JP2013206512A - Semiconductor storage device - Google Patents

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和之 中村
Takahiko Saito
貴彦 齊藤
Hitoshi Okamura
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    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device capable of stably operating without reference to design sizes of respective transistors constituting a circuit and without margin design.SOLUTION: A semiconductor storage device includes: a D latch circuit 2 which has a D terminal (D), a clock terminal (φ), and a Q terminal (Q), passes the voltage of a data signal of the D terminal (D) through from a bit line when a write selection signal of the clock terminal (φ) is asserted or holds the voltage of the data signal when the write selection signal is negated, and outputs an inverted value of the passed-through/held voltage from the Q terminal (Q); and a memory cell 1 including a tristate buffer 3 connected between the Q terminal (Q) of the D latch circuit 2 and a data line (D), which outputs the inverted value of the voltage of the Q terminal (Q) to the bit line (D) when a read selection signal is asserted and generates an output in a high-impedance state when the read selection signal is negated.

Description

本発明は、SRAMに使用される半導体記憶装置に関し、特に、低電力・超微細プロセスにおいてもマージン設計が容易、あるいはマージンフリー設計が可能な半導体記憶装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor memory device used for an SRAM, and more particularly to a semiconductor memory device that can be easily designed for margin or can be margin-free designed even in a low power / ultrafine process.

従来から、SRAM(Static Random Access Memory)に使用される半導体記憶装置として、6トランジスタSRAMメモリセル(以下、「6T−SRAM」という。)が広く用いられている。図9は6T−SRAMの基本的な回路構成を表す図である。1つの6T−SRAMにつき、6個のMISFET(Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect Transistor)(M1〜M6)と2本のビット線BL,BLBと1本のワード線WLが使用される。MISFET(M1,M2)と、MISFET(M3,M4)とは、其々、CMIS(Complementary Metal-Insulator-Semiconductor)インバータ(INV1,INV2)を構成し、MISFET(M5,M6)は、ワード線(WL)により通断されるトランスミッション・ゲートを構成する。CMISインバータ(INV1,INV2)は互いにクロスカップリングされ、インバータ・ラッチ回路(フリップ・フロップ)が構成されている。そして、両CMISインバータ(INV1,INV2)の入力は、其々、トランスミッション・ゲート(M5,M6)を介して、ビット線(BL,BLB)に接続されている。   Conventionally, a 6-transistor SRAM memory cell (hereinafter referred to as “6T-SRAM”) has been widely used as a semiconductor memory device used in an SRAM (Static Random Access Memory). FIG. 9 is a diagram showing a basic circuit configuration of 6T-SRAM. For each 6T-SRAM, six MISFETs (Metal-Insulator-Semiconductor Field-Effect Transistors) (M1 to M6), two bit lines BL and BLB, and one word line WL are used. The MISFET (M1, M2) and the MISFET (M3, M4) constitute a CMIS (Complementary Metal-Insulator-Semiconductor) inverter (INV1, INV2), respectively, and the MISFET (M5, M6) is a word line ( WL) constitutes a transmission gate that is disconnected. The CMIS inverters (INV1, INV2) are cross-coupled with each other to form an inverter / latch circuit (flip-flop). The inputs of both CMIS inverters (INV1, INV2) are connected to the bit lines (BL, BLB) via transmission gates (M5, M6), respectively.

リード動作時には、ワード線(WL)をHレベルとしてトランスミッション・ゲート(M5,M6)を導通状態とすることにより、両ビット線(BL,BLB)に、インバータ・ラッチ回路にラッチされた状態値が出力される。一方、ライト動作時には、書き込み値に応じて、ビット線(BL,BLB)のうち一方をHレベル、他方をLレベルとして書き込み値を設定し、この状態でワード線(WL)をHレベルとしてトランスミッション・ゲート(M5,M6)を導通状態とする。これにより、インバータ・ラッチ回路に書き込み値が設定される。   At the time of read operation, the word line (WL) is set to the H level and the transmission gates (M5, M6) are turned on, so that the state values latched in the inverter latch circuit are set in the bit lines (BL, BLB). Is output. On the other hand, during the write operation, according to the write value, one of the bit lines (BL, BLB) is set to the H level and the other is set to the L level, and the write value is set. In this state, the word line (WL) is set to the H level. -Make the gates (M5, M6) conductive. As a result, a write value is set in the inverter / latch circuit.

しかしながら、近年では、集積回路の微細化,低電圧化に伴い、CMISインバータ及びトランスミッション・ゲートに使用されるトランジスタ(M1〜M6)の製造ばらつきの問題が顕在化してきている。図10は、CMOS素子の微細化の進展に伴う電源電圧とゲート長のばらつきの変遷を表す図である。図10のように、年々CMOS素子の低電圧化が進展してきており、それに伴ってばらつきが増大している。2010年では、ゲート長ばらつきは3σ/mean(平均(mean)に対する標準偏差(σ)の3倍値の割合)で約50%に達しており、今後さらにばらつきが増大することが容易に推測できる。このようにばらつきが増大することにより、SRAMの動作マージンが減少する。   However, in recent years, with the miniaturization of integrated circuits and the reduction in voltage, problems of manufacturing variations of transistors (M1 to M6) used for CMIS inverters and transmission gates have become apparent. FIG. 10 is a diagram showing the transition of variations in power supply voltage and gate length with the progress of miniaturization of CMOS elements. As shown in FIG. 10, the lowering of the voltage of the CMOS element has progressed year by year, and the variation has increased accordingly. In 2010, the gate length variation has reached about 50% at 3σ / mean (a ratio of three times the standard deviation (σ) to the mean), and it can be easily estimated that the variation will increase further in the future. . As the variation increases, the operation margin of the SRAM decreases.

図11は、(a)トランスミッション・ゲートのトランジスタ(M5,M6)のゲート幅に対する図9のインバータ・ラッチ回路の端子電圧(CH,CL)の関係、及び(b)6T−SRAMのリード時に於けるノイズマージンを表す図である。図11(a)において、横軸は、トランスミッション・ゲートのトランジスタ(M5,M6)のゲート幅WTNを表し、縦軸はリード/ライト時のインバータ・ラッチ回路(INV1,INV2)の端子電圧CH,CL(図9参照)を表す。点線(RD)はリード時、実線(WT)はライト時の各端子電圧である。リード時においては、ゲート幅WTNが小さく(トランスミッション・ゲートの抵抗が大きく)ても十分に読み出し可能であるが、ゲート幅WTNが大きくなるにつれてトランスミッション・ゲートの抵抗が下がり読み出し時に、インバータ・ラッチ回路の各端子からビット線(BL)へ電流が漏出するため端子電圧が低下する。そして、ゲート幅WTNがある閾値WTNRを超えると、リードの瞬間にインバータ・ラッチ回路に保持されたデータが破壊されるようになるため、メモリセルとしては成立しなくなる。一方、ライト時においては、ゲート幅WTNがあまり小さいと、トランスミッション・ゲートの抵抗が大きいため書き込みができなくなる。従って、ゲート幅WTNがある閾値WTNWより小さいと書き込みができず、メモリセルとしては成立しなくなる。従って、トランスミッション・ゲートのトランジスタ(M5,M6)のゲート幅WTNの許容範囲は、WTNW<WTN<WTNRとなる。 FIG. 11 shows (a) the relationship of the terminal voltage (CH, CL) of the inverter / latch circuit of FIG. 9 to the gate width of the transistors (M5, M6) of the transmission gate, and (b) at the time of reading the 6T-SRAM. It is a figure showing the noise margin. 11 (a), the horizontal axis represents the gate width W TN transmission gates of the transistors (M5, M6), the terminal voltage CH of ordinate inverter latch circuit during a read / write (INV1, INV2) , CL (see FIG. 9). A dotted line (RD) is a terminal voltage at the time of reading, and a solid line (WT) is a terminal voltage at the time of writing. At the time of reading, sufficient reading is possible even when the gate width WTN is small (the transmission gate resistance is large). However, as the gate width WTN increases, the resistance of the transmission gate decreases, Since current leaks from each terminal of the latch circuit to the bit line (BL), the terminal voltage decreases. When the gate width W TN exceeds a certain threshold value W TNR , the data held in the inverter / latch circuit is destroyed at the moment of reading, so that the memory cell cannot be established. On the other hand, at the time of writing, if the gate width WTN is too small, writing becomes impossible because the resistance of the transmission gate is large. Therefore, if the gate width W TN is smaller than a certain threshold value W TNW , writing cannot be performed and the memory cell cannot be established. Therefore, the allowable range of the gate width W TN of the transmission gate transistors (M5, M6) is W TNW <W TN <W TNR .

また、図11(b)は、SRAMの動作マージンの指標として用いられている静的ノイズマージン(SNM)を表す図であり、一般にバタフライカーブ(メガネ特性)と呼ばれる特性図である。図11(b)の横軸,縦軸は、其々、インバータ・ラッチ回路の端子電圧CL,CHを表している。VsがCMISインバータ(INV1,INV2)の閾値電圧である。また、図11(b)に示した2つの曲線は、其々、CMISインバータ(INV1,INV2)のリード時における電圧転送曲線(VTC)を表す。リード時におけるSNMは、図11(b)に示した正方形の対角線の長さで表される。   FIG. 11B is a diagram showing a static noise margin (SNM) used as an index of the operation margin of the SRAM, and is a characteristic diagram generally called a butterfly curve (glasses characteristics). The horizontal and vertical axes in FIG. 11B represent the terminal voltages CL and CH of the inverter / latch circuit, respectively. Vs is the threshold voltage of the CMIS inverter (INV1, INV2). Also, the two curves shown in FIG. 11B represent voltage transfer curves (VTC) when the CMIS inverters (INV1, INV2) are read. The SNM at the time of reading is expressed by the length of the diagonal line of the square shown in FIG.

上述したように、実際のLSIの製造プロセスでは、ゲート長のばらつきや、不純物のゆらぎ等により、メモリセルを構成する各トランジスタの性能ばらつきが大きいため、上述したトランジスタ(M5,M6)の設計においては、ゲート幅WTNの最適値に対して、さらにばらつきを考慮したマージン設計が必要となる。現在のところ、このマージン設計においては、多くの場合、各トランジスタのばらつき幅を20〜50%程度として設計が行われている。しかしながら、SRAM全体では、このようなメモリセルが何百万個も実装されているため、個々のメモリセルのばらつきのマージンが重畳することとなる。そのため、近い将来には、全体的に1/10〜10倍の範囲のマージンを見込んだ設計が必要とされることになる。 As described above, in the actual LSI manufacturing process, the performance variation of each transistor constituting the memory cell is large due to variations in gate length, fluctuations in impurities, and the like. Therefore, in designing the transistors (M5 and M6) described above. Therefore, it is necessary to design a margin in consideration of variations with respect to the optimum value of the gate width WTN . At present, in this margin design, in many cases, the design is performed with the variation width of each transistor being about 20 to 50%. However, since there are millions of such memory cells mounted in the entire SRAM, a margin of variation of individual memory cells is overlapped. Therefore, in the near future, a design that expects a margin in the range of 1/10 to 10 times as a whole will be required.

従って、このままメモリセルの微細化・低電圧化が進み、トランジスタ性能のばらつきがさらに増大すると、現在のマージン設計では破綻することが明らかである。そこで、トランジスタ性能のばらつきに影響されないマージンフリー設計が可能なSRAMメモリセル(半導体記憶装置)が必要とされている。   Therefore, it is clear that the current margin design will fail if the memory cell is further miniaturized and the voltage is lowered and the variation in transistor performance further increases. Therefore, there is a need for an SRAM memory cell (semiconductor memory device) capable of a margin-free design that is not affected by variations in transistor performance.

