JP2012133321A - Direct drawing waterless lithographic printing original plate and manufacturing method thereof - Google Patents

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Yasunori Kuze
康典 久世
Akihiro Iihara
明宏 飯原
Tomoyuki Yoshida
智之 吉田
Kazuki Goto
一起 後藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a direct drawing waterless lithographic printing original plate which is highly sensitive and hard to blister, that is, which has wide latitude.SOLUTION: The direct drawing waterless lithographic printing original plate has at least a heat sensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, and has a slope area on the surface of the heat sensitive layer on a side facing the silicone rubber layer, the area ratio of the slope area relative to the surface of the heat sensitive layer being 1 area% or more.

Description

本発明は、直描型水なし平版印刷版原版およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor and a method for producing the same.

これまでに、シリコーンゴムやフッ素樹脂をインキ反発層として使用した、湿し水を用いない平版印刷(以下、水なし平版印刷という)を行うための印刷版が種々提案されている。水なし平版印刷は、画線部と非画線部とをほぼ同一平面に存在させ、画線部をインキ受容性、非画線部をインキ反発性として、インキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する平版印刷方法であり、湿し水を用いることなく印刷できることが特徴である。   So far, various printing plates for performing lithographic printing without using dampening water (hereinafter referred to as waterless lithographic printing) using silicone rubber or fluororesin as an ink repellent layer have been proposed. Waterless lithographic printing uses the difference in ink adhesion, with the image area and non-image area on the same plane, the image area being ink-receptive and the non-image area being ink repellent. This is a lithographic printing method in which ink is applied only to the image line area, and then the ink is transferred to a printing medium such as paper, and printing is performed without using dampening water.

水なし平版印刷版原版の露光方法としては様々な方法が提案されている。これらは、原画フィルムを介して紫外線照射を行う方式と、原画フィルムを用いることなく原稿から直接画像を書き込むコンピューター・トゥ・プレート(以下、CTPという)方式とに大別される。CTP方式としては、レーザー光を照射する方法、サーマルヘッドで書き込む方法、ピン電極で電圧を部分的に印加する方法、インクジェットでインキ反発層またはインキ受容層を形成する方法などが挙げられる。これらの中で、レーザー光を照射する方法は、解像度および製版速度の面で、他の方式よりも優れている。   Various exposure methods for waterless planographic printing plate precursors have been proposed. These are broadly classified into a method of irradiating ultraviolet rays through an original film and a computer-to-plate (hereinafter referred to as CTP) method in which an image is directly written from an original without using the original film. Examples of the CTP method include a method of irradiating a laser beam, a method of writing with a thermal head, a method of partially applying a voltage with a pin electrode, and a method of forming an ink repellent layer or an ink receiving layer by inkjet. Among these methods, the method of irradiating laser light is superior to other methods in terms of resolution and plate making speed.

レーザー光を照射する方法は、光反応によるフォトンモード方式と、光熱変換を行って熱反応を起こさせるヒートモード方式の2つの方式に分けられる。特にヒートモードの方式は、明室で取り扱える利点と、光源となる半導体レーザーの急激な進歩によって、その有用性は大きくなってきている。   There are two methods for irradiating laser light: a photon mode method using a photoreaction and a heat mode method in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction. In particular, the heat mode system has become more useful due to the advantages that it can be handled in a bright room and the rapid progress of semiconductor lasers as light sources.

このようなヒートモード方式に対応した直描型水なし平版印刷版原版に関して、これまでに様々な提案がなされてきた。中でも、少ないレーザー照射エネルギーで製版でき、画像再現性が良好な直描型水なし平版印刷版原版として、感熱層中に気泡を有する直描型水なし平版印刷版原版(例えば、特許文献1参照)が提案されている。また、少ないレーザー照射エネルギーで製版でき、画像再現性が良好な直描型水なし平版印刷版原版の製造方法として、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の有機溶剤を含有する感熱層組成物溶液を塗布する工程、感熱層組成物を乾燥する工程を有する直描型水なし平版印刷版原版の製造方法(例えば、特許文献2参照)が提案されている。 Various proposals have been made so far for the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor corresponding to such a heat mode method. Among these, as a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor that can be made with less laser irradiation energy and has good image reproducibility, a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having bubbles in the heat-sensitive layer (see, for example, Patent Document 1) ) Has been proposed. In addition, as a method for producing a direct-drawing waterless planographic printing plate precursor that can be made with less laser irradiation energy and has good image reproducibility, a thermosensitive material containing an organic solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less. A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having a step of applying a layer composition solution and a step of drying the thermosensitive layer composition has been proposed (for example, see Patent Document 2).

特開2005−300586号公報(特許請求の範囲)Japanese Patent Laying-Open No. 2005-300586 (Claims) 特開2005−331924号公報(特許請求の範囲)JP-A-2005-331924 (Claims)

特許文献1〜2に記載された技術により得られる直描型水なし平版印刷版原版は高感度であり、露光後に物理的な力を加えるだけで現像できる。しかしながら、高感度の直描型水なし平版印刷版原版は、水なし平版印刷版を製造する工程において、露光部のシリコーンゴム層が浮き上がる「火膨れ」と呼ばれる現象が生じ、露光機や自動現像機内の搬送ローラーにシリコーンゴム層が転写することがあった。搬送ローラーに転写したシリコーンゴム層は、次に処理する版の版面へ再転写し、露光阻害や現像阻害を起こすことがあった。   Direct-drawing waterless lithographic printing plate precursors obtained by the techniques described in Patent Documents 1 and 2 have high sensitivity and can be developed simply by applying a physical force after exposure. However, the highly sensitive direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, in the process of producing a waterless lithographic printing plate, causes a phenomenon called “blistering” in which the silicone rubber layer in the exposed area is lifted, and exposure machine and automatic development In some cases, the silicone rubber layer was transferred to the conveying roller in the machine. The silicone rubber layer transferred to the transport roller may be retransferred to the plate surface of the next plate to be processed, which may cause exposure inhibition or development inhibition.

そこで、本発明は、かかる従来技術の課題を解決し、高感度で火膨れが生じにくい、すなわちラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to solve such problems of the prior art and to provide a direct drawing type waterless lithographic printing plate precursor having high sensitivity and being less susceptible to blistering, that is, having a wide latitude.

本発明は、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が1面積%以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版である。   The present invention is a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, having an inclined region on the surface of the heat-sensitive layer facing the silicone rubber layer, and A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, wherein the area ratio of the inclined region to the surface of the heat-sensitive layer is 1% by area or more.

本発明によれば、高感度で火膨れ耐性に優れた、ラチチュードの広い直描型水なし平版印刷版原版を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having high sensitivity and excellent blister resistance and a wide latitude.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が1面積%以上であることを特徴とする。ここで、水なし平版印刷版原版とは、湿し水を用いずに印刷が可能な平版印刷版の原版を指し、直描型水なし平版印刷版原版とは、レーザー光を用いて原稿から直接画像を書き込むことができる水なし平版印刷版原版を指す。   The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention is a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, the heat-sensitive layer on the side facing the silicone rubber layer The surface area has an inclined region, and the area ratio of the inclined region to the surface of the heat-sensitive layer is 1 area% or more. Here, the waterless lithographic printing plate precursor refers to a lithographic printing plate precursor that can be printed without using a fountain solution. Waterless planographic printing plate precursor that can directly write images.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版について、以下に説明する。
本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する。
The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described below.
The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention has at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate.

基板としては、従来印刷版の基板として用いられてきた寸法的に安定な公知の紙、金属、ガラス、フィルムなどを使用することができる。具体的には、紙、プラスチック(ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、アルミニウム(アルミニウム合金も含む)、亜鉛、銅などの金属板、ソーダライム、石英などのガラス板、シリコンウエハー、セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのプラスチックのフィルム、上記金属がラミネートまたは蒸着された紙またはプラスチックフィルムなどが挙げられる。プラスチックフィルムは透明でも不透明でもよい。検版性の観点からは、不透明のフィルムが好ましい。   As the substrate, known dimensionally stable paper, metal, glass, film, etc., which have been conventionally used as a printing plate substrate, can be used. Specifically, paper, paper laminated with plastic (polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper and other metal plates, soda lime, quartz and other glass plates, silicon wafers, Examples thereof include plastic films such as cellulose acetate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polyester, polyamide, polyimide, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, and polyvinyl acetal, and paper or plastic film on which the above metal is laminated or vapor-deposited. The plastic film may be transparent or opaque. From the viewpoint of plate inspection, an opaque film is preferable.

これら基板のうち、アルミニウム板は寸法的に安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。また、軽印刷用の柔軟な基板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
基板の厚みは特に限定されず、平版印刷に使用される印刷機に対応した厚みを選択すればよい。
次に、本発明に好ましく用いることができる感熱層について説明する。感熱層としては、レーザー描画により物性が変化する層および/またはレーザー描画によりシリコーンゴム層との接着力が低下する層が好ましい。例えば、活性水素を有するポリマー、架橋剤および光熱変換物質を含む組成物や、活性水素を有するポリマー、有機錯化合物および光熱変換物質を含む組成物を塗布、(加熱)乾燥して得られる層が挙げられる。
Of these substrates, an aluminum plate is particularly preferable because it is dimensionally stable and inexpensive. A polyethylene terephthalate film is particularly preferable as a flexible substrate for light printing.
The thickness of the substrate is not particularly limited, and a thickness corresponding to a printing machine used for lithographic printing may be selected.
Next, the thermosensitive layer that can be preferably used in the present invention will be described. As the heat-sensitive layer, a layer whose physical properties are changed by laser drawing and / or a layer whose adhesive force with the silicone rubber layer is lowered by laser drawing is preferable. For example, a layer obtained by applying a composition containing an active hydrogen-containing polymer, a crosslinking agent and a photothermal conversion substance, or a polymer containing an active hydrogen, an organic complex compound and a photothermal conversion substance, and drying (heating) Can be mentioned.

本発明は、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が1面積%以上であることを特徴とする。前記特許文献1〜2に記載されるような高感度の直描型水なし平版印刷版原版は、露光後に物理的な力を加えるだけで現像できる。このため、水なし平版印刷版を製造する工程において、露光部のシリコーンゴム層が浮き上がる「火膨れ」と呼ばれる現象が生じ、露光後の直描型水なし平版印刷版原版を搬送する際、露光機や自動現像機内の搬送ローラーにシリコーンゴム層が転写する場合がある。搬送ローラーに転写したシリコーンゴム層は、次に処理する版の版面へ再転写し、露光阻害や現像阻害などの原因となる。この火膨れの現象は、直描型水なし平版印刷版原版が高感度であるほど、また、露光量が多くなるほど、より顕著となる。本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が1面積%以上であることにより、局所的に感熱層を低感度化してシリコーンゴム層との接着力を保ち、火膨れ現象を抑制することができる。すなわち、火膨れ耐性が向上する。   The present invention is characterized in that the surface of the heat-sensitive layer facing the silicone rubber layer has an inclined region, and the area ratio of the inclined region to the surface of the heat-sensitive layer is 1 area% or more. The highly sensitive direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor as described in Patent Documents 1 and 2 can be developed simply by applying a physical force after exposure. For this reason, in the process of producing a waterless lithographic printing plate, a phenomenon called “fire blistering” occurs in which the silicone rubber layer of the exposed portion is lifted, and exposure is performed when transporting the directly drawn waterless lithographic printing plate precursor after exposure. In some cases, a silicone rubber layer is transferred to a transport roller in a machine or an automatic processor. The silicone rubber layer transferred to the transport roller is retransferred to the plate surface of the next plate to be processed, which causes exposure inhibition and development inhibition. This blistering phenomenon becomes more pronounced as the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor has higher sensitivity and as the exposure amount increases. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention has an inclined region on the surface of the heat-sensitive layer facing the silicone rubber layer, and the area ratio of the inclined region to the surface of the heat-sensitive layer is 1% by area or more. As a result, the sensitivity of the heat-sensitive layer can be locally lowered to maintain the adhesive force with the silicone rubber layer, and the blistering phenomenon can be suppressed. That is, the blister resistance is improved.

本発明において、傾斜領域とは、10度以上の勾配を有し、隆起構造、陥没構造または隆起構造と陥没構造の複合構造を構成し、少なくとも一部で連続した面状領域をいう。ここでいう勾配とは、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面の傾斜領域と、基板面のなす角であり、仰角あるいは俯角である。ここで基板面は、基板の厚さ方向の一方に位置する面を指す。一方、非傾斜領域とは、隆起構造、陥没構造、隆起構造と陥没構造の複合構造のいずれも含まない平坦な面状領域をいい、基板面に対して平行な領域である。任意の部分を拡大して観察する場合には、隆起構造、陥没構造、隆起構造と陥没構造の複合構造の近傍にあり、かつ、面積が10μmとなるように選ばれた非傾斜領域内の一部の領域に属する表面の平均高さを連ねた平面を非傾斜領域の代表面とすれば、勾配は傾斜領域と、非傾斜領域の代表面のなす角と等しくなる。 In the present invention, the inclined region refers to a planar region that has a gradient of 10 degrees or more, constitutes a raised structure, a depressed structure, or a composite structure of a raised structure and a depressed structure, and is continuous at least partially. The term “gradient” as used herein refers to the angle formed by the inclined region of the surface of the heat-sensitive layer on the side facing the silicone rubber layer and the substrate surface, and is the elevation angle or depression angle. Here, the substrate surface refers to a surface located on one side in the thickness direction of the substrate. On the other hand, the non-inclined region refers to a flat planar region that does not include any of a raised structure, a depressed structure, or a combined structure of a raised structure and a depressed structure, and is a region parallel to the substrate surface. When magnifying and observing an arbitrary part, it is in the vicinity of a raised structure, a depressed structure, a combined structure of a raised structure and a depressed structure, and in an uninclined region selected to have an area of 10 μm 2 . If a plane connecting the average heights of the surfaces belonging to some regions is a representative surface of the non-inclined region, the gradient is equal to the angle formed by the inclined region and the representative surface of the non-inclined region.

隆起構造としては、例えば、半球構造、柱体構造、錐体構造、錐台構造などが挙げられる。また、畝状に連続した隆起構造でもよい。これらの中でも、勾配の制御性および成形性の観点から錐台構造が好ましく、さらに好ましくは円錐台構造である。   Examples of the raised structure include a hemispherical structure, a columnar structure, a cone structure, and a frustum structure. Further, a raised structure that is continuous in a bowl shape may be used. Among these, a frustum structure is preferable from the viewpoint of controllability of the gradient and formability, and a frustum structure is more preferable.

陥没構造としては、例えば、半球構造、柱体構造、錐体構造、錐台構造などが挙げられる。また、溝状に連続した陥没構造でもよい。これらの中でも、勾配の制御性および成形性の観点から錐台構造が好ましく、さらに好ましくは円錐台構造である。   Examples of the depressed structure include a hemispherical structure, a columnar structure, a cone structure, and a frustum structure. Further, a depressed structure that is continuous in a groove shape may be used. Among these, a frustum structure is preferable from the viewpoint of controllability of the gradient and formability, and a frustum structure is more preferable.

隆起構造と陥没構造の複合構造としては、例えば、上記の隆起構造と陥没構造が複合した構造が挙げられる。   As a composite structure of the raised structure and the depressed structure, for example, a structure in which the raised structure and the depressed structure are combined can be cited.

前記傾斜領域は、曲面でも平面でもよく、平滑面でもよく、傾斜領域とならない微小な凹凸を含んだ面でもよい。火膨れ耐性をより向上させる観点から、傾斜領域は曲面を含むことが好ましく、円錐台構造の側面の一部をなす領域であることがより好ましい。   The inclined region may be a curved surface, a flat surface, a smooth surface, or a surface including minute irregularities that do not become an inclined region. From the viewpoint of further improving the blister resistance, the inclined region preferably includes a curved surface, and more preferably a region that forms part of the side surface of the truncated cone structure.

感熱層の傾斜領域は、電子顕微鏡を用いて感熱層の垂直断面を観察することにより確認できる。また、傾斜領域の三次元的形態は連続(超薄)切片法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の水平断面を、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて観察し、得られた三次元情報を既存の三次元表示・解析ソフトウェアで解析することで定量的な観察が可能である。   The inclined region of the heat sensitive layer can be confirmed by observing the vertical cross section of the heat sensitive layer using an electron microscope. In addition, the three-dimensional shape of the inclined region is obtained by observing a horizontal section of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by a continuous (ultra-thin) section method using a transmission electron microscope (TEM). Quantitative observation is possible by analyzing the obtained 3D information with existing 3D display / analysis software.

傾斜領域の面内分布は、非傾斜領域により分断された領域が感熱層内に均一または不均一に、あるいは、規則的にまたは不規則に形成された分布(ドットパターン状分布)でも、非傾斜領域により少なくとも一部が分断されずに細く連なっている領域が感熱層内に均一または不均一に、あるいは、規則的にまたは不規則に形成された分布(ストライプパターン状分布、格子状分布、網状分布)でもよい。   The in-plane distribution of the inclined region is non-inclined even when the region divided by the non-inclined region is uniformly or non-uniformly or regularly or irregularly formed in the heat-sensitive layer (dot pattern distribution). A distribution in which at least a portion of the region is thinly divided without being divided by the region is uniformly or non-uniformly or regularly or irregularly formed in the heat-sensitive layer (stripe pattern distribution, lattice distribution, net-like) Distribution).

前記傾斜領域を、基板面に平行な平面に対して投影した投影図形を傾斜領域の水平投影図形とする。水平投影図形は、例えば傾斜領域が半球状の隆起構造の一部の面であれば、半球の頂点付近の勾配10度未満の領域を除いた部分を真上から投影した円環となる。感熱層表面全体を基板面に平行な平面に対して投影した感熱層表面全体の水平投影図形の面積に対して、前記傾斜領域の水平投影図形の面積の合計が占める割合を、傾斜領域の感熱層表面に対する面積率とする。前記面積率は1面積%以上であり、2面積%以上が好ましい。1面積%未満では火膨れ耐性の向上効果が得られない。2面積%以上であれば火膨れ耐性がより向上する。一方、30面積%以下が好ましく、20面積%以下がより好ましい。30面積%以下であれば感度をより高く維持することができる。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は、連続(超薄)切片法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の水平断面を、TEMを用いて観察し、得られた三次元情報を既存の三次元表示・解析ソフトウェアで解析することで求められる。また、等方的に分布したドットパターンであれば任意の断面を観察することで、一次元の方向性を持ったストライプパターンであればその方向に対して垂直な任意の断面を観察することで、連続(超薄)切片法での連続水平断面の観察に代えて面積率を算出することが可能である。さらに、感熱層の上層が透明でレーザー光を十分透過できる場合は、レーザー顕微鏡観察によって前記傾斜領域の観察が可能である。また、シリコーンゴム層などの感熱層上層を剥ぎ取り、感熱層表面を直接レーザー顕微鏡で観察することもできる。   A projected figure obtained by projecting the inclined area onto a plane parallel to the substrate surface is defined as a horizontal projected figure of the inclined area. For example, if the inclined region is a partial surface of the hemispherical raised structure, the horizontal projection figure is a ring formed by projecting the portion excluding the region of less than 10 degrees near the top of the hemisphere from above. The ratio of the total area of the horizontal projection figure of the inclined area to the area of the horizontal projection figure of the entire surface of the thermal layer projected on the plane parallel to the substrate surface is the heat sensitivity of the inclined area. The area ratio relative to the surface of the layer. The area ratio is 1 area% or more, and preferably 2 area% or more. If it is less than 1 area%, the effect of improving the blister resistance cannot be obtained. If it is 2 area% or more, a blistering resistance will improve more. On the other hand, 30 area% or less is preferable and 20 area% or less is more preferable. If it is 30 area% or less, a sensitivity can be maintained higher. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat-sensitive layer is determined by observing the horizontal section of the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by the continuous (ultra-thin) section method using TEM, and obtaining the obtained three-dimensional information. It is calculated by analyzing with existing 3D display / analysis software. In addition, by observing an arbitrary cross section if the dot pattern is isotropically distributed, by observing an arbitrary cross section perpendicular to the direction if the stripe pattern has a one-dimensional directionality. It is possible to calculate the area ratio instead of observing the continuous horizontal section by the continuous (ultra-thin) section method. Furthermore, when the upper layer of the heat-sensitive layer is transparent and can sufficiently transmit laser light, the inclined region can be observed by laser microscope observation. It is also possible to peel off the upper layer of the heat sensitive layer such as a silicone rubber layer and directly observe the surface of the heat sensitive layer with a laser microscope.

前記傾斜領域は、20〜80度の勾配を有する傾斜領域の面積割合が全傾斜領域の60面積%以上であることが好ましく、80面積%以上であることがより好ましい。60面積%以上であれば火膨れ耐性がより向上する。   In the inclined region, the area ratio of the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees is preferably 60 area% or more, more preferably 80 area% or more of the entire inclined region. If it is 60 area% or more, a blister resistance will improve more.

傾斜領域がドットパターン状分布等の場合、傾斜領域1個の水平投影図形の面積は0.03μm以上が好ましく、0.1μm以上がより好ましい。0.03μm以上であれば火膨れ耐性がより向上する。一方、傾斜領域の水平投影図形の面積は20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。20μm以下であれば感度をより高く維持することができる。 If inclined region is such dot pattern distribution, the area of the inclined region one horizontal projected figure is preferably 0.03 .mu.m 2 or more, 0.1 [mu] m 2 or more is more preferable. If it is 0.03 μm 2 or more, the blister resistance is further improved. On the other hand, the area of the horizontal projection figure in the inclined region is preferably 20 μm 2 or less, and more preferably 10 μm 2 or less. If it is 20 μm 2 or less, the sensitivity can be maintained higher.

傾斜領域の大きさの別の指標として、傾斜領域1個の水平投影図形の外側境界線に対して内接する円の直径を最短距離と定義したとき、傾斜領域がストライプパターン状分布等の場合、最短距離は0.2μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましい。0.2μm以上であれば火膨れ耐性がより向上する。一方、最短距離は5.0μm以下が好ましく、3.0μm以下がより好ましい。5.0μm以下であれば感度をより高く維持することができる。
本発明において、感熱層に好ましく用いられる活性水素を有するポリマーとしては、例えば、−OH、−SH、−NH、−NH−、−CO−NH、−CO−NH−、−OC(=O)−NH−、−NH−CO−NH−、−CO−OH、−CS−OH、−CO−SH、−CS−SH、−SOH、−PO、−SO−NH、−SO−NH−、−CO−CH−CO−などの活性水素を有する構造単位を有するポリマーを挙げることができる。このような構造単位を有するポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸などのカルボキシル基を含有するモノマーの単独重合体もしくは共重合体、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどの水酸基を含有する(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体もしくは共重合体、N−アルキル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドの単独重合体もしくは共重合体、アミン類と(メタ)アクリル酸グリシジルまたはアリルグリシジルとの反応物の単独重合体もしくは共重合体、p−ヒドロキシスチレン、ビニルアルコールの単独重合体もしくは共重合体などの活性水素を有するエチレン性不飽和モノマーの単独重合体もしくは共重合体(共重合モノマー成分としては、活性水素を有する他のエチレン性不飽和モノマーでもよく、活性水素を含有しないエチレン性不飽和モノマーでもよい。)や、ポリウレタン類、ポリウレア類、ポリアミド(ナイロン樹脂)類、エポキシ樹脂類、ポリアルキレンイミン類、ノボラック樹脂類、レゾール樹脂類、セルロース誘導体類などの主鎖に活性水素を有する構造単位を有する縮合体などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。
As another index of the size of the inclined area, when the diameter of a circle inscribed with respect to the outer boundary line of one horizontal projected figure is defined as the shortest distance, when the inclined area is a stripe pattern distribution, The shortest distance is preferably 0.2 μm or more, and more preferably 0.3 μm or more. If it is 0.2 μm or more, the blister resistance is further improved. On the other hand, the shortest distance is preferably 5.0 μm or less, and more preferably 3.0 μm or less. If it is 5.0 micrometers or less, a sensitivity can be maintained higher.
In the present invention, the polymer having a preferably active hydrogen used in the heat-sensitive layer, for example, -OH, -SH, -NH 2, -NH -, - CO-NH 2, -CO-NH -, - OC (= O) -NH -, - NH- CO-NH -, - CO-OH, -CS-OH, -CO-SH, -CS-SH, -SO 3 H, -PO 3 H 2, -SO 2 -NH 2 , a polymer having a structural unit having active hydrogen, such as —SO 2 —NH— or —CO—CH 2 —CO—. Examples of the polymer having such a structural unit include a homopolymer or copolymer of a monomer containing a carboxyl group such as (meth) acrylic acid, hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate. Homopolymers or copolymers of (meth) acrylic acid esters containing hydroxyl groups such as N-alkyl (meth) acrylamide, homopolymers or copolymers of (meth) acrylamide, amines and (meth) acrylic acid A homopolymer or copolymer of an ethylenically unsaturated monomer having active hydrogen such as a homopolymer or copolymer of a reaction product with glycidyl or allyl glycidyl, a homopolymer or copolymer of p-hydroxystyrene or vinyl alcohol Combined (active hydrogen Other ethylenically unsaturated monomers may be used, and ethylenically unsaturated monomers containing no active hydrogen may be used.), Polyurethanes, polyureas, polyamides (nylon resins), epoxy resins, polyalkyleneimines, novolaks Examples thereof include condensates having a structural unit having active hydrogen in the main chain, such as resins, resol resins, and cellulose derivatives. Two or more of these may be contained.

