JP2013195841A - 反射板、光源装置、及びプロジェクタ - Google Patents

Abstract

【課題】高温環境下での劣化を抑制し、耐久性及び耐環境性の向上を実現した反射板、該反射板を具備する光源装置及びプロジェクタを提供すること。
【解決手段】入射光を反射する光学用反射膜３８０４を具備する反射板である蛍光体ホイール３８を次のように構成する。基板３８０１と、前記基板３８０１上に形成された平坦層であるＮｉＰ無電界メッキ層３８０２と、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２と光学用反射膜３８０４との間に形成され、光学用反射膜３８０４とＮｉＰ無電界メッキ層３８０２とが化学反応することを阻害する耐久性向上目的層３８０３とを、蛍光体ホイール３８に具備させる。
【選択図】図４

Description

本発明は、反射板、該反射板を具備する光源装置及びプロジェクタに関する。

一般に、パーソナルコンピュータ等から出力された画像データに基づく画像をスクリーン等に投影する画像投影装置としてのプロジェクタが知られている。このようなプロジェクタの一種として、光源から射出された光をデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ；登録商標）と呼ばれるマイクロミラー表示素子に集光させ、このマイクロミラー表示素子からの反射光で画像を形成する方式を採るプロジェクタが知られている。

このようなプロジェクタには、光源から照射された光を反射させる為の反射部材（反射板）が設けられている。この反射板には、光源から照射される光によって多量の熱エネルギーが蓄積され得る。

なお、このような反射板に関する技術として、例えば特許文献１に次のような技術が開示されている。すなわち、特許文献１には、照射光に起因する熱変形を抑制する為に、金属製基板または合金基板と、前記基板の表面に形成され、表面が光学的に平坦に研磨された非晶質物質の薄膜と、を有する反射鏡が開示されている。

特開平１１−３２６５９８号公報

ところで、プロジェクタに用いられる反射板は、例えばＡｌ基板上に、アルミナ層（研磨層）と、増反射膜と純Ａｇとから成る光学用反射層と、が積層されて成る。ここで、当該反射板に熱エネルギーが蓄積されて高温になると、前記アルミナ層と前記光学用反射層とが反応して劣化が生じてしまう。そして、特許文献１に開示された技術は、このような課題を解決できるものではない。

本発明は、上述の事情に鑑みて為されたものであり、高温環境下での劣化を抑制し、耐久性及び耐環境性の向上を実現した反射板、該反射板を具備する光源装置及びプロジェクタを提供することを目的とする。

前記目的を果たすため、本発明の反射板の一態様は、
入射光を反射する反射層を具備する反射板であって、
基板と、
前記基板上に形成された平坦層と、
前記平坦層と前記反射層との間に形成され、前記反射層と前記平坦層とが化学反応することを阻害する凝集阻害層と、
を具備することを特徴とする。

前記目的を果たすため、本発明の光源装置の一態様は、
前記一態様に係る反射板と、
略平面状に配列され、前記反射板に光を照射する複数の光源と、
を具備することを特徴とする。

前記目的を果たすため、本発明のプロジェクタの一態様は、
前記一態様に係る光源装置と、
表示素子と、
前記光源装置からの光を前記表示素子に導く光源側光学系と、
前記表示素子から射出された画像を投影する投影光学系と、
前記光源装置及び表示素子を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とする。

本発明によれば、高温環境下での劣化を抑制し、耐久性及び耐環境性の向上を実現した反射板、該反射板を具備する光源装置及びプロジェクタを提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係るプロジェクタの構成例の概略を示すブロック図である。 図２は、本発明の一実施形態に係るプロジェクタの光学系の一例の概略を示すブロック図である。 図３は、蛍光体ホイールの上面図である。 図４は、図３に示す蛍光体ホイールのＡ−Ａ´線断面図である。 図５は、蛍光体ホイールの積層構造の作成工程を示すフローチャートである。 図６は、本発明の一実施形態に係る蛍光体ホイールの積層構造の一変形例を示す図である。 図７は、本発明の一実施形態に係る蛍光体ホイールの積層構造の一変形例を示す図である。 図８は、本発明の一実施形態に係る蛍光体ホイールの積層構造の一変形例を示す図である。

