JP2013182642A - Substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive and manufacturing method for substrate for suspension - Google Patents

Substrate for suspension, suspension, suspension with head, hard disk drive and manufacturing method for substrate for suspension Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for suspension that is capable of improving reliability of electrical connection with an actuator element.SOLUTION: A substrate for suspension 1 according to the invention comprises an insulation layer 10, a metal support layer 11 and a wiring layer 12. Among these layers, the wiring layer 12 includes: multiple lines 13; and a wiring connection part 16 that is connected to the corresponding line 13 and is electrically connected to an actuator element 44 through a conductive adhesive. A connection structure region 3 includes a metal support layer through-hole 32 and an insulation layer through-hole 33, and is at least partially provided with an injection hole 31 where the conductive adhesive is injected. The metal support layer 11 includes a frame body part 17 that forms the metal support layer through-hole 32. The frame body part 17 includes an opposing face 17c that is arranged on a surface opposite to the insulation layer 10 and is opposed to the actuator element 44, and the opposing surface 17c of the frame body part 17 is provided with a groove 18.

Description

本発明は、サスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に係り、とりわけ、アクチュエータ素子との電気的な接続の信頼性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate, and in particular, a suspension substrate and a suspension capable of improving the reliability of electrical connection with an actuator element. The present invention relates to a suspension with a head, a hard disk drive, and a method for manufacturing a suspension substrate.

一般に、ハードディスクドライブ(HDD)は、データが記憶されるディスクに対してデータの書き込みおよび読み取りを行う磁気ヘッドスライダが実装されたサスペンション用基板を備えている。このサスペンション用基板は、金属支持層と、金属支持層に絶縁層を介して積層された複数の配線を有する配線層と、を備えており、各配線に電気信号を流すことにより、ディスクに対してデータの書き込みまたは読み取りを行うようになっている。   In general, a hard disk drive (HDD) includes a suspension board on which a magnetic head slider for writing and reading data to and from a disk storing data is mounted. The suspension substrate includes a metal support layer and a wiring layer having a plurality of wirings stacked on the metal support layer with an insulating layer interposed therebetween. To write or read data.

このようなハードディスクドライブにおいては、ディスク上の所望のデータトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるために、磁気ヘッドスライダを支持するアクチュエータアームを回転させるVCMアクチュエータ(例えば、ボイスコイルモータ)を、サーボコントロールシステムによって制御している。   In such a hard disk drive, in order to move the magnetic head slider to a desired data track on the disk, a VCM actuator (for example, a voice coil motor) that rotates an actuator arm that supports the magnetic head slider is used as a servo control system. Is controlled by.

ところで、近年、ディスクの高密度化により、トラックの幅が小さくなっている。このため、VCMアクチュエータによって、磁気ヘッドスライダを所望のトラックに精度良く位置合わせすることが困難な場合がある。   By the way, in recent years, the track width has been reduced by increasing the density of the disk. For this reason, it may be difficult to accurately align the magnetic head slider to a desired track by the VCM actuator.

このことに対処するために、VCMアクチュエータとPZTマイクロアクチュエータ(Dual Stage Actuator:DSA)とを協働させて、所望のトラックに磁気ヘッドスライダを移動させるデュアルアクチュエータ方式のサスペンションが知られている(例えば、特許文献1参照)。このPZTマイクロアクチュエータは、PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)からなる圧電素子等のピエゾ素子により構成され、電圧が印加されることにより伸縮し、磁気ヘッドスライダを微小に移動させるようになっている。このようなデュアルアクチュエータ方式のサスペンションにおいては、VCMアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を大まかに調整し、PZTマイクロアクチュエータが、磁気ヘッドスライダの位置を微小調整する。このようにして、磁気ヘッドスライダを、所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせするようになっている。   In order to cope with this, a dual actuator type suspension is known in which a VCM actuator and a PZT microactuator (Dual Stage Actuator: DSA) cooperate to move a magnetic head slider to a desired track (for example, , See Patent Document 1). This PZT microactuator is constituted by a piezoelectric element such as a piezoelectric element made of PZT (lead zirconate titanate), and expands and contracts when a voltage is applied to move the magnetic head slider minutely. In such a dual actuator type suspension, the VCM actuator roughly adjusts the position of the magnetic head slider, and the PZT microactuator finely adjusts the position of the magnetic head slider. In this way, the magnetic head slider is aligned with a desired track quickly and accurately.

特許文献1に示すサスペンション用基板においては、圧電素子に給電するための端子部において電気絶縁層に貫通孔が設けられて配線部が露出され、電気絶縁層の圧電素子側の面に、リング状の液止め部材が設けられている。液止め部材の内部に液状の導電性接着剤を注入することにより、導電性接着剤が配線部および圧電素子に接合されて、圧電素子のサスペンション用基板側の電極が配線部に電気的に接続されるようになっている。この場合、導電性接着剤は、液止め部材にも接合されるようになっており、導電性接着剤とサスペンション用基板との接合信頼性を確保し、サスペンション用基板と圧電素子との電気的な接続信頼性の確保を図っている。   In the suspension substrate shown in Patent Document 1, a through-hole is provided in the electrical insulating layer in the terminal portion for supplying power to the piezoelectric element, the wiring portion is exposed, and a ring-like shape is formed on the surface of the electrical insulating layer on the piezoelectric element side. The liquid stop member is provided. By injecting a liquid conductive adhesive into the liquid stop member, the conductive adhesive is joined to the wiring part and the piezoelectric element, and the electrode on the suspension substrate side of the piezoelectric element is electrically connected to the wiring part. It has come to be. In this case, the conductive adhesive is also bonded to the liquid stopper, ensuring the bonding reliability between the conductive adhesive and the suspension substrate, and the electrical connection between the suspension substrate and the piezoelectric element. Secure connection reliability.

特開2010−165406号公報JP 2010-165406 A

しかしながら、導電性接着剤と液止め部材との接合面積は、スペースの都合により限られてしまう。このことにより、圧電素子とサスペンション用基板との電気的な接続の信頼性を向上させるために、導電性接着剤と液止め部材との接合強度を向上させることが困難であるという問題がある。   However, the bonding area between the conductive adhesive and the liquid stopper is limited due to space constraints. Accordingly, there is a problem that it is difficult to improve the bonding strength between the conductive adhesive and the liquid stop member in order to improve the reliability of the electrical connection between the piezoelectric element and the suspension substrate.

本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、アクチュエータ素子との電気的な接続の信頼性を向上させることができるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and can be used for a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension that can improve the reliability of electrical connection with an actuator element. An object is to provide a method for manufacturing a substrate.

本発明は、第1の解決手段として、アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層であって、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を有する前記配線層と、を備え、前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔と、を有し、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が設けられ、前記金属支持層は、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部を有し、前記枠体部は、前記絶縁層とは反対側の面に配置された、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含み、前記枠体部の前記対向面に、溝が設けられていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   As a first solution, the present invention provides a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive, an insulating layer, and a metal provided on one surface of the insulating layer. A wiring layer provided on the other surface of the support layer and the insulating layer, the wiring layer provided in the connection structure region, connected to the corresponding wiring, and connected to the actuator element; A wiring connection portion electrically connected via a conductive adhesive, and a metal support layer through-hole penetrating the metal support layer in the connection structure region, and the insulating layer An insulating layer through-hole penetrating through, exposing the surface of the wiring connection portion on the actuator element side, and provided with an injection hole into which the conductive adhesive is injected at least partially, The holding layer includes a frame body portion that forms the metal support layer through-hole, and the frame body portion includes a facing surface that is disposed on a surface opposite to the insulating layer and faces the actuator element. A suspension substrate is provided, wherein a groove is provided on the facing surface of the frame body.

なお、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記溝は、前記金属支持層貫通孔を画定する内周面から外周面に延びている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the groove extends from the inner peripheral surface defining the metal support layer through hole to the outer peripheral surface.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記枠体部の前記対向面において、複数の前記溝が、放射状に形成されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the plurality of grooves are formed radially on the facing surface of the frame body portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記枠体部の前記対向面において、複数の前記溝が、らせん状に形成されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the plurality of grooves are formed in a spiral shape on the facing surface of the frame body portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記枠体部の前記対向面において、前記溝は、リング状に形成されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the groove is formed in a ring shape on the facing surface of the frame body portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記溝の内面は、前記枠体部の前記対向面よりも、粗面化されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the inner surface of the groove is rougher than the opposing surface of the frame body portion.

また、上述した第1の解決手段によるサスペンション用基板において、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されている、ことが好ましい。   In the suspension substrate according to the first solving means described above, it is preferable that the outer peripheral surface of the frame body portion is formed so as to spread from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface.

本発明は、第2の解決手段として、アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層であって、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を有する前記配線層と、を備え、前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔と、を有し、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が設けられ、前記金属支持層は、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部を有し、前記枠体部は、前記絶縁層とは反対側の面に配置された、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含み、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   As a second solution, the present invention provides a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive, an insulating layer, and a metal provided on one surface of the insulating layer. A wiring layer provided on the other surface of the support layer and the insulating layer, the wiring layer provided in the connection structure region, connected to the corresponding wiring, and connected to the actuator element; A wiring connection portion electrically connected via a conductive adhesive, and a metal support layer through-hole penetrating the metal support layer in the connection structure region, and the insulating layer An insulating layer through-hole penetrating through, exposing the surface of the wiring connection portion on the actuator element side, and provided with an injection hole into which the conductive adhesive is injected at least partially, The holding layer includes a frame body portion that forms the metal support layer through-hole, and the frame body portion includes a facing surface that is disposed on a surface opposite to the insulating layer and faces the actuator element. The suspension substrate is characterized in that the outer peripheral surface of the frame body portion is formed so as to expand from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface.

本発明は、ベースプレートと、前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた上述のサスペンション用基板と、前記ベースプレートおよび前記ロードビームの少なくとも一方に接合されると共に、前記サスペンション用基板の前記接続構造領域に前記導電性接着剤を介して接続された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention is a base plate, the above-described suspension substrate attached to the base plate via a load beam, and joined to at least one of the base plate and the load beam, and the connection structure region of the suspension substrate. And the actuator element connected via the conductive adhesive.

本発明は、上述したサスペンションと、前記サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンションを提供する。   The present invention provides a suspension with a head comprising the above-described suspension and a head slider mounted on the suspension.

本発明は、上述したヘッド付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention provides a hard disk drive having the above-described suspension with a head.

本発明は、第3の解決手段として、アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、前記配線層において、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を形成する工程と、前記金属支持層において、前記接続構造領域に設けられ、当該金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔を形成する工程と、前記金属支持層の前記絶縁層とは反対側の面に、溝を形成する工程と、前記絶縁層において、当該絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、前記金属支持層において、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部であって、前記絶縁層とは反対側の面に配置され、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含む前記枠体部を形成する工程と、を備え、前記金属支持層貫通孔と前記絶縁層貫通孔とにより、前記接続構造領域に設けられ、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が構成され、前記溝は、前記枠体部の前記対向面に配置されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   As a third solution, the present invention provides a method for manufacturing a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive, and the insulating layer is provided on one surface of the insulating layer. A step of preparing a laminated body having a formed metal support layer and a wiring layer provided on the other surface of the insulating layer, a plurality of wirings in the wiring layer, and provided in the connection structure region. A wiring connection portion that is connected to the wiring and electrically connected to the actuator element via a conductive adhesive, and the metal support layer is provided in the connection structure region. A step of forming a metal support layer through-hole penetrating the metal support layer, a step of forming a groove on a surface of the metal support layer opposite to the insulating layer, and the insulating layer, the insulating layer A step of forming an insulating layer through-hole penetrating; and in the metal support layer, a frame body portion for forming the metal support layer through-hole, the actuator element being disposed on a surface opposite to the insulating layer, Forming the frame body portion including a facing surface facing the actuator, and provided in the connection structure region by the metal support layer through-hole and the insulating layer through-hole, and the actuator of the wiring connection portion The suspension is characterized in that an element-side surface is exposed, an injection hole into which at least a part of the conductive adhesive is injected is formed, and the groove is disposed on the facing surface of the frame body portion. Provided is a method for manufacturing an industrial substrate.