中でも、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基を有するポリマーが好ましく、フェノール性水酸基を有するポリマー(p−ヒドロキシスチレンの単独重合体もしくは共重合体、ノボラック樹脂、レゾール樹脂など)がより好ましく、ノボラック樹脂がさらに好ましい。ノボラック樹脂としてはフェノールノボラック樹脂やクレゾールノボラック樹脂が挙げられる。   Among them, a polymer having an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, or a carboxyl group is preferable, and a polymer having a phenolic hydroxyl group (a homopolymer or copolymer of p-hydroxystyrene, a novolac resin, a resole resin, etc.) is more preferable. A resin is more preferable. Examples of novolak resins include phenol novolac resins and cresol novolac resins.

活性水素を有するポリマーの含有量は、感熱層の全固形分中20重量%〜95重量%が好ましく、より好ましくは50重量%〜90重量%である。   The content of the polymer having active hydrogen is preferably 20% by weight to 95% by weight, more preferably 50% by weight to 90% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer.

活性水素を有するポリマーとともに、活性水素を有しない、フィルム形成能を有するポリマー(他のポリマーと称する)を含有することも好ましく行われる。他のポリマーとしては、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリブチル(メタ)アクリレートなどの(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体もしくは共重合体、ポリスチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマーの単独重合体もしくは共重合体、イソプレン、スチレン−ブタジエンなどの各種合成ゴム類、ポリ酢酸ビニルなどのビニルエステルなどの単独重合体もしくは酢酸ビニル−塩化ビニルなどの共重合体、ポリエステル、ポリカーボネートなどの縮合系各種ポリマーなどが挙げられる。   It is also preferable to contain a polymer having active hydrogen and a film-forming polymer that does not have active hydrogen (referred to as another polymer). Other polymers include homopolymers or copolymers of (meth) acrylic acid esters such as polymethyl (meth) acrylate and polybutyl (meth) acrylate, homopolymers of styrene monomers such as polystyrene and α-methylstyrene, or Copolymers, various synthetic rubbers such as isoprene and styrene-butadiene, homopolymers such as vinyl esters such as polyvinyl acetate, copolymers such as vinyl acetate-vinyl chloride, various condensation polymers such as polyester and polycarbonate, etc. Is mentioned.

これら他のポリマーの含有量は、感熱層の全固形分中50重量%以下が好ましく、より好ましくは30重量%以下、さらに好ましくは10重量%以下である。   The content of these other polymers is preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, and still more preferably 10% by weight or less in the total solid content of the heat-sensitive layer.

架橋剤としては、架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられる。例えば、多官能イソシアネート、多官能ブロックドイソシアネート、多官能エポキシ化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能アルデヒド、多官能メルカプト化合物、多官能アルコキシシリル化合物、多官能アミン化合物、多官能カルボン酸、多官能ビニル化合物、多官能ジアゾニウム塩、多官能アジド化合物、ヒドラジンなどが挙げられる。   Examples of the crosslinking agent include known polyfunctional compounds having crosslinkability. For example, polyfunctional isocyanate, polyfunctional blocked isocyanate, polyfunctional epoxy compound, polyfunctional (meth) acrylate compound, polyfunctional aldehyde, polyfunctional mercapto compound, polyfunctional alkoxysilyl compound, polyfunctional amine compound, polyfunctional carboxylic acid, A polyfunctional vinyl compound, a polyfunctional diazonium salt, a polyfunctional azide compound, hydrazine, etc. are mentioned.

有機錯化合物は、金属と有機化合物からなり、活性水素を有するポリマーの架橋剤として、および/または、熱硬化反応の触媒として機能する。有機錯化合物が架橋剤として機能する場合であっても、感熱層にさらに前述の架橋剤を含有してもよい。   The organic complex compound is composed of a metal and an organic compound, and functions as a crosslinking agent for a polymer having active hydrogen and / or as a catalyst for a thermosetting reaction. Even when the organic complex compound functions as a cross-linking agent, the heat-sensitive layer may further contain the above-described cross-linking agent.

本発明における有機錯化合物としては、金属に有機配位子が配位した有機錯塩、金属に有機配位子および無機配位子が配位した有機無機錯塩、金属と有機分子が酸素を介して共有結合している金属アルコキシド類などが挙げられる。これらの中でも、配位子が2個以上のドナー原子を有し、金属原子を含む環を形成するような金属キレート化合物が、有機錯化合物自身の安定性や感熱層組成物溶液の安定性などの面から好ましく用いられる。   Examples of the organic complex compound in the present invention include an organic complex salt in which an organic ligand is coordinated to a metal, an organic inorganic complex salt in which an organic ligand and an inorganic ligand are coordinated to a metal, and a metal and an organic molecule through oxygen. Examples thereof include metal alkoxides that are covalently bonded. Among these, the metal chelate compound in which the ligand has two or more donor atoms and forms a ring containing a metal atom, the stability of the organic complex compound itself, the stability of the thermosensitive layer composition solution, etc. It is preferably used from the aspect of.

有機錯化合物を形成する主な金属としては、Al(III)、Ti(IV)、Mn(II)、Mn(III)、Fe(II)、Fe(III)、Co(II)、Co(III)、Ni(II)、Ni(IV)、Cu(I)、Cu(II)、Zn(II)、Ge、In、Sn(II)、Sn(IV)、Zr(IV)、Hf(IV)が好ましい。Al(III)は感度向上効果が得られやすい点から特に好ましく、Ti(IV)は印刷インキやインキ洗浄剤に対する耐性が発現しやすい点から特に好ましい。   The main metals forming the organic complex compounds are Al (III), Ti (IV), Mn (II), Mn (III), Fe (II), Fe (III), Co (II), Co (III ), Ni (II), Ni (IV), Cu (I), Cu (II), Zn (II), Ge, In, Sn (II), Sn (IV), Zr (IV), Hf (IV) Is preferred. Al (III) is particularly preferable from the viewpoint that the effect of improving the sensitivity is easily obtained, and Ti (IV) is particularly preferable from the viewpoint that resistance to the printing ink and the ink cleaning agent is easily exhibited.

また、配位子としては、酸素、窒素、硫黄などをドナー原子として有する配位基を有する化合物が挙げられる。配位基の具体例としては、酸素をドナー原子とするものとしては、−OH(アルコール、エノールおよびフェノール)、−COOH(カルボン酸)、>C=O(アルデヒド、ケトン、キノン)、−O−(エーテル)、−COOR(エステル、R:脂肪族または芳香族炭化水素を表す)、−N=O(ニトロソ化合物)、−NO(ニトロ化合物)、>N−O(N−オキシド)、−SOH(スルホン酸)、−PO(亜リン酸)など、窒素をドナー原子とするものとしては、−NH(1級アミン、アミド、ヒドラジン)、>NH(2級アミン、ヒドラジン)、>N−(3級アミン)、−N=N−(アゾ化合物、複素環化合物)、=N−OH(オキシム)、−NO(ニトロ化合物)、−N=O(ニトロソ化合物)、>C=N−(シッフ塩基、複素環化合物)、>C=NH(アルデヒド、ケトンイミン、エナミン類)、−NCS(イソチオシアナト)など、硫黄をドナー原子とするものとしては、−SH(チオール)、−S−(チオエーテル)、>C=S(チオケトン、チオアミド)、=S−(複素環化合物)、−C(=O)−SH、−C(=S)−OH、−C(=S)−SH(チオカルボン酸)、−SCN(チオシアナト)などが挙げられる。 Moreover, as a ligand, the compound which has a coordination group which has oxygen, nitrogen, sulfur, etc. as a donor atom is mentioned. Specific examples of the coordinating group include oxygen as a donor atom: -OH (alcohol, enol and phenol), -COOH (carboxylic acid),> C = O (aldehyde, ketone, quinone), -O - (ether), - COOR (ester, R: represents an aliphatic or aromatic hydrocarbon), - N = O (nitroso compounds), - NO 2 (nitro compound),> NO (N-oxide), Examples of —SO 3 H (sulfonic acid) and —PO 3 H 2 (phosphorous acid) that use nitrogen as a donor atom include —NH 2 (primary amine, amide, hydrazine),> NH (secondary amine). , hydrazine),> N- (3 amine), - N = N- (azo compounds, heterocyclic compounds), = N-OH (oxime), - NO 2 (nitro compound), - N = O (nitroso compounds ),> C = N- ( Examples of compounds having sulfur as a donor atom, such as Cuff base, heterocyclic compound),> C = NH (aldehyde, ketone imine, enamines), -NCS (isothiocyanato), -SH (thiol), -S- (thioether) ),> C = S (thioketone, thioamide), = S- (heterocyclic compound), -C (= O) -SH, -C (= S) -OH, -C (= S) -SH (thiocarboxylic acid) ), -SCN (thiocyanato) and the like.

上記のような金属と配位子から形成される有機錯化合物のうち、好ましく用いられる化合物としては、Al(III)、Ti(IV)、Fe(II)、Fe(III)、Mn(III)、Co(II)、Co(III)、Ni(II)、Ni(IV)、Cu(I)、Cu(II)、Zn(II)、Ge、In、Sn(II)、Sn(IV)、Zr(IV)、Hf(IV)などの金属のβ−ジケトン類、アミン類、アルコール類、カルボン酸類との錯化合物が挙げられ、さらにはAl(III)、Fe(II)、Fe(III)、Ti(IV)、Zr(IV)のアセチルアセトン錯体、アセト酢酸エステル錯体などが特に好ましい錯化合物として挙げられる。   Among the organic complex compounds formed from the above metals and ligands, the compounds preferably used include Al (III), Ti (IV), Fe (II), Fe (III), and Mn (III). , Co (II), Co (III), Ni (II), Ni (IV), Cu (I), Cu (II), Zn (II), Ge, In, Sn (II), Sn (IV), Zr (IV), Hf (IV) and other metal β-diketones, amines, alcohols, complex compounds with carboxylic acids, and Al (III), Fe (II), Fe (III) Ti (IV), acetylacetone complex of Zr (IV), acetoacetate complex and the like are particularly preferable complex compounds.

このような化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物を挙げることができる。アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(プロピルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ブチルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキシルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ノニルアセトアセテート)、アルミニウムトリス(ヘキサフルオロペンタジオネート)、アルミニウムトリス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、アルミニウムビス(エチルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(アセチルアセトネート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(プロピルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(ブチルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)モノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムビス(プロピルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ブチルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ヘキシルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムビス(ノニルアセトアセテート)モノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジブトキシドモノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(アセチルアセトネート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウム−s−ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジ−s−ブトキシドモノ(エチルアセトアセテート)、アルミニウムジイソプロポキシドモノ(−9−オクタデセニルアセトアセテート)など。チタニウムトリイソプロポキシドモノ(アリルアセトアセテート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(トリエタノールアミン)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(トリエタノールアミン)、チタニウムジイソプロポキシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、チタニウムジイソプロポキシドビス(エチルアセトアセテート)、チタニウムジ−n−ブトキシドビス(エチルアセトアセテート)、チタニウムトリ−n−ブトキシドモノ(エチルアセトアセテート)、チタニウムトリイソプロポキシドモノ(メタクリルオキシエチルアセトアセテート)、チタニウムオキサイシドビス(アセチルアセトネート)、チタニウムテトラ(2−エチル−3−ヒドロキシヘキシルオキサイド)、チタニウムジヒドロキシビス(ラクテート)、チタニウム(エチレングリコーレート)ビス(ジオクチルフォスフェート)など。ジルコニウムジ−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラキス(ヘキサフルオロペンタンジオネート)、ジルコニウムテトラキス(トリフルオロペンタンジオネート)、ジルコニウムトリ−n−プロポキシドモノ(メタクリルオキシエチルアセトアセテート)、ジルコニウムテトラキス(アセチルアセトネート)、ジルコニウムテトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネート)、トリグリコラートジルコン酸、トリラクテートジルコン酸など。鉄(III)アセチルアセトネート、ジベンゾイルメタン鉄(II)、トロポロン鉄、トリストロポロノ鉄(III)、ヒノキチオール鉄、トリスヒノキチオロ鉄(III)、アセト酢酸エステル鉄(III)、鉄(III)ベンゾイルアセトネート、鉄(III)ジフェニルプロパンジオネート、鉄(III)テトラメチルヘプタンジオネート、鉄(III)トリフルオロペンタンジオネートなど。これらを2種以上含有してもよい。   Specific examples of such compounds include the following compounds. Aluminum tris (acetylacetonate), aluminum tris (ethyl acetoacetate), aluminum tris (propyl acetoacetate), aluminum tris (butyl acetoacetate), aluminum tris (hexyl acetoacetate), aluminum tris (nonyl acetoacetate), aluminum tris (Hexafluoropentadionate), aluminum tris (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), aluminum bis (ethyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (acetylacetate) Nate) mono (ethyl acetoacetate), aluminum bis (propyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (butyl acetoacetate) G) Mono (acetylacetonate), aluminum bis (hexyl acetoacetate) mono (acetylacetonate), aluminum bis (propyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), aluminum bis (butyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate) Aluminum bis (hexyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), Aluminum bis (nonyl acetoacetate) mono (ethyl acetoacetate), Aluminum dibutoxide mono (acetylacetonate), Aluminum diisopropoxide mono (acetylacetonate) Aluminum diisopropoxide mono (ethyl acetoacetate), aluminum-s-butoxide bis (ethyl acetoacetate), aluminum di-s- Tokishidomono (ethylacetoacetate), aluminum di-isopropoxide mono (9-octadecenyl acetoacetate), etc.. Titanium triisopropoxide mono (allyl acetoacetate), titanium diisopropoxide bis (triethanolamine), titanium di-n-butoxide bis (triethanolamine), titanium diisopropoxide bis (acetylacetonate), titanium Di-n-butoxide bis (acetylacetonate), titanium diisopropoxide bis (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), titanium diisopropoxide bis (ethyl acetoacetate) Titanium di-n-butoxide bis (ethyl acetoacetate), titanium tri-n-butoxide mono (ethyl acetoacetate), titanium triisopropoxide mono (methacryloxyethyl acetoacetate), titanium oxide Dobisu (acetylacetonate), titanium tetra (2-ethyl-3-hydroxyhexyl oxide), titanium dihydroxy bis (lactate), and titanium (ethylene glycolate) bis (dioctyl phosphate). Zirconium di-n-butoxide bis (acetylacetonate), zirconium tetrakis (hexafluoropentanedionate), zirconium tetrakis (trifluoropentanedionate), zirconium tri-n-propoxide mono (methacryloxyethylacetoacetate), zirconium Tetrakis (acetylacetonate), zirconium tetrakis (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate), triglycolate zirconate, trilactate zirconate and the like. Iron (III) acetylacetonate, dibenzoylmethane iron (II), tropolone iron, tristroporono iron (III), hinokitiol iron, tris hinokitioro iron (III), acetoacetate iron (III), iron (III) benzoyl Acetonate, iron (III) diphenylpropane dionate, iron (III) tetramethylheptane dionate, iron (III) trifluoropentane dionate, etc. Two or more of these may be contained.

このような有機錯化合物の含有量は、感熱層の全固形分中0.5〜50重量%が好ましく、3〜30重量%がより好ましい。有機錯化合物の含有量を0.5重量%以上とすることによって、上記のような効果をより高めることができる。一方、50重量%以下とすることによって、印刷版の高い耐刷性を維持することができる。   The content of such an organic complex compound is preferably 0.5 to 50% by weight, more preferably 3 to 30% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer. By making the content of the organic complex compound 0.5% by weight or more, the above effects can be further enhanced. On the other hand, when the content is 50% by weight or less, high printing durability of the printing plate can be maintained.

光熱変換物質としては、レーザー光を吸収するものであれば特に限定されるものではなく、赤外線または近赤外線を吸収する顔料、染料が好ましい。例えば、カーボンブラック、カーボングラファイト、アニリンブラック、シアニンブラックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニン系の緑色顔料、結晶水含有無機化合物、鉄、銅、クロム、ビスマス、マグネシウム、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム、コバルト、バナジウム、マンガン、タングステンなどの金属粉、またはこれら金属の硫化物、水酸化物、珪酸塩、硫酸塩、燐酸塩、ジアミン化合物錯体、ジチオール化合物錯体、フェノールチオール化合物錯体、メルカプトフェノール化合物錯体などを挙げることができる。   The photothermal conversion substance is not particularly limited as long as it absorbs laser light, and pigments and dyes that absorb infrared rays or near infrared rays are preferable. For example, black pigments such as carbon black, carbon graphite, aniline black, cyanine black, phthalocyanine, naphthalocyanine-based green pigment, crystal water-containing inorganic compounds, iron, copper, chromium, bismuth, magnesium, aluminum, titanium, zirconium, cobalt Metal powders such as vanadium, manganese, and tungsten, or sulfides, hydroxides, silicates, sulfates, phosphates, diamine compound complexes, dithiol compound complexes, phenolthiol compound complexes, mercaptophenol compound complexes of these metals, etc. Can be mentioned.

また、赤外線または近赤外線を吸収する染料としては、エレクトロニクス用や記録用の染料で、最大吸収波長が700nm〜1500nmの範囲にあるシアニン系染料、アズレニウム系染料、スクアリリウム系染料、クロコニウム系染料、アゾ系分散染料、ビスアゾスチルベン系染料、ナフトキノン系染料、アントラキノン系染料、ペリレン系染料、フタロシアニン系染料、ナフタロシアニン金属錯体系染料、ポリメチン系染料、ジチオールニッケル錯体系染料、インドアニリン金属錯体染料、分子間型CT染料、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ニグロシン染料などが好ましく使用される。   In addition, as dyes that absorb infrared rays or near infrared rays, they are dyes for electronics and recording, and cyanine dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, croconium dyes, azo dyes having a maximum absorption wavelength in the range of 700 nm to 1500 nm. Disperse dyes, bisazostilbene dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, perylene dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine metal complex dyes, polymethine dyes, dithiol nickel complex dyes, indoaniline metal complex dyes, molecules Intercalated CT dyes, benzothiopyran spiropyrans, nigrosine dyes and the like are preferably used.

これらの染料のなかでも、モル吸光度係数εの大きなものが好ましく使用される。具体的には、εは1×10以上が好ましく、より好ましくは1×10以上である。εが1×10以上であれば、初期感度をより向上させることができる。 Among these dyes, those having a large molar absorbance coefficient ε are preferably used. Specifically, ε is preferably 1 × 10 4 or more, more preferably 1 × 10 5 or more. If ε is 1 × 10 4 or more, the initial sensitivity can be further improved.

これらの光熱変換物質を2種以上含有してもよい。吸収波長の異なる2種以上の光熱変換物質を含有することにより、発信波長の異なる2種以上のレーザーに対応させることができる。   You may contain 2 or more types of these photothermal conversion substances. By containing two or more kinds of photothermal conversion substances having different absorption wavelengths, it is possible to cope with two or more kinds of lasers having different emission wavelengths.

これらのなかでも、光熱変換率、経済性および取り扱い性の面から、カーボンブラック、赤外線または近赤外線を吸収する染料が好ましい。   Among these, carbon black, dyes that absorb infrared rays or near infrared rays are preferable from the viewpoint of photothermal conversion, economic efficiency, and handleability.

これら光熱変換物質の含有量は、感熱層の全固形分中0.1〜70重量%が好ましく、より好ましくは0.5〜40重量%である。光熱変換物質の含有量を0.1重量%以上とすることで、レーザー光に対する感度をより向上させることができる。一方、70重量%以下とすることで、印刷版の高い耐刷性を維持することができる。   The content of these photothermal conversion substances is preferably 0.1 to 70% by weight, more preferably 0.5 to 40% by weight, based on the total solid content of the heat-sensitive layer. By making the content of the photothermal conversion substance 0.1% by weight or more, the sensitivity to laser light can be further improved. On the other hand, the high printing durability of a printing plate can be maintained by setting it as 70 weight% or less.

また、本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、感熱層は必要に応じて各種の添加剤を含有してもよい。例えば、塗布性を改良するためにシリコーン系界面活性剤やフッ素系界面活性剤などを含有してもよい。また、シリコーンゴム層との接着性を強化するためにシランカップリング剤、チタンカップリング剤などを含有してもよい。これら添加剤の含有量はその使用目的によって異なるが、一般的には感熱層の全固形分中0.1〜30重量%である。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the heat-sensitive layer may contain various additives as necessary. For example, a silicone surfactant or a fluorine surfactant may be contained in order to improve the coating property. Further, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, or the like may be contained in order to enhance the adhesiveness with the silicone rubber layer. The content of these additives varies depending on the purpose of use, but is generally 0.1 to 30% by weight in the total solid content of the heat-sensitive layer.

また、高感度化の目的で、本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、感熱層に気泡を有していてもよい。感熱層に気泡を形成する方法としては、例えば、特開2005−300586号公報や特開2005−331924号公報に記載の方法を挙げることができる。   For the purpose of increasing sensitivity, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention may have bubbles in the heat-sensitive layer. Examples of the method for forming bubbles in the heat-sensitive layer include the methods described in JP-A-2005-300586 and JP-A-2005-331924.

さらに、原版作製直後の高感度化に加えて、経時後においても高感度を維持する目的で、本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、感熱層に液泡を有していてもよい。感熱層に、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む液泡を有することが好ましく、これにより、高い感度を長期間維持することのできる直描型水なし平版印刷版原版を得ることができる。すなわち、210℃以上の沸点を有する液体を含むことにより、液泡としての形態を長期間維持させることが容易となり、高い感度を長期間維持することができる。一方、270℃以下の沸点を有する液体を含むことにより、初期感度をより高くすることができることに加え、感熱層表面への液体のブリードアウトや、現像時のシリコーンゴム層の剥離を抑制することができる。感熱層にこのような液泡を有する直描型水なし平版印刷版原版は、初期感度および経時後感度が高いことから、火膨れが生じやすい傾向がある。本発明は、このような高感度の原版に対して、特に高い効果を奏する。   Furthermore, for the purpose of maintaining high sensitivity even after lapse of time in addition to high sensitivity immediately after the original plate is produced, the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention may have liquid bubbles in the heat-sensitive layer. . The heat-sensitive layer preferably has a liquid bubble containing a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C., whereby a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor capable of maintaining high sensitivity for a long period of time can be obtained. it can. That is, by including a liquid having a boiling point of 210 ° C. or higher, it is easy to maintain the form as a liquid bubble for a long period of time, and high sensitivity can be maintained for a long period of time. On the other hand, by including a liquid having a boiling point of 270 ° C. or lower, the initial sensitivity can be further increased, and the bleeding of the liquid to the surface of the heat-sensitive layer and the peeling of the silicone rubber layer during development are suppressed. Can do. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having such a liquid bubble in the heat-sensitive layer has a high initial sensitivity and a high sensitivity after the lapse of time, and thus tends to cause blistering. The present invention is particularly effective for such a highly sensitive original.