以下、本発明の一実施形態に係る反射板（例えば後述する蛍光体ホイール３８に対応）、該反射板を具備する光源部（例えば後述する光源部１５に対応）及びプロジェクタ（例えば後述するプロジェクタ１０に対応）について説明する。

本一実施形態に係るプロジェクタは、マイクロミラー表示素子を用いたＤｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ（ＤＬＰ）（登録商標）方式を用いている。

図１は、本一実施形態に係るプロジェクタ１０の概略構成例を示すブロック図である。同図に示すように、プロジェクタ１０は、入力部１１と、画像変換部１２と、投影処理部１３と、マイクロミラー素子１４と、光源部１５と、ミラー１６と、投影レンズ部１７と、ＣＰＵ１８と、メインメモリ１９と、プログラムメモリ２０と操作部２１と、音声処理部２２と、スピーカ２３と、を有する。

前記入力部１１には、例えばピンジャック（ＲＣＡ）タイプのビデオ入力端子や、Ｄ−ｓｕｂ１５タイプのＲＧＢ入力端子といった端子が設けられており、アナログ画像信号が入力される。入力部１１は、入力された各種規格のアナログ画像信号をデジタル画像信号に変換する。入力部１１は、変換したデジタル画像信号を、システムバスＳＢを介して画像変換部１２に出力する。なお、入力部１１には、例えばＨＤＭＩ（登録商標）端子等も設けられ、アナログ画像信号のみならずデジタル画像信号も入力され得るようにしてもよい。また、入力部１１には、アナログ又はデジタル信号による音声信号が入力される。入力部１１は、入力された音声信号を音声処理部２２に出力する。

前記画像変換部１２は、スケーラとも称される。画像変換部１２は、入力された画像データを投影に適した所定のフォーマットの画像データに変換し、変換データを投影処理部１３へ送信する。必要に応じて画像変換部１２は、Ｏｎ Ｓｃｒｅｅｎ Ｄｉｓｐｌａｙ（ＯＳＤ）用の各種動作状態を示すシンボルを重畳した画像データを、加工画像データとして投影処理部１３に送信する。

前記光源部１５は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の原色光を含む複数色の光を射出する。ここで、光源部１５は、複数色の色を時分割で順次射出するように構成されている。光源部１５から射出された光は、ミラー１６で全反射し、マイクロミラー素子１４に入射する。

前記マイクロミラー素子１４は、アレイ状に配列された複数の微小ミラーを有する。各微小ミラーは、高速でオン／オフ動作して、光源部１５から照射された光を投影レンズ部１７の方向に反射させたり、投影レンズ部１７の方向からそらしたりする。マイクロミラー素子１４には、微小ミラーが例えばＷＸＧＡ（Ｗｉｄｅ ｅＸｔｅｎｄｅｄ Ｇｒａｐｈｉｃ Ａｒｒａｙ）（横１２８０画素×縦８００画素）分だけ並べられている。各微小ミラーにおける反射によって、マイクロミラー素子１４は、例えばＷＸＧＡ解像度の画像を形成する。このように、マイクロミラー素子１４は空間的光変調素子として機能する。

前記投影処理部１３は、画像変換部１２から送信された画像データに応じて、その画像データが表す画像を表示させるため、マイクロミラー素子１４を駆動する。すなわち、投影処理部１３は、マイクロミラー素子１４の各微小ミラーをオン／オフ動作させる。ここで投影処理部１３は、マイクロミラー素子１４を高速に時分割駆動する。単位時間の分割数は、所定のフォーマットに従ったフレームレート、例えば６０［フレーム／秒］と、色成分の分割数と、表示階調数とを乗算して得られる数である。また、投影処理部１３は、マイクロミラー素子１４の動作と同期させて光源部１５の動作も制御する。すなわち、投影処理部１３は、各フレームを時分割して、フレーム毎に全色成分の光を順次射出するように光源部１５の動作を制御する。

