JP2013174829A - Optical waveguide module and electronic apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光導波路モジュールおよび電子機器に関するものである。 The present invention relates to an optical waveguide module and an electronic device.
光通信では、光導波路と光素子とを結合して使用されることがある。近年、光素子の多チャンネル化および小型化が進んでおり、それとともに光素子のチャンネル間のピッチを狭めることが要請されている。 In optical communication, an optical waveguide and an optical element may be combined and used. In recent years, the number of optical elements has been increased and the size has been reduced, and at the same time, it is required to reduce the pitch between channels of the optical elements.
ところが、光素子の狭ピッチ化が進むと、光導波路との結合の難易度が増すことになる。従来、光導波路と光素子とを結合する際には、光導波路の光入出射面と光素子の受発光部とを向かい合わせに配置する構造が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この構造では、光入出射面の光軸と受発光部の光軸とを合わせる必要があるが、光素子の狭ピッチ化が進むにつれて、位置合わせが極めて困難になっている。このため、光軸がずれる場合があり、光結合効率の低下やクロストーク(1つのチャンネルからの漏洩光が隣り合うチャンネルに混在すること)が発生する。 However, when the pitch of the optical element is reduced, the difficulty of coupling with the optical waveguide increases. Conventionally, when an optical waveguide and an optical element are coupled, a structure in which a light incident / exit surface of the optical waveguide and a light receiving / emitting portion of the optical element are arranged to face each other is known (see, for example, Patent Document 1). ). In this structure, it is necessary to align the optical axis of the light incident / exit surface and the optical axis of the light receiving / emitting section, but the alignment becomes extremely difficult as the pitch of the optical element is reduced. For this reason, the optical axis may be shifted, and the optical coupling efficiency is lowered and crosstalk (leakage light from one channel is mixed in adjacent channels) occurs.
また、光素子の狭ピッチ化に合わせて光導波路の狭ピッチ化が進んでおり、光導波路自体でもクロストークが起き易くなっている。これらの問題が重なると、クロストークが光通信の品質に及ぼす影響が顕在化することが避けられない。さらには、光導波路の狭ピッチ化に伴って、伝送損失の増大やパルス信号の鈍り(パルス信号が広がること)といった課題も顕在化するため、これらも光通信の品質を低下させる一因になっている。 In addition, the narrowing of the pitch of the optical waveguide is progressing along with the narrowing of the pitch of the optical element, and crosstalk easily occurs in the optical waveguide itself. When these problems overlap, it is inevitable that the influence of crosstalk on the quality of optical communication becomes obvious. Furthermore, as the pitch of the optical waveguide becomes narrower, problems such as an increase in transmission loss and blunting of the pulse signal (spreading of the pulse signal) also become apparent, which also contributes to a decrease in the quality of optical communication. ing.
光導波路としては、従来、一定の屈折率を有するコア部と、コア部より低い一定の屈折率を有するクラッド部とを有するステップインデックス型のものが一般的であったが、このような従来の光導波路では、上述した課題を解決することができなかった。 Conventionally, as the optical waveguide, a step index type having a core portion having a constant refractive index and a clad portion having a constant refractive index lower than the core portion has been generally used. In the optical waveguide, the above-described problems cannot be solved.
本発明の目的は、受発光部が高密度に集積した光素子と光導波路とが高い光結合効率で結合され、品質の高い光通信を実現可能な光導波路モジュール、かかる光導波路モジュールを備えた信頼性の高い電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical waveguide module capable of realizing high-quality optical communication, in which an optical element in which light receiving and emitting portions are integrated at high density and an optical waveguide are coupled with high optical coupling efficiency, and the optical waveguide module is provided. The object is to provide a highly reliable electronic device.
このような目的は、下記(1)〜(11)の本発明により達成される。
(1) 複数のコア部と、前記各コア部の両側面に隣接するよう設けられた複数の側面クラッド部と、前記各コア部またはその延長線上に設けられ、前記コア部の光路を屈曲させる光路変換部と、を備える光導波路と、
所定のピッチで配列した受発光部の列を複数段有する光素子と、を有し、
前記光導波路の横断面における幅方向の屈折率分布Wは、2つの極小値と、1つの第1の極大値と、前記第1の極大値より小さい2つの第2の極大値と、を有し、これらが、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値の順で並ぶ領域を有しており、前記領域のうち、前記第1の極大値を含むように前記2つの極小値で挟まれる領域が前記各コア部に対応しており、前記各極小値から前記第2の極大値側の領域が前記各側面クラッド部に対応しており、前記屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化しており、
前記複数のコア部のうち、隣り合う2つのコア部またはその延長線上にそれぞれ設けられた前記光路変換部は、その位置が互いに前記コア部の長手方向にずれた位置になるよう構成されていることを特徴とする光導波路モジュール。
Such an object is achieved by the present inventions (1) to (11) below.
(1) A plurality of core portions, a plurality of side clad portions provided so as to be adjacent to both side surfaces of each core portion, and each core portion or an extension thereof, and bends the optical path of the core portion. An optical waveguide comprising: an optical path conversion unit;
An optical element having a plurality of rows of light receiving and emitting units arranged at a predetermined pitch,
The refractive index distribution W in the width direction in the cross section of the optical waveguide has two minimum values, one first maximum value, and two second maximum values smaller than the first maximum value. These have regions arranged in the order of the second maximum value, the minimum value, the first maximum value, the minimum value, and the second maximum value, and among the regions, the first maximum value A region sandwiched between the two minimum values so as to include each of the core portions, the region from the minimum value to the second maximum value side corresponds to each of the side cladding portions, The refractive index continuously changes throughout the refractive index distribution W,
Among the plurality of core portions, the two adjacent core portions or the optical path conversion portions provided on the extension lines thereof are configured such that their positions are shifted from each other in the longitudinal direction of the core portion. An optical waveguide module characterized by that.
(2) 前記コア部の長手方向が前記受発光部の配列方向に対して斜めになるよう前記光素子に対して前記光導波路が接続されている上記(1)に記載の光導波路モジュール。 (2) The optical waveguide module according to (1), wherein the optical waveguide is connected to the optical element so that a longitudinal direction of the core portion is inclined with respect to an arrangement direction of the light receiving and emitting portions.
(3) 前記複数のコア部の平均幅をWCO[μm]とし、前記複数の側面クラッド部の平均幅をWCL[μm]としたとき、WCO/WCLは0.1〜10の関係を満足する上記(1)または(2)に記載の光導波路モジュール。 (3) When the average width of the plurality of core portions is WCO [μm] and the average width of the plurality of side cladding portions is WCL [μm], WCO / WCL satisfies the relationship of 0.1 to 10. The optical waveguide module according to (1) or (2) above.
(4) 前記複数の側面クラッド部の平均幅は、5〜250μmである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (4) The optical waveguide module according to any one of (1) to (3), wherein an average width of the plurality of side surface cladding portions is 5 to 250 μm.
(5) 前記屈折率分布Wは、ポリマー中に前記ポリマーと屈折率の異なる光重合性モノマーが分散してなる材料で構成された層に対して部分的に光を照射し、前記光重合性モノマーを移動、偏在させることにより、前記層内に屈折率の偏りを生じさせて形成されたものである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (5) The refractive index distribution W is obtained by partially irradiating light to a layer formed of a material in which a photopolymerizable monomer having a refractive index different from that of the polymer is dispersed in the polymer. The optical waveguide module according to any one of (1) to (4), wherein the optical waveguide module is formed by causing a deviation in refractive index in the layer by moving and unevenly distributing the monomer.
(6) 前記ポリマーは、(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、およびポリオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (6) The above (1), wherein the polymer is at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic resins, epoxy resins, silicone resins, polyimide resins, fluorine resins, and polyolefin resins. Thru | or the optical waveguide module in any one of (5).
(7) 前記屈折率分布Wのうち、前記側面クラッド部に対応する領域では、前記第2の極大値が該領域の中心部に位置しており、かつ、前記第2の極大値から前記極小値に向かって連続的に低下するよう屈折率が変化している上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (7) In the region corresponding to the side clad portion in the refractive index distribution W, the second maximum value is located at the center of the region, and the minimum value is determined from the second maximum value. The optical waveguide module according to any one of (1) to (6), wherein the refractive index is changed so as to continuously decrease toward the value.
(8) 前記極小値とそれに隣接する前記側面クラッド部における平均屈折率との差は、前記極小値とそれに隣接する前記第1の極大値との差の3〜80%である上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (8) The difference between the minimum value and the average refractive index in the side cladding portion adjacent thereto is 3 to 80% of the difference between the minimum value and the first maximum value adjacent thereto (1) Thru | or the optical waveguide module in any one of (7).
(9) 前記極小値と前記第1の極大値との屈折率差は、0.005〜0.07である上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (9) The optical waveguide module according to any one of (1) to (8), wherein a difference in refractive index between the minimum value and the first maximum value is 0.005 to 0.07.
(10) 前記屈折率分布Wにおいて、前記第1の極大値近傍における屈折率が、前記側面クラッド部における平均屈折率以上の値を有している部分の幅をa[μm]とし、前記極小値近傍における屈折率が、前記側面クラッド部における平均屈折率未満の値を有している幅をb[μm]としたとき、bは、0.01a〜1.2aである上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の光導波路モジュール。 (10) In the refractive index distribution W, the width of a portion where the refractive index in the vicinity of the first maximum value has a value equal to or larger than the average refractive index in the side cladding portion is a [μm], and the minimum When the width of the refractive index in the vicinity of the value having a value less than the average refractive index in the side cladding portion is b [μm], b is 0.01a to 1.2a (1) to (1) to (9) The optical waveguide module according to any one of (9).
(11) 上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の光導波路モジュールを備えることを特徴とする電子機器。 (11) An electronic device comprising the optical waveguide module according to any one of (1) to (10).
本発明によれば、受発光部が高密度に集積した光素子と光導波路とが高い光結合効率で結合され、品質の高い光通信を実現可能な光導波路モジュールが得られる。 According to the present invention, it is possible to obtain an optical waveguide module in which an optical element in which light emitting and receiving portions are integrated at high density and an optical waveguide are coupled with high optical coupling efficiency and high-quality optical communication can be realized.
また、このような光導波路モジュールを備えることで、信頼性の高い電子機器が得られる。 Moreover, by providing such an optical waveguide module, a highly reliable electronic device can be obtained.
以下、本発明の光導波路モジュールおよび電子機器について添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 The optical waveguide module and the electronic device of the present invention will be described in detail below based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
<光導波路モジュール>
まず、本発明の光導波路モジュールについて説明する。
<Optical waveguide module>
First, the optical waveguide module of the present invention will be described.
≪第1実施形態≫
図1は、本発明の光導波路モジュールの第1実施形態を示す(一部透過して示す)斜視図、図2は、図1に示す光導波路モジュールの平面図である。
<< First Embodiment >>
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of the optical waveguide module according to the present invention (partially shown), and FIG. 2 is a plan view of the optical waveguide module shown in FIG.
図1に示す光導波路モジュール10は、8本のコア部14とクラッド部とを有する光導波路1と、1段あたり4つ並んだ光路接続部104を2段備えた多心光コネクター(光接続部品)101と、4つ並んだ受発光部109を備えた2つの受発光素子108と、を有するものである。光導波路モジュール10においては、各光路接続部104を介して光導波路1と2つの受発光素子108とを光学的に接続することができる。
An
光導波路1は、多心光コネクター101の光路接続部104の配列方向に対してコア部14の長手方向が斜めになるよう、多心光コネクター101に対して固定されている。そして、光導波路1のコア部14にはそれぞれ各光路接続部104の位置に合わせてミラー(光路変換部)17が形成されているが、隣り合う2つのコア部14に設けられるミラー17は、2段設けられている光路接続部104のうちの互いに異なる段の光路接続部104の位置に合わせて形成されている。その結果、光導波路1に形成されるミラー17は、隣り合う2つのコア部14の間で、その形成位置が互いにコア部14の長手方向にずれた位置になるよう構成される。
The
このような特徴を有する光導波路モジュール10は、上述したように、同一平面内に形成された複数のコア部14の長手方向が光路接続部104の配列方向に対して斜めになるよう、光導波路1が配置されているため、多心光コネクター101の小型化が図られるとともに、この小型の多心光コネクター101に対して光導波路1を簡単に接続することができる。すなわち、光導波路1と多心光コネクター101とを省スペースで容易に接続することができる。
As described above, the
以下、光導波路モジュール10の各部について詳述する。
(多心光コネクター)
光導波路モジュール10は、上述したように、光導波路1と多心光コネクター101と受発光素子108とを有するものである。
Hereinafter, each part of the
(Multi-fiber optical connector)
As described above, the
このうち、多心光コネクター101は、前述したような8つの光路接続部104と、このコネクターを固定するための固定用孔105と、を有するものである。
Among these, the multi-fiber
多心光コネクター101は、直方体状をなすコネクターであり、上面101aに光導波路1を固定し得るよう構成されている。
The multi-fiber
また、光路接続部104は、多心光コネクター101を上面101aから下面101bにかけて貫通するよう構成されている。
Further, the optical
一方、固定用孔105は、ネジ等を挿入して多心光コネクター101を固定するのに用いられるものであり、多心光コネクター101の上面101aから下面101bにかけて貫通するよう構成されている。
On the other hand, the fixing
光路接続部104の構造は、光を導波し得るものであれば特に限定されない。この構造としては、例えば、単なる貫通孔の他、光ファイバー、光導波路等が挙げられる。光路接続部104により光導波路1と受発光素子108とを光学的に接続している。
The structure of the optical
多心光コネクター101の上面101aの長手方向をX方向、それと直交する方向をY方向とするとき、多心光コネクター101には、4つの光路接続部104がX方向に沿って配列したものが2段配置されている。そして、段ごとに設けられる各光路接続部104は、それぞれX方向における位置が同じになるよう構成されている。すなわち、光路接続部104は格子状のパターンで配置されている。
When the longitudinal direction of the
なお、1段あたりの光路接続部104の数は、特に限定されず、3つ以下であっても、5つ以上であってもよい。また、配列した光路接続部104の段数も、特に限定されず、3段以上であってもよい。
In addition, the number of the optical
また、光路接続部104の配列パターンは、上述した格子状のパターンに限定されない。例えば、2段のうち、一方の段における各光路接続部104のX方向の位置と他方の段における各光路接続部104のX方向の位置とが異なっているパターンでもよい。
Further, the arrangement pattern of the optical
多心光コネクター101の構成材料としては、例えば、樹脂材料、金属材料、セラミックス材料等が挙げられる。
Examples of the constituent material of the multi-fiber
また、多心光コネクター101の上面101aに溝を形成し、その溝に光導波路1を嵌め込むようにしてもよい。これにより、光導波路1の位置合わせと固定がより容易になり、光導波路1と多心光コネクター101との光結合効率を高めることができる。
Further, a groove may be formed on the
ここで、多心光コネクター101に対しては、図2に示すように、光路接続部104の配列方向に対してコア部14の長手方向が斜めになるよう光導波路1が配置されている。このように配置することで、同一平面上に並列した複数のコア部14を、複数段に配置された小型の光路接続部104に対して簡単に光結合させることができる。特に、光路接続部104が複数段に分かれていることから、1段のみに配列させる場合に比べて光路接続部104同士の離間距離を比較的大きくとることができる。このため、光導波路1においてミラー17を容易に形成することができる。そして、特殊なコネクター等を用いることなく単に光導波路1を斜めに配置するのみで、複数段に配置された光路接続部104と光導波路1のミラー17とを接続することができる。
Here, with respect to the multi-fiber
また、光路接続部104が複数段に分かれていることにより、1段のみに配列させる場合に比べて多心光コネクター101の小型化を図ることができ、ひいては光導波路モジュール10の小型化を図ることができる。
In addition, since the optical
光路接続部104の配列方向とコア部14の長手方向とがなす角度θ(図2参照)は、隣り合う光路接続部104間の離間距離、隣り合うコア部14間の離間距離等に応じて適宜設定されるが、一例として10〜88°程度であるのが好ましく、25〜84°程度であるのがより好ましい。これにより、多心光コネクター101と光導波路1とを省スペースで確実に接続することができる。
The angle θ (see FIG. 2) formed by the arrangement direction of the optical
(受発光素子)
受発光素子108には、前述したように、4つの受発光部109が配置され、これらが一列に並んでいる。そして、各受発光部109の位置と光路接続部104の位置とが一致するように、多心光コネクター101の下面101bに対して2つの受発光素子108が固定されている。
(Light emitting / receiving element)
As described above, the light emitting / receiving
受発光素子108は、発光素子であっても受光素子であってもよく、受発光部109は、発光部であっても受光部であってもよい。発光素子としては、例えば、半導体レーザー、分布帰還型半導体レーザー、発光ダイオード等が挙げられ、特に面発光レーザー(VCSEL)が好ましく用いられる。一方、受光素子としては、例えば、フォトダイオード(PD)、アバランシェフォトダイオード(APD)等が挙げられる。
The light emitting / receiving
また、受発光素子108における受発光部109の数、すなわちチャンネル数は特に限定されず、3つ以下であっても、5つ以上であってもよい。また、受発光部109の間隔(ピッチ)も特に限定されない。一例として、62.5μm、125μm、250μm等の間隔のものが用いられる。
Further, the number of light emitting / receiving
また、必要に応じて、受発光部109の近傍にレンズ等の光学部品が配置された素子を用いるようにしてもよい。
Further, if necessary, an element in which an optical component such as a lens is disposed in the vicinity of the light emitting and receiving
(光導波路)
一方、光導波路1は、前述したような8本のコア部14とクラッド部とを有する帯状の部材であり、一方の端部から他方の端部に光信号を伝送する光配線として機能する。
(Optical waveguide)
On the other hand, the
図3は、本発明の光導波路モジュールが備える光導波路を示す(一部切り欠いて、および透過して示す)斜視図、図4は、図3に示すX−X線断面図について、横軸にコア層の厚さの中心線C1における位置をとり、縦軸に屈折率をとったときの屈折率分布の一例を模式的に示す図、図5は、図3に示す光導波路のコア部の1つに光を入射したときの出射光の強度分布の一例を示す図である。なお、図3は、8本のコア部14のうちの2本についての拡大図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an optical waveguide provided in the optical waveguide module of the present invention (partially cut out and shown through), and FIG. 4 is a horizontal axis with respect to a cross-sectional view taken along the line XX shown in FIG. FIG. 5 schematically shows an example of a refractive index distribution when the position of the thickness of the core layer on the center line C1 is taken and the vertical axis indicates the refractive index, and FIG. 5 shows the core portion of the optical waveguide shown in FIG. It is a figure which shows an example of intensity distribution of the emitted light when light injects into one of these. FIG. 3 is an enlarged view of two of the eight
図3に示す光導波路1は、下側からクラッド層11、コア層13およびクラッド層12の3層を有している。また、図3に示す光導波路1は、下方から支持フィルム2により、上方からカバーフィルム3により、挟まれている。
The
コア層13には、幅方向において屈折率が偏りを有してなる屈折率分布Wが形成されている。この屈折率分布Wは、相対的に屈折率の高い領域(極大値)と低い領域(極小値)とを有しており、これにより入射された光を屈折率の高い領域に閉じ込めて伝搬することができる。その結果、伝送損失およびパルス信号の鈍りが抑えられ、大容量の光信号を入射しても信頼性の高い光通信を行うことができる。
In the
また、上記極大値には、相対的に高い第1の極大値と相対的に低い第2の極大値とが含まれており、第1の極大値を挟んで極小値が位置している。また、第1の極大値に対応してコア部が、第2の極大値に対応してクラッド部が位置する。これにより、コア部とクラッド部との間には極小値が位置することになり、第1の極大値と極小値との間に大きな屈折率差が形成されることから、コア部からは光が漏れ難くなる。また、クラッド部には第1の極大値より低い第2の極大値が位置するため、たとえコア部から光が漏れ出したとしても、その漏出光はクラッド部に閉じ込められることとなる。これにより、幅方向に隣接するコア部の間のクロストークが抑制される。その結果、コア層13中に複数のコア部を形成して多チャンネル化したり、コア部の間隔を狭めて高密度化したりしても、光導波路1であれば、高品質な光通信を維持することができる。
The maximum value includes a relatively high first maximum value and a relatively low second maximum value, and the minimum value is located across the first maximum value. Further, the core portion is positioned corresponding to the first maximum value, and the cladding portion is positioned corresponding to the second maximum value. As a result, a minimum value is located between the core part and the cladding part, and a large refractive index difference is formed between the first maximum value and the minimum value. Is difficult to leak. Further, since the second maximum value lower than the first maximum value is located in the cladding part, even if light leaks from the core part, the leaked light is confined in the cladding part. Thereby, crosstalk between core parts adjacent in the width direction is suppressed. As a result, even if a plurality of core portions are formed in the
また、屈折率分布Wは、上述したように光重合性モノマーが移動、偏在することにより、屈折率が連続的に変化して形成されたものであるため、コア層13は、コア部14と側面クラッド部15との間に明瞭な構造的界面を有しないものとなる。このため、コア部14と側面クラッド部15との間における剥離やクラックといった問題が生じ難く、光導波路1は信頼性の高いものとなる。
Further, since the refractive index distribution W is formed by continuously changing the refractive index due to movement and uneven distribution of the photopolymerizable monomer as described above, the
以下、光導波路1の各部について詳述する。
((コア層))
このうち、コア層13には、前述したように、幅方向において屈折率が偏りを有してなる屈折率分布Wが形成されている。
Hereinafter, each part of the
((Core layer))
Among these, the
図4(a)は、図3のX−X線断面図であり、図4(b)は、X−X線断面図のコア層13の厚さ方向の中心を通過する中心線C1上の屈折率分布Wの一例を模式的に示す図である。
4A is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG. 3, and FIG. 4B is a center line C1 passing through the center of the
屈折率分布Wは、図4(b)に示すような、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と、5つの極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5と、を有している。また、5つの極大値には、相対的に屈折率の大きい極大値(第1の極大値)Wm2、Wm4と、相対的に屈折率の小さい極大値(第2の極大値)Wm1、Wm3、Wm5とが存在している。 The refractive index distribution W has four minimum values Ws1, Ws2, Ws3, and Ws4 and five maximum values Wm1, Wm2, Wm3, Wm4, and Wm5 as shown in FIG. The five maximum values include a maximum value (first maximum value) Wm2 and Wm4 having a relatively high refractive index, and a maximum value (second maximum value) Wm1, Wm3 having a relatively low refractive index. Wm5 exists.