なお、本発明において、液体の沸点とは大気圧下における沸点を指す。また、液泡が2種以上の液体を含む場合など、沸点を複数有する場合には、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体の割合が60重量%以上であることが好ましく、80重量%以上であることがより好ましく、90重量%以上であることがより好ましく、100重量%であることがさらに好ましい。   In the present invention, the boiling point of the liquid refers to the boiling point under atmospheric pressure. In addition, when the liquid bubble includes two or more kinds of liquids, the ratio of the liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is preferably 60% by weight or more, and 80% by weight or more. More preferably, it is 90% by weight or more, and further preferably 100% by weight.

液泡に含まれる液体は、加熱発生ガス分析によって発生ガスを捕集し、そのガス組成を分析することによって特定できる。   The liquid contained in the liquid bubble can be identified by collecting the generated gas by heat generation gas analysis and analyzing the gas composition.

また、液泡に含まれる液体の溶解度パラメーターは、17.0(MPa)1/2以下が好ましく、16.5(MPa)1/2以下がより好ましい。溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の液体は、前述したポリマーとの相溶性が低いことから、かかる液体に対するポリマーの溶解度および/またはポリマーに対する液体の溶解度が低くなり、感熱層中(フィルム形成能を有するポリマー中)で液泡として容易に存在させることができる。 The solubility parameter of the liquid contained in the liquid bubbles is preferably 17.0 (MPa) 1/2 or less, and more preferably 16.5 (MPa) 1/2 or less. Since a liquid having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less has low compatibility with the above-described polymer, the solubility of the polymer in the liquid and / or the solubility of the liquid in the polymer is low, and thus in the heat-sensitive layer. It can be easily present as a liquid bubble (in a polymer having film-forming ability).

本発明において、溶解度パラメーターはHildebrandの溶解度パラメーターを指し、液体のモル蒸発熱をΔH、モル体積をVとするとき、δ=(ΔH/V)1/2により定義される量δをいう。溶解度パラメーターの単位には(MPa)1/2を用いる。溶解度パラメーターの単位としては、(cal・cm−31/2もよく用いられており、両者の単位間には、δ(MPa)1/2=2.0455×δ(cal・cm−31/2の関係式がある。具体的には、溶解度パラメーター17.0(MPa)1/2は8.3(cal・cm−31/2となる。溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の液体としては、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素、アルキレンオキサイドジアルキルエーテル類などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。経済性および安全性の点から脂肪族飽和炭化水素が好ましい。 In the present invention, the solubility parameter refers to the solubility parameter of Hildebrand, and refers to an amount δ defined by δ = (ΔH / V) 1/2 where ΔH is the heat of molar evaporation of the liquid and V is the molar volume. The unit of the solubility parameter is (MPa) 1/2 . (Cal · cm −3 ) 1/2 is often used as the unit of the solubility parameter, and δ (MPa) 1/2 = 2.0455 × δ (cal · cm −3 ) is used between both units. ) There is a 1/2 relational expression. Specifically, the solubility parameter 17.0 (MPa) 1/2 is 8.3 (cal · cm −3 ) 1/2 . Examples of the liquid having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less include, but are not limited to, aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and alkylene oxide dialkyl ethers. From the viewpoints of economy and safety, aliphatic saturated hydrocarbons are preferred.

液泡に含まれる液体の溶解度パラメーターは、加熱発生ガス分析によって発生したガス組成を分析し、構造を特定することによって文献値から確認することもできる。   The solubility parameter of the liquid contained in the liquid bubble can also be confirmed from the literature value by analyzing the gas composition generated by the heat generation gas analysis and specifying the structure.

210〜270℃の範囲に沸点を有し、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下である液体として、例えば、炭素数12〜18の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:212℃、溶解度パラメーター:16.0(MPa)1/2)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点:256℃、溶解度パラメーター:15.8(MPa)1/2)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:216℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:261℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点:215℃、溶解度パラメーター:15.1(MPa)1/2)などのアルキレングリコールジアルキルエーテル類などが挙げられる。これらを2種以上含んでもよい。 As a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. and a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less, for example, a linear, branched or cyclic hydrocarbon having 12 to 18 carbon atoms, Diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 212 ° C., solubility parameter: 16.0 (MPa) 1/2 ), diethylene glycol dibutyl ether (boiling point: 256 ° C., solubility parameter: 15.8 (MPa) 1/2 ), triethylene glycol Dimethyl ether (boiling point: 216 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 ), triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 261 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 ), tripropylene glycol Dimethyl ether (boiling point: 215 ° C, solubility parameter 15.1 (MPa) 1/2), and the like alkylene glycol dialkyl ethers such as. Two or more of these may be included.

初期感度および経時後感度をより向上させる観点から、水なし平版印刷版を製造する際の露光工程において走査されるレーザービームの照射面積内に、少なくとも1個の液泡が存在することが好ましい。一般的な露光機のレーザービームの照射面積は約100μm(一辺約10μmの正方形)である。
傾斜領域が存在しない部分の感熱層に含まれる液泡の数は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、直接倍率8000倍の条件で感熱層のTEM観察を行う。水平断面の三次元情報に基づき、傾斜領域が存在しない部分の感熱層の水平断面1μm((縦)1μm×(横)1μm)の深さ方向における液泡(直径:0.01μm以上)の総数を計数することで液泡の数を求めることができる。
From the viewpoint of further improving the initial sensitivity and the sensitivity after lapse of time, it is preferable that at least one liquid bubble is present within the irradiation area of the laser beam scanned in the exposure step when producing the waterless lithographic printing plate. The irradiation area of the laser beam of a general exposure machine is about 100 μm 2 (a square with a side of about 10 μm).
The number of liquid bubbles contained in the portion of the heat sensitive layer where the inclined region does not exist can be obtained by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method, and a TEM observation of the thermosensitive layer is performed under conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a direct magnification of 8000 times. Based on the three-dimensional information of the horizontal section, the total number of liquid bubbles (diameter: 0.01 μm or more) in the depth direction of the horizontal section 1 μm 2 ((vertical) 1 μm × (horizontal) 1 μm) of the heat-sensitive layer in the portion where the inclined region does not exist The number of liquid bubbles can be obtained by counting.

感熱層中の液泡の空間的な分布は、均一でも深さ方向に変調していてもよい。初期感度および経時後感度をより向上させる観点からは、シリコーンゴム層との界面から深さ0.5μmまでの傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm((縦)1μm×(横)1μm×(シリコーンゴム層との界面から深さ)0.5μm)において、直径0.01μm以上の液泡の数は、2個以上が好ましく、20個以上がより好ましい。 The spatial distribution of the liquid bubbles in the heat-sensitive layer may be uniform or modulated in the depth direction. From the viewpoint of further improving the initial sensitivity and the sensitivity after aging, the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 ((vertical) 1 μm × (horizontal) where there is no inclined region from the interface with the silicone rubber layer to a depth of 0.5 μm 1 μm × (depth from the interface with the silicone rubber layer) 0.5 μm), the number of liquid bubbles having a diameter of 0.01 μm or more is preferably 2 or more, and more preferably 20 or more.

液泡の直径は、0.01μm以上が好ましく、0.05μm以上がより好ましく、0.1μm以上がより好ましい。一方、1μm以下が好ましく、0.5μm以下がより好ましく、0.3μm以下がより好ましい。前記範囲の直径を有する液泡を、液泡全体の50体積%以上含有することが好ましく、80体積%以上含有することがより好ましく、90体積%以上含有することがさらに好ましい。液泡の平均直径は、0.1〜1μmが好ましく、0.1〜0.3μmがより好ましく、0.25μm以下がさらに好ましい。液泡の大きさが上記範囲内であれば初期感度および経時後感度がより向上する。   The diameter of the liquid bubble is preferably 0.01 μm or more, more preferably 0.05 μm or more, and more preferably 0.1 μm or more. On the other hand, 1 μm or less is preferable, 0.5 μm or less is more preferable, and 0.3 μm or less is more preferable. The liquid bubbles having a diameter in the above range are preferably contained in an amount of 50% by volume or more, more preferably 80% by volume or more, and still more preferably 90% by volume or more of the entire liquid bubbles. The average diameter of the liquid bubbles is preferably 0.1 to 1 μm, more preferably 0.1 to 0.3 μm, and further preferably 0.25 μm or less. If the size of the liquid bubble is within the above range, the initial sensitivity and the sensitivity after aging are further improved.

本発明において、液泡の直径とは、液泡が真球であると仮定した際の等体積球相当径を指す。また、液泡の平均直径とは、複数個の前記直径の液泡から算出した数平均値を指す。傾斜領域が存在しない部分の感熱層に含まれる液泡の平均直径は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、直接倍率8000倍の条件で感熱層のTEM観察を行う。水平断面の三次元情報に基づき、ランダムに選んだ50個の液泡についてその直径を計測し、その数平均値を算出することにより、平均直径を求めることができる。   In the present invention, the diameter of the liquid bubble refers to the equivalent volume sphere equivalent diameter when the liquid bubble is assumed to be a true sphere. Moreover, the average diameter of a liquid bubble refers to the number average value calculated from a plurality of liquid bubbles having the above-mentioned diameter. The average diameter of the liquid bubbles contained in the heat-sensitive layer in the portion where the inclined region does not exist can be obtained by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method, and a TEM observation of the thermosensitive layer is performed under conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a direct magnification of 8000 times. The average diameter can be obtained by measuring the diameter of 50 randomly selected liquid bubbles based on the three-dimensional information of the horizontal section and calculating the number average value thereof.

感熱層中の液泡の含有量は、傾斜領域が存在しない部分の感熱層の0.1体積%以上が好ましく、1体積%以上がより好ましく、5体積%以上がより好ましい。一方、耐溶剤性や耐刷性の観点から、50体積%以下が好ましく、40体積%以下がより好ましく、20体積%以下がより好ましい。   The content of the liquid bubbles in the heat-sensitive layer is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 1% by volume or more, and more preferably 5% by volume or more of the heat-sensitive layer where the inclined region does not exist. On the other hand, from the viewpoint of solvent resistance and printing durability, 50% by volume or less is preferable, 40% by volume or less is more preferable, and 20% by volume or less is more preferable.

感熱層に液泡を有する場合、感熱層の熱軟化点は50℃以上が好ましく、60℃以上がより好ましい。熱軟化点が50℃以上であれば、室温下における感熱層の流動を抑制できることから、経時後感度をより向上させることができる。感熱層の熱軟化点は、感熱層の主成分である活性水素を有するポリマーの熱軟化点に大きく依存する。このため、活性水素を有するポリマーとして、熱軟化点が50℃以上のポリマーを用いることが好ましい。中でも、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基を有する熱軟化点が50℃以上のポリマーがより好ましく、フェノール性水酸基を有する熱軟化点が50℃以上のポリマー(p−ヒドロキシスチレンの単独重合体もしくは共重合体、ノボラック樹脂、レゾール樹脂など)がより好ましい。   When the heat-sensitive layer has liquid bubbles, the heat softening point of the heat-sensitive layer is preferably 50 ° C. or higher, and more preferably 60 ° C. or higher. If the thermal softening point is 50 ° C. or higher, the flow of the heat-sensitive layer at room temperature can be suppressed, and thus the sensitivity after aging can be further improved. The heat softening point of the heat sensitive layer largely depends on the heat softening point of the polymer having active hydrogen which is the main component of the heat sensitive layer. For this reason, it is preferable to use a polymer having a thermal softening point of 50 ° C. or higher as the polymer having active hydrogen. Among them, a polymer having an alcoholic hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, and a carboxyl group having a thermal softening point of 50 ° C. or higher is more preferable, and a polymer having a phenolic hydroxyl group having a thermal softening point of 50 ° C. or higher (p-hydroxystyrene homopolymer). Or a copolymer, a novolak resin, a resole resin, etc.) are more preferable.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、傾斜領域が存在しない部分の感熱層の平均膜厚は、0.3μm以上が好ましく、0.8μm以上がより好ましい。一方、10μm以下が好ましく、7μm以下がより好ましい。傾斜領域が存在しない部分の感熱層の平均膜厚を0.3μm以上とすることで現像性の低下が起こりにくく、10μm以下とすることで火膨れ耐性の向上効果が発現しやすく、また、経済的な見地からも不利とならない。ここで、傾斜領域が存在しない部分の感熱層の平均膜厚は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、直接倍率2000倍の条件でTEM観察を行う。垂直断面のTEM写真において、傾斜領域が存在せずに平滑な部分の感熱層からランダムに選んだ10箇所について膜厚を計測し、その数平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。   In the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention, the average film thickness of the heat-sensitive layer in the portion where no inclined region exists is preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.8 μm or more. On the other hand, it is preferably 10 μm or less, and more preferably 7 μm or less. When the average film thickness of the heat-sensitive layer where there is no inclined region is 0.3 μm or more, the developability is hardly lowered, and when it is 10 μm or less, the effect of improving the blister resistance is easily manifested, and the economy It is not disadvantageous from a general point of view. Here, the average film thickness of the heat-sensitive layer in the portion where there is no inclined region can be obtained by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by an ultrathin section method, and TEM observation is performed under conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a direct magnification of 2000 times. In a TEM photograph of a vertical cross section, the average film thickness is obtained by measuring the film thickness at 10 locations randomly selected from the heat-sensitive layer in a smooth portion without an inclined region and calculating the number average value thereof. Can do.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、シリコーンゴム層としては、付加反応型シリコーンゴム層組成物または縮合反応型シリコーンゴム層組成物を塗布して得られる層、これらの組成物の溶液を塗布、(加熱)乾燥して得られる層が挙げられる。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, as the silicone rubber layer, a layer obtained by applying an addition reaction type silicone rubber layer composition or a condensation reaction type silicone rubber layer composition, Examples include a layer obtained by applying a solution and (heating) drying.

付加反応型のシリコーンゴム層組成物は、少なくともビニル基含有オルガノポリシロキサン、SiH基含有化合物(付加反応型架橋剤)および硬化触媒を含むことが好ましい。さらに、反応抑制剤を含有してもよい。   The addition reaction type silicone rubber layer composition preferably contains at least a vinyl group-containing organopolysiloxane, a SiH group-containing compound (addition reaction type crosslinking agent) and a curing catalyst. Furthermore, you may contain reaction inhibitor.

ビニル基含有オルガノポリシロキサンは、下記一般式(I)で表される構造を有し、主鎖末端もしくは主鎖中にビニル基を有するものである。中でも主鎖末端にビニル基を有するものが好ましい。これらを2種以上含有してもよい。
−(SiR−O−)− (I)
式中、nは2以上の整数を示し、RおよびRは同じであっても異なっていてもよく、炭素数1〜50の飽和または不飽和の炭化水素基を表す。炭化水素基は直鎖状でも枝分かれ状でも環状でもよく、芳香環を含んでいてもよい。
The vinyl group-containing organopolysiloxane has a structure represented by the following general formula (I) and has a vinyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a vinyl group at the end of the main chain are preferred. Two or more of these may be contained.
-(SiR 1 R 2 -O-) n- (I)
In the formula, n represents an integer of 2 or more, and R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms. The hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic and may contain an aromatic ring.

上記式中、RおよびRは全体の50%以上がメチル基であることが、印刷版のインキ反発性の面で好ましい。また、取扱い性や印刷版のインキ反発性、耐傷性の観点から、ビニル基含有オルガノポリシロキサンの重量平均分子量は1万〜60万が好ましい。 In the above formula, 50% or more of R 1 and R 2 are preferably methyl groups from the viewpoint of ink repellency of the printing plate. Further, from the viewpoints of handleability, ink repellency of the printing plate, and scratch resistance, the weight average molecular weight of the vinyl group-containing organopolysiloxane is preferably 10,000 to 600,000.

SiH基含有化合物としては、例えば、オルガノハイドロジェンポリシロキサン、ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーが挙げられ、好ましくはオルガノハイドロジェンポリシロキサンである。これらを2種以上含有してもよい。   Examples of the SiH group-containing compound include organohydrogenpolysiloxanes and organic polymers having a diorganohydrogensilyl group, and organohydrogenpolysiloxanes are preferred. Two or more of these may be contained.

オルガノハイドロジェンポリシロキサンは、直鎖状、環状、分岐状、網状の分子構造を有し、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ポリメチルハイドロジェンシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルフェニルポリシロキサン、式:RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:RHSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体、式:RHSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体、式:RHSiO2/2で示されるシロキサン単位と式:RSiO3/2で示されるシロキサン単位または式:HSiO3/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノポリシロキサン共重合体などが挙げられる。これらのオルガノポリシロキサンを2種以上用いてもよい。上記式中、Rはアルケニル基以外の一価炭化水素基であり、置換されていてもよい。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基などのアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフロロプロピル基などのハロゲン化アルキル基が例示される。 Organohydrogenpolysiloxane has a linear, cyclic, branched, and network molecular structure, with both molecular chain terminal trimethylsiloxy group-capped polymethylhydrogensiloxane and molecular chain both terminal trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane methyl. Hydrogen siloxane copolymer, trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane / methylphenylsiloxane copolymer, molecular chain dimethylhydrogensiloxy group-capped dimethylpolysiloxane, molecular chain both-end dimethylhydro Jenshirokishi group dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane copolymers, both molecular terminals with dimethylhydrogensiloxy groups at methylphenyl polysiloxane, formula siloxane represented by R 3 SiO 1/2 Units and formula siloxane units represented by the formula R 2 HSiO 1/2: organopolysiloxane copolymers composed of siloxane units represented by SiO 4/2, wherein: the siloxane units represented by R 2 HSiO 1/2 Organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by the formula: SiO 4/2 , a siloxane unit represented by the formula: RHSiO 2/2 and a siloxane unit represented by the formula: RSiO 3/2 or a formula: HSiO 3/2 And an organopolysiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by Two or more of these organopolysiloxanes may be used. In the above formula, R is a monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group, and may be substituted. For example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group; benzyl group, phenethyl group, etc. Aralkyl groups; halogenated alkyl groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group are exemplified.

ジオルガノハイドロジェンシリル基を有する有機ポリマーとしては、例えば、ジメチルハイドロジェンシリル(メタ)アクレート、ジメチルハイドロジェンシリルプロピル(メタ)アクリレートなどのジメチルハイドロジェンシリル基含有(メタ)アクリル系モノマーと、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、スチレン、α−メチルスチレン、マレイン酸、酢酸ビニル、酢酸アリルなどのモノマーとを共重合したオリゴマーなどが挙げられる。   Examples of the organic polymer having a diorganohydrogensilyl group include dimethylhydrogensilyl group-containing (meth) acrylic monomers such as dimethylhydrogensilyl (meth) acrylate, dimethylhydrogensilylpropyl (meth) acrylate, and ( Methyl) methacrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, ethyl hexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, maleic acid, vinyl acetate, allyl acetate, etc. And oligomers obtained by copolymerization with the above monomers.

SiH基含有化合物の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the SiH group-containing compound is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer. Moreover, 20 weight% or less is preferable and 15 weight% or less is more preferable.

反応抑制剤としては、含窒素化合物、リン系化合物、不飽和アルコールなどが挙げられ、アセチレン基含有アルコールが好ましく用いられる。これらを2種以上含有してもよい。これらの反応抑制剤を含有することにより、シリコーンゴム層の硬化速度を調整することができる。反応抑制剤の含有量は、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.01重量%以上が好ましく、0.1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   Examples of the reaction inhibitor include nitrogen-containing compounds, phosphorus compounds and unsaturated alcohols, and acetylene group-containing alcohols are preferably used. Two or more of these may be contained. By containing these reaction inhibitors, the curing rate of the silicone rubber layer can be adjusted. The content of the reaction inhibitor is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more in the silicone rubber layer composition, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition or its solution. Further, from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

硬化触媒は公知のものから選ばれる。好ましくは白金系化合物であり、具体的には白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金、白金のアルコール変性錯体、白金のメチルビニルポリシロキサン錯体などを挙げることができる。これらを2種以上含有してもよい。硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The curing catalyst is selected from known ones. Preferred are platinum compounds, and specific examples include platinum alone, platinum chloride, chloroplatinic acid, olefin coordinated platinum, platinum alcohol-modified complexes, platinum methylvinylpolysiloxane complexes, and the like. Two or more of these may be contained. The content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, more preferably 0.01% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of curability of the silicone rubber layer. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and the solution thereof, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

また、これらの成分の他に、水酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤、接着性を向上させる目的で公知のシランカップリング剤を含有してもよい。シランカップリング剤としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類などが好ましく、特にビニル基やアリル基を有するものが好ましい。   In addition to these components, hydroxyl group-containing organopolysiloxane, hydrolyzable functional group-containing silane (or siloxane), known fillers such as silica for the purpose of improving rubber strength, and known for the purpose of improving adhesiveness. The silane coupling agent may be contained. As the silane coupling agent, alkoxysilanes, acetoxysilanes, ketoximinosilanes and the like are preferable, and those having a vinyl group or an allyl group are particularly preferable.

縮合反応型のシリコーンゴム層組成物は、少なくとも水酸基含有オルガノポリシロキサン、架橋剤および硬化触媒を含むことが好ましい。   The condensation reaction type silicone rubber layer composition preferably contains at least a hydroxyl group-containing organopolysiloxane, a crosslinking agent and a curing catalyst.

水酸基含有オルガノポリシロキサンは、前記一般式(I)で表される構造を有し、主鎖末端もしくは主鎖中に水酸基を有するものである。中でも主鎖末端に水酸基を有するものが好ましい。これらを2種以上含有してもよい。   The hydroxyl group-containing organopolysiloxane has a structure represented by the general formula (I) and has a hydroxyl group at the end of the main chain or in the main chain. Of these, those having a hydroxyl group at the end of the main chain are preferred. Two or more of these may be contained.

架橋剤としては、下記一般式(II)で表される、脱酢酸型、脱オキシム型、脱アルコール型、脱アセトン型、脱アミド型、脱ヒドロキシルアミン型などのケイ素化合物を挙げることができる。
(R4−mSiX(II)
式中、mは2〜4の整数を示し、Rは同一でも異なってもよく、炭素数1以上の置換もしくは非置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされた基を示す。Xは同一でも異なってもよく、加水分解性基を示す。加水分解性基としては、アセトキシ基などのアシロキシ基、メチルエチルケトオキシム基などのケトオキシム基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基、イソプロペノキシ基などのアルケニルオキシ基、アセチルエチルアミノ基などのアシルアルキルアミノ基、ジメチルアミノキシ基などのアミノキシ基などが挙げられる。上記式において、加水分解性基の数mは3または4であることが好ましい。
Examples of the crosslinking agent include silicon compounds such as a deacetic acid type, a deoxime type, a dealcohol type, a deacetone type, a deamide type, and a dehydroxylamine type represented by the following general formula (II).
(R 3 ) 4-m SiX m (II)
In the formula, m represents an integer of 2 to 4, R 3 may be the same or different, and represents a substituted or unsubstituted alkyl group, alkenyl group, aryl group having 1 or more carbon atoms, or a combination thereof. Show. X may be the same or different and represents a hydrolyzable group. Examples of hydrolyzable groups include acyloxy groups such as acetoxy group, ketoxime groups such as methylethylketoxime group, alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, alkenyloxy groups such as isopropenoxy group, acetylethylamino group And an aminoxy group such as a dimethylaminoxy group. In the above formula, the number m of hydrolyzable groups is preferably 3 or 4.