前記投影レンズ部１７は、マイクロミラー素子１４から導かれた光を、例えば図示しないスクリーン等に投影する光に調整する。したがって、マイクロミラー素子１４による反射光で形成された光像は、投影レンズ部１７を介して、スクリーンに投影表示される。

前記音声処理部２２は、ＰＣＭ音源等の音源回路を備える。入力部１１から入力されたアナログ音声データに基づいて、又は投影動作時に与えられたデジタル音声データをアナログ化した信号に基づいて、音声処理部２２は、スピーカ２３を駆動して拡声放音させる。また、音声処理部２２は、必要に応じてビープ音等を発生させる。スピーカ２３は、音声処理部２２から入力された信号に基づいて音声を射出する一般的なスピーカである。

前記ＣＰＵ１８は、画像変換部１２、投影処理部１３及び音声処理部２２の動作を制御する。このＣＰＵ１８は、メインメモリ１９及びプログラムメモリ２０と接続されている。メインメモリ１９は、例えばＳＲＡＭで構成される。メインメモリ１９は、ＣＰＵ１８のワークメモリとして機能する。プログラムメモリ２０は、電気的に書き換え可能な不揮発性メモリで構成される。プログラムメモリ２０は、ＣＰＵ１８が実行する動作プログラムや各種定型データ等を記憶する。また、ＣＰＵ１８は、操作部２１と接続されている。操作部２１は、プロジェクタ１０の本体に設けられるキー操作部と、プロジェクタ１０専用の図示しないリモートコントローラからの赤外光を受光する赤外線受光部とを含む。操作部２１は、ユーザが本体のキー操作部又はリモートコントローラで操作したキーに基づくキー操作信号をＣＰＵ１８に出力する。ＣＰＵ１８は、メインメモリ１９及びプログラムメモリ２０に記憶されたプログラムやデータを用いて、操作部２１からのユーザの指示に応じてプロジェクタ１０の各部の動作を制御する。

図２は、本一実施形態に係るプロジェクタ１０の光学系の一例の概略を示すブロック図である。以下、光源部１５、ミラー１６、マイクロミラー素子１４及び投影レンズ部１７を含む本一実施形態に係るプロジェクタ１０の光学系を、図２を参照して説明する。

前記光源部１５には、青色のレーザ光を発する半導体発光素子である半導体レーザ（レーザダイオード；ＬＤ）１２０を光源として有するレーザ光源ユニット１００が設けられている。

前記ＬＤ１２０は、レーザ光源ユニット１００内にアレイ状に配列されている。例えば本一実施形態では、３行８列に計２４個のＬＤ１２０がアレイ状に配置されている。各ＬＤ１２０が発する青色のレーザ光は、各ＬＤ１２０に対応して配置されたコリメータレンズ１５０を通り平行光となり、レーザ光源ユニット１００から射出される。

前記コリメータレンズ１５０と対向した位置には、ミラー３２が階段状に配置されている。レーザ光源ユニット１００から射出されたレーザ光は、ミラー３２で反射され、その光路を９０度変化させつつ、１つの光束にまとめられる。この光束の光路上には、レンズ３３，３４及び第１のダイクロイックミラー３５が配置されている。

前記ミラー３２で反射されたレーザ光は、レンズ３３，３４により平行な光束とされた後、第１のダイクロイックミラー３５に入射する。第１のダイクロイックミラー３５は、青色光を透過する。透過光の光路には、レンズ３６，３７及び蛍光体ホイール３８が配置されている。第１のダイクロイックミラー３５を透過した青色光は、レンズ３６，３７を介して蛍光体ホイール３８に照射される。