このうち、極小値Ws1と極小値Ws2との間および極小値Ws3と極小値Ws4との間には、極大値Wm2および極大値Wm4が存在している。 Among these, the maximum value Wm2 and the maximum value Wm4 exist between the minimum value Ws1 and the minimum value Ws2, and between the minimum value Ws3 and the minimum value Ws4.
光導波路1では、図4に示すように、極小値Ws1と極小値Ws2との間に、相対的に屈折率の大きい極大値Wm2が位置していることから、この領域がコア部14となり、同様に、極小値Ws3と極小値Ws4との間にも極大値Wm4が位置していることからコア部14となる。なお、ここでは、極小値Ws1と極小値Ws2との間をコア部141とし、極小値Ws3と極小値Ws4との間をコア部142とする。
In the
また、極小値Ws1の左側の領域、極小値Ws2と極小値Ws3との間、および極小値Ws4の右側の領域は、それぞれコア部14を両側面に隣接する領域であることから側面クラッド部15となる。なお、ここでは、極小値Ws1の左側の領域を側面クラッド部151とし、極小値Ws2と極小値Ws3との間を側面クラッド部152とし、極小値Ws4の右側の領域を側面クラッド部153とする。
Further, since the region on the left side of the minimum value Ws1, the region between the minimum value Ws2 and the minimum value Ws3, and the region on the right side of the minimum value Ws4 are regions adjacent to both side surfaces, the
すなわち、屈折率分布Wは、少なくとも、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値がこの順で並ぶ領域を有していればよい。なお、この領域は、コア部の数に応じて繰り返し設けられ、図4のようにコア部14が2つである場合、屈折率分布Wは、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値のように、極大値と極小値が交互に並び、かつ極大値については第1の極大値と第2の極大値が交互に並ぶ領域を有していればよい。
That is, the refractive index distribution W should have at least a region in which the second maximum value, the minimum value, the first maximum value, the minimum value, and the second maximum value are arranged in this order. In addition, this area | region is repeatedly provided according to the number of core parts, and when there are two
また、これら複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ずれ量は、複数の極小値の平均値の10%以内に抑えられているのが好ましい。 The plurality of local minimum values, the plurality of first local maximum values, and the plurality of second local maximum values are preferably substantially the same as each other, but the local minimum values are the first local maximum value and the second local maximum value. As long as the relationship that the second maximum value is smaller than the first maximum value and the second maximum value is smaller than the first maximum value is maintained, the values may be slightly different from each other. In that case, it is preferable that the amount of deviation is suppressed within 10% of the average value of the plurality of minimum values.
また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Wは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。
The
以上のような屈折率分布Wに伴い、図3に示すコア層13には、長尺状の2つのコア部14と、これらのコア部14の各両側面に隣接する3つの側面クラッド部15とが形成されることとなる。
Along with the refractive index distribution W as described above, the
より詳しくは、図3に示すコア層13には、並列する2つのコア部141、142と、並列する3つの側面クラッド部151、152、153とが交互に設けられている。これにより、各コア部141、142は、それぞれ、各側面クラッド部151、152、153および各クラッド層11、12で囲まれた状態となる。ここで、これらのコア部141、142の屈折率は、側面クラッド部151、152、153の屈折率より高くなっているので、各コア部141、142の幅方向において光を閉じ込めることができる。なお、図3に示す各コア部14には密なドットを付し、各側面クラッド部15には疎なドットを付している。
More specifically, the
また、光導波路1では、コア部14の一方の端部に入射された光を、各コア部14の厚さ方向においても閉じ込めつつ他方に伝搬させることにより、コア部14の他方の端部から取り出すことができる。
Further, in the
また、図3に示すコア部14は、その横断面形状が正方形または長方形のような四角形(矩形)をなしているが、この形状は特に限定されず、例えば、真円、楕円形、長円形等の円形、三角形、五角形、六角形等の多角形であってもよい。 3 has a quadrangular shape (rectangular shape) such as a square or a rectangle, but this shape is not particularly limited. For example, a perfect circle, an ellipse, or an oval The shape may be a circle such as a triangle, a triangle, a pentagon, or a polygon such as a hexagon.
コア部14の幅および高さ(コア層13の厚さ)は、特に限定されないが、それぞれ、1〜200μm程度であるのが好ましく、5〜100μm程度であるのがより好ましく、20〜70μm程度であるのがさらに好ましい。 The width and height of the core part 14 (thickness of the core layer 13) are not particularly limited, but each is preferably about 1 to 200 μm, more preferably about 5 to 100 μm, and about 20 to 70 μm. More preferably.
ここで、4つの極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、それぞれ、隣接する側面クラッド部15における平均屈折率WA未満である。これにより、各コア部14と各側面クラッド部15との境界には、側面クラッド部15よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14からの光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。
Here, each of the four minimum values Ws1, Ws2, Ws3, and Ws4 is less than the average refractive index WA in the adjacent
また、屈折率分布Wは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、屈折率が階段状に変化したいわゆるステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。
Further, the refractive index distribution W changes continuously as a whole. Thereby, compared with an optical waveguide having a so-called step index type refractive index distribution in which the refractive index is changed stepwise, the effect of confining light in the
さらに、屈折率分布Wでは、極大値や極小値を有するとともに屈折率が連続的に変化しているため、光の速度が屈折率に反比例するという性質により、光の速度は中心から離れるにつれて速くなり、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送波形が崩れ難くなり、例えば伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍り(パルス信号の広がり)を抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。
Further, in the refractive index distribution W, since the refractive index has a maximum value and a minimum value, and the refractive index continuously changes, the speed of light increases with increasing distance from the center due to the property that the speed of light is inversely proportional to the refractive index. Therefore, it becomes difficult for a difference in propagation time for each optical path to occur. For this reason, the transmission waveform does not easily collapse, and for example, even when the transmission light includes a pulse signal, it is possible to suppress blunting of the pulse signal (spreading of the pulse signal). As a result, the
なお、屈折率分布Wにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Wの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。 Note that the refractive index continuously changing in the refractive index distribution W is a state in which the curve of the refractive index distribution W is rounded in each part and the curve is differentiable.
また、上記のような屈折率分布Wが形成されていることにより、ミラー17の形成精度の許容範囲を緩和することができる。これは、屈折率分布Wによれば、前述したようにコア部14のより中心部に近い領域を伝送光が集中的に伝搬するため、ミラー17における反射角のバラツキが抑えられることによる。このため、ミラー17の形成位置がずれたとしても、反射光に及ぼす影響が抑えられることとなり、受発光素子108との光結合損失の低下を抑制することができる。
Further, since the refractive index distribution W as described above is formed, the allowable range of the formation accuracy of the
また、本実施形態のように、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを作り込む場合、一般的には、屈折率差を形成する原理に伴う制約上、コア部14と側面クラッド部15との平均の屈折率差を十分に大きくすることができないが、本発明によれば、極大値と極小値とを交互に配置しているため、コア部14の平均の屈折率と側面クラッド部15の平均の屈折率との差が小さくても、コア部14に光を確実に閉じ込めることができる。このため、同一層からコア部14と側面クラッド部15とを形成する方法で製造される光導波路1において、本発明は特にその効果を発揮する。すなわち、本発明によれば、同一層にコア部14および側面クラッド部15を形成することができるので、製造が容易であるとともに寸法精度の高い光導波路1が得られる。
In addition, when the
また、屈折率分布Wのうち、極大値Wm2、Wm4は、図4に示すようにコア部141、142に位置しているが、コア部141、142の中でもその幅の中心部に位置しているのが好ましい。これにより、各コア部141、142では、伝送光がコア部141、142の幅の中心部に集まる確率が高くなり、相対的に側面クラッド部151、152、153に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。
Further, in the refractive index distribution W, the maximum values Wm2 and Wm4 are located in the
なお、コア部141の幅の中心部とは、極小値Ws1と極小値Ws2との間の中点から両側に、コア部141の幅の30%の距離の領域である。
The central portion of the width of the
また、極大値Wm2、Wm4の位置は、できればコア部141、142の幅の中心部に位置していることが望まれるが、必ずしも中心部でなくても、コア部141、142の縁部近傍(各側面クラッド部151、152、153との界面近傍)以外に位置していれば、特性の著しい低下は免れる。すなわち、コア部141、142の伝送損失をある程度抑えることができる。
In addition, it is desirable that the positions of the maximum values Wm2 and Wm4 be located in the center of the width of the
なお、コア部141の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部141の幅の5%の距離の領域である。
In addition, the edge part vicinity of the
一方、屈折率分布Wのうち、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、図4に示すように側面クラッド部151、152、153中に位置しているが、特に側面クラッド部151、152、153の縁部近傍(コア部141、142との界面近傍)以外に位置しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部141、142中の伝送光が、側面クラッド部151、152、153中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部141、142の伝送損失を低減することができる。
On the other hand, the maximum values Wm1, Wm3, and Wm5 of the refractive index distribution W are located in the
なお、側面クラッド部151、152、153の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、側面クラッド部151、152、153の幅の5%の距離の領域である。
Note that the vicinity of the edges of the
また、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、側面クラッド部151、152、153の幅の中央部に位置しており、しかも、極大値Wm1、Wm3、Wm5から隣接する極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4に向かっては、屈折率が連続的に低下しているのが好ましい。これにより、コア部141、142中の極大値Wm2、Wm4と、側面クラッド部151、152、153中の極大値Wm1、Wm3、Wm5との離間距離は、最大限確保され、しかも極大値Wm1、Wm3、Wm5近傍に光を確実に閉じ込めることができることになるため、前述したコア部141、142からの伝送光の漏出をより確実に抑制することができる。
In addition, the local maximum values Wm1, Wm3, Wm5 are located at the center of the width of the
さらに、極大値Wm1、Wm3、Wm5は、前述したコア部141、142に位置する極大値Wm2、Wm4よりも屈折率の小さいものであるので、コア部141、142のような高い光伝送性は有しないものの、周囲よりも屈折率が高くなっているため、わずかな光伝送性を有することとなる。その結果、側面クラッド部151、152、153は、コア部141、142から漏出した伝送光を閉じ込めることで、他のコア部への波及を防止する作用を有するものとなる。すなわち、極大値Wm1、Wm3、Wm5が存在することで、クロストークを抑制することができる。
Furthermore, the local maximum values Wm1, Wm3, and Wm5 are smaller in refractive index than the local maximum values Wm2 and Wm4 located in the
なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4は、前述したように、隣接する側面クラッド部15の平均屈折率WA未満であるが、その差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との差の3〜80%程度であるのが好ましく、5〜50%程度であるのがより好ましく、7〜20%程度であるのがさらに好ましい。これにより、側面クラッド部15は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と側面クラッド部15の平均屈折率WAとの差が前記下限値を下回る場合は、側面クラッド部15における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、側面クラッド部15における光伝送性が大き過ぎて、コア部141、142の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。
Note that the minimum values Ws1, Ws2, Ws3, and Ws4 are less than the average refractive index WA of the adjacent
また、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と極大値Wm1、Wm3、Wm5との差は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4と極大値Wm2、Wm4との差の6〜90%程度であるのが好ましく、10〜70%程度であるのがより好ましく、14〜40%程度であるのがさらに好ましい。これにより、側面クラッド部15における屈折率の高さとコア部14における屈折率の高さとのバランスが最適化され、光導波路1は、特に優れた光伝送性を有するとともにクロストークをより確実に抑制し得るものとなる。
The difference between the minimum values Ws1, Ws2, Ws3, Ws4 and the maximum values Wm1, Wm3, Wm5 is about 6 to 90% of the difference between the minimum values Ws1, Ws2, Ws3, Ws4 and the maximum values Wm2, Wm4. Is more preferable, about 10 to 70% is more preferable, and about 14 to 40% is further preferable. As a result, the balance between the refractive index height of the
なお、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4とコア部141、142中の極大値Wm2、Wm4との屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005〜0.07程度であるのが好ましく、0.007〜0.05程度であるのがより好ましく、0.01〜0.03程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部141、142中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。
The difference in refractive index between the minimum values Ws1, Ws2, Ws3, and Ws4 and the maximum values Wm2 and Wm4 in the
また、コア部141、142における屈折率分布Wは、図4(b)に示すように、横軸にコア層13の横断面の位置をとり、縦軸に屈折率をとったとき、極大値Wm2近傍および極大値Wm4近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば上に凸の略V字状(極大値近傍以外はほぼ直線状)をなしていてもよいが、好ましくは上に凸の略U字状(極大値近傍全体が丸みを帯びている)とされる。屈折率分布Wがこのような形状をなしていると、コア部141、142における光の閉じ込め作用がより顕著なものとなる。
Further, as shown in FIG. 4B, the refractive index distribution W in the
また、屈折率分布Wは、図4(b)に示すように、極小値Ws1近傍、極小値Ws2近傍、極小値Ws3近傍および極小値Ws4近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば下に凸の略V字状(極大値以外はほぼ直線状)をなしていてもよいが、好ましくは下に凸の略U字状(極大値近傍全体が丸みを帯びている)とされる。 Further, as shown in FIG. 4B, the refractive index distribution W has a shape in which the refractive index continuously changes in the vicinity of the minimum value Ws1, the vicinity of the minimum value Ws2, the vicinity of the minimum value Ws3, and the vicinity of the minimum value Ws4. If so, it may have a substantially convex V shape (substantially linear except for the maximum value), but preferably has a substantially U shape convex downward (the entire vicinity of the maximum value is rounded). It is said.
また、上述したような屈折率分布Wによれば、伝送損失の低減、パルス信号の鈍りの低減、クロストークの抑制等の効果を得ることができるが、本発明者は、これらの効果が側面クラッド部の平均幅WCL、あるいは、コア部の平均幅WCOと側面クラッド部の平均幅WCLとの比に大きな影響を受けることを見出した。そして、これらの因子が所定の範囲内にあるとき、前述の効果がより顕著で確実なものになることを見出した。 Further, according to the refractive index distribution W as described above, it is possible to obtain effects such as transmission loss reduction, pulse signal dullness reduction, crosstalk suppression, and the like. It has been found that the average width WCL of the cladding part or the ratio of the average width WCO of the core part and the average width WCL of the side cladding part is greatly influenced. And when these factors were in the predetermined range, it discovered that the above-mentioned effect became more remarkable and reliable.
すなわち本発明では、コア部14の平均幅WCOと側面クラッド部15の平均幅WCLとの比(WCO/WCL)は、0.1〜10の範囲であることが好ましい。コア部14と側面クラッド部15との間で幅の比を最適化することにより、前述した各効果をそれぞれ高度化することができる。したがって、例えばWCO/WCLが前記下限値未満である場合、コア部14の平均幅が狭くなり過ぎるので、クロストークの低減が図られるものの、伝送損失が大きくなり易く、また光導波路1の小型化が妨げられるおそれがある。また、WCO/WCLが前記上限値超である場合、側面クラッド部15の平均幅が狭くなり過ぎるので、クロストークが増加し、さらにはコア部14の平均幅が広くなり過ぎるため、パルス信号の鈍りが増大するおそれがある。
That is, in the present invention, the ratio (WCO / WCL) between the average width WCO of the
なお、WCO/WCLは、より好ましくは0.1〜5程度とされ、さらに好ましくは0.2〜4程度とされる。 The WCO / WCL is more preferably about 0.1 to 5, and further preferably about 0.2 to 4.
また、側面クラッド部15の平均幅WCLは5〜250μmの範囲内にあることが好ましい。これにより、前述した各効果をそれぞれ高度化することができる。したがって、例えばWCLが前記下限値未満である場合、側面クラッド部15の平均幅が狭くなり過ぎるので、パルス信号の鈍りが増大したり、クロストークが増加したりするおそれがある。また、WCLが前記上限値超である場合、屈折率分布Wの形状を最適化することができず、伝送損失が大きくなるおそれがある。さらに、光導波路1の小型化が困難になるおそれがある。
Further, the average width WCL of the
なお、WCLは、好ましくは10〜200μmの範囲内にあるとされ、より好ましくは10〜120μmの範囲内にあるとされる。 The WCL is preferably in the range of 10 to 200 μm, and more preferably in the range of 10 to 120 μm.
図5は、光導波路1のコア部141に光を入射したときの出射光の強度分布を示す図である。この強度分布は、光導波路1の複数のコア部141、142のうち、コア部141の端部に光を入射したときの他方の端部における出射光の強度分布である。
FIG. 5 is a diagram showing the intensity distribution of the emitted light when light enters the
コア部141に光を入射すると、出射光の強度は、コア部141の出射端の中心部において最も大きくなる。そして、コア部141の中心部から離れるにつれて出射光の強度は小さくなるが、光導波路1では、コア部141に隣り合うコア部142において極小値をとるような強度分布が得られる。このようにコア部142の位置に出射光の強度分布の極小値が一致することで、コア部142におけるクロストークは極めて小さく抑えられることとなる。その結果、多チャンネル化および高密度化によってもクロストークの発生を確実に防止し得る光導波路1が得られる。
When light is incident on the
なお、従来の光導波路では、光を入射するコア部に隣り合うコア部において出射光の強度分布が極小値をとることはなく、むしろ極大値をとっていたので、クロストークの問題が発生していた。これに対し、上述したような本発明に係る光導波路における出射光の強度分布は、クロストークを抑制する上で極めて有用なものである。 In the conventional optical waveguide, the intensity distribution of the emitted light does not take the minimum value in the core portion adjacent to the core portion where the light is incident, but rather takes the maximum value, which causes a crosstalk problem. It was. On the other hand, the intensity distribution of the emitted light in the optical waveguide according to the present invention as described above is extremely useful for suppressing crosstalk.
