JP2013194071A - Epoxy-modified silicone composition - Google Patents

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Yoshito Kuroda
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy-modified silicone composition having excellent storage stability under exposure to light such as sunlight when transported and stored.SOLUTION: An epoxy-modified silicone composition includes 0.0005-5 pts.mass of a light stabilizer based on 100 pts.mass of an epoxy-modified silicone represented by average composition formula (1), wherein Reach independently represents (A) a monovalent aliphatic organic group, (B) a monovalent aromatic organic group or (C) a monovalent organic group; Reach independently represents an organic group including an epoxy group; Y each independently represents a divalent organic group; Z represents a divalent hydrocarbon group bonding to Y; and a to n represent the number of moles of each siloxy unit present in 1 mole of the epoxy-modified silicone.

Description

本発明は、保存安定性に優れたエポキシ変性シリコーン組成物に関する。   The present invention relates to an epoxy-modified silicone composition having excellent storage stability.

従来より、酸無水物系硬化剤を用いたエポキシ樹脂組成物は、透明な硬化物を与え、耐熱性が高い発光ダイオードやフォトダイオード等の発光素子の封止材料として好適に用いられてきた。しかしながら、近年、光半導体の高性能化が進み、封止用樹脂にも良好な透明性と高い耐熱性以外に、優れた耐光性、耐酸化性、LEDのオン/オフサイクルに伴う温冷サイクル時の耐クラック性(以下、「耐クラック性」と略記する。)、温冷サイクル時の密着性(以下、「密着性」と略記する。)、並びに、250℃以上で行われる半田リフロー時の耐クラック性及び接着性(以下、「半田リフロー耐性」と略記する。)、を有する硬化物が要求されるようになり、従来用いられてきたビスフェノールA系エポキシ樹脂やビスフェノールF系エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂を主成分とする組成物では、十分な特性が得られなくなっているのが実情である。   Conventionally, an epoxy resin composition using an acid anhydride-based curing agent has been suitably used as a sealing material for light-emitting elements such as light-emitting diodes and photodiodes that give a transparent cured product and have high heat resistance. However, in recent years, the performance of optical semiconductors has advanced, and in addition to good transparency and high heat resistance for sealing resins, it also has excellent light resistance, oxidation resistance, and warm / cool cycle accompanying LED on / off cycle Crack resistance (hereinafter abbreviated as “crack resistance”), adhesion during heating / cooling cycle (hereinafter abbreviated as “adhesion”), and solder reflow performed at 250 ° C. or higher Hardened products having crack resistance and adhesiveness (hereinafter abbreviated as “solder reflow resistance”) have been required, and conventionally used bisphenol A epoxy resins, bisphenol F epoxy resins, etc. In the case of the composition mainly composed of the epoxy resin, sufficient characteristics cannot be obtained.

シロキサン骨格を繰り返し単位とし、有機基にエポキシ基を有するエポキシ変性シリコーンは、エポキシ樹脂が有する優れた透明性や耐熱性を有するばかりでなく、シリコーンが有する耐光性、耐酸化性、更には、柔軟性を併せもつことが期待されることから、高性能封止材として注目されており、多くの技術が開示されている。   Epoxy-modified silicones with a siloxane skeleton as a repeating unit and an epoxy group in the organic group not only have the excellent transparency and heat resistance of epoxy resins, but also the light resistance, oxidation resistance, and flexibility of silicone. Therefore, it is attracting attention as a high-performance sealing material, and many techniques have been disclosed.

例えば、特許文献1には、T構造を必須繰り返し単位として含有し、1分子中の珪素原子に結合する全有機基に対してエポキシ基含有有機基を0.1〜40モル%の範囲で含有するエポキシ変性シリコーンが提案されている。   For example, Patent Document 1 contains a T structure as an essential repeating unit and contains an epoxy group-containing organic group in the range of 0.1 to 40 mol% with respect to all organic groups bonded to a silicon atom in one molecule. Epoxy-modified silicones have been proposed.

また、特許文献2には、特定範囲の分子量を有し、且つ1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するシリコーン化合物を含む組成物と、その光半導体封止材への利用についての提案がなされている。   Patent Document 2 proposes a composition containing a silicone compound having a molecular weight in a specific range and having at least two epoxy groups in one molecule, and its use for an optical semiconductor sealing material. Has been made.

上記の特許文献1及び2には、当該エポキシ変性シリコーンを用いて得られる硬化物が高い耐熱性、高い耐光性、又は高い接着性を有する、或いは、得られるエポキシ変性シリコーンを含有してなる硬化性組成物が高い硬化性を有する旨の記載があるが、高い反応性を有するエポキシ基を分子内に含有するエポキシ変性シリコーン自体の保存安定性が低く、太陽光等の光暴露条件下、或いは、非暴露条件下における保存安定性が未だ十分にあるものとは言えなかった。また、エポキシ変性シリコーンに光安定剤を配合した組成物、並びに、該光安定剤を配合することにより発現する効果に関する記載や示唆は一切なされていない。   In the above Patent Documents 1 and 2, a cured product obtained using the epoxy-modified silicone has high heat resistance, high light resistance, or high adhesiveness, or a cured product containing the resulting epoxy-modified silicone. There is a description that the curable composition has high curability, but the storage stability of the epoxy-modified silicone itself containing a highly reactive epoxy group in the molecule is low, under light exposure conditions such as sunlight, or It could not be said that the storage stability under non-exposure conditions was still sufficient. Further, there is no description or suggestion regarding a composition in which a light stabilizer is blended with an epoxy-modified silicone, and an effect that is manifested by blending the light stabilizer.

特許第3263177号公報Japanese Patent No. 3263177 特開2005−171021号公報JP 2005-171021 A

本発明は、輸送や貯蔵の際等、太陽光等の光暴露条件下において、優れた保存安定性を有するエポキシ変性シリコーン組成物を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an epoxy-modified silicone composition having excellent storage stability under light exposure conditions such as sunlight during transportation and storage.

上記点に鑑み、本発明者らが鋭意検討した結果、特定の光安定剤を特定量含有するエポキシ変性シリコーン組成物が上記課題を解決可能であることを見出し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は以下のとおりである。   In view of the above points, as a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that an epoxy-modified silicone composition containing a specific amount of a specific light stabilizer can solve the above problems, and has led to the completion of the present invention. . That is, the present invention is as follows.

[1] 下記平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下含有することを特徴とする、エポキシ変性シリコーン組成物。 [1] At least one light stability selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone represented by the following average composition formula (1) An epoxy-modified silicone composition comprising 0.0005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less of an agent.

Figure 2013194071
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[平均組成式(1)中、R1は、各々独立に、(A)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基、(B)無置換又は置換された炭素原子数が6以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基であって、置換された場合には、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有する置換基を有する、1価の芳香族有機基、又は(C)鎖状、分岐状若しくは環状の無置換若しくは置換された脂肪族炭化水素構造、又は無置換若しくは置換された芳香族炭化水素構造を有する、炭素原子数が5以上26以下、酸素原子数が0以上5以下、及び珪素原子数が1である1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR1は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
2は、各々独立に、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が4以上24以下及び酸素原子数が1以上5以下であり、エポキシ基を含有する1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Yは、各々独立に、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状からなる群より選ばれる1種以上の構造からなり、炭素原子数が2以上70以下、酸素原子数が0以上15以下、及び珪素原子数が0以上10以下である2価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるYは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
ZはYと結合する2価の炭化水素基を表す。
a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各シロキシ単位のモル数を表し、a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは各々0以上の値でd+h+k>0、e+f+h+i+j+k>0、g=a+f+lを同時に満足する値である。]
[2] 遷移金属元素の含有量の合計値が30質量ppm以下である、[1]に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
[3] 前記エポキシ変性シリコーンのエポキシ価が0.15以上0.50以下の範囲である、[1]又は[2]に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
[4] R2が、各々独立に、下記一般式(2)〜(5)で表されるいずれかの有機基である、[1]〜[3]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
[In the average composition formula (1), each R 1 independently has (A) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, and has 1 to 24 carbon atoms. Or a monovalent aliphatic organic group having 0 or more and 5 or less oxygen atoms, (B) monovalent or unsubstituted or substituted carbon atoms having 6 or more and 24 or less, and oxygen atoms having 0 or more and 5 or less A monovalent aromatic organic group having a substituent having a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, when substituted, Or (C) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, having 5 to 26 carbon atoms, oxygen atom Represents a monovalent organic group having a number of 0 to 5 and a silicon atom number of 1 A plurality of R 1 in each siloxy unit may be the same or different.
Each R 2 independently has a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 4 to 24 carbon atoms and 1 to 5 oxygen atoms. Represents a monovalent organic group containing an epoxy group. A plurality of R 2 in each siloxy unit may be the same or different.
Y is each independently composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, having 2 to 70 carbon atoms and 0 to 15 oxygen atoms. Hereinafter, a divalent organic group having 0 or more and 10 or less silicon atoms is represented. A plurality of Y in each siloxy unit may be the same or different.
Z represents a divalent hydrocarbon group bonded to Y.
a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, n represent the number of moles of each siloxy unit present in 1 mole of epoxy-modified silicone; , C, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, and n are values that are 0 or more, and satisfy d + h + k> 0, e + f + h + i + j + k> 0, and g = a + f + l at the same time. ]
[2] The epoxy-modified silicone composition according to [1], wherein the total content of transition metal elements is 30 mass ppm or less.
[3] The epoxy-modified silicone composition according to [1] or [2], wherein an epoxy value of the epoxy-modified silicone is in a range of 0.15 to 0.50.
[4] The epoxy modification according to any one of [1] to [3], wherein each R 2 is independently any organic group represented by the following general formulas (2) to (5). Silicone composition.

Figure 2013194071
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[一般式(2)〜(5)中、R3は、各々独立に、炭素原子数が1以上16以下及び酸素原子数が1以上4以下であり、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された2価の有機基を表す。]
[5] 前記エポキシ変性シリコーン中の全Si数に対するSiH基の含有率が2%未満である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
[6] 25℃における粘度が、500,000mPa・s以下である、[1]〜[5]のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
[In General Formulas (2) to (5), each R 3 is independently a chain, branched or cyclic unsubstituted group having 1 to 16 carbon atoms and 1 to 4 oxygen atoms. Alternatively, it represents a substituted divalent organic group. ]
[5] The epoxy-modified silicone composition according to any one of [1] to [4], wherein the content of SiH groups with respect to the total number of Si in the epoxy-modified silicone is less than 2%.
[6] The epoxy-modified silicone composition according to any one of [1] to [5], wherein the viscosity at 25 ° C. is 500,000 mPa · s or less.

本発明は、輸送や貯蔵の際等、太陽光等の光暴露条件下において、優れた保存安定性を有するエポキシ変性シリコーン組成物を提供することが可能となる。   The present invention can provide an epoxy-modified silicone composition having excellent storage stability under light exposure conditions such as sunlight during transportation and storage.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物は、下記平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンと、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤とを含むものである。   The epoxy-modified silicone composition of the present invention is at least one selected from the group consisting of an epoxy-modified silicone represented by the following average composition formula (1), an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer. And a light stabilizer.

Figure 2013194071
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平均組成式(1)中、R1は、各々独立に、(A)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基、(B)無置換又は置換された炭素原子数が6以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基であって、置換された場合には、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有する置換基を有する、1価の芳香族有機基、又は(C)鎖状、分岐状若しくは環状の無置換若しくは置換された脂肪族炭化水素構造、又は無置換若しくは置換された芳香族炭化水素構造を有する、炭素原子数が5以上26以下、酸素原子数が0以上5以下、及び珪素原子数が1である1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR1は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 In the average composition formula (1), each R 1 independently has (A) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, and has 1 to 24 carbon atoms. And a monovalent aliphatic organic group having 0 to 5 oxygen atoms, (B) a monovalent aliphatic group having 6 to 24 carbon atoms, unsubstituted or substituted, and 0 to 5 oxygen atoms. A monovalent aromatic organic group having a substituent having a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, if the aromatic organic group is substituted, or (C) having a chain, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, having 5 to 26 carbon atoms and the number of oxygen atoms Represents a monovalent organic group having 0 to 5 and 1 silicon atom. A plurality of R 1 in each siloxy unit may be the same or different.

2は、各々独立に、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が4以上24以下及び酸素原子数が1以上5以下であり、エポキシ基を含有する1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 Each R 2 independently has a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 4 to 24 carbon atoms and 1 to 5 oxygen atoms. Represents a monovalent organic group containing an epoxy group. A plurality of R 2 in each siloxy unit may be the same or different.

Yは、各々独立に、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状からなる群より選ばれる1種以上の構造からなり、炭素原子数が2以上70以下、酸素原子数が0以上15以下、及び珪素原子数が0以上10以下である2価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるYは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
ZはYと結合する2価の炭化水素基を表す。
Y is each independently composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, having 2 to 70 carbon atoms and 0 to 15 oxygen atoms. Hereinafter, a divalent organic group having 0 or more and 10 or less silicon atoms is represented. A plurality of Y in each siloxy unit may be the same or different.
Z represents a divalent hydrocarbon group bonded to Y.

a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各シロキシ単位のモル数を表し、a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは各々0以上の値でd+h+k>0、e+f+h+i+j+k>0、g=a+f+lを同時に満足する値である。   a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, n represent the number of moles of each siloxy unit present in 1 mole of epoxy-modified silicone; , C, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, and n are values that are 0 or more, and satisfy d + h + k> 0, e + f + h + i + j + k> 0, and g = a + f + l at the same time.

ここで、平均組成式(1)において、j、k、l、m、nが下記数式(I)、数式(II)を同時に満足する場合には、上記のa、b、c、d、j、k、l、m、nは、数式(III)を満足する範囲から選択される数値である。
j+k+l+m>0 ・・・数式(I)
n>0 ・・・数式(II)
0≦(b+c+d)≦a+(j+k+l+m)+2n+2・・・数式(III)
Here, in the average composition formula (1), when j, k, l, m, and n simultaneously satisfy the following formulas (I) and (II), the above a, b, c, d, j , K, l, m, and n are numerical values selected from a range that satisfies Formula (III).
j + k + 1 + m> 0 Formula (I)
n> 0 Formula (II)
0 ≦ (b + c + d) ≦ a + (j + k + 1 + m) + 2n + 2 Formula (III)

また、上記のj、k、l、m、nが下記数式(IV)、数式(V)を同時に満足する場合には、上記のa、b、c、dは下記数式(VI)を満足する範囲から選択される数値である。
j+k+l+m=0 ・・・数式(IV)
n=0 ・・・数式(V)
0≦(b+c+d)≦a+2 ・・・数式(VI)
When j, k, l, m, and n satisfy the following expressions (IV) and (V), the above a, b, c, and d satisfy the following expression (VI). A number selected from a range.
j + k + 1 + m = 0 Formula (IV)
n = 0 Formula (V)
0 ≦ (b + c + d) ≦ a + 2 Expression (VI)

また、上記のj、k、l、m、nが各々下記数式(I)、数式(V)を同時に満足する場合には、上記のa、b、c、d、j、k、l、mは下記数式(VII)を満足する範囲から選択される数値である。
j+k+l+m>0 ・・・数式(I)
n=0 ・・・数式(V)
0≦(b+c+d)≦a+(j+k+l+m)+2 ・・・数式(VII)
Further, when the above j, k, l, m, and n satisfy the following formulas (I) and (V), respectively, a, b, c, d, j, k, l, m Is a numerical value selected from a range satisfying the following mathematical formula (VII).
j + k + 1 + m> 0 Formula (I)
n = 0 Formula (V)
0 ≦ (b + c + d) ≦ a + (j + k + 1 + m) +2 Equation (VII)

更に、j、k、l、m、nが下記数式(IV)、数式(II)を同時に満足する場合には、上記のa、b、c、d、nは下記数式(VIII)を満足する範囲から選択される数値である。
j+k+l+m=0 ・・・数式(IV)
n>0 ・・・数式(II)
0≦(b+c+d)≦a+2n+2 ・・・数式(VIII)
Furthermore, when j, k, l, m, and n simultaneously satisfy the following formulas (IV) and (II), the above a, b, c, d, and n satisfy the following formula (VIII). A number selected from a range.
j + k + 1 + m = 0 Formula (IV)
n> 0 Formula (II)
0 ≦ (b + c + d) ≦ a + 2n + 2 Equation (VIII)

本発明に係るエポキシ変性シリコーンを表す平均組成式(1)について以下に詳細を説明する。
本発明に係るエポキシ変性シリコーンのシロキサン連鎖は、ランダムであってもブロックであってもよい。
The average composition formula (1) representing the epoxy-modified silicone according to the present invention will be described in detail below.
The siloxane chain of the epoxy-modified silicone according to the present invention may be random or block.

本発明において、R1は、各々独立に、(A)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基、(B)無置換又は置換された炭素原子数が6以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基であって、置換された場合には、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有する置換基を有する、1価の芳香族有機基、又は(C)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造、及び/又は無置換又は置換された芳香族炭化水素構造を有する、炭素原子数が5以上26以下、酸素原子数が0以上5以下、及び珪素原子数が1である1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR1は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 In the present invention, each R 1 independently has (A) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 1 to 24 carbon atoms and the number of oxygen atoms A monovalent aliphatic organic group in which is 0 or more and 5 or less, (B) a monovalent aromatic organic group having 6 or more and 24 or less unsubstituted or substituted carbon atoms and 0 or more and 5 or less oxygen atoms And when substituted, a monovalent aromatic organic group having a substituent having a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, or (C) chain Having a straight, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure and / or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, having 5 to 26 carbon atoms and 0 oxygen atoms A monovalent organic group having 5 or less and 1 silicon atom is represented. A plurality of R 1 in each siloxy unit may be the same or different.

上記(A)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基としては、例えば、
(A−1)メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、等の脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(A−2)ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、等の炭素−炭素2重結合を含む脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(A−3)シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基、
(A−4)メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基等のエーテル結合を含む有機基、
等が挙げられる。
(A) Monovalent fat having a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 1 to 24 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Examples of group organic groups include:
(A-1) methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, a chain organic group composed of an aliphatic hydrocarbon such as an n-octadecyl group,
(A-2) a chain organic group composed of an aliphatic hydrocarbon containing a carbon-carbon double bond such as vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, isobutenyl group, pentenyl group, hexenyl group,
(A-3) an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, a norbornyl group,
(A-4) An organic group containing an ether bond such as methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group, propoxypropyl group,
Etc.