図３は、蛍光体ホイール３８の上面図である。図４は、図３に示す蛍光体ホイール３８のＡ−Ａ´線断面図である。

前記蛍光体ホイール３８は、図３に示すように略円盤形状を呈し、図４に示すように積層構造を採っている。この蛍光体ホイール３８は、基板３８０１上に、ＮｉＰ無電界メッキ層（平坦層）３８０２と、耐久性向上目的層３８０３と、光学用反射膜３８０４と、蛍光体層３８０５とが、この順に積層されて成る。

前記基板３８０１は、例えばアルミニウム等を材料として成り、その上面が研磨された基板である。

前記ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２は、基板３８０１の上面にＮｉＰ無電界メッキを施して成る層であり、平坦性を備えた層である。

前記耐久性向上目的層３８０３は、当該蛍光体ホイール３８に熱エネルギーが蓄積されて高温になった場合であっても、光学用反射膜３８０４とＮｉＰ無電界メッキ層３８０２とが反応してしまうことを防止する（凝集を阻害する）為の緩衝層であり、例えば銅等を材料として形成されている。

前記光学用反射膜３８０４は、入射光を反射する部材であり、例えば銀やアルミナ等を材料として形成されている。

前記蛍光体層３８０５は、青色の光が照射された際に緑色の蛍光を放射する蛍光体から成る層である。この蛍光体層３８０５は、レーザ光源ユニット１００からのレーザ光が照射される面に蛍光体が塗布されて形成されている。

ここで、蛍光体層３８０５は、蛍光体ホイール３８の上面のうち図３に示すように外縁近傍部位にのみ形成されている。また、蛍光体ホイール３８の外縁近傍部位の一部分においては、光学用反射膜３８０４と蛍光体層３８０５とが設けられておらず、耐久性向上目的層３８０３上に拡散板３８０６（図３参照）が設けられている。この拡散板３８０６は、青色光を透過し、且つその光を拡散させる。

図５は、上述した蛍光体ホイール３８の積層構造の作成工程を示すフローチャートである。

まず、アルミ素材を切削加工して、基板３８０１を作成する（ステップＳ１）。続いて、基板３８０１を表面研磨し（ステップＳ２）、当該表面にＮｉＰ無電界メッキを施し（ステップＳ３）、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２を作成する。

その後、ステップＳ３において施したＮｉＰ無電界メッキを例えば２回表面研磨し（ステップＳ４）、洗浄する（ステップＳ５）。続いて、ステップＳ４までの工程で作成したＮｉＰ無電界メッキ層３８０２上に、例えば蒸着、イオンプレーティング、又はスパッタ等によって、耐久性向上目的層３８０３を形成する（ステップＳ６）。

さらに、ステップＳ６で形成した耐久性向上目的層３８０３上に、光学用反射膜３８０４を、例えば蒸着、イオンプレーティング、又はスパッタ等によって形成する（ステップＳ７）。そして、蛍光体ホイール３８のうち蛍光体層３８０５を設ける必要がある部位のみについて、光学用反射膜３８０４上に蛍光体を塗布する等によって、蛍光体層３８０５を形成する（ステップＳ８）。これら一連の処理によって当該積層構造が完成する。

ところで、蛍光体ホイール３８は、回転駆動部であるモータ（Ｍ）３９の駆動により回転する。この回転は、投影処理部１３によって、マイクロミラー素子１４とともに同期制御される。投影処理部１３は、制御の際、蛍光体ホイール３８に形成された図示しないマーカの回転を検出し、その検出結果を利用する。

青色のレーザ光は、蛍光体ホイール３８の蛍光体層３８０５に入射すると、緑色の蛍光を放射する。この緑色の蛍光は、等方的に放射される。蛍光体層３８０５の裏面側に放射された蛍光は、光学用反射膜３８０４によって反射される。したがって、蛍光体層３８０５から放射された蛍光は、レンズ３７，３６側に導かれる。レンズ３７，３６を通過した緑色光は、第１のダイクロイックミラー３５に入射する。