なお、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記溝は、ハーフエッチングにより形成される、ことが好ましい。   In the method for manufacturing a suspension substrate according to the third solution described above, the groove is preferably formed by half etching.

また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記金属支持層貫通孔を形成する工程と、前記溝を形成する工程とは、同時に行われる、ことが好ましい。   In the method for manufacturing a suspension substrate according to the third solution described above, it is preferable that the step of forming the metal support layer through hole and the step of forming the groove are performed simultaneously.

また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記溝を形成する工程と、前記枠体部を形成する工程とは、同時に行われる、ことが好ましい。   In the method for manufacturing a suspension substrate according to the third solving means described above, it is preferable that the step of forming the groove and the step of forming the frame body portion are performed simultaneously.

また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記枠体部を形成する工程において、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成される、ことが好ましい。   In the suspension substrate manufacturing method according to the third solving means described above, in the step of forming the frame body portion, the outer peripheral surface of the frame body portion is directed from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface. It is preferably formed in a divergent shape.

また、上述した第3の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記枠体部を形成する工程において、形成される前記枠体部の前記対向面から、当該枠体部の外方に延びるように枠体部形成用レジストが形成されて、前記金属支持層がエッチングされる、ことが好ましい。   Further, in the suspension substrate manufacturing method according to the third solving means described above, in the step of forming the frame body portion, the frame body portion is formed so as to extend outward from the facing surface of the frame body portion. As described above, it is preferable that the frame body forming resist is formed and the metal support layer is etched.

本発明は、第4の解決手段として、アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、前記配線層において、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を形成する工程と、前記金属支持層において、前記接続構造領域に設けられ、当該金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔を形成する工程と、前記絶縁層において、当該絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、前記金属支持層において、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部であって、前記絶縁層とは反対側の面に配置され、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含む前記枠体部を形成する工程と、を備え、前記金属支持層貫通孔と前記絶縁層貫通孔とにより、前記接続構造領域に設けられ、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が構成され、前記枠体部を形成する工程において、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されるサスペンション用基板の製造方法を提供する。   As a fourth solution, the present invention provides a method for manufacturing a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive, and is provided on one surface of the insulating layer and the insulating layer. A step of preparing a laminated body having a formed metal support layer and a wiring layer provided on the other surface of the insulating layer, a plurality of wirings in the wiring layer, and provided in the connection structure region. A wiring connection portion that is connected to the wiring and electrically connected to the actuator element via a conductive adhesive, and the metal support layer is provided in the connection structure region. A step of forming a metal support layer through hole penetrating the metal support layer, a step of forming an insulating layer through hole penetrating the insulating layer in the insulating layer, and the metal support layer, A step of forming a frame body portion that forms a metal support layer through-hole, the frame body portion being disposed on a surface opposite to the insulating layer and including a facing surface facing the actuator element; Provided in the connection structure region by the metal support layer through-hole and the insulating layer through-hole, exposing a surface of the wiring connection portion on the actuator element side, and at least a part of the conductive adhesive In the step of forming the frame body portion, the outer peripheral surface of the frame body portion is formed so as to expand from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface. A method for manufacturing a substrate is provided.

なお、上述した第4の解決手段によるサスペンション用基板の製造方法において、前記枠体部を形成する工程において、形成される前記枠体部の前記対向面から、当該枠体部の外方に延びるように枠体部形成用レジストが形成されて、前記金属支持層がエッチングされる、ことが好ましい。   In the suspension substrate manufacturing method according to the fourth solving means described above, in the step of forming the frame body portion, the frame body portion is formed to extend outward from the facing surface of the frame body portion. As described above, it is preferable that the frame body forming resist is formed and the metal support layer is etched.

本発明によれば、アクチュエータ素子との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   According to the present invention, the reliability of electrical connection with an actuator element can be improved.

図1は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板の一例を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of a suspension substrate according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板において、接続構造領域を示す裏面図である。FIG. 2 is a back view showing a connection structure region in the suspension substrate according to the first embodiment of the present invention. 図3は、図2の接続構造領域の断面(A−A線断面)を示す図である。3 is a view showing a cross section (cross section taken along line AA) of the connection structure region of FIG. 図4は、図2の溝の断面を示す図である。FIG. 4 is a view showing a cross section of the groove of FIG. 図5は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an example of a suspension according to the first embodiment of the present invention. 図6は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンションにおいて、ピエゾ素子の一例を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an example of a piezo element in the suspension according to the first embodiment of the present invention. 図7は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンションにおいて、ピエゾ素子に接続された接続構造領域の断面を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a cross section of a connection structure region connected to the piezoelectric element in the suspension according to the first embodiment of the present invention. 図8は、本発明の第1の実施の形態におけるヘッド付サスペンションの一例を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing an example of the suspension with a head according to the first embodiment of the present invention. 図9は、本発明の第1の実施の形態におけるハードディスクドライブの一例を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing an example of the hard disk drive according to the first embodiment of the present invention. 図10(a)〜(h)は、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法を示す図である。FIGS. 10A to 10H are views showing a method for manufacturing a suspension substrate in the first embodiment of the present invention. 図11は、接続構造領域の裏面の変形例を示す図である。FIG. 11 is a diagram illustrating a modified example of the back surface of the connection structure region. 図12は、接続構造領域の裏面の他の変形例を示す図である。FIG. 12 is a diagram illustrating another modification of the back surface of the connection structure region. 図13は、サスペンション用基板の変形例を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a modification of the suspension substrate. 図14は、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション基板において、接続構造領域の断面を示す図である。FIG. 14 is a diagram showing a cross section of the connection structure region in the suspension board according to the second embodiment of the present invention. 図15(a)〜(c)は、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板の製造方法を示す図である。15 (a) to 15 (c) are diagrams showing a method for manufacturing a suspension substrate in the second embodiment of the present invention.

図面を用いて、本発明の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   A method of manufacturing a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

(第1の実施の形態)
図1乃至図10を用いて、本発明の第1の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。
(First embodiment)
A method for manufacturing a suspension substrate, a suspension, a suspension with a head, a hard disk drive, and a suspension substrate according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

図1に示すように、サスペンション用基板1は、基板本体領域2と、一対のピエゾ素子(アクチュエータ素子、図5参照)44に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域3と、を有している。このうち基板本体領域2には、後述のヘッドスライダ52(図8参照)に接続されるヘッド端子5と、FPC基板(外部機器、図8参照)71に接続される外部機器接続端子6とが設けられており、ヘッド端子5と外部機器接続端子6とは、配線13によって接続されている。また、一対の接続構造領域3は、基板本体領域2の両側方に配置されており、連結領域4を介して基板本体領域2に連結されている。   As shown in FIG. 1, the suspension substrate 1 includes a substrate body region 2 and a connection structure region 3 that can be connected to a pair of piezo elements (actuator element, see FIG. 5) via a conductive adhesive. Have. Among these, the board body region 2 includes a head terminal 5 connected to a head slider 52 (see FIG. 8), which will be described later, and an external equipment connection terminal 6 connected to an FPC board (external equipment, see FIG. 8) 71. The head terminal 5 and the external device connection terminal 6 are connected by a wiring 13. Further, the pair of connection structure regions 3 are arranged on both sides of the substrate body region 2 and are connected to the substrate body region 2 via the connection region 4.

図1および図3に示すように、サスペンション用基板1は、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面(接続されるピエゾ素子44の側の面)に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられ、複数の配線13を有する配線層12と、を備えている。なお、図示しないが、絶縁層10と配線層12との間に、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、銅(Cu)からなり、約300nm厚さを有するシード層が介在されており、絶縁層10と配線層12との密着性を向上させている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the suspension substrate 1 includes an insulating layer 10, a metal support layer 11 provided on one surface of the insulating layer 10 (the surface on the side of the piezo element 44 to be connected), And a wiring layer 12 provided on the other surface of the insulating layer 10 and having a plurality of wirings 13. Although not shown, a seed layer made of nickel (Ni), chromium (Cr), and copper (Cu) and having a thickness of about 300 nm is interposed between the insulating layer 10 and the wiring layer 12, so The adhesion between the layer 10 and the wiring layer 12 is improved.

配線層12は、各接続構造領域3に設けられた配線接続部16を有している。各配線接続部16は、対応する配線13に接続されると共に、ピエゾ素子44に導電性接着剤(例えば、銀ペースト)を介して電気的に接続されるようになっている。すなわち、配線接続部16に接続される配線13は、外部機器接続端子6から、基板本体領域2および連結領域4を介して接続構造領域3に延び、配線接続部16を介してピエゾ素子44に電気的に接続されるようになっている。   The wiring layer 12 has a wiring connection portion 16 provided in each connection structure region 3. Each wiring connection portion 16 is connected to the corresponding wiring 13 and is electrically connected to the piezo element 44 via a conductive adhesive (for example, silver paste). That is, the wiring 13 connected to the wiring connection portion 16 extends from the external device connection terminal 6 to the connection structure region 3 via the substrate body region 2 and the connection region 4, and to the piezo element 44 via the wiring connection portion 16. It is designed to be electrically connected.

図2および図3に示すように、金属支持層11は、接続構造領域3に設けられた、金属支持層11を貫通すると共に導電性接着剤が注入される金属支持層貫通孔32を含む枠体部17を有している。この枠体部17は、平面視で円形リング状に形成されており、金属支持層貫通孔32を画定する内周面17aと、外周面17bと、を有している。なお、枠体部17の形状は、円形リング状に限られることはなく、楕円形リング状など、枠状に形成されていれば任意の形状とすることができる。   As shown in FIGS. 2 and 3, the metal support layer 11 includes a metal support layer through-hole 32 provided in the connection structure region 3 and penetrating the metal support layer 11 and into which a conductive adhesive is injected. It has a body part 17. The frame body portion 17 is formed in a circular ring shape in plan view, and has an inner peripheral surface 17a that defines the metal support layer through-hole 32 and an outer peripheral surface 17b. Note that the shape of the frame body portion 17 is not limited to a circular ring shape, and may be any shape as long as it is formed in a frame shape such as an elliptical ring shape.