上記(B)無置換又は置換された炭素原子数が6以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基であって、置換された場合には、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有する置換基を有する、1価の芳香族有機基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、α−メチルスチリル基、3−メチルスチリル基、4−メチルスチリル基等が挙げられる。   (B) a monovalent aromatic organic group having 6 or more and 24 or less unsubstituted carbon atoms and 0 or less and 5 or less oxygen atoms, and when substituted, when substituted, Examples of the monovalent aromatic organic group having a substituent having a branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a benzyl group, and α-methyl. Examples include a styryl group, a 3-methylstyryl group, and a 4-methylstyryl group.

上記(C)鎖状、分岐状若しくは環状の無置換若しくは置換された脂肪族炭化水素構造、又は無置換若しくは置換された芳香族炭化水素構造を有する、炭素原子数が5以上26以下、酸素原子数が0以上5以下、及び珪素原子数が1である1価の有機基としては、例えば、下記一般式(6)、一般式(7)で表される有機基が挙げられる。   (C) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, having 5 to 26 carbon atoms, oxygen atom Examples of the monovalent organic group having a number of 0 or more and 5 or less and the number of silicon atoms of 1 include organic groups represented by the following general formula (6) and general formula (7).

Figure 2013194071
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Figure 2013194071
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ここで、R4は、各々独立に、(D)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上8以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基、又は(E)無置換又は置換された芳香族炭化水素構造と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状又は環状の脂肪族炭化水素構造とを有し、炭素原子数が6以上8以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基を表す。
以下に、R4の具体例について説明する。
Here, each R 4 independently has (D) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 1 to 8 carbon atoms and oxygen atoms. A monovalent aliphatic organic group of 0 or more and 5 or less, or (E) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, and an optionally substituted or substituted chain, branched or cyclic A monovalent aromatic organic group having an aliphatic hydrocarbon structure and having 6 to 8 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms.
A specific example of R 4 will be described below.

上記(D)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上8以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基としては、例えば、
(D−1)メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基等の脂肪族炭化水素からなる鎖状の有機基、
(D−2)シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基、ノルボルニル基等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基、
(D−3)メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基等のアルコキシ基、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基等のエーテル結合を含む有機基、
等が挙げられる。
(D) Monovalent fat having a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 1 to 8 carbon atoms and 0 to 5 oxygen atoms Examples of group organic groups include:
(D-1) methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, a chain organic group comprising an aliphatic hydrocarbon such as an n-octadecyl group,
(D-2) an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a methylcyclohexyl group, or a norbornyl group;
(D-3) Methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, isobutoxy group, alkoxy group such as t-butoxy group, methoxyethyl, ethoxyethyl, propoxyethyl group, methoxypropyl group, ethoxypropyl group An organic group containing an ether bond such as a propoxypropyl group,
Etc.

更に、上記(E)無置換又は置換された芳香族炭化水素構造と、必要に応じて無置換又は置換された、鎖状、分岐状又は環状の脂肪族炭化水素構造とを有し、炭素原子数が6以上8以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジル基、α−メチルスチリル基、3−メチルスチリル基、4−メチルスチリル基等の芳香族炭化水素からなる有機基等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上が混在した有機基であってよい。   And (E) an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure and an optionally substituted or substituted chain, branched or cyclic aliphatic hydrocarbon structure, and a carbon atom Examples of the monovalent aromatic organic group having 6 to 8 and oxygen atoms of 0 to 5 include, for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, benzyl group, α-methylstyryl group, 3-methyl Examples thereof include organic groups composed of aromatic hydrocarbons such as a styryl group and a 4-methylstyryl group. These may be organic groups in which one kind or two or more kinds are mixed.

次に、本発明における有機基R2について説明する。
2は、各々独立に、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が4以上24以下及び酸素原子数が1以上5以下であり、エポキシ基を含有する1価の有機基であり、例えば、下記一般式(2)〜一般式(5)、一般式(8)、及び一般式(9)、等の構造が例示できる。各シロキシ単位中に複数あるR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Next, the organic group R 2 in the present invention will be described.
Each R 2 independently has a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 4 to 24 carbon atoms and 1 to 5 oxygen atoms. And a monovalent organic group containing an epoxy group, and examples thereof include the following general formulas (2) to (5), general formula (8), and general formula (9). A plurality of R 2 in each siloxy unit may be the same or different.

Figure 2013194071
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Figure 2013194071
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Figure 2013194071
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上記の一般式中のR3は、R2が鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が4以上24以下及び酸素原子数が1以上5以下であり、エポキシ基を含有する1価の有機基であれば特に限定はなく、エポキシ基の構造によっても異なるが、例えば、−(CH22−O−、−(CH23−O−、−(CH24−O−、−CH2−CH(CH3)−O−、−CH2−CH(CH3)−CH2−O−、−CH2−CH2−CH(CH3)−O−、−CH2−CH(CH3)−COO−、−CH2−CH2−COO−等のエーテル結合又はエステル結合を含む構造、−(CH22−、−CH(CH3)−、−(CH23−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−、−(CH24−、−(CH25−、−(CH26−、−(CH27−、−(CH28−、−(CH29−、−(CH210−、−(CH211−、−(CH212−、−(CH213−、−(CH214−、−(CH215−、−(CH216−等の鎖状又は分岐状からなる脂肪族炭化水素構造が例示できる。 R 3 in the above general formula has an aliphatic hydrocarbon structure in which R 2 is a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted, has 4 to 24 carbon atoms and 1 oxygen atom. There is no particular limitation as long as it is a monovalent organic group containing 5 or more and containing an epoxy group, and for example, — (CH 2 ) 2 —O—, — (CH 2 ) varies depending on the structure of the epoxy group. 3 -O -, - (CH 2 ) 4 -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -CH 2 -O -, - CH 2 -CH 2 -CH (CH 3) -O -, - CH 2 -CH (CH 3) -COO -, - CH 2 structure containing an ether bond or an ester bond of -CH 2 -COO-, etc., - (CH 2) 2 - , -CH (CH 3) -, - (CH 2) 3 -, - CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 5 -, - (CH 2) 6 -, - (CH 2) 7 -, - (CH 2) 8 -, - (CH 2) 9 -, - (CH 2) 10 - , - (CH 2) 11 - , - (CH 2) 12 -, - (CH 2) 13 -, - (CH 2) 14 -, - (CH 2) 15 -, - (CH 2) 16 - etc. An aliphatic hydrocarbon structure consisting of a chain or a branch can be exemplified.

エポキシ変性シリコーン1分子中にR3が複数ある場合には、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。更に、光学異性体が存在する場合には、単独、或いは、2種以上の光学異性体が混在した有機基であってもよい。 When there are a plurality of R 3 groups in one molecule of the epoxy-modified silicone, they may be the same or different. Furthermore, when an optical isomer exists, it may be an organic group mixed alone or in combination of two or more optical isomers.

次に、本発明における有機基Y、並びに、結合Zについて説明する。
有機基Yは、後述する本発明に係るエポキシ変性シリコーンの製造の際にヒドロシリル化によって生成する連結基であり、各々独立に、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状からなる群より選ばれる1種以上の構造からなり、炭素原子数が2以上70以下、酸素原子数が0以上15以下、及び珪素原子数が0以上10以下である2価の有機基である。具体的には、例えば、下記一般式(10)で表される2価の有機基等が挙げられる。
Next, the organic group Y and the bond Z in the present invention will be described.
The organic group Y is a linking group formed by hydrosilylation during the production of the epoxy-modified silicone according to the present invention described later, and is independently from the group consisting of an unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic group. It is a divalent organic group comprising one or more selected structures, having 2 to 70 carbon atoms, 0 to 15 oxygen atoms, and 0 to 10 silicon atoms. Specific examples include a divalent organic group represented by the following general formula (10).

Figure 2013194071
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一般式(10)中、pは0又は10以下の正数である。また、R5は、各々独立に、炭素原子数が1以上10以下及び酸素原子数が0以上3以下である2価の脂肪族有機基であり、R6は、各々独立に、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状よりなる群から選ばれる1種以上の構造からなる炭素原子数が1以上6以下である1価の有機基であり、Yとして炭素原子数が2以上70以下、酸素原子数が0以上15以下、及び珪素原子数が0以上10以下の範囲から選ばれる。複数存在するR5、R6は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 In general formula (10), p is 0 or a positive number of 10 or less. R 5 is each independently a divalent aliphatic organic group having 1 to 10 carbon atoms and 0 to 3 oxygen atoms, and R 6 is each independently unsubstituted or It is a monovalent organic group having 1 or more and 6 or less carbon atoms composed of one or more structures selected from the group consisting of substituted chain, branched and cyclic groups, and Y has 2 to 70 carbon atoms. Hereinafter, the number of oxygen atoms is selected from the range of 0 to 15 and the number of silicon atoms is 0 to 10 inclusive. A plurality of R 5 and R 6 may be the same or different.

このようなR5としては、例えば、−(CH22−、−(CH23−、−(CH24−、−(CH25−、−(CH26−、−CH(CH3)−、−CH2−CH(CH3)−、−CH2−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−(CH22−、−CH2−CH(CH3)−(CH23−、−CH2−CH(CH3)−(CH24−、−CH2−CH(CH3)−(CH25−、−CH2−CH(CH3)−(CH26−、−CH2−CH(CH3)−(CH27−、−CH2−CH(CH3)−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−CH2−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−(CH22−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−(CH23−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−(CH24−CH(CH3)−CH2−、−CH(CH3)−CH2−、−CH(CH3)−(CH22−、−CH(CH3)−(CH23−、−CH(CH3)−(CH24−、−CH(CH3)−(CH25−、−CH(CH3)−(CH26−、−CH(CH3)−(CH27−、−CH(CH3)−(CH28−、−CH2−CH(CH3)−CO−O−(CH22−、−CH2−CH(CH3)−CO−O−(CH23−、−CH2−CH(CH3)−CO−O−(CH24−、−CH2−CH(CH3)−CO−O−(CH25−、−CH2−CH(CH3)−CO−O−(CH26−、−(CH22−CO−O−(CH22−、−(CH22−CO−O−(CH23−、−(CH22−CO−O−(CH24−、−(CH22−CO−O−(CH25−、−(CH22−CO−O−(CH26−、−(CH22−CO−O−(CH27−、等が例示できる。 Examples of such R 5 include — (CH 2 ) 2 —, — (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 5 —, — (CH 2 ) 6 —, -CH (CH 3) -, - CH 2 -CH (CH 3) -, - CH 2 -CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 2 -, -CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 3 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 4 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 5 - , -CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 6 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 7 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CH 2 -CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 2 -CH (CH 3) - CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (C 2) 3 -CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) - (CH 2) 4 -CH (CH 3) -CH 2 -, - CH (CH 3) -CH 2 - , -CH (CH 3) - ( CH 2) 2 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 3 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 4 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 5 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 6 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 7 -, - CH (CH 3) - (CH 2) 8 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CO -O- (CH 2) 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CO-O- (CH 2) 3 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CO-O- (CH 2) 4 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CO-O- (CH 2) 5 -, - CH 2 -CH (CH 3) -CO-O- (CH 2 ) 6- , — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 2 — , — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 4 —, — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 5 —, — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 6 —, — (CH 2 ) 2 —CO—O— (CH 2 ) 7 —, and the like.

一方、R6としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、等の炭化水素から成る鎖状の有機基、シクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、等の環状単位を含む炭化水素からなる有機基等が挙げられる。
Zは、2価の炭化水素基Yとの結合を表す。
On the other hand, as R 6 , for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, etc. And a chain organic group comprising a hydrocarbon, an organic group comprising a hydrocarbon containing a cyclic unit such as a cyclopentyl group, a methylcyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
Z represents a bond with a divalent hydrocarbon group Y.

上記のR1、R2、R5、R6には、前記の炭素数及び酸素数、必要に応じて、珪素数の範囲内であれば、有機基としてヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素や塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含んでいてもよい。 In the above R 1 , R 2 , R 5 , R 6 , the number of carbons and oxygen, and if necessary, within the range of the number of silicons, a hydroxyl unit, an alkoxy unit, an acyl unit as an organic group, It may contain a carboxyl unit, an alkenyloxy unit, an acyloxy unit, a halogen atom such as fluorine or chlorine, an ester bond, or a heteroatom such as nitrogen, phosphorus or sulfur excluding an oxygen atom or silicon atom.

本発明において、平均組成式(1)の有機基R1、R2、R5、R6としては、本発明のシリコーン組成物の耐光性が良好となる、或いは、保存時の安定性が高まる傾向にあるため、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンの全Si単位の合計モル数に対する、ヒドロキシル単位、アルコキシ単位、アシル単位、カルボキシル単位、アルケニルオキシ単位、アシルオキシ単位、フッ素を除く塩素等のハロゲン原子、或いは、エステル結合、更には、酸素原子や珪素原子を除く窒素、リン、硫黄等のヘテロ原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が、10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。 In the present invention, as the organic groups R 1 , R 2 , R 5 , and R 6 in the average composition formula (1), the light resistance of the silicone composition of the present invention is improved or the stability during storage is increased. Because of the tendency, the hydroxyl unit, alkoxy unit, acyl unit, carboxyl unit, alkenyloxy unit, acyloxy unit, and fluorine are excluded with respect to the total number of moles of all Si units of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) The total number of moles of silicon atoms bonded with halogen atoms such as chlorine, or ester bonds, and further organic groups containing hetero atoms such as nitrogen, phosphorus and sulfur excluding oxygen atoms and silicon atoms is 10% or less. It is preferably 1% or less, and more preferably not contained at all.

また、接着性が向上することから、フッ素原子を含む有機基が結合した珪素原子の合計モル数が10%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、全く含まないことが更に好ましい。   Further, since the adhesiveness is improved, the total number of moles of silicon atoms bonded with an organic group containing a fluorine atom is preferably 10% or less, more preferably 1% or less, and no inclusion at all. Further preferred.

一方、本発明のシリコーン組成物を用いて硬化物を製造する際に、安定的に再現性よく硬化させることが可能となる傾向にあるため、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンの全Si単位の合計モル数に対する、炭素−炭素2重結合を含む炭素数が2以上6以下の無置換又は置換された、鎖状及び分岐状なる群から選ばれる1種以上の構造からなる1価の脂肪族有機基が結合した珪素原子の合計モル数は、10%以下であることが好ましく、5%以下であることがより好ましく、1%以下であることが更に好ましく、全く含まないことが特に好ましい。   On the other hand, when producing a cured product using the silicone composition of the present invention, the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) tends to be stably cured with good reproducibility. It consists of one or more types of structures selected from the group consisting of unsubstituted and substituted groups having a carbon-carbon double bond of 2 or more and 6 or less, and a chain and a branch, with respect to the total number of moles of all Si units. The total number of moles of silicon atoms bonded to a monovalent aliphatic organic group is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 1% or less, and none at all. It is particularly preferred.

また、本発明のシリコーン組成物を用いて得られた硬化物の耐光性が良好となると共に、耐熱変色性が向上する傾向にあるため、本発明における平均組成式(1)の有機基R1としては、上記(A−1)、(A−3)、R4が(D−1)及び(D−2)であるC)からなる群から選択されることが好ましく、(A−1)及び(A−3)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される有機基であることがより好ましく、(A−1)及び(A−3)中の炭素数が1以上8以下、酸素数0からなる群から選択される無置換の鎖状の有機基であることが更に好ましく、メチル基であることが特に好ましい。 In addition, since the cured product obtained using the silicone composition of the present invention tends to have good light resistance and improved heat discoloration, the organic group R 1 represented by the average composition formula (1) in the present invention. Is preferably selected from the group consisting of (A-1), (A-3) and C) wherein R 4 is (D-1) and (D-2), And (A-3) is more preferably an organic group selected from the group consisting of 1 to 8 and 0 oxygen, and the number of carbons in (A-1) and (A-3) Is more preferably an unsubstituted chain organic group selected from the group consisting of 1 to 8 and an oxygen number of 0, and particularly preferably a methyl group.

本発明の平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンにおける有機基R2としては、シリコーン組成物を硬化させる際の硬化速度が高まる、或いは、シリコーン組成物を用いて得られた硬化物の耐光性が高まる傾向にあるため、一般式(2)〜一般式(5)で表されるものが好ましく、一般式(2)〜一般式(5)で表され、且つ、R3が−(CH22−、−CH(CH3)−、−(CH23−、−CH(CH3)−CH2−、−CH2−CH(CH3)−、−(CH24−、−(CH25−、−(CH26−、−(CH27−、−(CH28−、−(CH29−、−(CH210−、−(CH211−、−(CH212−、−(CH213−、−(CH214−、−(CH215−、−(CH216−等の鎖状又は分岐状からなる脂肪族炭化水素構造であることがより好ましく、一般式(2)〜一般式(5)で表され、且つ、R3が−(CH22−、−CH(CH3)−であることが更に好ましく、一般式(2)〜一般式(5)で表され、且つ、R3が−(CH22−であることが特に好ましく、一般式(3)で表され、且つ、R3が−(CH22−であることが望ましい。 As the organic group R 2 in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) of the present invention, the curing rate when the silicone composition is cured is increased, or the cured product obtained by using the silicone composition Therefore, those represented by general formula (2) to general formula (5) are preferable, represented by general formula (2) to general formula (5), and R 3 is − (CH 2) 2 -, - CH (CH 3) -, - (CH 2) 3 -, - CH (CH 3) -CH 2 -, - CH 2 -CH (CH 3) -, - (CH 2) 4 -, - (CH 2) 5 -, - (CH 2) 6 -, - (CH 2) 7 -, - (CH 2) 8 -, - (CH 2) 9 -, - (CH 2) 10 - , - (CH 2) 11 - , - (CH 2) 12 -, - (CH 2) 13 -, - (CH 2) 14 -, - (CH 2) 15 -, - (CH 2) 16 - etc. chain Or more preferably an aliphatic hydrocarbon structure consisting of branched, represented by the general formula (2) to the general formula (5), and, R 3 is - (CH 2) 2 -, - CH (CH 3 )-Is more preferable, represented by general formula (2) to general formula (5), and R 3 is particularly preferably — (CH 2 ) 2 —, represented by general formula (3). And R 3 is preferably — (CH 2 ) 2 —.