本発明に係る光導波路においてこのような強度分布が得られる詳細な理由は明らかでないものの、理由の1つとしては、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4を有し、かつ、屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化している、という特徴的な屈折率分布Wが、従来であればコア部142において極大値を有していた出射光の強度分布を、コア部142に隣接する側面クラッド部153等にシフトさせていることが挙げられる。すなわち、この強度分布のシフトにより、クロストークが確実に抑制されているのである。
Although the detailed reason why such an intensity distribution is obtained in the optical waveguide according to the present invention is not clear, one reason is that the optical waveguide has the minimum values Ws1, Ws2, Ws3, Ws4 and the entire refractive index distribution W. The characteristic refractive index distribution W in which the refractive index continuously changes at the
なお、出射光の強度分布が側面クラッド部15にシフトしたとしても、受光素子等はコア部14の位置に合わせて配置されているため、クロストークを招くおそれはほとんどなく、光通信の品質を劣化させることはない。
Even if the intensity distribution of the emitted light is shifted to the side clad
また、上記のような出射光の強度分布は、本発明に係る光導波路において観測される確率は高いものの、必ず観測されるわけではなく、入射光のNA(numerical aperture)やコア部141の横断面積、コア部141、142のピッチ等によっては、明瞭な極小値が観測されなかったり、極小値の位置がコア部142から外れたりする場合もあるが、このような場合でもクロストークは十分に抑制される。
The intensity distribution of the emitted light as described above is not necessarily observed although the probability of being observed in the optical waveguide according to the present invention is high, and the NA (numerical aperture) of the incident light and the crossing of the
また、図4(b)に示す屈折率分布Wにおいて、側面クラッド部15における平均屈折率をWAとしたとき、極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA以上である部分の幅をa[μm]とし、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が連続して平均屈折率WA未満である部分の幅をb[μm]とする。このとき、bは、0.01a〜1.2a程度であるのが好ましく、0.03a〜1a程度であるのがより好ましく、0.1a〜0.8a程度であるのがさらに好ましい。これにより、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が、上述した作用・効果を奏するのに必要かつ十分なものとなる。すなわち、bが前記下限値を下回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が狭過ぎるため、コア部141、142に光を閉じ込める作用が低下するおそれがある。一方、bが前記上限値を上回っている場合は、極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4の実質的な幅が広過ぎて、その分、コア部141、142の幅やピッチが制限され、伝送効率が低下したり多チャンネル化および高密度化が妨げられるおそれがある。
Further, in the refractive index distribution W shown in FIG. 4B, when the average refractive index in the
なお、側面クラッド部15における平均屈折率WAは、極大値Wm1と極小値Ws1との中点で近似することができる。
The average refractive index WA in the
また、各極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5は、それぞれ前述したように上に凸の略U字状であってもよいが、頂部近傍において屈折率が実質的に変化していない平坦部を含んでいてもよい。屈折率分布Wが各極大値の頂部近傍においてこのような形状をなしていても、本発明に係る光導波路は前述したような作用・効果を奏するものとなる。ここで、屈折率が実質的に変化していない平坦部とは、屈折率の変動が0.001未満である領域であって、その両側では屈折率が連続的に低下している領域のことをいう。 Each maximum value Wm1, Wm2, Wm3, Wm4, and Wm5 may be substantially U-shaped convex upward as described above, but the refractive index is not substantially changed near the top. May be included. Even if the refractive index distribution W has such a shape in the vicinity of the top of each local maximum value, the optical waveguide according to the present invention exhibits the above-described functions and effects. Here, the flat portion where the refractive index does not substantially change is a region where the refractive index fluctuation is less than 0.001, and the refractive index continuously decreases on both sides thereof. Say.
平坦部の長さは、特に限定されないが、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下とされる。 Although the length of a flat part is not specifically limited, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 20 micrometers or less, More preferably, you may be 10 micrometers or less.
また、本実施形態では、コア層13に2つのコア部14を有する場合について説明したが、コア部14の数は特に限定されず、3つ以上であってもよい。
Moreover, although this embodiment demonstrated the case where the
例えばコア部14の数が3、4、5・・・と増える場合には、それに応じて、屈折率分布Wが有する極小値の数は、6、8、10・・・と増えることとなる。
For example, when the number of
上述したようなコア層13の構成材料(主材料)は、上記の屈折率差が生じる材料であれば特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂のような各種樹脂材料の他、石英ガラス、ホウケイ酸ガラスのようなガラス材料等を用いることができる。なお、樹脂材料は、異なる組成のものを組み合わせた複合材料であってもよい。
The constituent material (main material) of the
また、これらの中でも特に(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂が好ましく、(メタ)アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。これらの樹脂材料は、光の透過性が高いことから、特に伝送損失の小さい光導波路1が得られる。
Among these, (meth) acrylic resins, epoxy resins, silicone resins, polyimide resins, fluorine resins, or polyolefin resins are preferable, and (meth) acrylic resins or epoxy resins are more preferable. Since these resin materials have high light transmittance, the
((クラッド層))
クラッド層11および12は、それぞれ、コア層13の下部および上部に位置するクラッド部を構成するものである。
((Clad layer))
The clad layers 11 and 12 constitute clad portions located at the lower and upper portions of the
クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さ(各コア部14の平均高さ)の0.05〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.1〜1.25倍程度であるのがより好ましく、具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、特に限定されないが、それぞれ、通常、1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に大型化(厚膜化)するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が好適に発揮される。
The average thickness of the cladding layers 11 and 12 is preferably about 0.05 to 1.5 times the average thickness of the core layer 13 (the average height of each core portion 14), and 0.1 to 1. More preferably, the average thickness of the
また、クラッド層11および12の構成材料としては、例えば、前述したコア層13の構成材料と同様の材料を用いることができるが、特に(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、またはポリオレフィン系樹脂が好ましく、(メタ)アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂がより好ましい。
Further, as the constituent material of the cladding layers 11 and 12, for example, the same material as the constituent material of the
また、コア層13の構成材料およびクラッド層11、12の構成材料を選択する場合、両者の間の屈折率差を考慮して材料を選択すればよい。具体的には、コア部14において光を確実に閉じ込めるため、コア部14の構成材料の屈折率が十分に大きくなるように材料を選択すればよい。これにより、光導波路1の厚さ方向において十分な屈折率差が得られ、各コア部14からクラッド層11、12に光が漏れ出るのを抑制することができる。
Further, when selecting the constituent material of the
なお、光の減衰を抑制する観点からは、コア層13の構成材料とクラッド層11、12の構成材料との密着性(親和性)が高いことも重要である。
From the viewpoint of suppressing light attenuation, it is also important that the adhesiveness (affinity) between the constituent material of the
一方、光導波路1の厚さ方向の屈折率分布Tは、コア部14の屈折率が高く、クラッド層11、12の屈折率が低ければその形状は特に限定されない(例えば、ステップインデックス型、屈折率が連続的に変化したいわゆるグレーデッドインデックス型でもよい。)が、コア部14に極大値を有し、コア部14とクラッド層11、12との境界付近に極小値を有しているのが好ましい。なお、「屈折率が連続的に変化」とは、前述した屈折率分布Wと同様、屈折率分布Tの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。
On the other hand, the refractive index distribution T in the thickness direction of the
図6(a)、(c)は、図3に示すX−X線断面図のコア部を中心とする一部を切り出した図であり、図6(b)、(d)は、X−X線断面図のコア部の幅方向の中心を通過する中心線C2上の屈折率分布Tの一例を模式的に示す図である。なお、図6(b)、(d)は、横軸に屈折率をとり、縦軸に中心線C2上の位置をとったときの屈折率分布Tの一例を示す図である。 6 (a) and 6 (c) are diagrams in which a part centered on the core portion of the cross-sectional view taken along the line XX shown in FIG. 3 is cut out, and FIGS. It is a figure which shows typically an example of the refractive index distribution T on the centerline C2 which passes the center of the width direction of the core part of X-ray sectional drawing. 6B and 6D are diagrams showing an example of the refractive index distribution T when the horizontal axis indicates the refractive index and the vertical axis indicates the position on the center line C2.
前述したように、光導波路1は、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12に分かれているが、その横断面のうち、図6(b)に示すコア部14における厚さ方向の屈折率分布Tは、その中心部に位置する極大値Tmと、極大値Tmの両側にそれぞれ位置する極小値Ts1、Ts2を有している。なお、極大値Tmの下側に位置する極小値をTs1とし、上側に位置する極大値をTs2とする。
As described above, the
光導波路1では、図6(b)に示すように、極小値Ts1と極小値Ts2との間が極大値Tmを含んでいることから、この領域がコア部14となる。
In the
一方、極小値Ts1の下側の領域がクラッド層11となり、極小値Ts2の上側の領域がクラッド層12となる。
On the other hand, the region below the minimum value Ts1 becomes the
すなわち、屈折率分布Tは、少なくとも、極小値、極大値、極小値がこの順で並ぶ領域を有していればよい。 That is, the refractive index distribution T only needs to have at least a region in which the minimum value, the maximum value, and the minimum value are arranged in this order.
なお、この領域は、コア層13が積層される数に応じて繰り返し設けられ、例えばクラッド層を介してコア層13を2層設けた場合、屈折率分布Tでは、極小値と極大値が交互に並ぶこととなる。この場合、極大値については、相対的に大きい第1の極大値と、相対的に小さい第2の極大値が、交互に並んでいるのが好ましい。すなわち、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値、極小値、第1の極大値・・・のように並んでいればよい。
This region is repeatedly provided according to the number of core layers 13 stacked. For example, when two
また、これらの複数の極小値、複数の第1の極大値、および複数の第2の極大値は、それぞれ互いにほぼ同じ値であることが好ましいが、極小値は第1の極大値や第2の極大値より小さく、第2の極大値は第1の極大値より小さいという関係が保持されれば、互いの値が多少ずれていても差し支えない。その場合、ズレ量は、複数の極小値の平均値の10%以内に抑えられているのが好ましい。 The plurality of local minimum values, the plurality of first local maximum values, and the plurality of second local maximum values are preferably substantially the same as each other, but the local minimum values are the first local maximum value and the second local maximum value. If the relationship that the second maximum value is smaller than the first maximum value and the second maximum value is smaller than the first maximum value is maintained, the values may be slightly different from each other. In that case, it is preferable that the amount of deviation is suppressed within 10% of the average value of a plurality of minimum values.
また、光導波路1は、細長い帯状をなしており、上記のような屈折率分布Tは、光導波路1の長手方向全体においてほぼ同じ分布が維持されている。
Further, the
ここで、極小値Ts1は、クラッド層11における平均屈折率TA未満であり、極小値Ts2は、クラッド層12における平均屈折率TA未満である。これにより、コア部14と各クラッド層11、12との間に、各クラッド層11、12よりもさらに屈折率の小さい領域が存在することとなる。その結果、各極小値Ts1、Ts2の近傍では、より急峻な屈折率の勾配が形成され、これにより、各コア部14から各クラッド層11、12への光の漏れが抑制されるため、伝送損失の小さい光導波路1が得られる。
Here, the minimum value Ts1 is less than the average refractive index TA in the
また、屈折率分布Tは、全体で屈折率が連続的に変化している。これにより、ステップインデックス型の屈折率分布を有する光導波路に比べ、コア部14に光を閉じ込める作用がより増強されるため、伝送損失のさらなる低減が図られる。
Further, the refractive index distribution T continuously changes in refractive index as a whole. Thereby, compared with an optical waveguide having a step index type refractive index distribution, the effect of confining light in the
さらに、屈折率分布Tでは、上述したような各極小値Ts1、Ts2を有するとともに屈折率が連続的に変化しているため、光の速度が屈折率に反比例するという性質により、光の速度は中心から離れるにつれて速くなり、光路ごとの伝搬時間に差が生じ難くなる。このため、伝送波形が崩れ難くなり、例えば伝送光にパルス信号が含まれている場合でも、パルス信号の鈍り(パルス信号の広がり)を抑制することができる。その結果、光通信の品質をより高め得る光導波路1が得られる。
Further, in the refractive index distribution T, since the refractive index continuously changes while having the above-described minimum values Ts1 and Ts2, the speed of light is inversely proportional to the refractive index. The distance from the center increases and the difference in propagation time for each optical path hardly occurs. For this reason, the transmission waveform does not easily collapse, and for example, even when the transmission light includes a pulse signal, it is possible to suppress blunting of the pulse signal (spreading of the pulse signal). As a result, the
なお、屈折率分布Tにおいて屈折率が連続的に変化しているとは、屈折率分布Tの曲線が各部で丸みを帯びており、この曲線が微分可能なものであるという状態である。 Note that the refractive index continuously changing in the refractive index distribution T is a state in which the curve of the refractive index distribution T is rounded at each part and the curve is differentiable.
また、屈折率分布Tのうち、極大値Tmは、図6(b)に示すようにコア部14に位置しているが、コア部14の中でもその厚さの中心部に位置している。これにより、コア部14では、伝送光がコア部14の厚さの中心部に集まる確率が高くなり、相対的に各クラッド層11、12に漏れ出る確率が低くなる。その結果、コア部141、142の伝送損失をより低減することができる。
Further, in the refractive index distribution T, the maximum value Tm is located in the
なお、コア部14の厚さの中心部とは、極小値Ts1と極小値Ts2との間の中点から両側に、コア部14の厚さの30%の距離の領域である。
The central portion of the thickness of the
また、極大値Tmの位置は、できればコア部14の厚さの中心部に位置していることが望まれるが、必ずしも中心部でなくても、コア部14の縁部近傍(各クラッド層11、12との界面近傍)以外に位置していればよい。これにより、コア部14の伝送損失をある程度抑えることができる。
In addition, it is desirable that the position of the maximum value Tm be located in the center of the thickness of the
なお、コア部14の縁部近傍とは、前述した縁部から内側に、コア部14の厚さの5%の距離の領域である。
In addition, the edge part vicinity of the
一方、屈折率分布Tでは、各クラッド層11、12において、コア部14との界面近傍以外で最も高く、コア部14との界面近傍で最も低くなるよう屈折率が変化している。これにより、コア部14中の極大値Tmと、各クラッド層11、12中における屈折率の高い領域とが、互いに十分に離間したものとなるため、コア部14中の伝送光が、各クラッド層11、12中に漏れ出る確率を十分に低くすることができる。その結果、コア部14の伝送損失を低減することができる。
On the other hand, in the refractive index distribution T, the refractive index of each
なお、各クラッド層11、12におけるコア部14との界面近傍とは、この界面から内側に、各クラッド層11、12の厚さの5%の距離の領域である。
Note that the vicinity of the interface with the
また、各クラッド層11、12における平均屈折率TAは、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12における最大値との中点で近似することができる。 Further, the average refractive index TA in each of the cladding layers 11 and 12 can be approximated at the midpoint between the minimum values Ts1 and Ts2 and the maximum value in each of the cladding layers 11 and 12.
また、前述したように複数のコア層13を積層する場合には、相対的に大きい第1の極大値がコア部中に位置し、相対的に小さい第2の極大値はクラッド層中に位置することとなる。この場合、第2の極大値は、クラッド層の厚さの中央部に位置しているのが好ましい。これにより、コア部中に位置する第1の極大値と、クラッド層中に位置する第2の極大値との離間距離が、最大限確保され、しかもコア部から漏れ出た光が、他のコア部に侵入しないよう、クラッド層中に閉じ込めることができるようになる。これにより、複数のコア層13を積層した場合でも、層間におけるクロストークを確実に抑制することができる。
As described above, when the plurality of core layers 13 are stacked, the relatively large first maximum value is located in the core portion, and the relatively small second maximum value is located in the cladding layer. Will be. In this case, it is preferable that the second maximum value is located at the center of the thickness of the cladding layer. Thereby, the separation distance between the first maximum value located in the core portion and the second maximum value located in the cladding layer is ensured to the maximum, and the light leaking from the core portion can be It becomes possible to confine in the clad layer so as not to enter the core portion. Thereby, even when the
また、極小値Ts1、Ts2は、前述したように、各クラッド層11、12の平均屈折率TA未満であるが、両者の差は、所定の範囲内であることが望まれる。具体的には、極小値Ts1、Ts2とクラッド層11、12の平均屈折率TAとの差は、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの差の3〜80%程度であるのが好ましく、5〜50%程度であるのがより好ましく、7〜30%程度であるのがさらに好ましい。これにより、各クラッド層11、12は、クロストークを抑制するのに必要かつ十分な光伝送性を有するものとなる。なお、極小値Ts1、Ts2と各クラッド層11、12の平均屈折率TAとの差が前記下限値を下回る場合は、各クラッド層11、12における光伝送性が小さ過ぎて、クロストークを十分に抑制することができないおそれがあり、前記上限値を上回る場合には、各クラッド層11、12における光伝送性が大き過ぎて、コア部14の光伝送性に悪影響を及ぼすおそれがある。
Further, as described above, the minimum values Ts1 and Ts2 are less than the average refractive index TA of each of the cladding layers 11 and 12, but it is desirable that the difference between them is within a predetermined range. Specifically, the difference between the minimum values Ts1 and Ts2 and the average refractive index TA of the cladding layers 11 and 12 is about 3 to 80% of the difference between the minimum values Ts1 and Ts2 and the maximum value Tm in the
また、極小値Ts1、Ts2とコア部14中の極大値Tmとの屈折率差は、できるだけ大きい方がよいが、0.005〜0.07程度であるのが好ましく、0.007〜0.05程度であるのがより好ましく、0.01〜0.05程度であるのがさらに好ましい。これにより、上述した屈折率差が、コア部14中に光を閉じ込めるのに必要かつ十分なものとなる。
Further, the difference in refractive index between the minimum values Ts1 and Ts2 and the maximum value Tm in the
また、コア部14における屈折率分布Tは、横軸にコア部14の横断面の位置をとり、縦軸に屈折率をとったとき、極大値Tm近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば上に凸の略V字状(極大値以外はほぼ直線状)をなしていてもよいが、好ましくは上に凸の略U字状(極大値近傍全体が丸みを帯びている)とされる。屈折率分布Tがこのような形状をなしていると、コア部14における光の閉じ込め作用がより顕著なものとなる。
Further, in the refractive index distribution T in the
また、屈折率分布Tは、極小値Ts1近傍および極小値Ts2近傍において、屈折率が連続的に変化している形状であれば下に凸の略V字状(極大値以外はほぼ直線状)をなしていてもよいが、好ましくは下に凸の略U字状(極大値近傍全体が丸みを帯びている)とされる。 Further, the refractive index distribution T has a substantially V-shaped convex shape (substantially linear except for the maximum value) if the refractive index continuously changes in the vicinity of the minimum value Ts1 and the minimum value Ts2. However, it preferably has a substantially U-shape projecting downward (the entire vicinity of the maximum value is rounded).