具体的な化合物としては、メチルトリアセトキシシラン、エチルトリアセトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、テトラアセトキシシランなどのアセトキシシラン類、ビニルメチルビス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、メチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、エチルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、ビニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、アリルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、フェニルトリス(メチルエチルケトキシミノ)シラン、テトラキス(メチルエチルケトキシミノ)シランなどのケトキシミノシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシランなどのアルコキシシラン類、ビニルトリスイソプロペノキシシラン、ジイソプロペノキシジメチルシラン、トリイソプロペノキシメチルシランなどのアルケニルオキシシラン類、テトラアリロキシシランなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの中では、シリコーンゴム層の硬化速度、取扱い性などの観点から、アセトキシシラン類、ケトキシミノシラン類が好ましい。これらを2種以上含有してもよい。   Specific compounds include methyltriacetoxysilane, ethyltriacetoxysilane, vinyltriacetoxysilane, allyltriacetoxysilane, phenyltriacetoxysilane, tetraacetoxysilane and other acetoxysilanes, vinylmethylbis (methylethylketoximino) silane , Methyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, ethyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, vinyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, allyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, phenyl tris (methyl ethyl ketoximino) silane, tetrakis (methyl ethyl ketoximino) silane, etc. Ketoximinosilanes, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethylto Alkoxysilanes such as ethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrisisopropenoxysilane, diisopropenoxydimethylsilane Alkenyloxysilanes such as triisopropenoxymethylsilane, tetraallyloxysilane, and the like, but are not limited thereto. Among these, acetoxysilanes and ketoximinosilanes are preferable from the viewpoint of the curing speed of the silicone rubber layer, handling properties, and the like. Two or more of these may be contained.

架橋剤の含有量は、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層の強度や印刷版の耐傷性の観点から、シリコーンゴム層組成物中20重量%以下が好ましく、15重量%以下がより好ましい。   The content of the crosslinking agent is preferably 0.5% by weight or more and more preferably 1% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and the solution thereof. Further, from the viewpoint of the strength of the silicone rubber layer and the scratch resistance of the printing plate, the content is preferably 20% by weight or less, more preferably 15% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

硬化触媒としては、有機カルボン酸、酸類、アルカリ、アミン、金属アルコキシド、金属ジケテネート、錫、鉛、亜鉛、鉄、コバルト、カルシウム、マンガンなどの金属の有機酸塩などが挙げられる。具体的には、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジラウレート、オクチル酸亜鉛、オクチル酸鉄などを挙げることができる。これらを2種以上含有してもよい。   Examples of the curing catalyst include organic carboxylic acids, acids, alkalis, amines, metal alkoxides, metal diketenates, organic acid salts of metals such as tin, lead, zinc, iron, cobalt, calcium, and manganese. Specific examples include dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, zinc octylate, and iron octylate. Two or more of these may be contained.

硬化触媒の含有量は、シリコーンゴム層の硬化性、接着性の観点から、シリコーンゴム層組成物中0.001重量%以上が好ましく、0.01重量%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層組成物やその溶液の安定性の観点から、シリコーンゴム層組成物中15重量%以下が好ましく、10重量%以下がより好ましい。   The content of the curing catalyst is preferably 0.001% by weight or more, and more preferably 0.01% by weight or more in the silicone rubber layer composition from the viewpoints of curability and adhesiveness of the silicone rubber layer. Further, from the viewpoint of the stability of the silicone rubber layer composition and its solution, it is preferably 15% by weight or less, more preferably 10% by weight or less in the silicone rubber layer composition.

また、これらの成分の他に、ゴム強度を向上させる目的でシリカなどの公知の充填剤を含有してもよい。   In addition to these components, a known filler such as silica may be contained for the purpose of improving rubber strength.

また、現像後の水なし平版印刷版に検版性を付与する目的で、シリコーンゴム層中に有色顔料を含有することが好ましい。ここで、本発明において有色顔料とは、可視光波長域(380〜780nm)における何れかの光を吸収する顔料をいう。   Further, for the purpose of imparting plate inspection properties to the waterless lithographic printing plate after development, it is preferable to contain a colored pigment in the silicone rubber layer. Here, in the present invention, the colored pigment refers to a pigment that absorbs any light in the visible light wavelength region (380 to 780 nm).

一般に、顔料は水や脂肪族炭化水素などの溶剤に不溶であるため、顔料を含むことにより、水や溶剤に可溶な染料を含む場合に比べて、現像工程において用いられる水や有機薬液、印刷工程において用いられるインキ中の溶剤や各種洗浄剤などによる色素抽出が格段に抑えられる。   In general, pigments are insoluble in solvents such as water and aliphatic hydrocarbons. Therefore, by including pigments, water and organic chemicals used in the development process can be used compared to the case of containing dyes that are soluble in water and solvents. Dye extraction with solvents and various cleaning agents in the ink used in the printing process is remarkably suppressed.

現像後の水なし平版印刷版の検版性としては、目視による目視検版性、網点面積率測定装置による機器検版性が挙げられる。一般的に、機器検版性は目視検版性よりも画像識別能が低いため、機器検版性が良好な水なし平版印刷版は目視検版性もまた良好である場合が多い。   Examples of the plate inspection property of the waterless planographic printing plate after development include visual plate inspection property by visual inspection and device plate inspection property by a halftone dot area ratio measuring device. In general, since the image inspection ability is lower than the visual inspection ability, the waterless lithographic printing plate having good inspection performance often has good visual inspection ability.

一般的な網点面積率測定装置は、印刷版上に形成された網点部分に、青色光(波長400〜500nm)、緑色光(波長500〜600nm)、赤色光(波長600〜700nm)、または白色光(波長400〜700nm)の何れかの光を照射し、画線部/非画線部間の反射光量差から網点面積率を算出する。このため、画線部/非画線部間の反射光量差が小さい場合や、反射光量差がない場合は、網点面積率測定が困難となり、機器検版性が低下する。直描型水なし平版印刷版原版の断熱層や感熱層を構成する有機化合物の多くは青色光を吸収するため、青色光を吸収する黄色や橙色などの有色顔料で着色したシリコーンゴム層を用いた場合、画線部/非画線部間の反射光量差が小さくなり、機器検版性が低下する。さらに、目視検版性も低下する場合がある。このような理由から、緑色光または赤色光を吸収する有色顔料を用いることが、機器検版性や目視検版性の観点から好ましい。さらに、緑色光または赤色光を吸収する有色顔料の中でも、密度3g/cm以下の有色顔料が、シリコーンゴム層組成物やその溶液における分散性の観点から好ましい。緑色光または赤色光を吸収する有色顔料の中で、密度が3g/cm以下の有色顔料としては、コバルトブルー、紺青、含水硅酸塩、群青、カーボンブラック、体質顔料(炭酸石灰粉、沈降性炭酸カルシウム、石膏、アスベスト、クレー、シリカ粉、珪藻土、タルク、塩基性炭酸マグネシウム、アルミナホワイト)にローダミン、メチルバイオレット、ピーコックブルー、アルカリブルー、マラカイトグリーン、アリザリンなどの染料を染め付けた捺染系顔料、アルカリブルー、アニリンブラック、リソールレッド、レーキレッドC、ブリリアントカーミン6B、ウォッチヤングレッド、ボルドー10B、パラレッド、レーキレッド4R、ナフトールレッド、クロモフタルスカーレットRN、フタロシアニンブルー、ファストスカイブルー、フタロシアニングリーン、アントラキノン系顔料、ペリレンレッド、チオインジゴレッド、インダントロンブルー、キナクリドンレッド、キナクリドンバイオレット、ジオキサジンバイオレット、ナフトールグリーンBなどが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。 A general halftone dot area ratio measuring device has blue light (wavelength 400 to 500 nm), green light (wavelength 500 to 600 nm), red light (wavelength 600 to 700 nm), on a halftone dot portion formed on a printing plate. Alternatively, white light (wavelength of 400 to 700 nm) is irradiated, and the halftone dot area ratio is calculated from the difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area. For this reason, when the difference in the amount of reflected light between the image area and the non-image area is small, or when there is no difference in the amount of reflected light, it is difficult to measure the dot area ratio, and the device inspection performance is degraded. Many of the organic compounds that make up the heat-insulating and heat-sensitive layers of direct-drawing waterless lithographic printing plate precursors absorb blue light, so use a silicone rubber layer colored with colored pigments such as yellow and orange that absorb blue light. In this case, the difference in the amount of reflected light between the image area / non-image area is reduced, and the device inspection is deteriorated. Furthermore, the visual plate inspection property may also deteriorate. For these reasons, it is preferable to use a colored pigment that absorbs green light or red light from the viewpoints of instrument inspection and visual inspection. Furthermore, among colored pigments that absorb green light or red light, colored pigments having a density of 3 g / cm 3 or less are preferable from the viewpoint of dispersibility in the silicone rubber layer composition and its solution. Among colored pigments that absorb green light or red light, those having a density of 3 g / cm 3 or less include cobalt blue, bitumen, hydrous oxalate, ultramarine, carbon black, extender pigments (lime carbonate powder, precipitated) Printing pigments in which basic calcium carbonate, gypsum, asbestos, clay, silica powder, diatomaceous earth, talc, basic magnesium carbonate, alumina white) are dyed with dyes such as rhodamine, methyl violet, peacock blue, alkali blue, malachite green, alizarin , Alkali blue, aniline black, resol red, lake red C, brilliant carmine 6B, watch young red, Bordeaux 10B, para red, lake red 4R, naphthol red, chromophthalscarlet RN, phthalocyanine blue, fast sky blue, Examples include phthalocyanine green, anthraquinone pigment, perylene red, thioindigo red, indanthrone blue, quinacridone red, quinacridone violet, dioxazine violet, and naphthol green B. Two or more of these may be contained.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、有色顔料の含有量は、シリコーンゴム層中の0.1体積%以上が好ましく、0.2体積%以上がより好ましい。また、シリコーンゴム層のインキ反発性を維持する観点から、20体積%以下が好ましく、10体積%以下がより好ましい。   In the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention, the content of the colored pigment is preferably 0.1% by volume or more, more preferably 0.2% by volume or more in the silicone rubber layer. Moreover, from a viewpoint of maintaining the ink repellency of a silicone rubber layer, 20 volume% or less is preferable and 10 volume% or less is more preferable.

シリコーンゴム層中における有色顔料の分散性を向上させるために、シリコーンゴム層組成物に顔料分散剤を含有することが好ましい。顔料分散剤を含有することにより、シリコーンゴム層組成物を溶剤により希釈する際や、シリコーンゴム層組成物またはその溶液中で経時により発生する有色顔料の凝集を抑制することができる。顔料分散剤としては、顔料表面をよく濡らし、かつオルガノポリシロキサンや、後述する有色顔料含有シリコーン液の希釈に用いられる溶剤などの低極性化合物との親和性が良好な顔料分散剤が好ましい。そのような顔料分散剤であれば公知の顔料分散剤を用いることができる。顔料分散剤は界面活性剤や表面改質剤などの名称で用いられることもある。顔料分散剤としては、金属と有機化合物からなる有機錯化合物、アミン系顔料分散剤、酸系顔料分散剤、ノニオン界面活性剤などを挙げることができる。中でも、金属と有機化合物からなる有機錯化合物、またはアミン系顔料分散剤が好ましい。   In order to improve the dispersibility of the colored pigment in the silicone rubber layer, the silicone rubber layer composition preferably contains a pigment dispersant. By containing the pigment dispersant, it is possible to suppress the aggregation of the colored pigment that occurs with time in the silicone rubber layer composition or its solution when the silicone rubber layer composition is diluted with a solvent. As the pigment dispersant, a pigment dispersant that wets the pigment surface well and has good affinity with low-polar compounds such as organopolysiloxane and a solvent used for diluting the colored pigment-containing silicone liquid described later is preferable. If it is such a pigment dispersant, a well-known pigment dispersant can be used. The pigment dispersant is sometimes used as a name such as a surfactant or a surface modifier. Examples of the pigment dispersant include an organic complex compound composed of a metal and an organic compound, an amine pigment dispersant, an acid pigment dispersant, and a nonionic surfactant. Among these, an organic complex compound composed of a metal and an organic compound or an amine pigment dispersant is preferable.

有機錯化合物を形成する金属および有機化合物としては、感熱層の架橋剤として先に例示した金属錯化合物を形成する金属および有機化合物が挙げられる。中でも、有機化合物としては、カルボン酸やリン酸、スルホン酸などの酸化合物や、金属との間でキレート環を形成できるジケトンやケトエステル、ジエステル化合物が金属との配位力の点から好ましい。   Examples of the metal and organic compound that form the organic complex compound include the metal and organic compound that form the metal complex compound exemplified above as the crosslinking agent of the heat-sensitive layer. Among these, as the organic compound, acid compounds such as carboxylic acid, phosphoric acid, and sulfonic acid, and diketones, ketoesters, and diester compounds capable of forming a chelate ring with a metal are preferable from the viewpoint of coordination power with the metal.

顔料分散剤として用いられる最も単純な有機錯化合物は、上記有機化合物と金属アルコキシドを室温下または加熱下で撹拌し、配位子を交換することにより得ることができる。1つの金属に対し上記有機化合物を1分子以上配位させることが好ましい。   The simplest organic complex compound used as a pigment dispersant can be obtained by stirring the organic compound and metal alkoxide at room temperature or under heating and exchanging the ligand. It is preferable to coordinate one or more molecules of the organic compound to one metal.

市販されている金属と有機化合物からなる有機錯化合物の一例を以下に挙げる。アルミニウム系:“オクトープ”(登録商標)Al、“オリープ”AOO、AOS(以上、ホープ製薬(株)製)、“プレンアクト”(登録商標)AL−M(味の素ファインテクノ(株)製)など。チタニウム系:“プレンアクト”KR−TTS、KR46B、KR55、KR41B、KR38S、KR138S、KR238S、KR338X、KR9SA(以上、味の素ファインテクノ(株)製)、“KEN−REACT”(登録商標)TTS−B、5、6、7、10、11、12、15、26S、37BS、43、58CS、62S、36B、46B、101、106、110S、112S、126S、137BS、158DS、201、206、212、226、237、262S(以上、KENRICH社製)など。   An example of a commercially available organic complex compound composed of a metal and an organic compound is given below. Aluminum type: “Octope” (registered trademark) Al, “Olyp” AOO, AOS (above, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.), “Plenact” (registered trademark) AL-M (produced by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), and the like. Titanium-based: “Pureact” KR-TTS, KR46B, KR55, KR41B, KR38S, KR138S, KR238S, KR338X, KR9SA (above, manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.), “KEN-REACT” (registered trademark) TTS-B, 5, 6, 7, 10, 11, 12, 15, 26S, 37BS, 43, 58CS, 62S, 36B, 46B, 101, 106, 110S, 112S, 126S, 137BS, 158DS, 201, 206, 212, 226, 237, 262S (above, manufactured by KENRICH).

上記有機錯化合物は、特に付加反応型シリコーンゴム層に好適に使用できる。中でも、分子中に1級または2級のアミン、リン、硫黄を含まない有機錯化合物は白金触媒の触媒毒として作用しないため、白金触媒を用いて硬化を促進する付加反応型のシリコーンに用いる際に極めて好適である。   The organic complex compound can be suitably used particularly for an addition reaction type silicone rubber layer. In particular, organic complex compounds that do not contain primary or secondary amines, phosphorus, or sulfur in the molecule do not act as catalyst poisons for platinum catalysts. Therefore, when used for addition reaction type silicones that promote curing using platinum catalysts. It is very suitable for.

一方、アミン系顔料分散剤としては、その分子中に1個のアミノ基を有するモノアミンタイプ、分子中に複数個のアミノ基を有するポリアミンタイプがあり、何れも好適に使用できる。具体的には、“ソルスパース”(登録商標)9000、13240、13650、13940、17000、18000、19000、28000(以上、LUBRIZOL社製)などを挙げることができる。   On the other hand, as the amine pigment dispersant, there are a monoamine type having one amino group in the molecule and a polyamine type having a plurality of amino groups in the molecule, both of which can be suitably used. Specific examples include “Solsperse” (registered trademark) 9000, 13240, 13650, 13940, 17000, 18000, 19000, 28000 (above, manufactured by LUBRIZOL).

顔料分散剤は、顔料の表面積に対して、2〜30mg/m含有することが好ましい。言い換えると、例えば、比表面積50m/gの顔料を10g含有する場合、顔料分散剤の含有量は、1〜15gが好ましい。 The pigment dispersant is preferably contained in an amount of 2 to 30 mg / m 2 with respect to the surface area of the pigment. In other words, for example, when 10 g of a pigment having a specific surface area of 50 m 2 / g is contained, the content of the pigment dispersant is preferably 1 to 15 g.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版において、傾斜領域が存在しない部分の感熱層上のシリコーンゴム層の平均膜厚は0.5〜20μmが好ましい。傾斜領域が存在しない部分の感熱層上のシリコーンゴム層の平均膜厚を0.5g/m以上とすることで印刷版のインキ反発性や耐傷性、耐刷性が十分となり、20g/m以下とすることで経済的見地から不利とならず、現像性、インキマイレージの低下が起こりにくい。ここで、傾斜領域が存在しない部分の感熱層上のシリコーンゴム層の平均膜厚は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、直接倍率2000倍の条件でTEM観察を行う。垂直断面のTEM写真において、傾斜領域が存在せずに平滑な部分の感熱層上のシリコーンゴム層からランダムに選んだ10箇所について膜厚を計測し、その数平均値を算出することにより、平均膜厚を求めることができる。 In the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention, the average film thickness of the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer in a portion where there is no inclined region is preferably 0.5 to 20 μm. By setting the average film thickness of the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer where the inclined region does not exist to 0.5 g / m 2 or more, the ink repellency, scratch resistance and printing durability of the printing plate become sufficient, and 20 g / m By setting it to 2 or less, it is not disadvantageous from an economical point of view, and developability and ink mileage are hardly lowered. Here, the average film thickness of the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer in the portion where the inclined region does not exist can be determined by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by an ultrathin section method, and TEM observation is performed under conditions of an acceleration voltage of 100 kV and a direct magnification of 2000 times. In a TEM photograph of a vertical cross section, the film thickness was measured at 10 locations randomly selected from the silicone rubber layer on the heat-sensitive layer in a smooth portion without an inclined region, and the average value was calculated by calculating the number average value thereof. The film thickness can be determined.

基板と感熱層間の接着性向上、光ハレーション防止、検版性向上、断熱性向上、耐刷性向上などを目的に、前述の基板の上に断熱層を有してもよい。本発明に用いられる断熱層としては、例えば特開2004−199016号公報、特開2004−334025号公報、特開2006−276385号公報などに記載された断熱層を挙げることができる。   For the purpose of improving adhesion between the substrate and the heat-sensitive layer, preventing light halation, improving plate inspection, improving heat insulation, and improving printing durability, a heat insulating layer may be provided on the substrate. As a heat insulation layer used for this invention, the heat insulation layer described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-199016, Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-334025, Unexamined-Japanese-Patent No. 2006-276385 etc. can be mentioned, for example.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、シリコーンゴム層保護の目的で保護フィルムおよび/または合紙を有してもよい。   The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention may have a protective film and / or a slip sheet for the purpose of protecting the silicone rubber layer.

保護フィルムとしては、露光光源波長の光を良好に透過する厚み100μm以下のフィルムが好ましい。代表例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、セロファンなどを挙げることができる。また、曝光による原版の感光を防止する目的で、特開平2−063050号公報に記載されたような種々の光吸収剤や光退色性物質、光発色性物質を保護フィルム上に有してもよい。   As the protective film, a film having a thickness of 100 μm or less that transmits light of an exposure light source wavelength favorably is preferable. Typical examples include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, cellophane, and the like. In addition, for the purpose of preventing exposure of the original plate due to exposure, various protective materials such as various light absorbers, photobleachable substances, and photochromic substances described in JP-A-2-063050 may be provided. Good.

合紙としては、秤量30〜120g/mのものが好ましく、より好ましくは30〜90g/mである。秤量30g/m以上であれば機械的強度が十分であり、120g/m以下であれば経済的に有利であるばかりでなく、直描型水なし平版印刷版原版と紙の積層体が薄くなり、作業性が有利になる。好ましく用いられる合紙の例として、例えば、情報記録原紙40g/m(名古屋パルプ(株)製)、金属合紙30g/m(名古屋パルプ(株)製)、未晒しクラフト紙50g/m(中越パルプ工業(株)製)、NIP用紙52g/m(中越パルプ工業(株)製)、純白ロール紙45g/m(王子製紙(株)製)、クルパック73g/m(王子製紙(株)製)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
次に、本発明の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法について説明する。本発明の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法は、基板上に、感熱層を形成する工程およびシリコーンゴム層を形成する工程を少なくとも含む。さらに他の工程を設けてもよい。例えば、感熱層を形成する工程を、(a)断熱層を有してもよい基板上に、感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布し、必要により乾燥することにより感熱層を形成する工程としてもよい。また、シリコーンゴム層を形成する工程を、(b)感熱層上に、シリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布し、必要により乾燥することによりシリコーンゴム層を形成する工程としてもよい。
The slip sheet is preferably one weighing 30 to 120 g / m 2, more preferably from 30~90g / m 2. If the weight is 30 g / m 2 or more, the mechanical strength is sufficient, and if it is 120 g / m 2 or less, not only is it economically advantageous, but a laminate of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor and paper is used. Thinning and workability are advantageous. Examples of interleaving paper preferably used include, for example, information recording base paper 40 g / m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), metal interleaving paper 30 g / m 2 (manufactured by Nagoya Pulp Co., Ltd.), unbleached kraft paper 50 g / m. 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Co., Ltd.), NIP paper 52 g / m 2 (manufactured by Chuetsu Pulp Co., Ltd.), pure white roll paper 45 g / m 2 (manufactured by Oji Paper Co., Ltd.), Kurpack 73 g / m 2 (Oji But not limited to these.
Next, a method for producing the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention will be described. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention includes at least a step of forming a heat-sensitive layer and a step of forming a silicone rubber layer on a substrate. Furthermore, another process may be provided. For example, in the step of forming a heat sensitive layer, (a) a heat sensitive layer composition or a heat sensitive layer composition solution is applied on a substrate which may have a heat insulating layer, and dried if necessary to form a heat sensitive layer. It is good also as a process. Further, the step of forming the silicone rubber layer may be a step of forming the silicone rubber layer by applying a silicone rubber layer composition or a silicone rubber layer composition solution on the heat-sensitive layer (b) and drying as necessary. Good.

(a)断熱層を有してもよい基板上に、感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布し、必要により乾燥することにより感熱層を形成する工程について説明する。   (A) The process of forming a heat sensitive layer by apply | coating a heat sensitive layer composition or a heat sensitive layer composition solution on the board | substrate which may have a heat insulation layer, and drying as needed is demonstrated.

感熱層組成物を塗布し感熱層を形成する場合、感熱層組成物は感熱層を形成する材料から構成される無溶剤の液体であり、前述の感熱層構成成分および必要に応じて他の成分を混合することにより調製できる。   When the heat-sensitive layer composition is applied to form a heat-sensitive layer, the heat-sensitive layer composition is a solvent-free liquid composed of the material forming the heat-sensitive layer, and the above-mentioned heat-sensitive layer components and other components as necessary Can be prepared by mixing.