本発明における2価の有機基Yとしては、本発明のシリコーン組成物を用いて得られる硬化物の耐光性及び耐熱変色性が高まる傾向にあること、LEDのオン/オフサイクルに伴う温冷サイクルにおける耐クラック性とハウジングへの密着性が高まる傾向にあることから、有機基Yとしては、pの値が4以下であることが好ましく、2であることがより好ましく、pの値が2、且つ、R6が−(CH22−、−CH(CH3)−、からなる群から選ばれる1種以上の構造であることが更に好ましく、pの値が2、且つ、R6が−(CH22−であることが特に好ましく、pの値が2、且つ、R6が−(CH22−であり、更に、R7がメチル基であることが望ましい。 As the divalent organic group Y in the present invention, there is a tendency that the light resistance and heat discoloration of a cured product obtained by using the silicone composition of the present invention tend to increase, and the warm / cold cycle accompanying the on / off cycle of the LED. The organic group Y preferably has a value of p of 4 or less, more preferably 2, and a value of p of 2, since the crack resistance and the adhesion to the housing tend to increase. R 6 is more preferably one or more structures selected from the group consisting of — (CH 2 ) 2 — and —CH (CH 3 ) —, the value of p is 2, and R 6 is -(CH 2 ) 2 — is particularly preferable, the value of p is 2, R 6 is — (CH 2 ) 2 —, and R 7 is preferably a methyl group.

本発明の平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンにおいて、a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは、エポキシシリコーン1モル中に存在する各シロキシ単位のモル数を表し、a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは各々0以上の値であり、d+h+k>0、e+f+h+i+j+k>0、g=a+f+lを同時に満足する値である。   In the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) of the present invention, a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, and n are epoxy silicone 1 Represents the number of moles of each siloxy unit present in the mole, a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, n are each a value of 0 or more, It is a value that satisfies d + h + k> 0, e + f + h + i + j + k> 0, and g = a + f + l at the same time.

d、h、kのいずれもがゼロの場合には、エポキシ変性シリコーン中にエポキシ基が存在せず、密着性を有する硬化物を安定的に再現性よく製造することが困難となる。また、e、f、h、i、j、kのいずれもがゼロの場合には、硬化物の硬度が高すぎLEDのオン/オフサイクルに伴う温冷サイクルにおける耐クラック性が著しく低下する。   When all of d, h, and k are zero, there is no epoxy group in the epoxy-modified silicone, and it becomes difficult to stably produce a cured product having adhesiveness with good reproducibility. Further, when all of e, f, h, i, j, and k are zero, the hardness of the cured product is too high, and the crack resistance in the warm / cool cycle accompanying the on / off cycle of the LED is remarkably lowered.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物の高温時の保存安定性が一層高まることから、エポキシ変性シリコーン中の全Si数に対するSiH基の含有率(%)が2%未満であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、0.5%以下であることが更に好ましい。本発明において、エポキシ変性シリコーン中の全Si数に対するSiH基の含有率(%)は、[(c+i+m)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)×100]で表すことができる。   Since the storage stability at high temperature of the epoxy-modified silicone composition of the present invention is further increased, the content (%) of SiH groups with respect to the total number of Si in the epoxy-modified silicone is preferably less than 2%, preferably 1% More preferably, it is more preferably 0.5% or less. In the present invention, the SiH group content (%) with respect to the total number of Si in the epoxy-modified silicone can be represented by [(c + i + m) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100].

本発明に係るエポキシ変性シリコーンにおいて、分岐鎖の含有率(%)を表す[(j+k+l+m+2n)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)×100]の値は、シリコーン組成物の取り扱い性が向上し、更には硬化剤、硬化促進剤との相溶性、均一混合性が良好となり、硬化後において耐クラック性が良好となる傾向にあるため、4%以下であることが好ましく、1%以下であることがより好ましく、含まないことが更に好ましい。   In the epoxy-modified silicone according to the present invention, the value of [(j + k + l + m + 2n) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100] representing the branched chain content (%) improves the handling property of the silicone composition, and further, the curing agent and curing It is preferably 4% or less, more preferably 1% or less, and not included, because the compatibility with the accelerator and uniform mixing properties are good and the crack resistance tends to be good after curing. More preferably.

ここで、本発明に係るエポキシ変性シリコーンにおける[(c+i+m)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)]、[(j+k+l+m+2n)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)]の算出法について説明する。   Here, calculation of [(c + i + m) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n)] and [(j + k + l + m + 2n) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n)] in the epoxy-modified silicone according to the present invention is performed.

本発明に係るエポキシ変性シリコーンにおける[(c+i+m)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)]、[(j+k+l+m+2n)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)]は、下記記載の方法による29Si−NMR測定を行って得られるスペクトルパターンから算出された積分値を元に、全Siに対する(c+i+m)及び(j+k+l+m+2n)に該当する各シロキシ単位の存在比率を算出することによって得られる値である。 In epoxy-modified silicone according to the present invention [(c + i + m) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n)], [(j + k + l + m + 2n) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n)] is calculated from the spectral pattern obtained by performing 29 Si-NMR measurement according to the following methods described This is a value obtained by calculating the abundance ratio of each siloxy unit corresponding to (c + i + m) and (j + k + l + m + 2n) based on the integrated value.

29Si−NMRの測定方法>
エポキシ変性シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解して得られた溶液に、Cr(acac)3を0.015g、テトラメチルシランを10μL添加してNMR測定溶液とする。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回にて実施する。
<Measurement method of 29 Si-NMR>
To a solution obtained by dissolving 0.15 g of epoxy-modified silicone in 1 g of deuterated chloroform, 0.015 g of Cr (acac) 3 and 10 μL of tetramethylsilane are added to obtain an NMR measurement solution. Using this NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under the complete proton decoupling condition is carried out at a total number of 4000 times.

本発明に係る平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンとしては、本発明のシリコーン組成物を用いて得られる硬化物の耐熱性が高まる傾向にあるため、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価が0.15以上であることが好ましく、0.20以上であることがより好ましい。一方、本発明のシリコーン組成物を用いて得られる硬化物の耐光性、耐熱変色性が高まる傾向にあるため、本発明の平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンのエポキシ価は0.50以下であることが好ましく、0.40以下であることがより好ましく、0.37以下であることが更に好ましい。   The epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) according to the present invention tends to increase the heat resistance of a cured product obtained using the silicone composition of the present invention. It is preferably 0.15 or more, and more preferably 0.20 or more. On the other hand, since the light resistance and heat discoloration of a cured product obtained using the silicone composition of the present invention tend to increase, the epoxy value of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) of the present invention is 0. Is preferably .50 or less, more preferably 0.40 or less, and still more preferably 0.37 or less.

ここで、本発明におけるエポキシ価について説明する。
本発明におけるエポキシ価とは、エポキシ変性シリコーン100g中に存在するエポキシ単位の数のことを指し、具体的には、以下の方法によって測定される値のことをいう。
Here, the epoxy value in the present invention will be described.
The epoxy value in the present invention refers to the number of epoxy units present in 100 g of epoxy-modified silicone, and specifically refers to a value measured by the following method.

<エポキシ価の測定方法>
試料(例えば、樹脂試料)をベンジルアルコールと1−プロパノールに溶解する。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とする。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の数式(IX)に従って算出する。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)・・・数式(IX)
[ここで、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W:試料の重量(g)、
V:滴定量(mL)、
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)、
F:滴定に使用した塩酸のファクター]
<Method for measuring epoxy value>
A sample (eg, a resin sample) is dissolved in benzyl alcohol and 1-propanol. To this solution, an aqueous potassium iodide solution and a bromophenol blue indicator are added, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turns from blue to yellow is taken as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone is calculated according to the following formula (IX).
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W) Expression (IX)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: weight of sample (g),
V: titer (mL)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N),
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]

また、本発明において、シリコーン組成物を用いて得られた硬化物の表面のベタツキが抑制される傾向にあるため、[(本発明の平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンの数平均分子量)/(100/エポキシ価)]の値は1以上であることが好ましく、1.5以上であることがより好ましい。   Further, in the present invention, since there is a tendency for the surface of the cured product obtained using the silicone composition to be less sticky, [(the number of epoxy-modified silicones represented by the average composition formula (1) of the present invention). The value of (average molecular weight) / (100 / epoxy value)] is preferably 1 or more, and more preferably 1.5 or more.

ここで、本発明における平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンの数平均分子量について説明する。
本発明におけるエポキシ変性シリコーンの数平均分子量は、溶離液としてクロロホルムを用い、標準物質として単分散ポリスチレン及びスチレンモノマーを用いるゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によって得られる値のことをいう。具体的には、RI検出による溶出時間から求めた検量線を予め作成し、測定試料溶液の溶出時間と検出強度から、上記の検量線を用いて算出された数平均分子量のことをいう。
Here, the number average molecular weight of the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) in the present invention will be described.
The number average molecular weight of the epoxy-modified silicone in the present invention refers to a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) measurement using chloroform as an eluent and monodisperse polystyrene and styrene monomer as standard substances. Specifically, it refers to the number average molecular weight calculated using the above calibration curve from the elution time and detection intensity of the measurement sample solution prepared in advance from the elution time by RI detection.

エポキシ変性シリコーンは、例えば、
(F−1)オルガノハロシランやオルガノアルコキシシラン等の縮合反応性基を含有するオルガノシリコーンを基質として、必要に応じて加水分解した後、縮合反応に供することよって、エポキシ単位を有する有機基等を導入する方法、
(F−2)Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンに対し、ヒドロシリル化反応によって、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンとを付加させる方法、
(F−3)エポキシ単位を含有する有機基を置換基として有する環状オルガノシリコーンを少なくとも含む環状オルガノシリコーン類を、必要に応じて分子内にSi−H基を含有、又は含有しない、鎖状及び/又は分岐状のシロキサン類共存下で開環重合する方法、
(F−4)前記(F−1)、(F−2)、(F−3)記載の方法によって得られる変性ポリシロキサン類を再平衡化反応させることによって合成する方法、
等により製造することが可能である。前記の内、(F−1)、(F−3)、(F−4)の方法は、エポキシ基が開環する等の副反応を伴うことがしばしば見受けられるため、通常、上記の(F−2)の方法が広く用いられている。
Epoxy-modified silicone is, for example,
(F-1) An organic group having an epoxy unit by hydrolyzing as necessary using an organosilicone containing a condensation-reactive group such as an organohalosilane or an organoalkoxysilane as a substrate and then subjecting to a condensation reaction. How to introduce,
(F-2) Cyclic organohydrogensilicone containing Si-H groups and / or chain-like and branched organohydrogensilicones are subjected to a hydrosilylation reaction to form a carbon-carbon double bond and an epoxy group. And a method of adding a compound having a carbon-carbon double bond, if necessary,
(F-3) A cyclic organosilicone containing at least a cyclic organosilicone having an organic group containing an epoxy unit as a substituent, containing a Si-H group in the molecule as necessary, a chain and / Or ring-opening polymerization in the presence of branched siloxanes,
(F-4) a method of synthesizing the modified polysiloxanes obtained by the methods described in (F-1), (F-2) and (F-3) by re-equilibration reaction;
Or the like. Of these, the methods (F-1), (F-3), and (F-4) are often accompanied by side reactions such as ring opening of the epoxy group. -2) is widely used.

通常、ヒドロシリル化反応を行わせるために用いられた、例えば白金、ルテニウム、ロジウム等に代表される周期律表第8属、第9属、並びに、第10属の遷移金属、該金属の塩、或いは、該金属の錯体等に由来する遷移金属がエポキシ変性シリコーンの合成生成物中に残留する。   Usually, for example, platinum, ruthenium, rhodium and the like used in the hydrosilylation reaction, Periodic Tables 8th, 9th, and 10th group transition metals, salts of the metals, Alternatively, the transition metal derived from the metal complex or the like remains in the epoxy-modified silicone synthesis product.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物中の遷移金属元素の含有量の合計値としては、本発明のエポキシ変性シリコーン組成物を硬化して得られる硬化物の耐熱黄変性が向上することから30質量ppm以下であることが好ましく、20質量ppm以下であることがより好ましく、10質量ppm以下であることが更に好ましく、8質量ppm以下であることが特に好ましい。本発明のエポキシ変性シリコーン組成物中に含有される遷移金属元素の含有量の下限については特に限定はないが、遷移金属元素の含有量を0.01質量ppm未満まで低減するためには、例えば著しい量の活性炭を用いて吸着処理する等、多大な労力を要するため、通常、0.01質量ppm以上の範囲である。なお、1質量ppm(以下、単に「ppm」ともいう。)は、0.0001質量%に相当する。   The total content of transition metal elements in the epoxy-modified silicone composition of the present invention is 30 ppm by mass because the heat-resistant yellowing of the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone composition of the present invention is improved. Or less, more preferably 20 ppm by mass or less, still more preferably 10 ppm by mass or less, and particularly preferably 8 ppm by mass or less. The lower limit of the content of the transition metal element contained in the epoxy-modified silicone composition of the present invention is not particularly limited, but in order to reduce the content of the transition metal element to less than 0.01 mass ppm, for example, Since a great amount of labor is required such as adsorption treatment using a significant amount of activated carbon, it is usually in the range of 0.01 mass ppm or more. In addition, 1 mass ppm (hereinafter also simply referred to as “ppm”) corresponds to 0.0001 mass%.

本発明において、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを、Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンとを、ヒドロシリル化反応させるために用いられる遷移金属触媒としては、周期律表第8属、第9属、並びに、第10属の金属の単体、該金属固体をアルミナ、シリカ、カーボンブラック等の担体に担持させたもの、該金属の塩、或いは、該金属の錯体等を用いることができる。これらの内、ヒドロシリル化反応の活性が高く、副反応を生じにくい、白金、ロジウム、ルテニウムが好ましく、特に白金が好ましい。白金を用いたヒドロシリル化反応触媒としては、例えば、塩化白金酸、塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンとの錯体、白金−ビニルシリコーン錯体、白金−ホスフィン錯体、白金−ホスファイト錯体、ジカルボニルジクロロ白金、ジシクロペンタジエニルジクロロ白金等が挙げられる。   In the present invention, the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) is substituted with a cyclic organohydrogen silicone containing Si—H groups and / or a chain-like or branched organohydrogen silicone and carbon-carbon. As a transition metal catalyst used for hydrosilylation reaction of a compound having a double bond and an epoxy group, and, if necessary, a silicone having a carbon-carbon double bond, group 8 of the periodic table, It is possible to use simple metals of Group 9 and Group 10, those in which the metal solid is supported on a carrier such as alumina, silica, carbon black, a salt of the metal, a complex of the metal, or the like. . Of these, platinum, rhodium, and ruthenium, which have high hydrosilylation activity and are less likely to cause side reactions, are preferred, and platinum is particularly preferred. Examples of the hydrosilylation reaction catalyst using platinum include chloroplatinic acid, complexes of chloroplatinic acid and alcohol, aldehyde, ketone, platinum-vinyl silicone complex, platinum-phosphine complex, platinum-phosphite complex, dicarbonyldichloro. Platinum, dicyclopentadienyl dichloro platinum, etc. are mentioned.

ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる遷移金属触媒の量は、ヒドロシリル化反応中のエポキシ基の開環を抑制してエポキシ変性シリコーンを再現性よく製造する観点から、ヒドロシリル化反応によって得られるエポキシ変性シリコーンに対する遷移金属の量が0.01ppm以上30ppm以下の範囲とすることが好ましく、0.1ppm以上20ppm以下の範囲とすることがより好ましく、0.5ppm以上10ppm以下の範囲とすることが更に好ましく、1ppm以上8ppm以下の範囲とすることが特に好ましい。ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる遷移金属触媒の量は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   The amount of the transition metal catalyst used in the hydrosilylation reaction is the amount of the epoxy modification obtained by the hydrosilylation reaction from the viewpoint of producing an epoxy-modified silicone with good reproducibility by suppressing the ring opening of the epoxy group during the hydrosilylation reaction. The amount of transition metal relative to silicone is preferably in the range of 0.01 ppm to 30 ppm, more preferably in the range of 0.1 ppm to 20 ppm, and still more preferably in the range of 0.5 ppm to 10 ppm. A range of 1 ppm or more and 8 ppm or less is particularly preferable. The amount of the transition metal catalyst used in the hydrosilylation reaction is not necessarily constant as long as it is within the above range, and may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

ヒドロシリル化反応を行う際の反応温度は、用いるオルガノハイドロジェンシリコーン、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの種類や分子量、更には、回分式、半回分式、或いは連続式等の反応様式によっても異なるが、反応速度を高め、効率的に反応を完結させる観点において0℃以上250℃以下の範囲が好ましく、10℃以上200℃以下の範囲がより好ましく、20℃以上150℃以下の範囲が更に好ましく、30℃以上120℃以下の範囲が特に好ましい。反応温度は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、反応初期や反応途中において変化させてもよい。   The reaction temperature at the time of hydrosilylation reaction is the type and molecular weight of the organohydrogen silicone used, the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and, if necessary, the silicone having a carbon-carbon double bond. Furthermore, although it varies depending on the reaction mode such as batch, semi-batch, or continuous, the range of 0 ° C. or more and 250 ° C. or less is preferable from the viewpoint of increasing the reaction rate and efficiently completing the reaction. The range of 200 ° C. or lower is more preferable, the range of 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower is still more preferable, and the range of 30 ° C. or higher and 120 ° C. or lower is particularly preferable. The reaction temperature does not need to be constant as long as it is within the above range, and may be changed at the initial stage of the reaction or during the reaction.