なお、前述したように、屈折率分布Tは、図6(d)に示すような、いわゆるグレーデッドインデックス型の分布であってもよい。図6(d)に示す屈折率分布Tは、コア部14に極大値Tmを有し、クラッド層11、12では極大値Tmより小さい一定の屈折率を有している。
As described above, the refractive index distribution T may be a so-called graded index type distribution as shown in FIG. The refractive index distribution T shown in FIG. 6D has a maximum value Tm in the
((ミラー))
光導波路1には、コア部14の途中またはコア部14の延長線上にミラー(光路変換部)17が設けられている。
((mirror))
In the
図7(a)は、図3に示す光導波路1のコア部14の途中にミラーを形成した例を示す斜視図である。
FIG. 7A is a perspective view showing an example in which a mirror is formed in the middle of the
図7(a)に示す光導波路1には、コア部14を厚さ方向に一部貫通するように、横断面がV字状をなす凹部(空孔)170がコア部14の途中に形成されている。そして、ミラー17は、この凹部170の側面(内面)の一部で構成されている。この側面は、平面状であり、かつ、コア部14の軸線に対して45°傾斜している。このミラー17にコア部14を伝搬してきた光が反射され、図7の下方に光路が90°変換される。また、図7の下方から伝搬してきた光は、ミラー17で反射され、コア部14に入射される。すなわち、ミラー17は、コア部14を伝搬する光の光路を変換する光路変換機能を有する。
In the
なお、ミラー17には、クラッド層11、コア層13およびクラッド層12の各加工面が露出しており、ミラー17のほぼ中心部には、コア部14の加工面が位置することとなる。ミラー17は、コア部14のみを横断するように設けられていてもよいが、このように各クラッド層11、12およびコア部14の周辺の側面クラッド部15を横断するように設けられているのが好ましい。これにより、ミラー17において反射に寄与する有効面積が広くなり、ミラー損失が抑えられる。
The
また、必要に応じて、ミラー17を構成する加工面の表面に反射膜が成膜されていてもよい。この反射膜としては、例えば、Au、Ag、Al等の金属膜や、コア部14より低屈折率の材料の膜等が挙げられる。
Further, as necessary, a reflective film may be formed on the surface of the processed surface constituting the
金属膜の形成方法としては、例えば、真空蒸着のような物理蒸着法、CVDのような化学蒸着法、めっき法等が挙げられる。 Examples of the metal film forming method include physical vapor deposition such as vacuum vapor deposition, chemical vapor deposition such as CVD, and plating.
一方、図7(b)は、図3に示す光導波路1のコア部14の延長線上にミラーを形成した例を示す斜視図である。
On the other hand, FIG. 7B is a perspective view showing an example in which a mirror is formed on the extension line of the
図7(b)に示すコア層13では、その一方の端部において、コア部14がコア層13の端面まで到達せず、途中で途切れている。そして、コア部14が途切れた箇所からコア層13の端面までは側面クラッド部15が形成されている。なお、このコア部14が途切れた部分およびそれに対応する各クラッド層11、12の部分を合わせてコア部欠損部16という。
In the
図7(b)に示すミラー17は、このコア部欠損部16中に形成されている。これにより、ミラー17にはクラッド層11、コア層13およびクラッド層12の加工面が露出することになるが、このうち、コア層13の加工面には、側面クラッド部15の加工面のみが露出することとなる。一方、前述の図7(a)の場合、コア層13の加工面には、コア部14の加工面と側面クラッド部15の加工面の双方が露出しているので、図7(a)に示すミラー17と図7(b)に示すミラー17とはこの点で相違している。
The
図7(b)に示すミラー17は、上記のように単一材料のみで構成された面であるため、均一な平滑性を有するものとなる。これは、加工によりミラー17を形成する際、単一材料を加工することになるため、加工レートが面内で均一になるからである。このため、ミラー17は、優れた反射特性を有するものとなり、ミラー損失の小さいものとなる。
Since the
また、コア部欠損部16中のコア層13は、コア部14から離れているため、後に詳述するモノマー由来の物質の濃度ムラを含んでいない。このため、厚さ方向はもちろん、幅方向における反射特性についてもバラツキが少なくなり、ミラー17は特に優れた反射特性を有するものとなる。
Moreover, since the
なお、本発明では、前述したように、光導波路1の隣り合う2つのコア部14の間で、ミラー17の形成位置が互いにコア部14の長手方向にずれた位置になっている。このため、位置がずれていない場合に比べて、隣り合うミラー17の離間距離を長くすることができ、ミラー17の形成が容易になる。しかも、ミラー17をある程度大きく形成したとしても、隣り合うミラー17に対して影響を及ぼし難いため、ミラー17を大きく形成することにより、ミラー17の中心部の加工精度が高めることができる。その結果、光結合効率をより高めることができる。
In the present invention, as described above, between the two
また、光導波路1は、前述したようにクロストークを確実に抑制し得るものである。このため、本発明によれば、コア部14間の離間距離を小さくして高集積化した場合でも、高品質な光通信を実現可能な光導波路1が得られる。そして、小型で高性能な光導波路モジュール10が得られる。
Further, the
((支持フィルム))
光導波路1の下面には、必要に応じて、図3に示すような支持フィルム2を積層するようにしてもよい。
((Supporting film))
A
支持フィルム2は、光導波路1の下面を支持して、保護・補強する。これにより、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。
The
このような支持フィルム2の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、支持フィルム2として金属箔が好ましく用いられる。
Examples of the constituent material of the
また、支持フィルム2の平均厚さは、特に限定されないが、5〜200μm程度であるのが好ましく、10〜100μm程度であるのがより好ましい。これにより、支持フィルム2は、適度な剛性を有するものとなるため、光導波路1を確実に支持するとともに、光導波路1の柔軟性を阻害し難くなる。
Moreover, although the average thickness of the
なお、支持フィルム2と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。
The
このうち、接着層としては、例えば、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤、シリコーン系接着剤の他、各種ホットメルト接着剤(ポリエステル系、変性オレフィン系)等が挙げられる。また、特に耐熱性の高いものとして、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリイミドアミドエーテル、ポリエステルイミド、ポリイミドエーテル等の熱可塑性ポリイミド接着剤が好ましく用いられる。このような材料で構成された接着層は、比較的柔軟性に富んでいるため、光導波路1の形状が変化したとしても、その変化に自在に追従することができる。その結果、形状変化に伴う剥離を確実に防止し得るものとなる。
Among these, as an adhesive layer, various hot-melt-adhesives (polyester type | system | group, modified olefin type | system | group) etc. are mentioned other than an acrylic adhesive, a urethane type adhesive agent, a silicone type adhesive agent, for example. Moreover, as a thing with especially high heat resistance, thermoplastic polyimide adhesive agents, such as a polyimide, a polyimide amide, a polyimide amide ether, a polyester imide, a polyimide ether, are used preferably. Since the adhesive layer made of such a material is relatively flexible, even if the shape of the
このような接着層の平均厚さは、特に限定されないが、1〜100μm程度であるのが好ましく、5〜60μm程度であるのがより好ましい。 The average thickness of such an adhesive layer is not particularly limited, but is preferably about 1 to 100 μm, and more preferably about 5 to 60 μm.
((カバーフィルム))
一方、光導波路1の上面には、必要に応じて、図3に示すようなカバーフィルム3を積層するようにしてもよい。
((Cover film))
On the other hand, you may make it laminate | stack the
カバーフィルム3は、光導波路1を保護するとともに、光導波路1を上方から支持するものである。これにより、汚れや傷などから光導波路1が保護され、光導波路1の信頼性および機械的特性を高めることができる。
The
このようなカバーフィルム3の構成材料としては、支持フィルム2の構成材料と同様であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミド等の各種樹脂材料の他、銅、アルミニウム、銀等の金属材料が挙げられる。なお、金属材料の場合は、カバーフィルム3として金属箔が好ましく用いられる。また、光導波路1の途中にミラーを形成した場合には、カバーフィルム3を光が透過することになるので、カバーフィルム3の構成材料は実質的に透明であるのが好ましい。
As a constituent material of such a
また、カバーフィルム3の平均厚さは、特に限定されないが、3〜50μm程度であるのが好ましく、5〜30μm程度であるのがより好ましい。カバーフィルム3の厚さを前記範囲内とすることにより、カバーフィルム3は光通信において十分な光透過率を有するとともに、光導波路1を確実に保護するために十分な剛性を有するものとなる。
Moreover, although the average thickness of the
なお、カバーフィルム3と光導波路1との間は接着または接合されているが、その方法としては、熱圧着、接着剤または粘着剤による接着等が挙げられる。このうち、接着剤としては前述したようなものを用いることができる。
Note that the
≪第2実施形態≫
次に、本発明の光導波路モジュールの第2実施形態について説明する。
<< Second Embodiment >>
Next, a second embodiment of the optical waveguide module of the present invention will be described.
図8は、本発明の光導波路モジュールの第2実施形態を示す(一部透過して示す)斜視図である。 FIG. 8 is a perspective view showing a second embodiment of the optical waveguide module of the present invention (partially shown).
以下、第2実施形態について説明するが、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
第2実施形態は、光導波路1の形状が異なる以外、第1実施形態と同様である。
Hereinafter, although 2nd Embodiment is described, it demonstrates centering around difference with 1st Embodiment, The description is abbreviate | omitted about the same matter.
The second embodiment is the same as the first embodiment except that the shape of the
図8に示す光導波路1は、図1に比べてコア部14以外の余白部分を広げ、全体の幅が多心光コネクター101の長さと同程度になっている。そして、光導波路1には、多心光コネクター101に設けられた固定用孔105の位置に対応したアライメント用孔114が形成されている。
The
多心光コネクター101に対して光導波路1を固定するには、まず、アライメント用孔114と固定用孔105とが一致するように、光導波路1を上面101aに載置する。次いで、アライメント用孔114から固定用孔105にかけて、ガイドピン107を挿入する。これにより、多心光コネクター101に対する光導波路1の固定位置を容易かつ厳密に合わせることができ、光導波路1と受発光素子108とを正確に接続することができる。
In order to fix the
なお、光導波路1の幅は多心光コネクター101の長さと同等ではあっても、それ以上であってもよい。
The width of the
≪第3実施形態≫
次に、本発明の光導波路モジュールの第3実施形態について説明する。
«Third embodiment»
Next, a third embodiment of the optical waveguide module of the present invention will be described.
図9は、本発明の光導波路モジュールの第3実施形態を示す(一部透過して示す)斜視図である。 FIG. 9 is a perspective view showing a third embodiment of the optical waveguide module of the present invention (partially shown).
以下、第3実施形態について説明するが、第2実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
第3実施形態は、光導波路1の配置等が異なる以外、第2実施形態と同様である。
Hereinafter, the third embodiment will be described, but the description will focus on the differences from the second embodiment, and the description of the same matters will be omitted.
The third embodiment is the same as the second embodiment except that the arrangement of the
図9に示す光導波路1は、多心光コネクター101の下面101bに固定されている。そして、多心光コネクター101に設けられた固定用孔105と光導波路1に設けられたアライメント用孔114とが一致するよう設けられている。
The
また、光導波路1の下面には、電気回路基板115が積層されている。すなわち、光導波路1は、多心光コネクター101と電気回路基板115とで挟持されている。そして電気回路基板115には、固定用孔105およびアライメント用孔114の位置と一致するようにアライメント用孔116が設けられている。
An
また、電気回路基板115の上面には凹部が形成されており、その凹部に受発光素子108が埋入されている。電気回路基板115には図示しない電気回路が形成されており、この電気回路と受発光素子108とが電気的に接続されている。
Further, a recess is formed on the upper surface of the
多心光コネクター101、光導波路1および電気回路基板115を固定するには、まず、固定用孔105からアライメント用孔116にかけて、ガイドピン107を挿入する。これにより、各部の固定位置を容易かつ厳密に合わせることができ、光導波路1と受発光素子108とを正確に接続することができる。
In order to fix the multi-fiber
なお、アライメント用孔116の形成位置は、受発光素子108の受発光部109の位置を基準にして決定されている。同様に、アライメント用孔114の形成位置は、光導波路1のミラー17の位置を基準にして決定されている。これにより、アライメント用孔114、116にガイドピン107を挿入するだけで、容易かつ正確に光軸合わせを行うことができる。
The formation position of the
≪第4実施形態≫
次に、本発明の光導波路モジュールの第4実施形態について説明する。
<< Fourth Embodiment >>
Next, a fourth embodiment of the optical waveguide module of the present invention will be described.
図10は、本発明の光導波路モジュールの第4実施形態を示す(一部透過して示す)平面図である。 FIG. 10 is a plan view showing a fourth embodiment of the optical waveguide module of the present invention (partially shown).
以下、第4実施形態について説明するが、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although the fourth embodiment will be described, the description will focus on the differences from the first embodiment, and description of similar matters will be omitted.
第4実施形態は、受発光素子108の配置等が異なる以外、第1実施形態と同様である。
The fourth embodiment is the same as the first embodiment except that the arrangement and the like of the light emitting / receiving
図10に示す2つの受発光素子108は、受発光部109のX方向の位置が互いにずれるように配置されている。具体的には、一方の受発光素子108における受発光部109同士の間隔の半分の長さだけ、他方の受発光素子108の位置がX方向にずれている。
The two light emitting / receiving
また、このように2つの受発光素子108の配置を変更したのに合わせて、多心光コネクター101に設けられた光路接続部104の配置も変更されている。
In addition, in accordance with the change in the arrangement of the two light receiving and emitting
受発光素子108および光路接続部104の配置を上記のように変更したことにより、光導波路1を斜めに配置する必要がなくなるので、光導波路1の組み付けが容易になる。そして、特殊なコネクター等を用いることなく単に2つの受発光素子108をずらして配置するのみでこれを実現することができるので、光導波路モジュール10を容易に小型化することができる。
Since the arrangement of the light receiving / emitting
≪第5実施形態≫
次に、本発明の光導波路モジュールの第5実施形態について説明する。
«Fifth embodiment»
Next, a fifth embodiment of the optical waveguide module of the present invention will be described.
図11は、本発明の光導波路モジュールの第5実施形態を示す(一部透過して示す)平面図である。 FIG. 11 is a plan view showing a fifth embodiment of the optical waveguide module of the present invention (partially shown).
以下、第5実施形態について説明するが、第4実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。 Hereinafter, although the fifth embodiment will be described, the differences from the fourth embodiment will be mainly described, and description of similar matters will be omitted.
第5実施形態は、受発光素子108の構造等が異なる以外、第4実施形態と同様である。
The fifth embodiment is the same as the fourth embodiment except that the structure of the light emitting / receiving
図11に示す受発光素子108は、8つの受発光部109を備えている。これらの受発光部109の配置は、第4実施形態の配置と同じになっている。このため、光導波路1を斜めに配置する必要がなくなるので、光導波路1の組み付けが容易になる。また、受発光素子108同士の間隔等を考慮する必要がなくなるので、受発光素子108の実装が容易になる。そして、特殊なコネクター等を用いることなく、複数段に配置された光路接続部104と光導波路1のミラー17とを接続することができるので、光導波路モジュール10の小型化が図られる。
The light emitting / receiving
≪第6実施形態≫
次に、本発明の光導波路モジュールの第6実施形態について説明する。
<< Sixth Embodiment >>
Next, a sixth embodiment of the optical waveguide module of the present invention will be described.
図12は、本発明の光導波路モジュールの第6実施形態を示す(一部透過して示す)平面図である。 FIG. 12 is a plan view showing a sixth embodiment of the optical waveguide module of the present invention (partially shown in a transparent manner).
以下、第6実施形態について説明するが、第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項についてはその説明を省略する。
第6実施形態は、光導波路1の形状が異なる以外、第1実施形態と同様である。
Hereinafter, although the sixth embodiment will be described, the description will focus on the differences from the first embodiment, and the description of the same matters will be omitted.
The sixth embodiment is the same as the first embodiment except that the shape of the
図12に示す光導波路1では、隣り合う2つのコア部14のうち、ミラー17の形成位置が前記長手方向のより端部側にある一方のコア部14について、その端部が湾曲している。そして図12では、この一方のコア部14の湾曲により、この一方のコア部14に設けられたミラー17が、他方のコア部14の延長線上に位置するよう構成されている。コア部14がこのような形状をなしていることにより、図12に示すように多心光コネクター101の光路接続部104が格子状のパターンで配置されている場合に、第1実施形態のように光導波路1を斜めに配置することなく、光路接続部104と光導波路1のミラー17とを接続することができる。その結果、光路接続部104の配列方向とコア部14の長手方向とが直角になるので、接続部が占めるスペースが最小化されることとなり、光導波路モジュール10のさらなる小型化が図られる。
In the
<光導波路モジュールの製造方法>
次に、本発明の光導波路モジュールを製造する方法について説明する。
<Method for manufacturing optical waveguide module>
Next, a method for manufacturing the optical waveguide module of the present invention will be described.
図1に示す光導波路モジュール10は、多心光コネクター101の上面101aに光導波路1を、下面101bに受発光素子108をそれぞれ載置し、これらを接着剤等で接着・固定することにより製造される。接着剤には、光透過率の高いものが好ましく用いられる。具体的には、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、シリコーン系接着剤等が挙げられる。
The
また、多心光コネクター101に対して光導波路1の位置を合わせる際には、光導波路1に光を入射し、ミラー17で反射されて出射した光を多心光コネクター101の光路接続部104に入射させる。そして、光路接続部104の反対側から光量を測定し、光量が最大になる位置に光導波路1を合わせるようにすればよい。
Further, when aligning the position of the
<光導波路の製造方法>
次に、本発明に係る光導波路を製造する方法の一例について説明する。
<Optical waveguide manufacturing method>
Next, an example of a method for manufacturing the optical waveguide according to the present invention will be described.
光導波路1は、クラッド層11を形成するための組成物、コア層13を形成するための組成物、およびクラッド層12を形成するための組成物を、順次成膜して製造することもできるが、3種の組成物を同時に3層に押出成形して製造することもできる。以下では後者の方法について説明する。
The
図13、14は、光導波路1の製造に用いる装置を示す図、図15〜17はそれぞれ図3に示す光導波路1の製造方法を説明するための図である。なお、以下の説明では、図15〜17中の上側を「上」、下側を「下」という。
FIGS. 13 and 14 are diagrams showing an apparatus used for manufacturing the
光導波路1の製造方法では、[1]まず、支持基板951上に2種類の光導波路形成用組成物901、902(第1の組成物および第2の組成物)を層状に押出成形して層910を得る。[2]次いで、層910の一部に活性放射線を照射することで屈折率差を生じさせ、光導波路1を得る。
In the manufacturing method of the
以下、各工程について順次説明する。
[1]まず、光導波路形成用組成物901、902を用意する。
光導波路形成用組成物901、902は、それぞれ、ポリマー915と、添加剤920(本実施形態では、少なくともモノマーを含む。)と、を含有するものであるが、その組成は異なるものである。
Hereinafter, each process will be described sequentially.