第１のダイクロイックミラー３５は、緑色光を反射する。反射光の光路には、レンズ４１と第２のダイクロイックミラー４２が配置されている。第１のダイクロイックミラー３５で反射された緑色光は、レンズ４１を介して第２のダイクロイックミラー４２に入射する。第２のダイクロイックミラー４２は緑色光を反射する。この反射光の光路には、レンズ４３と、インテグレータ４４と、レンズ４５と、ミラー４６と、レンズ４７と、ミラー１６とがこの順に配置されている。インテグレータ４４は、光束の輝度分布を均一にする素子である。第２のダイクロイックミラー４２で反射された緑色光は、レンズ４３を介してインテグレータ４４を通り輝度分布が均一な光束とされ、レンズ４５、ミラー４６、レンズ４７を介してミラー１６に入射する。

また、レーザ光源ユニット１００から射出された青色レーザ光の光路上に、蛍光体ホイール３８の拡散板３８０６が設けられている場合、この青色レーザ光は、以下の経路を通る。

すなわち、レーザ光源ユニット１００から射出された青色レーザ光は、蛍光体ホイール３８の拡散板３８０６に入射し、この拡散板３８０６を拡散しつつ透過する。透過光の光路上には、レンズ５０、ミラー５１、レンズ５２、ミラー５３、レンズ５４、第２のダイクロイックミラー４２が配置されている。拡散板３８０６を透過した青色光は、レンズ５０を介してミラー５１で反射され、レンズ５２を介してさらにミラー５３で反射され、レンズ５４を介して、第２のダイクロイックミラー４２に入射する。第２のダイクロイックミラー４２は、青色光を透過させる。第２のダイクロイックミラー４２を透過した青色光は、レンズ４３を介してインテグレータ４４を通り輝度分布が均一な光束とされる。インテグレータ４４から出射した青色光は、レンズ４５、ミラー４６、レンズ４７を介してミラー１６に入射する。

光源部１５は、さらに赤色光を発する半導体発光素子である発光ダイオード（ＬＥＤ）５５を光源として有する。ＬＥＤ５５から射出された光の光路上には、レンズ５６，５７及び第１のダイクロイックミラー３５が配置されている。ＬＥＤ５５が発する赤色光は、レンズ５６，５７を介して、第１のダイクロイックミラー３５に入射する。第１のダイクロイックミラー３５は、赤色光を透過する。第１のダイクロイックミラー３５を透過した赤色光は、レンズ４１を介して第２のダイクロイックミラー４２に入射する。第２のダイクロイックミラー４２は赤色光を反射する。第２のダイクロイックミラー４２で反射された赤色光は、レンズ４３を介してインテグレータ４４を通り輝度分布が均一な光束とされる。インテグレータ４４から出射した赤色光は、レンズ４５、ミラー４６、レンズ４７を介してミラー１６に入射する。

ミラー１６で反射された緑色光、青色光、赤色光はそれぞれ、レンズ４８を介してマイクロミラー素子１４に照射される。マイクロミラー素子１４は、投影レンズ部１７方向への反射光によって光像を形成する。この光像はレンズ４８及び投影レンズ部１７を介して投影対象のスクリーン（不図示）等に照射される。

本一実施形態に係るプロジェクタ１０の動作を説明する。なお、以下の動作は、ＣＰＵ１８の制御の下、投影処理部１３が実行するものである。レーザ光源ユニット１００の青色発光用のＬＤ１２０と赤色発光用のＬＥＤ５５との発光タイミング、この発光タイミングに同期した蛍光体ホイール３８の回転タイミング、及びマイクロミラー素子１４の動作は、何れも投影処理部１３により制御される。