ヒドロシリル化反応を行う際には、ヒドロシリル化反応による反応熱の除去を可能とし、得られるエポキシ変性シリコーンの変性を抑制したり、付加反応による反応系の粘度上昇を抑制する観点から、溶媒を用いることが好ましい。   When carrying out the hydrosilylation reaction, it is possible to remove the heat of reaction by the hydrosilylation reaction, and use a solvent from the viewpoint of suppressing the modification of the resulting epoxy-modified silicone or suppressing the increase in the viscosity of the reaction system due to the addition reaction. It is preferable.

用いられる溶媒としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アニソール等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン等の芳香族水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。   Examples of the solvent used include dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and anisole. Ether solvents, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, octane, isooctane, toluene, o-xylene, m-xylene, p-xylene, ethylbenzene Aromatic solvent such as ethyl acetate, ester solvent such as ethyl acetate and butyl acetate, alcohol such as butyl cellosolve and butyl carbitol System solvents. These solvents can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

これらの内、ヒドロシリル化反応速度が比較的大きく、原料の溶解性及び/又は溶媒回収性の観点から、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、エーテル系溶媒を50質量%以上含む溶媒がより好ましく、大気圧における沸点が120℃以下である1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも1種又は2種以上の混合溶媒が更に好ましい。   Among these, the hydrosilylation reaction rate is relatively high, and ether solvents, ketone solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, and aromatic hydrocarbon solvents are preferable from the viewpoints of solubility of raw materials and / or solvent recoverability. , More preferably a solvent containing 50% by mass or more of an ether solvent, and at least one selected from the group consisting of 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether having a boiling point at atmospheric pressure of 120 ° C. or lower, or Two or more kinds of mixed solvents are more preferable.

ヒドロシリル化反応を行う際に用いられる溶媒の量は、用いるオルガノハイドロジェンシリコーン、炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンの種類や分子量、更には、回分式、半回分式、或いは連続式等の反応様式によっても異なるが、通常、ヒドロシリル化反応中において、該混合物の全質量に対する溶媒の質量は、0.1質量%以上99.9質量%以下の範囲、好ましくは10質量%以上95質量%以下の範囲、更に好ましくは20質量%以上90質量%以下の範囲である。   The amount of the solvent used in carrying out the hydrosilylation reaction is the same as that of the organohydrogensilicone used, the compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and, if necessary, the silicone having a carbon-carbon double bond. Depending on the type and molecular weight, and also the reaction mode such as batch, semi-batch, or continuous, the mass of the solvent relative to the total mass of the mixture is usually 0.1% by mass during the hydrosilylation reaction. The range is 99.9% by mass or less, preferably 10% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 20% by mass or more and 90% by mass or less.

ヒドロシリル化反応を行う際の雰囲気は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
ヒドロシリル化反応を行う際の反応方法は、特に限定されず、例えば、Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンとを回分式、半回分式、連続式からなる群から選ばれる1種又は2種以上の組み合わせの方法により、逐次的、連続的、或いは、一度に反応させる方法が例示できる。
The atmosphere for performing the hydrosilylation reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon.
The reaction method for carrying out the hydrosilylation reaction is not particularly limited. For example, a cyclic organohydrogen silicone containing a Si—H group and / or a chain or branched organohydrogen silicone and carbon-carbon 2. One or more combinations selected from the group consisting of batch, semi-batch, and continuous with a compound having a heavy bond and an epoxy group, and, if necessary, a silicone having a carbon-carbon double bond The method of making it react sequentially, continuously or at once can be illustrated by the method of this.

ヒドロシリル化触媒の添加方法としては、Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーン及び/又は溶媒とを予め混合し、最後にヒドロシリル化触媒を添加する方法が好ましく用いられる。また、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンを、Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンに対して付加させることを必須とする場合には、Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物と、必要に応じて溶媒とを予め混合し、最後にヒドロシリル化触媒を添加してヒドロシリル化反応を行った後、炭素−炭素2重結合を有するシリコーン、更に必要に応じてヒドロシリル化触媒を更に添加して、ヒドロシリル化反応を完結させる方法が好ましく用いられる。   As a method for adding the hydrosilylation catalyst, a cyclic organohydrogen silicone containing Si-H groups and / or a compound having a chain-like or branched organohydrogen silicone, a carbon-carbon double bond and an epoxy group, In addition, if necessary, a method of previously mixing a silicone having a carbon-carbon double bond and / or a solvent and finally adding a hydrosilylation catalyst is preferably used. In addition, it is essential to add a silicone having a carbon-carbon double bond to a cyclic organohydrogen silicone containing a Si—H group and / or a chain-like or branched organohydrogen silicone. In some cases, a cyclic organohydrogen silicone containing a Si-H group and / or a chain or branched organohydrogen silicone, a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and if necessary Pre-mixed with solvent, and finally hydrosilylation catalyst was added to conduct hydrosilylation reaction, followed by silicone having carbon-carbon double bond, and further hydrosilylation catalyst added if necessary, hydrosilylation A method for completing the reaction is preferably used.

Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンをヒドロシリル化反応により付加させる際には、系内の水分が影響を及ぼす場合がある。ヒドロシリル化反応速度を維持する、或いは、エポキシ基の開環反応を抑制する観点から、反応系の水分量は反応系の質量を基準として2質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがより好ましく、0.5質量%以下であることが更に好ましく、0.1質量%以下が更により好ましく、0.05質量%以下が特に好ましい。   Cyclic organohydrogensilicone containing Si-H groups and / or chain-like, branched organohydrogensilicones, compounds having carbon-carbon double bonds and epoxy groups, and, if necessary, carbon- When silicone having a carbon double bond is added by a hydrosilylation reaction, moisture in the system may have an effect. From the viewpoint of maintaining the hydrosilylation reaction rate or suppressing the ring opening reaction of the epoxy group, the water content of the reaction system is preferably 2% by mass or less based on the mass of the reaction system, and preferably 1% by mass or less. More preferably, it is more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.1% by mass or less, and particularly preferably 0.05% by mass or less.

次に、本発明において用いられる光安定剤について説明する。
本発明におけるエポキシ変性シリコーン組成物は、エポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下含有することが必要である。エポキシ変性シリコーン100質量部に対する上記光安定剤の含有量が0.0005質量部未満の場合には、太陽光等の光暴露条件下におけるエポキシ変性シリコーンの保存安定性が低下するため好ましくない。一方、エポキシ変性シリコーン100質量部に対する上記光安定剤の含有量が5質量部を超過する場合には、エポキシ変性シリコーン中に光安定剤が完全に溶解せず、エポキシ変性シリコーン中に異物が残る場合がある、或いは、エポキシ変性シリコーン組成物を硬化して得られる硬化物の耐光性、耐クラック性、密着性等が低下するため、好ましくない。
Next, the light stabilizer used in the present invention will be described.
In the epoxy-modified silicone composition of the present invention, at least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organophosphorus light stabilizer is added to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. It is necessary to contain 0005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less. When the content of the light stabilizer is less than 0.0005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone, it is not preferable because the storage stability of the epoxy-modified silicone under light exposure conditions such as sunlight is lowered. On the other hand, when the content of the light stabilizer exceeds 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone, the light stabilizer is not completely dissolved in the epoxy-modified silicone, and foreign matters remain in the epoxy-modified silicone. In some cases, the light resistance, crack resistance, adhesion and the like of a cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone composition are not preferable.

本発明のエポキシ変性シリコーンの保存安定性がより高まることから、エポキシ変性シリコーン100質量部に対する上記光安定剤の含有量は、0.001質量部以上であることが好ましく、0.0015質量部以上であることがより好ましい。一方、本発明のエポキシ変性シリコーン組成物を硬化して得られる硬化物の耐光性や耐湿性が高められることから、エポキシ変性シリコーン100質量部に対する上記光安定剤の含有量は、1質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以下であることがより好ましく、0.2質量部以下であることが更に好ましい。   Since the storage stability of the epoxy-modified silicone of the present invention is further increased, the content of the light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone is preferably 0.001 parts by mass or more, and 0.0015 parts by mass or more. It is more preferable that On the other hand, since the light resistance and moisture resistance of the cured product obtained by curing the epoxy-modified silicone composition of the present invention are enhanced, the content of the light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone is 1 part by mass or less. It is preferable that it is 0.5 mass part or less, and it is still more preferable that it is 0.2 mass part or less.

本発明において用いられる光安定剤は、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤である。   The light stabilizer used in the present invention is at least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer.

本発明において用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、(G−1)サリチル酸類、(G−2)ベンゾフェノン類、(G−3)ベンゾトリアゾール類、(G−4)シュウ酸アニリド類、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。     Examples of the ultraviolet absorber used in the present invention include (G-1) salicylic acids, (G-2) benzophenones, (G-3) benzotriazoles, (G-4) oxalic anilides, and the like. Can be mentioned. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

(G−1)サリチル酸類の具体例としては、例えば、フェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(G−2)ベンゾフェノン類の具体例としては、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(G−3)ベンゾトリアゾール類の具体例としては、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、
2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジtert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−{(2′−ヒドロキシ−3′,3′′,4′′,5′′,6′′−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル}ベンゾトリアゾール、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(G−4)シュウ酸アニリド類の具体例としては、例えば、N−(2−エチルフェニル)−N’−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェニル)シュウ酸ジアミド、N−(2−エチルフェニル)−N’−(2−エトキシ−フェニル)シュウ酸ジアミド、2-エトキシ-2‘-エチル-オキサリック酸ビスアニリド、窒素原子上に置換されていてもよいアリール基などを有するシュウ酸ジアミド類、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
Specific examples of (G-1) salicylic acids include phenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (G-2) benzophenones include, for example, 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxybenzophenone. 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (G-3) benzotriazoles include, for example, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzo Triazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-ditert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chloro Benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-ditert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole,
2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-ditert-amylphenyl) benzotriazole, 2-{(2′-hydroxy-3 ′, 3 ″, 4 ″, 5 ″, 6 ″ -Tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl} benzotriazole, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (G-4) oxalic anilides include N- (2-ethylphenyl) -N ′-(2-ethoxy-5-t-butylphenyl) oxalic acid diamide, N- (2- Ethylphenyl) -N ′-(2-ethoxy-phenyl) oxalic acid diamide, 2-ethoxy-2′-ethyl-oxalic acid bisanilide, oxalic acid diamides having an aryl group optionally substituted on the nitrogen atom, etc. , Etc. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

また、本発明において用いられるヒンダードアミン系光安定剤としては、立体障害性基を有するピペリジン類が好ましく、例えば、(H−1)エステル基含有ピペリジン類、(H−2)エーテル基含有ピペリジン類、(H−3)アミド基含有ピペリジン類、(H−4)高分子量のピペリジン重縮合物類、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(H−1)エステル基含有ピペリジン類の具体例としては、例えば、4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−アクリロイルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(H−2)エーテル基含有ピペリジン類の具体例としては、例えば、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(H−3)アミド基含有ピペリジン類の具体例としては、例えば、4−(フェニルカルバモイルオキシ)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメート、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
(H−4)高分子量のピペリジン重縮合物類の具体例としては、例えば、コハク酸ジメチル−1−(2−ヒドロキシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン重縮合物、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジノールとトリデシルアルコールとの縮合物、等が挙げられる。これらは、1種又は2種以上の混合物として用いることが可能である。
The hindered amine light stabilizer used in the present invention is preferably a piperidine having a sterically hindered group, such as (H-1) an ester group-containing piperidine, (H-2) an ether group-containing piperidine, (H-3) Amido group-containing piperidines, (H-4) high molecular weight piperidine polycondensates, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (H-1) ester group-containing piperidines include, for example, 4-acetoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-stearoyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine. 4-acryloyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (H-2) ether group-containing piperidines include, for example, 4-methoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-cyclohexyloxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine. 4-phenoxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (H-3) amide group-containing piperidines include, for example, 4- (phenylcarbamoyloxy) -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, bis (2,2,6,6-tetramethyl) -4-piperidyl) hexamethylene-1,6-dicarbamate, and the like. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.
Specific examples of (H-4) high molecular weight piperidine polycondensates include, for example, dimethyl-1- (2-hydroxyethyl) -4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine heavy succinate. Examples include condensates, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol and tridecyl alcohol. These can be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

また、本発明において用いられる有機リン系光安定剤としては、例えば、(I−1)ベンゼン環を2個有するホスファイト化合物類が好ましく用いられる。   In addition, as the organic phosphorus light stabilizer used in the present invention, for example, (I-1) phosphite compounds having two benzene rings are preferably used.

(H−1)ベンゼン環を2個有するホスファイト化合物類具体的なホスファイト化合物の具体例としては、例えば、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)プロピルホスファイト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)ブチルホスファイト、等が挙げられる。   (H-1) Phosphite compounds having two benzene rings Specific examples of phosphite compounds include bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) methyl phosphite, Bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) ethyl phosphite, bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) propyl phosphite, bis (2,4-di- tert-butyl-6-methylphenyl) butyl phosphite, and the like.

本発明において用いられる光安定剤としては、太陽光等の光暴露条件下における本発明のエポキシ変性シリコーン組成物の保存安定性がより高まることから、紫外線吸収剤、有機リン系光安定剤、なる群から選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、(G−2)〜(G−4)、並びに、(I−1)なる群から選ばれる少なくとも1種であることが更に好ましく、(G−2)〜(G−4)なる群から選ばれる少なくとも1種であることが特に好ましい。   As the light stabilizer used in the present invention, since the storage stability of the epoxy-modified silicone composition of the present invention under light exposure conditions such as sunlight is further increased, it becomes an ultraviolet absorber, an organic phosphorus light stabilizer. More preferably, it is at least one selected from the group, more preferably at least one selected from the group consisting of (G-2) to (G-4) and (I-1), (G -2) to (G-4) is particularly preferably at least one selected from the group.

本発明において、エポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下含有させるための方法については特に限定はなく、例えば、   In the present invention, 0.0005 parts by mass or more and 5 parts by mass of at least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine-based light stabilizer, and an organic phosphorus-based light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. There is no particular limitation on the method for containing a part or less, for example,

(J−1)Si−H基を含有する環状のオルガノハイドロジェンシリコーン及び/又は鎖状、分岐状からなるオルガノハイドロジェンシリコーンと炭素−炭素2重結合及びエポキシ基を有する化合物、並びに、必要に応じて、炭素−炭素2重結合を有するシリコーンとを、ヒドロシリル化反応用の遷移金属触媒及び溶媒存在下にてヒドロシリル化反応させてエポキシ変性シリコーンを製造した後、生成したエポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下添加して均一混合溶解させ、溶媒、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物、等を留去する方法、
(J−2)上記の(J−1)において、生成したエポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を5質量部以上添加して均一混合溶解させた後、溶媒、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物、等を留去する際に、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤の一部を留去して、該光安定剤の含有量をエポキシ変性シリコーン100質量部に対して0.0005質量部以上5質量部以下とする方法、
(J−3)エポキシ変性シリコーンを溶媒に溶解させた後、該エポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下添加して均一混合溶解させた後、溶媒を留去する方法、
(J−4)エポキシ変性シリコーンを溶媒に溶解させた後、該エポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を5質量部以上添加して均一混合溶解させた後、溶媒と該光安定剤の一部を留去して、該光安定剤の含有量をエポキシ変性シリコーン100質量部に対して0.0005質量部以上5質量部以下とする方法、
(J−5)エポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下添加して均一混合溶解させる方法、
等が例示できる。
(J-1) Cyclic organohydrogensilicone containing Si-H groups and / or organohydrogensilicone having a chain or branched structure, a compound having a carbon-carbon double bond and an epoxy group, and necessary Accordingly, a silicone having a carbon-carbon double bond is hydrosilylated in the presence of a transition metal catalyst for hydrosilylation reaction and a solvent to produce an epoxy-modified silicone, and then 100 parts by mass of the resulting epoxy-modified silicone is produced. In contrast, at least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer is added in an amount of 0.0005 parts by mass to 5 parts by mass, and uniformly mixed and dissolved. A method of distilling off a solvent, a compound having an unreacted carbon-carbon double bond, and the like,
(J-2) In the above (J-1), with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone produced, at least one selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer. After adding 5 parts by mass or more of a light stabilizer and uniformly mixing and dissolving, when distilling off a solvent, a compound having an unreacted carbon-carbon double bond, etc., an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer , A part of at least one light stabilizer selected from the group consisting of organic phosphorus light stabilizers is distilled off, and the content of the light stabilizer is 0.0005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. A method of 5 parts by mass or less,
(J-3) At least one selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone after dissolving the epoxy-modified silicone in a solvent. After adding 0.0005 parts by mass to 5 parts by mass of the light stabilizer and uniformly mixing and dissolving,
(J-4) After dissolving the epoxy-modified silicone in a solvent, with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone, at least one selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer After adding 5 parts by mass or more of the above light stabilizer and uniformly mixing and dissolving, the solvent and a part of the light stabilizer are distilled off, and the content of the light stabilizer is adjusted to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. 0.0005 parts by mass or more and 5 parts by mass or less,
(J-5) 0.0005 parts by mass or more of at least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone. A method of adding up to parts by mass and uniformly mixing and dissolving,
Etc. can be exemplified.

上記の(J−1)〜(J−5)の方法において光安定剤を添加した後、均一混合溶解させる操作は、空気下及び/又は窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことができる。これらの雰囲気の内、得られるシリコーン組成物の変性を抑制できることから、不活性ガス雰囲気下で操作を行うことが好ましい。   After adding the light stabilizer in the above methods (J-1) to (J-5), the operation of uniformly mixing and dissolving is performed in air and / or in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, and argon. be able to. Among these atmospheres, it is preferable to perform the operation in an inert gas atmosphere since the modification of the resulting silicone composition can be suppressed.

また、上記の(J−1)〜(J−5)の方法において光安定剤を添加した後、均一混合溶解させる操作は、遮光条件下、太陽光暴露下、或いは、太陽光非暴露下の条件下で行うことができる。これらの内、遮光条件下又は太陽光非暴露下の条件下で操作を行うことが好ましい。   In addition, after adding the light stabilizer in the above methods (J-1) to (J-5), the operation of uniformly mixing and dissolving is performed under light-shielding conditions, under sunlight exposure, or under non-sunlight exposure. Under the conditions. Of these, the operation is preferably performed under light-shielding conditions or under non-sunlight exposure conditions.

