2>
(A) Acrylic / silicone graft copolymer B having polydimethylsiloxane in the side chain (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “Symac (registered trademark)” US-270 was dried under reduced pressure, glass transition temperature 40 ° C.): 5 Part by weight (b) n-butyl methyl ether (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 95 parts by weight

(実施例3)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 3)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−3>
(a)ポリスチレン(アルドリッチ製、重量平均分子量192,000、ガラス転移温度100℃):5重量部
(b)n−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):95重量部
<Protective film-forming composition-3>
(A) Polystyrene (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight 192,000, glass transition temperature 100 ° C.): 5 parts by weight (b) n-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 95 parts by weight

(実施例4)
保護膜の厚みを0.7μmに変更したこと以外は、実施例3と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
Example 4
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 3 except that the thickness of the protective film was changed to 0.7 μm. The results are shown in Table 1.

(実施例5)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 5)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−4>
(a)ポリスチレン(アルドリッチ製、重量平均分子量192,000、ガラス転移温度100℃):5重量部
(b)n−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):80.8重量部
(c)トルエン(東京化成工業(株)製):14.2重量部
n−ブチルメチルエーテルとトルエンの重量比は、85:15とした。
<Protective film forming composition-4>
(A) Polystyrene (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight 192,000, glass transition temperature 100 ° C.): 5 parts by weight (b) n-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 80.8 parts by weight (c ) Toluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 14.2 parts by weight The weight ratio of n-butyl methyl ether to toluene was 85:15.

(実施例6)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 6)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−5>
(a)ポリスチレン(アルドリッチ製、重量平均分子量192,000、ガラス転移温度100℃):5重量部
(b)n−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):66.5重量部
(c)トルエン(東京化成工業(株)製):28.5重量部
n−ブチルメチルエーテルとトルエンの重量比は、70:30とした。
<Protective film-forming composition-5>
(A) Polystyrene (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight 192,000, glass transition temperature 100 ° C.): 5 parts by weight (b) n-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 66.5 parts by weight (c ) Toluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 28.5 parts by weight The weight ratio of n-butyl methyl ether and toluene was 70:30.

(実施例7)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 7)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−6>
(a)ポリスチレン(アルドリッチ製、重量平均分子量192,000、ガラス転移温度100℃):5重量部
(b)tert−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):66.5重量部
(c)トルエン(東京化成工業(株)製):28.5重量部
tert−ブチルメチルエーテルとトルエンの重量比は、70:30とした。
<Protective film-forming composition-6>
(A) Polystyrene (manufactured by Aldrich, weight average molecular weight 192,000, glass transition temperature 100 ° C.): 5 parts by weight (b) tert-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 66.5 parts by weight (c ) Toluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 28.5 parts by weight The weight ratio of tert-butyl methyl ether to toluene was 70:30.

(実施例8)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。
(Example 8)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1.

<保護膜形成用組成物−7>
(a)ポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体B(東亞合成(株)製、“サイマック(登録商標)”US−270、固形分濃度29重量%、溶剤としてメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエンを含む):17.24重量部
(b)tert−ブチルメチルエーテル(東京化成工業(株)製):82.76重量部
tert−ブチルメチルエーテルとその他の溶剤の重量比は、87:13とした。
<Protective film-forming composition-7>
(A) Acrylic / silicone graft copolymer B having polydimethylsiloxane in the side chain (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “Symac (registered trademark)” US-270, solid content concentration: 29% by weight, methyl ethyl ketone, methyl as solvent) (Including isobutyl ketone and toluene): 17.24 parts by weight
(B) tert-butyl methyl ether (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 82.76 parts by weight The weight ratio of tert-butyl methyl ether to other solvent was 87:13.

(比較例3)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。なお、保護膜の塗布が不安定であり、作製条件や環境による変動が大きかった。
(Comparative Example 3)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1. Note that the application of the protective film was unstable, and the variation due to the manufacturing conditions and environment was large.