かかる半導体記憶装置に関するものとしては、特許文献1,2に記載のものが公知である。図12は、特許文献1に記載のSRAMメモリセルの回路図である。このメモリセルでは、ビット線として、書き込み専用のビット線(WBL,WBLB)と読み出し専用のビット線(RBL,RBLB)とを設けるとともに、各CMISインバータ(INV1,INV2)に対し、書込専用ビット線(WBL,WBLB)に対するトランスミッション・ゲート(WT1,WT2)と、読出専用ビット線(RBL,RBLB)に対するトランスミッション・ゲート(RT1,RT2)とを設けた構成とされている。尚、図12において、カラム選択線(CSL)は、データを書き込むセルのカラムを選択する線である。また、カラム選択用トランジスタ(CT1,CT2)は、カラム選択線(CSL)の電圧値によって通断される、カラム選択用のトランスミッション・ゲートである。   As the semiconductor memory device, those described in Patent Documents 1 and 2 are known. FIG. 12 is a circuit diagram of the SRAM memory cell described in Patent Document 1. In FIG. In this memory cell, a write-only bit line (WBL, WBLB) and a read-only bit line (RBL, RBLB) are provided as bit lines, and a write-only bit is provided to each CMIS inverter (INV1, INV2). Transmission gates (WT1, WT2) for lines (WBL, WBLB) and transmission gates (RT1, RT2) for read-only bit lines (RBL, RBLB) are provided. In FIG. 12, a column selection line (CSL) is a line for selecting a column of a cell to which data is written. The column selection transistors (CT1, CT2) are column selection transmission gates that are disconnected by the voltage value of the column selection line (CSL).

このように、読み出し専用のトランスミッション・ゲート(RT1,RT2)と、書き込み専用のトランスミッション・ゲート(WT1,WT2)とを独立して設けることによって、書き込み時のトランスミッション・ゲートのゲート幅と、読み出し時のトランスミッション・ゲートのゲート幅を独立に設計することが可能となる。従って、図11において、書込用トランスミッション・ゲート(WT1,WT2)のゲート幅はWTNW以上であればよく、読出用トランスミッション・ゲート(RT1,RT2)のゲート幅はWTNR以下であればよいため、許容ゲート幅の制約が緩やかとなり、許容閾値WTNW,WTNRに対して十分余裕をもったゲート幅に設計すれば各トランスミッション・ゲートの性能ばらつきに対する設計マージンを大きくすることが可能である。 Thus, by providing the read-only transmission gate (RT1, RT2) and the write-only transmission gate (WT1, WT2) independently, the gate width of the transmission gate at the time of writing, and at the time of reading It becomes possible to design the gate width of the transmission gate independently. Therefore, in FIG. 11, the gate width of the write transmission gates (WT1, WT2) may be equal to or greater than W TNW , and the gate width of the read transmission gates (RT1, RT2) may be equal to or less than WTNR. Therefore, the restriction on the allowable gate width becomes loose, and if the gate width is designed with a sufficient margin with respect to the allowable threshold values W TNW and W TNR , it is possible to increase the design margin for the performance variation of each transmission gate. .

尚、図12において、カラム選択用トランジスタ(CT1,CT2)により書き込みを行うメモリセルのカラムを選択するようにしているが、これは、書き込み時において、書き込みを行おうとするカラム以外のカラムのメモリセルが書き換えられることを防止するためである。   In FIG. 12, the column of the memory cell to which writing is performed is selected by the column selection transistors (CT1, CT2). This is because the memory of the column other than the column to which writing is performed at the time of writing. This is to prevent the cell from being rewritten.

また、図13は、特許文献2に記載のSRAMメモリセルの回路図である。図13の回路においても、書き込み専用のビット線(BLW,BLWB)と読み出し専用のビット線(BLR)とを設けるとともに、各CMISインバータ(INV1,INV2)に対し、書込専用ビット線(BLW,BLWB)に対するトランスミッション・ゲート(WT1,WT2)と、読出専用ビット線(BLR)に対するトランスミッション・ゲート(RT1)及び読出トランジスタ(RT2)とを設けた構成とされている。この回路では、書き込み側は図12の回路と同様であるが、読み出し側は、インバータ・ラッチ回路の出力を直接読み出し専用のビット線(BLR)に接続するのではなく、高インピーダンスの読出トランジスタ(RT2)のゲートにより受けてから、トランスミッション・ゲート(RT1)を介して読み出し専用のビット線(BLR)に接続する構成とされている。これにより、図12の回路と同様、読み出し専用のトランスミッション・ゲート(RT1)及び読出トランジスタ(RT2)と、書き込み専用のトランスミッション・ゲート(WT1,WT2)とを独立して設けることで、書き込み時のトランスミッション・ゲートのゲート幅と、読み出し時のトランスミッション・ゲートのゲート幅を独立に設計することが可能となる。また、読み出し時には高インピーダンスの読出トランジスタ(RT2)のゲートを介してラッチされた値を出力するため、読み出し時にインバータ・ラッチ回路が保持する状態値が破壊される恐れがなくなる。   FIG. 13 is a circuit diagram of the SRAM memory cell described in Patent Document 2. In the circuit of FIG. 13 as well, write-only bit lines (BLW, BLWB) and read-only bit lines (BLR) are provided, and write-only bit lines (BLW, BLV) are provided to the CMIS inverters (INV1, INV2). The transmission gate (WT1, WT2) for BLWB) and the transmission gate (RT1) and read transistor (RT2) for the read-only bit line (BLR) are provided. In this circuit, the write side is the same as the circuit of FIG. 12, but the read side does not directly connect the output of the inverter / latch circuit to the read-only bit line (BLR), but a high-impedance read transistor ( RT2) is connected to a read-only bit line (BLR) via a transmission gate (RT1). Thus, like the circuit of FIG. 12, the read-only transmission gate (RT1) and read transistor (RT2) and the write-only transmission gates (WT1, WT2) are provided independently, so that The gate width of the transmission gate and the gate width of the transmission gate at the time of reading can be designed independently. Further, since the latched value is output through the gate of the high impedance read transistor (RT2) at the time of reading, there is no possibility that the state value held by the inverter / latch circuit at the time of reading is destroyed.

特開2010−277634号公報JP 2010-277634 A WO2008/32549号公報WO2008 / 32549

武石義幸,原央監修,「超LSI入門シリーズ5 MOS集積回路の基礎」,初版,近代科学社,1992年5月,p.65.Yoshiyuki Takeishi, supervised by Hiroshi Hara, “Introduction to VLSI Series 5 Basics of MOS Integrated Circuits”, First Edition, Modern Science, May 1992, p. 65. 道関隆国,武藤伸一郎,「微細CMOSメモリセルのスタティックノイズマージン解析」,電子情報通信学会論文誌,社団法人電子情報通信学会,1992年7月,C-II, Vol. J75-C-II, No.7, pp. 350-361.Takakuni Doseki, Shinichiro Muto, “Static noise margin analysis of fine CMOS memory cells”, IEICE Transactions, Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, July 1992, C-II, Vol. J75-C-II, No. 7, pp. 350-361.

しかしながら、上記従来の半導体記憶装置では、ラッチ・インバータで構成される記憶保持部のデータを反転させる場合や、ラッチ・インバータ保持データを読み出す場合の、両方の場合あるいは片方の場合において、メモリセルを構成する全てのトランジスタ、またはその一部のトランジスタにおいて、そのゲートサイズ(ゲート幅/ゲート長)の選択の範囲に設計上の制約、いわゆるレシオ設計が必要であり、各トランジスタの性能ばらつきを考慮した上で、安定的に動作させるためには、さらに設計マージンの確保が必要であり、今後のトランジスタの性能ばらつきの増大においては、いずれ破綻をきたす恐れがあるという課題があった。   However, in the conventional semiconductor memory device described above, the memory cell is used in both cases or one of the cases of inverting the data in the memory holding unit constituted by the latch / inverter and reading the data held in the latch / inverter. In all the transistors to be configured, or a part of the transistors, design restrictions, so-called ratio design, are necessary in the selection range of the gate size (gate width / gate length), and the performance variation of each transistor is considered. On the other hand, in order to operate stably, it is necessary to secure a design margin, and there has been a problem that there is a risk of failure in the future in the increase in performance variation of transistors.

そこで本発明の目的は、回路を構成する各トランジスタの設計サイズ(ゲート幅/ゲート長)によらず、また各トランジスタ間の複合的なマージン設計を行うことなしに、安定な動作が可能な半導体記憶装置を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is a semiconductor capable of stable operation without depending on the design size (gate width / gate length) of each transistor constituting the circuit and without performing a composite margin design between the transistors. To provide a storage device.

本発明に係る半導体記憶装置は、リードワード線及びライトワード線の対からなるワード線ペアと、
前記ワード線ペアに交差するビット線と、
前記ワード線ペアと前記ビット線の交点に対応して設けられたメモリセルと、を備え、
前記メモリセルは、
D端子、クロック端子、及びQ端子を有し、前記D端子,前記クロック端子が其々前記ビット線,前記ライトワード線に接続され、前記ライトワード線から前記クロック端子に入力されるライト選択信号がアサートされると前記ビット線から前記D端子に入力されるデータ信号の論理レベル電圧をスルーし、前記ライト選択信号がネゲートされると前記データ信号の論理レベル電圧をホールドし、スルー又はホールドされる論理レベル電圧又はその反転値電圧を前記Q端子から出力するDラッチ回路と、
入力端子、制御端子、及び出力端子を有し、前記入力端子が前記Dラッチ回路の前記Q端子に接続され、前記制御端子が前記リードワード線に接続され、前記出力端子が前記ビット線に接続されており、前記リードワード線から前記制御端子に入力されるリード選択信号の論理レベル電圧がアサートされると、前記入力端子の論理レベル又はその反転値を前記出力端子から前記ビット線へ出力し、前記リード選択信号の論理レベル電圧がネゲートされると、出力状態が高インピーダンス状態となるスリーステート・バッファと、を備えたことを特徴とする。
A semiconductor memory device according to the present invention includes a word line pair consisting of a pair of a read word line and a write word line,
A bit line crossing the word line pair;
A memory cell provided corresponding to an intersection of the word line pair and the bit line,
The memory cell is
A write selection signal having a D terminal, a clock terminal, and a Q terminal, wherein the D terminal and the clock terminal are connected to the bit line and the write word line, respectively, and input from the write word line to the clock terminal Is asserted, the logic level voltage of the data signal input from the bit line to the D terminal is passed through. When the write selection signal is negated, the logic level voltage of the data signal is held, and is passed through or held. A D latch circuit that outputs a logic level voltage or an inverted voltage thereof from the Q terminal;
An input terminal, a control terminal, and an output terminal; the input terminal is connected to the Q terminal of the D latch circuit; the control terminal is connected to the read word line; and the output terminal is connected to the bit line When the logic level voltage of the read selection signal input from the read word line to the control terminal is asserted, the logic level of the input terminal or its inverted value is output from the output terminal to the bit line. And a three-state buffer whose output state becomes a high impedance state when the logic level voltage of the read selection signal is negated.

この構成によれば、ビット線から入力されるデータを保持する各メモリセルを、Dラッチ回路及びスリーステート・バッファを用いて構成することにより、メモリセルへのデータの書き込み及びメモリセルからのデータの読み出しの両方に於いて、メモリセルの動作がすべてデジタル動作となり、基本的にその動作の可否は、メモリセルを構成する各トランジスタの設計値(ゲート幅/ゲート長)には依存しなくなる。従って、其々のトランジスタごとに独立してマージン設計を行えば済むことになり、各トランジスタ間の複合的なマージン設計の必要がなくなる。   According to this configuration, each memory cell that holds data input from the bit line is configured using the D latch circuit and the three-state buffer, thereby writing data into the memory cell and data from the memory cell. In both read operations, the operation of the memory cell is a digital operation. Basically, whether or not the operation is possible does not depend on the design value (gate width / gate length) of each transistor constituting the memory cell. Therefore, it is only necessary to design a margin independently for each transistor, and there is no need for a complex margin design between the transistors.