光安定剤を添加した後、均一混合溶解させる際の温度は、エポキシ変性シリコーン組成物、或いは、反応後の溶液の粘度を低め、均一混合操作を容易に行えるようになることから−50℃以上の範囲が好ましく、0℃以上であることが更に好ましい。一方、シリコーン組成物の変性を抑制するうえで、250℃以下の範囲が好ましく、200℃以下の範囲がより好ましく、150℃以下の範囲が更に好ましく、120℃以下の範囲が特に好ましい。温度は、上記の範囲内であれば一定である必要は無く、途中において変化させてもよい。   After adding the light stabilizer, the temperature when uniformly mixing and dissolving is −50 ° C. or higher because the viscosity of the epoxy-modified silicone composition or the solution after the reaction is lowered and the uniform mixing operation can be easily performed. The range is preferably 0 ° C. or higher. On the other hand, in order to suppress modification of the silicone composition, a range of 250 ° C. or lower is preferable, a range of 200 ° C. or lower is more preferable, a range of 150 ° C. or lower is further preferable, and a range of 120 ° C. or lower is particularly preferable. The temperature does not have to be constant as long as it is within the above range, and may be changed in the middle.

上記の(J−1)〜(J−4)の方法において、エポキシ変性シリコーンを含有する溶液から溶媒、必要に応じて、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物や光安定剤の一部、等の成分を分離する際の温度は、エポキシ変性シリコーン又はエポキシ変性シリコーン組成物の変性を抑制する観点から、好ましくは−50℃以上250℃以下の範囲、より好ましくは0℃以上200℃以下の範囲、更に好ましくは10℃以上150℃以下の範囲、特に好ましくは20℃以上120℃以下の範囲である。前記範囲内であれは、エポキシ変性シリコーンを含有する溶液から溶媒、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物、更に必要に応じて光安定剤の一部、等の成分を分離する際の温度は、一定の温度である必要はなく、途中で温度を変化させることも可能である。
これらの分離操作は、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
In the above methods (J-1) to (J-4), from the solution containing an epoxy-modified silicone, a solvent, and if necessary, a compound having an unreacted carbon-carbon double bond or a light stabilizer. The temperature at which the components such as part are separated is preferably in the range of −50 ° C. or more and 250 ° C. or less, more preferably 0 ° C. or more and 200 ° C. from the viewpoint of suppressing the modification of the epoxy-modified silicone or the epoxy-modified silicone composition. The following range, more preferably the range of 10 ° C. or more and 150 ° C. or less, particularly preferably the range of 20 ° C. or more and 120 ° C. or less. Within the above range, components such as a solvent, a compound having an unreacted carbon-carbon double bond, and a part of a light stabilizer as necessary may be separated from a solution containing an epoxy-modified silicone. The temperature does not have to be a constant temperature, and the temperature can be changed along the way.
These separation operations are preferably performed in an inert gas atmosphere such as nitrogen, helium, or argon.

エポキシ変性シリコーンを含有する溶液から溶媒、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物、更に必要に応じて光安定剤の一部、等の成分を分離する工程には、溶媒、未反応の炭素−炭素2重結合を有する化合物、更に必要に応じて光安定剤の一部、等の成分の含有量が低減してエポキシ変性シリコーン組成物を含む混合物の粘度が上昇した場合においても、効率的に低沸化合物と揮発性化合物を分離し得る装置を用いることが好ましい。このような装置としては、例えば、竪型撹拌槽、表面更新型撹拌槽、薄膜蒸発装置、表面更新型二軸混練器、二軸横型撹拌器、濡れ壁式反応器、自由落下型の多孔板型反応器、支持体に沿わせて化合物を落下させながら揮発成分を留去させる反応器等が挙げられる。これらの装置は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることも可能である。   In the step of separating components such as a solvent, a compound having an unreacted carbon-carbon double bond, and, if necessary, a part of a light stabilizer from a solution containing an epoxy-modified silicone, Even when the viscosity of the mixture containing the epoxy-modified silicone composition is increased by reducing the content of components such as a compound having a carbon-carbon double bond and, if necessary, a part of the light stabilizer, the efficiency In particular, it is preferable to use an apparatus capable of separating low boiling compounds and volatile compounds. Examples of such apparatuses include vertical stirring tanks, surface renewal stirring tanks, thin film evaporators, surface renewal biaxial kneaders, biaxial horizontal stirrers, wet wall reactors, free-falling perforated plates Examples thereof include a type reactor, and a reactor in which volatile components are distilled off while dropping a compound along a support. These apparatuses can be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物は、上記光安定剤、及び遷移金属等の金属成分や着色成分等の不可避的不純物以外の成分が、本発明に係る平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンであることが好ましい。例えば、本発明のエポキシ変性シリコーン組成物におけるエポキシ変性シリコーンの含有量は、95質量%以上であることが好ましく、99質量%以上であることがより好ましく、99.5%質量以上であることが更に好ましく、99.9質量%以上であることが特に好ましく、99.95質量%以上であることが望ましい。   The epoxy-modified silicone composition of the present invention is an epoxy in which the light stabilizer and components other than inevitable impurities such as metal components such as transition metals and coloring components are represented by the average composition formula (1) according to the present invention. A modified silicone is preferred. For example, the content of the epoxy-modified silicone in the epoxy-modified silicone composition of the present invention is preferably 95% by mass or more, more preferably 99% by mass or more, and 99.5% by mass or more. More preferably, it is particularly preferably 99.9% by mass or more, and more preferably 99.95% by mass or more.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物は、流動性等に起因する取り扱い性や加工性を向上させる観点から、該エポキシ変性シリコーン組成物の粘度が、25℃における測定値として500,000mPa・s以下の範囲であることが好ましく、200,000mPa・s以下の範囲であることがより好ましく、100,000mPa・s以下の範囲であることが更に好ましい。   In the epoxy-modified silicone composition of the present invention, the viscosity of the epoxy-modified silicone composition is 500,000 mPa · s or less as a measured value at 25 ° C. from the viewpoint of improving the handleability and processability due to fluidity and the like. The range is preferably 200,000 mPa · s or less, and more preferably 100,000 mPa · s or less.

ここで、エポキシ変性シリコーン組成物の粘度とは、回転式E形粘度計(例えば、東機産業株式会社製、「TV−22形」、ローター:3°×R14)を用い、温度25℃にて測定される値である。   Here, the viscosity of the epoxy-modified silicone composition is a temperature of 25 ° C. using a rotary E-type viscometer (for example, “TV-22 type” manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., rotor: 3 ° × R14). Is a measured value.

本発明のエポキシ変性シリコーン組成物は、輸送や貯蔵の際等、太陽光等の光暴露条件下において、優れた保存安定性を有する上に、該エポキシ変性シリコーン組成物を硬化して得られた硬化物が、良好な透明性を有すると共に、優れた耐光性、耐熱変色性、密着性を有することから、発光素子用封止材や、眼鏡レンズ、光学機器用レンズ、CDやDVDのピックアップ用レンズ、自動車ヘッドランプ用レンズ、プロジェクター用レンズ等のレンズ材料としても好適に用いられる。更には光ファイバー、光導波路、光フィルター、光学用接着剤、ダイボンド剤、光半導体素子用アンダーフィル材、光ディスク基板、ディスプレイ基板、反射防止膜等のコーティング材料等、各種光学部材としても用いることが可能である。   The epoxy-modified silicone composition of the present invention has excellent storage stability under light exposure conditions such as sunlight during transportation and storage, and is obtained by curing the epoxy-modified silicone composition. Since the cured product has good transparency and excellent light resistance, heat discoloration, and adhesion, it is used for light emitting element sealing materials, eyeglass lenses, optical equipment lenses, CD and DVD pickups. It is also suitably used as a lens material for lenses, automobile headlamp lenses, projector lenses and the like. Furthermore, it can also be used as various optical members such as optical fibers, optical waveguides, optical filters, optical adhesives, die bonding agents, underfill materials for optical semiconductor elements, optical disk substrates, display substrates, antireflection coatings and other coating materials. It is.

以下に実施例を示して、本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下に記載の実施例によって限定されるものではない。
ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン、エポキシ変性シリコーンの組成及び特性は、以下に示す方法により求めた。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below.
The composition and properties of the block type organohydrogen silicone and the epoxy-modified silicone were determined by the following method.

(1)ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成
29Si−NMR測定、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定、及び、1H−NMR測定の測定方法により、平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出した。
(R1 3SiO1/2)p(R1 2HSiO1/2)q(R1 2SiO2/2)r
(R1HSiO2/2)s(R1SiO3/2)t(HSiO3/2)u(SiO4/2)v ・・(11)
具体的には、まず、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの29Si−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して、水素アルキルシロキシ単位、ジアルキルシロキシ単位等の含有分率を百分率で算出した。
(1) Composition of block type organohydrogen silicone
Each component constituting 1 mol of the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (11) by measurement methods of 29 Si-NMR measurement, gel permeation chromatography (GPC) measurement, and 1 H-NMR measurement. The number of moles of the unit was calculated.
(R 1 3 SiO 1/2 ) p (R 1 2 HSiO 1/2 ) q (R 1 2 SiO 2/2 ) r
(R 1 HSiO 2/2 ) s (R 1 SiO 3/2 ) t (HSiO 3/2 ) u (SiO 4/2 ) v (11)
Specifically, first, 29 Si-NMR measurement of a block-type organohydrogensilicone was performed according to the method described below, and an integrated value calculated from the obtained spectrum pattern was analyzed to obtain a hydrogen alkylsiloxy unit, a dialkylsiloxy unit. The content such as units was calculated as a percentage.

次いで、1H−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を元に、各有機基を有するアルキルシロキシ単位の存在率を百分率で算出した。
上記より得られた各シロキシ単位の存在率と各シロキシ単位の理論式量とを用いて、シロキシ単位の平均的式量を算出した。
Next, 1 H-NMR measurement was performed according to the method described below, and the abundance of alkylsiloxy units having each organic group was calculated as a percentage based on the integrated value calculated from the obtained spectrum pattern.
Using the abundance ratio of each siloxy unit obtained from the above and the theoretical formula amount of each siloxy unit, the average formula amount of the siloxy unit was calculated.

引き続いて、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定を下記記載の方法に従って行い、得られた数平均分子量を平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した各単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数を算出した。得られた平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出した。   Subsequently, gel permeation chromatography (GPC) measurement of the block type organohydrogensilicone was performed according to the method described below, and the obtained number average molecular weight was represented by the average composition formula (11). The molecular weight per mole of each of the units constituting the block-type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (11) divided by the average formula weight considering the abundance of each unit calculated above The total number of moles was calculated. The block represented by the average composition formula (11) from the total number of moles of each unit constituting the block-type organohydrogensilicone represented by the obtained average composition formula (11) and the abundance of each unit. The number of moles of each unit constituting 1 mol of the type organohydrogensilicone was calculated.

その後、上記で得られた平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1モルを構成する各単位のモル数を元に、
・平均組成式(11)で表されるブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中に含 有されるT構造単位[(R1SiO3/2)及び(HSiO3/2)]とQ構造単位[(SiO
4/2)]のモル数の総和:(t+u+v)、
・ジアルキルシロキシ単位[(R1 2SiO2/2)]のモル数:r、
・アルキル水素シロキシ単位[(R1HSiO2/2)]のモル数:s、
・全末端[(R1 3SiO1/2)及び(R1 2HSiO1/2)]に対するジアルキル水素シロキ
シ末端[(R1 2HSiO1/2)]のモル分率:q/(p+q)、
・ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位 の含有分率:(q+s+u)/(p+q+r+s+t+u+v)、
を算出した。
Thereafter, based on the number of moles of each unit constituting 1 mol of the block type organohydrogensilicone represented by the average composition formula (11) obtained above,
-T structural units [(R 1 SiO 3/2 ) and (HSiO 3/2 )] and Q structural units [(SiO 2 ) contained in the block type organohydrogen silicone represented by the average composition formula (11)
4/2 )] total number of moles: (t + u + v),
-Number of moles of dialkylsiloxy unit [(R 1 2 SiO 2/2 )]: r,
-Number of moles of alkyl hydrogen siloxy unit [(R 1 HSiO 2/2 )]: s,
-Mole fraction of dialkyl hydrogen siloxane end [(R 1 2 HSiO 1/2 )] relative to all ends [(R 1 3 SiO 1/2 ) and (R 1 2 HSiO 1/2 )]: q / (p + q ),
-Content ratio of SiH unit to total Si constituting block type organohydrogensilicone: (q + s + u) / (p + q + r + s + t + u + v),
Was calculated.

29Si−NMR測定方法>
エポキシ変性シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解した。該溶解液にCr(acac)3を0.015g添加して溶解した溶液に、テトラメチルシランを10μL更に添加してNMR測定溶液とした。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回(装置:日本電子社製α−400)にて行った。
<29 Si-NMR measurement method>
0.15 g of epoxy-modified silicone was dissolved in 1 g of deuterated chloroform. To the solution obtained by adding 0.015 g of Cr (acac) 3 to the solution, 10 μL of tetramethylsilane was further added to prepare an NMR measurement solution. Using this NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under proton complete decoupling conditions was performed at an integration number of 4,000 times (apparatus: α-400 manufactured by JEOL Ltd.).

1H−NMR測定方法>
重水素化クロロホルム1mLに対して、エポキシ変性シリコーン30mgを溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料を用いて、400MHz(日本電子社製α−400)の1H−NMRの測定を積算回数200回にて行った。
<1 H-NMR measurement method>
A solution in which 30 mg of epoxy-modified silicone was dissolved in 1 mL of deuterated chloroform was used as a measurement sample. Using this measurement sample, 1 H-NMR measurement at 400 MHz (α-400, manufactured by JEOL Ltd.) was performed at a total number of 200 times.

<ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定>
東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析装置8020GPCシステムを用い、以下の条件により求めた。
エポキシ変性シリコーンの0.5質量%テトラヒドロフラン溶液を調製し、その後、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とした。
カラム温度40℃にて、溶離液(テトラヒドロフラン)を流量1mL/分の条件下でカラムを通し、RI検出による溶出時間と検出強度から数平均分子量を算出した。
<Gel permeation chromatography (GPC) measurement>
Using a gel permeation chromatography (GPC) analyzer 8020GPC system manufactured by Tosoh Corporation, the following conditions were used.
A 0.5 mass% tetrahydrofuran solution of epoxy-modified silicone was prepared, and then filtered through a 0.45 μm filter to obtain a measurement sample solution.
The number average molecular weight was calculated from the elution time and detection intensity by RI detection at a column temperature of 40 ° C. and through the column with an eluent (tetrahydrofuran) at a flow rate of 1 mL / min.

カラム構成は、ガードカラムとして東ソー(株)社製TSKguardcolumnHXL−H(登録商標)を用い、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G5000HXL、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G3000HXL、及び東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G1000HXLの各1本ずつを直列に配置して使用した。また、Polymer Laboratories社製の分子量が各7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)を用い、予め作成した検量線から数平均分子量を算出した。 Column configuration, Tosoh Co., Ltd. Co., Ltd. TSKguardcolumnH XL -H (registered trademark) used as a guard column, manufactured by Tosoh Corporation TSKgel (R) G5000H XL, manufactured by Tosoh Corporation TSKgel (R) G3000H XL, And one each of TSKgel (registered trademark) G1000H XL manufactured by Tosoh Corporation was used in series. Further, the molecular weights manufactured by Polymer Laboratories are 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, A number average molecular weight was calculated from a calibration curve prepared in advance using 580 monodisperse polypolystyrene standard substance and styrene monomer (molecular weight 104).

(2)ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの平均連鎖長の算出
以下に示す29Si−NMRの測定により求めた。
ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解した。該溶解液にCr(acac)3をブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンに対して0.015g添加して溶解した溶液に、テトラメチルシランを10マイクロリットル更に添加してNMR測定溶液とした。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回(装置:日本分光社製α−400)にて行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン1分子中の平均組成及び(R1 2SiO2/2)単位、(R1HSiO2/2)単位の各々の平均連鎖長を算出した。
(2) Calculation of average chain length of block type organohydrogensilicone It calculated | required by the measurement of 29 Si-NMR shown below.
0.15 g of a block type organohydrogen silicone was dissolved in 1 g of deuterated chloroform. Ten microliters of tetramethylsilane was further added to a solution obtained by adding 0.015 g of Cr (acac) 3 to the block type organohydrogensilicone and dissolving it in the solution to prepare an NMR measurement solution. Using the NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under proton complete decoupling conditions was performed with 4,000 times of integration (apparatus: α-400 manufactured by JASCO Corporation), and calculated from the obtained spectrum pattern. The integrated value was analyzed, and the average composition in one molecule of the block type organohydrogensilicone and the average chain length of each of the (R 1 2 SiO 2/2 ) unit and (R 1 HSiO 2/2 ) unit were calculated.

ここで、以下に、合成例にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン、具体的には該シリコーンの末端を除くシロキシ単位がシクロヘキシルメチルシロキシ単位、ジメチルシロキシ単位、水素メチルシロキシ単位である場合を例として、平均連鎖長の算出法を具体的に説明する。   Here, the block type organohydrogen silicone produced in the synthesis example, specifically, the case where the siloxy unit excluding the terminal of the silicone is a cyclohexylmethylsiloxy unit, a dimethylsiloxy unit, and a hydrogen methylsiloxy unit is exemplified. The method for calculating the average chain length will be specifically described below.

シクロヘキシルメチルシロキシ単位、ジメチルシロキシ単位をジアルキルシロキシ単位として(D1)、他方、水素メチルシロキシ単位を(H1)とした場合、D1とH1の3連鎖に対応する中心に位置する珪素のケミカルシフト値は、テトラメチルシランの珪素を基準として各々以下の範囲となる。   When the cyclohexylmethylsiloxy unit and the dimethylsiloxy unit are dialkylsiloxy units (D1), and the hydrogenmethylsiloxy unit is (H1), the chemical shift value of silicon located at the center corresponding to the three chains of D1 and H1 is The following ranges are obtained based on tetramethylsilane silicon.