<保護膜形成用組成物−8>
(a)ポリスチレン(アルドリッチ製、重量平均分子量192,000):5重量部
(b)トルエン(東京化成工業(株)製):95重量部
<Protective film-forming composition-8>
(A) Polystyrene (Aldrich, weight average molecular weight 192,000): 5 parts by weight
(B) Toluene (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 95 parts by weight

(比較例4)
保護膜形成用組成物を下記の通り変更したこと以外は、実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表1に示す。なお、保護膜の塗布が不安定であり、作製条件や環境による変動が大きかった。
(Comparative Example 4)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition for forming a protective film was changed as follows. The results are shown in Table 1. Note that the application of the protective film was unstable, and the variation due to the manufacturing conditions and environment was large.

<保護膜形成用組成物−9>
(a)ポリジメチルシロキサンを側鎖に有するアクリル・シリコーングラフト共重合体B(東亞合成(株)製、“サイマック(登録商標)”US−270、固形分濃度29重量%、溶剤としてメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエンを含む、ガラス転移温度40℃):17.24重量部
(b)トルエン(東京化成工業(株)製):82.76重量部
<Protective film-forming composition-9>
(A) Acrylic / silicone graft copolymer B having polydimethylsiloxane in the side chain (manufactured by Toagosei Co., Ltd., “Symac (registered trademark)” US-270, solid content concentration: 29% by weight, methyl ethyl ketone, methyl as solvent) (Contains isobutyl ketone and toluene, glass transition temperature 40 ° C.): 17.24 parts by weight (b) Toluene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.): 82.76 parts by weight

形成された保護膜を光学顕微鏡で観察したところ、一部にシリコーンゴム層が露出した微小部分が観察された。   When the formed protective film was observed with an optical microscope, a minute portion in which the silicone rubber layer was partially exposed was observed.

(実施例9)
感熱層組成物溶液を下記の通り変更したこと以外は、実施例2と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表2に示す。
Example 9
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 2 except that the heat-sensitive layer composition solution was changed as follows. The results are shown in Table 2.

<感熱層組成物溶液−2>
(a)赤外線吸収染料:“PROJET”825LDI(Avecia社製):6.6重量部
(b)有機錯化合物:チタニウムジ−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート):“ナーセム”(登録商標)チタン(日本化学産業(株)製、濃度:73重量%、溶剤としてn−ブタノール27重量%を含む):7.3重量部
(c)フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂:“スミライトレジン”(登録商標)PR50731(住友ベークライト(株)製):49.5重量部
(d)ポリウレタン:“ニッポラン”(登録商標)5196(日本ポリウレタン(株)製、濃度:30重量%、溶剤としてメチルエチルケトン35重量%、シクロヘキサノン35重量%を含む):13.2重量部
(e)非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”(登録商標)RSP3021(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:0.6μm、CV値:18.9%、比重:1.20、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):15.0重量部
(f)テトラヒドロフラン:1401.8重量部
(g)溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体:脂肪族飽和炭化水素:“アイソパー”(登録商標)M(エクソンモービルケミカル社製、沸点:223〜254℃、溶解度パラメーター:14.7(MPa)1/2):6.6重量部
<Thermosensitive layer composition solution-2>
(A) Infrared absorbing dye: “PROJET” 825LDI (manufactured by Avecia): 6.6 parts by weight (b) Organic complex compound: titanium di-n-butoxide bis (acetylacetonate): “Narsem” (registered trademark) titanium (Nippon Chemical Industry Co., Ltd., concentration: 73% by weight, containing 27% by weight of n-butanol as solvent): 7.3 parts by weight (c) phenol formaldehyde novolak resin: “Sumilite Resin” (registered trademark) PR50731 (Manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.): 49.5 parts by weight (d) Polyurethane: “Nipporan” (registered trademark) 5196 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd., concentration: 30% by weight, methyl ethyl ketone 35% by weight, cyclohexanone 35 (Including weight%): 13.2 parts by weight (e) Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Rio FIA "(registered trademark) RSP3021 (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., average particle size: 0.6 μm, CV value: 18.9%, specific gravity: 1.20, concentration: 20% by weight, methyl ethyl ketone as a dispersion medium: 80 15.0 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 1401.8 parts by weight (g) Solubility parameter is 17.0 (MPa) 1/2 or less and boiling point in the range of 210-270 ° C. Liquid having: An aliphatic saturated hydrocarbon: “Isopar” (registered trademark) M (manufactured by ExxonMobil Chemical Co., boiling point: 223-254 ° C., solubility parameter: 14.7 (MPa) 1/2 ): 6.6 weight Part

この感熱層組成物溶液の固形分濃度は4.6重量%、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体の含有量は0.44重量%である。 The solid content concentration of the heat-sensitive layer composition solution is 4.6% by weight, the solubility parameter is 17.0 (MPa) 1/2 or less, and the content of the liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is 0.44% by weight.