ここで、「アサート(assert)」とは、信号及び論理が有効になることをいう(即ち、Hアクティブの信号をアサートすると、ディジタルHレベルになる。Lアクティブの信号をアサートすると、ディジタルLレベルになる)。「ネゲート(negate)」とは、信号及び論理が無効になることをいう(即ち、Hアクティブの信号をネゲートすると、ディジタルLレベルになる。Lアクティブの信号をネゲートすると、ディジタルHレベルになる)。「論理レベル電圧をスルー」するとは、データ入力端子に入力された論理レベル電圧をデータ出力端子にそのまま通過させることをいう。   Here, “assert” means that a signal and logic become effective (that is, when an H active signal is asserted, the signal becomes a digital H level. When an L active signal is asserted, the digital L level is asserted. become). “Negate” means that the signal and logic are invalidated (ie, negating an H active signal goes to a digital L level; negating an L active signal goes to a digital H level) . “Through the logic level voltage” means that the logic level voltage input to the data input terminal passes through the data output terminal as it is.

また、本発明に於いて、前記Dラッチ回路は、前記D端子と前記Q端子の間に設けられ、互いに入力端子と出力端子とがループ状に接続された第1のインバータ及び第2のインバータを含むインバータ・ループと、前記インバータ・ループに挿入されたトランスファ・ゲートであるループゲート回路と、前記D端子と前記インバータ・ループとの間に挿入されたトランスファ・ゲートである入力ゲート回路と、を備え、
前記ループゲート回路は、其の制御端子が前記ライトワード線に接続され、前記ライト選択信号がネゲートされると導通状態、アサートされると非導通状態となり、
前記入力ゲート回路は、其の制御端子が前記ライトワード線に接続され、前記ライト選択信号がアサートされると導通状態、ネゲートされると非導通状態となるように構成することができる。
In the present invention, the D latch circuit is provided between the D terminal and the Q terminal, and the first inverter and the second inverter in which the input terminal and the output terminal are connected in a loop. An inverter loop including: a loop gate circuit that is a transfer gate inserted into the inverter loop; and an input gate circuit that is a transfer gate inserted between the D terminal and the inverter loop; With
The loop gate circuit has its control terminal connected to the write word line, and becomes conductive when the write selection signal is negated, and non-conductive when asserted.
The input gate circuit may be configured such that its control terminal is connected to the write word line and is rendered conductive when the write selection signal is asserted and non-conductive when negated.

また、本発明に於いて、前記スリーステート・バッファは、
前記入力端子から入力される前記Dラッチ回路の出力電圧を高インピーダンスで受ける高インピーダンス入力回路と、
前記高インピーダンス入力回路の出力端子と前記ビット線との間に接続され、前記制御端子から入力される前記リード選択信号がアサートされると導通状態、ネゲートされると非導通状態となるよう通断を行う出力ゲート回路と、を備えた構成とすることができる。
In the present invention, the three-state buffer is
A high impedance input circuit receiving the output voltage of the D latch circuit input from the input terminal with high impedance;
Connected between the output terminal of the high-impedance input circuit and the bit line, and disconnected so as to be conductive when the read selection signal input from the control terminal is asserted and non-conductive when negated. And an output gate circuit for performing the above.

また、本発明に於いて、前記高インピーダンス入力回路は、CMISインバータ又はソース接地された片チャネルMISFETとすることができる。   In the present invention, the high impedance input circuit may be a CMIS inverter or a single-channel MISFET whose source is grounded.

また、本発明に於いて、複数の前記ワード線ペアと複数の前記ビット線とが格子状に配設され、両者の各交点に対応して前記メモリセルが設けられており、
読出データの論理レベル電圧を外部へ出力するための外部データ出力端子と、
書込データの論理レベル電圧を外部から入力するための外部データ入力端子と、
データの書込又は読み出しを行うメモリセルに接続する前記ビット線の列を選択する列アドレス信号を外部から入力するための列アドレス入力端子と、
ラッチ制御信号を外部から入力するためのラッチ端子と、
前記各ビット線、前記外部データ出力端子、前記外部データ入力端子、前記列アドレス入力端子及び前記ラッチ端子に接続され、前記列アドレス入力端子に入力される前記列アドレス信号に従って、前記外部データ入力端子及び前記外部データ出力端子を前記各ビット線の何れか一つに接続する列選択回路と、を備え、
前記列選択回路は、出力セレクタと、前記各ビット線の其々に対して設けられた複数のデータホールド回路及び複数の書込用セレクタと、を備え、
前記出力セレクタは、複数の入力端子、1つの出力端子及び選択制御端子を有し、前記各入力端子が前記各ビット線に其々接続され、前記出力端子が前記外部データ出力端子に接続され、前記選択制御端子が前記列アドレス入力端子に接続されており、前記列アドレス入力端子から入力される前記列アドレス信号に従って、前記各ビット線の何れか一つを前記外部データ出力端子に接続するマルチプレクサであり、
前記各データホールド回路は、D端子、クロック端子、及びQ端子を有し、前記D端子が対応する前記ビット線に接続され、前記クロック端子が前記ラッチ端子に接続されており、前記ラッチ端子から入力される前記ラッチ制御信号に従って、対応する前記ビット線の論理レベル電圧をラッチして前記Q端子に出力するDラッチ回路であり、
前記各書込用セレクタは、2つの入力端子、1つの出力端子及び選択制御端子を有し、前記各入力端子が前記外部データ入力端子及び対応する前記データホールド回路のQ端子に其々接続され、前記出力端子が対応する前記ビット線に接続され、前記選択制御端子が前記列アドレス入力端子に接続されており、前記列アドレス信号により対応する前記ビット線が選択された場合、該ビット線に前記外部データ入力端子を接続し、それ以外の場合、該ビット線に対応する前記データホールド回路のQ端子を接続するマルチプレクサである構成とすることができる。
Further, in the present invention, a plurality of the word line pairs and a plurality of the bit lines are arranged in a lattice shape, and the memory cells are provided corresponding to the respective intersections of the two,
An external data output terminal for outputting the logic level voltage of the read data to the outside;
An external data input terminal for inputting the logic level voltage of the write data from the outside;
A column address input terminal for externally inputting a column address signal for selecting a column of the bit line connected to a memory cell for writing or reading data;
A latch terminal for inputting a latch control signal from the outside;
The external data input terminal is connected to each bit line, the external data output terminal, the external data input terminal, the column address input terminal, and the latch terminal, and according to the column address signal input to the column address input terminal. And a column selection circuit for connecting the external data output terminal to any one of the bit lines,
The column selection circuit includes an output selector, a plurality of data hold circuits and a plurality of write selectors provided for each of the bit lines,
The output selector has a plurality of input terminals, one output terminal, and a selection control terminal, each input terminal is connected to each bit line, and the output terminal is connected to the external data output terminal, A multiplexer that connects the selection control terminal to the column address input terminal and connects any one of the bit lines to the external data output terminal in accordance with the column address signal input from the column address input terminal And
Each data hold circuit has a D terminal, a clock terminal, and a Q terminal, the D terminal is connected to the corresponding bit line, the clock terminal is connected to the latch terminal, A D latch circuit that latches a logic level voltage of the corresponding bit line in accordance with the input latch control signal and outputs the latched voltage to the Q terminal;
Each of the write selectors has two input terminals, one output terminal, and a selection control terminal, and each of the input terminals is connected to the external data input terminal and the corresponding Q terminal of the data hold circuit. When the output terminal is connected to the corresponding bit line, the selection control terminal is connected to the column address input terminal, and the corresponding bit line is selected by the column address signal, The external data input terminal is connected, and in other cases, the multiplexer can be connected to the Q terminal of the data hold circuit corresponding to the bit line.

この構成によれば、以下のようにして、各メモリセルに対するリード/ライト動作を行うことが可能となる。   According to this configuration, it is possible to perform a read / write operation on each memory cell as follows.

(1)リード動作時は、先ず列アドレス入力端子に、データの読み出しを行うメモリセル(以下「リード対象メモリセル」という。)に接続するビット線(以下「リード列のビット線」という。)の列を選択する列アドレス信号を入力する。これにより、出力セレクタは、リード列のビット線を外部データ出力端子に接続する。次に、リード対象メモリセルに接続するリードワード線(以下「リード行のリードワード線」という。)のリード選択信号をアサートする。これにより、リード行のリードワード線に接続する総てのメモリセル(以下「リード行のメモリセル」)のスリーステート・バッファが導通状態となり、各リード行のメモリセルのDラッチ回路に保持(ホールド)されている論理レベル電圧が、該メモリセルに接続するビット線に出力される。このとき、外部データ出力端子にはリード列のビット線が接続されているため、外部データ出力端子にはリード対象メモリセルのDラッチ回路に保持(ホールド)されている論理レベル電圧が出力される。これにより、リード対象メモリセルからのデータの読み出しが可能となる。   (1) During a read operation, first, a bit line connected to a memory cell from which data is read (hereinafter referred to as “read target memory cell”) is connected to a column address input terminal (hereinafter referred to as “bit line of read column”). A column address signal for selecting a column is input. As a result, the output selector connects the bit line of the read column to the external data output terminal. Next, a read selection signal of a read word line connected to the read target memory cell (hereinafter referred to as “read word line of read row”) is asserted. As a result, the three-state buffers of all the memory cells connected to the read word line of the read row (hereinafter referred to as “memory cells of the read row”) become conductive, and are held in the D latch circuit of the memory cells of each read row ( The held logic level voltage is output to the bit line connected to the memory cell. At this time, since the bit line of the read column is connected to the external data output terminal, the logic level voltage held in the D latch circuit of the memory cell to be read is output to the external data output terminal. . As a result, data can be read from the read target memory cell.

(2)一方、ライト動作時は、先ず書き込みを行うメモリセル(以下「ライト対象メモリセル」という。)に接続するリードワード線(以下「ライト行のリードワード線」という。)のリード選択信号をアサートする。これにより、ライト行のリードワード線に接続する総てのメモリセル(以下「ライト行のメモリセル」)のスリーステート・バッファが導通状態となり、各ライト行のメモリセルのDラッチ回路に保持(ホールド)されている論理レベル電圧が、該メモリセルに接続するビット線に出力される。次に、ラッチ端子のラッチ制御信号を一定時間アサートする。これにより、各ビット線に接続されたデータホールド回路は、該ビット線の論理レベル電圧をラッチして、対応する書込用セレクタの一方の入力端子に出力する。次に、ライト行のリードワード線のリード選択信号をネゲートし、外部データ入力端子に書込データの論理レベル電圧を入力する。そして、列アドレス入力端子にライト対象メモリセルに接続するビット線(以下「ライト列のビット線」という。)を選択する列アドレス信号を入力する。これにより、書込用セレクタは、ライト列のビット線を外部データ入力端子に接続し、ライト列のビット線は書込データの論理レベル電圧となる。それ以外のビット線はデータホールド回路にホールドされた論理レベル電圧(即ち、現在ライト行の各メモリセルに保持されている論理レベル電圧)に拘束された儘維持される。次に、ライト対象メモリセルに接続するライトワード線(以下「ライト行のライトワード線」という。)のライト選択信号を一定時間アサートする。これにより、ライト行のライトワード線に接続する総てのメモリセルのDラッチ回路は、対応するビット線の論理レベル電圧をホールドする。このとき、ライト対象メモリセルには、書込データの論理レベル電圧がホールドされ、それ以外のメモリセルには、現在保持されている論理レベル電圧が再びホールドされる。これにより、ライト対象メモリセルでのデータの書き込みが可能となる。   (2) On the other hand, during a write operation, first, a read selection signal of a read word line (hereinafter referred to as a “write word read word line”) connected to a memory cell to be written (hereinafter referred to as a “write target memory cell”). Is asserted. As a result, the three-state buffers of all the memory cells connected to the read word line of the write row (hereinafter referred to as “write row memory cells”) are turned on and held in the D latch circuit of the memory cell of each write row ( The held logic level voltage is output to the bit line connected to the memory cell. Next, the latch control signal of the latch terminal is asserted for a predetermined time. As a result, the data hold circuit connected to each bit line latches the logic level voltage of the bit line and outputs it to one input terminal of the corresponding write selector. Next, the read selection signal of the read word line of the write row is negated, and the logic level voltage of the write data is input to the external data input terminal. Then, a column address signal for selecting a bit line (hereinafter referred to as a “write column bit line”) connected to the write target memory cell is input to the column address input terminal. Thereby, the write selector connects the bit line of the write column to the external data input terminal, and the bit line of the write column becomes the logic level voltage of the write data. The other bit lines are maintained while being constrained by the logic level voltage held in the data hold circuit (that is, the logic level voltage currently held in each memory cell in the write row). Next, a write selection signal of a write word line (hereinafter referred to as “write word line of write row”) connected to the write target memory cell is asserted for a predetermined time. Thereby, the D latch circuits of all the memory cells connected to the write word line of the write row hold the logic level voltage of the corresponding bit line. At this time, the logic level voltage of the write data is held in the write target memory cell, and the currently held logic level voltage is held again in the other memory cells. As a result, data can be written in the write target memory cell.