−D1−D1−D1− : −26.5ppm超過−23.9ppm以下
−D1−D1−H1− : −23.9ppm超過−21.5ppm以下
−H1−D1−H1− : −38.5ppm超過−37.4ppm以下
−H1−H1−H1− : −35.5ppm超過−33.0ppm以下
−H1−H1−D1− : −37.4ppm超過−35.5ppm以下
−D1−H1−D1− : −21.5ppm超過−19.5ppm以下
-D1-D1-D1-: -26.5 ppm excess -23.9 ppm or less -D1-D1-H1-: -23.9 ppm excess -21.5 ppm or less -H1-D1-H1-: -38.5 ppm excess- 37.4 ppm or less -H1-H1-H1-: -35.5 ppm excess-33.0 ppm or less -H1-H1-D1-: -37.4 ppm excess-35.5 ppm or less-D1-H1-D1-: -21 More than 5ppm-19.5ppm or less

上記の−D1−D1−D1−単位、−D1−D1−H1−単位、−H1−D1−H1−単位、−H1−H1−H1−単位、−H1−H1−D1−単位、−D1−H1−D1−単位に相当するピークの積分値を各々、A(D1D1D1)、A(D1D1H1)、A(H1D1H1)、A(H1H1H1)、A(H1H1D1)、A(D1H1D1)とすると、ジメチルシロキシ単位の平均連鎖長(γD1)及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長(δD1)は、各々下記数式(X)及び(XI)で算出することができる。
γD1=1+A(D1D1D1)/{A(D1D1H1)+A(H1D1H1)} ・・・数式(X)
δD1=1+{A(H1H1H1)+A(H1H1D1)}/A(D1H1D1) ・・・数式(XI)
-D1-D1-D1-unit, -D1-D1-H1-unit, -H1-D1-H1-unit, -H1-H1-H1-unit, -H1-H1-D1-unit, -D1- Assuming that the integrated values of the peaks corresponding to the H1-D1-unit are A (D1D1D1), A (D1D1H1), A (H1D1H1), A (H1H1H1), A (H1H1D1), A (D1H1D1), dimethylsiloxy units The average chain length (γD1) and the average chain length (δD1) of hydrogen methylsiloxy units can be calculated by the following formulas (X) and (XI), respectively.
γD1 = 1 + A (D1D1D1) / {A (D1D1H1) + A (H1D1H1)} Expression (X)
δD1 = 1 + {A (H1H1H1) + A (H1H1D1)} / A (D1H1D1) Expression (XI)

(3)エポキシ変性シリコーンの組成
29Si−NMR測定、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定、及び、1H−NMR測定によって得られる結果を用いて算出した。
具体的には、まず、エポキシ変性シリコーンの29Si−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を解析して、水素アルキルシロキシ単位、ジアルキルシロキシ単位等の含有分率を百分率で算出した。
(3) Composition of epoxy-modified silicone
It calculated using the result obtained by < 29 > Si-NMR measurement, a gel permeation chromatography (GPC) measurement, and < 1 > H-NMR measurement.
Specifically, first, 29 Si-NMR measurement of the epoxy-modified silicone was performed according to the method described below, and the integrated value calculated from the obtained spectrum pattern was analyzed to obtain hydrogen alkylsiloxy units, dialkylsiloxy units, etc. The content fraction was calculated as a percentage.

次いで、1H−NMR測定を下記記載の方法に従って行い、得られたスペクトルパターンから算出された積分値を元に、各有機基を有するアルキルシロキシ単位の存在率を百分率で算出した。
上記より得られた各シロキシ単位の存在率と各シロキシ単位の理論式量とを用いて、シロキシ単位の平均的式量を算出した。
Next, 1 H-NMR measurement was performed according to the method described below, and the abundance of alkylsiloxy units having each organic group was calculated as a percentage based on the integrated value calculated from the obtained spectrum pattern.
Using the abundance ratio of each siloxy unit obtained from the above and the theoretical formula amount of each siloxy unit, the average formula amount of the siloxy unit was calculated.

引き続いて、エポキシ変性シリコーンのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定を下記記載の方法に従って行い、得られた数平均分子量を下記の平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンの1モル当りの分子量として、上記で算出した各単位の存在率を考慮した平均的式量で除して平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを構成する各単位の全モル数を算出した。得られた平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーンを構成する各単位の全モル数と、該各単位の存在率とから、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン1モルを構成する各単位のモル数を算出した。   Subsequently, gel permeation chromatography (GPC) measurement of the epoxy-modified silicone was performed according to the method described below, and the obtained number-average molecular weight per mole of the epoxy-modified silicone represented by the following average composition formula (1) As the molecular weight, the total number of moles of each unit constituting the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1) was calculated by dividing by the average formula amount considering the abundance of each unit calculated above. From the total number of moles of each unit constituting the epoxy-modified silicone represented by the obtained average composition formula (1) and the abundance of each unit, the epoxy-modified silicone 1 represented by the average composition formula (1) The number of moles of each unit constituting the mole was calculated.

Figure 2013194071
なお、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対するSiH基の含有率(%)、並びに、平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン中に含有される全Si数に対する分岐鎖の含有率(%)は、下記式により算出した。
全Si数に対するSiH基の含有率(%)=[(c+i+m)/(a+b+c+d+ e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)×100]
分岐鎖の含有率(%)=[(j+k+l+m+2n)/(a+b+c+d+e+f+ g+h+i+j+k+l+m+n)×100]
Figure 2013194071
In addition, in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1), the SiH group content (%) with respect to the total number of Si contained in the epoxy-modified silicone represented by the average composition formula (1). The branched chain content (%) relative to the total number of Si contained was calculated by the following formula.
SiH group content (%) with respect to the total number of Si = [(c + i + m) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100]
Branched chain content (%) = [(j + k + l + m + 2n) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100]

29Si−NMR測定方法>
エポキシ変性シリコーン0.15gを重水素化クロロホルム1gに溶解する。該溶解液にCr(acac)3を0.015g添加して溶解した溶液に、テトラメチルシランを10μL更に添加してNMR測定溶液とした。該NMR測定溶液を用いて、プロトン完全デカップル条件における29Si−NMRの測定を積算回数4,000回(装置:日本電子社製α−400)にて行った。
<29 Si-NMR measurement method>
0.15 g of epoxy-modified silicone is dissolved in 1 g of deuterated chloroform. To the solution obtained by adding 0.015 g of Cr (acac) 3 to the solution, 10 μL of tetramethylsilane was further added to prepare an NMR measurement solution. Using this NMR measurement solution, measurement of 29 Si-NMR under proton complete decoupling conditions was performed at an integration number of 4,000 times (apparatus: α-400 manufactured by JEOL Ltd.).

1H−NMR測定方法>
重水素化クロロホルム1mLに対して、エポキシ変性シリコーン30mgを溶解した溶液を測定試料とした。この測定試料を用いて、400MHz(日本電子社製α−400)の1H−NMRの測定を積算回数200回にて行った。
<1 H-NMR measurement method>
A solution in which 30 mg of epoxy-modified silicone was dissolved in 1 mL of deuterated chloroform was used as a measurement sample. Using this measurement sample, 1 H-NMR measurement at 400 MHz (α-400, manufactured by JEOL Ltd.) was performed at a total number of 200 times.

<ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定>
東ソー社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)分析装置8020GPCシステムを用い、以下の条件により求めた。
エポキシ変性シリコーンの0.5質量%テトラヒドロフラン溶液を調製し、その後、0.45μmのフィルターにて濾過したものを測定試料溶液とした。
カラム温度40℃にて、溶離液(テトラヒドロフラン)を流量1mL/分の条件下でカラムを通し、RI検出による溶出時間と検出強度から数平均分子量を算出した。
<Gel permeation chromatography (GPC) measurement>
Using a gel permeation chromatography (GPC) analyzer 8020GPC system manufactured by Tosoh Corporation, the following conditions were used.
A 0.5 mass% tetrahydrofuran solution of epoxy-modified silicone was prepared, and then filtered through a 0.45 μm filter to obtain a measurement sample solution.
The number average molecular weight was calculated from the elution time and detection intensity by RI detection at a column temperature of 40 ° C. and through the column with an eluent (tetrahydrofuran) at a flow rate of 1 mL / min.

カラム構成は、ガードカラムとして東ソー(株)社製TSKguardcolumnHXL−H(登録商標)を用い、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G5000HXL、東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G3000HXL、及び東ソー(株)製TSKgel(登録商標)G1000HXLの各1本ずつを直列に配置して使用した。また、Polymer Laboratories社製の分子量が各7,500,000、2,560,000、841,700、320,000、148,000、59,500、28,500、10,850、2,930、580の単分散ポリポリスチレン標準物質、及びスチレンモノマー(分子量104)を用い、予め作成した検量線から数平均分子量を算出した。 Column configuration, Tosoh Co., Ltd. Co., Ltd. TSKguardcolumnH XL -H (registered trademark) used as a guard column, manufactured by Tosoh Corporation TSKgel (R) G5000H XL, manufactured by Tosoh Corporation TSKgel (R) G3000H XL, And one each of TSKgel (registered trademark) G1000H XL manufactured by Tosoh Corporation was used in series. Further, the molecular weights manufactured by Polymer Laboratories are 7,500,000, 2,560,000, 841,700, 320,000, 148,000, 59,500, 28,500, 10,850, 2,930, A number average molecular weight was calculated from a calibration curve prepared in advance using 580 monodisperse polypolystyrene standard substance and styrene monomer (molecular weight 104).

(4)エポキシ変性シリコーン中に残留する低沸化合物量の測定
島津社製ガスクロマトグラフィー分析装置GC−14Bを用い、以下の条件により求めた。
5mLのメスフラスコに、エポキシ変性シリコーン約2g及び内部標準としてn−オクタン0.015gを秤量した後、クロロホルムで5mLに希釈した溶液を、測定サンプルとした。
カラム:J&W Scientific社製DB−1(登録商標)、
長さ30m、内径0.25mm、液膜1μm
キャリアーガス:ヘリウム
検出器:FID
インジェクション温度:250℃
検出器温度:300℃
昇温条件:50℃にて5min保持した後、50℃から300℃まで10℃/minで昇温した。
得られた結果から、別途作成した内部標準法による検量線を用いて、エポキシ変性シリコーン中に含有される各成分の含有量を定量し合計した。なお、数値は、エポキシ変性シリコーンに対する質量分率で表したものである。
(4) Measurement of low-boiling compound amount remaining in epoxy-modified silicone Using a gas chromatography analyzer GC-14B manufactured by Shimadzu Corporation, the amount was determined under the following conditions.
After weighing about 2 g of epoxy-modified silicone and 0.015 g of n-octane as an internal standard in a 5 mL volumetric flask, a solution diluted to 5 mL with chloroform was used as a measurement sample.
Column: DB-1 (registered trademark) manufactured by J & W Scientific,
Length 30m, inner diameter 0.25mm, liquid film 1μm
Carrier gas: Helium Detector: FID
Injection temperature: 250 ° C
Detector temperature: 300 ° C
Temperature raising condition: After holding at 50 ° C. for 5 min, the temperature was raised from 50 ° C. to 300 ° C. at 10 ° C./min.
From the obtained results, the content of each component contained in the epoxy-modified silicone was quantified and summed up using a separately prepared calibration curve by an internal standard method. In addition, a numerical value is represented with the mass fraction with respect to epoxy-modified silicone.

(5)エポキシ価
以下の操作と算出法により求めた。
エポキシ変性シリコーンをベンジルアルコールと1−プロパノールに溶解した。この溶液にヨウ化カリウム水溶液、ブロモフェノールブルー指示薬を添加した後、1規定塩酸にて滴定し、反応系内が青色から黄色になった点を当量点とした。当量点より、エポキシ変性シリコーンのエポキシ価を以下の式に従って算出した。
エポキシ価(当量/100g)=(V×N×F)/(10×W)
[ここで、W、V、N、Fは各々以下の値を表す。
W:試料の重量(g)
V:滴定量(mL)
N:滴定に使用した塩酸の規定度(N)
F:滴定に使用した塩酸のファクター]
(5) Epoxy value Determined by the following procedure and calculation method.
Epoxy-modified silicone was dissolved in benzyl alcohol and 1-propanol. A potassium iodide aqueous solution and a bromophenol blue indicator were added to this solution, followed by titration with 1N hydrochloric acid, and the point where the reaction system turned from blue to yellow was defined as the equivalent point. From the equivalent point, the epoxy value of the epoxy-modified silicone was calculated according to the following formula.
Epoxy value (equivalent / 100 g) = (V × N × F) / (10 × W)
[W, V, N, and F represent the following values, respectively.
W: Weight of sample (g)
V: Titration volume (mL)
N: Normality of hydrochloric acid used for titration (N)
F: Factor of hydrochloric acid used for titration]

(6)遷移金属元素の含有量
遷移金属元素の含有量の分析は四重極ICP質量分析装置(Thermo Elemental製:X7−ICP−MS)を用いて測定した。
(6) Content of transition metal element The content of the transition metal element was analyzed using a quadrupole ICP mass spectrometer (manufactured by Thermo Elemental: X7-ICP-MS).

(7)エポキシ変性シリコーン組成物の粘度
回転式E形粘度計(東機産業株式会社製、「TV−22形」、ローター:3°×R14)に0.4mlの樹脂組成物サンプルを仕込み、温度25℃にて樹脂組成物を測定した。
(7) Viscosity of epoxy-modified silicone composition 0.4 ml of resin composition sample was charged in a rotary E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., “TV-22 type”, rotor: 3 ° × R14). The resin composition was measured at a temperature of 25 ° C.

(8)疑似太陽光照射時の保存安定性
エポキシ変性シリコーン組成物の疑似太陽光照射時の保存安定性は、以下の数式(XII)で示す保存安定性指標αで評価した。
保存安定性指標α=(保存粘度)/(開始粘度) ・・・数式(XII)
製造直後のエポキシ変性シリコーン組成物を入れた容器を遮光条件下にて密封し、25℃で2時間、温度調整した後、25℃における粘度を測定し、これを「開始粘度」とした。
(8) Storage stability at the time of pseudo-sunlight irradiation The storage stability at the time of pseudo-sunlight irradiation of the epoxy-modified silicone composition was evaluated by a storage stability index α represented by the following formula (XII).
Storage stability index α = (storage viscosity) / (starting viscosity) Formula (XII)
The container containing the epoxy-modified silicone composition immediately after production was sealed under light-shielding conditions, and after adjusting the temperature at 25 ° C. for 2 hours, the viscosity at 25 ° C. was measured, and this was defined as “starting viscosity”.

更に、エポキシ変性シリコーン組成物10gを透明の内径25mm、ガラス厚み1mmの無アルカリガラス容器に入れた後に容器をポリオレフィン製の蓋にて密封し、3kWの垂直型メタリングランプを具備するスガ試験機株式会社製メタリングバーチカルウェザーメーター(型番:MV3000)に容器をセットし、温度63℃、湿度5%Rhの条件下にて、照度0.53kw/m2でメタリングランプを8時間照射後、メタリングランプの照射を停止して4時間、の合計12時間を1サイクルとして、7日間疑似太陽光の波長に相当する光を照射する。前記疑似太陽光の波長に相当する光の照射試験終了後のエポキシ変性シリコーン組成物の25℃における粘度を、上記と同様に測定し、これを「保存粘度」とした。   Furthermore, after putting 10 g of the epoxy-modified silicone composition in a transparent alkali-free glass container having an inner diameter of 25 mm and a glass thickness of 1 mm, the container is sealed with a polyolefin lid, and a Suga tester equipped with a 3 kW vertical metering lamp. Set the container on the Metalling Vertical Weather Meter (Model No .: MV3000) manufactured by Co., Ltd. and irradiate the metalling lamp for 8 hours at an illuminance of 0.53 kw / m2 under conditions of a temperature of 63 ° C and a humidity of 5% Rh The light corresponding to the wavelength of pseudo-sunlight is irradiated for 7 days, with a total of 12 hours of 4 hours after the ring lamp irradiation is stopped as one cycle. The viscosity at 25 ° C. of the epoxy-modified silicone composition after completion of the light irradiation test corresponding to the wavelength of the pseudo-sunlight was measured in the same manner as described above, and this was designated as “storage viscosity”.

保存安定性指標αが1.2以下である場合に、優れた保存安定性を有すると判断して◎とし、該指標αが1.2超過1.5以下の場合に保存安定性を有すると判断して○とし、1.5を超える場合には、保存安定性が無いと判断して×とした。
なお、粘度は、以下の測定方法により測定した。
回転式E形粘度計(東機産業株式会社製、「TV−22形」、ローター:3°×R14)に0.4mlの樹脂組成物サンプルを仕込み、温度25℃にて樹脂組成物を測定した。
When the storage stability index α is 1.2 or less, it is judged as having excellent storage stability, and ◎, and when the index α is more than 1.2 and 1.5 or less, it has storage stability. Judgment was made ◯, and when it exceeded 1.5, it was judged that there was no storage stability and x was given.
The viscosity was measured by the following measurement method.
A 0.4 ml resin composition sample was placed in a rotary E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., “TV-22 type”, rotor: 3 ° × R14), and the resin composition was measured at a temperature of 25 ° C. did.