また、枠体部17は、絶縁層10とは反対側の面に配置された、ピエゾ素子44に対向する対向面17cを含んでいる。枠体部17の内周面17aおよび外周面17bは、枠体部17がエッチングで形成されていることにより絶縁層10に対して傾斜している。すなわち、枠体部17の内周面17aは、絶縁層10側の面(絶縁層側の面17d)から対向面17cに向かって末広がり状に形成され、金属支持層貫通孔32は、円錐台状に形成されている。また、枠体部17の外周面17bは、対向面17cから絶縁層側の面17dに向かって末広がり状に形成されており、枠体部17は、金属支持層貫通孔32とは反対方向に末広がり状となるような円錐台状に形成されている。なお、枠体部17の内周面17aおよび外周面17bは、絶縁層10に対して傾斜していることに限られることはなく、枠体部17の内周面17aおよび外周面17bが絶縁層10に垂直となるように形成されていてもよい。また、連結領域4には金属支持層11が形成されておらず、連結領域4は絶縁層10と配線層12と保護層20とにより構成されている。このことにより、接続構造領域3における枠体部17は、基板本体領域2における金属支持層11の部分と分離されている。   The frame body portion 17 includes a facing surface 17 c that is disposed on the surface opposite to the insulating layer 10 and faces the piezo element 44. The inner peripheral surface 17a and the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 are inclined with respect to the insulating layer 10 because the frame body portion 17 is formed by etching. That is, the inner peripheral surface 17a of the frame body portion 17 is formed so as to expand from the surface on the insulating layer 10 side (the surface 17d on the insulating layer side) toward the opposing surface 17c, and the metal support layer through hole 32 has a truncated cone shape. It is formed in a shape. Further, the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 is formed in a diverging shape from the facing surface 17c toward the surface 17d on the insulating layer side, and the frame body portion 17 is in a direction opposite to the metal support layer through-hole 32. It is formed in the shape of a truncated cone that has a divergent shape. The inner peripheral surface 17a and the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 are not limited to being inclined with respect to the insulating layer 10, and the inner peripheral surface 17a and the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 are insulated. It may be formed to be perpendicular to the layer 10. Further, the metal support layer 11 is not formed in the connection region 4, and the connection region 4 is configured by the insulating layer 10, the wiring layer 12, and the protective layer 20. As a result, the frame portion 17 in the connection structure region 3 is separated from the portion of the metal support layer 11 in the substrate body region 2.

図2および図3に示すように、枠体部17の対向面17cには、複数の溝18が設けられている。本実施の形態においては、複数の溝18は、枠体部17の内周面17aから外周面17bに延びて、放射状に形成されている。このような溝18は、ハーフエッチングにより形成されており、図4に示すように、U字状断面を有している。しかしながら、溝18の断面形状は、U字状に限られることはなく、導電性接着剤が充填可能であれば、任意の形状とすることができる。また、各溝18がハーフエッチングで形成されていることにより、各溝18の内面18aは、枠体部17の対向面17cよりも、粗面化されている。枠体部17の対向面17cの表面粗さ(Ra、JIS B 0601−2001)が一般的に11μm程度であるのに対して、溝18の内面18aの表面粗さ(Ra)が、例えば、22μm程度であることが好適である。なお、枠体部17のうち、溝18以外の対向面17cを、別の表面処理手法(例えば、過水、硫酸、塩酸などを用いた酸処理)で粗面化してもよい。このことにより、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させることができる。この場合、例えば、対向面17cは溝18の内面18aより粗くしないこと、すなわち、対向面17cの表面粗さは溝18の内面18aの表面粗さより小さくすることが好適である。また、このような粗面化は、対向面17cに限られることはなく、枠体部17の内周面17a、さらには外周面17bに施してもよい。   As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of grooves 18 are provided on the facing surface 17 c of the frame body portion 17. In the present embodiment, the plurality of grooves 18 extend radially from the inner peripheral surface 17a of the frame body portion 17 to the outer peripheral surface 17b. Such a groove | channel 18 is formed by half etching, and has a U-shaped cross section, as shown in FIG. However, the cross-sectional shape of the groove 18 is not limited to the U-shape, and any shape can be used as long as the conductive adhesive can be filled. In addition, since each groove 18 is formed by half etching, the inner surface 18 a of each groove 18 is rougher than the opposing surface 17 c of the frame body portion 17. The surface roughness (Ra, JIS B 0601-2001) of the facing surface 17c of the frame body portion 17 is generally about 11 μm, whereas the surface roughness (Ra) of the inner surface 18a of the groove 18 is, for example, It is preferable that the thickness is about 22 μm. In addition, you may roughen the opposing surface 17c other than the groove | channel 18 among the frame parts 17 by another surface treatment method (For example, acid treatment using perwater, a sulfuric acid, hydrochloric acid etc.). Thereby, the joint strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be improved. In this case, for example, it is preferable that the facing surface 17 c is not rougher than the inner surface 18 a of the groove 18, that is, the surface roughness of the facing surface 17 c is smaller than the surface roughness of the inner surface 18 a of the groove 18. Such roughening is not limited to the facing surface 17c, but may be performed on the inner peripheral surface 17a and further on the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17.

図2および図3に示すように、絶縁層10には、当該絶縁層10を貫通すると共に金属支持層貫通孔32に連通し、導電性接着剤が注入される絶縁層貫通孔33が設けられている。この絶縁層貫通孔33により、配線層12の配線接続部16が、金属支持層11の側に露出されるようになっている。すなわち、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33により、配線接続部16のピエゾ素子44の側の面を露出させる注入孔31が構成されている。そして、本実施の形態においては、この注入孔31の金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33に、導電性接着剤が注入されるようになっている。   As shown in FIGS. 2 and 3, the insulating layer 10 is provided with an insulating layer through-hole 33 that penetrates the insulating layer 10 and communicates with the metal support layer through-hole 32 and into which a conductive adhesive is injected. ing. With this insulating layer through-hole 33, the wiring connection portion 16 of the wiring layer 12 is exposed to the metal support layer 11 side. That is, the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33 constitute the injection hole 31 that exposes the surface of the wiring connection portion 16 on the piezoelectric element 44 side. In the present embodiment, a conductive adhesive is injected into the metal support layer through hole 32 and the insulating layer through hole 33 of the injection hole 31.

図3に示すように、配線接続部16のうち絶縁層貫通孔33において露出された部分に、ニッケル(Ni)めっきおよび金(Au)めっきが順次施されて、めっき層15が形成されている。このことにより、配線接続部16の露出された部分が腐食することを防止している。このようなめっき層15の厚さは、0.1μm〜4.0μmであることが好ましい。   As shown in FIG. 3, nickel (Ni) plating and gold (Au) plating are sequentially applied to a portion of the wiring connection portion 16 exposed in the insulating layer through-hole 33 to form a plating layer 15. . This prevents the exposed portion of the wiring connection portion 16 from being corroded. The thickness of the plating layer 15 is preferably 0.1 μm to 4.0 μm.

また、絶縁層10上には、配線層12の配線接続部16を覆う保護層20が設けられている。このような保護層20は、基板本体領域2および連結領域4においては、配線層12の各配線13を覆うように形成されている。なお、図1においては、図面を明瞭にするために、保護層20は省略している。   Further, a protective layer 20 is provided on the insulating layer 10 to cover the wiring connection portion 16 of the wiring layer 12. Such a protective layer 20 is formed so as to cover each wiring 13 of the wiring layer 12 in the substrate body region 2 and the connection region 4. In FIG. 1, the protective layer 20 is omitted for the sake of clarity.

次に、各構成部材について詳細に述べる。   Next, each component will be described in detail.

絶縁層10の材料としては、所望の絶縁性を有する材料であれば特に限定されることはないが、例えば、ポリイミド(PI)を用いることが好適である。なお、絶縁層10の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。また、絶縁層10の厚さは、5μm〜30μm、とりわけ8μm〜10μmであることが好ましい。このことにより、金属支持層11と各配線13との間の絶縁性能を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての剛性が喪失されることを防止することができる。   The material of the insulating layer 10 is not particularly limited as long as it is a material having a desired insulating property. For example, it is preferable to use polyimide (PI). Note that the material of the insulating layer 10 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer 10 is preferably 5 μm to 30 μm, particularly 8 μm to 10 μm. As a result, it is possible to ensure the insulation performance between the metal support layer 11 and each wiring 13 and to prevent the rigidity of the suspension substrate 1 as a whole from being lost.

各配線13は、電気信号を伝送するための導体として構成されており、各配線13の材料としては、所望の導電性を有する材料であれば特に限定されることはないが、銅(Cu)を用いることが好適である。銅以外にも、純銅に準ずる電気特性を有する材料であれば用いることもできる。ここで、各配線13の厚さは、例えば1μm〜18μm、とりわけ9μm〜12μmであることが好ましい。このことにより、各配線13の伝送特性を確保するとともに、サスペンション用基板1全体としての柔軟性が喪失されることを防止することができる。なお、配線接続部16は、各配線13と同一の材料、同一の厚みで形成されている。   Each wiring 13 is configured as a conductor for transmitting an electrical signal, and the material of each wiring 13 is not particularly limited as long as it has a desired conductivity, but copper (Cu) Is preferably used. In addition to copper, any material having electrical characteristics similar to pure copper can be used. Here, it is preferable that the thickness of each wiring 13 is, for example, 1 μm to 18 μm, particularly 9 μm to 12 μm. As a result, it is possible to ensure the transmission characteristics of each wiring 13 and to prevent the flexibility of the suspension substrate 1 as a whole from being lost. In addition, the wiring connection part 16 is formed with the same material and the same thickness as each wiring 13.

金属支持層11の材料としては、所望の導電性、弾力性、および強度を有するものであれば特に限定されることはないが、例えば、ステンレス、アルミニウム、ベリリウム銅、またはその他の銅合金を用いることができ、ステンレスを用いることが好適である。なお、金属支持層11の厚さは、配線13の厚さよりも大きいことが好ましい。また、金属支持層11の厚さは、一例として、10μm〜30μm、とりわけ15μm〜20μmとすることができる。このことにより、金属支持層11の導電性、剛性、および弾力性を確保することができる。   The material of the metal support layer 11 is not particularly limited as long as it has desired conductivity, elasticity, and strength. For example, stainless steel, aluminum, beryllium copper, or other copper alloys are used. It is preferable to use stainless steel. The thickness of the metal support layer 11 is preferably larger than the thickness of the wiring 13. Moreover, the thickness of the metal support layer 11 can be 10 micrometers-30 micrometers as an example, and can be 15 micrometers-20 micrometers especially. As a result, the conductivity, rigidity, and elasticity of the metal support layer 11 can be ensured.

保護層20の材料としては、樹脂材料、例えば、ポリイミドを用いることが好適である。なお、保護層20の材料は、感光性材料であっても非感光性材料であっても用いることができる。保護層20の厚さは、2μm〜30μmであることが好ましい。   As a material of the protective layer 20, it is preferable to use a resin material such as polyimide. The material of the protective layer 20 can be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the protective layer 20 is preferably 2 μm to 30 μm.

次に、図5乃至図7を用いて、本実施の形態におけるサスペンション41について説明する。図5に示すサスペンション41は、ベースプレート42と、ベースプレート42上に取り付けられ、サスペンション用基板1の金属支持層11を保持するロードビーム43と、上述のサスペンション用基板1と、ベースプレート42およびロードビーム43の少なくとも一方に接合されると共に、サスペンション用基板1の接続構造領域3に接続されたピエゾ素子44と、を有している。なお、本実施の形態においては、ピエゾ素子44は、ベースプレート42に接合されるようになっている。また、ベースプレート42およびロードビーム43は、ステンレスにより形成されている。   Next, the suspension 41 in the present embodiment will be described with reference to FIGS. The suspension 41 shown in FIG. 5 is attached to the base plate 42, the base plate 42, the load beam 43 that holds the metal support layer 11 of the suspension substrate 1, the above-described suspension substrate 1, the base plate 42, and the load beam 43. And a piezo element 44 connected to the connection structure region 3 of the suspension substrate 1. In the present embodiment, the piezo element 44 is joined to the base plate 42. The base plate 42 and the load beam 43 are made of stainless steel.