得られた直描型水なし平版印刷版原版について、前記方法によりTEM観察を行ったところ、感熱層断面中に観察された非感光性粒子の平均粒径は0.6μmであり、非感光性粒子がない部分の感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。また、非感光性粒子の面内占有率は5.0面積%であった。また、非感光性粒子が存在しない部分の感熱層断面上部5μm中に50個の円状箇所が観察された。液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認された。 The obtained direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was subjected to TEM observation by the above-described method. The average particle diameter of the non-photosensitive particles observed in the cross section of the heat-sensitive layer was 0.6 μm. The average film thickness of the heat-sensitive layer where no particles were present was 0.5 μm. The in-plane occupation ratio of the non-photosensitive particles was 5.0 area%. In addition, 50 circular spots were observed in the upper part 5 μm 2 of the cross section of the heat sensitive layer where no non-photosensitive particles were present. The average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed.

(比較例5)
保護膜を形成しないこと以外は、実施例9と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表2に示す。
(Comparative Example 5)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced in the same manner as in Example 9 except that no protective film was formed. The results are shown in Table 2.

(実施例10)
感熱層組成物溶液を感熱層組成物溶液−2に変更したこと以外は、実施例3と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を作製した。結果を表2に示す。
(Example 10)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in Example 3 except that the heat-sensitive layer composition solution was changed to heat-sensitive layer composition solution-2. The results are shown in Table 2.

Figure 2013221045
Figure 2013221045

Figure 2013221045
Figure 2013221045

本発明によれば、シリコーンゴム用として好適な保護膜形成用組成物が得られる。また、本発明の保護膜形成用組成物によれば、シリコーンゴム層の異物付着防止に有効な保護膜を有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法を得ることができる。   According to the present invention, a composition for forming a protective film suitable for silicone rubber can be obtained. Moreover, according to the composition for forming a protective film of the present invention, it is possible to obtain a method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having a protective film effective for preventing foreign matter adhesion of the silicone rubber layer.

Claims (5)

高分子化合物と下記一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする保護膜形成用組成物。
Figure 2013221045
ここで、Rは炭素数3〜4個の飽和炭化水素基を表す。
A protective film-forming composition comprising a polymer compound and a compound represented by the following general formula (I):
Figure 2013221045
Here, R represents a saturated hydrocarbon group having 3 to 4 carbon atoms.
前記高分子化合物がガラス転移温度が30℃以上のポリマーであることを特徴とする請求項1に記載の保護膜形成用組成物。 The composition for forming a protective film according to claim 1, wherein the polymer compound is a polymer having a glass transition temperature of 30 ° C. or higher. 基板上に少なくとも感熱層、シリコーンゴム層および保護膜をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層を形成した後、請求項1または2に記載の保護膜形成用組成物を前記シリコーンゴム層上に塗布後、乾燥して保護膜を形成することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer, a silicone rubber layer and a protective film on a substrate in this order, wherein at least the heat-sensitive layer and the silicone rubber layer are formed on the substrate. A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, comprising applying the composition for forming a protective film according to 1 or 2 on the silicone rubber layer and then drying to form a protective film. 前記保護膜の乾燥膜厚を0.1μm以上1.0μmとすることを特徴とする請求項3に記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 3, wherein the dry film thickness of the protective film is 0.1 µm or more and 1.0 µm. 前記感熱層に気泡または液泡を形成することを特徴とする請求項3または4に記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 3 or 4, wherein bubbles or liquid bubbles are formed in the heat-sensitive layer.
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