[触媒合成例]
窒素雰囲気下で、還流管及びスターラーバーを備えた50mlの2口フラスコに、5塩化リン(和光純薬製試薬)8.34g、塩化アンモニウム(和光純薬製試薬特級品)1.06g及びテトラクロロエタン(アルドリッチ社製試薬)20mlを仕込んだ後、大気圧の窒素を20ml/分で流通させながら160℃で15時間反応を実施し、黄色溶液を得た。反応終了後、大気圧窒素雰囲気下にて攪拌を継続しながら系内に石油エーテル(和光純薬製試薬)20mlを加えて、固体を析出させた。引き続き窒素雰囲気下にて、得られた固体を減圧濾過し、n−ヘキサン(和光純薬社製試薬有機合成用脱水グレード)100mlを用いて洗浄後、再度、窒素下にて減圧濾過を行った後、減圧乾燥して、淡黄色粉末のフォスファゼン化合物7.1gを得た。以下の参考例1〜2では、ジクロロメタン(和光純薬社製試薬有機合成用脱水グレード)1g当たり、得られたフォスファゼン化合物60mgを溶解した溶液を、フォスファゼン溶液として用いた。
[Example of catalyst synthesis]
Under a nitrogen atmosphere, in a 50 ml two-necked flask equipped with a reflux tube and a stirrer bar, 8.34 g of phosphorus pentachloride (Wako Pure Chemicals reagent), 1.06 g of ammonium chloride (Wako Pure Chemicals reagent special grade) and tetra After charging 20 ml of chloroethane (aldrich reagent), the reaction was carried out at 160 ° C. for 15 hours while flowing atmospheric nitrogen at 20 ml / min to obtain a yellow solution. After completion of the reaction, 20 ml of petroleum ether (Wako Pure Chemicals Reagent) was added to the system while stirring under an atmospheric pressure of nitrogen atmosphere to precipitate a solid. Subsequently, the obtained solid was filtered under reduced pressure in a nitrogen atmosphere, washed with 100 ml of n-hexane (dehydrated grade for reagent organic synthesis manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and then filtered again under nitrogen. Thereafter, it was dried under reduced pressure to obtain 7.1 g of a phosphazene compound as a pale yellow powder. In the following Reference Examples 1 and 2, a solution in which 60 mg of the obtained phosphazene compound was dissolved per 1 g of dichloromethane (dehydrate grade for reagent organic synthesis manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was used as the phosphazene solution.

[参考例1:ポリジアルキルシロキサンの合成]
<加水分解物の合成>
攪拌翼を備えた内容積3リットルのバッフル付きセパラブルフラスコに蒸留水1500gを仕込んだ後、内部を60℃に加熱した。セパラブルフラスコの攪拌翼を600回転/分で回転させながら、シクロヘキシルメチルジクロロシラン(信越化学社製試薬)500gとジメチルジクロロシラン36.4gとを均一に混合した溶液を、2g/分で滴下した。滴下完了後、引き続き2時間反応を継続し、加熱及び攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水相を廃棄した。次いで、室温にて、トルエン(和光純薬製試薬特級品)500g、0.02mol/リットルの蟻酸ナトリウム水溶液1リットルを添加し、攪拌翼を600回転/分で回転させた後、攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水相を廃棄した。引き続き、室温にて蒸留水1リットルを添加し、攪拌翼を600回転/分で回転させた後、攪拌を停止して内溶液を相分離させ、水相を廃棄する操作を2回実施した。セパラブルフラスコからトルエン溶液を回収し、エバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去して、加水分解物を得た。
[Reference Example 1: Synthesis of polydialkylsiloxane]
<Synthesis of hydrolyzate>
Distilled water 1500 g was charged into a baffled separable flask having an internal volume of 3 liters equipped with a stirring blade, and then the interior was heated to 60 ° C. While rotating the stirring blade of the separable flask at 600 rpm, a solution in which 500 g of cyclohexylmethyldichlorosilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. reagent) and 36.4 g of dimethyldichlorosilane were uniformly mixed was added dropwise at 2 g / min. . After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 2 hours, heating and stirring were stopped, the inner solution was phase-separated, and the aqueous phase was discarded. Next, at room temperature, 500 g of toluene (special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1 liter of 0.02 mol / liter sodium formate aqueous solution were added, and the stirring blade was rotated at 600 rpm, and stirring was stopped. The inner solution was phase separated and the aqueous phase was discarded. Subsequently, 1 liter of distilled water was added at room temperature, the stirring blade was rotated at 600 rpm, the stirring was stopped, the inner solution was phase-separated, and the aqueous phase was discarded twice. A toluene solution was recovered from the separable flask, and toluene was distilled off at 65 ° C. under reduced pressure using an evaporator to obtain a hydrolyzate.

<ポリジアルキルシロキサンの合成>
留出管及び攪拌翼を供えた500mlのセパラブルフラスコに、得られた加水分解物300g、触媒合成例で得られたフォスファゼン溶液1gを仕込んだ後、攪拌しながら系内を減圧窒素置換した。引き続き、系内を120℃に加熱し、圧力150torrで45分間、重縮合反応させた後、反応系内を窒素にて大気圧に戻すと共に60℃に冷却した。次いで、乾燥窒素下にて蒸留精製した1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン(信越化学社製試薬)7gを、窒素雰囲気下にて系内に添加し、3時間攪拌を継続して末端封止反応をさせた後、室温に冷却した。内容物をトルエン(和光純薬社製試薬特級品)を合計500ml用いて溶解回収し、得られた溶液からエバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去して、ポリジアルキルシロキサンを得た。
<Synthesis of polydialkylsiloxane>
A 500 ml separable flask equipped with a distillation tube and a stirring blade was charged with 300 g of the obtained hydrolyzate and 1 g of the phosphazene solution obtained in the catalyst synthesis example, and then the system was purged with nitrogen under reduced pressure. Subsequently, the system was heated to 120 ° C. and subjected to a polycondensation reaction at a pressure of 150 torr for 45 minutes, and then the reaction system was returned to atmospheric pressure with nitrogen and cooled to 60 ° C. Next, 7 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by distillation under dry nitrogen was added to the system under a nitrogen atmosphere, and stirring was continued for 3 hours. After end-capping reaction, the mixture was cooled to room temperature. The contents were dissolved and recovered using a total of 500 ml of toluene (special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and the toluene was distilled off from the resulting solution with an evaporator at 65 ° C. under reduced pressure to obtain a polydialkylsiloxane. It was.

得られたポリジアルキルシロキサンの全ての末端構造は、H−Si(CH32−O−であり、末端基以外の組成は、ジメチルシロキシ単位20モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位80モル%であった。分子量測定の結果、溶出曲線は2峰性であり、高分子量側のピークの数平均分子量は11,700、エリア面積は全ピークに対して65%であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリジアルキルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
All terminal structures of the obtained polydialkylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the composition other than the terminal groups was 20 mol% of dimethylsiloxy units and 80 mol% of cyclohexylmethylsiloxy units. It was. As a result of molecular weight measurement, the elution curve was bimodal, the number average molecular weight of the peak on the high molecular weight side was 11,700, and the area area was 65% with respect to all peaks.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain a polydialkylsiloxane, which was used in the following reaction.

[参考例2:ポリ水素メチルシロキサンの合成]
還流冷却器、温度計及びスターラーバーを備えた0.5リットルの反応器に、乾燥窒素下にて蒸留精製した1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン(信越化学社製試薬)を270g、窒素下にて蒸留精製した1,1,3,3−テトラメチル−ジシロキサン(信越化学社製試薬)を145g、真空下にて110℃で5時間乾燥した活性白土(TONSIL OPTIMUM 230FF:ズード ケミー社製)を0.42g仕込み、窒素下、65℃にて攪拌条件下、24時間反応を行った。得られた反応液を乾燥窒素下にて1μmのフィルターを通過させて触媒を除去した後、50℃、2kPaの条件で3時間かけて低分子量オリゴマーを留去してポリ水素メチルシロキサンを得た。
[Reference Example 2: Synthesis of polyhydrogenmethylsiloxane]
In a 0.5 liter reactor equipped with a reflux condenser, thermometer and stirrer bar, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) purified by distillation under dry nitrogen was added. 145 g, 145 g of 1,1,3,3-tetramethyl-disiloxane purified by distillation under nitrogen (reagent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), activated clay (TONSIL OPTIMUM 230FF) dried at 110 ° C. for 5 hours under vacuum: 0.42 g (made by Zude Chemie) was charged, and the reaction was carried out under stirring at 65 ° C. under nitrogen for 24 hours. The obtained reaction solution was passed through a 1 μm filter under dry nitrogen to remove the catalyst, and then the low molecular weight oligomer was distilled off over 3 hours at 50 ° C. under 2 kPa to obtain polyhydrogenmethylsiloxane. .

得られたポリ水素メチルシロキサンの全ての末端構造はH−Si(CH32−O−であり、主鎖構造は水素メチルシロキシ単位のみであった。また、数平均分子量は600であった。
必要に応じて、上記の合成操作を繰り返し実施してポリ水素メチルシロキサンを得て、以下の反応に用いた。
All terminal structures of the obtained polyhydrogenmethylsiloxane were H—Si (CH 3 ) 2 —O—, and the main chain structure was only hydrogen methylsiloxy units. The number average molecular weight was 600.
If necessary, the above synthesis operation was repeated to obtain polyhydrogenmethylsiloxane, which was used in the following reaction.

[合成例1:水素メチル単位及びジアルキル単位を交互にブロック単位として有するオルガノハイドロジェンシリコーンの合成]
<平衡化反応>
攪拌翼を備えた300mlのセパラブルフラスコに、乾燥窒素下にて参考例1で得られたポリジアルキルシロキサン95g、参考例2で得られたポリ水素メチルシロキサン35.1gを仕込み、攪拌条件下、系内を20℃に冷却した。系内が均一に混合分散された後、乾燥窒素下にて、攪拌を継続しながらトリフルオロメタンスルホン酸(和光純薬社製試薬特級品)を乾燥窒素条件下でポリジアルキルシロキサンとポリ水素メチルシロキサンの合計重量に対して0.25wt%添加して、平衡化反応を15分間反応を行った後、添加したトリフルオロメタンスルホン酸と等モル量のトリエチルアミン(和光純薬社製試薬特級品)を添加して、攪拌を30分継続した。30分経過後、攪拌を停止して反応系を室温として、内容物をトルエン(和光純薬社製試薬特級品)を合計600ml用いて溶解回収した。回収溶液を2リットルの分液ロートに移し、0.02mol/リットルの炭酸水素ナトリウム水溶液700mlを添加して分液洗浄した後、相分離させて水相を廃棄する。引き続き、蒸留水700mlを添加して分液洗浄した後、相分離させて水相を廃棄する操作を2回実施した。トルエン溶液を回収し、エバポレーターにて、減圧下、65℃でトルエンを留去してシリコーンを得た。
[Synthesis Example 1: Synthesis of organohydrogensilicone having hydrogen methyl units and dialkyl units alternately as block units]
<Equilibration reaction>
A 300 ml separable flask equipped with a stirring blade was charged with 95 g of the polydialkylsiloxane obtained in Reference Example 1 and 35.1 g of the polyhydrogenmethylsiloxane obtained in Reference Example 2 under dry nitrogen. The inside of the system was cooled to 20 ° C. After the system is uniformly mixed and dispersed, trifluoromethanesulfonic acid (special grade product manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is mixed with polydialkylsiloxane and polyhydrogenmethylsiloxane under dry nitrogen conditions while continuing stirring under dry nitrogen. After adding 0.25 wt% with respect to the total weight of the mixture and carrying out the equilibration reaction for 15 minutes, equimolar amount of triethylamine (reagent special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is added with the added trifluoromethanesulfonic acid. The stirring was continued for 30 minutes. After 30 minutes, stirring was stopped to bring the reaction system to room temperature, and the contents were dissolved and recovered using a total of 600 ml of toluene (special grade reagent manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). The recovered solution is transferred to a 2 liter separatory funnel, and 700 ml of a 0.02 mol / liter aqueous sodium hydrogen carbonate solution is added for separation and washing, and then the phases are separated and the aqueous phase is discarded. Subsequently, 700 ml of distilled water was added, followed by separation and washing, and then the phase separation was performed and the aqueous phase was discarded twice. The toluene solution was recovered, and toluene was distilled off at 65 ° C. under reduced pressure using an evaporator to obtain silicone.

<低分子量成分の留去>
内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製の円筒状チューブに、上記で得られたシリコーンを仕込み、加熱用面ヒーターを有するガラスチューブオーブン[柴田科学(株)製GTO−350RG]にセットした。室温条件下、内部を窒素置換した後に、内部の円筒形チューブの回転を開始し、圧力0.1kPaの条件下、温度200℃に昇温して1時間、引き続き温度を250℃に昇温して3時間、更に引き続いて温度を300℃に昇温して3時間かけて低分子量成分の留去を実施した。低沸留去終了後、室温に冷却後に乾燥窒素で大気圧とし、水素メチル単位連鎖及びジアルキル単位連鎖を交互にブロック単位として有する水素アルキルシロキサン(以下、「ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン」と略記する。)を得た。
<Evaporation of low molecular weight components>
A glass tube oven [GTO-350RG manufactured by Shibata Kagaku Co., Ltd.] having the surface silicone heater prepared by charging the silicone obtained above into a cylindrical tube made of Pyrex (registered trademark) glass having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm. Set. After replacing the interior with nitrogen under room temperature conditions, the internal cylindrical tube started to rotate, and under a pressure of 0.1 kPa, the temperature was raised to 200 ° C. for 1 hour, and then the temperature was raised to 250 ° C. The temperature was raised to 300 ° C. for 3 hours, and the low molecular weight component was distilled off over 3 hours. After completion of low boiling distillation, after cooling to room temperature, the pressure is reduced to atmospheric pressure with dry nitrogen, and hydrogen alkylsiloxane having hydrogen methyl unit chains and dialkyl unit chains alternately as block units (hereinafter abbreviated as “block type organohydrogen silicone”). .)

分子量測定の結果、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの数平均分子量は7,200であった。また、得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの全ての末端構造は、[H−Si(CH32−O1/2−]であり、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンの組成は、[H−Si(CH32−O1/2−]単位2.3モル%、水素メチルシロキシ単位29.3モル%、ジメチルシロキシ単位14.2モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位54.2モル%、ジアルキルシロキシ単位及び水素メチルシロキシ単位の平均連鎖長は、各々40及び4.3であった。 As a result of molecular weight measurement, the number average molecular weight of the obtained block type organohydrogensilicone was 7,200. Further, all terminal structures of the obtained block type organohydrogensilicone are [H—Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —], and the composition of the block type organohydrogensilicone is [H— Si (CH 3 ) 2 —O 1/2 —] unit 2.3 mol%, hydrogen methylsiloxy unit 29.3 mol%, dimethylsiloxy unit 14.2 mol%, cyclohexylmethylsiloxy unit 54.2 mol%, dialkyl The average chain lengths of siloxy units and hydrogen methylsiloxy units were 40 and 4.3, respectively.

得られたブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中における
・T構造単位とQ構造単位の各々のモル数の総和[本発明における平均組成式(11) 中の(R1SiO3/2)、(HSiO3/2)、(SiO4/2)単位のモル数の総和:(t+u
+v)]はゼロ、
・ジアルキルシロキシ単位のモル数[本発明における平均組成式(11)中の
(R1 2SiO2/2)単位のモル数:r]は59.5、
・アルキル水素シロキシ単位のモル数[本発明における平均組成式(11)中の
(R1HSiO2/2)のモル数:s]は25.5、
・全末端に対するジアルキル水素シロキシ末端のモル分率[本発明における平均組成式
(11)中の(R1 3SiO1/2)及び(R1 2HSiO1/2)単位の合計モル数に対する
(R1 2HSiO1/2)単位のモル分率:q/(p+q)]は1、
・ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーンを構成する全Siに対するSiH単位
の含有分率[本発明における平均組成式(11)中の全Siのモル数に対する
(R1 2HSiO1/2)、(R1HSiO2/2)、(HSiO3/2)単位の合計モル数:
(q+s+u)/(p+q+r+s+t+u+v)]は0.316
であった。
In the obtained block-type organohydrogensilicone: Sum of the number of moles of each of the T structural unit and the Q structural unit [(R 1 SiO 3/2 ) in the average composition formula (11) in the present invention, (HSiO 3 / 2 ), the total number of moles of (SiO 4/2 ) units: (t + u
+ V)] is zero,
Number of moles of dialkylsiloxy units [in the average composition formula (11) in the present invention
The number of moles of (R 1 2 SiO 2/2 ) units: r] is 59.5,
Number of moles of alkyl hydrogen siloxy units [in the average composition formula (11) in the present invention
The number of moles of (R 1 HSiO 2/2 ): s] is 25.5,
-Mole fraction of dialkyl hydrogen siloxy terminal with respect to all terminals [based on the total number of moles of (R 1 3 SiO 1/2 ) and (R 1 2 HSiO 1/2 ) units in the average composition formula (11) in the present invention ( R 1 2 HSiO 1/2 ) unit molar fraction: q / (p + q)] is 1,
-Content ratio of SiH unit to the total Si constituting the block type organohydrogen silicone [based on the total number of moles of Si in the average composition formula (11) in the present invention
Total number of moles of (R 1 2 HSiO 1/2 ), (R 1 HSiO 2/2 ), (HSiO 3/2 ) units:
(Q + s + u) / (p + q + r + s + t + u + v)] is 0.316
Met.

また、ブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン中には、シロキサン交換反応に用いたトリフルオロメタンスルホン酸やトリエチルアミン由来の化合物は含まれていなかった。   Further, the block type organohydrogen silicone did not contain trifluoromethanesulfonic acid or triethylamine-derived compound used for the siloxane exchange reaction.

[実施例1]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
還流冷却器、温度計及び撹拌装置を有する1リットルの反応器を乾燥窒素で置換した。乾燥窒素条件下にて、前記装置に、合成例1にて製造したブロック型オルガノハイドロジェンシリコーン60g、乾燥窒素下にて脱水蒸留精製した4−ビニルシクロへキセンオキサイド(アルドリッチ社製試薬)217.8g、窒素下にて脱水蒸留精製した1,4−ジオキサン(和光純薬社製試薬特級品)328gを仕込み、大気圧乾燥窒素雰囲気下で攪拌しながら65℃に昇温した。
[Example 1]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
A 1 liter reactor with a reflux condenser, thermometer and stirrer was replaced with dry nitrogen. Under dry nitrogen conditions, 60 g of the block-type organohydrogensilicone produced in Synthesis Example 1 was added to the apparatus, and 217.8 g of 4-vinylcyclohexene oxide (reagent manufactured by Aldrich) purified by dehydration distillation under dry nitrogen. Then, 328 g of 1,4-dioxane (reagent special grade manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) dehydrated and purified under nitrogen was charged, and the temperature was raised to 65 ° C. with stirring in an atmospheric pressure dry nitrogen atmosphere.