上述の通り、ライト動作時に於いて、ライト対象メモリセル以外のライト行のメモリセルについては、データホールド回路によりビット線の論理レベル電圧が現在保持されている論理レベル電圧に拘束されるため、ライト動作時にライト対象メモリセル以外のライト行のメモリセルが誤って書き換えられるといったエラーが防止される。   As described above, during the write operation, for the memory cells in the write row other than the write target memory cell, the logic level voltage of the bit line is restricted to the currently held logic level voltage by the data hold circuit. During operation, an error such that a memory cell in a write row other than the write target memory cell is rewritten by mistake is prevented.

以上のように、本発明によれば、データを保持する各メモリセルをDラッチ回路とスリーステート・バッファを用いて構成したことにより、回路を構成する各トランジスタの設計値(ゲート幅/ゲート長)によらずマージンフリーな設計を行うことが可能な半導体記憶装置を提供することが可能となる。   As described above, according to the present invention, each memory cell that holds data is configured using the D latch circuit and the three-state buffer, so that the design value (gate width / gate length) of each transistor that configures the circuit is achieved. It is possible to provide a semiconductor memory device capable of performing a margin-free design regardless of ().

本発明の実施例1に係る半導体記憶装置のメモリセル及びその周辺の構成を表す回路ブロック図である。1 is a circuit block diagram illustrating a configuration of a memory cell and its periphery in a semiconductor memory device according to Example 1 of the invention. 図1のメモリセル1の内部構成をトランジスタ・レベルで表した回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing an internal configuration of a memory cell 1 in FIG. 1 at a transistor level. 本発明の実施例1に係る半導体記憶装置の全体構成を表す回路ブロック図である。1 is a circuit block diagram illustrating an overall configuration of a semiconductor memory device according to Example 1 of the invention. 図3の半導体記憶装置の回路のリード動作時における各信号のタイムチャートである。4 is a time chart of each signal during a read operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. 3. 図3の半導体記憶装置の回路のライト動作時における選択されたメモリセルの各信号のタイムチャートである。4 is a time chart of each signal of a selected memory cell during a write operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. 図3の半導体記憶装置の回路のライト動作時における非選択のメモリセル(選択されたメモリセルと同じ行の非選択メモリセル)の各信号のタイムチャートである。4 is a time chart of each signal of a non-selected memory cell (a non-selected memory cell in the same row as a selected memory cell) during a write operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. 本発明の実施例2に係る半導体記憶装置のメモリセルの構成を表す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a configuration of a memory cell of a semiconductor memory device according to Example 2 of the invention. 本発明の実施例3に係る半導体記憶装置の全体構成を表す回路ブロック図である。It is a circuit block diagram showing the whole structure of the semiconductor memory device based on Example 3 of this invention. 従来の6T−SRAMの基本的な回路構成を表す図である。It is a figure showing the basic circuit structure of the conventional 6T-SRAM. CMOS素子の微細化の進展に伴う電源電圧とゲート長のばらつきの変遷を表す図である。It is a figure showing the transition of the dispersion | variation in the power supply voltage and gate length accompanying progress of miniaturization of a CMOS element. (a)トランスファ・ゲートのトランジスタ(M5,M6)のゲート幅に対する図14のインバータ・ラッチ回路の端子電圧(CH,CL)の関係、及び(b)6T−SRAMのリード時に於けるノイズマージンを表す図である。(A) The relationship of the terminal voltage (CH, CL) of the inverter / latch circuit of FIG. 14 to the gate width of the transfer gate transistors (M5, M6), and (b) the noise margin at the time of 6T-SRAM read. FIG. 特許文献1に記載のSRAM記憶セルの回路図である。2 is a circuit diagram of an SRAM memory cell described in Patent Document 1. FIG. 特許文献2に記載のSRAMメモリセルの回路図である。6 is a circuit diagram of an SRAM memory cell described in Patent Document 2. FIG.

以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施例1に係る半導体記憶装置のメモリセル及びその周辺の構成を表す回路ブロック図である。   FIG. 1 is a circuit block diagram showing a configuration of a memory cell and its peripherals in a semiconductor memory device according to Embodiment 1 of the present invention.

図1において、半導体記憶装置は、リードワード線(RWn)及びライトワード線(WWn)(n=1,2,…)のペアであるワード線ペアと、ビット線(Dm)(m=1,2,…)とが格子状に配設され(図3参照)、各ワード線ペアと各ビット線(Dm)との交点の其々にメモリセル1が配設されている。リードワード線(RWn)には、リード選択信号が入力される。ライトワード線(WWn)には、ライト選択信号が入力される。ビット線(Dm)にはデータ信号が入力され、またビット線(Dm)からはリードデータ信号が出力される。   In FIG. 1, a semiconductor memory device includes a word line pair which is a pair of a read word line (RWn) and a write word line (WWn) (n = 1, 2,...), And a bit line (Dm) (m = 1, 2,... Are arranged in a grid pattern (see FIG. 3), and the memory cells 1 are arranged at the intersections of the word line pairs and the bit lines (Dm). A read selection signal is input to the read word line (RWn). A write selection signal is input to the write word line (WWn). A data signal is input to the bit line (Dm), and a read data signal is output from the bit line (Dm).

各メモリセル1は、反転出力のDラッチ回路2と反転出力のスリーステート・バッファ3を備えている。   Each memory cell 1 includes an inverted output D latch circuit 2 and an inverted output three-state buffer 3.

Dラッチ回路2は、ビット線(Dm)に接続されたD端子(D)、ライトワード線(WWn)に接続されたクロック端子(φ)、及びQ端子(Q)を備えている。 The D latch circuit 2 includes a D terminal (D) connected to the bit line (Dm), a clock terminal (φ) connected to the write word line (WWn), and a Q terminal (Q ).

Dラッチ回路2は、クロック端子(φ)に入力されるライト選択信号がアサートされるとD端子(D)から入力されるデータ信号の論理レベル電圧をスルーし、ライト選択信号がネゲートされるとデータ信号の論理レベル電圧をホールドする。また、Dラッチ回路2は、ラッチされた論理レベル電圧をQ端子(Q)から出力する。尚、本実施例では、Q端子(Q)からは、ラッチされた論理レベル電圧の反転値が出力されるように構成されているが、本発明においては非反転値が出力されるように構成してもよい。 When the write selection signal input to the clock terminal (φ) is asserted, the D latch circuit 2 passes the logic level voltage of the data signal input from the D terminal (D), and when the write selection signal is negated. Holds the logic level voltage of the data signal. The D latch circuit 2 outputs the latched logic level voltage from the Q terminal (Q ). In this embodiment, the inverted value of the latched logic level voltage is output from the Q terminal (Q ). However, in the present invention, a non-inverted value is output. It may be configured.

スリーステート・バッファ3は、入力端子がDラッチ回路2のQ端子(Q)に接続され、出力端子がビット線(Dm)との間に接続され、制御端子がリードワード線(RWn)に接続された反転出力スリーステート・バッファである。スリーステート・バッファ3は、制御端子から入力されるリード選択信号がアサートされるとDラッチ回路2のQ端子(Q)の論理レベル電圧の反転値をビット線(Dm)へ出力し、リード選択信号がネゲートされると出力が高インピーダンス状態となる。尚、Q端子(Q)からラッチされた論理レベル電圧の非反転値を出力する構成とする場合には、スリーステート・バッファ3には非反転出力スリーステート・バッファを使用する。 The three-state buffer 3 has an input terminal connected to the Q terminal (Q ) of the D latch circuit 2, an output terminal connected to the bit line (Dm), and a control terminal connected to the read word line (RWn). Connected inverting output three-state buffer. When the read selection signal input from the control terminal is asserted, the three-state buffer 3 outputs the inverted value of the logic level voltage of the Q terminal (Q ) of the D latch circuit 2 to the bit line (Dm), and reads it. When the selection signal is negated, the output is in a high impedance state. Note that when the non-inverted value of the logic level voltage latched from the Q terminal (Q ) is output, a non-inverted output three-state buffer is used as the three-state buffer 3.

尚、図1のブロック図では、ライトワード線(WWn)やDラッチ回路2のクロック端子(φ)は、便宜上、1本の線、1つの端子として表示しているが、後述の図2の回路のようにライトワード線(WWn)を、ライト選択信号の非反転値が入力されるライトワード線(WWn)とライト選択信号の反転値が入力されるライトワード線(WWn)のペアとして実装する場合には、各ライトワード線(WWn,WWn)に対応してクロック端子(φ)は2つの端子(φ,φ)として実装される。同様に、図1のブロック図では、リードワード線(RWn)やスリーステート・バッファ3の制御端子も、便宜上、1本の線、1つの端子として表示しているが、後述の図2の回路のようにリードワード線(RWn)を、リード選択信号の非反転値が入力されるリードワード線(RWn)とリード選択信号の反転値が入力されるリードワード線(RWn)のペアとして実装する場合には、各リードワード線(RWn,RWn)に対応して制御端子(ENB)は2つの端子(ENB,ENB)として実装される。 In the block diagram of FIG. 1, the write word line (WWn) and the clock terminal (φ) of the D latch circuit 2 are shown as one line and one terminal for the sake of convenience. Like a circuit, a write word line (WWn) is a pair of a write word line (WWn + ) to which a non-inverted value of a write selection signal is input and a write word line (WWn ) to which an inverted value of the write selection signal is input. Are mounted as two terminals (φ + , φ ) corresponding to each write word line (WWn + , WWn ). Similarly, in the block diagram of FIG. 1, the read word line (RWn) and the control terminal of the three-state buffer 3 are also shown as one line and one terminal for the sake of convenience. As described above, the read word line (RWn) is used as a pair of a read word line (RWn + ) to which the non-inverted value of the read selection signal is input and a read word line (RWn ) to which the inverted value of the read selection signal is input. When mounting, the control terminal (ENB) is mounted as two terminals (ENB + , ENB ) corresponding to each read word line (RWn + , RWn ).

図2は、図1のメモリセル1の内部構成をトランジスタ・レベルで表した回路図である。図2(a)はメモリセル1の内部構成、図2(b),(c)はスリーステート・バッファ3の他の構成例を示している。Dラッチ回路2は、CMISインバータ4,5、ループゲート回路6、及び入力ゲート回路7を備えている。尚、図2のメモリセル1の回路においては、リード選択信号及びライト選択信号が共にHアクティブの信号の場合を例示しているが、本発明においては、リード選択信号及びライト選択信号はLアクティブの信号として回路を構成することも勿論可能である。   FIG. 2 is a circuit diagram showing the internal configuration of the memory cell 1 of FIG. 1 at the transistor level. 2A shows the internal configuration of the memory cell 1, and FIGS. 2B and 2C show other configuration examples of the three-state buffer 3. FIG. The D latch circuit 2 includes CMIS inverters 4 and 5, a loop gate circuit 6, and an input gate circuit 7. In the circuit of the memory cell 1 in FIG. 2, the case where both the read selection signal and the write selection signal are H active signals is illustrated, but in the present invention, the read selection signal and the write selection signal are L active. Of course, it is also possible to construct a circuit as the signal.