感熱層組成物溶液は、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む溶剤と、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤を含むことが好ましく、感熱層に210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む液泡を形成することができる。 The heat-sensitive layer composition solution has a solubility parameter of 17.0 (MPa) ½ or less, a solvent containing a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C., and a solubility parameter of 17.0 (MPa). It is preferable to contain a solvent exceeding 1/2 , and a liquid bubble containing a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. can be formed in the heat-sensitive layer.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤としては、具体的には、炭素数12〜18の直鎖状、分岐状または環状の炭化水素、ノルマルパラフィングレードM(沸点:219〜247℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、ノルマルパラフィングレードH(沸点:244〜262℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、“NSクリーン”230(沸点:227℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2((株)JOMOサンエナジー製))、“アイソパー”(登録商標)M(沸点:223〜254℃、溶解度パラメーター:14.7(MPa)1/2(エッソ化学(株)製))、“IPソルベント”2028(沸点:213〜262℃、溶解度パラメーター:14.3(MPa)1/2(出光興産(株)製))、“IPクリーン”HX(沸点:222〜261℃、溶解度パラメーター:14.3(MPa)1/2(出光興産(株)製))などの脂肪族飽和炭化水素、“ナフテゾール”(登録商標)220(沸点:221〜240℃、溶解度パラメーター:16.4(MPa)1/2(新日本石油(株)製))などの脂環族炭化水素、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:212℃、溶解度パラメーター:16.0(MPa)1/2)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(沸点:256℃、溶解度パラメーター:15.8(MPa)1/2)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:216℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル(沸点:261℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2)、トリプロピレングリコールジメチルエーテル(沸点:215℃、溶解度パラメーター:15.1(MPa)1/2)などのアルキレングリコールジアルキルエーテル類などが挙げられる。これらを2種以上含んでもよい。 Specific examples of the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. include straight chain, branched or 12 to 18 carbon atoms. Cyclic hydrocarbon, normal paraffin grade M (boiling point: 219 to 247 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)), normal paraffin grade H (boiling point: 244 to 262) ° C, solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)), “NS Clean” 230 (boiling point: 227 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (( Co., Ltd.) JOMO San Energy)), "Isopar" (registered trademark) M (boiling point: 223~254 ℃, solubility parameter: 14.7 (MPa) 1/2 (Esso chemical (Co. Ltd.)), "IP Solvent" 2028 (boiling point: 213~262 ℃, solubility parameter: 14.3 (MPa) 1/2 (Idemitsu Kosan Co., Ltd.)), "IP clean" HX (boiling point: 222-261 ° C, solubility parameter: 14.3 (MPa) 1/2 (made by Idemitsu Kosan Co., Ltd.)) and other saturated aliphatic hydrocarbons, “Naphthezol” (registered trademark) 220 (boiling point: 221 to 240 ° C., solubility parameter: 16.4 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation)) and the like, diethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 212 ° C., solubility parameter: 16.0 (MPa) 1/2 ) , diethylene glycol dibutyl ether (boiling point: 256 ° C., solubility parameter: 15.8 (MPa) 1/2), triethylene glycol dimethyl Agent Le (boiling point: 216 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2), triethylene glycol butyl methyl ether (boiling point: 261 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2), tripropylene glycol Examples include alkylene glycol dialkyl ethers such as dimethyl ether (boiling point: 215 ° C., solubility parameter: 15.1 (MPa) 1/2 ). Two or more of these may be included.

また、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体を含む溶剤としては、具体的には、“ナフテゾール”200(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(新日本石油(株)製))、“ダストクリーン”300(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(松村石油(株)製))、“ダストクリーン”300AF(沸点:201〜217℃、溶解度パラメーター:16.2(MPa)1/2(松村石油(株)製))、ポリエチレングリコールジメチルエーテル(沸点:264〜294℃、溶解度パラメーター:16.6(MPa)1/2)などが挙げられる。これらを2種以上含んでもよい。 Further, as a solvent containing a liquid having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C., specifically, “naphthethol” 200 (boiling point: 201 ˜217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (manufactured by Nippon Oil Corporation), “Dust Clean” 300 (boiling point: 201-217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1 / 2 (Matsumura Oil Co., Ltd.)), “Dust Clean” 300AF (boiling point: 201-217 ° C., solubility parameter: 16.2 (MPa) 1/2 (Matsumura Oil Co., Ltd.)), polyethylene glycol dimethyl ether (Boiling point: 264 to 294 ° C., solubility parameter: 16.6 (MPa) 1/2 ) and the like. Two or more of these may be included.

感熱層組成物溶液に含まれる溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤中、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体の割合は80重量%以上が好ましく、90重量%以上がより好ましく、95重量%以上がより好ましく、100重量%がさらに好ましい。 The ratio of the liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. in the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less contained in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 80% by weight or more, and 90% by weight or more. Is more preferable, 95% by weight or more is more preferable, and 100% by weight is further preferable.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤の含有量は、初期感度および経時後感度をより向上させる観点から、感熱層固形分100重量部に対して0.1重量部以上が好ましく、1重量部以上がより好ましい。一方、感熱層組成物溶液の塗布性の観点から、感熱層固形分100重量部に対して60重量部以下が好ましく、25重量部以下がより好ましい。また、初期感度および経時後感度をより向上させる観点から、感熱層組成物溶液中0.1重量%以上が好ましく、0.5重量%以上がより好ましい。一方、感熱層組成物溶液の塗布性の観点から、感熱層組成物溶液中10重量%以下が好ましく、7重量%以下がより好ましく、5重量%以下がより好ましい。 The content of the solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is solid from the viewpoint of further improving the initial sensitivity and the sensitivity after aging. 0.1 parts by weight or more is preferable with respect to 100 parts by weight per minute, and 1 part by weight or more is more preferable. On the other hand, from the viewpoint of applicability of the heat-sensitive layer composition solution, 60 parts by weight or less is preferable with respect to 100 parts by weight of the heat-sensitive layer solid content, and 25 parts by weight or less is more preferable. Further, from the viewpoint of further improving the initial sensitivity and sensitivity after aging, the content in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 0.1% by weight or more, and more preferably 0.5% by weight or more. On the other hand, from the viewpoint of applicability of the heat-sensitive layer composition solution, it is preferably 10% by weight or less, more preferably 7% by weight or less, and more preferably 5% by weight or less in the heat-sensitive layer composition solution.

溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤としては、感熱層構成成分を溶解または分散できるものが好ましい。例えば、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類、アミド類などが挙げられる。これらを2種以上含有してもよい。 As the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , those capable of dissolving or dispersing the heat-sensitive layer constituents are preferable. For example, alcohols, ethers, ketones, esters, amides and the like can be mentioned. Two or more of these may be contained.

アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、イソブタノール、2−ブタノール、2−メチル−2−プロパノール、1−ペンタノール、2−メチル−1−ブタノール、3−メチル−1−ブタノール、2−ペンタノール、3−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、1−ヘキサノール、2−ヘキサノール、3−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、2−エチルブタノール、1−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、2,4−ジメチルペンタ−3−オール、1−オクタノール、2−オクタノール、2−エチルヘキサノール、1−ノナノール、2,6−ジメチル−4−ヘプタノール、1−デカノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、グリセリン、ベンジルアルコール、α−メチルベンジルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコールなどが挙げられる。   Examples of alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, isobutanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol, 1-pentanol, 2-methyl-1-butanol, 3 -Methyl-1-butanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-methyl-2-butanol, 1-hexanol, 2-hexanol, 3-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, 2-ethylbutanol 1-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, 2,4-dimethylpent-3-ol, 1-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 1-nonanol, 2,6-dimethyl-4-heptanol , 1-decanol, ethylene glycol, diethylene glycol , Triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, glycerin, benzyl alcohol, α-methyl Examples include benzyl alcohol, cyclopentanol, cyclohexanol, methylcyclohexanol, furfuryl alcohol, and tetrahydrofurfuryl alcohol.

エーテル類としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルフェニルエーテル、ジメトキシメタン、ジエテルアセタール、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジメチルジオキサン、トリオキサン、ジオキソラン、メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピランなどが挙げられる。   Examples of ethers include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl hexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol monobenzyl ether, ethylene glycol dimethyl ether. , Ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Cole diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol dimethyl ether, Propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dipropyl ether, propylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monopropyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether Ter, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dipropyl ether, dipropylene glycol dibutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, methyl phenyl ether, dimethoxymethane, diether acetal, propylene oxide, dioxane, dimethyl dioxane , Trioxane, dioxolane, methyldioxolane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran and the like.

ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、エチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケトン、ジブチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、メチルヘキシルケトン、エチルペンチルケトン、プロピルブチルケトン、エチルヘキシルケトン、プロピルペンチルケトン、プロピルヘキシルケトン、ブチルペンチルケトン、ブチルヘキシルケトン、ジペンチルケトン、ペンチルヘキシルケトン、ジヘキシルケトン、メチルイソブテニルケトン、ジアセトンアルコール、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルフェニルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセトニルアセトンなどが挙げられる。   Examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, diethyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl propyl ketone, ethyl butyl ketone, dipropyl ketone, dibutyl ketone, diisobutyl ketone, methyl pentyl ketone, methyl hexyl. Ketone, ethyl pentyl ketone, propyl butyl ketone, ethyl hexyl ketone, propyl pentyl ketone, propyl hexyl ketone, butyl pentyl ketone, butyl hexyl ketone, dipentyl ketone, pentyl hexyl ketone, dihexyl ketone, methyl isobutenyl ketone, diacetone alcohol, cyclohexane Pentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, methyl phenyl ketone, isophorone, acetylacetone, acetonyl Acetone and the like.

エステル類としては、例えば、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ブチル、ギ酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸フェニル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン酸ブチル、プロピオン酸ペンチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ブチル、酪酸ペンチル、クロトン酸エチル、クロトン酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸ベンジル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、乳酸ペンチル、乳酸ヘキシル、乳酸シクロヘキシル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、シュウ酸ジメチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジメチル、炭酸ジエチルなどが挙げられる。   Examples of esters include methyl formate, ethyl formate, butyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl acetate, hexyl acetate, cyclohexyl acetate, phenyl acetate, propion Methyl acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl propionate, pentyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, pentyl butyrate, ethyl crotonate, butyl crotonate, methyl benzoate, ethyl benzoate, benzyl benzoate , Methyl lactate, ethyl lactate, propyl lactate, butyl lactate, pentyl lactate, hexyl lactate, cyclohexyl lactate, methyl salicylate, ethyl salicylate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol Ethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate, methoxybutyl acetate, dimethyl oxalate, diethyl oxalate, dimethyl malonate, diethyl malonate, dimethyl maleate Diethyl maleate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, dimethyl carbonate, diethyl carbonate and the like.

アミド類としては、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどが挙げられる。   Examples of amides include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone and the like.

その他に、カルバミド酸メチル、カルバミド酸エチル、テトラメチルウレア、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、アセトニトリルなどを含有してもよい。   In addition, methyl carbamate, ethyl carbamate, tetramethyl urea, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, sulfolane, acetonitrile and the like may be contained.

上記溶剤の中でも、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体と相溶する溶剤が特に好ましい。
液泡の大きさは、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤の沸点、および感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度との間に密接な関係がある。溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤として、感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度で容易に蒸発する低沸点の溶剤を用いた場合は、低沸点の溶剤が速やかに蒸発し、隣接した液泡形成成分が集まる前に乾燥するため、小さな液泡が感熱層に形成される。一方、感熱層組成物溶液を塗布する際の雰囲気温度で容易に蒸発しない高沸点の溶剤を用いた場合は、高沸点の溶剤がゆっくりと蒸発し、隣接した液泡形成成分が集まりながら乾燥するため、大きな液泡が感熱層に形成される。
Among the above solvents, a solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and compatible with a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C. is particularly preferable.
The size of the liquid bubbles is closely related to the boiling point of the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 and the ambient temperature when the heat-sensitive layer composition solution is applied. As a solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , when a low-boiling solvent that easily evaporates at the ambient temperature when applying the heat-sensitive layer composition solution is used, the low-boiling solvent is quickly used. In order to evaporate and dry before the adjacent liquid bubble forming components gather, small liquid bubbles are formed in the heat sensitive layer. On the other hand, when a high-boiling solvent that does not easily evaporate at the ambient temperature when applying the heat-sensitive layer composition solution is used, the high-boiling solvent evaporates slowly and dries while the adjacent liquid bubble forming components gather. Large liquid bubbles are formed in the heat-sensitive layer.

上記溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤中、沸点30〜200℃の溶剤を80重量%以上含むことが好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。また、沸点80℃以下の溶剤を80重量%以上含むことがより好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。また、沸点70℃以下の溶剤を80重量%以上含むことがより好ましく、95重量%以上含むことがより好ましい。沸点30℃以上の溶剤を80重量%以上含むことにより、特別な冷却装置などを用いることなく常温での安定的な塗液調製を容易に行うことができる。また、沸点200℃以下の溶剤を80重量%以上含むことにより、後述する乾燥により、感熱層から容易に除去することができる。 In the solvent having the solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 , the solvent having a boiling point of 30 to 200 ° C. is preferably 80% by weight or more, and more preferably 95% by weight or more. Moreover, it is more preferable to contain 80 weight% or more of solvent with a boiling point of 80 degrees C or less, and it is more preferable to contain 95 weight% or more. Moreover, it is more preferable to contain 80 weight% or more of solvent with a boiling point of 70 degrees C or less, and it is more preferable to contain 95 weight% or more. By containing 80% by weight or more of a solvent having a boiling point of 30 ° C. or higher, a stable coating solution can be easily prepared at room temperature without using a special cooling device. Further, by containing 80% by weight or more of a solvent having a boiling point of 200 ° C. or less, it can be easily removed from the heat-sensitive layer by drying described later.

また、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤の沸点が活性水素を有するポリマーの熱軟化点よりも低いと、液泡の形成に有利である。 Further, when the boiling point of the solvent having a solubility parameter exceeding 17.0 (MPa) 1/2 is lower than the thermal softening point of the polymer having active hydrogen, it is advantageous for the formation of liquid bubbles.

感熱層組成物溶液は、前述の感熱層構成成分、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する溶剤、溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2を超える溶剤および必要に応じて他の成分を含有する。感熱層組成物溶液中の全固形分の濃度は、2〜50重量%が好ましい。 The heat-sensitive layer composition solution has a heat-sensitive layer constituent component and a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less, a solvent having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C., and a solubility parameter of 17.0. (MPa) Contains more than 1/2 solvent and other components as required. The concentration of the total solid content in the heat-sensitive layer composition solution is preferably 2 to 50% by weight.

上記感熱層組成物または感熱層組成物溶液を、基板上に直接塗布してもよいし、必要により断熱層などの樹脂層を有する基板上に、感熱層組成物溶液を塗布してもよい。基板は塗布面を脱脂しておくことが好ましい。   The heat-sensitive layer composition or the heat-sensitive layer composition solution may be applied directly on the substrate, or if necessary, the heat-sensitive layer composition solution may be applied on a substrate having a resin layer such as a heat insulating layer. It is preferable to degrease the coated surface of the substrate.

塗布装置の例としては、スリットダイコーター、ダイレクトグラビアコーター、オフセットグラビアコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーター、エアーナイフコーター、ロールブレードコーター、バリバーロールブレードコーター、トゥーストリームコーター、ロッドコーター、ディップコーター、カーテンコーター、スピンコーターなどが挙げられる。塗膜精度や生産性およびコストの面で、スリットダイコーター、グラビアコーター、ロールコーターが特に好ましい。   Examples of coating devices include slit die coaters, direct gravure coaters, offset gravure coaters, reverse roll coaters, natural roll coaters, air knife coaters, roll blade coaters, variver roll blade coaters, two stream coaters, rod coaters, and dip coaters. , Curtain coater, spin coater and the like. A slit die coater, a gravure coater, and a roll coater are particularly preferable in terms of coating film accuracy, productivity, and cost.

感熱層組成物溶液の塗布重量は、印刷版の耐刷性や希釈溶剤が揮散しやすく生産性で優れる点で乾燥後の重量で0.1〜10g/mの範囲が適当であり、好ましくは0.5〜7g/mの範囲である。感熱層組成物溶液の乾燥は非加熱下、または加熱下において実施される。加熱する場合には、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを用いて、30〜190℃、より好ましくは50〜150℃の温度で、30秒〜5分間乾燥することが好ましい。 The coating weight of the heat-sensitive layer composition solution is suitably in the range of 0.1 to 10 g / m 2 in terms of weight after drying in terms of printing durability of the printing plate and diluting solvent being easy to evaporate and excellent productivity. Is in the range of 0.5-7 g / m 2 . Drying of the heat-sensitive layer composition solution is performed without heating or under heating. In the case of heating, it is preferable to dry at a temperature of 30 to 190 ° C., more preferably 50 to 150 ° C. for 30 seconds to 5 minutes using a hot air dryer or an infrared dryer.

次に、(b)感熱層上にシリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布し、必要により乾燥することによりシリコーンゴム層を形成する工程について説明する。ここで、シリコーンゴム層組成物はシリコーンゴム層を形成する材料から構成される無溶剤の液体であり、シリコーンゴム層組成物と溶剤を含有する希釈液である。
有色顔料の分散や、シリコーンゴム層組成物溶液に用いられる溶剤としては、例えば、脂肪族飽和炭化水素、脂肪族不飽和炭化水素、脂環族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル類などが挙げられる。これら溶剤の溶解度パラメーターは、17.0(MPa)1/2以下が好ましく、15.5(MPa)1/2以下がより好ましい。例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、イソオクタン、“アイソパー(登録商標)”C、“アイソパー”E、“アイソパー”G、“アイソパー”H、“アイソパー”K、“アイソパー”L、“アイソパー”M(エクソン化学(株)製)などの脂肪族飽和炭化水素、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネン、デセンなどの脂肪族不飽和炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの脂環族炭化水素、トリフルオロトリクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテルなどのエーテル類などが挙げられる。これらを2種以上用いてもよい。経済性および安全性の点から、脂肪族および脂環族炭化水素が好ましい。これら脂肪族および脂環族炭化水素の炭素数は4〜20が好ましく、炭素数6〜15がより好ましい。
Next, (b) a step of forming a silicone rubber layer by applying a silicone rubber layer composition or a silicone rubber layer composition solution on the heat-sensitive layer and drying it as necessary will be described. Here, the silicone rubber layer composition is a solvent-free liquid composed of a material forming the silicone rubber layer, and is a diluent containing the silicone rubber layer composition and a solvent.
Examples of the solvent used in the dispersion of the colored pigment and the silicone rubber layer composition solution include aliphatic saturated hydrocarbons, aliphatic unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, and the like. It is done. The solubility parameter of these solvents is preferably 17.0 (MPa) 1/2 or less, and more preferably 15.5 (MPa) 1/2 or less. For example, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, isooctane, “Isopar (registered trademark)” C, “Isopar” E, “Isopar” G, “Isopar” H, “Isopar” K, “Isopar” Aliphatic saturated hydrocarbons such as L and “Isopar” M (manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.), aliphatic unsaturated hydrocarbons such as hexene, heptene, octene, nonene and decene, and fats such as cyclopentane, cyclohexane and methylcyclohexane Examples include cyclic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as trifluorotrichloroethane, and ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, and diisobutyl ether. Two or more of these may be used. From the viewpoints of economy and safety, aliphatic and alicyclic hydrocarbons are preferred. These aliphatic and alicyclic hydrocarbons preferably have 4 to 20 carbon atoms, and more preferably 6 to 15 carbon atoms.

以下に、(i)シリコーンゴム層組成物、(ii)シリコーンゴム層組成物溶液の具体的な作製方法を記載する。   Below, the specific preparation method of (i) silicone rubber layer composition and (ii) silicone rubber layer composition solution is described.

(i)シリコーンゴム層組成物(無溶剤)
例えば、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサンと、必要により有色顔料、顔料分散剤、微粒子を分散機で均一に分散混合することにより、シリコーンペーストを得る。分散機としては、三本ロール、ボールミル、ビーズミル、サンドミル、ディスパーサー、ホモジナイザー、アトライター、超音波分散機などが挙げられる。得られたシリコーンペースト中に、架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を添加し、撹拌して成分を均一とし、液中に混入した空気の泡を除去することで、シリコーンゴム層組成物を得る。脱泡は自然脱泡でも減圧脱泡でもよいが、減圧脱泡がより好ましい。
(I) Silicone rubber layer composition (solvent-free)
For example, a silicone paste is obtained by uniformly dispersing and mixing a hydroxyl or vinyl group-containing organopolysiloxane and, if necessary, a colored pigment, a pigment dispersant, and fine particles with a disperser. Examples of the disperser include three rolls, a ball mill, a bead mill, a sand mill, a disperser, a homogenizer, an attritor, and an ultrasonic disperser. In the resulting silicone paste, add a cross-linking agent, reaction catalyst, and other additives (reaction inhibitor, etc.) as necessary. Stir to homogenize the components and remove air bubbles mixed in the liquid. By removing, a silicone rubber layer composition is obtained. The defoaming may be natural defoaming or vacuum defoaming, but vacuum defoaming is more preferable.

(ii)シリコーンゴム層組成物溶液(溶剤含有)
例えば、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサンと、必要により有色顔料、顔料分散剤、微粒子を前述した分散機で均一に分散混合することにより、シリコーンペースト得て、これを撹拌しながら溶剤で希釈する。これを紙やプラスチック、またはガラスなどの一般的なフィルターを用いて濾過し、希釈液中の不純物(分散が不十分な有色顔料の巨大粒子など)を取り除くことが好ましい。濾過後の希釈液は、乾燥空気や乾燥窒素などによるバブリングにより系中の水分を除去することが好ましい。十分に水分の除去を行った希釈液に架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を添加し撹拌して成分を均一とし、液中に混入した空気の泡を除去する。脱泡は自然脱泡でも減圧脱泡でもよい。
(Ii) Silicone rubber layer composition solution (containing solvent)
For example, a silicone paste is obtained by uniformly dispersing and mixing a hydroxyl group or vinyl group-containing organopolysiloxane and, if necessary, a colored pigment, a pigment dispersant, and fine particles with the above-described disperser, and this is diluted with a solvent while stirring. . It is preferable to filter this using a general filter such as paper, plastic, or glass to remove impurities (such as giant particles of colored pigment that are not sufficiently dispersed) in the diluent. It is preferable to remove the water in the system by bubbling with dry air, dry nitrogen or the like from the diluted solution after filtration. Add the cross-linking agent, reaction catalyst, and other additives (such as reaction inhibitors) as necessary to the diluted liquid after sufficient water removal, and stir it to make the components uniform. Remove foam. Defoaming may be natural defoaming or vacuum defoaming.

また、有色顔料を含有するシリコーンゴム層組成物溶液の他の作製方法としては、有色顔料分散液とシリコーン液、またはシリコーン希釈液を予め別々に作製しておき、後に両液を混合する方法が挙げられる。有色顔料分散液は、少なくとも顔料分散剤および溶剤を含有する溶液中に、有色顔料、必要により微粒子を添加し、上述の分散機で均一に分散混合することにより得られる。一方、シリコーン液は、水酸基またはビニル基含有オルガノポリシロキサン、架橋剤、反応触媒、および必要に応じてその他の添加剤(反応抑制剤など)を混合することにより得られる。また、得られたシリコーン液を溶剤で希釈することで、シリコーン希釈液を得ることができる。
シリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布する際、感熱層表面に付着した水分を可能な限り除去することが接着性の観点から好ましい。具体的には、乾燥ガスを充填、または、連続供給することで水分を除去した空間で、シリコーンゴム層組成物またはシリコーンゴム層組成物溶液を塗布する方法が挙げられる。塗布装置は、感熱層の塗布と同様の装置が使用できる。
Further, as another method for producing a silicone rubber layer composition solution containing a colored pigment, there is a method in which a colored pigment dispersion and a silicone liquid or a silicone dilution liquid are separately prepared in advance, and then both liquids are mixed. Can be mentioned. The colored pigment dispersion is obtained by adding a colored pigment and, if necessary, fine particles to a solution containing at least a pigment dispersant and a solvent, and uniformly dispersing and mixing them with the above-described disperser. On the other hand, the silicone liquid is obtained by mixing a hydroxyl group or vinyl group-containing organopolysiloxane, a crosslinking agent, a reaction catalyst, and other additives (such as a reaction inhibitor) as necessary. Moreover, a silicone dilution liquid can be obtained by diluting the obtained silicone liquid with a solvent.
When applying the silicone rubber layer composition or the silicone rubber layer composition solution, it is preferable from the viewpoint of adhesiveness to remove moisture adhering to the surface of the heat sensitive layer as much as possible. Specifically, a method in which the silicone rubber layer composition or the silicone rubber layer composition solution is applied in a space in which moisture is removed by filling or continuously supplying a dry gas can be mentioned. As the coating device, the same device as that for coating the heat-sensitive layer can be used.