これに、白金元素換算で500ppmの白金を含有する白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体の1,4−ジオキサン希釈溶液0.5gを乾燥窒素下にて添加し、ヒドロシリル化反応を60時間反応を実施した後、室温まで放冷した。加熱停止直前にサンプリングしたところ、定量的にヒドロシリル化反応が進行しており、未反応のSiH単位は検出されなかった。   To this, 0.5 g of a 1,4-dioxane diluted solution of platinum divinyltetramethyldisiloxane complex containing 500 ppm of platinum in terms of platinum element was added under dry nitrogen, and the hydrosilylation reaction was carried out for 60 hours. Then, it was left to cool to room temperature. When sampling was performed immediately before the heating was stopped, the hydrosilylation reaction progressed quantitatively, and unreacted SiH units were not detected.

反応混合液からエバポレーターを用いて、減圧条件下、加熱温度40℃にて1,4−ジオキサンを留去し、エポキシ変性シリコーンを得た。   1,4-dioxane was distilled off from the reaction mixture using an evaporator at a heating temperature of 40 ° C. under reduced pressure to obtain an epoxy-modified silicone.

得られたエポキシ変性シリコーン100gを内径70mm、有効長さ200mmのパイレックス(登録商標)ガラス製円筒状チューブに入れ、ガラスチューブオーブン(柴田科学製GTO−350)にセットした。内部の円筒形チューブの回転を開始し、室温条件下にて内部を乾燥窒素置換した後に、温度35℃、圧力0.1kPaにて、内部に大気圧換算で10ml/分の流量にて乾燥窒素を導入しながら80時間処理して、低沸化合物を低減した、エポキシ変性シリコーン(1a)を得た。
得られたエポキシ変性シリコーン(1a)の全ての末端構造は、ヒドロシリル化反応によりトリアルキルシロキシ基に変性されていた。
100 g of the resulting epoxy-modified silicone was placed in a Pyrex (registered trademark) glass cylindrical tube having an inner diameter of 70 mm and an effective length of 200 mm, and set in a glass tube oven (GTO-350 manufactured by Shibata Kagaku). After starting rotation of the internal cylindrical tube and substituting the inside with dry nitrogen at room temperature, dry nitrogen at a temperature of 35 ° C. and a pressure of 0.1 kPa at a flow rate of 10 ml / min in terms of atmospheric pressure inside. The epoxy-modified silicone (1a) in which the low boiling point compound was reduced was obtained by treating for 80 hours while introducing.
All terminal structures of the resulting epoxy-modified silicone (1a) were modified to trialkylsiloxy groups by a hydrosilylation reaction.

また、得られたエポキシ変性シリコーン(1a)中における、全Si数に対するSiH基の含有率[本発明の平均組成式(1)における(c+i+m)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)×100]、並びに、分岐鎖の含有率[本発明の平均組成式(1)における(j+k+l+m+2n)/(a+b+c+d+e+f+g+h+i+j+k+l+m+n)×100]の値は、いずれもゼロであった。   Further, in the obtained epoxy-modified silicone (1a), the content of SiH groups relative to the total number of Si [(c + i + m) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100 in the average composition formula (1) of the present invention], and The values of the contents [(j + k + l + m + 2n) / (a + b + c + d + e + f + g + h + i + j + k + l + m + n) × 100 in the average composition formula (1) of the present invention] were all zero.

末端基を除いた組成は、水素メチルシロキシ単位にビニルシクロヘキセンオキサイドが付加した単位30.0モル%、ジメチルシロキシ単位14.5モル%、シクロヘキシルメチルシロキシ単位55.5モル%であった。分子量測定の結果、数平均分子量は9,700であった。また、エポキシ基の開環に伴う高分子量部の形成は全く見られなかった。   The composition excluding the terminal group was 30.0 mol% of units in which vinylcyclohexene oxide was added to hydrogen methylsiloxy units, 14.5 mol% of dimethylsiloxy units, and 55.5 mol% of cyclohexylmethylsiloxy units. As a result of the molecular weight measurement, the number average molecular weight was 9,700. In addition, formation of a high molecular weight part accompanying the ring opening of the epoxy group was not observed at all.

エポキシ変性シリコーン(1a)中に残留する低沸化合物としては、4−ビニルシクロヘキセンオキサイド及び4−ビニルシクロヘキセンオキサイドの炭素−炭素2重結合が内部転移を起こして生成した4−エチリデニルシクロヘキセンオキサイドが検出され、それらの残留量は各々40ppm、30ppmであった。その他の化合物は検出されなかった。   Examples of low boiling compounds remaining in the epoxy-modified silicone (1a) include 4-vinylcyclohexene oxide and 4-ethylidenylcyclohexene oxide formed by the internal transition of the carbon-carbon double bond of 4-vinylcyclohexene oxide. As a result, the residual amounts were 40 ppm and 30 ppm, respectively. Other compounds were not detected.

また、エポキシ変性シリコーン(1a)のエポキシ価は0.214、含有される遷移金属元素は白金のみであり、該元素の含有量は5ppmであった。
上記の合成操作を繰り返し実施してエポキシ変性シリコーン(1a)を得て、以下の処理を行った。
Moreover, the epoxy value of the epoxy-modified silicone (1a) was 0.214, the transition metal element contained was only platinum, and the content of the element was 5 ppm.
The above synthetic operation was repeated to obtain an epoxy-modified silicone (1a), and the following treatment was performed.

攪拌翼を備えた内容量2リットルの攪拌槽にエポキシ変性シリコーン(1a)を1,000g、光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを0.01g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.001質量部に相当]仕込み、窒素雰囲下、30℃にて2時間均一混合して、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した無色透明のエポキシ変性シリコーン組成物(1b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(1b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(1b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。   1,000 g of epoxy-modified silicone (1a) and 0.01 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone as a light stabilizer [100 mass of epoxy-modified silicone (1a)] in a 2 liter stirring tank equipped with a stirring blade Is equivalent to 0.001 part by mass with respect to parts] A colorless and transparent epoxy-modified silicone prepared by mixing uniformly in a nitrogen atmosphere at 30 ° C. for 2 hours to uniformly dissolve 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone A composition (1b) was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (1b) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (1b) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例2]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを0.015g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.0015質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(2b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(2b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(2b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Example 2]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
Example 1 was used except that 0.015 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (equivalent to 0.0015 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer. Thus, a transparent epoxy-modified silicone composition (2b) in which 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (2b) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (2b) upon irradiation with pseudo sunlight.

[実施例3]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを0.1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.01質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(3b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(3b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(3b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Example 3]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
As in Example 1, except that 0.1 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (corresponding to 0.01 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer. Thus, a transparent epoxy-modified silicone composition (3b) in which 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (3b) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (3b) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例4]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(4b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(4b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(4b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Example 4]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
As in Example 1, except that 1 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (equivalent to 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer, A transparent epoxy-modified silicone composition (4b) in which 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (4b) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (4b) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例5]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを40g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、4質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(5b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(5b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(5b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Example 5]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
In the same manner as in Example 1, except that 40 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (corresponding to 4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer, A transparent epoxy-modified silicone composition (5b) in which hydroxy-4-octoxybenzophenone was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (5b) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (5b) upon irradiation with pseudo sunlight.

[比較例1]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを0.001g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.0001質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(1c)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(1c)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(1c)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
As in Example 1, except that 0.001 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (equivalent to 0.0001 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer. Thus, a transparent epoxy-modified silicone composition (1c) in which 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (1c) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (1c) during irradiation with pseudo sunlight.

[比較例2]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを60g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、6質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、光安定剤として2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノンを混合したエポキシ変性シリコーン組成物(2c)を製造した。得られたエポキシ変性シリコーン組成物(2c)中には、未溶解のジラウリルチオジプロピオネートが残留しており、エポキシ変性シリコーン組成物(2c)は白濁しており透明性が無かった。エポキシ変性シリコーン組成物(2c)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(2c)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表1に示す。
[Comparative Example 2]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
Photostabilization was performed in the same manner as in Example 1 except that 60 g of 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone (corresponding to 6 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) was used as the light stabilizer. An epoxy-modified silicone composition (2c) in which 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone was mixed as an agent was produced. In the obtained epoxy-modified silicone composition (2c), undissolved dilauryl thiodipropionate remained, and the epoxy-modified silicone composition (2c) was cloudy and was not transparent. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (2c) was 100,000 mPa · s or less. Table 1 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (2c) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例6]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2−(2′−ヒドロキシ−5′−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾールが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(6b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(6b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(6b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表2に示す。
[Example 6]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
Except for using 1 g of 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzotriazole (equivalent to 0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)) as a light stabilizer. In the same manner as in Example 1, a transparent epoxy-modified silicone composition (6b) in which 2- (2′-hydroxy-5′-tert-butylphenyl) benzotriazole was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (6b) was 100,000 mPa · s or less. Table 2 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (6b) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例7]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤として2-エトキシ-2’-エチル-オキサリック酸ビスアニリドを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、2-エトキシ-2‘-エチル-オキサリック酸ビスアニリドが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(7b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(7b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(7b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表2に示す。
[Example 7]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
As in Example 1, except that 1 g of 2-ethoxy-2′-ethyl-oxalic acid bisanilide was used as the light stabilizer [corresponding to 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)]. Thus, a transparent epoxy-modified silicone composition (7b) in which 2-ethoxy-2′-ethyl-oxalic acid bisanilide was uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (7b) was 100,000 mPa · s or less. Table 2 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (7b) during irradiation with pseudo sunlight.

[実施例8]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤としてN−(2−エチルフェニル)−N’−(2−エトキシ−フェニル)シュウ酸ジアミドを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]と、酸化防止剤としてジラウリルチオジプロピオネートを0.05g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.005質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、N−(2−エチルフェニル)−N’−(2−エトキシ−フェニル)シュウ酸ジアミド及びジラウリルチオジプロピオネートが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(8b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(8b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(8b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表2に示す。
[Example 8]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
1 g of N- (2-ethylphenyl) -N ′-(2-ethoxy-phenyl) oxalic acid diamide as a light stabilizer [equivalent to 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)] Except that 0.05 g of dilauryl thiodipropionate (corresponding to 0.005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of epoxy-modified silicone (1a)) was used as an antioxidant, the same as in Example 1, A transparent epoxy-modified silicone composition (8b) in which N- (2-ethylphenyl) -N ′-(2-ethoxy-phenyl) oxalic acid diamide and dilaurylthiodipropionate were uniformly dissolved was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (8b) was 100,000 mPa · s or less. Table 2 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (8b) during pseudo-sunlight irradiation.

[実施例9]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤としてビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメートを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレン−1,6−ジカルバメートが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(9b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(9b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(9b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表2に示す。
[Example 9]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
1 g of bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexamethylene-1,6-dicarbamate as a light stabilizer [0.1 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a) The bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) hexamethylene-1,6-dicarbamate was uniformly dissolved in the same manner as in Example 1 except that it was used. An epoxy-modified silicone composition (9b) was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (9b) was 100,000 mPa · s or less. Table 2 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (9b) during pseudo-sunlight irradiation.

[実施例10]
<エポキシ変性シリコーン組成物の製造>
光安定剤としてビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイトを1g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.1質量部に相当]とトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイトを0.05g[エポキシ変性シリコーン(1a)100質量部に対し、0.005質量部に相当]用いたこと以外は、実施例1と同様にして、ビス(2,4−ジ−tert−ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスファイト及びトリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)ホスファイトが均一に溶解した透明のエポキシ変性シリコーン組成物(10b)を得た。エポキシ変性シリコーン組成物(10b)の粘度は、100,000mPa・s以下であった。エポキシ変性シリコーン組成物(10b)の疑似太陽光照射時の保存安定性評価結果を表2に示す。
[Example 10]
<Production of epoxy-modified silicone composition>
As a light stabilizer, 1 g of bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) ethyl phosphite (equivalent to 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of epoxy-modified silicone (1a)) and Tris ( Except for using 0.05 g of 2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite [equivalent to 0.005 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone (1a)], the same as in Example 1. Transparent epoxy-modified silicone composition in which bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) ethyl phosphite and tris (2,4-di-tert-butylphenyl) phosphite are uniformly dissolved (10b) was obtained. The viscosity of the epoxy-modified silicone composition (10b) was 100,000 mPa · s or less. Table 2 shows the storage stability evaluation results of the epoxy-modified silicone composition (10b) during pseudo-sunlight irradiation.

Figure 2013194071
Figure 2013194071

Figure 2013194071
Figure 2013194071

輸送や貯蔵の際等、太陽光等の光暴露条件下において、優れた保存安定性を有するエポキシ変性シリコーン組成物を提供することが可能となる。   It is possible to provide an epoxy-modified silicone composition having excellent storage stability under light exposure conditions such as sunlight during transportation and storage.

Claims (6)

下記平均組成式(1)で表されるエポキシ変性シリコーン100質量部に対し、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤、有機リン系光安定剤なる群から選ばれる少なくとも1種の光安定剤を0.0005質量部以上5質量部以下含有することを特徴とする、エポキシ変性シリコーン組成物。
Figure 2013194071
[平均組成式(1)中、R1は、各々独立に、(A)鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が1以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の脂肪族有機基、(B)無置換又は置換された炭素原子数が6以上24以下及び酸素原子数が0以上5以下である1価の芳香族有機基であって、置換された場合には、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有する置換基を有する、1価の芳香族有機基、又は(C)鎖状、分岐状若しくは環状の無置換若しくは置換された脂肪族炭化水素構造、又は無置換若しくは置換された芳香族炭化水素構造を有する、炭素原子数が5以上26以下、酸素原子数が0以上5以下、及び珪素原子数が1である1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR1は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
2は、各々独立に、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された脂肪族炭化水素構造を有し、炭素原子数が4以上24以下及び酸素原子数が1以上5以下であり、エポキシ基を含有する1価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるR2は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Yは、各々独立に、無置換又は置換された鎖状、分岐状及び環状からなる群より選ばれる1種以上の構造からなり、炭素原子数が2以上70以下、酸素原子数が0以上15以下、及び珪素原子数が0以上10以下である2価の有機基を表す。各シロキシ単位中に複数あるYは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
ZはYと結合する2価の炭化水素基を表す。
a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは、エポキシ変性シリコーン1モル中に存在する各シロキシ単位のモル数を表し、a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、nは各々0以上の値でd+h+k>0、e+f+h+i+j+k>0、g=a+f+lを同時に満足する値である。]
At least one light stabilizer selected from the group consisting of an ultraviolet absorber, a hindered amine light stabilizer, and an organic phosphorus light stabilizer is added to 100 parts by mass of the epoxy-modified silicone represented by the following average composition formula (1). An epoxy-modified silicone composition containing 0005 parts by mass to 5 parts by mass.
Figure 2013194071
[In the average composition formula (1), each R 1 independently has (A) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, and has 1 to 24 carbon atoms. Or a monovalent aliphatic organic group having 0 or more and 5 or less oxygen atoms, (B) monovalent or unsubstituted or substituted carbon atoms having 6 or more and 24 or less, and oxygen atoms having 0 or more and 5 or less A monovalent aromatic organic group having a substituent having a linear, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, when substituted, Or (C) a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, or an unsubstituted or substituted aromatic hydrocarbon structure, having 5 to 26 carbon atoms, oxygen atom Represents a monovalent organic group having a number of 0 to 5 and a silicon atom number of 1 A plurality of R 1 in each siloxy unit may be the same or different.
Each R 2 independently has a chain, branched or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic hydrocarbon structure, having 4 to 24 carbon atoms and 1 to 5 oxygen atoms. Represents a monovalent organic group containing an epoxy group. A plurality of R 2 in each siloxy unit may be the same or different.
Y is each independently composed of one or more structures selected from the group consisting of unsubstituted or substituted chain, branched and cyclic, having 2 to 70 carbon atoms and 0 to 15 oxygen atoms. Hereinafter, a divalent organic group having 0 or more and 10 or less silicon atoms is represented. A plurality of Y in each siloxy unit may be the same or different.
Z represents a divalent hydrocarbon group bonded to Y.
a, b, c, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, n represent the number of moles of each siloxy unit present in 1 mole of epoxy-modified silicone; , C, d, e, f, g, h, i, j, k, l, m, and n are values that are 0 or more, and satisfy d + h + k> 0, e + f + h + i + j + k> 0, and g = a + f + l at the same time. ]
遷移金属元素の含有量の合計値が30質量ppm以下である、請求項1に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。   The epoxy-modified silicone composition according to claim 1, wherein the total content of the transition metal elements is 30 ppm by mass or less. 前記エポキシ変性シリコーンのエポキシ価が0.15以上0.50以下の範囲である、請求項1又は請求項2に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。   The epoxy-modified silicone composition according to claim 1 or 2, wherein an epoxy value of the epoxy-modified silicone is in a range of 0.15 to 0.50. 2が、各々独立に、下記一般式(2)〜(5)で表されるいずれかの有機基である、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。
Figure 2013194071
Figure 2013194071
Figure 2013194071
Figure 2013194071
[一般式(2)〜(5)中、R3は、各々独立に、炭素原子数が1以上16以下及び酸素原子数が1以上4以下であり、鎖状、分岐状又は環状の無置換又は置換された2価の有機基を表す。]
The epoxy-modified silicone composition according to any one of claims 1 to 3, wherein each R 2 is independently any organic group represented by the following general formulas (2) to (5). .
Figure 2013194071
Figure 2013194071
Figure 2013194071
Figure 2013194071
[In General Formulas (2) to (5), each R 3 is independently a chain, branched or cyclic unsubstituted group having 1 to 16 carbon atoms and 1 to 4 oxygen atoms. Alternatively, it represents a substituted divalent organic group. ]
前記エポキシ変性シリコーン中の全Si数に対するSiH基の含有率が2%未満である、請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。   The epoxy-modified silicone composition according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of SiH groups relative to the total number of Si in the epoxy-modified silicone is less than 2%. 25℃における粘度が、500,000mPa・s以下である、請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載のエポキシ変性シリコーン組成物。   The epoxy-modified silicone composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the viscosity at 25 ° C is 500,000 mPa · s or less.
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