尚、図2では、図1のライトワード線(WWn)を、ライト選択信号の非反転値が入力されるライトワード線(WWn)とライト選択信号の非反転値が入力されるライトワード線(WWn)のペアとしているが、ライトワード線(WWn)を1本(WWnのみ)として構成することも勿論可能である(その場合、各メモリセル1にライトワード線(WWn)の信号の反転信号(WWn)を生成するインバータが必要となる)。また、図2では、図1のリードワード線(RWn)を、リード選択信号の非反転値が入力されるリードワード線(RWn)とリード選択信号の非反転値が入力されるリードワード線(RWn)のペアとしているが、リードワード線(RWn)を1本(RWnのみ)として構成することも勿論可能である(その場合、各メモリセル1にリードワード線(RWn)の信号の反転信号(RWn)を生成するインバータが必要となる)。 In FIG. 2, the write word line (WWn) of FIG. 1 is divided into a write word line (WWn + ) to which a non-inverted value of a write selection signal is input and a write word line to which a non-inverted value of a write selection signal is input Although a pair of (WWn ) is used, it is of course possible to configure one write word line (WWn) (only WWn + ) (in this case, each memory cell 1 has a write word line (WWn + )). An inverter that generates an inverted signal (WWn ) of the signal is required). In FIG. 2, the read word line (RWn) of FIG. 1 is divided into a read word line (RWn + ) to which a non-inverted value of a read selection signal is input and a read word line to which a non-inverted value of a read selection signal is input. Although a pair of (RWn ) is used, it is of course possible to configure one read word line (RWn) (only RWn + ) (in this case, each memory cell 1 has a read word line (RWn + )). An inverter that generates an inverted signal (RWn ) of the signal is required).

CMISインバータ5の入力端子5aには、CMISインバータ4の出力端子4bが接続されている。また、ループゲート回路6は、nMISFET(M1)とpMISFET(M2)とのチャネルを並列接続したトランスミッション・ゲートである。CMISインバータ5の出力端子5bは、前記ループゲート回路6のチャネルを介してCMISインバータ4の入力端子4aが接続されている。ループゲート回路6のpMISFET(M2)のゲートは、Dラッチ回路2のクロック端子(φ)に相当しライトワード線(WWn)に接続され、ループゲート回路6のnMISFET(M1)のゲートは、Dラッチ回路2のクロック端子(φ)に相当しライトワード線(WWn)に接続されている。これにより、ループゲート回路6は、ライトワード線(WWn,WWn)から入力されるライト選択信号がネゲートされたとき(Lレベルのとき)にオン(チャネルが導通)し、アサートされたとき(Hレベルのとき)にオフ(チャネルが非導通)する。CMISインバータ4,5は、前記ループゲート回路6を間挿して出力と入力とが互いにクロスカップリング(ループ状に接続)されることで、インバータ・ループを構成している。 An output terminal 4 b of the CMIS inverter 4 is connected to the input terminal 5 a of the CMIS inverter 5. The loop gate circuit 6 is a transmission gate in which the channels of the nMISFET (M1) and the pMISFET (M2) are connected in parallel. The output terminal 5 b of the CMIS inverter 5 is connected to the input terminal 4 a of the CMIS inverter 4 through the channel of the loop gate circuit 6. The gate of the pMISFET (M2) of the loop gate circuit 6 corresponds to the clock terminal (φ + ) of the D latch circuit 2 and is connected to the write word line (WWn + ). The gate of the nMISFET (M1) of the loop gate circuit 6 is , Corresponding to the clock terminal (φ ) of the D latch circuit 2 and connected to the write word line (WWn ). As a result, the loop gate circuit 6 is turned on (the channel is turned on) and asserted when the write selection signal input from the write word line (WWn + , WWn ) is negated (at the L level). Turns off (when channel is H) (channel is non-conductive). The CMIS inverters 4 and 5 form an inverter loop by interposing the loop gate circuit 6 and cross-coupling (connecting in a loop) the output and the input to each other.

また、CMISインバータ4の出力端子4bは、Q端子(Q)に相当し、スリーステート・バッファ3の入力端子に接続されている。従って、Q端子(Q)からは、CMISインバータ4,5からなるインバータ・ループでラッチされた論理レベル電圧の反転値が、スリーステート・バッファ3の入力端子に出力される。 The output terminal 4 b of the CMIS inverter 4 corresponds to the Q terminal (Q ) and is connected to the input terminal of the three-state buffer 3. Therefore, the inverted value of the logic level voltage latched by the inverter loop including the CMIS inverters 4 and 5 is output from the Q terminal (Q ) to the input terminal of the three-state buffer 3.

入力ゲート回路7は、nMISFET(M3)とpMISFET(M4)とのチャネルを並列接続したトランスミッション・ゲートであり、チャネル両端子がビット線(Dm)とCMISインバータ4の入力端子4aとの間に接続されている。従って、ビット線(Dm)に接続された側の入力ゲート回路7のノードが、Dラッチ回路2のD端子(D)に相当する。入力ゲート回路7のnMISFET(M3)のゲートはクロック端子(φ)に相当しライトワード線(WWn)に接続され、入力ゲート回路7のpMISFET(M4)のゲートはクロック端子(φ)に相当しライトワード線(WWn)に接続されている。これにより、入力ゲート回路7は、ライトワード線(WWn,WWn)から入力されるライト選択信号がネゲートされたとき(Lレベルのとき)にオフ(チャネルが非導通)し、アサートされたとき(Hレベルのとき)にオン(チャネルが導通)する。 The input gate circuit 7 is a transmission gate in which the channels of the nMISFET (M3) and the pMISFET (M4) are connected in parallel, and both terminals of the channel are connected between the bit line (Dm) and the input terminal 4a of the CMIS inverter 4. Has been. Therefore, the node of the input gate circuit 7 on the side connected to the bit line (Dm) corresponds to the D terminal (D) of the D latch circuit 2. The gate of the nMISFET (M3) of the input gate circuit 7 corresponds to the clock terminal (φ + ) and is connected to the write word line (WWn + ), and the gate of the pMISFET (M4) of the input gate circuit 7 is the clock terminal (φ ). Is connected to a write word line (WWn ). As a result, the input gate circuit 7 is turned off (the channel is non-conductive) and asserted when the write selection signal input from the write word line (WWn + , WWn ) is negated (at the L level). (On the H level), the channel is turned on.

スリーステート・バッファ3は、出力ゲート回路9及び高インピーダンス入力回路11を備えている。高インピーダンス入力回路11は入力端子から入力されるDラッチ回路の出力電圧を高インピーダンスで受ける入力回路であり、本実施例では高インピーダンス入力回路11はCMISインバータにより構成している。出力ゲート回路9は、nMISFET(M5)とpMISFET(M6)とのチャネルを並列接続して構成されたトランスミッション・ゲートであり、nMISFET(M5)のゲートは制御端子(ENB)に相当しリードワード線(RWn)に接続され、pMISFET(M6)のゲートは制御端子(ENB)に相当しリードワード線(RWn)に接続されている。 The three-state buffer 3 includes an output gate circuit 9 and a high impedance input circuit 11. The high impedance input circuit 11 is an input circuit that receives the output voltage of the D latch circuit input from the input terminal with high impedance. In the present embodiment, the high impedance input circuit 11 is constituted by a CMIS inverter. The output gate circuit 9 is a transmission gate configured by connecting the channels of the nMISFET (M5) and the pMISFET (M6) in parallel. The gate of the nMISFET (M5) corresponds to the control terminal (ENB + ) and is a read word. is connected to line (RWn +), the gate of pMISFET (M6) is a control terminal is connected to (ENB - -) the corresponding read word line (RWn).

また、出力ゲート回路9の入力端子は、高インピーダンス入力回路11を介してスリーステート・バッファ3の入力端子(in)に接続され、出力ゲート回路9の出力端子は、スリーステート・バッファ3の出力端子(out)に接続されている。尚、スリーステート・バッファ3の入力端子(in)は、Dラッチ回路2のQ端子(Q)に接続され、スリーステート・バッファ3の出力端子(out)は、ビット線(Dm)に接続されている。 The input terminal of the output gate circuit 9 is connected to the input terminal (in) of the three-state buffer 3 via the high impedance input circuit 11, and the output terminal of the output gate circuit 9 is the output of the three-state buffer 3. It is connected to a terminal (out). The input terminal (in) of the three-state buffer 3 is connected to the Q terminal (Q ) of the D latch circuit 2, and the output terminal (out) of the three-state buffer 3 is connected to the bit line (Dm). Has been.

尚、図2(a)では、スリーステート・バッファ3はインバータとトランスファ・ゲートとの組み合わせで構成した例を示したが、実際に実装する場合、スリーステート・バッファ3は、図2(b)のように、電源(VDD)とグランド(GND)間にpMISFET(M6),pMISFET(M7),nMISFET(M8),nMISFET(M5)を、ソース・ドレインを直列に接続して、電源(VDD)及びグランド(GND)に近い側のpMISFET(M6),nMISFET(M5)のゲートを制御端子(ENB,ENB)とする構成や、図2(c)のように、電源(VDD)とグランド(GND)間にpMISFET(M7),pMISFET(M6),nMISFET(M5),nMISFET(M8)を、ソース・ドレインを直列に接続して、電源(VDD)及びグランド(GND)から遠い側のpMISFET(M6),nMISFET(M5)のゲートを制御端子(ENB,ENB)としたような等価な構成に置き換えることもできる。 2A shows an example in which the three-state buffer 3 is composed of a combination of an inverter and a transfer gate. However, when actually mounted, the three-state buffer 3 is not shown in FIG. As shown, the pMISFET (M6), pMISFET (M7), nMISFET (M8), and nMISFET (M5) are connected in series between the power source (VDD) and the ground (GND), and the power source (VDD) is connected. And a configuration in which the gates of the pMISFET (M6) and nMISFET (M5) on the side closer to the ground (GND) are used as control terminals (ENB , ENB + ), and the power supply (VDD) and the ground as shown in FIG. PMISFET (M7), pMISFET (M6), nMISFET (M5), nMISFET (M8) The scan-drain connected in series, the power supply (VDD) and the ground far from (GND) pMISFET (M6), a gate control terminal of nMISFET (M5) (ENB -, ENB +) and the such equivalent as It can also be replaced with a configuration.

また、図2(a)のCMISインバータ5及びループゲート回路6も、図2(b),(c)と同様な等価構成とすることができる。   Also, the CMIS inverter 5 and the loop gate circuit 6 shown in FIG. 2A can have equivalent configurations similar to those shown in FIGS.

図3は、本発明の実施例1に係る半導体記憶装置の全体構成を表す回路ブロック図である。図3において、実施例1の半導体記憶装置は、リードワード線(RWn)(n=1,2,…)及びライトワード線(WWn)のペアであるワード線ペア(Wn)と、ビット線(Dm)(m=1,2,…)が、各ワード線ペア(Wn)を行とし各ビット線(Dm)を列として格子状に配設されている。各ワード線ペア(Wn)と各ビット線(Dm)との交点の其々に、図1のメモリセル1が配設されている。また、各ビット線(Dm)の一端には、列選択回路12が接続されている。   FIG. 3 is a circuit block diagram showing the overall configuration of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the invention. 3, the semiconductor memory device according to the first embodiment includes a word line pair (Wn) that is a pair of a read word line (RWn) (n = 1, 2,...) And a write word line (WWn), and a bit line ( Dm) (m = 1, 2,...) Are arranged in a grid pattern with each word line pair (Wn) as a row and each bit line (Dm) as a column. A memory cell 1 of FIG. 1 is disposed at each intersection of each word line pair (Wn) and each bit line (Dm). A column selection circuit 12 is connected to one end of each bit line (Dm).

列選択回路12は、外部データ入力端子(Din),外部データ出力端子(Dout),ラッチ端子(LAT),及び列アドレス入力端子(Y0)を備えている。外部データ入力端子(Din)からは、何れかのメモリセル1に書き込むデータの論理レベル電圧が入力される。外部データ出力端子(Dout)からは、何れかのメモリセル1から読み出されたデータの論理レベル電圧が出力される。また、列アドレス入力端子(Y0)には、データの書込み又は読み出しを行うメモリセルに接続するビット線(Dm)(m=1,2,…)を選択するための列アドレス信号が入力される。ラッチ端子(LAT)には、各ビット線(Dm)に入力されるデータ信号の論理レベル電圧を列選択回路12がラッチするように指示するためのラッチ制御信号が入力される。   The column selection circuit 12 includes an external data input terminal (Din), an external data output terminal (Dout), a latch terminal (LAT), and a column address input terminal (Y0). From an external data input terminal (Din), a logic level voltage of data to be written in any one of the memory cells 1 is input. From the external data output terminal (Dout), a logic level voltage of data read from any one of the memory cells 1 is output. A column address signal for selecting a bit line (Dm) (m = 1, 2,...) Connected to a memory cell to which data is written or read is input to the column address input terminal (Y0). . A latch control signal for instructing the column selection circuit 12 to latch the logic level voltage of the data signal input to each bit line (Dm) is input to the latch terminal (LAT).