ピエゾ素子44は、電圧が印加されることにより伸縮する圧電素子として構成されている。各ピエゾ素子44は、図6に示すように、互いに対向する一対の電極44aと、一対の電極44a間に介在され、例えばPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)等の圧電セラミックスにより形成された圧電材料部44bと、を有している。一対のピエゾ素子44の圧電材料部44bは、互いに180°異なる分極方向となるように形成されており、所定の電圧が印加されると、一方のピエゾ素子44が収縮すると共に、他方のピエゾ素子44が伸長するようになっている。このようなピエゾ素子44は、ヘッドスライダ52の中心を通る長手方向軸線に対して互いに線対称に配置されていることが好ましい。このようにして、ヘッドスライダ52のスウェイ方向への変位に対して、各ピエゾ素子44の伸縮の影響を均等にすることができ、ヘッドスライダ52のスウェイ方向の変位を容易に調整することができ、アクチュエータ素子として機能するようになっている。また、本実施の形態においては、ピエゾ素子44に接続される接続構造領域3が、基板本体領域2の両側方に配置されているため、ピエゾ素子44の伸縮を効果的にヘッドスライダ52の変位に利用することができるようになっている。   The piezo element 44 is configured as a piezoelectric element that expands and contracts when a voltage is applied. As shown in FIG. 6, each piezo element 44 is interposed between a pair of electrodes 44a facing each other and a pair of electrodes 44a, and is formed of a piezoelectric material such as PZT (lead zirconate titanate). Part 44b. The piezoelectric material portions 44b of the pair of piezo elements 44 are formed to have polarization directions different from each other by 180 °. When a predetermined voltage is applied, one piezo element 44 contracts and the other piezo element 44 44 extends. Such piezo elements 44 are preferably arranged symmetrically with respect to the longitudinal axis passing through the center of the head slider 52. In this way, the expansion and contraction of each piezo element 44 can be made uniform with respect to the displacement of the head slider 52 in the sway direction, and the displacement of the head slider 52 in the sway direction can be easily adjusted. It is designed to function as an actuator element. In the present embodiment, since the connection structure region 3 connected to the piezo element 44 is disposed on both sides of the substrate body region 2, the expansion and contraction of the piezo element 44 can be effectively performed by the displacement of the head slider 52. It can be used for.

このようなピエゾ素子44は、非導電性接着剤によりベースプレート42に接合されている。また、図示しないが、ピエゾ素子44の一方(サスペンション用基板1とは反対側)の電極44aは、導電性接着剤を用いて、ベースプレート42に電気的に接続されている。   Such a piezo element 44 is joined to the base plate 42 by a non-conductive adhesive. Although not shown, one electrode 44a (opposite to the suspension substrate 1) of the piezo element 44 is electrically connected to the base plate 42 using a conductive adhesive.

一方、ピエゾ素子44の他方(サスペンション用基板1の側)の電極44aは、導電性接着剤を用いて、接続構造領域3に接合されると共に電気的に接続されている。すなわち、図7に示すように、接続構造領域3における注入孔31の金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33に、導電性接着剤が注入されて導電性接着部48が形成され、ピエゾ素子44が、導電性接着部48を介して、接続構造領域3に接合されると共に、ピエゾ素子44の電極44aが、導電性接着部48を介して、配線接続部16に電気的に接続されている。この導電性接着部48は、金属支持層11の枠体部17とピエゾ素子44との間に形成された微小な隙間を介して枠体部17の外方に延びており、枠体部17の対向面17cに設けられた溝18にも延びている。   On the other hand, the electrode 44a on the other side (the suspension substrate 1 side) of the piezo element 44 is joined and electrically connected to the connection structure region 3 using a conductive adhesive. That is, as shown in FIG. 7, a conductive adhesive is injected into the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33 of the injection hole 31 in the connection structure region 3 to form a conductive adhesive portion 48, and the piezo is formed. The element 44 is bonded to the connection structure region 3 via the conductive adhesive portion 48, and the electrode 44 a of the piezo element 44 is electrically connected to the wiring connection portion 16 via the conductive adhesive portion 48. ing. The conductive adhesive portion 48 extends outward of the frame body portion 17 through a minute gap formed between the frame body portion 17 of the metal support layer 11 and the piezoelectric element 44, and the frame body portion 17. It extends also to the groove 18 provided in the opposing surface 17c.

次に、図8により、本実施の形態におけるヘッド付サスペンション51について説明する。図8に示すヘッド付サスペンション51は、上述したサスペンション41と、サスペンション用基板1のヘッド端子5に接続されたヘッドスライダ52とを有している。   Next, the suspension with head 51 in the present embodiment will be described with reference to FIG. A suspension 51 with a head shown in FIG. 8 has the above-described suspension 41 and a head slider 52 connected to the head terminal 5 of the suspension substrate 1.

続いて、図9により、本実施の形態におけるハードディスクドライブ61について説明する。図9に示すハードディスクドライブ61は、ケース62と、このケース62に回転自在に取り付けられ、データが記憶されるディスク63と、このディスク63を回転させるスピンドルモータ64と、ディスク63に所望のフライングハイトを保って近接するように設けられ、ディスク63に対してデータの書き込みおよび読み取りを行うヘッドスライダ52を含むヘッド付サスペンション51と、を有している。このうちヘッド付サスペンション51は、ケース62に対して移動自在に取り付けられており、ケース62にはヘッド付サスペンション51のヘッドスライダ52をディスク63上に沿って移動させるボイスコイルモータ65が取り付けられている。また、ヘッド付サスペンション51は、ボイスコイルモータ65にアーム66を介して取り付けられると共に、ハードディスクドライブ61を制御する制御部(図示せず)に接続されたFPC基板71(図8参照)に装着されている。このようにして、電気信号が、サスペンション用基板1とFPC基板71を介して、制御部とヘッドスライダ52との間で伝送されるようになっている。   Next, the hard disk drive 61 in the present embodiment will be described with reference to FIG. The hard disk drive 61 shown in FIG. 9 has a case 62, a disk 63 that is rotatably attached to the case 62, stores data, a spindle motor 64 that rotates the disk 63, and a desired flying height on the disk 63. And a suspension 51 with a head including a head slider 52 that writes and reads data to and from the disk 63. Among them, the suspension with head 51 is attached to the case 62 so as to be movable, and the voice coil motor 65 for moving the head slider 52 of the suspension with head 51 along the disk 63 is attached to the case 62. Yes. The suspension 51 with a head is attached to the voice coil motor 65 via an arm 66 and attached to an FPC board 71 (see FIG. 8) connected to a control unit (not shown) that controls the hard disk drive 61. ing. In this way, an electrical signal is transmitted between the control unit and the head slider 52 via the suspension board 1 and the FPC board 71.

次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。   Next, the operation of the present embodiment having such a configuration will be described.

まず、サスペンション用基板1の製造方法について説明する。ここでは、一例として、接続構造領域3の断面を示す図10を用いて、サブトラクティブ法によりサスペンション用基板1を製造する方法について説明する。なお、図10においては、図面を明瞭にするために、枠体部17内に図4に示すような溝18の断面形状を示している。また、サスペンション用基板1は、サブトラクティブ法に限らず、アディティブ法により作製してもよい。この場合、配線接続部16の一部が、絶縁層貫通孔33内に形成される。すなわち、予め絶縁層貫通孔32が形成された絶縁層10上に配線層12が形成され、この際、配線接続部16の一部が絶縁層貫通孔33内に形成されると共に、他の一部が絶縁層10上に形成される。なお、この場合、導電性接着剤は、絶縁層貫通孔33内に注入されることはなく、金属支持層貫通孔32に注入されるようになる。すなわち、導電性接着剤は、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33により構成される注入孔31の一部(金属支持層貫通孔32)に注入される。   First, a method for manufacturing the suspension substrate 1 will be described. Here, as an example, a method of manufacturing the suspension substrate 1 by the subtractive method will be described with reference to FIG. 10 showing a cross section of the connection structure region 3. In FIG. 10, the cross-sectional shape of the groove 18 as shown in FIG. 4 is shown in the frame body portion 17 for the sake of clarity. The suspension substrate 1 is not limited to the subtractive method, and may be manufactured by an additive method. In this case, a part of the wiring connection portion 16 is formed in the insulating layer through hole 33. That is, the wiring layer 12 is formed on the insulating layer 10 on which the insulating layer through-hole 32 has been formed in advance, and at this time, a part of the wiring connection portion 16 is formed in the insulating layer through-hole 33 and the other one is formed. The portion is formed on the insulating layer 10. In this case, the conductive adhesive is not injected into the insulating layer through hole 33 but is injected into the metal support layer through hole 32. That is, the conductive adhesive is injected into a part of the injection hole 31 (metal support layer through hole 32) constituted by the metal support layer through hole 32 and the insulating layer through hole 33.

まず、絶縁層10と、絶縁層10の一方の面(接続されるピエゾ素子44側の面)に設けられた金属支持層11と、絶縁層10の他方の面に設けられた配線層12と、を有する積層体35を準備する(図10(a)参照)。この場合、まず、金属支持層11を準備し、この金属支持層11上に、非感光性ポリイミドを用いた塗工方法により絶縁層10が形成される。続いて、絶縁層10上に、ニッケル、クロムおよび銅がスパッタ工法により順次コーティングされ、シード層(図示せず)が形成される。その後、このシード層を導通媒体として、銅めっきにより配線層12が形成される。このようにして、絶縁層10と、金属支持層11と、配線層12と、を有する積層体35が得られる。   First, the insulating layer 10, the metal support layer 11 provided on one surface of the insulating layer 10 (the surface on the side of the piezo element 44 to be connected), the wiring layer 12 provided on the other surface of the insulating layer 10, and Are prepared (see FIG. 10A). In this case, first, the metal support layer 11 is prepared, and the insulating layer 10 is formed on the metal support layer 11 by a coating method using non-photosensitive polyimide. Subsequently, nickel, chromium and copper are sequentially coated on the insulating layer 10 by a sputtering method to form a seed layer (not shown). Thereafter, the wiring layer 12 is formed by copper plating using the seed layer as a conductive medium. In this way, a laminated body 35 having the insulating layer 10, the metal support layer 11, and the wiring layer 12 is obtained.

続いて、配線層12において複数の配線13と配線接続部16とが形成されると共に、金属支持層11において金属支持層貫通孔32が形成される。そして、これと同時に、金属支持層11の絶縁層10とは反対側の面(枠体部17の対向面17cに対応する位置)に、複数の溝18がハーフエッチングにより形成される。   Subsequently, a plurality of wirings 13 and wiring connection portions 16 are formed in the wiring layer 12, and a metal support layer through hole 32 is formed in the metal support layer 11. At the same time, a plurality of grooves 18 are formed by half etching on the surface of the metal support layer 11 opposite to the insulating layer 10 (position corresponding to the facing surface 17c of the frame body portion 17).