[1] First, optical
The optical
2種類の組成物のうち、光導波路形成用組成物901は、主にコア層13を形成するための材料であり、活性放射線の照射により、ポリマー915中において少なくともモノマーの活発な反応が生じ、それに伴って屈折率分布に変化を生じさせる材料である。すなわち、光導波路形成用組成物901は、ポリマー915とモノマーの存在比率の偏りによって屈折率分布に変化が生じ、その結果、コア層13中にコア部14と側面クラッド部15とを形成することのできる材料である。
Of the two types of compositions, the optical
一方、光導波路形成用組成物902は、主にクラッド層11、12を形成するための材料であり、光導波路形成用組成物901より低屈折率の材料で構成されている。
On the other hand, the optical
光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との屈折率差は、それぞれに含まれるポリマー915の組成、モノマーの組成、ポリマー915とモノマーとの存在比率等を設定することにより、適宜調整することができる。
The difference in refractive index between the optical
例えば、モノマーの屈折率がポリマー915より低い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物901より光導波路形成用組成物902の方が高くなっている。一方、モノマーの屈折率がポリマー915より高い場合、組成物中のモノマーの含有率は、光導波路形成用組成物902より光導波路形成用組成物901の方が高くなっている。換言すれば、ポリマー915やモノマーの各屈折率に応じて、各光導波路形成用組成物901、902中のポリマー915および添加剤920の組成が適宜選択されている。
For example, when the refractive index of the monomer is lower than that of the
また、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902では、モノマーの含有率が互いにほぼ等しくなるよう、組成が設定されているのが好ましい。このように設定すれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、モノマーの含有率の差が小さくなるため、これをきっかけにしたモノマーの拡散移動が抑制される。モノマーの拡散移動は、前述したように屈折率差の形成において有用であるが、含有率の差が大きい場合には望ましくない方向に移動することが避けられない場合もある。後述する多色押出成形法では、層910の厚さ方向の屈折率分布を自由に形成することが可能であるため、少なくとも厚さ方向においてはモノマーの拡散移動が抑制されていても差し支えなく、むしろ厚さ方向における意図しないモノマーの拡散移動は抑制される方が好ましい。意図しないモノマーの拡散移動を抑制することにより、最終的に目的とする形状の屈折率分布Tを有する光導波路1を確実に製造することができる。
Further, in the optical
なお、モノマーの含有率をほぼ等しくした場合には、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、ポリマー915またはモノマーの条件を異ならせればよい。具体的には、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで、用いるポリマー915の組成を異ならせるほか、同じ組成であっても分子量や重合度を異ならせるようにすればよい。また、用いるモノマーの組成、すなわち屈折率を異ならせるようにしてもよい。このようにすれば、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率をほぼ等しくし、モノマーの拡散移動を抑制しながら、両者の間に屈折率差を形成することができる。
When the monomer content is substantially equal, the conditions of the
次いで、支持基板951上に光導波路形成用組成物901、902を多色押出成形法により層状に成形する。
Next, the optical
多色押出成形法では、光導波路形成用組成物901を3層で押し出すとともに、これらの層間にそれぞれ光導波路形成用組成物902を押し出すことで、5層からなる多色成形体914を一括形成する。具体的には、多色成形体914では、光導波路形成用組成物901、光導波路形成用組成物902、光導波路形成用組成物901、光導波路形成用組成物902、および光導波路形成用組成物901が、下方からこの順で同時に押し出されるため、組成物同士の境界においては、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とがわずかに混濁する。したがって、組成物同士の境界近傍では、光導波路形成用組成物901の一部と光導波路形成用組成物902の一部とが混合し、厚さ方向に沿って混合比率が連続的に変化している領域が形成される。その結果、多色成形体914では、図15(a)の下方から、主に光導波路形成用組成物901からなる第1成形層914a、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第2成形層914b、主に光導波路形成用組成物902からなる第3成形層914c、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第4成形層914d、主に光導波路形成用組成物901からなる第5成形層914e、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第6成形層914f、主に光導波路形成用組成物902からなる第7成形層914g、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の混合物からなる第8成形層914h、および主に光導波路形成用組成物901からなる第9成形層914iが、この順で積層されたものとなる。
In the multicolor extrusion molding method, the optical
そして、得られた多色成形体914中の溶媒を蒸発(脱溶媒)させ、層910を得る(図15(b)参照)。
And the solvent in the obtained multicolor molded
得られた層910は、図15(b)の下方から、第3成形層914cの中心部より下方の層から形成されるクラッド層11と、第3成形層914cの中心部より上方で第7成形層914gの中心部より下方の層から形成されるコア層13と、第7成形層914gの中心部より上方の層から形成されるクラッド層12との積層体となる。
The obtained
得られた層910中では、ポリマー(マトリックス)915が実質的に一様かつランダムに存在し、添加剤920は、ポリマー915中に実質的に一様かつランダムに分散している。これにより、層910中には、添加剤920が実質的に一様かつランダムに分散している。
In the resulting
層910の平均厚さは、形成すべき光導波路1の厚さに応じて適宜設定され、特に限定されないが、10〜500μm程度であるのが好ましく、20〜300μm程度であるのがより好ましい。
The average thickness of the
なお、支持基板951には、例えば、シリコン基板、二酸化ケイ素基板、ガラス基板、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム等が用いられる。
For the
ところで、このような層910を得るための多色成形体914は、以下のようなダイコーター(多色押出成形装置)800を用いて製造される。
By the way, the multicolor molded
図13は、多色成形体914を得るダイコーターを示す斜視図、図14は、ダイコーターの一部を拡大して示す縦断面図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a die coater for obtaining a multicolor molded
ダイコーター800は、図13に示すように、上リップ部811と、その下方に設けられた下リップ部812とを備えるダイヘッド810を有している。
As shown in FIG. 13, the
上リップ部811および下リップ部812は、それぞれ長尺のブロック体で構成され、互いに重ね合わされている。合わせ面には空洞のマニホールド820が形成されている。マニホールド820の幅はダイヘッド810の右側ほど広くなるよう連続的に拡張している。一方、マニホールド820の厚さはダイヘッド810の右側ほど小さくなるよう連続的に縮小している。そして、マニホールド820の右端では、空洞の幅が最大でかつ厚さが最小になっており、スリット821を形成している。
The
このダイヘッド810は、マニホールド820の左側から供給された光導波路形成用組成物901、902をスリット821から右側に成形しつつ押し出すことができる。すなわち、スリット821の形状に応じて、多色成形体914の幅および厚さが決定される。
The
ダイヘッド810の左側には、ミキシングユニット830が設けられている。ミキシングユニット830は、光導波路形成用組成物901、902をそれぞれダイヘッド810に供給するための3系統の配管を組み合わせて構成されており、光導波路形成用組成物902をダイヘッド810に供給する第1の供給管831と、光導波路形成用組成物901をダイヘッド810に供給する第2の供給管832および第3の供給管833とを有している。
A mixing
また、第1の供給管831、第2の供給管832および第3の供給管833から供給された光導波路形成用組成物901、902は、ダイヘッド810との接続を担う接続部835において合流し、ダイヘッド810のマニホールド820へと供給される。なお、第2の供給管832は、途中で上下2つに分岐し、接続部835の最上層部および最下層部にそれぞれ接続されている。一方、第3の供給管833は、接続部835の中層部に接続されている。さらに、第1の供給管831も、途中で上下2つに分岐し、接続部835の最上層部と中層部との間(上層部)、および、最下層部と中層部との間(下層部)にそれぞれ接続されている。
In addition, the optical
すなわち、接続部835では、光導波路形成用組成物901で構成される1層の流れを、光導波路形成用組成物902で構成される上下2層の流れで挟み込むようにして合流し、さらにその外側を光導波路形成用組成物901で構成される上下2層の流れで挟み込みようにして合流している。
That is, in the
なお、この際、最上層部および最下層部に接続される第2の供給管832については、その流量が、第3の供給管833より小さくなるようにする。これにより、第1成形層914aおよび第9成形層914iは、第5成形層eに比べて十分に薄くなり、最下層部および最下層部の屈折率が中層部の屈折率より高くなるのを防止することができる。
At this time, the flow rate of the
また、ミキシングユニット830は、第1の供給管831と第2の供給管832との合流地点に設けられた、複数のピン836を有している。これらのピン836は、長尺の円柱状をなしており、その軸と、第1の供給管831および第2の供給管832の延伸方向とがほぼ直交するよう配置されている。また、図14では、これらのピン836が、接続部835の最上層部と上層部との間、上層部と中層部との間、中層部と下層部との間、および、下層部と最下層部との間などにそれぞれ設けられている。なお、ピン836の本数は特に限定されないが、好ましくは2本以上とされ、より好ましくは3〜10本程度とされる。また、ピン836は、光導波路形成用組成物901、902間に乱流を生じさせ得るものであれば、他の構造物(例えば、メッシュ、パンチングメタル等)で代替することもできる。
Further, the
ダイヘッド810の右側には、多色押出成形された多色成形体914を搬送する搬送部840が設けられている。搬送部840は、ローラー841と、ローラー841に沿って移動する搬送フィルム842とを有している。搬送フィルム842はローラー841の回転により、図13の下方から右側へと搬送されるが、その際に、ローラー841上にて多色成形体914を積層する。これにより、多色成形体914の形状を保持しつつ、右側へと搬送することができる。
On the right side of the
次いで、ダイコーター800の動作について説明する。
ミキシングユニット830に光導波路形成用組成物901、902が同時に供給されると、接続部835において5層の層流が形成される。接続部835において光導波路形成用組成物901、902が合流する際、合流部に設けられた複数のピン836の作用により、光導波路形成用組成物901、902の流れに乱れが生じる。この乱れは、層流間の境界を不明瞭とし、境界では光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とが混在した領域が形成される。
Next, the operation of the
When the optical
このようにして形成された層流は、ダイヘッド810のマニホールド820において、幅方向に拡張されるとともに厚さ方向には圧縮される。その結果、前述したような、第1成形層914a、第2成形層914b、第3成形層914c、第4成形層914d、第5成形層914e、第6成形層914f、第7成形層914g、第8成形層914h、および第9成形層914iが、下方からこの順で積層されてなる多色成形体914が形成される。そして、このような多色成形体914を用いることにより、最終的に前述した厚さ方向の屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる。
The laminar flow thus formed is expanded in the width direction and compressed in the thickness direction in the
なお、多色成形体914は、搬送フィルム842上に形成されるが、この搬送フィルム842をそのまま前述した支持基板951として、さらには支持フィルム2として利用することもできる。
In addition, although the multicolor molded
また、図13に示すダイコーター800は、コア層13を1層含む層910を形成可能であるが、コア層13を複数層設ける場合には、それに応じてミキシングユニット830の構造を変更すればよい。具体的には、コア層13の層数に応じて第1の供給管831、第2の供給管832および第3の供給管833の分岐数を増やすようにすればよい。
In addition, the
なお、上記多色押出成形法およびダイコーターは、多色成形体914を製造する方法および装置の一例であり、層間での組成物の混濁を生じ得る方法および装置であれば、例えば射出成形法(装置)、塗布法(装置)、印刷法(装置)等の各種方法(装置)を用いることもできる。
The multicolor extrusion molding method and the die coater are examples of a method and an apparatus for producing a multicolor molded
次に、ポリマー915および添加剤920について説明する。
(ポリマー)
ポリマー915は、光導波路1のベースポリマーとなるものである。
Next, the
(polymer)
The
ポリマー915には、透明性が十分に高く(無色透明であり)、かつ、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが重合した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
The
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてポリマー915と相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that the monomer is at least mixed and does not cause phase separation with the
このようなポリマー915としては、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、エポキシ系樹脂やオキセタン系樹脂のような環状エーテル系樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリベンゾオキサゾール、ポリシラン、ポリシラザン、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリウレタン、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、PETやPBTのようなポリエステル、ポリエチレンサクシネート、ポリサルフォン、ポリエーテル、また、ベンゾシクロブテン系樹脂やノルボルネン系樹脂等の環状オレフィン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(ポリマーアロイ、ポリマーブレンド(混合物)、共重合体など)用いることができる。
Examples of such a
これらの中でも、特に、(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、およびポリオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種を主とするものが好ましく、(メタ)アクリル系樹脂またはエポキシ系樹脂を主とするものがより好ましい。ポリマー915としてこれらの樹脂を用いることにより、優れた光伝送性能を有する光導波路1を得ることができる。以下、これらの樹脂について詳述する。
Among these, in particular, those mainly comprising at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic resins, epoxy resins, silicone resins, polyimide resins, fluorine resins, and polyolefin resins are preferable. More preferred are those mainly composed of (meth) acrylic resins or epoxy resins. By using these resins as the
((アクリル系ポリマー))
(メタ)アクリル系ポリマーは、アクリル酸、アクリル酸エステルのようなアクリル酸系モノマー、メタクリル酸、メタクリル酸エステルのようなメタクリル酸系モノマー、またはこれらの誘導体(例えば、アルコキシ誘導体、カプロラクトン誘導体等)を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー(樹脂およびゴムを含む。)である。
((Acrylic polymer))
(Meth) acrylic polymers are acrylic monomers such as acrylic acid and acrylic esters, methacrylic monomers such as methacrylic acid and methacrylic esters, or derivatives thereof (for example, alkoxy derivatives, caprolactone derivatives, etc.) Is a polymer (including resin and rubber) obtained by polymerizing this raw material monomer.
したがって、(メタ)アクリル系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。 Therefore, as the (meth) acrylic polymer, a homopolymer obtained by polymerizing one of the raw material monomers, a copolymer obtained by polymerizing two or more different raw material monomers, the raw material monomer and another raw material monomer Examples thereof include copolymers formed by polymerization.
かかる原料モノマーとしては、例えば、単官能(メタ)アクリレート、2官能(メタ)アクリレート、3官能以上の多官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of such raw material monomers include monofunctional (meth) acrylate, bifunctional (meth) acrylate, trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, and the like.
単官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチルヘプチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベヘニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロペンチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、3−メチル−3−オキセタニルメチル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレートのような脂環式(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、p−クミルフェニル(メタ)アクリレート、o−ビフェニル(メタ)アクリレート、1−ナフチル(メタ)アクリレート、2−ナフチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(o−フェニルフェノキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(1−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(2−ナフトキシ)プロピル(メタ)アクリレートのような芳香族(メタ)アクリレート、2−テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−N−カルバゾールのような複素環式(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of monofunctional (meth) acrylates include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and s-butyl. (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl heptyl (meth) ) Acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate Rate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, behenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-chloro-2- Aliphatic (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) Acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 3-methyl-3-oxetanylmethyl (meth) acrylate, 1-adamantyl (meth) acrylate Cycloaliphatic (meth) acrylates such as salt, phenyl (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, p-cumylphenyl (meth) acrylate, o-biphenyl (meth) acrylate, 1-naphthyl (meth) acrylate, 2-naphthyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3- (o-phenylphenoxy) propyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3 -(1-naphthoxy) propyl (meth) acrylate, aromatic (meth) acrylate such as 2-hydroxy-3- (2-naphthoxy) propyl (meth) acrylate, 2-tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N- (Meth) acryloyloxye And heterocyclic (meth) acrylates such as tilhexahydrophthalimide and 2- (meth) acryloyloxyethyl-N-carbazole.
また、2官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−メチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メチル−1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノール(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノール(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、水添ビスフェノールFジ(メタ)アクリレートのような脂環式(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAFジ(メタ)アクリレート、フルオレン型ジ(メタ)アクリレートのような芳香族(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレートのような複素環式(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the bifunctional (meth) acrylate include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di ( (Meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, 1,3 -Butanediol di (meth) acrylate, 2-methyl-1,3-propanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, ne Pentyl glycol di (meth) acrylate, 3-methyl-1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol Fats such as di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meth) acrylate Alicyclic (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol A di (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F di (meth) acrylate ( (Meth) acrylate, bispheno Such as aromatic A (meth) acrylate such as di- (meth) acrylate, bisphenol F di (meth) acrylate, bisphenol AF di (meth) acrylate, fluorene type di (meth) acrylate, and isocyanuric acid di (meth) acrylate And heterocyclic (meth) acrylates.
また、3官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートのような脂肪族(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレートのような複素環式(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, and pentaerythritol tetra (meth) acrylate. And aliphatic (meth) acrylates such as dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and heterocyclic (meth) acrylates such as isocyanuric acid tri (meth) acrylate.
なお、上記原料モノマーと重合させる他の原料モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、アクリロニトリル等が挙げられ、上記原料モノマーとしてアクリル酸(メタクリル酸)系モノマーを選択した場合には、これらを重合することにより、アクリルゴムが得られる。 In addition, although it does not specifically limit as another raw material monomer superposed | polymerized with the said raw material monomer, For example, an acrylonitrile etc. are mentioned, When acrylic acid (methacrylic acid) type monomer is selected as said raw material monomer, these are superposed | polymerized. By doing so, an acrylic rubber is obtained.
また、上記原料モノマーとしては、例えば、MMAモノマー(クラレ製または三菱レイヨン製)、アクリレートモノマー(ダイセル・サイテック製)、ブレンマー(日油製)、アクリル酸エステルモノマー(日本触媒製)、光硬化性モノマー・オリゴマー(新中村化学工業製)等が挙げられる。 Examples of the raw material monomer include MMA monomer (manufactured by Kuraray or Mitsubishi Rayon), acrylate monomer (manufactured by Daicel Cytec), Blemmer (manufactured by NOF), acrylate monomer (manufactured by Nippon Shokubai), photocurability. Monomers / oligomers (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), etc.
(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104〜3×105程度であることが好ましく、3×104〜2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量の(メタ)アクリル系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。
The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer is not particularly limited, but is preferably about 2 × 10 4 to 3 × 10 5 , and more preferably about 3 × 10 4 to 2 × 10 5 . By using such a (meth) acrylic polymer having a weight average molecular weight, compatibility with the monomer described later can be improved, and strength and flexibility of the
ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部における(メタ)アクリル系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類および(メタ)アクリル系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。
Here, the refractive index of each part of the
また、(メタ)アクリル系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、(メタ)アクリル系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有する(メタ)アクリル系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。
In addition, the refractive index difference between the
このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Examples of such a leaving group include those having at least one of an —O— structure, an —Si—aryl structure, and an —O—Si— structure in a molecular structure. Such a leaving group is sufficiently cleaved from the main chain by the action of
このうち、離脱により(メタ)アクリル系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 Among these, as the leaving group that causes a decrease in the refractive index of the (meth) acrylic polymer by leaving, at least one of -Si-diphenyl structure and -O-Si-diphenyl structure is preferable.
また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Moreover, as another leaving group, the substituent which has an acetophenone structure at the terminal is mentioned, for example. The molecular structure of this leaving group is sufficiently cleaved by the action of
離脱性基の量(数)は、特に限定されないが、(メタ)アクリル系ポリマー全質量に対して10〜80質量%であるのが好ましく、20〜60質量%であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)に優れた(メタ)アクリル系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。
The amount (number) of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by mass, and more preferably 20 to 60% by mass with respect to the total mass of the (meth) acrylic polymer. When the amount of the leaving group is within the above range, a (meth) acrylic polymer having an excellent refractive index modulation function (an effect of changing the refractive index difference) can be obtained, and the formed
かかる離脱性基を有する(メタ)アクリル系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。 Such a (meth) acrylic polymer having a leaving group can be easily obtained by polymerizing the raw material monomer described above and a monomer having a leaving group introduced into the raw material monomer.
さらに、エポキシ基を有する(メタ)アクリル系ポリマーを用いることもできる。かかる(メタ)アクリル系ポリマーを用いることにより、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。
Furthermore, a (meth) acrylic polymer having an epoxy group can also be used. By using such a (meth) acrylic polymer, it is possible to form the
この(メタ)アクリル系ポリマーを得る場合、原料モノマーには、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、α−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、α−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、α−ブチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−エチルグリシジル(メタ)アクリレート、2−プロピルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、α−エチル−6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルプロピル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルブチル(メタ)アクリレート等のうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 When obtaining this (meth) acrylic polymer, examples of the raw material monomer include glycidyl (meth) acrylate, α-ethylglycidyl (meth) acrylate, α-propylglycidyl (meth) acrylate, and α-butylglycidyl (meth) acrylate. 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 2-ethylglycidyl (meth) acrylate, 2-propylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 3,4-epoxyheptyl (meth) acrylate, α-ethyl-6,7-epoxyheptyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acryl , 3,4-epoxycyclohexylethyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylpropyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylbutyl (meth) acrylate, etc. Can be used.
また、上記原料モノマーとしては、例えば、EBECRYL(ダイセル・サイテック製)、デナコールアクリレート(ナガセケムテックス製)、ネオポール(日本ユピカ製)等を用いることができる。さらに、エポキシ基を有する(メタ)アクリル系ポリマーとしては、例えば、ブレンマー(日油製)等を用いることができる。 Further, as the raw material monomer, for example, EBECRYL (manufactured by Daicel Cytec), Denacol acrylate (manufactured by Nagase ChemteX), Neopol (manufactured by Nippon Iupika) and the like can be used. Furthermore, as the (meth) acrylic polymer having an epoxy group, for example, Blemmer (manufactured by NOF Corporation) can be used.