列選択回路12は、各ビット線(D1,D2,…)に対して、其々、書込用セレクタ13−1,13−2,…とDラッチ回路からなるデータホールド回路15−1,15−2,…を備えている。これらの書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は、出力端子(out)が対応するビット線(Dm)の一端に、2つの入力端子(in,in1m)が其々外部データ入力端子(Din)及びデータホールド回路15−mのQ端子(Q)に、選択制御端子(sel)が列アドレス入力端子(Y0)に接続されたマルチプレクサである。これらの各書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は、接続されたビット線(Dm)を、外部データ入力端子(Din)又はデータホールド回路15−mのQ端子(Q)の何れかに選択的に接続する。各書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は、列アドレス入力端子(Y0)から入力される列アドレス信号により接続方向の切り換えがされる。書込用セレクタ13−mは、接続するビット線(Dm)の列mが、列アドレス信号により選択された列のときはビット線(Dm)を外部データ入力端子(Din)に接続し、それ以外のときは、ビット線(Dm)をデータホールド回路15−mのQ端子(Q)に接続する。すなわち、列選択回路12は、列アドレス信号に従って、選択されたビット線(Di)を外部データ入力端子(Din)に接続し、それ以外のビット線(Dj)(j≠i)を対応するデータホールド回路15−jのQ端子(Q)に接続するように動作する。 The column selection circuit 12 has a data selector 15-1, 15 comprising a write selector 13-1, 13-2,... And a D latch circuit for each bit line (D1, D2,...). -2, ... are provided. These write selectors 13-m (m = 1, 2,...) Have two input terminals (in 1 , in 1m ) at one end of the bit line (Dm) corresponding to the output terminal (out m ). Each is a multiplexer in which a selection control terminal (sel m ) is connected to a column address input terminal (Y0) to an external data input terminal (Din) and a Q terminal (Q) of the data hold circuit 15-m. Each of these write selectors 13-m (m = 1, 2,...) Connects the connected bit line (Dm) to the external data input terminal (Din) or the Q terminal (Q of the data hold circuit 15-m. ) Selectively connect to any of the above. Each of the write selectors 13-m (m = 1, 2,...) Is switched in connection direction by a column address signal input from the column address input terminal (Y0). The write selector 13-m connects the bit line (Dm) to the external data input terminal (Din) when the column m of the bit line (Dm) to be connected is the column selected by the column address signal. In other cases, the bit line (Dm) is connected to the Q terminal (Q) of the data hold circuit 15-m. That is, the column selection circuit 12 connects the selected bit line (Di) to the external data input terminal (Din) according to the column address signal, and other bit lines (Dj) (j ≠ i) correspond to the corresponding data. It operates to connect to the Q terminal (Q) of the hold circuit 15-j.

各データホールド回路15−m(m=1,2,…)は、D端子(D)、クロック端子(φ)、及びQ端子(Q)を有するDラッチ回路である。各データホールド回路15−mは、D端子(D)が対応するビット線(Dm)に接続され、クロック端子(φ)がラッチ端子(LAT)に接続され、Q端子(Q)が対応する書込用セレクタ13−mの一方の入力端子(in1m)に接続されている。これらデータホールド回路15−mは、ラッチ端子(LAT)から入力されるラッチ制御信号に従って、対応するビット線(Dm)の論理レベル電圧をラッチしてQ端子(Q)に出力する。 Each data hold circuit 15-m (m = 1, 2,...) Is a D latch circuit having a D terminal (D h ), a clock terminal (φ h ), and a Q terminal (Q h ). Each data hold circuit 15-m has a D terminal (D h ) connected to a corresponding bit line (Dm), a clock terminal (φ h ) connected to a latch terminal (LAT), and a Q terminal (Q h ) It is connected to one input terminal (in 1m ) of the corresponding write selector 13-m. These data hold circuits 15-m latch the logic level voltage of the corresponding bit line (Dm) according to the latch control signal input from the latch terminal (LAT) and output it to the Q terminal (Q h ).

また、列選択回路12は、列アドレス入力端子(Y0)から入力される列アドレス信号により選択されたビット線(Di)を外部データ出力端子(Dout)に選択的に接続する出力セレクタ14を備えている。出力セレクタ14は、複数の入力端子(ino1,ino2,…)が各ビット線(D1,D2,…)に、出力端子(out)が外部データ出力端子(Dout)に、選択制御端子(sel)が列アドレス入力端子(Y0)に接続されたマルチプレクサである。出力セレクタ14は、列アドレス入力端子(Y0)から入力される列アドレス信号に従い、列アドレス信号が示す列のビット線(Dm)を外部データ出力端子(Dout)に選択的に接続する。 The column selection circuit 12 includes an output selector 14 that selectively connects a bit line (Di) selected by a column address signal input from a column address input terminal (Y0) to an external data output terminal (Dout). ing. The output selector 14 has a plurality of input terminals (in o1 , in o2 ,...) On each bit line (D1, D2,...), An output terminal (out o ) on an external data output terminal (Dout), and a selection control terminal. (Sel o ) is a multiplexer connected to the column address input terminal (Y0). The output selector 14 selectively connects the bit line (Dm) of the column indicated by the column address signal to the external data output terminal (Dout) according to the column address signal input from the column address input terminal (Y0).

以上のように構成された本実施例に係る半導体記憶装置について、以下その動作を説明する。   The operation of the semiconductor memory device according to this embodiment configured as described above will be described below.

(1)リード動作
図4は、図3の半導体記憶装置の回路のリード動作時における各信号のタイムチャートである。図4は、一例として、1行2列目のメモリセル1(図3において符号Bを付したメモリセル)のデータを読み出す場合を示している。尚、図4におけるノード電位(N_11)は、図3に示した1行1列目のメモリセル1(図3において符号Aを付したメモリセル)内のノード(N_11)の電位を表している。
(1) Read Operation FIG. 4 is a time chart of each signal during the read operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. FIG. 4 shows, as an example, a case where data is read from the memory cell 1 in the first row and the second column (the memory cell labeled B in FIG. 3). Note that the node potential (N_11) in FIG. 4 represents the potential of the node (N_11) in the memory cell 1 in the first row and the first column shown in FIG. 3 (the memory cell denoted by reference symbol A in FIG. 3). .

(1.1) データの読み出しを行う場合、まず、読み出しを行うセルの列を選択する列アドレス信号を列アドレス入力端子(Y0)に入力する。これにより、出力セレクタ14は、選択された列のビット線(D2)を外部データ出力端子(Dout)に接続する。   (1.1) When reading data, first, a column address signal for selecting a column of a cell to be read is input to a column address input terminal (Y0). Thus, the output selector 14 connects the bit line (D2) of the selected column to the external data output terminal (Dout).

(1.2) 次に、読み出しを行うセルの行のリードワード線(RW1)のリード選択信号をアサートする(Hレベルにする)。これにより、リードワード線(RW1)に接続されたすべてのメモリセル1(1行目のメモリセル1)のスリーステート・バッファ3が導通状態となり、各ビット線(Dm)(m=1,2,…)には、1行目の各メモリセル1にラッチされている論理レベル電圧Dold11,Dold12,…が出力される。このとき、外部データ出力端子(Dout)には選択されたビット線(D2)のみが接続されているため、外部データ出力端子(Dout)には1行2列目のメモリセル1にラッチされている論理レベル電圧Dold12が出力される。 (1.2) Next, the read selection signal of the read word line (RW1) of the row of the cell to be read is asserted (set to H level). As a result, the three-state buffers 3 of all the memory cells 1 (the memory cells 1 in the first row) connected to the read word line (RW1) become conductive, and each bit line (Dm) (m = 1, 2). ,..., The logic level voltages D old11 , D old12 ,... Latched in each memory cell 1 in the first row are output. At this time, since only the selected bit line (D2) is connected to the external data output terminal (Dout), the external data output terminal (Dout) is latched by the memory cell 1 in the first row and the second column. The logic level voltage D old12 is output.

以上のような動作により、選択されたメモリセル1にラッチされているデータの読み出しが行われる。   Through the operation as described above, the data latched in the selected memory cell 1 is read.

(2)ライト動作
図5は、図3の半導体記憶装置の回路のライト動作時における選択されたメモリセルの各信号のタイムチャート、図6は、図3の半導体記憶装置の回路のライト動作時における非選択のメモリセル(選択されたメモリセルと同じ行の非選択メモリセル)の各信号のタイムチャートである。図5,図6では、一例として、1行2列目のメモリセル1(図3において符号Bを付したメモリセル)にデータを書き込む場合を示している。
(2) Write Operation FIG. 5 is a time chart of each signal of the selected memory cell during the write operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. 3, and FIG. 6 is the write operation of the circuit of the semiconductor memory device of FIG. 10 is a time chart of signals of unselected memory cells (unselected memory cells in the same row as a selected memory cell) in FIG. 5 and 6, as an example, a case where data is written to the memory cell 1 in the first row and the second column (the memory cell labeled B in FIG. 3) is shown.

(初期状態)
図5において、初期状態では、ラッチ端子(LAT)、各リードワード線(RWn)(n=1,2,…)、各ライトワード線(WWn)(n=1,2,…)はネゲート(Lレベル)の状態にある。また、列アドレス入力端子Y0には列アドレス信号が入力されていない状態にある。
(initial state)
5, in the initial state, the latch terminal (LAT), each read word line (RWn) (n = 1, 2,...), And each write word line (WWn) (n = 1, 2,...) Are negated ( L level). Further, no column address signal is input to the column address input terminal Y0.

(書き込み準備段階:時刻t1〜t6)
データの書き込みを行う場合、書き込みを行うセルの属する行の各セルにラッチされたデータが消失するのを防止するため、まず、書き込み準備段階として、次のような動作により当該行の各セルにラッチされたデータを列選択回路12内のデータホールド回路15−1,15−2,…にラッチする。
(Write preparation stage: times t1 to t6)
When data is written, in order to prevent the data latched in each cell of the row to which the cell to be written belongs from being lost, first, as a write preparation stage, each cell in the row is subjected to the following operation. The latched data is latched in the data hold circuits 15-1, 15-2,.

(2.1) 書き込みを行うメモリセル1の属する行のリードワード線(RW1)のリード選択信号をアサートする(Hレベルにする)(時刻t1)。これにより、各列のビット線(D1,D2,…)には、選択されたリードワード線(RW1)に接続する各列のメモリセル1(1行目のメモリセル1)においてラッチされている論理レベル電圧Dold11,Dold12,…が出力される(時刻t2)。 (2.1) The read selection signal of the read word line (RW1) of the row to which the memory cell 1 to be written belongs is asserted (set to H level) (time t1). As a result, the bit lines (D1, D2,...) Of each column are latched in the memory cells 1 (the memory cells 1 in the first row) connected to the selected read word line (RW1). The logic level voltages D old11 , D old12 ,... Are output (time t2).

このとき、列アドレス入力端子(Y0)には列アドレス信号はまだ入力されていないため、すべての列の書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は、対応するデータホールド回路15−1,15−2,…のQ端子(Q)に接続された状態にある。   At this time, since the column address signal has not yet been input to the column address input terminal (Y0), the write selectors 13-m (m = 1, 2,...) Of all the columns have corresponding data hold circuits. 15-1, 15-2,... Are connected to Q terminals (Q).