この場合、図10(b)に示すように、まず、金属支持層11の下面に、フォトファブリケーションの手法により、パターン状の第1レジスト81が形成される。この第1レジスト81は、溝18を形成するための幅が微小な溝形成用開口81aと、金属支持層貫通孔32を形成するための注入孔形成用開口81bと、を有している。また、配線層12には、第1レジスト81と同様にして、配線接続部16を形成するための第2レジスト82が形成される。   In this case, as shown in FIG. 10B, first, a patterned first resist 81 is formed on the lower surface of the metal support layer 11 by a photofabrication technique. The first resist 81 has a groove forming opening 81 a having a small width for forming the groove 18, and an injection hole forming opening 81 b for forming the metal support layer through-hole 32. Further, a second resist 82 for forming the wiring connection portion 16 is formed in the wiring layer 12 in the same manner as the first resist 81.

次に、金属支持層11のうち第1レジスト81の開口81a、81bから露出された部分がエッチングされると共に、配線層12のうち第2レジスト82の開口から露出された部分がエッチングされる。このようにして、金属支持層貫通孔32、溝18および配線接続部16が形成される(図10(c)参照)。この際、第1レジスト81の溝形成用開口81aは、その幅が微小に形成されているため、エッチング液の入り込みが抑制される。このようにして、金属支持層11がハーフエッチングされることにより溝18が得られる。ここで、配線層12および金属支持層11をエッチングする方法は、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、金属支持層11の材料の種類に応じて適宜選択することが好ましいが、例えば、金属支持層11がステンレスにより形成されている場合には、塩化第二鉄水溶液等の塩化鉄系エッチング液を用いることができる。   Next, portions of the metal support layer 11 exposed from the openings 81a and 81b of the first resist 81 are etched, and portions of the wiring layer 12 exposed from the openings of the second resist 82 are etched. In this way, the metal support layer through hole 32, the groove 18 and the wiring connection portion 16 are formed (see FIG. 10C). At this time, since the groove forming opening 81a of the first resist 81 is formed with a very small width, the entry of the etching solution is suppressed. Thus, the groove 18 is obtained by half-etching the metal support layer 11. Here, the method of etching the wiring layer 12 and the metal support layer 11 is not particularly limited, but it is preferable to perform wet etching. In particular, the etching solution is preferably selected as appropriate according to the type of material of the metal support layer 11. For example, when the metal support layer 11 is made of stainless steel, a chloride such as ferric chloride aqueous solution is used. An iron-based etchant can be used.

エッチングが行われた後、第1レジスト81および第2レジスト82は除去される(図10(d)参照)。ここで、枠体部17の溝18以外の対向面17cに対応する部分を粗面化する場合には、第1レジスト81および第2レジスト82が除去された後、対向面17cに対応する部分(および内周面17a)を例えば酸処理等によって粗面化してもよい。このような粗面化は、第1レジスト81および第2レジスト82を除去する工程(図10(d)参照)と、後述する保護層20を形成する工程(図10(e)参照)との間に行ってもよいが、対向面17cに対応する部分が露出されているまたは対向面17cが形成されている場合であれば以下に説明する各工程の間に行うこともできる。なお、枠体部17の外周面17bを粗面化する場合には、後述する枠体部17が形成される工程(図10(h)参照)の後に行うことができる。   After the etching is performed, the first resist 81 and the second resist 82 are removed (see FIG. 10D). Here, when the portion corresponding to the facing surface 17c other than the groove 18 of the frame portion 17 is roughened, the portion corresponding to the facing surface 17c after the first resist 81 and the second resist 82 are removed. (And inner peripheral surface 17a) may be roughened by acid treatment or the like, for example. Such roughening includes a step of removing the first resist 81 and the second resist 82 (see FIG. 10D) and a step of forming a protective layer 20 described later (see FIG. 10E). Although it may be performed in between, if the part corresponding to the opposing surface 17c is exposed or the opposing surface 17c is formed, it can also be performed between each process demonstrated below. In addition, when roughening the outer peripheral surface 17b of the frame part 17, it can carry out after the process (refer FIG.10 (h)) in which the frame part 17 mentioned later is formed.

このようにして金属支持層貫通孔32、溝18および配線接続部16が形成された後、絶縁層10上に、配線層12の各配線13および配線接続部16を覆う所望の形状の保護層20が形成される(図10(e)参照)。この場合、非感光性ポリイミドが、ダイコータを用いて、絶縁層10上にコーティングされ、これを乾燥させて、保護層20が形成される。続いて、形成された保護層20上に、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、保護層20のうち露出された部分がエッチングされ、保護層20を硬化させる。このようにして、所望の形状の保護層20が得られる。その後、レジストが除去される。   After the metal support layer through-hole 32, the groove 18 and the wiring connection portion 16 are formed in this way, a protective layer having a desired shape covering the wiring 13 and the wiring connection portion 16 of the wiring layer 12 is formed on the insulating layer 10. 20 is formed (see FIG. 10E). In this case, non-photosensitive polyimide is coated on the insulating layer 10 using a die coater, and dried to form the protective layer 20. Subsequently, a patterned resist (not shown) is formed on the formed protective layer 20, and the exposed portion of the protective layer 20 is etched to cure the protective layer 20. In this way, the protective layer 20 having a desired shape is obtained. Thereafter, the resist is removed.

保護層20が得られた後、絶縁層10において、絶縁層貫通孔33が形成されると共に、絶縁層10が所望の形状に外形加工される(図10(f)参照)。この場合、まず、パターン状のレジスト(図示せず)が形成され、絶縁層10の露出された部分がエッチングされて、絶縁層貫通孔33が形成されると共に絶縁層10が外形加工される。このようにして、絶縁層貫通孔33が得られて金属支持層貫通孔32と絶縁層貫通孔33とにより構成される注入孔31が形成され、これにより、配線接続部16のピエゾ素子44の側の面が露出する。ここで、絶縁層10をエッチングする方法は、特に限定されるものではないが、ウェットエッチングを行うことが好ましい。とりわけ、エッチング液は、絶縁層10の材料の種類に応じて適宜選択することが好ましいが、例えば、絶縁層10がポリイミド樹脂により形成される場合には、有機アルカリエッチング液等のアルカリ系エッチング液を用いることができる。エッチングが行われた後、レジストは除去される。   After the protective layer 20 is obtained, the insulating layer through-hole 33 is formed in the insulating layer 10 and the insulating layer 10 is trimmed into a desired shape (see FIG. 10F). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed, and the exposed portion of the insulating layer 10 is etched to form the insulating layer through-hole 33 and the insulating layer 10 is trimmed. In this way, the insulating layer through-hole 33 is obtained, and the injection hole 31 constituted by the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33 is formed, whereby the piezo element 44 of the wiring connection portion 16 is formed. The side surface is exposed. Here, the method of etching the insulating layer 10 is not particularly limited, but it is preferable to perform wet etching. In particular, the etching solution is preferably selected as appropriate according to the type of material of the insulating layer 10. For example, when the insulating layer 10 is formed of a polyimide resin, an alkaline etching solution such as an organic alkaline etching solution is used. Can be used. After the etching is performed, the resist is removed.

次に、配線接続部16の露出された部分に、めっきが施されて、めっき層15が形成される(図10(g)参照)。すなわち、配線接続部16の露出された部分が、酸洗浄されて、電解めっき法によりニッケルめっきおよび金めっきが順次施されて、0.5μm〜4.0μmの厚さを有するめっき層15が形成される。この場合、ヘッドスライダ52に接続されるヘッド端子5と、外部機器接続端子6(いずれも図1参照)にも、同様にしてめっきが施される。なお、めっきの種類としては、ニッケルめっき、金めっきに限定されるものではなく、銀(Ag)めっき、パラジウム(Pd)めっきを施すようにしても良い。   Next, the exposed portion of the wiring connection portion 16 is plated to form a plating layer 15 (see FIG. 10G). That is, the exposed portion of the wiring connection portion 16 is subjected to acid cleaning, and nickel plating and gold plating are sequentially performed by an electrolytic plating method to form a plating layer 15 having a thickness of 0.5 μm to 4.0 μm. Is done. In this case, the plating is similarly applied to the head terminal 5 connected to the head slider 52 and the external device connection terminal 6 (both see FIG. 1). Note that the type of plating is not limited to nickel plating and gold plating, but may be silver (Ag) plating or palladium (Pd) plating.

めっき層15が形成された後、金属支持層11が外形加工されて、金属支持層貫通孔32を含む枠体部17が形成される(図10(h)参照)。この場合、まず、金属支持層11の下面に、ドライフィルムを用いて、パターン状のレジスト(図示せず)が形成される。次に、例えば、塩化鉄系エッチング液により、金属支持層11のうちレジストから露出された部分がエッチングされ、枠体部17が形成されると共に金属支持層11が所望の形状に外形加工される。この枠体部17は、基板本体領域2における金属支持層11の部分と分離される。その後、レジストは除去され、本実施の形態によるサスペンション用基板1が得られる。   After the plating layer 15 is formed, the metal support layer 11 is trimmed to form the frame body portion 17 including the metal support layer through-holes 32 (see FIG. 10H). In this case, first, a patterned resist (not shown) is formed on the lower surface of the metal support layer 11 using a dry film. Next, for example, a portion of the metal support layer 11 exposed from the resist is etched with an iron chloride-based etchant to form the frame body portion 17 and the metal support layer 11 is processed into a desired shape. . The frame body portion 17 is separated from the portion of the metal support layer 11 in the substrate main body region 2. Thereafter, the resist is removed, and the suspension substrate 1 according to the present embodiment is obtained.

次に、このようにして得られたサスペンション用基板1を用いたサスペンションの製造方法について説明する。   Next, a suspension manufacturing method using the suspension substrate 1 thus obtained will be described.

まず、図5に示すように、ベースプレート42およびロードビーム43を準備すると共に、上述のようにしてサスペンション用基板1を準備する。   First, as shown in FIG. 5, the base plate 42 and the load beam 43 are prepared, and the suspension substrate 1 is prepared as described above.

続いて、サスペンション用基板1が、ロードビーム43を介して、ベースプレート42に、溶接により取り付けられる。   Subsequently, the suspension substrate 1 is attached to the base plate 42 via the load beam 43 by welding.

続いて、ピエゾ素子44が、非導電性接着剤を用いてベースプレート42に接合されると共に、導電性接着剤を用いて、ピエゾ素子44の一方の電極44aが、ベースプレート42に電気的に接続される。   Subsequently, the piezo element 44 is bonded to the base plate 42 using a non-conductive adhesive, and one electrode 44a of the piezo element 44 is electrically connected to the base plate 42 using a conductive adhesive. The

また、金属支持層11の枠体部17とピエゾ素子44の電極44aとの間の隙間から、注入孔31の金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33に導電性接着剤が注入されて導電性接着部48(図7参照)が形成される。この際、導電性接着剤は、枠体部17とピエゾ素子44との間に形成された微小な隙間に毛細管現象によって充填されて、枠体部17の外方に流れ出すと共に、枠体部17の対向面17cに形成された溝18にも充填される。このようにして、ピエゾ素子44の他方の電極44aは、導電性接着部48を介して、サスペンション用基板1の接続構造領域3に接合されると共に電気的に接続され、図5に示すサスペンション41が得られる。   Also, conductive adhesive is injected into the metal support layer through hole 32 and the insulating layer through hole 33 of the injection hole 31 from the gap between the frame portion 17 of the metal support layer 11 and the electrode 44 a of the piezo element 44. A conductive adhesive portion 48 (see FIG. 7) is formed. At this time, the conductive adhesive is filled by a capillary phenomenon in a minute gap formed between the frame body portion 17 and the piezo element 44 and flows out of the frame body portion 17, and at the same time, the frame body portion 17. The groove 18 formed in the opposite surface 17c is also filled. In this way, the other electrode 44a of the piezo element 44 is joined and electrically connected to the connection structure region 3 of the suspension substrate 1 via the conductive adhesive portion 48, and the suspension 41 shown in FIG. Is obtained.