例えば赤色光（Ｒ）、緑色光（Ｇ）、青色光（Ｂ）の３色の光をマイクロミラー素子１４に入射させる場合を例に挙げて説明する。赤色光をマイクロミラー素子１４に入射させるタイミングにおいては、赤色発光用のＬＥＤ５５を点灯し、青色発光用のＬＤ１２０を消灯する。緑色光をマイクロミラー素子１４に入射させるタイミングにおいては、赤色発光用のＬＥＤ５５を消灯し、青色発光用のＬＤ１２０を点灯する。この際、蛍光体ホイール３８は、モータ３９による回転によって、青色光の光路に蛍光層が位置するようにされている。青色光をマイクロミラー素子１４に入射させるタイミングにおいては、赤色発光用のＬＥＤ５５を消灯し、青色発光用のＬＤ１２０を点灯する。この際、蛍光体ホイール３８は、モータ３９による回転によって、青色光の光路に拡散板が位置するようにされている。

以上のように、ＬＥＤ５５及びＬＤ１２０の点灯及び消灯と、モータ３９による蛍光体ホイール３８の回転角度とを制御することで、マイクロミラー素子１４に順次、赤色光、緑色光、及び青色光を入射させる。

マイクロミラー素子１４は、各色の光について微小ミラー毎（画素毎）に、画像データに基づく輝度が高い程入射した光を投影レンズ部１７に導く時間を長くし、輝度が低い程入射した光を投影レンズ部１７に導く時間を短くする。すなわち、投影処理部１３は、輝度が高い画素に対応する微小ミラーが長時間オン状態となるように、輝度が低い画素に対応する微小ミラーが長時間オフ状態となるように、マイクロミラー素子１４を制御する。このようにすることで、投影レンズ部１７から射出される光について、微小ミラー毎（画素毎）に各色の輝度を表現できる。

フレーム毎に、微小ミラーがオンになっている時間で表現された輝度を各色について組み合わせることで画像が表現される。以上のようにして、投影レンズ部１７からは、画像が表現された投影光が射出される。この投影光が、例えばスクリーンに投影されることで、スクリーン等には画像が表示される。

なお、上記説明では、赤色光、緑色光、青色光の３色を用いるプロジェクタの例を示したが、マゼンタやイエロー等の補色や、白色光等を組み合わせて画像を形成するように、これら色の光を射出できるようにプロジェクタを構成してもよい。 以上説明したように、本一実施形態によれば、高温環境下での劣化を抑制し、耐久性及び耐環境性の向上を実現した反射板、該反射板を具備する光源装置及びプロジェクタを提供することができる。また、上記説明では、蛍光体ホイール３８は、光学用反射膜３８０４と蛍光体層３８０５とが設けられている部分と、拡散板３８０６が設けられている構成で説明したが、本願発明の反射板は、拡散板３８０６を具備しない構成でも同様の効果を有する。

以上、一実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で、種々の変形及び応用が可能なことは勿論である。

《変形例》
図６乃至図８は、それぞれ上述の蛍光体ホイール３８の積層構造の一変形例を示す図である。

図６に示す積層構造例では、耐久性向上目的層３８０３の代わりに、ボンディングレイヤー３８１３が設けられている。具体的には、ボンディングレイヤー３８１３は、高温環境下であっても、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２と光学用反射膜３８０４とを反応させないような凝集阻害機能を有する。このようにボンディングレイヤー３８１３を設けることによって、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２と光学用反射膜３８０４との間の凝集が阻害されると共に、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２と光学用反射膜３８０４との間の接着力が増強される。

図７に示す積層構造例では、光学用反射膜３８０４の代わりに、誘電体多層膜３８１４が設けられている。誘電体多層膜３８１４は、通常は凝集阻害機能を有している為、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２との間の凝集を阻害する為の耐久性向上目的層を設ける必要がなくなる。

図８に示す積層構造例では、光学用反射膜３８０４の代わりに、Ａｇ／Ａｇ合金と反射膜とから成る層３８１４´が設けられている。このＡｇ／Ａｇ合金と反射膜とから成る層３８１４´は凝集阻害機能を有している為、ＮｉＰ無電界メッキ層３８０２との間の凝集を阻害する為の耐久性向上目的層を設ける必要がなくなる。