(2.2) 次に、ラッチ端子(LAT)のラッチ制御信号をアサートする(Hレベルにする)(時刻t3)。これにより、各ビット線(D1,D2,…)に対応するデータホールド回路15−1,15−2,…のクロック端子(φ)がアサートされ、これらデータホールド回路15−1,15−2,…はD端子(D)の電圧レベルをQ端子(Q)にスルーさせる。従って、図3のノード(in11,in12,…)には論理レベル電圧Dold11,Dold12,…が出力される(時刻t4)。 (2.2) Next, the latch control signal of the latch terminal (LAT) is asserted (set to H level) (time t3). As a result, the clock terminals (φ h ) of the data hold circuits 15-1, 15-2,... Corresponding to the bit lines (D1, D2,...) Are asserted, and the data hold circuits 15-1, 15-2 are asserted. ,... Pass the voltage level of the D terminal (D h ) through the Q terminal (Q h ). Therefore, the logic level voltages D old11 , D old12 ,... Are output to the nodes (in 11 , in 12 ,...) In FIG. 3 (time t4).

(2.3) 一定時間経過後、ラッチ端子(LAT)のラッチ制御信号がネゲートされる(Lレベルにする)(時刻t5)。これにより、各データホールド回路15−1,15−2,…のクロック端子(φ)がネゲートされ、これらデータホールド回路15−1,15−2,…はD端子(D)の電圧レベルをラッチする。従って、各ノード(in11,in12,…)には論理レベル電圧Dold11,Dold12,…がホールドされる。各書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は、ノード(in11,in12,…)に接続された状態にあるため、各ビット線(D1,D2,…)の電圧レベルは、対応するデータホールド回路15−1,15−2,…により、其々論理レベル電圧Dold11,Dold12,…に拘束される。 (2.3) After a predetermined time has elapsed, the latch control signal of the latch terminal (LAT) is negated (set to L level) (time t5). Thus, the data hold circuits 15-1, 15-2, ... of the clock terminal (phi h) is negated, the voltage level of the data hold circuits 15-1, 15-2, ... is D terminal (D h) Latch. Therefore, the logic level voltages D old11 , D old12 ,... Are held at the nodes (in 11 , in 12 ,...). Since each of the write selectors 13-m (m = 1, 2,...) Is connected to the nodes (in 11 , in 12 ,...), The voltage of each bit line (D1, D2,...) The levels are constrained to the logic level voltages D old11 , D old12 ,... By the corresponding data hold circuits 15-1, 15-2 ,.

(書き込み段階:時刻t6〜)
(2.4) 次に、書き込みする行のリードワード線(RW1)をネゲートするとともに、外部データ入力端子(Din)に書き込みを行う書込データの論理レベル電圧Dnewを入力する(時刻t6)。このとき、列アドレス入力端子(Y0)には、まだ列アドレス信号が入力されていないため、外部データ入力端子(Din)の書込データはビット線(D1,D2,…)には入力されていない。
(Writing stage: from time t6)
(2.4) Next, with negates read word line rows of write (RW1), and inputs the logical level voltage D new new write data to be written to the external data input terminal (Din) (time t6) . At this time, since the column address signal is not yet inputted to the column address input terminal (Y0), the write data of the external data input terminal (Din) is inputted to the bit lines (D1, D2,...). Absent.

(2.5) 次に、書き込みを行うセルの列を選択する列アドレス信号を列アドレス入力端子(Y0)に入力する(時刻t7)。これにより、選択された列の書込用セレクタ13−2は、ビット線(D2)を外部データ入力端子(Din)に接続する(時刻t8)。また、それ以外の書込用セレクタ13−j(j≠2)では、ビット線(Dj)は対応するデータホールド回路15−jのQ端子(Q)に接続される。これによって、選択された列のビット線(D2)は、書込データの論理レベル電圧Dnewとなる(時刻t8)。一方、選択されなかった列のビット線(Dj)(j≠2)はデータホールド回路15−jにより、もとの論理レベル電圧Dold1jに拘束された儘となる。 (2.5) Next, a column address signal for selecting a column of cells to be written is input to the column address input terminal (Y0) (time t7). Thereby, the write selector 13-2 of the selected column connects the bit line (D2) to the external data input terminal (Din) (time t8). In the other write selector 13-j (j ≠ 2), the bit line (Dj) is connected to the Q terminal (Q h ) of the corresponding data hold circuit 15-j. Thus, the selected column of bit lines (D2) is a logic level voltage D new new write data (time t8). On the other hand, the bit line (Dj) (j ≠ 2) of the column not selected becomes a trap that is constrained to the original logic level voltage Dold1j by the data hold circuit 15-j.

(2.6) 次に、書き込みを行う行のライトワード線(WW1)のライト選択信号をアサートする(Hレベルとする)(時刻t9)。これにより、選択された行(1行目)のすべてのメモリセル1のDラッチ回路2は、そのメモリセル1が属する列m(m=1,2,…)のビット線(Dm)に設定された電圧を出力端子Qへスルーする。このとき、選択された列のビット線(D2)には、書込データの論理レベル電圧Dnewが設定されているので、1行2列目のメモリセル1(図3の符号Bが附されたメモリセル)のDラッチ回路2には論理レベル電圧Dnewが設定され(時刻t10)、それに伴い、当該メモリセル1のノードN_12の電圧は論理レベル電圧Dnewの反転値となる。一方、選択されなかった列のビット線(Dj)(j≠2)には、選択行(1行目)のメモリセル1及びデータホールド回路15−jにラッチされている論理レベル電圧Dold1jが設定されているので、1行j列目のメモリセル1のDラッチ回路2の設定電圧はそのままに維持される。 (2.6) Next, the write selection signal of the write word line (WW1) of the row to be written is asserted (set to H level) (time t9). Thus, the D latch circuits 2 of all the memory cells 1 in the selected row (first row) are set to the bit line (Dm) of the column m (m = 1, 2,...) To which the memory cell 1 belongs. output voltage terminal Q - to be through. At this time, the bit line (D2) of the selected column, since the logic level voltage D new new write data has been set, first row second column of the memory cell 1 (the sign B in FIG. 3 is subjected and the D latch circuit 2 of the memory cell) is set the logic level voltage D new new (time t10), accordingly, the voltage of the node N_12 of the memory cell 1 is the inverted value of the logical level voltage D new new. On the other hand, the logic level voltage Dold1j latched in the memory cell 1 and the data hold circuit 15-j in the selected row (first row) is applied to the bit line (Dj) (j ≠ 2) of the column not selected. Since it is set, the set voltage of the D latch circuit 2 of the memory cell 1 in the first row and j column is maintained as it is.

(2.7) 次に、ライトワード線(WW1)のライト選択信号をネゲートする(Lレベルとする)。これにより、1行目の各メモリセル1のDラッチ回路2は、その時点におけるビット線(Dj)の電圧をラッチする(時刻t11)。   (2.7) Next, the write selection signal of the write word line (WW1) is negated (set to L level). Thereby, the D latch circuit 2 of each memory cell 1 in the first row latches the voltage of the bit line (Dj) at that time (time t11).

(2.8) 最後に、列アドレス信号の入力を停止する(時刻t12)。これにより、書込用セレクタ13−m(m=1,2,…)は非選択の状態となる(時刻t12)。   (2.8) Finally, the input of the column address signal is stopped (time t12). As a result, the write selector 13-m (m = 1, 2,...) Is not selected (time t12).

以上の動作によって、1行2列目のメモリセル1に新しいデータが書き込まれ、1行1列目のメモリセル1は従前のデータを保持する。   Through the above operation, new data is written in the memory cell 1 in the first row and the second column, and the memory cell 1 in the first row and the first column holds the previous data.

以上のように、本実施例の半導体記憶装置では、各メモリセル1にDラッチ回路2とスリーステート・バッファ3を使用し、スリーステート・バッファ3によりDラッチ回路2の出力を高インピーダンスで受けて、Dラッチ回路2の出力をビット線(Dm)から分離することにより、Dラッチ回路2の入力ゲート回路7に使用する各トランジスタ(M3,M4)の設計値(ゲート幅/ゲート長)と出力ゲート回路9に使用する各トランジスタ(M5,M6)の設計値(ゲート幅/ゲート長)を全く独立に決めることが可能となる。そのため、各トランジスタ(M3,M4,M5,M6)の設計値(ゲート幅/ゲート長)に制約されることなく設計を行うことが可能となる。また、各トランジスタ(M3,M4,M5,M6)の設計値(ゲート幅/ゲート長)に関係なく設計が可能であるので、各トランジスタ(M3,M4,M5,M6)及び、各インバータ回路を構成するトランジスタを、プロセスの最小レベルのサイズとして設計することも可能となる。従って、結果的に全体として回路を小型化することができる。   As described above, in the semiconductor memory device of this embodiment, each memory cell 1 uses the D latch circuit 2 and the three-state buffer 3, and the three-state buffer 3 receives the output of the D latch circuit 2 with high impedance. By separating the output of the D latch circuit 2 from the bit line (Dm), the design value (gate width / gate length) of each transistor (M3, M4) used in the input gate circuit 7 of the D latch circuit 2 The design value (gate width / gate length) of each transistor (M5, M6) used in the output gate circuit 9 can be determined completely independently. Therefore, the design can be performed without being restricted by the design value (gate width / gate length) of each transistor (M3, M4, M5, M6). Further, since the design is possible regardless of the design value (gate width / gate length) of each transistor (M3, M4, M5, M6), each transistor (M3, M4, M5, M6) and each inverter circuit are connected. It is also possible to design the constituent transistors as the minimum size of the process. Therefore, as a result, the circuit can be downsized as a whole.

図7は、本発明の実施例2に係る半導体記憶装置のメモリセルの構成を表す回路図である。図7において、リードワード線(RWn)、ライトワード線(WWn,WWn,WWn)、ビット線(Dm)、Dラッチ回路2、CMISインバータ4,5、ループゲート回路6、及び入力ゲート回路7は、図1,図2の同符号のものと同様である。また、図8の各トランジスタM1〜M4は、図2の同符号のものに対応する。 FIG. 7 is a circuit diagram showing the configuration of the memory cell of the semiconductor memory device according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 7, a read word line (RWn), a write word line (WWn, WWn + , WWn ), a bit line (Dm), a D latch circuit 2, CMIS inverters 4, 5, a loop gate circuit 6, and an input gate circuit 7 is the same as that of FIG. 1, FIG. Moreover, each transistor M1-M4 of FIG. 8 respond | corresponds to the thing of the same sign of FIG.

本実施例の半導体記憶装置では、メモリセル1のスリーステート・バッファ3の構成が実施例1と相違している。即ち、本実施例のスリーステート・バッファ3は、高インピーダンス入力回路11が、片チャネルのMISFET(M7)で構成されており、出力ゲート回路9も片チャネルのMISFET(M8)で構成されている。ここで、片チャネルのMISFETとは、NチャネルのMISFETのみ、または、PチャネルのMISFETのみをいう。出力ゲート回路9を片チャネルとしているため、リードワード線(RWn)は1本のみあればよい。   In the semiconductor memory device of this embodiment, the configuration of the three-state buffer 3 of the memory cell 1 is different from that of the first embodiment. That is, in the three-state buffer 3 of this embodiment, the high-impedance input circuit 11 is composed of a single channel MISFET (M7), and the output gate circuit 9 is also composed of a single channel MISFET (M8). . Here, the single channel MISFET means only an N channel MISFET or only a P channel MISFET. Since the output gate circuit 9 is a single channel, only one read word line (RWn) is required.

このような構成としても、実施例1と同様の作用効果を得ることができる。尚、本実施例の回路構成では、実施例1(図2)と比べて、1つのメモリセル1あたり、少なくとも2個のトランジスタを減らすことができ、リードワード線を各行あたり1本減らすことができる。   Even with this configuration, the same effects as those of the first embodiment can be obtained. In the circuit configuration of this embodiment, compared to the first embodiment (FIG. 2), at least two transistors can be reduced per memory cell 1, and the read word line can be reduced by one for each row. it can.