このサスペンション41のヘッド端子5に、ヘッドスライダ52が接続されて図8に示すヘッド付サスペンション51が得られる。さらに、このヘッド付サスペンション51がアーム66に取り付けられると共に、サスペンション用基板1の外部機器接続端子6にFPC基板71が装着されて、図9に示すハードディスクドライブ61が得られる。   A head slider 52 is connected to the head terminal 5 of the suspension 41 to obtain the suspension with head 51 shown in FIG. Further, the suspension 51 with the head is attached to the arm 66, and the FPC board 71 is attached to the external device connection terminal 6 of the suspension board 1 to obtain the hard disk drive 61 shown in FIG.

図9に示すハードディスクドライブ61においてデータの書き込みおよび読み取りを行う際、ボイスコイルモータ65によりヘッド付サスペンション51のヘッドスライダ52がディスク63上に沿って移動し、スピンドルモータ64により回転しているディスク63に所望のフライングハイトを保って近接する。このことにより、ヘッドスライダ52とディスク63との間で、データの受け渡しが行われる。この間、サスペンション用基板1とFPC基板71を介して、FPC基板71に接続されている制御部(図示せず)とヘッドスライダ52との間で電気信号が伝送される。このような電気信号は、サスペンション用基板1においては、各配線13によって、ヘッド端子5(図1参照)と外部機器接続端子6との間で伝送される。   When data is written and read in the hard disk drive 61 shown in FIG. 9, the head slider 52 of the suspension 51 with the head is moved along the disk 63 by the voice coil motor 65 and is rotated by the spindle motor 64. Keep close to the desired flying height. As a result, data is exchanged between the head slider 52 and the disk 63. During this time, an electrical signal is transmitted between the control unit (not shown) connected to the FPC board 71 and the head slider 52 via the suspension board 1 and the FPC board 71. Such an electric signal is transmitted between the head terminal 5 (see FIG. 1) and the external device connection terminal 6 through each wiring 13 in the suspension board 1.

ヘッドスライダ52を移動させる際、ボイスコイルモータ65が、ヘッドスライダ52の位置を大まかに調整し、ピエゾ素子44が、ヘッドスライダ52の位置を微小調整する。すなわち、サスペンション用基板1の一対の接続構造領域3の側のピエゾ素子44の電極44aに所定の電圧を印加することにより、一方のピエゾ素子44が長手方向に収縮すると共に、他方のピエゾ素子44が伸長する(図5参照)。この場合、ベースプレート42とロードビーム43の一部が弾性変形し、ロードビーム43の先端側に位置するヘッドスライダ52がスウェイ方向(旋回方向)に移動することができる。このようにして、ヘッドスライダ52を、ディスク63の所望のトラックに、迅速に、かつ精度良く位置合わせすることができる。   When moving the head slider 52, the voice coil motor 65 roughly adjusts the position of the head slider 52, and the piezo element 44 finely adjusts the position of the head slider 52. That is, when a predetermined voltage is applied to the electrodes 44a of the piezo elements 44 on the pair of connection structure regions 3 side of the suspension substrate 1, one piezo element 44 contracts in the longitudinal direction and the other piezo element 44 Elongates (see FIG. 5). In this case, a part of the base plate 42 and the load beam 43 is elastically deformed, and the head slider 52 located on the tip side of the load beam 43 can move in the sway direction (turning direction). In this way, the head slider 52 can be quickly and accurately aligned with a desired track of the disk 63.

このように本実施の形態によれば、枠体部17の対向面17cに溝18が設けられている。このことにより、サスペンション用基板1の接続構造領域3とピエゾ素子44とを接続する導電性接着剤を溝18に充填させることができる。このため、導電性接着剤と枠体部17との接合面積を増大させて接合強度を向上させることができる。また、導電性接着剤が枠体部17の対向面17cに設けられた溝18に充填されることにより、導電性接着剤により形成された導電性接着部48にはアンカー効果が生じる。さらに、溝18の内面18aが、枠体部17の対向面17cよりも粗面化されていることにより、導電性接着剤と枠体部17との接合強度をより一層向上させることができる。この結果、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the groove 18 is provided in the facing surface 17 c of the frame body portion 17. Thus, the groove 18 can be filled with the conductive adhesive that connects the connection structure region 3 of the suspension substrate 1 and the piezo element 44. For this reason, it is possible to increase the bonding area between the conductive adhesive and the frame body portion 17 and improve the bonding strength. In addition, the conductive adhesive is filled in the groove 18 provided on the facing surface 17c of the frame body portion 17, whereby an anchor effect is generated in the conductive adhesive portion 48 formed of the conductive adhesive. Furthermore, since the inner surface 18 a of the groove 18 is rougher than the opposing surface 17 c of the frame body portion 17, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be further improved. As a result, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be improved, and the reliability of electrical connection between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 can be improved.

また、本実施の形態によれば、各溝18は、金属支持層貫通孔32を画定する内周面17aから外周面17bに延びている。このことにより、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33に導電性接着剤を注入する際、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33内の空気を、各溝18を介して枠体部17の外方に逃がすことができる。とりわけ、複数の溝18が、放射状に形成されていることにより、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33内の空気を、枠体部17の外方に効率良く逃がすことができる。このため、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させることができ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   Further, according to the present embodiment, each groove 18 extends from the inner peripheral surface 17 a that defines the metal support layer through-hole 32 to the outer peripheral surface 17 b. Thus, when the conductive adhesive is injected into the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33, the air in the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33 is framed through the grooves 18. It can escape to the outside of the body part 17. In particular, since the plurality of grooves 18 are formed radially, the air in the metal support layer through holes 32 and the insulating layer through holes 33 can be efficiently released to the outside of the frame body portion 17. For this reason, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be improved, and the reliability of electrical connection between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 can be improved.

また、本実施の形態によれば、枠体部17は、円形リング状に形成されている。このことにより、導電性接着剤は、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33内に充填されると共に、枠体部17の対向面17cの全域とピエゾ素子44の枠体部17側の面との間の微小な隙間に、毛細管現象によって充填される。このため、導電性接着剤を、枠体部17の対向面17cの全域にわたって接合させることができると共に、導電性接着剤とピエゾ素子44との接合面積を増大させることができる。この結果、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1の接合強度を向上させ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   Moreover, according to this Embodiment, the frame part 17 is formed in circular ring shape. As a result, the conductive adhesive is filled in the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33, and the entire area of the opposing surface 17c of the frame body portion 17 and the frame body portion 17 side of the piezo element 44 are disposed. The minute gap between the surfaces is filled by capillary action. For this reason, while being able to join a conductive adhesive over the whole opposing surface 17c of the frame part 17, the joining area of a conductive adhesive and the piezo element 44 can be increased. As a result, the bonding strength between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 can be improved, and the reliability of electrical connection between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 can be improved.

以下、第1の実施の形態の変形例について、図11および図12を用いて説明する。図11および図12においては、図1乃至図10に示す第1の実施の形態と同一部分には同一の符号を付して、詳細な説明は省略する。   Hereinafter, a modification of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12. 11 and 12, the same reference numerals are given to the same portions as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 10, and detailed description thereof is omitted.

図11に示すように、溝18は、枠体部17の対向面17cにおいて、らせん状に形成されていてもよい。この場合、各溝18の長さを長くし、枠体部17の対向面17cの面積に対する溝18の面積の割合が増大し、導電性接着剤と枠体部17との接合強度をより一層向上させることができる。また、この場合においても、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33に導電性接着剤を注入する際、金属支持層貫通孔32および絶縁層貫通孔33内の空気を、枠体部17の外方に効率良く逃がすことができる。この結果、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させることができ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   As shown in FIG. 11, the groove 18 may be formed in a spiral shape on the facing surface 17 c of the frame body portion 17. In this case, the length of each groove 18 is increased, the ratio of the area of the groove 18 to the area of the opposing surface 17c of the frame body part 17 is increased, and the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body part 17 is further increased. Can be improved. Also in this case, when the conductive adhesive is injected into the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33, the air in the metal support layer through-hole 32 and the insulating layer through-hole 33 is changed to the frame body portion 17. Can escape to the outside efficiently. As a result, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be improved, and the reliability of electrical connection between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 can be improved.

また、図12に示すように、溝18は、枠体部17の対向面17cにおいて、リング状に形成されていてもよい。すなわち、図12に示す形態においては、枠体部17の対向面17cに、円形リング状の1つの溝18が設けられており、この溝18が、枠体部17の内周面17aおよび外周面17bに対して同心状に形成されている。この場合、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を、枠体部17の周方向にわたって均一に向上させることができ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。なお、溝18は、円形リング状に限られることはなく、リング状であれば、任意の形状とすることができる。   Further, as shown in FIG. 12, the groove 18 may be formed in a ring shape on the facing surface 17 c of the frame body portion 17. That is, in the embodiment shown in FIG. 12, one circular ring-shaped groove 18 is provided on the opposing surface 17c of the frame body portion 17, and this groove 18 is formed on the inner peripheral surface 17a and the outer periphery of the frame body portion 17. It is formed concentrically with respect to the surface 17b. In this case, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 can be improved uniformly over the circumferential direction of the frame body portion 17, and the electrical connection between the piezo element 44 and the suspension substrate 1 is reliable. Can be improved. In addition, the groove | channel 18 is not restricted to circular ring shape, If it is ring shape, it can be made into arbitrary shapes.

また、上述した実施の形態においては、サスペンション用基板1が、図1に示すように、一対のピエゾ素子44に接続可能なように、基板本体領域2の両側方に配置された一対の接続構造領域3を有している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、一対のピエゾ素子44と同等の機能を有する一体化されたピエゾ素子(図示せず)に接続可能なように単一の接続構造領域3を有するサスペンション用基板1に本実施の形態を適用してもよい。例えば、図13に示すように、基板本体領域2の一側方に連結領域4を介して接続構造領域3が設けられたサスペンション用基板1に本発明を適用することも可能である。あるいは、図示しないが、単一の接続構造領域3が、図13に示すような連結領域4を形成することなく、基板本体領域2内に配置されているサスペンション用基板1にも本発明を適用することができる。   Further, in the above-described embodiment, a pair of connection structures disposed on both sides of the substrate body region 2 so that the suspension substrate 1 can be connected to the pair of piezo elements 44 as shown in FIG. The example which has the area | region 3 was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and the suspension has a single connection structure region 3 so that it can be connected to an integrated piezo element (not shown) having a function equivalent to that of the pair of piezo elements 44. The present embodiment may be applied to the substrate 1. For example, as shown in FIG. 13, the present invention can be applied to a suspension substrate 1 in which a connection structure region 3 is provided on one side of a substrate body region 2 via a connection region 4. Alternatively, although not shown, the present invention is also applied to the suspension substrate 1 in which the single connection structure region 3 is arranged in the substrate body region 2 without forming the connection region 4 as shown in FIG. can do.