また、フッ素含有(メタ)アクリル系ポリマーも用いることができる。このポリマーを得るための原料モノマーとしては、例えば、ダイキン工業製 METHACRYLATES CAS No.1799-84-4(2-(perfluorobutyl)ethyl methacrylate)、ユニマテック製 ケミノックス等を用いることができる。 Moreover, a fluorine-containing (meth) acrylic polymer can also be used. As a raw material monomer for obtaining this polymer, for example, METHACRYLATES CAS No. 1799-84-4 (2- (perfluorobutyl) ethyl methacrylate) manufactured by Daikin Industries Ltd., Unimatec Cheminox and the like can be used.
さらには、マレイミド変性アクリル系ポリマーも用いることができる。このポリマーとしては、例えば、アロンタック(東亞合成製)等を用いることができ、また、原料モノマーとしては、例えば、アロニックス(東亞合成製)等を用いることができる。 Furthermore, a maleimide-modified acrylic polymer can also be used. As this polymer, for example, Aron Tac (manufactured by Toagosei) or the like can be used, and as a raw material monomer, for example, Aronix (manufactured by Toagosei) or the like can be used.
この他に、(メタ)アクリル系ポリマーとして、スミペックスMHF(住友化学製)、シリコーングラフト(メタ)アクリル系ポリマーとして、サイマックUS−352(東亞合成製)、UV硬化型(メタ)アクリル系ポリマーとして、8KX−018C(大成ファインケミカル製)を使用することができる。 In addition, as (meth) acrylic polymer, Sumipex MHF (manufactured by Sumitomo Chemical), silicone graft (meth) acrylic polymer, Cymac US-352 (manufactured by Toagosei), UV curable (meth) acrylic polymer 8KX-018C (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) can be used.
また、原料モノマーには、末端アクリルポリエーテルとして、デナコールアクリレートDA−931(ナガセケムテックス製)、末端メタクリルシリコーンオイルとして、BY167−152C(東レ・ダウコーニング製)、水性アクリレートとして、RD−180(互応化学工業製)、ビスフェノールAジアクリレートとして、ABE−300、フルオレンジアクリレートとして、A−BPEF(以上、新中村化学工業製)、ウレタンアクリレートとして、MiramerHR−3700(東洋ケミカルズ製)、ベンジル(メタ)アクリレート(日立化成工業製)等を使用することができる。 In addition, as raw material monomers, terminal acrylic polyether, Denacol acrylate DA-931 (manufactured by Nagase ChemteX), terminal methacryl silicone oil, BY167-152C (manufactured by Toray Dow Corning), aqueous acrylate, RD-180 (Manufactured by Mutual Chemical Industries), ABE-300 as bisphenol A diacrylate, A-BPEF (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) as full orange acrylate, Miramer HR-3700 (manufactured by Toyo Chemicals), benzyl A (meth) acrylate (made by Hitachi Chemical Co., Ltd.) etc. can be used.
((エポキシ系ポリマー))
エポキシ系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性および密着性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるエポキシ系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
((Epoxy polymer))
Epoxy polymers are particularly used as a polymer in the present invention because they are highly transparent, have excellent light transmission properties, and have excellent heat resistance and adhesion. In addition, the epoxy-based polymer is compatible with the monomer described later, and among them, the monomer can react (polymerization reaction or crosslinking reaction) as described later, and is sufficient even after the monomer reacts. Those having transparency are preferably used.
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてエポキシ系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that at least a monomer is mixed and does not cause phase separation with the epoxy-based polymer in the optical
さらに、エポキシ系ポリマーとは、ノルボルネン系エポキシモノマー、ケイ素含有エポキシモノマー、脂環式エポキシモノマー、ビスフェノール型エポキシモノマー、フッ素化エポキシモノマー、脂肪族エポキシモノマー、ナフタレン環含有エポキシモノマー、芳香環含有エポキシモノマー等のエポキシモノマーまたはこれらの誘導体を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー(樹脂およびゴムを含む。)である。 Furthermore, the epoxy polymer is a norbornene epoxy monomer, a silicon-containing epoxy monomer, an alicyclic epoxy monomer, a bisphenol type epoxy monomer, a fluorinated epoxy monomer, an aliphatic epoxy monomer, a naphthalene ring-containing epoxy monomer, an aromatic ring-containing epoxy monomer. A polymer (including resin and rubber) obtained by polymerizing this raw material monomer using an epoxy monomer or a derivative thereof as a raw material monomer.
したがって、エポキシ系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。 Therefore, as an epoxy polymer, a homopolymer obtained by polymerizing one of the above raw material monomers, a copolymer obtained by polymerizing two or more different raw material monomers, and the above raw material monomer and another raw material monomer are polymerized. And the like.
このような原料モノマーのうち、ノルボルネン系エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(1)で表わされるものが挙げられる。 Among such raw material monomers, examples of the norbornene-based epoxy monomer include those represented by the following formula (1).
なお、式(1)で表される化合物は、エポキシノルボルネンであり、このような化合物としては、例えば、プロメラス社製 EpNBを使用することができる。この他、ジシクロペンタジエン型エポキシモノマーとして、DIC製 HP−7200HHHを使用することができる。 In addition, the compound represented by Formula (1) is epoxy norbornene, For example, ProNBAS EpNB can be used as such a compound. In addition, HP-7200HHH manufactured by DIC can be used as the dicyclopentadiene type epoxy monomer.
また、ケイ素含有エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(2)または式(3)で表わされるものが挙げられる。 Moreover, as a silicon-containing epoxy monomer, what is represented by the following formula | equation (2) or Formula (3) is mentioned, for example.
なお、式(2)で表される化合物は、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東レ・ダウコーニング社製 Z−6040を使用することができる。また、式(3)で表される化合物は、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランであり、この化合物としては、例えば、東京化成製 E0327を使用することができる。この他、東レ・ダウコーニング社製 SF8413、BY16−839、SF8421を使用することができる。 In addition, the compound represented by Formula (2) is (gamma) -glycidoxy propyl trimethoxysilane, As this compound, Toray Dow Corning Z-6040 can be used, for example. Moreover, the compound represented by Formula (3) is 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and as this compound, for example, E0327 manufactured by Tokyo Chemical Industry can be used. In addition, SF8413, BY16-839, and SF8421 manufactured by Toray Dow Corning can be used.
さらに、脂環式エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(4)〜式(6)で表わされるものが挙げられる。 Furthermore, as an alicyclic epoxy monomer, what is represented by the following formula | equation (4)-Formula (6) is mentioned, for example.
なお、式(4)で表される化合物は、3、4−エポキシシクロヘキセニルメチル−3’、4’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製 セロキサイド2021Pを使用することができる。また、式(5)で表される化合物は、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサンであり、この化合物としては、例えば、ダイセル化学社製 セロキサイド2000を使用することができる。さらに、式(6)で表される化合物は、1,2:8,9ジエポキシリモネンであり、この化合物としては、例えば、(ダイセル化学社製 セロキサイド3000)を使用することができる。この他、ダイセル化学社製 セロキサイド2081を使用することもできる。 The compound represented by the formula (4) is 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexenecarboxylate, and as this compound, for example, Celoxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. is used. can do. Further, the compound represented by the formula (5) is 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane. As this compound, for example, Celoxide 2000 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. can be used. Further, the compound represented by the formula (6) is 1,2: 8,9 diepoxy limonene, and as this compound, for example, (Celoxide 3000 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) can be used. In addition, Celoxide 2081 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. can also be used.
また、ビスフェノール型エポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、以下の式(7)で表わされるものが挙げられる。 Examples of the bisphenol type epoxy monomer include bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol S diglycidyl ether, and those represented by the following formula (7).
なお、式(7)で表される化合物としては、具体的には、例えば、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル(式(7)中、n=1、R1〜R6がすべて水素原子のもの)、ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル(式(7)中、n=0、R1〜R6がすべて水素原子のもの)等が挙げられる。この他、ビスA型エポキシモノマーとして、新日鐵化学製 YD−128S、YD−020G、水添ビスA型エポキシモノマーとして、新日鐵化学製 ST−3000、ST−4000Dを使用することもできる。 In addition, as a compound represented by Formula (7), specifically, for example, bisphenoxyethanol fluorenediglycidyl ether (in Formula (7), n = 1, and R 1 to R 6 are all hydrogen atoms) Bisphenol fluorenediglycidyl ether (in formula (7), n = 0, R 1 to R 6 are all hydrogen atoms), and the like. In addition, YS-128S and YD-020G manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. can be used as bis A type epoxy monomers, and ST-3000 and ST-4000D manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. can be used as hydrogenated bis A type epoxy monomers. .
さらに、フッ素化エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(8)で表わされるものが挙げられる。この他、ダイキン工業製 EPOXIDES CAS No.74328-56-6(1,6-bis(2',3'-epoxypropyl)-perfluoro-n-hexane)、EPOXIDES CAS No.791-22-0(1,4-bis(2',3'-epoxypropyl)-perfluoro-n-butane)を使用することもできる。 Furthermore, as a fluorinated epoxy monomer, what is represented by the following formula | equation (8) is mentioned, for example. In addition, Daikin Industries 'EPOXIDES CAS No.74328-56-6 (1,6-bis (2', 3'-epoxypropyl) -perfluoro-n-hexane), EPOXIDES CAS No.791-22-0 (1, 4-bis (2 ′, 3′-epoxypropyl) -perfluoro-n-butane) can also be used.
また、脂肪族エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(9)で表わされるものが挙げられる。この他、多官能脂肪族エポキシモノマーとして、ナガセケムテックス製 デナコールEX−850L、デナコールEX−216Lを使用することができる。 Moreover, as an aliphatic epoxy monomer, what is represented by the following formula | equation (9) is mentioned, for example. In addition, Denasel EX-850L and Denacol EX-216L manufactured by Nagase ChemteX can be used as the polyfunctional aliphatic epoxy monomer.
さらに、ナフタレン環含有エポキシモノマーとしては、例えば、以下の式(10)で表わされるものが挙げられる。 Furthermore, as a naphthalene ring containing epoxy monomer, what is represented by the following formula | equation (10) is mentioned, for example.
また、エポキシ系ポリマーまたは原料モノマーとしては、上記の他に、エピコート(ジャパンエポキシレジン製)、フェノキシ樹脂YPシリーズ、ノボラック型エポキシ樹脂YDCNシリーズ(以上、新日鐵化学製)、オグソールEG(大阪ガスケミカル製)、ビフェニル型エポキシ樹脂YX−4000H(三菱化学製)、リカレジン(新日本理化製)、シリコーン変性エポキシ(信越化学工業製または東レ・ダウコーニング製)、デナコール(ナガセケムテックス製)、フッ素化エポキシ(ダイキン工業製)、ARUFON UG−4000、4035、4040(東亞合成製)、アロンオキセタンOXT−213、221、211(東亞合成製)等を使用することができる。 In addition to the above, as an epoxy polymer or raw material monomer, Epicoat (manufactured by Japan Epoxy Resin), phenoxy resin YP series, novolac type epoxy resin YDCN series (above, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), Ogsol EG (Osaka Gas) Chemical), Biphenyl type epoxy resin YX-4000H (Mitsubishi Chemical), Rica Resin (Nippon Nippon Chemical Co., Ltd.), Silicone modified epoxy (Shin-Etsu Chemical or Toray Dow Corning), Denacol (Nagase ChemteX), Fluorine Epoxy (made by Daikin Industries), ARUFON UG-4000, 4035, 4040 (made by Toagosei), Aron Oxetane OXT-213, 221, 211 (made by Toagosei) and the like can be used.
なお、エポキシ系ポリマーを、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、上記原料モノマーと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。 When the epoxy polymer is a copolymer obtained by polymerizing the raw material monomer and another raw material monomer, the other raw material monomer is not particularly limited as long as it is of a different type from the raw material monomer, For example, what is illustrated with the monomer contained in the additive 920 mentioned later can be used.
エポキシ系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104〜3×105程度であることが好ましく、3×104〜2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のエポキシ系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。
The weight average molecular weight of the epoxy-based polymer is not particularly limited, is preferably from 2 × 10 4 ~3 × 10 about 5, more preferably 3 × 10 4 ~2 × 10 about 5. By using an epoxy-based polymer having such a weight average molecular weight, compatibility with a monomer described later can be enhanced, and strength and flexibility of the
ここでコア層13の各部の屈折率は、各部におけるエポキシ系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびエポキシ系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。
Here, the refractive index of each part of the
また、エポキシ系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、エポキシ系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するエポキシ系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。
Also, the refractive index difference between the
このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Examples of such a leaving group include those having at least one of an —O— structure, an —Si—aryl structure, and an —O—Si— structure in a molecular structure. Such a leaving group is sufficiently cleaved from the main chain by the action of
このうち、離脱によりエポキシ系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 Among these, as the leaving group that causes a decrease in the refractive index of the epoxy-based polymer by leaving, at least one of -Si-diphenyl structure and -O-Si-diphenyl structure is preferable.
また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Moreover, as another leaving group, the substituent which has an acetophenone structure at the terminal is mentioned, for example. The molecular structure of this leaving group is sufficiently cleaved by the action of
離脱性基の量(数)は、特に限定されないが、エポキシ系ポリマー全重量に対して10〜80重量%であるのが好ましく、20〜60重量%であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)に優れたエポキシ系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。
The amount (number) of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by weight and more preferably 20 to 60% by weight based on the total weight of the epoxy polymer. When the amount of the leaving group is within the above range, an epoxy polymer having an excellent refractive index modulation function (an effect of changing the refractive index difference) can be obtained, and the flexibility of the
かかる離脱性基を有するエポキシ系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。 Such an epoxy-based polymer having a leaving group can be easily obtained by polymerizing the raw material monomer described above and a monomer having a leaving group introduced into the raw material monomer.
さらに、エポキシ基を有するエポキシ系ポリマーを用いることもできる。かかるエポキシ系ポリマーを用いることにより、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。
Furthermore, an epoxy-based polymer having an epoxy group can also be used. By using such an epoxy polymer, it becomes possible to form the
((シリコーン系ポリマー))
シリコーン系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性、光安定性および電気絶縁性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるシリコーン系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
((Silicone polymer))
Silicone polymers are used as the polymers in the present invention because they are particularly highly transparent, have excellent light transmission properties, and have excellent heat resistance, light stability, and electrical insulation. In addition, the silicone polymer has compatibility with the monomer described later, and among them, the monomer can react (polymerization reaction or crosslinking reaction) as described later, and is sufficient even after the monomer reacts. Those having transparency are preferably used.
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてシリコーン系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that the monomer is at least mixed and does not cause phase separation with the silicone polymer in the optical
さらに、シリコーン系ポリマーとは、オルガノアルコキシシランまたはその誘導体を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合(加水分解・縮合または縮合)してなるポリマー(樹脂およびゴムを含む。)である。 Furthermore, the silicone-based polymer is a polymer (including resin and rubber) obtained by polymerizing (hydrolyzing / condensing or condensing) this raw material monomer using organoalkoxysilane or a derivative thereof as a raw material monomer.
したがって、シリコーン系ポリマー(ポリオルガノシロキサン)としては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。 Therefore, as a silicone polymer (polyorganosiloxane), a homopolymer obtained by polymerizing one of the above raw material monomers, a copolymer obtained by polymerizing two or more different raw material monomers, the above raw material monomer and other raw material monomers And a copolymer obtained by polymerizing and the like.
このように原料モノマー(シリコーンモノマー)として用いられるオルガノアルコキシシランとしては、特に限定されないが、例えば、以下の式(11)で表わされるものが挙げられる。 The organoalkoxysilane used as a raw material monomer (silicone monomer) is not particularly limited, and examples thereof include those represented by the following formula (11).
なお、式(11)中、R1、R3(一価の有機基)は、具体的には、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のようなアルキル基、ビニル基、アリル基のようなアルケニル基、フェニル基、トリル基のようなアリール基、ナフチル基、フェネチル基のようなアラルキル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基およびこれら有機基中の炭素原子の一部が窒素原子、酸素原子、珪素原子、硫黄原子、リン原子またはこれら原子を含む原子団等で置換されたものが挙げられる。 In formula (11), R 1 and R 3 (monovalent organic group) are each independently an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, vinyl Group, alkenyl group such as allyl group, aryl group such as phenyl group and tolyl group, aralkyl group such as naphthyl group and phenethyl group, halogenated alkyl group, halogenated aryl group and carbon atoms in these organic groups Examples thereof include a nitrogen atom, an oxygen atom, a silicon atom, a sulfur atom, a phosphorus atom, or an atomic group containing these atoms.
また、R2は、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のようなアルキル基、メトキシメチル基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基のようなアルコキシアルキル基が挙げられる。 R 2 is specifically an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethoxy group, a propoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, or a propoxyethoxy group. And an alkoxyalkyl group such as a butoxyethoxy group.
以上のような式(11)で表わされるオルガノアルコキシシランとしては、具体的には、例えば、イソプロピルトリメトキシシラン、ネオペンチルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリメトキシシラン、トリメチルシリルメチルトリメトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、エチニルトリメトキシシラン、ジエチニルジメトキシシラン、4−ビニルフェニルトリエトキシシラン、トリメチルシリルメチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリプロポキシシラン、シクロペンチルトリイソプロポキシシラン、ネオペンチルトリブトキシシラン、イソプロピルメチルジメトキシシラン、メチルネオペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、メチルシクロペンチルジメトキシシラン、アリルメチルジメトキシシラン、(4−クロロフェニル)メチルジメトキシシラン、エチルプロピルジメトキシシラン、エチルイソペンチルジメトキシシラン、エチルネオペンチルジメトキシシラン、エチルシクロペンチルジメトキシシラン、フェニルエチルジメトキシシラン、エチル−3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ブチルプロピルジメトキシシラン、sec−ブチルプロピルジメトキシシラン、ペンチルプロピルジメトキシシラン、ヘキシルプロピルジメトキシシラン、3−クロロプロピルプロピルジメトキシシラン、3−ブロモプロピルプロピルジメトキシシラン、イソプロピル−sec−ブチルジメトキシシラン、イソプロピルシクロペンチルジメトキシシラン、イソプロピルビニルジメトキシシラン、シクロペンチルイソブチルジメトキシシラン、ジヘキシルジメトキシシラン、ジシクロペンチルジメトキシシラン、ビス(トリメチルシリルメチル)ジメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルヘキシルジメトキシシラン、sec−ブチルメチルジエトキシシラン、エチルプロピルジエトキシシラン、エチル−tert−ブチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルジエトキシシラン、ジイソプロピルブチルエトキシシラン、ジシクロペンチルジエトキシシラン、4−メトキシフェニルビニルジエトキシシラン、イソブチルジメチルメトキシシラン、tert−ブチルジメチルメトキシシラン、(4−クロロフェニル)ジメチルメトキシシラン、ジメチル−2−チエニルメトキシシラン、トリプロピルメトキシシラン、トリブチルメトキシシラン、イソブチルジメチルエトキシシラン、アリルジメチルエトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、フェニルジエチルエトキシシラン、ジプロピルイソブチルエトキシシラン、ジフェニルメチルエトキシシラン、アリルジメチルプロポキシシラン、トリエチルプロポキシシラン、ジフェニルメチルブトキシシラン、1,4−ビス(メチルジメトキシシリル)フェニレン、2−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルジメチルエトキシシラン、2−(2−アミノエチルチオエチル)トリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 Specific examples of the organoalkoxysilane represented by the above formula (11) include isopropyltrimethoxysilane, neopentyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, 4-vinylphenyltrimethoxysilane, and trimethylsilylmethyl. Trimethoxysilane, isobutyltriethoxysilane, ethynyltrimethoxysilane, diethynyldimethoxysilane, 4-vinylphenyltriethoxysilane, trimethylsilylmethyltriethoxysilane, isopropyltripropoxysilane, cyclopentyltriisopropoxysilane, neopentylriboxysilane, Isopropylmethyldimethoxysilane, methylneopentyldimethoxysilane, cyclohexylmethyldimethoxysilane, methylcyclopentyldimeth Sisilane, allylmethyldimethoxysilane, (4-chlorophenyl) methyldimethoxysilane, ethylpropyldimethoxysilane, ethylisopentyldimethoxysilane, ethylneopentyldimethoxysilane, ethylcyclopentyldimethoxysilane, phenylethyldimethoxysilane, ethyl-3,3,3 -Trifluoropropyldimethoxysilane, butylpropyldimethoxysilane, sec-butylpropyldimethoxysilane, pentylpropyldimethoxysilane, hexylpropyldimethoxysilane, 3-chloropropylpropyldimethoxysilane, 3-bromopropylpropyldimethoxysilane, isopropyl-sec-butyl Dimethoxysilane, isopropylcyclopentyldimethoxysilane, isopropylvinyldimethoxy Run, cyclopentylisobutyldimethoxysilane, dihexyldimethoxysilane, dicyclopentyldimethoxysilane, bis (trimethylsilylmethyl) dimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropylhexyldimethoxysilane, sec-butylmethyldiethoxysilane, ethylpropyldiethoxysilane , Ethyl-tert-butyldiethoxysilane, dipropyldiethoxysilane, diisopropyldiethoxysilane, diisopropylbutylethoxysilane, dicyclopentyldiethoxysilane, 4-methoxyphenylvinyldiethoxysilane, isobutyldimethylmethoxysilane, tert-butyldimethyl Methoxysilane, (4-chlorophenyl) dimethylmethoxysilane, dimethyl-2-thienylmethoxysilane, Propylmethoxysilane, tributylmethoxysilane, isobutyldimethylethoxysilane, allyldimethylethoxysilane, triethylethoxysilane, phenyldiethylethoxysilane, dipropylisobutylethoxysilane, diphenylmethylethoxysilane, allyldimethylpropoxysilane, triethylpropoxysilane, diphenylmethyl Butoxysilane, 1,4-bis (methyldimethoxysilyl) phenylene, 2-aminoethylaminomethyltrimethoxysilane, 3-aminopropyldimethylethoxysilane, 2- (2-aminoethylthioethyl) triethoxysilane, β- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, and the like.