図8は、本発明の実施例3に係る半導体記憶装置の全体構成を表す回路ブロック図である。図8において、図3と同様の構成部分については同符号を付している。本実施例の半導体記憶装置では、列選択回路12が、プリチャージ信号が入力されるプリチャージ制御端子PCを備え、各ビット線D1,D2,…に対応してプリチャージ用トランジスタ16−1,16−2,…を備えた点が、図3と相違している。各プリチャージ用トランジスタ16−1,16−2,…は、片チャネルのPMOSFETであり、ソース及びドレインが電源VDDと各ビット線D1,D2,…に其々接続され、ゲートがプリチャージ制御端子PCに接続されている。プリチャージ信号がアサート(Lレベル)されると、各ビット線D1,D2,…が電源VDDに接続され、各ビット線D1,D2,…がプリチャージされる。これにより、各メモリセル1及び列選択回路12内の各データホールド回路15−1,15−2,…を初期化することができる。   FIG. 8 is a circuit block diagram showing the overall configuration of the semiconductor memory device according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 8, the same components as those in FIG. In the semiconductor memory device of this embodiment, the column selection circuit 12 includes a precharge control terminal PC to which a precharge signal is input, and the precharge transistors 16-1 and 16-2 correspond to the bit lines D1, D2,. The point provided with 16-2,... Is different from FIG. Each of the precharging transistors 16-1, 16-2,... Is a single-channel PMOSFET, whose source and drain are connected to the power supply VDD and each of the bit lines D1, D2,. Connected to PC. When the precharge signal is asserted (L level), each bit line D1, D2,... Is connected to the power supply VDD, and each bit line D1, D2,. As a result, each memory cell 1 and each data hold circuit 15-1, 15-2,... In the column selection circuit 12 can be initialized.

1 メモリセル
2 Dラッチ回路
3 スリーステート・バッファ
4,5 CMISインバータ
6 ループゲート回路
7 入力ゲート回路
8 インバータ
9 出力ゲート回路
11 高インピーダンス入力回路
12 列選択回路
13−1,13−2,… 書込用セレクタ
14 出力セレクタ
15−1,15−2,… データホールド回路
16−1,16−2,… プリチャージ用トランジスタ
RWn,RWn,RWn リードワード線
WWn,WWn,WWn ライトワード線
D1,D2,… ビット線
D データ入力端子
φ クロック端子
出力端子
Din 外部データ入力端子
Dout 外部データ出力端子
Y0 列アドレス入力端子

LAT ラッチ端子
PC プリチャージ制御端子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory cell 2 D latch circuit 3 Three-state buffer 4, 5 CMIS inverter 6 Loop gate circuit 7 Input gate circuit 8 Inverter 9 Output gate circuit 11 High impedance input circuit 12 Column selection circuit 13-1, 13-2, ... Selector 14 output selectors 15-1, 15-2,... Data hold circuits 16-1, 16-2,... Precharge transistors RWn, RWn + , RWn - read word lines WWn, WWn + , WWn - write words Line D1, D2, ... Bit line D Data input terminal φ Clock terminal Q - Output terminal Din External data input terminal Dout External data output terminal Y0 Column address input terminal

LAT Latch terminal PC Precharge control terminal

Claims (5)

リードワード線及びライトワード線の対からなるワード線ペアと、
前記ワード線ペアに交差するビット線と、
前記ワード線ペアと前記ビット線の交点に対応して設けられたメモリセルと、を備え、
前記メモリセルは、
D端子、クロック端子、及びQ端子を有し、前記D端子,前記クロック端子が其々前記ビット線,前記ライトワード線に接続され、前記ライトワード線から前記クロック端子に入力されるライト選択信号がアサートされると前記ビット線から前記D端子に入力されるデータ信号の論理レベル電圧をスルーし、前記ライト選択信号がネゲートされると前記データ信号の論理レベル電圧をホールドし、スルー又はホールドされる論理レベル電圧又はその反転値電圧を前記Q端子から出力するDラッチ回路と、
入力端子、制御端子、及び出力端子を有し、前記入力端子が前記Dラッチ回路の前記Q端子に接続され、前記制御端子が前記リードワード線に接続され、前記出力端子が前記ビット線に接続されており、前記リードワード線から前記制御端子に入力されるリード選択信号の論理レベル電圧がアサートされると、前記入力端子の論理レベル又はその反転値を前記出力端子から前記ビット線へ出力し、前記リード選択信号の論理レベル電圧がネゲートされると、出力状態が高インピーダンス状態となるスリーステート・バッファと、を備えたことを特徴とする半導体記憶装置。
A word line pair consisting of a pair of a read word line and a write word line;
A bit line crossing the word line pair;
A memory cell provided corresponding to an intersection of the word line pair and the bit line,
The memory cell is
A write selection signal having a D terminal, a clock terminal, and a Q terminal, wherein the D terminal and the clock terminal are connected to the bit line and the write word line, respectively, and input from the write word line to the clock terminal Is asserted, the logic level voltage of the data signal input from the bit line to the D terminal is passed through. When the write selection signal is negated, the logic level voltage of the data signal is held, and is passed through or held. A D latch circuit that outputs a logic level voltage or an inverted voltage thereof from the Q terminal;
An input terminal, a control terminal, and an output terminal; the input terminal is connected to the Q terminal of the D latch circuit; the control terminal is connected to the read word line; and the output terminal is connected to the bit line When the logic level voltage of the read selection signal input from the read word line to the control terminal is asserted, the logic level of the input terminal or its inverted value is output from the output terminal to the bit line. A semiconductor memory device comprising: a three-state buffer whose output state becomes a high impedance state when the logic level voltage of the read selection signal is negated.
前記Dラッチ回路は、
前記D端子と前記Q端子の間に設けられ、互いに入力端子と出力端子とがループ状に接続された第1のインバータ及び第2のインバータを含むインバータ・ループと、
前記インバータ・ループに挿入されたトランスファ・ゲートであるループゲート回路と、
前記D端子と前記インバータ・ループとの間に挿入されたトランスファ・ゲートである入力ゲート回路と、を備え、
前記ループゲート回路は、其の制御端子が前記ライトワード線に接続され、前記ライト選択信号がネゲートされると導通状態、アサートされると非導通状態となるものであり、
前記入力ゲート回路は、其の制御端子が前記ライトワード線に接続され、前記ライト選択信号がアサートされると導通状態、ネゲートされると非導通状態となるものであることを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
The D latch circuit is
An inverter loop including a first inverter and a second inverter provided between the D terminal and the Q terminal and having an input terminal and an output terminal connected to each other in a loop;
A loop gate circuit which is a transfer gate inserted in the inverter loop;
An input gate circuit that is a transfer gate inserted between the D terminal and the inverter loop;
The loop gate circuit has a control terminal connected to the write word line, and is turned on when the write selection signal is negated and turned off when asserted.
The input gate circuit has a control terminal connected to the write word line, and is turned on when the write selection signal is asserted and turned off when negated. 1. The semiconductor memory device according to 1.
前記スリーステート・バッファは、
前記入力端子から入力される前記Dラッチ回路の出力電圧を高インピーダンスで受ける高インピーダンス入力回路と、
前記高インピーダンス入力回路の出力端子と前記ビット線との間に接続され、前記制御端子から入力される前記リード選択信号がアサートされると導通状態、ネゲートされると非導通状態となるよう通断を行う出力ゲート回路と、を備えていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体記憶装置。
The three-state buffer is
A high impedance input circuit receiving the output voltage of the D latch circuit input from the input terminal with high impedance;
Connected between the output terminal of the high-impedance input circuit and the bit line, and disconnected so as to be conductive when the read selection signal input from the control terminal is asserted and non-conductive when negated. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising: an output gate circuit that performs the operation.
前記高インピーダンス入力回路は、CMISインバータ又はソース接地された片チャネルMISFETであることを特徴とする請求項3に記載の半導体記憶装置。   4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein the high impedance input circuit is a CMIS inverter or a single-channel MISFET whose source is grounded. 複数の前記ワード線ペアと複数の前記ビット線とが格子状に配設され、両者の各交点に対応して前記メモリセルが設けられており、
読出データの論理レベル電圧を外部へ出力するための外部データ出力端子と、
書込データの論理レベル電圧を外部から入力するための外部データ入力端子と、
データの書込又は読み出しを行うメモリセルに接続する前記ビット線の列を選択する列アドレス信号を外部から入力するための列アドレス入力端子と、
ラッチ制御信号を外部から入力するためのラッチ端子と、
前記各ビット線、前記外部データ出力端子、前記外部データ入力端子、前記列アドレス入力端子及び前記ラッチ端子に接続され、前記列アドレス入力端子に入力される前記列アドレス信号に従って、前記外部データ入力端子及び前記外部データ出力端子を前記各ビット線の何れか一つに接続する列選択回路と、を備え、
前記列選択回路は、出力セレクタと、前記各ビット線の其々に対して設けられた複数のデータホールド回路及び複数の書込用セレクタと、を備え、
前記出力セレクタは、複数の入力端子、1つの出力端子及び選択制御端子を有し、前記各入力端子が前記各ビット線に其々接続され、前記出力端子が前記外部データ出力端子に接続され、前記選択制御端子が前記列アドレス入力端子に接続されており、前記列アドレス入力端子から入力される前記列アドレス信号に従って、前記各ビット線の何れか一つを前記外部データ出力端子に接続するマルチプレクサであり、
前記各データホールド回路は、D端子、クロック端子、及びQ端子を有し、前記D端子が対応する前記ビット線に接続され、前記クロック端子が前記ラッチ端子に接続されており、前記ラッチ端子から入力される前記ラッチ制御信号に従って、対応する前記ビット線の論理レベル電圧をラッチして前記Q端子に出力するDラッチ回路であり、
前記各書込用セレクタは、2つの入力端子、1つの出力端子及び選択制御端子を有し、前記各入力端子が前記外部データ入力端子及び対応する前記データホールド回路のQ端子に其々接続され、前記出力端子が対応する前記ビット線に接続され、前記選択制御端子が前記列アドレス入力端子に接続されており、前記列アドレス信号により対応する前記ビット線が選択された場合、該ビット線に前記外部データ入力端子を接続し、それ以外の場合、該ビット線に対応する前記データホールド回路のQ端子を接続するマルチプレクサであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一に記載の半導体記憶装置。
A plurality of the word line pairs and a plurality of the bit lines are arranged in a lattice shape, and the memory cells are provided corresponding to the intersections of the two,
An external data output terminal for outputting the logic level voltage of the read data to the outside;
An external data input terminal for inputting the logic level voltage of the write data from the outside;
A column address input terminal for externally inputting a column address signal for selecting a column of the bit line connected to a memory cell for writing or reading data;
A latch terminal for inputting a latch control signal from the outside;
The external data input terminal is connected to each bit line, the external data output terminal, the external data input terminal, the column address input terminal, and the latch terminal, and according to the column address signal input to the column address input terminal. And a column selection circuit for connecting the external data output terminal to any one of the bit lines,
The column selection circuit includes an output selector, a plurality of data hold circuits and a plurality of write selectors provided for each of the bit lines,
The output selector has a plurality of input terminals, one output terminal, and a selection control terminal, each input terminal is connected to each bit line, and the output terminal is connected to the external data output terminal, A multiplexer that connects the selection control terminal to the column address input terminal and connects any one of the bit lines to the external data output terminal in accordance with the column address signal input from the column address input terminal And
Each data hold circuit has a D terminal, a clock terminal, and a Q terminal, the D terminal is connected to the corresponding bit line, the clock terminal is connected to the latch terminal, A D latch circuit that latches a logic level voltage of the corresponding bit line in accordance with the input latch control signal and outputs the latched voltage to the Q terminal;
Each of the write selectors has two input terminals, one output terminal, and a selection control terminal, and each of the input terminals is connected to the external data input terminal and the corresponding Q terminal of the data hold circuit. When the output terminal is connected to the corresponding bit line, the selection control terminal is connected to the column address input terminal, and the corresponding bit line is selected by the column address signal, 5. The multiplexer according to claim 1, wherein the multiplexer is connected to the external data input terminal, and is connected to the Q terminal of the data hold circuit corresponding to the bit line in the other cases. Semiconductor memory device.
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