シリコーンゴム層組成物溶液を塗布する場合には、ついで、シリコーンゴム層組成物溶液を乾燥してシリコーンゴム層を形成する。乾燥や硬化のために加熱処理を行ってもよい。シリコーンゴム層組成物およびシリコーンゴム層組成物溶液は、塗布後、直ちに加熱されることが硬化性や対感熱層接着性の観点から好ましい。   When the silicone rubber layer composition solution is applied, the silicone rubber layer composition solution is then dried to form a silicone rubber layer. You may heat-process for drying and hardening. The silicone rubber layer composition and the silicone rubber layer composition solution are preferably heated immediately after application from the viewpoint of curability and heat-sensitive layer adhesion.

得られた直描型水なし平版印刷版原版上に、保護フィルムおよび/または合紙を設けて保管することが、版面保護の観点から好ましい。   On the obtained direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor, it is preferable to provide a protective film and / or slip paper for storage from the viewpoint of plate surface protection.

本発明の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法の一態様は、感熱層を形成する工程が、(1)感熱層を形成する感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む。また、他の一態様は、感熱層を形成する工程が、(2)表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布する工程を含む。また、他の一態様は、(3)感熱層の一部を変形または除去する工程を含む。これらの工程を組み合わせてもよい。これらの工程を含むことにより、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に、傾斜領域を容易に形成することができる。   In one aspect of the method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to the present invention, the step of forming the heat-sensitive layer is (1) heat-sensitive in the presence of a solid in the heat-sensitive layer composition solution for forming the heat-sensitive layer. Drying the layer composition solution. In another aspect, the step of forming the heat-sensitive layer includes (2) a step of applying a heat-sensitive layer composition or a heat-sensitive layer composition solution onto a substrate having an inclined region on the surface. Another aspect includes (3) a step of deforming or removing a part of the heat-sensitive layer. You may combine these processes. By including these steps, an inclined region can be easily formed on the surface of the heat-sensitive layer facing the silicone rubber layer.

(1)感熱層を形成する感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を説明する。固形物の占める空間により、感熱層が部分的に隆起および/または陥没し、傾斜領域が形成される。   (1) The process of drying a heat sensitive layer composition solution in presence of a solid substance in the heat sensitive layer composition solution which forms a heat sensitive layer is demonstrated. Due to the space occupied by the solid matter, the heat-sensitive layer partially bulges and / or sinks to form an inclined region.

感熱層組成物溶液中に存在させる固形物は、感熱層組成物溶液に対する溶解性が小さい材質であり、感熱層を形成する工程を通じて固形を保持可能な程度に溶解性が小さい材料であることが好ましい。固形物の材質としては、無機材料および有機材料のいずれでもよく、感熱層組成物溶液中の分散性の点から有機材料が好ましい。無機材料としては、例えば、シリカ、チタニアおよびアルミナなどが挙げられる。有機材料としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂およびそれらの共重合体などが挙げられる。一般的に無機材料は有機溶液に溶解しにくいが、未架橋の有機材料は有機溶液に溶解することがある。このため、有機材料を用いる場合には架橋構造を有する有機粒子を用いることが好ましい。また、前記有機粒子は非感光性粒子であることが好ましい。ここで、非感光性粒子とは、少なくとも露光に用いられる700〜1500nmの波長領域内の光、好ましくは750〜1100nmの波長領域内の光を一切、または、ほとんど吸収しない(粒子の光吸収に起因した、粒子自身や粒子以外の感熱層構成成分の燃焼、融解、分解、気化、爆発などの化学反応や物理変化がおこらない)粒子を指し、一般公知の700〜1500nmの波長領域内の光を吸収し、熱に変換する光熱変換粒子(カーボンブラックやその他の光熱変換能を有する顔料)とは明確に異なる。   The solid that is present in the heat-sensitive layer composition solution is a material that has low solubility in the heat-sensitive layer composition solution, and is a material that has low solubility to the extent that the solid can be retained throughout the process of forming the heat-sensitive layer. preferable. The material of the solid material may be either an inorganic material or an organic material, and an organic material is preferable from the viewpoint of dispersibility in the heat-sensitive layer composition solution. Examples of the inorganic material include silica, titania, and alumina. Examples of the organic material include an acrylic resin, a styrene resin, a silicone resin, and a copolymer thereof. In general, inorganic materials are hardly dissolved in organic solutions, but uncrosslinked organic materials may be dissolved in organic solutions. For this reason, when using an organic material, it is preferable to use organic particles having a crosslinked structure. The organic particles are preferably non-photosensitive particles. Here, the non-photosensitive particle means that at least light in a wavelength region of 700 to 1500 nm used for exposure, preferably light in a wavelength region of 750 to 1100 nm, is not absorbed at all or hardly (in terms of light absorption of particles). This refers to particles that do not undergo chemical reactions or physical changes such as combustion, melting, decomposition, vaporization, and explosion of the heat-sensitive layer components other than the particles themselves and particles), and light in a generally known wavelength range of 700 to 1500 nm. It is clearly different from photothermal conversion particles (carbon black and other pigments having photothermal conversion ability) that absorbs water and converts it into heat.

固形物の形状は、例えば、球状、半球状、レンズ状、多面体、柱体などが挙げられるが、均一性の点から球状が好ましい。球状の固形物としては、例えば、密実粒子、中空粒子、多孔質粒子、コアシェル粒子などが挙げられるが、経済性および取り扱い性の点から密実粒子が好ましい。感熱層組成物溶液中の固形物は、塗布前の感熱層組成物溶液を光学顕微鏡で観察(倍率:3000倍)することによりその形状が確認できる。   Examples of the shape of the solid material include a spherical shape, a hemispherical shape, a lens shape, a polyhedron, and a columnar body, and a spherical shape is preferable from the viewpoint of uniformity. Examples of the spherical solid material include dense particles, hollow particles, porous particles, and core-shell particles. Solid particles are preferable from the viewpoints of economy and handleability. The shape of the solid in the heat-sensitive layer composition solution can be confirmed by observing the heat-sensitive layer composition solution before coating with an optical microscope (magnification: 3000 times).

固形物の好ましい大きさは、感熱層平均膜厚によって異なるが、感熱層平均膜厚が0.1〜10μmのとき、固形物の平均粒径は0.5〜3.0μmであることが好ましい。固形物の平均粒径が0.5μm以上であれば、好適な傾斜領域が形成しやすい。また、固形物の平均粒径と感熱層平均膜厚の関係からは、固形物の平均粒径が感熱層平均膜厚の1/2倍以上が好ましく、3/4倍以上がより好ましく、1倍以上がさらにより好ましい。固形物の平均粒径が感熱層平均膜厚の1/2倍以上であれば、傾斜領域の面積や形状の変動幅が小さくなり、好適な傾斜領域が形成しやすい。ここで、固形物の平均粒径とは、固形物を真球として仮定した等体積球相当径を、複数個の粒子から算出した数平均値を指す。感熱層に含まれる固形物の平均粒径は、TEM観察により求めることができる。より詳しくは、直描型水なし平版印刷版原版から連続(超薄)切片法によって試料を作製し、加速電圧100kV、直接倍率2000倍、写真倍率13000〜17000倍の条件で感熱層のTEM観察を行う。水平断面の三次元情報に基づき、ランダムに選んだ50個の固形物についてその粒径を計測し、その数平均値を算出することにより、平均粒径を求めることができる。   The preferred size of the solid varies depending on the average thickness of the heat-sensitive layer, but when the average thickness of the heat-sensitive layer is 0.1 to 10 μm, the average particle size of the solid is preferably 0.5 to 3.0 μm. . When the average particle size of the solid is 0.5 μm or more, a suitable inclined region is easily formed. In addition, from the relationship between the average particle size of the solid and the average thickness of the heat-sensitive layer, the average particle size of the solid is preferably 1/2 times or more of the average thickness of the heat-sensitive layer, more preferably 3/4 or more. Even more than double is even more preferable. If the average particle size of the solid is ½ times or more the average thickness of the heat-sensitive layer, the area of the inclined region and the fluctuation range of the shape are reduced, and a suitable inclined region is easily formed. Here, the average particle diameter of the solid material refers to a number average value obtained by calculating an equivalent volume sphere equivalent diameter assuming that the solid material is a true sphere from a plurality of particles. The average particle size of the solid contained in the heat sensitive layer can be determined by TEM observation. More specifically, a sample is prepared from a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor by a continuous (ultra-thin) section method, and a TEM observation of the thermosensitive layer is performed under the conditions of an acceleration voltage of 100 kV, a direct magnification of 2000 times, and a photo magnification of 13,000 to 17000 times. I do. Based on the three-dimensional information of the horizontal cross section, the average particle size can be obtained by measuring the particle size of 50 randomly selected solids and calculating the number average value thereof.

例えば、(i)固形物を含有する感熱層組成物溶液を塗布し、固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する方法や、(ii)感熱層組成物溶液を塗布した後、塗布膜に固形物を投入し、固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する方法が好ましい。前記(ii)において固形物を投入する方法としては、例えば、感熱層を溶解あるいは膨潤させる溶媒に固形物を分散させた分散液を、バーコーターを用いて塗布する方法、あるいは吹き付け機(スプレーガン)を用いて表面に吹き付ける方法などが挙げられる。中でも生産性および利便性の点から、(i)固形物を含有する感熱層組成物溶液を塗布し、固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する方法がより好ましい。感熱層組成物溶液の乾燥は、非加熱下または加熱下において実施される。加熱する場合には、加熱手段としては、熱風乾燥機、赤外線乾燥機などを挙げることができる。加熱温度は30℃以上が好ましく、50℃以上がより好ましい。一方、190℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましい。乾燥時間は30秒間〜5分間が好ましい。   For example, (i) a method of applying a heat-sensitive layer composition solution containing a solid, and drying the heat-sensitive layer composition solution in the presence of a solid; or (ii) applying a heat-sensitive layer composition solution after applying the solution. A method in which a solid material is charged into the film and the heat-sensitive layer composition solution is dried in the presence of the solid material is preferable. In the method (ii), the solid material is charged by, for example, a method in which a dispersion obtained by dispersing the solid material in a solvent that dissolves or swells the heat-sensitive layer is applied using a bar coater, or a spraying machine (spray gun). ) And spraying the surface. Among these, from the viewpoint of productivity and convenience, (i) a method of applying a heat-sensitive layer composition solution containing a solid and drying the heat-sensitive layer composition solution in the presence of the solid is more preferable. Drying of the heat-sensitive layer composition solution is performed without heating or under heating. In the case of heating, examples of the heating means include a hot air dryer and an infrared dryer. The heating temperature is preferably 30 ° C. or higher, and more preferably 50 ° C. or higher. On the other hand, 190 ° C. or lower is preferable, and 150 ° C. or lower is more preferable. The drying time is preferably 30 seconds to 5 minutes.

(2)表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布する工程について説明する。傾斜領域の占める空間により、感熱層が部分的に隆起および/または陥没し、傾斜領域が形成される。ここで、基板は断熱層などの樹脂層を有してもよい。基板の表面に傾斜領域を形成する方法としては、例えば、基板上、前記(1)の(ii)に例示した固形物を分散させた分散液をバーコーターを用いて塗布する方法、あるいは吹き付け機(スプレーガン)を用いて表面に吹き付ける方法、基板表面を金属・ダイヤモンドバイトで切削する方法、基板表面にエンボス加工処理を施す方法などが挙げられる。基板が断熱層などの樹脂層を有する場合、樹脂層の熱軟化点以上に加熱されたパターン加工済み金型を基板表面にプレス転写する方法(熱インプリント法)、樹脂層組成物溶液を塗布した後、塗布膜表面にパターン加工済み金型を押し当てた状態で塗布膜を乾燥する方法により、傾斜領域を形成することもできる。これらの中でも生産性および利便性の点から、基板上に、前記(1)の(ii)に例示した固形物を分散させた分散液をバーコーターを用いて塗布する方法、あるいは吹き付け機(スプレーガン)を用いて表面に吹き付ける方法が好ましい。さらに、基板が断熱層などの樹脂層を有する場合、固形物の分散媒は、樹脂層を溶解あるいは膨潤させるものが好ましい。分散液を乾燥させることにより、樹脂層に固形物を固着させることができ、感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布する際の固形物の脱落を抑制することができる。感熱層組成物溶液を塗布する場合、前記(1)と同条件により乾燥することが好ましい。   (2) The process of applying the heat-sensitive layer composition or the heat-sensitive layer composition solution on the substrate having an inclined region on the surface will be described. Due to the space occupied by the inclined region, the heat-sensitive layer partially rises and / or sinks to form the inclined region. Here, the substrate may have a resin layer such as a heat insulating layer. As a method for forming the inclined region on the surface of the substrate, for example, a method of applying a dispersion liquid in which the solid material exemplified in (ii) of (1) above is dispersed using a bar coater, or a spraying machine. Examples thereof include a method of spraying the surface using a (spray gun), a method of cutting the substrate surface with a metal / diamond bit, and a method of embossing the substrate surface. When the substrate has a resin layer such as a heat-insulating layer, a method in which a patterned mold heated to a temperature higher than the thermal softening point of the resin layer is press-transferred onto the substrate surface (thermal imprint method), and a resin layer composition solution is applied. After that, the inclined region can also be formed by a method of drying the coating film in a state where the patterned mold is pressed against the surface of the coating film. Among these, from the viewpoint of productivity and convenience, a method of applying a dispersion liquid in which the solid material exemplified in (ii) above (1) is dispersed on a substrate using a bar coater, or a sprayer (spray) A method of spraying on the surface using a gun) is preferable. Furthermore, when the substrate has a resin layer such as a heat insulating layer, the solid dispersion medium preferably dissolves or swells the resin layer. By drying the dispersion, solids can be fixed to the resin layer, and dropping off of the solids during application of the heat-sensitive layer composition or the heat-sensitive layer composition solution can be suppressed. When applying the heat sensitive layer composition solution, it is preferably dried under the same conditions as in (1) above.

(3)感熱層の一部を変形または除去する工程について説明する。感熱層の一部を変形する方法としては、例えば、感熱層組成物溶液の塗布後、塗布膜表面にパターン加工済み金型を押し当てた状態で塗布膜を乾燥する方法、感熱層の熱軟化点以上に加熱されたパターン加工済み金型を感熱層表面にプレス転写する方法(熱インプリント法)などが挙げられる。金型のパターンとしては、例えば、ドット、ホール、ピラー、ライン&スペース、チェック、格子状が挙げられるがこれに限定されるものではない。感熱層の一部を除去する方法としては、感熱層表面を金属・ダイヤモンドバイトで切削する方法、表面に凹凸を有する金属ローラーを感熱層表面に押し当て機械的に切削する方法、感熱層表面に投射材を吹き付けて切削する方法(ショット・ブラスト法)、炭酸ガスレーザー、Nd:YAGレーザー、半導体レーザーなどのレーザーで感熱層を切削する方法などが挙げられる。中でも均一性および利便性の点から、感熱層組成物溶液の塗布後、塗布膜表面にパターン加工済み金型を押し当てた状態で塗布膜乾燥する方法が好ましい。感熱層組成物溶液を塗布する場合、前記(1)と同条件により乾燥することが好ましい。   (3) A process for deforming or removing a part of the heat-sensitive layer will be described. Examples of a method for deforming a part of the heat-sensitive layer include, for example, a method of drying a coating film while applying a patterned mold to the surface of the coating film after application of the heat-sensitive layer composition solution, and heat softening of the heat-sensitive layer. Examples thereof include a method (thermal imprint method) of press-transferring a patterned mold heated to a point or more to the surface of the heat-sensitive layer. Examples of the mold pattern include, but are not limited to, dots, holes, pillars, lines & spaces, checks, and lattice shapes. As a method for removing a part of the heat-sensitive layer, a method of cutting the surface of the heat-sensitive layer with a metal / diamond bite, a method of mechanically cutting a metal roller having irregularities on the surface against the surface of the heat-sensitive layer, Examples include a method of cutting by spraying a projecting material (shot blast method), a method of cutting a heat-sensitive layer with a laser such as a carbon dioxide laser, an Nd: YAG laser, or a semiconductor laser. Among these, from the viewpoint of uniformity and convenience, a method of drying the coating film after applying the heat-sensitive layer composition solution and pressing a patterned mold on the surface of the coating film is preferable. When applying the heat sensitive layer composition solution, it is preferably dried under the same conditions as in (1) above.

次に、本発明の直描型水なし平版印刷版原版から水なし平版印刷版を製造する方法の例について説明する。ここで、水なし平版印刷版は、画線部をインキ受容層、非画線部をインキ反発層として、画線部と非画線部とをほぼ同一平面に有し、インキ付着性の差異を利用して画線部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷するための平版印刷版である。水なし平版印刷版の製造方法は、上記本発明の直描型水なし平版印刷版原版をレーザービームにより像に従って露光する工程(露光工程)、露光した直描型水なし平版印刷版原版を水または水に界面活性剤を添加した液の存在下で摩擦し、露光部のシリコーンゴム層を除去する工程(現像工程)を含む。   Next, an example of a method for producing a waterless lithographic printing plate from the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention will be described. Here, the waterless lithographic printing plate has an image receiving portion as an ink receiving layer, a non-image portion as an ink repellent layer, and the image portion and the non-image portion are substantially in the same plane, and there is a difference in ink adhesion. Is a lithographic printing plate for transferring ink to a printing medium such as paper and printing it after ink is applied only to the image line portion using. The method for producing a waterless lithographic printing plate comprises a step of exposing the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention according to an image with a laser beam (exposure step), and exposing the exposed direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor to water. Alternatively, it includes a step (developing step) of rubbing in the presence of a liquid obtained by adding a surfactant to water to remove the silicone rubber layer in the exposed portion.

まず、露光工程について説明する。本発明の直描型水なし平版印刷版原版を、デジタルデータによって走査されるレーザービームにより、像に従って露光する。直描型水なし平版印刷版原版が保護フィルムを有する場合、保護フィルム上から露光してもよいし、保護フィルムを剥離して露光してもよい。露光工程で用いられるレーザー光源としては、発光波長領域が300nm〜1500nmの範囲にあるものが挙げられる。これらの中でも近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザーやYAGレーザーが好ましく用いられる。具体的には、明室での版材の取扱い性などの観点から、780nm、830nm、1064nmの波長のレーザー光が露光に好ましく用いられる。   First, the exposure process will be described. The direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor of the present invention is exposed according to an image by a laser beam scanned by digital data. When the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor has a protective film, it may be exposed from above the protective film, or may be exposed after peeling off the protective film. Examples of the laser light source used in the exposure step include those having an emission wavelength region in the range of 300 nm to 1500 nm. Among these, a semiconductor laser or a YAG laser having an emission wavelength region near the near infrared region is preferably used. Specifically, from the viewpoint of handling of the plate material in a bright room, laser beams having wavelengths of 780 nm, 830 nm, and 1064 nm are preferably used for exposure.

次に、現像工程について説明する。露光後の原版は、水または水に界面活性剤を添加した液(以下、現像液という)の存在下で摩擦することにより、露光部のシリコーンゴム層を除去する。摩擦処理としては、(i)例えば、現像液を含浸した不織布、脱脂綿、布、スポンジなどで版面を拭き取る方法、(ii)現像液で版面を前処理した後に水道水などをシャワーしながら回転ブラシで擦る方法、(iii)高圧の水や温水、または水蒸気を版面に噴射する方法などが挙げられる。   Next, the development process will be described. The exposed original plate is rubbed in the presence of water or a solution obtained by adding a surfactant to water (hereinafter referred to as developer) to remove the silicone rubber layer in the exposed area. As the friction treatment, (i) for example, a method of wiping the plate surface with a non-woven fabric impregnated with a developer, absorbent cotton, cloth, sponge, etc., (ii) a rotating brush while pre-treating the plate surface with a developer and showering tap water, etc. (Iii) A method of jetting high-pressure water, hot water, or water vapor onto the plate surface.

現像に先立ち、前処理液中に一定時間版を浸漬する前処理を行ってもよい。前処理液としては、例えば、水や水にアルコールやケトン、エステル、カルボン酸などの極性溶媒を添加したもの、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類などの少なくとも1種からなる溶媒に極性溶媒を添加したもの、あるいは極性溶媒が用いられる。また、上記の現像液組成には、公知の界面活性剤を添加することも自由に行われる。界面活性剤としては、安全性、廃棄する際のコストなどの点から、水溶液にしたときにpHが5〜8になるものが好ましい。界面活性剤の含有量は現像液の10重量%以下であることが好ましい。このような現像液は安全性が高く、廃棄コストなどの経済性の点でも好ましい。さらに、グリコール化合物あるいはグリコールエーテル化合物を主成分として用いることが好ましく、アミン化合物を共存させることがより好ましい。   Prior to development, a pretreatment in which a plate is immersed in a pretreatment solution for a certain time may be performed. As the pretreatment liquid, for example, water or water added with a polar solvent such as alcohol, ketone, ester or carboxylic acid, polar solvent such as aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, etc. A solvent added or a polar solvent is used. In addition, a known surfactant can be freely added to the developer composition. As the surfactant, those having a pH of 5 to 8 when made into an aqueous solution are preferable from the viewpoints of safety and cost for disposal. The content of the surfactant is preferably 10% by weight or less of the developer. Such a developer has high safety and is preferable from the viewpoint of economy such as disposal cost. Furthermore, it is preferable to use a glycol compound or glycol ether compound as a main component, and it is more preferable that an amine compound coexists.

前処理液、現像液としては、特開昭63−179361号公報、特開平4−163557号公報、特開平4−343360号公報、特開平9−34132号公報、特許第3716429号公報に記載された前処理液、現像液を用いることができる。前処理液の具体例としては、PP−1、PP−3、PP−F、PP−FII、PTS−1、PH−7N、CP−1、NP−1、DP−1(何れも東レ(株)製)などを挙げることができる。   Examples of the pretreatment liquid and the developer are described in JP-A-63-179361, JP-A-4-163557, JP-A-4-343360, JP-A-9-34132, and JP-A-3716429. Further, a pretreatment liquid and a developer can be used. Specific examples of the pretreatment liquid include PP-1, PP-3, PP-F, PP-FII, PTS-1, PH-7N, CP-1, NP-1, DP-1 (all of which are Toray Industries, Inc. ) Made).

また、画線部の視認性や網点の計測精度を高める目的から、これらの現像液にクリスタルバイオレット、ビクトリアピュアブルー、アストラゾンレッド等の染料を添加して現像と同時に画線部のインキ受容層の染色を行うこともできる。さらには、現像の後に上記の染料を添加した液によって染色することもできる。   In addition, for the purpose of improving the visibility of the image area and the measurement accuracy of the halftone dots, dyes such as crystal violet, Victoria pure blue, and Astrazone red are added to these developers to develop ink reception at the same time as the development. The layer can also be dyed. Furthermore, it can also dye | stain with the liquid which added said dye after image development.

上記現像工程の一部または全部は、自動現像機により自動的に行うこともできる。自動現像機としては現像部のみの装置、前処理部、現像部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部がこの順に設けられた装置、前処理部、現像部、後処理部、水洗部がこの順に設けられた装置などを使用できる。このような自動現像機の具体例としては、TWL−650シリーズ、TWL−860シリーズ、TWL−1160シリーズ(共に東レ(株)製)などや、特開平4−2265号公報、特開平5−2272号公報、特開平5−6000号公報などに開示されている自動現像機を挙げることができる。これらを組み合わせて使用してもよい。   Part or all of the development process can be automatically performed by an automatic developing machine. As an automatic processor, a device having only a developing unit, a preprocessing unit, a device in which a developing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit, a device in which a post-processing unit is provided in this order, a preprocessing unit, a developing unit, The apparatus etc. which were provided with the post-processing part and the water washing part in this order can be used. Specific examples of such an automatic developing machine include TWL-650 series, TWL-860 series, TWL-1160 series (both manufactured by Toray Industries, Inc.), JP-A-4-2265, and JP-A-5-2272. And an automatic developing machine disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-6000. These may be used in combination.