さらに、上述した本実施の形態においては、金属支持層貫通孔32および配線接続部16を形成する工程と溝18を形成する工程とが、同時に行われる例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、溝18を形成する工程が、枠体部17を形成する工程と同時に行われるようにしても良い。あるいは、金属支持層貫通孔32および配線接続部16を形成する工程と、溝18を形成する工程とは、別々に行われても良い。すなわち、溝18を形成する工程が、金属支持層貫通孔32および配線接続部16を形成する工程の前に行われても良く、若しくは、当該工程の後に行われるようにしても良い。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which the step of forming the metal support layer through hole 32 and the wiring connection portion 16 and the step of forming the groove 18 are performed simultaneously has been described. However, the present invention is not limited to this, and the step of forming the groove 18 may be performed simultaneously with the step of forming the frame body portion 17. Alternatively, the step of forming the metal support layer through hole 32 and the wiring connection portion 16 and the step of forming the groove 18 may be performed separately. That is, the step of forming the groove 18 may be performed before the step of forming the metal support layer through-hole 32 and the wiring connection portion 16, or may be performed after the step.

(第2の実施の形態)
次に、図14および図15により、本発明の第2の実施の形態におけるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法について説明する。
(Second Embodiment)
Next, with reference to FIG. 14 and FIG. 15, description will be given of a manufacturing method of the suspension substrate, the suspension, the suspension with head, the hard disk drive, and the suspension substrate in the second embodiment of the present invention.

図14および図15に示す第2の実施の形態においては、枠体部の外周面が、絶縁層側の面から対向面に向かって末広がり状に形成されている点が主に異なり、他の構成は、図1乃至図10に示す第1の実施の形態と略同一である。なお、図14および図15において、図1乃至図10に示す第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。   The second embodiment shown in FIG. 14 and FIG. 15 is mainly different in that the outer peripheral surface of the frame body portion is formed in a divergent shape from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface. The configuration is substantially the same as that of the first embodiment shown in FIGS. 14 and 15, the same parts as those of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 10 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図14に示すように、枠体部17の外周面17bは、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かって、末広がり状に形成されている。このようにして、枠体部17は、金属支持層貫通孔32と同様に末広がり状となるような円錐台状に形成されている。   As shown in FIG. 14, the outer peripheral surface 17 b of the frame body portion 17 is formed in a divergent shape from the surface 17 d on the insulating layer side toward the facing surface 17 c. In this way, the frame body portion 17 is formed in a truncated cone shape that is widened like the metal support layer through-hole 32.

本実施の形態によるサスペンション用基板1は、めっき層15が形成された後(図10(h)参照)、以下のようにして枠体部17を形成することにより製造することができる。   The suspension substrate 1 according to the present embodiment can be manufactured by forming the frame body portion 17 as follows after the plating layer 15 is formed (see FIG. 10H).

まず、形成される枠体部17の対向面17cから、枠体部17の外方に延びるようにパターン状の枠体部形成用レジスト83が形成される(図15(a)参照)。すなわち、金属支持層11が、形成される枠体部17に対応する領域だけではなく、その周囲の領域まで枠体部形成用レジスト83により覆われる。続いて、金属支持層11のうち枠体部形成用レジスト83から露出された部分がエッチングされる(図15(b)参照)。この場合、枠体部形成用レジスト83が枠体部17の外方に延びて形成されているため、枠体部17の外周面17bは、絶縁層10側(図15における上方)からのみエッチング液が流れ込み、図15に示す下方からはエッチング液が流れ込むことがない。このことにより、枠体部17の外周面17bを、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かって末広がり状に形成することができる。その後、枠体部形成用レジスト83が除去され、本実施の形態によるサスペンション用基板1が得られる(図15(c)参照)。   First, a patterned frame body portion forming resist 83 is formed so as to extend outward of the frame body portion 17 from the opposing surface 17c of the formed frame body portion 17 (see FIG. 15A). That is, the metal support layer 11 is covered with the frame body portion forming resist 83 not only in the region corresponding to the frame body portion 17 to be formed, but also in the surrounding region. Subsequently, the portion of the metal support layer 11 exposed from the frame portion forming resist 83 is etched (see FIG. 15B). In this case, since the frame body forming resist 83 is formed to extend outward from the frame body portion 17, the outer peripheral surface 17 b of the frame body portion 17 is etched only from the insulating layer 10 side (upper side in FIG. 15). The liquid flows in, and the etching liquid does not flow from the lower side shown in FIG. As a result, the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 can be formed in a divergent shape from the surface 17d on the insulating layer side toward the opposing surface 17c. Thereafter, the frame portion forming resist 83 is removed, and the suspension substrate 1 according to the present embodiment is obtained (see FIG. 15C).

なお、本実施の形態における枠体部17は上述のように形成されているため、枠体部17の外周面17bのうち連結領域4(図1参照)の絶縁層10が上方に設けられている部分が、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かって末広がり状に形成されることが困難な場合がある。この場合には、外周面17bの当該部分は、図3に示すような、対向面17cから絶縁層側の面17dに向かった末広がり状に形成されてもよく、あるいは、絶縁層10に対して垂直に形成されてもよい。すなわち、本発明は、枠体部17の外周面17bの全体が、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かった末広がり状に形成されている場合と、枠体部17の外周面17bの一部が、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かった末広がり状に形成されている場合とを含んでいる。なお、後者の場合においても、枠体部17の外周面17bの全体に対して、連結領域4の絶縁層10が上方に設けられる部分の割合は小さいため、枠体部17の外周面17bの多くの部分を、絶縁層側の面17dから対向面17cに向かって末広がり状に形成することができる。   In addition, since the frame part 17 in this Embodiment is formed as mentioned above, the insulating layer 10 of the connection area | region 4 (refer FIG. 1) is provided upwards among the outer peripheral surfaces 17b of the frame part 17. FIG. In some cases, it is difficult to form the portion in a divergent shape from the surface 17d on the insulating layer side toward the facing surface 17c. In this case, the portion of the outer peripheral surface 17b may be formed in a divergent shape from the facing surface 17c toward the surface 17d on the insulating layer side as shown in FIG. It may be formed vertically. That is, in the present invention, the entire outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 is formed in a divergent shape from the surface 17d on the insulating layer side toward the facing surface 17c, and the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 A part of the insulating layer is formed in a divergent shape from the surface 17d on the insulating layer side toward the facing surface 17c. Even in the latter case, the ratio of the portion where the insulating layer 10 of the connection region 4 is provided above the entire outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 is small, and therefore the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 is not provided. Many portions can be formed in a diverging shape from the surface 17d on the insulating layer side toward the facing surface 17c.

このように本実施の形態によれば、枠体部17の外周面17bが絶縁層側の面17dから対向面17cに向かって末広がり状に形成されている。このことにより、枠体部17の対向面17cの面積を増大させることができる。このため、導電性接着剤と枠体部17との接合面積を増大させて接合強度を向上させることができる。この結果、枠体部17の対向面17cに設けられた溝18による接合強度の増大の効果と合わせて、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present embodiment, the outer peripheral surface 17b of the frame body portion 17 is formed so as to expand from the surface 17d on the insulating layer side toward the opposing surface 17c. Thereby, the area of the opposing surface 17c of the frame part 17 can be increased. For this reason, it is possible to increase the bonding area between the conductive adhesive and the frame body portion 17 and improve the bonding strength. As a result, the joint strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 is improved together with the effect of increasing the joint strength by the grooves 18 provided on the facing surface 17c of the frame body portion 17, and the piezo element 44 and the suspension are improved. The reliability of electrical connection with the substrate 1 can be improved.

なお、上述した実施の形態においては、サスペンション用基板1が、図1に示すように、一対のピエゾ素子44に接続可能なように、基板本体領域2の両側方に配置された一対の接続構造領域3を有している例について説明したが、このことに限られることはなく、図13に示すように、基板本体領域2の一側方に連結領域4を介して接続構造領域3が設けられたサスペンション用基板1に本発明を適用することも可能である。   In the above-described embodiment, a pair of connection structures disposed on both sides of the substrate body region 2 so that the suspension substrate 1 can be connected to the pair of piezoelectric elements 44 as shown in FIG. Although the example having the region 3 has been described, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 13, the connection structure region 3 is provided on one side of the substrate body region 2 via the connection region 4. It is also possible to apply the present invention to the suspension substrate 1 formed.

また、本実施の形態においては、枠体部17の対向面17cに溝18が設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、枠体部17の対向面17cに、図14に示すような溝18が設けられていなくてもよい。この場合においても、上述したように、枠体部17の対向面17cの面積を増大させることができるため、導電性接着剤と枠体部17との接合強度を向上させ、ピエゾ素子44とサスペンション用基板1との電気的な接続の信頼性を向上させることができる。   Moreover, in this Embodiment, the example in which the groove | channel 18 was provided in the opposing surface 17c of the frame part 17 was demonstrated. However, the present invention is not limited to this, and the groove 18 as shown in FIG. 14 may not be provided on the facing surface 17 c of the frame body portion 17. Even in this case, as described above, since the area of the facing surface 17c of the frame body portion 17 can be increased, the bonding strength between the conductive adhesive and the frame body portion 17 is improved, and the piezo element 44 and the suspension are increased. The reliability of electrical connection with the substrate 1 can be improved.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明によるサスペンション用基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、ハードディスクドライブおよびサスペンション用基板の製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であり、各実施の形態を部分的に組み合わせることも可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail, the suspension substrate, the suspension, the suspension with a head, the hard disk drive, and the suspension substrate manufacturing method according to the present invention are not limited to the above-described embodiments. Instead, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention, and the embodiments can be partially combined.