なお、シリコーン系ポリマーを、上記原料モノマー(オルガノアルコキシシラン)と他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、上記原料モノマーと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。 When the silicone polymer is a copolymer obtained by polymerizing the raw material monomer (organoalkoxysilane) and another raw material monomer, the other raw material monomer may be of a different type from the raw material monomer, Although it does not specifically limit, For example, what is illustrated with the monomer contained in the additive 920 mentioned later can be used.
シリコーン系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104〜3×105程度であることが好ましく、3×104〜2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のシリコーン系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。
The weight average molecular weight of the silicone-based polymer is not particularly limited, is preferably from 2 × 10 4 ~3 × 10 about 5, more preferably 3 × 10 4 ~2 × 10 about 5. By using a silicone-based polymer having such a weight average molecular weight, compatibility with the monomer described later can be enhanced, and strength and flexibility of the
ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるシリコーン系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびシリコーン系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。
Here, the refractive index of each part of the
また、シリコーン系ポリマーは、前述したように、オルガノアルコキシシランまたはその誘導体を加水分解・縮合または縮合してなるものであることから、その分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものとなる。そのため、かかる構造を有する部分が、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基として機能し、この脱離性基の主鎖からの脱離により、その屈折率を変化させることができるため、かかる点からも、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を行うことができる。
Further, as described above, the silicone-based polymer is obtained by hydrolysis / condensation or condensation of an organoalkoxysilane or a derivative thereof. Therefore, in the molecular structure, an —O— structure, an —Si-aryl structure is included. And at least one of —O—Si— structures. Therefore, the portion having such a structure functions as a leaving group that is released from the main chain by
なお、離脱によりシリコーン系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 The leaving group that causes a decrease in the refractive index of the silicone polymer upon leaving is preferably at least one of -Si-diphenyl structure and -O-Si-diphenyl structure.
また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Moreover, as another leaving group, the substituent which has an acetophenone structure at the terminal is mentioned, for example. The molecular structure of this leaving group is sufficiently cleaved by the action of
離脱性基の量(数)は、特に限定されないが、シリコーン系ポリマー全重量に対して10〜80重量%であるのが好ましく、20〜60重量%であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)に優れたシリコーン系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。
The amount (number) of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 60% by weight based on the total weight of the silicone polymer. When the amount of the leaving group is within the above range, a silicone polymer having an excellent refractive index modulation function (effect of changing the refractive index difference) can be obtained, and the flexibility of the
なお、シリコーン系ポリマーとして、エポキシ基を有するものを用いた場合には、クラッド層11、12に対して密着性に優れたコア層13を形成することが可能となる。
In addition, when the thing which has an epoxy group is used as a silicone type polymer, it becomes possible to form the
((ポリイミド系ポリマー))
ポリイミド系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた耐熱性、光安定性、機械的特性、密着性および電気絶縁性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるポリイミド系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
((Polyimide polymer))
The polyimide polymer is particularly high in transparency, has excellent light transmission properties, and further has excellent heat resistance, light stability, mechanical properties, adhesion, and electrical insulation. Used as In addition, the polyimide-based polymer is compatible with the monomer described later, and among them, the monomer can react (polymerization reaction or crosslinking reaction) as described later, and is sufficient even after the monomer reacts. Those having transparency are preferably used.
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてポリイミド系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that the monomer is at least mixed and does not cause phase separation with the polyimide polymer in the optical
さらに、ポリイミド系ポリマーとは、テトラカルボン酸無水物とジアミンとを反応させることにより得られるポリアミド酸を加熱・硬化(イミド化)させてなるポリイミド(オリゴマー)を含むポリマーである。 Furthermore, a polyimide-type polymer is a polymer containing the polyimide (oligomer) formed by heating and hardening (imidation) the polyamic acid obtained by making tetracarboxylic anhydride and diamine react.
したがって、ポリイミド系ポリマーとしては、1種の上記ポリイミドを重合してなるホモポリマー、2種以上の上記ポリイミドを重合してなるブロックコポリマー、上記ポリイミドと他のオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマー等が挙げられる。 Therefore, as the polyimide polymer, a homopolymer obtained by polymerizing one kind of the above polyimide, a block copolymer obtained by polymerizing two or more kinds of the above polyimide, a block copolymer obtained by polymerizing the above polyimide and another oligomer, etc. Is mentioned.
このようなポリイミドを得るために用いられるテトラカルボン酸無水物およびジアミンとしては、特に限定されないが、例えば、以下のようなものが挙げられる。 Although it does not specifically limit as a tetracarboxylic anhydride and diamine used in order to obtain such a polyimide, For example, the following are mentioned.
すなわち、テトラカルボン酸無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物のような分子内にフッ素原子を含有しないものや、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロプロパン二無水物、4,4−ビス(3,4−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン二無水物、1,4−ビス(3,4−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ)テトラフルオロベンゼン二無水物、(トリフルオロメチル)ビロメリット酸二無水物、ジ(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、ジ(ヘプタフルオロプロピル)ピロメリット酸二無水物のような分子内にフッ素原子を含有するもの等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 That is, examples of the tetracarboxylic acid anhydride include pyromellitic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, and 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl). ) Propane dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfone Those having no fluorine atom in the molecule such as acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride, 4,4-bis (3,4- Dicarboxytrifluorophenoxy) tetrafluorobenzene dianhydride, 1,4-bis (3,4-dicarboxytrifluorophenoxy) tetrafluorobenzene dianhydride, Fluoromethyl) bimellitic dianhydride, di (trifluoromethyl) pyromellitic dianhydride, di (heptafluoropropyl) pyromellitic dianhydride containing fluorine atoms in the molecule Of these, one or two or more of these can be used in combination.
また、ジアミンとしては、例えば、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルホキシド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホキシド、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’―ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ケトン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシド、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]エーテル、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、ンのような分子内にフッ素原子を含有しないものや、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、2−トリフルオロメチル−4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2’−トリフルオロメチル−3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス(3−アミノフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)−4−トリフルオロメチルベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−5−トリフルオロメチルフェノキシ)−5−トリフルオロメチルベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)ベンゼン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンのような分子内にフッ素原子を含有するもの等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the diamine include m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′-diaminodiphenyl ether, bis (3-aminophenyl) sulfide, and (3-aminophenyl) (4-aminophenyl). Sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfoxide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfoxide, bis (4-aminophenyl) sulfone, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfone, 3, 4′-diaminobenzophenone, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (4-Aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (3-aminophenoxy) ) Phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4 '-Diamino-5,5'-diphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4,5'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4- Biphenoxybenzophenone, such as those containing no fluorine atom in the molecule, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 2-trifluoromethyl-4,4′- Diaminodiphenyl ether, 2′-trifluoromethyl-3,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis (3-aminopheny ) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) -4-trifluoromethylbenzene, 1,3-bis (3-amino-5- Trifluoromethylphenoxy) benzene, 1,3-bis (3-amino-5-trifluoromethylphenoxy) -5-trifluoromethylbenzene, 1,4-bis (4-amino-2-trifluoromethylphenoxy) benzene , 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane and the like containing a fluorine atom in the molecule, etc. One or more of these can be used in combination.
なお、ポリイミド系ポリマーを、上記ポリイミド(オリゴマー)と他のオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマーとする場合、他のオリゴマーとしては、上記ポリイミドと異なる種類のものであれば、特に限定されないが、例えば、(メタ)アクリル系オリゴマー、エポキシ系オリゴマーおよびシリコーン系オリゴマー(オルガノシロキサンオリゴマー)のうちの少なくとも1種を用いることができる。 In addition, when the polyimide-based polymer is a block copolymer obtained by polymerizing the polyimide (oligomer) and another oligomer, the other oligomer is not particularly limited as long as it is of a type different from the polyimide, For example, at least one of (meth) acrylic oligomers, epoxy oligomers, and silicone oligomers (organosiloxane oligomers) can be used.
ポリイミド系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104〜1×106程度であることが好ましく、2×105〜4×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のポリイミド系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。
The weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is not particularly limited, is preferably from 2 × 10 4 ~1 × 10 about 6, more preferably 2 × 10 5 ~4 × 10 about 5. By using a polyimide polymer having such a weight average molecular weight, compatibility with the monomer described later can be enhanced, and strength and flexibility of the
ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるポリイミド系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびポリイミド系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。
Here, the refractive index of each part of the
また、ポリイミド系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、ポリイミド系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するポリイミド系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。
In addition, the refractive index difference between the
このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Examples of such a leaving group include those having at least one of an —O— structure, an —Si—aryl structure, and an —O—Si— structure in a molecular structure. Such a leaving group is sufficiently cleaved from the main chain by the action of
このうち、離脱によりポリイミド系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 Among these, as the leaving group that causes a decrease in the refractive index of the polyimide-based polymer by leaving, at least one of the -Si-diphenyl structure and the -O-Si-diphenyl structure is preferable.
また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Moreover, as another leaving group, the substituent which has an acetophenone structure at the terminal is mentioned, for example. The molecular structure of this leaving group is sufficiently cleaved by the action of
離脱性基の量(数)は、特に限定されないが、ポリイミド系ポリマー915全重量に対して10〜80重量%であるのが好ましく、20〜60重量%であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)に優れたポリイミド系ポリマー915とすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。
The amount (number) of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by weight, more preferably 20 to 60% by weight based on the total weight of the
かかる離脱性基を有するポリイミド系ポリマーは、例えば、このものを上記ポリイミド(オリゴマー)と他のオリゴマーとしてのオルガノシロキサンオリゴマーとを重合してなるブロックコポリマーとすることにより、容易に得ることができる。 Such a polyimide-based polymer having a leaving group can be easily obtained by, for example, using this as a block copolymer obtained by polymerizing the above polyimide (oligomer) and an organosiloxane oligomer as another oligomer.
((フッ素系ポリマー))
フッ素系ポリマーは、特に、透明性が高く、優れた光伝送性を有し、さらに優れた機械的特性および耐吸湿性を有することから、本発明におけるポリマーとして用いられる。また、かかるフッ素系ポリマーには、後述するモノマーと相溶性を有するもの、さらに、その中でも後述するようにモノマーが反応(重合反応や架橋反応)可能であり、モノマーが反応した後においても十分な透明性を有するものが好適に用いられる。
((Fluoropolymer))
The fluorine-based polymer is particularly used as a polymer in the present invention because it has high transparency, excellent light transmission properties, and excellent mechanical properties and moisture absorption resistance. In addition, the fluorine-based polymer is compatible with the monomer described later, and among them, the monomer can react (polymerization reaction or crosslinking reaction) as described later, and is sufficient even after the monomer reacts. Those having transparency are preferably used.
ここで、「相溶性を有する」とは、モノマーが少なくとも混和して、光導波路形成用組成物901、902中や層910中においてフッ素系ポリマーと相分離を起こさないことをいう。
Here, “having compatibility” means that at least the monomer is mixed and does not cause phase separation with the fluoropolymer in the optical
さらに、フッ素系ポリマーとは、その分子構造中にフッ素原子を含有する重合体であり、本発明では、フッ素系ポリマーとしては、脂肪族環構造、イミド環構造、トリアジン環構造、ベンゾオキサゾール構造および芳香族環構造のうちの少なくとも1種の環構造を有するものであり、かかる構造中にフッ素原子を含有するものであるのが好ましい。これらの中でも、特に、脂肪族環構造を主鎖として有する重合体であるのが好ましい。これにより、光導波路形成用組成物901、902から得られる層910をより均一な膜厚を有するものとすることができる。
Further, the fluorine-based polymer is a polymer containing a fluorine atom in its molecular structure. In the present invention, the fluorine-based polymer includes an aliphatic ring structure, an imide ring structure, a triazine ring structure, a benzoxazole structure, and It has at least one kind of ring structure among aromatic ring structures, and preferably contains a fluorine atom in the structure. Among these, a polymer having an aliphatic ring structure as a main chain is particularly preferable. Thereby, the
脂肪族環構造を主鎖として有する重合体(以下、「含フッ素脂肪族環構造重合体」ということもある。)は、フッ素原子を含有する環構造を備えるモノマーや、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマーを原料モノマーとして、この原料モノマーを重合することにより得ることができる。 A polymer having an aliphatic ring structure as a main chain (hereinafter sometimes referred to as “fluorinated aliphatic ring structure polymer”) is a monomer having a ring structure containing a fluorine atom, a fluorine atom and two or more fluorine atoms. A monomer having a polymerizable unsaturated bond can be used as a raw material monomer to polymerize this raw material monomer.
したがって、含フッ素脂肪族環構造重合体としては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を重合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等とすることができる。 Therefore, the fluorine-containing aliphatic ring structure polymer includes a homopolymer obtained by polymerizing one of the raw material monomers, a copolymer obtained by polymerizing two or more different raw material monomers, the raw material monomer and other raw material monomers. And the like.
なお、本明細書中において、含フッ素脂肪族環構造重合体とは、その主鎖が複数の脂肪族環構造で主に構成され、この脂肪族環構造を構成する炭素原子の1つ以上にフッ素原子またはフッ素原子を含む原子団が結合しているものをいう。 In the present specification, the fluorine-containing aliphatic ring structure polymer is mainly composed of a plurality of aliphatic ring structures, and one or more carbon atoms constituting this aliphatic ring structure. A fluorine atom or an atomic group containing a fluorine atom is bonded.
このような含フッ素脂肪族環構造重合体は、具体的には、例えば、下記式(12)〜(16)に挙げるような構成単位(繰り返し単位)を主鎖に備えるものが挙げられる。 Specific examples of such a fluorinated alicyclic polymer include those having structural units (repeating units) as listed in the following formulas (12) to (16) in the main chain.
かかる構成の含フッ素脂肪族環構造重合体を得るために、フッ素原子を含有する環構造を備えるモノマー(単量体)としては、例えば、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール)、ペルフルオロ(2−メチル−1,3−ジオキソール)、ペルフルオロ(2−エチル−2プロピル−1,3−ジオキソール)、ペルフルオロ(2,2−ジメチル−4メチル−1,3−ジオキソール)のようなジオキソール環員炭素に、フッ素原子、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基のようなフッ素置換アルキル基が結合したペルフルオロジオキソール類を備えるものや、ペルフルオロ(4−メチル−2−メチレン−1,3−ジオキソラン)、ペルフルオロ(2−メチル−1,4−ジオキシン)のような含フッ素脂環構造を備えるもの等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 In order to obtain the fluorine-containing aliphatic ring structure polymer having such a configuration, examples of the monomer (monomer) having a ring structure containing a fluorine atom include perfluoro (2,2-dimethyl-1,3-dioxole). , Perfluoro (2-methyl-1,3-dioxole), perfluoro (2-ethyl-2propyl-1,3-dioxole), perfluoro (2,2-dimethyl-4methyl-1,3-dioxole), etc. Those having perfluorodioxoles in which a fluorine-substituted alkyl group such as a fluorine atom, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group or a heptafluoropropyl group is bonded to a dioxole ring member carbon, or perfluoro (4-methyl-2 -Methylene-1,3-dioxolane), perfluoro (2-methyl-1,4-dioxin) and the like Such as those comprising a fluorine alicyclic structure and the like, can be used singly or in combination of two or more of them.
また、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマー(単量体)としては、例えば、ペルフルオロ(3−オキサ−1,5−ヘキサジエン)、ペルフルオロ(3−オキサ−1,6−ヘプタジエン)、ペルフルオロ(4−メチル−3−オキサ−1,6−ヘプタジエン)、ペルフルオロ(4−クロロ−3−オキサ−1,6−ヘプタジエン)、ペルフルオロ(4−メトキシ−3−オキサ−1,6−ヘプタジエン)、ペルフルオロ(5−メチル−3−オキサ−1,6−ヘプタジエン)等が挙げられ、これらのうち1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Moreover, as a monomer (monomer) provided with a fluorine atom and two or more polymerizable unsaturated bonds, for example, perfluoro (3-oxa-1,5-hexadiene), perfluoro (3-oxa-1,6- Heptadiene), perfluoro (4-methyl-3-oxa-1,6-heptadiene), perfluoro (4-chloro-3-oxa-1,6-heptadiene), perfluoro (4-methoxy-3-oxa-1,6) -Heptadiene), perfluoro (5-methyl-3-oxa-1,6-heptadiene), and the like, and one or more of these can be used in combination.
なお、含フッ素脂肪族環構造重合体は、上述したフッ素原子を含有する環構造を備えるモノマーと、フッ素原子と2以上の重合性不飽和結合とを備えるモノマーとの双方を原料モノマーとして用い、これらを共重合させてコポリマーすることによっても得ることができる。 In addition, the fluorine-containing aliphatic ring structure polymer uses, as a raw material monomer, both a monomer having a ring structure containing a fluorine atom and a monomer having a fluorine atom and two or more polymerizable unsaturated bonds, These can also be obtained by copolymerizing them.
さらに、含フッ素脂肪族環構造重合体を、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマーとする場合、他の原料モノマーとしては、例えば、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロ(メチルビニルエーテル)のようなラジカル重合性モノマーの他、後述する添加剤920に含まれるモノマーで例示するものを用いることができる。 Further, when the fluorine-containing aliphatic ring structure polymer is a copolymer obtained by polymerizing the above raw material monomer and another raw material monomer, examples of the other raw material monomer include tetrafluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, perfluoro In addition to radically polymerizable monomers such as (methyl vinyl ether), those exemplified as monomers contained in the additive 920 described later can be used.