現像処理された水なし平版印刷版を積み重ねて保管する場合には、版面保護の目的で、版と版の間に合紙を挟んでおくことが好ましい。   When the development-processed waterless planographic printing plates are stacked and stored, it is preferable to sandwich a slip sheet between the plates for the purpose of protecting the plate surface.

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明する。各実施例・比較例における評価は次の方法で行った。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Evaluation in each Example and Comparative Example was performed by the following method.

(1)直描型水なし平版印刷版原版のTEM観察
レーザー照射前の直描型水なし平版印刷版原版から超薄切片法によって試料を作製し、透過型電子顕微鏡H−1700FA型(日立製)を使用して、加速電圧100kV、直接倍率2000倍(液泡観察のみ8000倍)で、直描型水なし平版印刷版原版の感熱層の垂直断面および水平断面をランダムに10箇所観察した。感熱層の平均膜厚、傾斜領域の平均最短距離、平均面積、勾配、並びに面積率、液泡の数と平均直径は以下に記載の方法により計測した。
(1) TEM observation of direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor A sample was prepared from the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor before laser irradiation by an ultrathin section method, and a transmission electron microscope H-1700FA type (manufactured by Hitachi) ), The vertical and horizontal cross sections of the heat-sensitive layer of the direct-drawing waterless planographic printing plate precursor were randomly observed at 10 locations at an acceleration voltage of 100 kV and a direct magnification of 2000 times (only liquid bubble observation was 8000 times). The average film thickness of the heat-sensitive layer, the average shortest distance of the inclined region, the average area, the gradient, the area ratio, the number of liquid bubbles and the average diameter were measured by the methods described below.

(1−1)感熱層の平均膜厚
上記(1)記載の方法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の垂直断面のTEM写真(直接倍率:2000倍)において、感熱層の平坦部分である非傾斜領域10個に対して膜厚を計測し、その数平均値を感熱層の平均膜厚とした。
(1-1) Average film thickness of heat-sensitive layer In the TEM photograph (direct magnification: 2000 times) of the vertical section of the direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by the method described in (1) above, the flatness of the heat-sensitive layer The film thickness was measured with respect to 10 non-inclined regions, which were the parts, and the number average value was taken as the average film thickness of the heat-sensitive layer.

(1−2)傾斜領域の平均最短距離、平均面積、勾配、並びに傾斜領域の感熱層表面に対する面積率
上記(1)記載の10箇所サンプルに対して、垂直断面および水平断面100μm(10μm四方)のTEM観察(直接倍率:2000倍)により得られた三次元情報を既存の三次元表示・解析ソフトウェアを用いて解析することで、傾斜領域の平均最短距離、平均面積、勾配、傾斜領域の感熱層表面に対する面積率を計測した。
(1-2) Average shortest distance, average area, gradient of inclined region, and area ratio of inclined region to heat-sensitive layer surface With respect to 10 samples described in (1) above, vertical and horizontal cross sections of 100 μm 2 (10 μm square) ) Of TEM observation (direct magnification: 2000 times) using the existing 3D display / analysis software to analyze the average shortest distance, average area, gradient, and slope area of the slope area. The area ratio with respect to the surface of the heat sensitive layer was measured.

(1−3)液泡の数と平均直径
上記(1)記載の方法により得られた直描型水なし平版印刷版原版の垂直断面および水平断面のTEM写真(直接倍率:8000倍)において、シリコーンゴム層との界面から深さ0.5μmまでの傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm((縦)1μm×(横)1μm×(シリコーンゴム層との界面からの深さ)0.5μm)における液泡(直径:0.01μm以上)の総数を計数した。観察領域を区画する線上にある液泡については、液泡の体積の半分以上が観察領域内にある場合は計数し、半分に満たない場合は計数しなかった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層からランダムに選んだ50個の液泡の直径を測定し、その数平均値を平均直径とした。
(2)液泡の分析
(2−1)前処理〜ガスクロマトグラフ/質量測定
1cm(1×1cmの正方形)に裁断した直描型水なし平版印刷版原版を加熱用ガラス容器に採取し、窒素ガス(流量:100ml/分)を通気しながら320℃で20分間加熱した際の発生ガスを吸着管(JTD505II用)に捕集した。この吸着管を320℃で15分間加熱し、熱脱離したガス成分をガスクロマトグラフ/質量測定法により分析した。ガラス容器を同条件で分析し、ブランクとした。
(1-3) Number of liquid bubbles and average diameter In a TEM photograph (direct magnification: 8000 times) of vertical and horizontal sections of a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor obtained by the method described in (1) above, silicone Thermally sensitive layer 0.5 μm 3 ((longitudinal) 1 μm × (horizontal) 1 μm × (depth from the interface with the silicone rubber layer) 0 from the interface with the rubber layer to a depth of 0.5 μm 0 0.5 μm), the total number of liquid bubbles (diameter: 0.01 μm or more) was counted. The liquid bubbles on the line defining the observation area were counted when more than half of the volume of the liquid bubbles was in the observation area, and were not counted when less than half. Further, the diameters of 50 liquid bubbles randomly selected from the heat-sensitive layer in the portion where no inclined region exists were measured, and the number average value thereof was defined as the average diameter.
(2) Analysis of liquid bubbles (2-1) Pretreatment to gas chromatograph / mass measurement A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor cut into 1 cm 2 (1 × 1 cm square) is collected in a heating glass container, and nitrogen is added. The generated gas when heated at 320 ° C. for 20 minutes while aeration of gas (flow rate: 100 ml / min) was collected in an adsorption tube (for JTD505II). This adsorption tube was heated at 320 ° C. for 15 minutes, and the thermally desorbed gas component was analyzed by gas chromatography / mass measurement. A glass container was analyzed under the same conditions as a blank.

(2−2)ガスクロマトグラフ/質量測定条件
熱脱着装置:JTD505II型(日本分析工業(株)製)
二次熱脱着温度:340℃、180秒
ガスクロマトグラフ装置:HP5890(Hewlett Packard社製)
カラム:DB−5(J&W社製)
30m×0.25mmID、膜厚0.5μm、US7119416H
カラム温度:40℃(4分)→340℃(昇温速度:10℃/分)
質量測定装置:JMS−SX102A質量分析計(日本電子(株)製)
イオン化方法:EI
走査範囲:m/z 10〜500(1.2秒/scan)
TIC質量範囲:m/z 29〜500。
(2-2) Gas chromatograph / mass measurement conditions Thermal desorption apparatus: JTD505II type (manufactured by Nippon Analytical Industries, Ltd.)
Secondary heat desorption temperature: 340 ° C., 180 seconds Gas chromatograph apparatus: HP5890 (manufactured by Hewlett Packard)
Column: DB-5 (manufactured by J & W)
30m × 0.25mmID, film thickness 0.5μm, US7119416H
Column temperature: 40 ° C. (4 minutes) → 340 ° C. (heating rate: 10 ° C./min)
Mass measuring device: JMS-SX102A mass spectrometer (manufactured by JEOL Ltd.)
Ionization method: EI
Scanning range: m / z 10-500 (1.2 seconds / scan)
TIC mass range: m / z 29-500.

(2−3)検量線の作製
各実施例および比較例で用いた溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤をメスフラスコに採取し、標準溶液(3375μg/ml、5095μg/ml、30265μg/ml)を調製した。これらの標準溶液から各1μlを採取し、試料と同条件で分析し、注入した溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下の溶剤の絶対量とガスクロマトグラフ/質量測定トータルイオンクロマトグラムのピーク面積の関係から検量線を作成した。
(2-3) Preparation of calibration curve A solvent having a solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less used in each example and comparative example was collected in a measuring flask, and a standard solution (3375 μg / ml, 5095 μg / ml) was collected. 30265 μg / ml). From each of these standard solutions, 1 μl was sampled and analyzed under the same conditions as the sample. The absolute amount of the solvent having an injected solubility parameter of 17.0 (MPa) 1/2 or less and a gas chromatograph / mass measurement total ion chromatogram A calibration curve was created from the relationship of peak areas.

(3)感度および火膨れ耐性の評価
(3−1)火膨れ耐性最高露光量の評価
得られた直描型水なし平版印刷版原版(1030×800mm)を、露光機“PlateRite”8800E(大日本スクリーン製造(株)製)に装着し、照射エネルギー:80mJ/cmで全面露光した。露光機から排出された全面露光版の表面を目視観察し、シリコーンゴム層の浮きの有無を評価した。シリコーンゴム層の浮きが認められなかった場合には、照射エネルギーを5mJ/cmずつ増やしてシリコーンゴム層の浮きが認められるまで同様の評価を行い、シリコーンゴム層の浮きが認められない最高の露光量を火膨れ耐性最高露光量とした。
(3) Evaluation of sensitivity and blister resistance (3-1) Evaluation of maximum blister resistance exposure The obtained direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor (1030 × 800 mm) was used as an exposure machine “PlateRite” 8800E (large The product was mounted on Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd., and was exposed at an irradiation energy of 80 mJ / cm 2 . The surface of the full exposure plate discharged from the exposure machine was visually observed to evaluate whether the silicone rubber layer was lifted. If the silicone rubber layer was not lifted, the irradiation energy was increased by 5 mJ / cm 2 and the same evaluation was performed until the silicone rubber layer was lifted. The exposure amount was defined as the maximum amount of blistering resistance.

(3−2)ベタ再現最低露光量の評価
上述の(3−1)記載の方法により得られた全面露光版を、自動現像機“TWL−1160F”(東レ(株)製)を使用し、前処理液:なし、現像液:水道水(室温)、後処理液:水道水(室温)、通版速度:80cm/分の条件で現像を行った。得られた印刷版を目視観察し、露光部全体のシリコーンゴム層が完全に剥離できた最低の露光量をベタ再現最低露光量とした。
(3-2) Evaluation of minimum reproduction amount of solid reproduction Using the automatic developing machine “TWL-1160F” (manufactured by Toray Industries, Inc.), the overall exposure plate obtained by the method described in (3-1) above, Development was performed under conditions of pretreatment liquid: none, developer: tap water (room temperature), post-treatment liquid: tap water (room temperature), and plate speed: 80 cm / min. The obtained printing plate was visually observed, and the lowest exposure amount at which the silicone rubber layer of the entire exposed portion was completely peeled was defined as the solid reproduction minimum exposure amount.

(3−3)ラチチュード
上述の方法により得られた火膨れ耐性最高露光量、およびベタ再現最低露光量から以下の式でラチチュードを算出した。
ラチチュード(mJ/cm)=火膨れ耐性最高露光量(mJ/cm)−ベタ再現最低露光量(mJ/cm)。
(3-3) Latitude The latitude was calculated by the following equation from the maximum blistering resistance exposure and the solid reproduction minimum exposure obtained by the above method.
Latitude (mJ / cm 2 ) = Blast resistance maximum exposure (mJ / cm 2 ) −Solid exposure minimum exposure (mJ / cm 2 ).

(実施例1)
感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む、以下の製造方法によって、直描型水なし平版印刷版原版を作製した。
Example 1
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced by the following production method including the step of drying the heat-sensitive layer composition solution in the presence of a solid in the heat-sensitive layer composition solution.

厚み0.24mmの脱脂したアルミ基板(三菱アルミ(株)製)上に下記の断熱層組成物溶液を塗布し、200℃で90秒間乾燥し、厚み6.0μmの断熱層を設けた。なお、断熱層組成物溶液は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。   The following heat insulating layer composition solution was applied on a 0.24 mm thick degreased aluminum substrate (Mitsubishi Aluminum Co., Ltd.) and dried at 200 ° C. for 90 seconds to provide a heat insulating layer having a thickness of 6.0 μm. In addition, the heat insulation layer composition solution was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature.

<断熱層組成物溶液>
(a)活性水素を有するポリマー:エポキシ樹脂:“エピコート”(登録商標)1010(ジャパンエポキシレジン(株)製):35重量部
(b)活性水素を有するポリマー:ポリウレタン:“サンプレン”(登録商標)LQ−T1331D(三洋化成工業(株)製、固形分濃度:20重量%):375重量部
(c)アルミキレート:“アルミキレート”ALCH−TR(川研ファインケミカル(株)製):10重量部
(d)レベリング剤:“ディスパロン”(登録商標)LC951(楠本化成(株)製、固形分:10重量%):1重量部
(e)酸化チタン:“タイペーク”(登録商標)CR−50(石原産業(株)製)のN,N−ジメチルホルムアミド分散液(酸化チタン50重量%):60重量部
(f)N,N−ジメチルホルムアミド:730重量部
(g)メチルエチルケトン:250重量部
次いで、下記の感熱層組成物溶液−1を前記断熱層上に塗布し、120℃で30秒間加熱乾燥し、感熱層を設けた。なお、感熱層組成物溶液−1は、下記成分を室温にて撹拌混合することにより得た。
<Insulation layer composition solution>
(A) Polymer having active hydrogen: Epoxy resin: “Epicoat” (registered trademark) 1010 (manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.): 35 parts by weight (b) Polymer having active hydrogen: Polyurethane: “Samprene” (registered trademark) ) LQ-T1331D (manufactured by Sanyo Chemical Industries, solid content concentration: 20% by weight): 375 parts by weight (c) Aluminum chelate: “aluminum chelate” ALCH-TR (manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.): 10 weight Part (d) Leveling agent: “Disparon” (registered trademark) LC951 (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd., solid content: 10% by weight): 1 part by weight (e) Titanium oxide: “Typaque” (registered trademark) CR-50 N, N-dimethylformamide dispersion (Ishihara Sangyo Co., Ltd.) (titanium oxide 50% by weight): 60 parts by weight (f) N, N-dimethylformamide: 30 parts by weight (g) Methyl ethyl ketone: 250 parts by weight Subsequently, by applying the heat-sensitive layer composition solution -1 below on the heat insulating layer, and dried by heating for 30 seconds at 120 ° C., was provided a heat-sensitive layer. The heat sensitive layer composition solution-1 was obtained by stirring and mixing the following components at room temperature.

<感熱層組成物溶液−1>
(a)赤外線吸収染料:“PROJET”825LDI(Avecia社製):6.6重量部
(b)有機錯化合物:チタニウム−n−ブトキシドビス(アセチルアセトネート):“ナーセム”(登録商標)チタン(日本化学産業(株)製、濃度:73重量%、溶剤としてn−ブタノール(沸点:117℃、溶解度パラメーター:23.3(MPa)1/2):27重量%を含む):7.3重量部
(c)フェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂:“スミライトレジン”(登録商標)PR50731(住友ベークライト(株)製、熱軟化点:95℃):49.5重量部
(d)ポリウレタン:“ニッポラン”(登録商標)5196(日本ポリウレタン(株)製)、濃度:30重量%、溶剤としてメチルエチルケトン(沸点:80℃、溶解度パラメーター:19.0(MPa)1/2):35重量%、シクロヘキサノン(沸点:155℃、溶解度パラメーター:20.3(MPa)1/2):35重量%を含む):13.2重量部
(e)固形物:非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”(登録商標)RSP3021(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:0.6μm、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):15.0重量部
(f)テトラヒドロフラン(沸点:66℃、溶解度パラメーター:18.6(MPa)1/2):1401.8重量部
(g)溶解度パラメーターが17.0(MPa)1/2以下であり、かつ、210〜270℃の範囲に沸点を有する液体からなる溶剤:脂肪族飽和炭化水素:“アイソパー”(登録商標)M(エッソ化学(株)製、沸点:223〜254℃、溶解度パラメーター:14.7(MPa)1/2):6.6重量部
次いで、塗布直前に調製した下記のシリコーンゴム層組成物溶液を前記感熱層上に塗布し、130℃で90秒間加熱し、平均膜厚1.8μmのシリコーンゴム層を設けることで直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<Thermosensitive layer composition solution-1>
(A) Infrared absorbing dye: “PROJET” 825LDI (Avecia): 6.6 parts by weight (b) Organic complex compound: Titanium-n-butoxide bis (acetylacetonate): “Narsem” (registered trademark) titanium ( Nippon Chemical Industry Co., Ltd., concentration: 73 wt%, n-butanol as a solvent (boiling point: 117 ° C., solubility parameter: 23.3 (MPa) 1/2 ): 27 wt% included): 7.3 wt Part (c) Phenol formaldehyde novolac resin: “Sumilite Resin” (registered trademark) PR50731 (manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd., heat softening point: 95 ° C.): 49.5 parts by weight (d) Polyurethane: “Nipporan” (registered) Trademark) 5196 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), concentration: 30% by weight, methyl ethyl ketone as a solvent (boiling point: 80 ° C., solubility buffer) Meter: 19.0 (MPa) 1/2): 35 wt%, cyclohexanone (boiling point: 155 ° C., solubility parameter: 20.3 (MPa) 1/2): containing 35% by weight): 13.2 parts by weight (E) Solid: Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” (registered trademark) RSP3021 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., average particle size: 0.6 μm, concentration: 20% by weight, dispersion medium As methyl ethyl ketone: 80% by weight): 15.0 parts by weight (f) tetrahydrofuran (boiling point: 66 ° C., solubility parameter: 18.6 (MPa) 1/2 ): 1401.8 parts by weight (g) 17.0 (MPa) equal to or less than half, and the solvent consists of a liquid having a boiling point in the range of 210 to 270 ° C.: aliphatic saturated hydrocarbon: "Isopar" (trademark ) M (Esso Chemical Co., Ltd., boiling point: 223-254 ° C., solubility parameter: 14.7 (MPa) 1/2 ): 6.6 parts by weight Next, the following silicone rubber layer composition prepared immediately before coating The solution was applied onto the heat-sensitive layer, heated at 130 ° C. for 90 seconds, and a silicone rubber layer having an average film thickness of 1.8 μm was provided to obtain a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.

<シリコーンゴム層組成物溶液>
下記(a)〜(c)をジルコニアビーズ(φ0.3mm)が充填されたビーズミル“スターミル”(登録商標)ミニツェア(アシザワ・ファインテック(株)製)で分散することで紺青分散液を得た。一方、(d)〜(h)を混合することでシリコーン希釈液を得た。紺青分散液を撹拌しながらシリコーン希釈液を加え、均一になるまでよく撹拌した。得られた液を自然脱泡した。
(a)N650紺青(大日精化(株)製):4重量部
(b)“プレンアクト”(登録商標)KR−TTS(味の素ファインテクノ(株)製):1.5重量部
(c)“アイソパー”(登録商標)G(エッソ化学(株)製):83重量部
(d)α,ω−ジビニルポリジメチルシロキサン:“DMS”V52(重量平均分子量155000、GELEST Inc.製):83重量部
(e)メチルハイドロジェンシロキサン“SH”1107(東レダウコーニング(株)製):4重量部
(f)ビニルトリス(メチルエチルケトオキシイミノ)シラン:3重量部
(g)白金触媒“SRX”212(東レダウコーニング(株)製):6重量部
(h)“アイソパー”(登録商標)E(エッソ化学(株)製):817重量部
得られた直描型水なし平版印刷版原版について、前記方法によりTEM観察を行ったところ、感熱層には平均粒径0.6μmの固形物が確認でき、固形物がない部分の感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は0.4μm、平均面積は0.2μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中70面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は3面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に42個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.34μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は160mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、20mJ/cmのラチチュードを有していた。
<Silicone rubber layer composition solution>
A bitumen dispersion was obtained by dispersing the following (a) to (c) with a bead mill “Star Mill” (registered trademark) Minizea (manufactured by Ashizawa Finetech Co., Ltd.) filled with zirconia beads (φ0.3 mm). . On the other hand, a silicone diluent was obtained by mixing (d) to (h). While stirring the bitumen dispersion, the silicone diluent was added and stirred well until uniform. The resulting liquid was naturally degassed.
(A) N650 bitumen (manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.): 4 parts by weight
(B) “Plenact” (registered trademark) KR-TTS (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.): 1.5 parts by weight (c) “Isopar” (registered trademark) G (manufactured by Esso Chemical Co., Ltd.): 83 wt. Part (d) α, ω-divinylpolydimethylsiloxane: “DMS” V52 (weight average molecular weight 155000, manufactured by GELEST Inc.): 83 parts by weight (e) Methylhydrogensiloxane “SH” 1107 (Toray Dow Corning Co., Ltd.) 4 parts by weight (f) vinyl tris (methylethylketooxyimino) silane: 3 parts by weight (g) platinum catalyst “SRX” 212 (manufactured by Toray Dow Corning): 6 parts by weight (h) “Isopar” (Registered) Trademark) E (Esso Chemical Co., Ltd.): 817 parts by weight The obtained direct-drawing waterless planographic printing plate precursor was subjected to TEM observation by the above method. , The heat-sensitive layer can be confirmed solids having an average particle size of 0.6 .mu.m, the average thickness of the heat-sensitive layer in a portion no solids was 0.5 [mu] m. The average shortest distance of the inclined region was 0.4 μm, the average area was 0.2 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 70% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 3% by area. In addition, 42 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.34 μg. there were.
Resistant highest exposure blister fire was evaluated by the method 160 mJ / cm 2, solid reproducibility minimum exposure amount was 140 mJ / cm 2, had a latitude of 20 mJ / cm 2.

(実施例2)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−2に変更したこと以外は実施例1と同様にして、感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−2>
(a)“PROJET”825LDI:6.6重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.3重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:49.5重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.2重量部
(e)固形物:非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3015(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:1.4μm、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):35.0重量部
(f)テトラヒドロフラン:1381.8重量部
(g)“アイソパー”M:6.6重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径1.4μmの固形物が確認でき、固形物がない部分の感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.3μm、平均面積は1.4μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は5面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に44個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.39μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 2)
The heat sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat sensitive layer composition solution-2 in the same manner as in Example 1 except that the heat sensitive layer composition solution-1 was present in the presence of a solid in the heat sensitive layer composition solution. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a drying step.
<Thermosensitive layer composition solution-2>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.6 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.3 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 49.5 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .2 parts by weight (e) Solid: Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Riosphere” RSP3015 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., average particle size: 1.4 μm, concentration: 20% by weight, dispersion medium As methyl ethyl ketone: 80% by weight): 35.0 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 1381.8 parts by weight (g) “Isopar” M: 6.6 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, A solid substance having an average particle size of 1.4 μm was confirmed in the heat-sensitive layer, and the average film thickness of the heat-sensitive layer where no solid substance was present was 0.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.3 μm, the average area was 1.4 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 5 area%. In addition, 44 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 in a portion where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.39 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .

(実施例3)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−3に変更したこと以外は実施例1と同様にして、感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−3>
(a)“PROJET”825LDI:6.6重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.3重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:49.5重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.2重量部
(e)固形物:非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3019(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:2.1μm、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):52.5重量部
(f)テトラヒドロフラン:1364.3重量部
(g)“アイソパー”M:6.6重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径2.1μmの固形物が確認でき、固形物がない部分の感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.8μm、平均面積は2.5μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は4面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に40個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.16μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.48μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 3)
The heat sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat sensitive layer composition solution-3 in the same manner as in Example 1 except that the heat sensitive layer composition solution was present in the presence of a solid in the heat sensitive layer composition solution. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a drying step.
<Thermosensitive layer composition solution-3>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.6 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.3 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 49.5 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .2 parts by weight (e) Solid: Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” RSP3019 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., average particle size: 2.1 μm, concentration: 20% by weight, dispersion medium (Including methyl ethyl ketone: 80% by weight): 52.5 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 1364.3 parts by weight (g) “Isopar” M: 6.6 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, A solid substance having an average particle diameter of 2.1 μm was confirmed in the heat sensitive layer, and the average film thickness of the heat sensitive layer in the portion having no solid substance was 0.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.8 μm, the average area was 2.5 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 4 area%. In addition, 40 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.16 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as a gas was 5.48 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .

(実施例4)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−4に変更したこと以外は実施例1と同様にして、感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−4>
(a)“PROJET”825LDI:6.6重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.3重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:49.5重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.2重量部
(e)固形物:非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3009(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:2.6μm、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):65.0重量部
(f)テトラヒドロフラン:1351.8重量部
(g)“アイソパー”M:6.6重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径2.6μmの固形物が確認でき、固形物がない部分の感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は2.0μm、平均面積は3.3μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は3面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に46個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.56μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(実施例5)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−5に変更したこと以外は実施例1と同様にして、感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−5>
(a)“PROJET”825LDI:13.3重量部
(b)“ナーセム”チタン:14.7重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:100.0重量部
(d)“ニッポラン”5196:26.7重量部
(e)固形物:非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3031(東洋インキ製造(株)製、平均粒径:1.7μm、濃度:20重量%、分散媒としてメチルエチルケトン:80重量%を含む):42.5重量部
(f)テトラヒドロフラン:1289.5重量部
(g)“アイソパー”M:13.3重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径1.7μmの固形物が確認でき、固形物がない部分の感熱層の平均膜厚は1.0μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.7μm、平均面積は2.2μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は5面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に40個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は10.75μgであった。
Example 4
In the same manner as in Example 1 except that the heat sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat sensitive layer composition solution-4, the heat sensitive layer composition solution was prepared in the presence of a solid in the heat sensitive layer composition solution. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a drying step.
<Thermosensitive layer composition solution-4>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.6 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.3 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 49.5 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .2 parts by weight (e) Solid: Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” RSP3009 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., average particle size: 2.6 μm, concentration: 20% by weight, dispersion medium (Including methyl ethyl ketone: 80% by weight): 65.0 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 1351.8 parts by weight (g) “Isopar” M: 6.6 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, In the heat-sensitive layer, solids having an average particle size of 2.6 μm were confirmed, and the average film thickness of the heat-sensitive layer where no solid was present was 0.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 2.0 μm, the average area was 3.3 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 3% by area. In addition, 46 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.56 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .
(Example 5)
The heat-sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat-sensitive layer composition solution-5 in the same manner as in Example 1 except that the heat-sensitive layer composition solution-1 was present in the presence of a solid in the heat-sensitive layer composition solution. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a drying step.
<Thermosensitive layer composition solution-5>
(A) "PROJET" 825LDI: 13.3 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 14.7 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 100.0 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 26 0.7 parts by weight (e) Solid: Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” RSP3031 (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., average particle size: 1.7 μm, concentration: 20% by weight, dispersion medium As follows: methyl ethyl ketone: 80% by weight): 42.5 parts by weight (f) Tetrahydrofuran: 1289.5 parts by weight (g) “Isopar” M: 13.3 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, In the heat-sensitive layer, solids having an average particle diameter of 1.7 μm were confirmed, and the average film thickness of the heat-sensitive layer where no solids were present was 1.0 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.7 μm, the average area was 2.2 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 5 area%. In addition, 40 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 in a portion where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 10.75 μg. there were.

前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は170mJ/cm、ベタ再現最低露光量は130mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。 Resistant highest exposure blister fire was evaluated by the method 170 mJ / cm 2, solid reproducibility minimum exposure amount was 130 mJ / cm 2, had a latitude of 40 mJ / cm 2.

(実施例6)
表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物溶液を塗布する工程を含む、以下の製造方法によって、直描型水なし平版印刷版原版を作製した。
断熱層を設けた後、下記固形物分散液−1をバーコーターで断熱層上に塗布し、200℃で30秒間乾燥し、基板表面に傾斜領域を形成し、その上に感熱層組成物溶液−1にかえて以下の感熱層組成物溶液−6を塗布したこと以外は実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<固形物分散液−1>
(a)非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3015:35.0重量部
(b)メチルイソブチルケトン:1381.8重量部
<感熱層組成物溶液−6>
(a)“PROJET”825LDI:6.6重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.3重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:49.5重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.2重量部
(e)テトラヒドロフラン:1381.8重量部
(f)“アイソパー”M:6.6重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径1.4μmの固形物が確認でき、感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.3μm、平均面積は1.4μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は5面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に43個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.43μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 6)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced by the following production method including a step of applying a heat-sensitive layer composition solution onto a substrate having an inclined region on the surface.
After providing the heat insulation layer, the following solid dispersion liquid-1 was applied onto the heat insulation layer with a bar coater, dried at 200 ° C. for 30 seconds to form an inclined region on the surface of the substrate, and a thermosensitive layer composition solution thereon. A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the following thermosensitive layer composition solution-6 was applied instead of -1.
<Solid Dispersion-1>
(A) Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” RSP3015: 35.0 parts by weight (b) Methyl isobutyl ketone: 1381.8 parts by weight <Thermosensitive layer composition solution-6>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.6 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.3 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 49.5 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .2 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 1381.8 parts by weight (f) “Isopar” M: 6.6 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, the heat sensitive layer had an average particle size of 1.4 μm. Solid matter was confirmed, and the average film thickness of the heat-sensitive layer was 0.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.3 μm, the average area was 1.4 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 5 area%. In addition, 43 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.43 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .

(実施例7)
固形物分散液−1を以下の固形物分散液−2に変更し、感熱層組成物溶液−6を以下の感熱層組成物溶液−7に変更したこと以外は実施例6と同様にして、表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物溶液を塗布する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<固形物分散液−2>
(a)非感光性架橋アクリル樹脂粒子分散液:“リオスフィア”RSP3009:65.0重量部
(b)メチルイソブチルケトン:1351.8重量部
<感熱層組成物溶液−7>
(a)“PROJET”825LDI:6.6重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.3重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:49.5重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.2重量部
(e)テトラヒドロフラン:1351.8重量部
(f)“アイソパー”M:6.6重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層には平均粒径2.6μmの固形物が確認でき、感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は2.0μm、平均面積は3.3μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は3面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に45個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.36μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 7)
Except that the solid dispersion-1 was changed to the following solid dispersion-2 and the heat-sensitive layer composition solution-6 was changed to the following heat-sensitive layer composition solution-7, the same as in Example 6, A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a step of applying a heat-sensitive layer composition solution onto a substrate having an inclined region on the surface.
<Solid dispersion-2>
(A) Non-photosensitive crosslinked acrylic resin particle dispersion: “Lyosphere” RSP3009: 65.0 parts by weight (b) Methyl isobutyl ketone: 1351.8 parts by weight <Thermosensitive layer composition solution-7>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.6 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.3 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 49.5 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .2 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 1351.8 parts by weight (f) “Isopar” M: 6.6 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, the heat sensitive layer had an average particle size of 2.6 μm. Solid matter was confirmed, and the average film thickness of the heat-sensitive layer was 0.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 2.0 μm, the average area was 3.3 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 3% by area. In addition, 45 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.36 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .

(実施例8)
表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物溶液を塗布する工程を含む、以下の製造方法によって、直描型水なし平版印刷版原版を作製した。
断熱層を設けた後、断熱層表面を単結晶ダイヤモンドバイト(株式会社アライドマテリアル製UPC−T、最小先端幅:0.5μm、刃先角:20度以上)で切削し、基板表面にストライプ状に傾斜領域を形成し、その上に感熱層組成物溶液−1にかえて以下の感熱層組成物溶液−8を塗布したこと以外は実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−7>
(a)“PROJET”825LDI:41.3重量部
(b)“ナーセム”チタン:45.5重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:309.6重量部
(d)“ニッポラン”5196:82.7重量部
(e)テトラヒドロフラン:979.6重量部
(f)“アイソパー”M:41.3重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層の平均膜厚は3.0μmであった。傾斜領域の平均最短距離は0.2μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中60面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は1面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に46個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.16μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.55μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は135mJ/cm、ベタ再現最低露光量は130mJ/cmであり、5mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 8)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced by the following production method including a step of applying a heat-sensitive layer composition solution onto a substrate having an inclined region on the surface.
After the heat insulation layer is provided, the surface of the heat insulation layer is cut with a single crystal diamond tool (UPC-T manufactured by Allied Material Co., Ltd., minimum tip width: 0.5 μm, edge angle: 20 ° or more), and striped on the substrate surface. Direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor in the same manner as in Example 1 except that an inclined region was formed, and the following thermal layer composition solution-8 was applied thereon instead of the thermal layer composition solution-1. Got.
<Thermosensitive layer composition solution-7>
(A) "PROJET" 825LDI: 41.3 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 45.5 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 309.6 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 82 0.7 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 979.6 parts by weight (f) “Isopar” M: 41.3 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, the average thickness of the heat-sensitive layer was 3.0 μm. there were. The average shortest distance of the inclined region was 0.2 μm, and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 60% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 1 area%. In addition, 46 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.16 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.55 μg. there were.
Resistant highest exposure blister fire was evaluated by the method 135mJ / cm 2, solid reproducibility minimum exposure amount was 130 mJ / cm 2, had a latitude of 5 mJ / cm 2.

(実施例9)
感熱層の一部を変形または除去する工程を含む、以下の製造方法によって直描型水なし平版印刷版原版を作製した。
実施例1と同様にして断熱層を設けた後、以下の感熱層組成物溶液−9を塗布し、ピラーを有するインプリント用モールド(NTT−ATナノファブリケーション(株)製NIM−PH1000、材質:石英、ピラー:高さ1μm×直径1μm、Duty比:16.67%)を塗布膜の表面に押し当てた状態で、120℃で180秒間乾燥した後、インプリント用モールドを取り外し、感熱層表面に陥没構造を形成した。次いで、実施例1と同様にしてシリコーンゴム層を設け、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−9>
(a)“PROJET”825LDI:20.7重量部
(b)“ナーセム”チタン:22.8重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:154.8重量部
(d)“ニッポラン”5196:41.4重量部
(e)メチルエチルケトン:826.4重量部
(f)メチルイソブチルケトン:413.2重量部
(g)“アイソパー”M:20.7重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層の平均膜厚は1.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.0μm、平均面積は1.6μmであり、(俯角)20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中80面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は17面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に43個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.41μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は170mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、30mJ/cmのラチチュードを有していた。
Example 9
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced by the following production method including a step of deforming or removing part of the heat-sensitive layer.
After providing a heat insulating layer in the same manner as in Example 1, the following thermal layer composition solution-9 was applied, and an imprint mold having pillars (NIM-PH1000 manufactured by NTT-AT Nanofabrication Co., Ltd., material) : Quartz, pillar: height 1 μm × diameter 1 μm, duty ratio: 16.67%), pressed against the surface of the coating film, dried at 120 ° C. for 180 seconds, then removed the imprint mold, and the heat sensitive layer A depressed structure was formed on the surface. Next, a silicone rubber layer was provided in the same manner as in Example 1 to obtain a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor.
<Thermosensitive layer composition solution-9>
(A) "PROJET" 825LDI: 20.7 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 22.8 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 154.8 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 41 .4 parts by weight (e) Methyl ethyl ketone: 826.4 parts by weight (f) Methyl isobutyl ketone: 413.2 parts by weight (g) “Isopar” M: 20.7 parts by weight Evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The average film thickness of the heat sensitive layer was 1.5 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.0 μm, the average area was 1.6 μm 2 , and the inclined region having a gradient of (angle of depression) of 20 to 80 degrees was present in 80% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 17 area%. In addition, 43 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When the liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.41 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 170 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 30 mJ / cm 2 .

(実施例10)
感熱層組成物溶液−9を以下の感熱層組成物溶液−10に変更し、ピラーを有するインプリント用モールドをホールを有するインプリント用モールド(NTT−ATナノファブリケーション(株)製NIM−PH1000、材質:石英、ホール:深さ1μm×直径1μm、Duty比:16.67%)に変更して感熱層に陥没構造にかえて隆起構造を形成したこと以外は実施例8と同様にして、感熱層の一部を変形または除去する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−10>
(a)“PROJET”825LDI:55重量部
(b)“ナーセム”チタン:60.6重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:412.8重量部
(d)“ニッポラン”5196:110.2重量部
(e)メチルエチルケトン:537.6重量部
(f)メチルイソブチルケトン:268.8重量部
(g)“アイソパー”M:55重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層の平均膜厚は3.0μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.0μm、平均面積は1.6μmであり、20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中60面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は17面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に48個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.16μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.60μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は160mJ/cm、ベタ再現最低露光量は150mJ/cmであり、10mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 10)
The heat sensitive layer composition solution-9 was changed to the following heat sensitive layer composition solution-10, and the imprint mold having pillars was changed to an imprint mold having holes (NIM-PH1000 manufactured by NTT-AT Nanofabrication Co., Ltd.). , Material: quartz, hole: depth 1 μm × diameter 1 μm, duty ratio: 16.67%), except that a raised structure was formed in the heat sensitive layer instead of the depressed structure, A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a step of deforming or removing part of the heat-sensitive layer.
<Thermosensitive layer composition solution-10>
(A) "PROJET" 825LDI: 55 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 60.6 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 412.8 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 110.2 Parts by weight (e) methyl ethyl ketone: 537.6 parts by weight (f) methyl isobutyl ketone: 268.8 parts by weight (g) “Isopar” M: 55 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, The average film thickness was 3.0 μm. The average shortest distance of the inclined region was 1.0 μm, the average area was 1.6 μm 2 , and the inclined region having a gradient of 20 to 80 degrees was present in 60% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 17 area%. In addition, 48 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where there is no inclined region, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.16 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.60 μg. there were.
Resistant highest exposure blister fire was evaluated by the method 160 mJ / cm 2, solid reproducibility minimum exposure amount was 150 mJ / cm 2, had a latitude of 10 mJ / cm 2.

(実施例11)
感熱層の一部を変形または除去する工程を含む、以下の製造方法によって直描型水なし平版印刷版原版を作製した。
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−11に変更して形成した感熱層表面を、単結晶ダイヤモンドバイト(株式会社アライドマテリアル製UPC−T、最小先端幅:0.5μm、刃先角:20度以上)で切削して感熱層にストライプ状に傾斜領域を形成したこと以外は実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−11>
(a)“PROJET”825LDI:20.7重量部
(b)“ナーセム”チタン:22.8重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:154.8重量部
(d)“ニッポラン”5196:41.4重量部
(e)テトラヒドロフラン:1239.6重量部
(f)“アイソパー”M:20.7重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層の平均膜厚は1.5μmであった。傾斜領域の平均最短距離は1.0μmであり、(俯角)20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中90面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は10面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に44個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.45μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は180mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、40mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 11)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was produced by the following production method including a step of deforming or removing part of the heat-sensitive layer.
The surface of the heat-sensitive layer formed by changing the heat-sensitive layer composition solution-1 to the following heat-sensitive layer composition solution-11, a single crystal diamond bite (UPC-T manufactured by Allied Material Co., Ltd., minimum tip width: 0.5 μm, A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the inclined region was formed in a stripe shape in the heat-sensitive layer by cutting at a cutting edge angle of 20 ° or more.
<Thermosensitive layer composition solution-11>
(A) "PROJET" 825LDI: 20.7 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 22.8 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 154.8 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 41 .4 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 1239.6 parts by weight (f) “Isopar” M: 20.7 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, the average thickness of the thermosensitive layer was 1.5 μm. there were. The average shortest distance of the inclined region was 1.0 μm, and the inclined region having a gradient of (an depression angle) of 20 to 80 degrees was 90% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 10% by area. In addition, 44 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 in a portion where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.45 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 180 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had a latitude of 40 mJ / cm 2 .

(実施例12)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−12に変更し、単結晶ダイヤモンドバイトを株式会社アライドマテリアル製UPC−Nano Groove(刃幅:5μm)に変更したこと以外は実施例10と同様にして、感熱層の一部を変形または除去する工程を含む製造方法により、直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−12>
(a)“PROJET”825LDI:41.3重量部
(b)“ナーセム”チタン:45.5重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:309.6重量部
(d)“ニッポラン”5196:82.7重量部
(e)テトラヒドロフラン:979.6重量部
(f)“アイソパー”M:41.3重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層の平均膜厚は3.0μmであった。傾斜領域の平均最短距離は5.0μmであり、(俯角)20〜80度の勾配を有する傾斜領域は全傾斜領域中60面積%以上存在していた。傾斜領域の感熱層表面に対する面積率は30面積%であった。また、傾斜領域が存在しない部分の感熱層0.5μm中に45個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.58μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は200mJ/cm、ベタ再現最低露光量は195mJ/cmであり、5mJ/cmのラチチュードを有していた。
(Example 12)
Example 10 except that the heat-sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat-sensitive layer composition solution-12 and the single crystal diamond tool was changed to UPC-Nano Groove (blade width: 5 μm) manufactured by Allied Materials Co., Ltd. In the same manner as described above, a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained by a production method including a step of deforming or removing part of the heat-sensitive layer.
<Thermosensitive layer composition solution-12>
(A) "PROJET" 825LDI: 41.3 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 45.5 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 309.6 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 82 0.7 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 979.6 parts by weight (f) “Isopar” M: 41.3 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, the average thickness of the heat-sensitive layer was 3.0 μm. there were. The average shortest distance of the inclined region was 5.0 μm, and the inclined region having a gradient of (an depression angle) of 20 to 80 degrees was present in 60% by area or more in the entire inclined region. The area ratio of the inclined region to the surface of the heat sensitive layer was 30 area%. In addition, 45 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 where no inclined region was present, and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.58 μg. there were.
Resistant highest exposure blister fire was evaluated by the method 200 mJ / cm 2, solid reproducibility minimum exposure amount is 195mJ / cm 2, it had a latitude of 5 mJ / cm 2.

(比較例1)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−13に変更したこと以外は実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−13>
(a)“PROJET”825LDI:6.9重量部
(b)“ナーセム”チタン:7.6重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:51.6重量部
(d)“ニッポラン”5196:13.8重量部
(e)テトラヒドロフラン:1413.2重量部
(g)“アイソパー”M:6.9重量部
実施例1と同様に評価を行ったところ、感熱層表面に傾斜領域は観察されなかった。感熱層の平均膜厚は0.5μmであった。また、感熱層0.5μm中に41個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.32μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は140mJ/cm、ベタ再現最低露光量は140mJ/cmであり、ラチチュードを有していなかった。
(Comparative Example 1)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heat-sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat-sensitive layer composition solution-13.
<Thermosensitive layer composition solution-13>
(A) "PROJET" 825LDI: 6.9 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 7.6 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 51.6 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 13 .8 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 1413.2 parts by weight (g) “Isopar” M: 6.9 parts by weight When evaluated in the same manner as in Example 1, no inclined region was observed on the surface of the thermosensitive layer. . The average film thickness of the heat sensitive layer was 0.5 μm. Moreover, 41 liquid bubbles were observed in the thermosensitive layer 0.5 μm 3 , and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When the liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.32 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 140 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 140 mJ / cm 2 , and had no latitude.

(比較例2)
感熱層組成物溶液−1を以下の感熱層組成物溶液−14に変更したこと以外は実施例1と同様にして直描型水なし平版印刷版原版を得た。
<感熱層組成物溶液−14>
(a)“PROJET”825LDI:20.7重量部
(b)“ナーセム”チタン:22.8重量部
(c)“スミライトレジン”PR50731:154.8重量部
(d)“ニッポラン”5196:41.4重量部
(e)テトラヒドロフラン:1239.6重量部
(g)“アイソパー”M:20.7重量部
実施例1と同様に初期評価を行ったところ、感熱層表面に傾斜領域は観察されなかった。感熱層の平均膜厚は1.5μmであった。また、感熱層0.5μm中に44個の液泡が観察され、液泡の平均直径は0.15μmであった。液泡の分析を行ったところ、“アイソパー”M由来の223〜254℃の範囲に沸点を有する液体の存在が確認され、ガスとして発生した“アイソパー”Mに由来する液体の量は5.38μgであった。
前記方法により評価した火膨れ耐性最高露光量は130mJ/cm、ベタ再現最低露光量は130mJ/cmであり、ラチチュードを有していなかった。
(Comparative Example 2)
A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor was obtained in the same manner as in Example 1 except that the heat-sensitive layer composition solution-1 was changed to the following heat-sensitive layer composition solution-14.
<Thermosensitive layer composition solution-14>
(A) "PROJET" 825LDI: 20.7 parts by weight (b) "Narsem" titanium: 22.8 parts by weight (c) "Sumilite resin" PR50731: 154.8 parts by weight (d) "Nipporan" 5196: 41 .4 parts by weight (e) Tetrahydrofuran: 1239.6 parts by weight (g) “Isopar” M: 20.7 parts by weight When an initial evaluation was performed in the same manner as in Example 1, no inclined region was observed on the surface of the thermosensitive layer. It was. The average thickness of the heat sensitive layer was 1.5 μm. Further, 44 liquid bubbles were observed in the heat-sensitive layer 0.5 μm 3 , and the average diameter of the liquid bubbles was 0.15 μm. When liquid bubbles were analyzed, the presence of a liquid having a boiling point in the range of 223 to 254 ° C. derived from “Isopar” M was confirmed, and the amount of liquid derived from “Isopar” M generated as gas was 5.38 μg. there were.
The maximum blister-proof exposure dose evaluated by the above method was 130 mJ / cm 2 , the solid reproduction minimum exposure dose was 130 mJ / cm 2 , and had no latitude.

実施例1〜12および比較例1〜2の評価結果を表1に示す。   Table 1 shows the evaluation results of Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 and 2.

Figure 2012133321
Figure 2012133321

本発明の直描型水なし平版印刷版原版は、一般的な印刷分野(商業印刷、新聞印刷、フィルムや樹脂板または金属などの非吸収体への印刷)に利用できる。また、PDPやLCDなどのディスプレイ分野、配線パターンなどの作製を印刷法で行うプリンタブルエレクトロニクス分野にも応用できる。   The direct-drawing waterless planographic printing plate precursor of the present invention can be used in general printing fields (commercial printing, newspaper printing, printing on non-absorbent materials such as films, resin plates, and metals). Further, the present invention can be applied to the display field such as PDP and LCD, and the printable electronics field in which a wiring pattern is produced by a printing method.

Claims (4)

基板上に少なくとも感熱層およびシリコーンゴム層をこの順に有する直描型水なし平版印刷版原版であって、シリコーンゴム層と向かい合う側の感熱層表面に傾斜領域を有し、かつ、前記傾斜領域の感熱層表面に対する面積率が1面積%以上であることを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版。 A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having at least a heat-sensitive layer and a silicone rubber layer in this order on a substrate, having an inclined region on the surface of the heat-sensitive layer facing the silicone rubber layer, and having the inclined region A direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor having an area ratio of 1% by area or more relative to the surface of the heat-sensitive layer. 基板上に、感熱層を形成する工程およびシリコーンゴム層を形成する工程を少なくとも含む直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、前記感熱層を形成する工程が、感熱層を形成する感熱層組成物溶液中に固形物の存在下で感熱層組成物溶液を乾燥する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a step of forming a heat-sensitive layer and a step of forming a silicone rubber layer on a substrate, wherein the step of forming the heat-sensitive layer forms the heat-sensitive layer. The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, comprising a step of drying the heat-sensitive layer composition solution in the presence of a solid in the heat-sensitive layer composition solution. 基板上に、感熱層を形成する工程およびシリコーンゴム層を形成する工程を少なくとも含む直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、前記感熱層を形成する工程が、表面に傾斜領域を有する基板上に感熱層組成物または感熱層組成物溶液を塗布する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a step of forming a heat-sensitive layer and a step of forming a silicone rubber layer on a substrate, wherein the step of forming the heat-sensitive layer comprises an inclined region on the surface The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, comprising a step of applying a heat-sensitive layer composition or a heat-sensitive layer composition solution onto a substrate having a surface. 基板上に、感熱層を形成する工程およびシリコーンゴム層を形成する工程を少なくとも含む直描型水なし平版印刷版原版の製造方法であって、さらに、感熱層の一部を変形または除去する工程を含むことを特徴とする請求項1記載の直描型水なし平版印刷版原版の製造方法。 A method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor comprising at least a step of forming a heat-sensitive layer on a substrate and a step of forming a silicone rubber layer, and further a step of deforming or removing a part of the heat-sensitive layer The method for producing a direct-drawing waterless lithographic printing plate precursor according to claim 1, comprising:
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