1 サスペンション用基板
2 基板本体領域
3 接続構造領域
4 連結領域
5 ヘッド端子
6 外部機器接続端子
10 絶縁層
11 金属支持層
12 配線層
13 配線
15 めっき層
16 配線接続部
17 枠体部
17a 内周面
17b 外周面
17c 対向面
17d 絶縁層側の面
18 溝
18a 内面
20 保護層
31 注入孔
32 金属支持層貫通孔
33 絶縁層貫通孔
35 積層体
41 サスペンション
42 ベースプレート
43 ロードビーム
44 ピエゾ素子
44a 電極
44b 圧電材料部
48 導電性接着部
51 ヘッド付サスペンション
52 ヘッドスライダ
61 ハードディスクドライブ
62 ケース
63 ディスク
64 スピンドルモータ
65 ボイスコイルモータ
66 アーム
71 FPC基板
81 第1レジスト
81a 溝形成用開口
81b 注入孔形成用開口
82 第2レジスト
83 枠体部形成用レジスト
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Suspension board | substrate 2 Board | substrate body area | region 3 Connection structure area | region 4 Connection area | region 5 Head terminal 6 External apparatus connection terminal 10 Insulation layer 11 Metal support layer 12 Wiring layer 13 Wiring 15 Plating layer 16 Wiring connection part 17 Frame part 17a Inner peripheral surface 17b Outer peripheral surface 17c Opposing surface 17d Insulating layer side surface 18 Groove 18a Inner surface 20 Protective layer 31 Injection hole 32 Metal support layer through hole 33 Insulating layer through hole 35 Laminate 41 Suspension 42 Base plate 43 Load beam 44 Piezo element 44a Electrode 44b Piezoelectric Material part 48 Conductive adhesive part 51 Suspension with head 52 Head slider 61 Hard disk drive 62 Case 63 Disk 64 Spindle motor 65 Voice coil motor 66 Arm 71 FPC board 81 First resist 81a Groove formation opening 81b Injection hole formation opening 82 2 Strike 83 frame portion for forming a resist

Claims (19)

アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、
前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層であって、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を有する前記配線層と、を備え、
前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔と、を有し、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が設けられ、
前記金属支持層は、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部を有し、
前記枠体部は、前記絶縁層とは反対側の面に配置された、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含み、
前記枠体部の前記対向面に、溝が設けられていることを特徴とするサスペンション用基板。
In a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive,
An insulating layer;
A metal support layer provided on one surface of the insulating layer;
A wiring layer provided on the other surface of the insulating layer, provided in a plurality of wirings and in the connection structure region, connected to the corresponding wirings, and the conductive adhesive is applied to the actuator elements. A wiring connection portion electrically connected via the wiring layer, and
The connection structure region has a metal support layer through hole penetrating the metal support layer and an insulating layer through hole penetrating the insulating layer, and exposes the actuator element side surface of the wiring connection portion. An injection hole into which the conductive adhesive is injected at least in part,
The metal support layer has a frame part that forms the metal support layer through-hole,
The frame portion includes a facing surface that is disposed on a surface opposite to the insulating layer and faces the actuator element;
A suspension substrate, wherein a groove is provided on the facing surface of the frame body.
前記溝は、前記金属支持層貫通孔を画定する内周面から外周面に延びていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the groove extends from an inner peripheral surface defining the metal support layer through hole to an outer peripheral surface. 前記枠体部の前記対向面において、複数の前記溝が、放射状に形成されていることを特徴とする請求項2に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 2, wherein the plurality of grooves are formed radially on the facing surface of the frame body portion. 前記枠体部の前記対向面において、複数の前記溝が、らせん状に形成されていることを特徴とする請求項2に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 2, wherein a plurality of the grooves are formed in a spiral shape on the facing surface of the frame body portion. 前記枠体部の前記対向面において、前記溝は、リング状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to claim 1, wherein the groove is formed in a ring shape on the facing surface of the frame body portion. 前記溝の内面は、前記枠体部の前記対向面よりも、粗面化されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 5, wherein an inner surface of the groove is rougher than the facing surface of the frame body portion. 前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載のサスペンション用基板。   The suspension substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein an outer peripheral surface of the frame body portion is formed so as to expand from the surface on the insulating layer side toward the facing surface. アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板において、
絶縁層と、
前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、
前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層であって、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に前記導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を有する前記配線層と、を備え、
前記接続構造領域において、前記金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔と、前記絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔と、を有し、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が設けられ、
前記金属支持層は、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部を有し、
前記枠体部は、前記絶縁層とは反対側の面に配置された、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含み、
前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されていることを特徴とするサスペンション用基板。
In a suspension substrate having a connection structure region that can be connected to an actuator element via a conductive adhesive,
An insulating layer;
A metal support layer provided on one surface of the insulating layer;
A wiring layer provided on the other surface of the insulating layer, provided in a plurality of wirings and in the connection structure region, connected to the corresponding wirings, and the conductive adhesive is applied to the actuator elements. A wiring connection portion electrically connected via the wiring layer, and
The connection structure region has a metal support layer through hole penetrating the metal support layer and an insulating layer through hole penetrating the insulating layer, and exposes the actuator element side surface of the wiring connection portion. An injection hole into which the conductive adhesive is injected at least in part,
The metal support layer has a frame part that forms the metal support layer through-hole,
The frame portion includes a facing surface that is disposed on a surface opposite to the insulating layer and faces the actuator element;
The suspension substrate according to claim 1, wherein an outer peripheral surface of the frame body portion is formed in a divergent shape from a surface on the insulating layer side toward the opposing surface.
ベースプレートと、
前記ベースプレートに、ロードビームを介して取り付けられた請求項1乃至8のいずれかに記載の前記サスペンション用基板と、
前記ベースプレートおよび前記ロードビームの少なくとも一方に接合されると共に、前記サスペンション用基板の前記接続構造領域に前記導電性接着剤を介して接続された前記アクチュエータ素子と、を備えたことを特徴とするサスペンション。
A base plate;
The suspension substrate according to any one of claims 1 to 8, which is attached to the base plate via a load beam;
The suspension comprising: the actuator element joined to at least one of the base plate and the load beam, and connected to the connection structure region of the suspension substrate via the conductive adhesive. .
請求項9に記載の前記サスペンションと、
前記サスペンションに実装されたヘッドスライダと、を備えたことを特徴とするヘッド付サスペンション。
The suspension according to claim 9,
A suspension with a head, comprising: a head slider mounted on the suspension.
請求項10に記載の前記ヘッド付サスペンションを備えたことを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with a head according to claim 10. アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、
前記配線層において、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を形成する工程と、
前記金属支持層において、前記接続構造領域に設けられ、当該金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔を形成する工程と、
前記金属支持層の前記絶縁層とは反対側の面に、溝を形成する工程と、
前記絶縁層において、当該絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、
前記金属支持層において、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部であって、前記絶縁層とは反対側の面に配置され、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含む前記枠体部を形成する工程と、を備え、
前記金属支持層貫通孔と前記絶縁層貫通孔とにより、前記接続構造領域に設けられ、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が構成され、前記溝は、前記枠体部の前記対向面に配置されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
In a method for manufacturing a suspension substrate having a connection structure region connectable to an actuator element via a conductive adhesive,
Preparing a laminate having an insulating layer, a metal support layer provided on one surface of the insulating layer, and a wiring layer provided on the other surface of the insulating layer;
In the wiring layer, a plurality of wirings, a wiring connection portion provided in the connection structure region, connected to the corresponding wiring, and electrically connected to the actuator element via a conductive adhesive, Forming a step;
In the metal support layer, a step of forming a metal support layer through-hole provided in the connection structure region and penetrating the metal support layer;
Forming a groove on a surface of the metal support layer opposite to the insulating layer;
Forming an insulating layer through-hole penetrating the insulating layer in the insulating layer;
In the metal support layer, the frame body portion forming the metal support layer through-hole, the frame body portion being disposed on a surface opposite to the insulating layer and including a facing surface facing the actuator element, Forming, and
The metal support layer through-hole and the insulating layer through-hole are provided in the connection structure region, expose the surface of the wiring connection portion on the actuator element side, and the conductive adhesive is injected into at least a part thereof. The suspension substrate manufacturing method is characterized in that an injection hole is formed, and the groove is disposed on the facing surface of the frame body portion.
前記溝は、ハーフエッチングにより形成されることを特徴とする請求項12に記載のサスペンション用基板の製造方法。   The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 12, wherein the groove is formed by half etching. 前記金属支持層貫通孔を形成する工程と、前記溝を形成する工程とは、同時に行われることを特徴とする請求項12または13に記載のサスペンション用基板の製造方法。   The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 12 or 13, wherein the step of forming the metal support layer through hole and the step of forming the groove are performed simultaneously. 前記溝を形成する工程と、前記枠体部を形成する工程とは、同時に行われることを特徴とする請求項12または13に記載のサスペンション用基板の製造方法。   The method for manufacturing a suspension substrate according to claim 12 or 13, wherein the step of forming the groove and the step of forming the frame body portion are performed simultaneously. 前記枠体部を形成する工程において、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されることを特徴とする請求項12乃至15のいずれかに記載のサスペンション用基板の製造方法。   16. In the step of forming the frame body portion, the outer peripheral surface of the frame body portion is formed in a divergent shape from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface. A method for producing a suspension substrate according to claim 1. 前記枠体部を形成する工程において、形成される前記枠体部の前記対向面から、当該枠体部の外方に延びるように枠体部形成用レジストが形成されて、前記金属支持層がエッチングされることを特徴とする請求項16に記載のサスペンション用基板の製造方法。   In the step of forming the frame body part, a resist for forming a frame body part is formed so as to extend outward from the facing surface of the frame body part to be formed, and the metal support layer is The method of manufacturing a suspension substrate according to claim 16, wherein the suspension substrate is etched. アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して接続可能な接続構造領域を有するサスペンション用基板の製造方法において、
絶縁層と、前記絶縁層の一方の面に設けられた金属支持層と、前記絶縁層の他方の面に設けられた配線層とを有する積層体を準備する工程と、
前記配線層において、複数の配線と、前記接続構造領域に設けられ、対応する前記配線に接続されると共に、前記アクチュエータ素子に導電性接着剤を介して電気的に接続される配線接続部と、を形成する工程と、
前記金属支持層において、前記接続構造領域に設けられ、当該金属支持層を貫通する金属支持層貫通孔を形成する工程と、
前記絶縁層において、当該絶縁層を貫通する絶縁層貫通孔を形成する工程と、
前記金属支持層において、前記金属支持層貫通孔を形成する枠体部であって、前記絶縁層とは反対側の面に配置され、前記アクチュエータ素子に対向する対向面を含む前記枠体部を形成する工程と、を備え、
前記金属支持層貫通孔と前記絶縁層貫通孔とにより、前記接続構造領域に設けられ、前記配線接続部の前記アクチュエータ素子の側の面を露出させ、少なくとも一部に前記導電性接着剤が注入される注入孔が構成され、
前記枠体部を形成する工程において、前記枠体部の外周面は、前記絶縁層側の面から前記対向面に向かって末広がり状に形成されることを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
In a method for manufacturing a suspension substrate having a connection structure region connectable to an actuator element via a conductive adhesive,
Preparing a laminate having an insulating layer, a metal support layer provided on one surface of the insulating layer, and a wiring layer provided on the other surface of the insulating layer;
In the wiring layer, a plurality of wirings, a wiring connection portion provided in the connection structure region, connected to the corresponding wiring, and electrically connected to the actuator element via a conductive adhesive, Forming a step;
In the metal support layer, a step of forming a metal support layer through-hole provided in the connection structure region and penetrating the metal support layer;
Forming an insulating layer through-hole penetrating the insulating layer in the insulating layer;
In the metal support layer, the frame body portion forming the metal support layer through-hole, the frame body portion being disposed on a surface opposite to the insulating layer and including a facing surface facing the actuator element, Forming, and
The metal support layer through-hole and the insulating layer through-hole are provided in the connection structure region, expose the surface of the wiring connection portion on the actuator element side, and the conductive adhesive is injected into at least a part thereof. The injection hole to be configured,
In the step of forming the frame body portion, the outer peripheral surface of the frame body portion is formed so as to be divergent from the surface on the insulating layer side toward the opposing surface.
前記枠体部を形成する工程において、形成される前記枠体部の前記対向面から、当該枠体部の外方に延びるように枠体部形成用レジストが形成されて、前記金属支持層がエッチングされることを特徴とする請求項18に記載のサスペンション用基板の製造方法。   In the step of forming the frame body part, a resist for forming a frame body part is formed so as to extend outward from the facing surface of the frame body part to be formed, and the metal support layer is The method of manufacturing a suspension substrate according to claim 18, wherein the suspension substrate is etched.
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