さらに、上述した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示した複数の構成要件の適当な組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示す全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとする課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で述べられている効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成も発明として抽出され得る。

以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。

（付記）
前記の具体的実施形態から、以下のような構成の発明を抽出することができる。

（１）
入射光を反射する反射層を具備する反射板であって、
基板と、
前記基板上に形成された平坦層と、
前記平坦層と前記反射層との間に形成され、前記反射層と前記平坦層とが化学反応することを阻害する凝集阻害層と、
を具備することを特徴とする反射板。

（２）
前記凝集阻害層は銅を含む層である
ことを特徴とする（１）に記載の反射板。

（３）
前記平坦層は無電界メッキ面を備える層である
ことを特徴とする（１）に記載の反射板。

（４）
前記反射層上には蛍光体から成る蛍光体層が形成されている
ことを特徴とする（１）に記載の反射板。

（５）
（１）乃至（４）のうち何れか一つに記載の反射板と、
略平面状に配列され、前記反射板に光を照射する複数の光源と、
を具備することを特徴とする光源装置。

（６）
（５）に記載の光源装置と、
表示素子と、
前記光源装置からの光を前記表示素子に導く光源側光学系と、
前記表示素子から射出された画像を投影する投影光学系と、
前記光源装置及び表示素子を制御する制御手段と、
を備えることを特徴とするプロジェクタ。

１０…プロジェクタ、１１…入力部、１２…画像変換部、１３…投影処理部、１４…マイクロミラー素子、１５…光源部、１６…ミラー、１７…投影レンズ部、１８…ＣＰＵ、１９…メインメモリ、２０…プログラムメモリ、２１…操作部、２２…音声処理部、２３…スピーカ、３２，４６，５１，５３…ミラー、３３，３４，３６，３７，４１，４３，４５，４７，４８，５０，５２，５４，５６，５７…レンズ、３５…第１のダイクロイックミラー、３８…蛍光ホイール、３９…モータ、４２…第２のダイクロイックミラー、４４…インテグレータ、５５…発光ダイオード（ＬＥＤ）、１００…レーザ光源ユニット、１２０…半導体レーザ（ＬＤ）、１５０…コリメータレンズ、 ３８０１…基板、 ３８０２…ＮｉＰ無電界メッキ層、 ３８０３…耐久性向上目的層、 ３８０４…光学用反射膜、 ３８０５…蛍光体層、 ３８０６…拡散板、 ３８１３…ボンディングレイヤー、 ３８１４…誘電体多層膜、 ３８１４´…Ａｇ／Ａｇ合金と反射膜とから成る層。

Claims (6)

1. 入射光を反射する反射層を具備する反射板であって、
   基板と、
   前記基板上に形成された平坦層と、
   前記平坦層と前記反射層との間に形成され、前記反射層と前記平坦層とが化学反応することを阻害する凝集阻害層と、
   を具備することを特徴とする反射板。
2. 前記凝集阻害層は銅を含む層である
   ことを特徴とする請求項１に記載の反射板。
3. 前記平坦層は無電界メッキ面を備える層である
   ことを特徴とする請求項１に記載の反射板。
4. 前記反射層上には蛍光体から成る蛍光体層が形成されている
   ことを特徴とする請求項１に記載の反射板。
5. 請求項１乃至請求項４のうち何れか１項に記載の反射板と、
   略平面状に配列され、前記反射板に光を照射する複数の光源と、
   を具備することを特徴とする光源装置。
6. 請求項５に記載の光源装置と、
   表示素子と、
   前記光源装置からの光を前記表示素子に導く光源側光学系と、
   前記表示素子から射出された画像を投影する投影光学系と、
   前記光源装置及び表示素子を制御する制御手段と、
   を備えることを特徴とするプロジェクタ。

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