フッ素系ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、2×104〜3×105程度であることが好ましく、3×104〜2×105程度であることがより好ましい。かかる重量平均分子量のフッ素系ポリマーを用いることにより、後述するモノマーとの相溶性が高くなるとともに、コア層13の強度や可撓性の向上を図ることができる。
The weight average molecular weight of the fluorine-based polymer is not particularly limited, is preferably from 2 × 10 4 ~3 × 10 about 5, more preferably 3 × 10 4 ~2 × 10 about 5. By using such a fluorine-based polymer having a weight average molecular weight, compatibility with the monomer described later can be enhanced, and strength and flexibility of the
ここで、コア層13の各部の屈折率は、各部におけるフッ素系ポリマーの屈折率とモノマーの屈折率の相対的な大小関係とその存在比率に応じて決定される。そのため、用いるモノマーの種類およびフッ素系ポリマーの種類を適宜選択することにより、コア層13の各部の屈折率を調整することができる。
Here, the refractive index of each part of the
また、フッ素系ポリマーの構造を設計することによっても、コア部14と側面クラッド部15との屈折率差の調整を容易に行うことができる。例えば、フッ素系ポリマーを、主鎖と、後述する活性放射線930により主鎖から離脱する脱離性基とを有する化学構造に設計する。かかる化学構造を有するフッ素系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、離脱性基を主鎖から離脱させることができ、その屈折率が変化する。
Also, the refractive index difference between the
このような離脱性基としては、例えば、分子構造中に、−O−構造、−Si−アリール構造および−O−Si−構造のうちの少なくとも1つを有するものが挙げられる。かかる離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、カチオンの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Examples of such a leaving group include those having at least one of an —O— structure, an —Si—aryl structure, and an —O—Si— structure in a molecular structure. Such a leaving group is sufficiently cleaved from the main chain by the action of
このうち、離脱によりフッ素系ポリマーの屈折率に低下を生じさせる離脱性基としては、−Si−ジフェニル構造および−O−Si−ジフェニル構造の少なくとも一方が好ましい。 Among these, as the leaving group that causes a decrease in the refractive index of the fluoropolymer upon leaving, at least one of a -Si-diphenyl structure and an -O-Si-diphenyl structure is preferable.
また、別の離脱性基としては、例えば、末端にアセトフェノン構造を有する置換基が挙げられる。この離脱性基は、活性放射線930の作用によって十分に分子構造が切断され、主鎖から容易に離脱するが、フリーラジカルの作用を利用すれば、さらに容易に分子構造が切断される。
Moreover, as another leaving group, the substituent which has an acetophenone structure at the terminal is mentioned, for example. The molecular structure of this leaving group is sufficiently cleaved by the action of
離脱性基の量(数)は、特に限定されないが、フッ素系ポリマー全重量に対して10〜80重量%であるのが好ましく、20〜60重量%であるのがより好ましい。離脱性基の量が前記範囲内であると、屈折率変調機能(屈折率差を変化させる効果)に優れたフッ素系ポリマーとすることができるとともに、形成されるコア層13の可撓性の向上を図ることもできる。
The amount (number) of the leaving group is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by weight, and more preferably 20 to 60% by weight with respect to the total weight of the fluoropolymer. When the amount of the leaving group is within the above range, a fluorine-based polymer having an excellent refractive index modulation function (an effect of changing the refractive index difference) can be obtained, and the flexibility of the
なお、かかる離脱性基を有するフッ素系ポリマーは、前述した原料モノマーと、この原料モノマーに離脱性基を導入したモノマーとを重合することにより、容易に得ることができる。 In addition, such a fluorine-based polymer having a leaving group can be easily obtained by polymerizing the raw material monomer described above and a monomer having a leaving group introduced into the raw material monomer.
((ポリオレフィン系ポリマー))
ポリオレフィン系ポリマーは、例えば、エチレン、プロピレン、1−ブテン、シス−2−ブテン、トランス−2−ブテン、イソブテン、1−ペンテン、2−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ブテン、2,3−ジメチル−2−ブテン、1−ブテン、1−ヘキセン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンのようなモノオレフィン系モノマー、アレン、メチルアレン、ブタジエン、2,3−ジメチルブタジエン、1,3−ペンタジエン、1,4−ペンタジエン、クロロプレン、1,5−ヘキサジエンのようなジエン系モノマー等を原料モノマーとして、この原料モノマーを重合してなるポリマー(樹脂およびゴムを含む。)である。
((Polyolefin polymer))
Examples of the polyolefin polymer include ethylene, propylene, 1-butene, cis-2-butene, trans-2-butene, isobutene, 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, and 3-methyl-1. -Monoolefin monomers such as butene, 2,3-dimethyl-2-butene, 1-butene, 1-hexene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, allene, methylallene, butadiene, 2,3 -Polymers (including resins and rubbers) obtained by polymerizing raw material monomers using diene monomers such as dimethylbutadiene, 1,3-pentadiene, 1,4-pentadiene, chloroprene and 1,5-hexadiene. .)
なお、ポリオレフィン系ポリマーとしては、上記原料モノマーの1種を重合してなるホモポリマー、上記原料モノマーの異なる2種以上を混合してなるコポリマー、上記原料モノマーと他の原料モノマーとを重合してなるコポリマー等が挙げられる。 The polyolefin-based polymer includes a homopolymer obtained by polymerizing one of the raw material monomers, a copolymer obtained by mixing two or more different raw material monomers, and the raw material monomer and another raw material monomer. And the like.
また、上記原料モノマーと重合させる他の原料モノマーとしては、特に限定されないが、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、m−メチルスチレン、o−エチルスチレン、p−t−ブチルスチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、ブロモスチレンといった芳香族ビニル系モノマー、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸アリル、N−フェニルマレイミド、N−メチルマレイミド、酢酸ブチル、酢酸ビニル、酢酸イソプロペニル、塩化ビニル、ビニルエーテル等のビニル系モノマーが挙げられる。 Further, other raw material monomers to be polymerized with the above raw material monomers are not particularly limited. For example, styrene, α-methyl styrene, o-methyl styrene, p-methyl styrene, m-methyl styrene, o-ethyl styrene, p -Aromatic vinyl monomers such as t-butylstyrene, chlorostyrene, chloromethylstyrene, bromostyrene, (meth) acrylonitrile, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, (meth ) Vinyl monomers such as butyl acrylate, allyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, N-methylmaleimide, butyl acetate, vinyl acetate, isopropenyl acetate, vinyl chloride and vinyl ether.
なお、上記原料モノマーを重合してなるポリマーとしては、例えば、ポリスチレン、スチレンーブタジエンコポリマー、酢酸ビニルまたはその加水分解物、ポリビニルアルコール、ポリアセタール、ポリブチラール、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。 Examples of the polymer obtained by polymerizing the above raw material monomers include polystyrene, styrene-butadiene copolymer, vinyl acetate or a hydrolyzate thereof, polyvinyl alcohol, polyacetal, polybutyral, polyvinyl chloride, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer. Examples include coalescence.
一方、ポリオレフィン系ポリマーは、ノルボルネン系ポリマー、ベンゾシクロブテン系ポリマーのような環状オレフィン系ポリマーであってもよい。環状オレフィン系ポリマーとしては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが用いられる。環状オレフィン系ポリマーは、単独の繰り返し単位を有するもの(ホモポリマー)、2つ以上の繰り返し単位を有するもの(コポリマー)のいずれであってもよく、具体例としては、ヘキシルノルボルネンのホモポリマー、フェニルエチルノルボルネンのホモポリマー、ベンジルノルボルネンのホモポリマー、ヘキシルノルボルネンとフェニルエチルノルボルネンとのコポリマー、ヘキシルノルボルネンとベンジルノルボルネンとのコポリマー等が挙げられる。 On the other hand, the polyolefin polymer may be a cyclic olefin polymer such as a norbornene polymer or a benzocyclobutene polymer. As the cyclic olefin polymer, for example, those described in JP 2010-090328 A are used. The cyclic olefin polymer may be either one having a single repeating unit (homopolymer) or two having two or more repeating units (copolymer). Specific examples include a homopolymer of hexyl norbornene, phenyl Examples include a homopolymer of ethyl norbornene, a homopolymer of benzyl norbornene, a copolymer of hexyl norbornene and phenylethyl norbornene, and a copolymer of hexyl norbornene and benzyl norbornene.
また、他の原料モノマーとしては、活性放射線930の照射により、一部が光異性化または光二量化する化学構造を有するモノマーであってもよい。かかる化学構造を有するポリオレフィン系ポリマーにおいては、活性放射線930の照射により、光異性化または光二量化を生じ、その屈折率が変化する。光異性化は、活性放射線の照射によりシス−トランス異性化や光Fries転位、脱炭酸を生じる現象であり、光二量化は、隣り合って存在する二重結合同士の間に結合が生じる現象である。
Another raw material monomer may be a monomer having a chemical structure that is partially photoisomerized or photodimerized by irradiation with
このような光異性化または光二量化する化学構造としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基のようなN=N基、マレイミド基、インデン基、クマリン基、シンナメート基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、シンナモイル基、ヘミチオインジゴ基、カルコン基のようなC=C基、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン構造のようなC=N基、ベンゾフェノン基、アントラキノン基等のようなC=O基、アリルエステル基のようなエステル基、アシルフェノール構造等が挙げられ、これらのうちの少なくとも1つが用いられる。また、特に、アゾベンゼン基、マレイミド基、クマリン基、シンナモイル基、およびインデン基の少なくとも1つが好ましく用いられる。 Examples of such a chemical structure for photoisomerization or photodimerization include N = N group such as azobenzene group, azonaphthalene group, aromatic heterocyclic azo group, bisazo group, formazan group, maleimide group, indene group, C = C groups such as coumarin groups, cinnamate groups, polyene groups, stilbene groups, stilbazole groups, stilbazolium groups, cinnamoyl groups, hemithioindigo groups, chalcone groups, aromatic Schiff bases, and aromatic hydrazone structures. Examples thereof include C═O groups such as N group, benzophenone group and anthraquinone group, ester groups such as allyl ester group, acylphenol structure and the like, and at least one of them is used. In particular, at least one of an azobenzene group, a maleimide group, a coumarin group, a cinnamoyl group, and an indene group is preferably used.
また、上記化学構造を有する化合物としては、例えば、イミレックス(日本触媒製)、脂肪族ビスマレイミド(DMI製)、アロニックス(東亞合成製)、ビスマレイミド類(ケイ・アイ化成製)、メチルシンナメート(井上香料製造所)、パラメトキシケイ皮酸2エチルヘキシル等が挙げられる。 Examples of the compound having the above chemical structure include, for example, Imilex (manufactured by Nippon Shokubai), aliphatic bismaleimide (manufactured by DMI), Aronix (manufactured by Toagosei), bismaleimides (manufactured by Kay Aikasei), methylcinnamate (Inoue Fragrance Factory), 2-methoxyhexyl paramethoxycinnamate and the like.
(添加剤)
本実施形態では、光導波路形成用組成物901および光導波路形成用組成物902の双方において、添加剤920がモノマーを含んでいる。また、本実施形態では、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が、さらに重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は、重合開始剤を含んでいない。
(Additive)
In the present embodiment, the additive 920 includes a monomer in both the optical
((モノマー))
モノマー(光重合性モノマー)は、後述する活性放射線の照射により、照射領域において反応して反応物を形成し、それとともにモノマーが拡散移動することで、層910において照射領域と未照射領域との間に屈折率差を生じさせ得るような化合物である。
((monomer))
The monomer (photopolymerizable monomer) reacts in the irradiated region by irradiation with actinic radiation, which will be described later, to form a reaction product, and the monomer diffuses and moves with it, so that the
モノマーの反応物としては、モノマーがポリマー915中で重合して形成されたポリマー(重合体)、モノマーがポリマー915同士を架橋してなる架橋構造、および、モノマーがポリマー915に重合してポリマー915から分岐した分岐構造のうちの少なくとも1つが挙げられる。
As a reaction product of the monomer, a polymer (polymer) formed by polymerizing the monomer in the
ところで、照射領域と未照射領域との間に生じる屈折率差は、ポリマー915の屈折率とモノマーの屈折率との差に基づいて生じることから、添加剤920中に含まれるモノマーは、ポリマー915の屈折率との大小関係を考慮して選択される。
By the way, the difference in refractive index generated between the irradiated region and the non-irradiated region is generated based on the difference between the refractive index of the
具体的には、層910において、照射領域の屈折率が高くなることが望まれる場合には、比較的低い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して高い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。一方、照射領域の屈折率が低くなることが望まれる場合には、比較的高い屈折率を有するポリマー915と、このポリマー915に対して低い屈折率を有するモノマーとを組み合わせて使用される。
Specifically, in the
なお、屈折率が「高い」または「低い」とは、屈折率の絶対値を意味するものではなく、ある材料同士の相対的な関係を意味するものである。 Note that “high” or “low” in the refractive index does not mean an absolute value of the refractive index but means a relative relationship between certain materials.
そして、モノマーの反応(反応物の生成)により、層910において照射領域の屈折率が低下した領域には屈折率分布Wの極小値が対応し、照射領域の屈折率が上昇した領域には屈折率分布Wの極大値が対応する。
The minimum value of the refractive index distribution W corresponds to a region where the refractive index of the irradiated region is reduced in the
なお、モノマーとしては、ポリマー915との相溶性を有し、ポリマー915との屈折率差が0.01以上であるものが好ましく用いられる。
As the monomer, a monomer having compatibility with the
このようなモノマーとしては、分子構造中に重合可能な部位を有する化合物であればよく、ポリマー915の原料として挙げたモノマー等が用いられ、特に限定されないが、例えば、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Such a monomer is not particularly limited as long as it is a compound having a polymerizable portion in the molecular structure, and the monomers mentioned as the raw material of the
これらのモノマーのうち、ポリマー915と同種のモノマーを用いることにより、ポリマー915中にモノマーをより均一に分散することができるので、光導波路形成用組成物901、902の特性の均質化を図ることができる。
Among these monomers, by using the same type of monomer as the
また、重合可能な部位としては、特に不飽和炭化水素が好ましく用いられる。不飽和炭化水素を含む化合物は、ラジカル重合やカチオン重合といった重合反応を生じ易く、本発明に用いられるモノマーとして好適である。 Further, unsaturated hydrocarbons are particularly preferably used as the polymerizable portion. A compound containing an unsaturated hydrocarbon easily causes a polymerization reaction such as radical polymerization or cationic polymerization, and is suitable as a monomer used in the present invention.
ここで、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマーとしては、ポリマー915の原料として挙げたモノマーと同様のものを用いることができる。
Here, as the acrylic acid (methacrylic acid) -based monomer and epoxy-based monomer, the same monomers as those cited as the raw material of the
また、環状エーテル基の開環が起こり易いため、オキセタニル基およびエポキシ基のような環状エーテル基を有するモノマーまたはオリゴマーは、速やかに反応し得る。したがって、かかるモノマーを用いることにより、コア層13の形成時間の短縮、ひいては光導波路1の製造時間の短縮を図ることができる。
Further, since the ring opening of the cyclic ether group is likely to occur, a monomer or oligomer having a cyclic ether group such as an oxetanyl group and an epoxy group can react rapidly. Therefore, by using such a monomer, it is possible to shorten the time for forming the
環状エーテル基を有するモノマーの分子量(重量平均分子量)またはオリゴマーの分子量(重量平均分子量)は、それぞれ100以上400以下であるのが好ましい。 The molecular weight (weight average molecular weight) of the monomer having a cyclic ether group or the molecular weight (weight average molecular weight) of the oligomer is preferably 100 or more and 400 or less, respectively.
また、ビニルエーテル系モノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、n−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、n−ペンチルビニルエーテル、n−ヘキシルビニルエーテル、n−オクチルビニルエーテル、n−ドデシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類またはシクロアルキルビニルエーテル類が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of vinyl ether monomers include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, and n-octyl. Examples thereof include alkyl vinyl ethers such as vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, and cycloalkyl vinyl ethers, and one or more of these can be used in combination.
また、スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種を組み合わせて用いることができる。 Moreover, as a styrene-type monomer, styrene, divinylbenzene, etc. are mentioned, for example, These 1 type or 2 types can be used in combination.
さらに、光二量化モノマーとしては、前述した光二量化し得る化学構造を有するモノマーが挙げられ、具体的には、4,4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、ビス−(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、2,2’−ビス−[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]プロパン等が挙げられ、これらのうちの1種または2種を組み合わせて用いることができる。 Further, examples of the photodimerization monomer include monomers having a chemical structure that can be photodimerized as described above, and specifically, 4,4′-diphenylmethane bismaleimide, bis- (3-ethyl-5-methyl-4-methyl). Maleimidophenyl) methane, 2,2′-bis- [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] propane and the like can be mentioned, and one or two of these can be used in combination.
なお、これらのモノマーと前述したポリマー915との組み合わせは、特に限定されず、いかなる組み合わせであってもよい。
In addition, the combination of these monomers and the
さらに、モノマーとしては、上述した各種モノマー、すなわちアクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ノルボルネン系モノマー、ビニルエーテル系モノマー、スチレン系モノマー、光二量化モノマー等のモノマーが、同種・非同種のものを問わず2種以上併用されていてもよい。これらの組合せの中でも、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマー、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーのうちの2種以上を併用するのが好ましい。 Further, as the monomer, the above-mentioned various monomers, that is, monomers such as acrylic acid (methacrylic acid) monomer, epoxy monomer, oxetane monomer, norbornene monomer, vinyl ether monomer, styrene monomer, photodimerization monomer, and the like are the same. -Two or more types may be used in combination regardless of non-same type. Among these combinations, it is preferable to use two or more of a monomer having an oxetanyl group, an oligomer having an oxetanyl group, a monomer having an epoxy group, and an oligomer having an epoxy group in combination.
オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーは重合を開始する開始反応が遅いが、生長反応が速い。これに対し、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーは、重合を開始する開始反応が速いが、生長反応が遅い。そのため、オキセタニル基を有するモノマー、オキセタニル基を有するオリゴマーと、エポキシ基を有するモノマー、エポキシ基を有するオリゴマーとを併用することで、光を照射した際に、照射領域と未照射領域との間の屈折率差を確実に生じさせることができる。 Monomers having an oxetanyl group and oligomers having an oxetanyl group have a slow initiation reaction but a fast growth reaction. On the other hand, a monomer having an epoxy group and an oligomer having an epoxy group have a fast initiation reaction for initiating polymerization, but have a slow growth reaction. Therefore, by using a monomer having an oxetanyl group, an oligomer having an oxetanyl group, a monomer having an epoxy group, and an oligomer having an epoxy group, when irradiated with light, between the irradiated region and the unirradiated region A difference in refractive index can be reliably generated.
オキセタニル基を有するモノマーとしては、例えば、アロンオキセタン(東亞合成製)を使用することができる。 As the monomer having an oxetanyl group, for example, Aron oxetane (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) can be used.
また、モノマーは、その少なくとも一部が上述したようにオリゴマー化していてもよい。 Further, at least a part of the monomer may be oligomerized as described above.
なお、オキセタニル基を有するモノマーおよびオリゴマーやエポキシ基を有するモノマーおよびオリゴマーとしては、例えば、特開2010−090328号公報に記載されたものが挙げられる。 Examples of the monomer and oligomer having an oxetanyl group and the monomer and oligomer having an epoxy group include those described in JP 2010-090328 A.
これらのモノマーの添加量は、ポリマー915の100質量部に対し、1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、2質量部以上40質量部以下であることがより好ましい。これにより、コア部14と側面クラッド部15との間の屈折率変調をより確実に起こすことができる。
The addition amount of these monomers is preferably 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less, and more preferably 2 parts by mass or more and 40 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the
なお、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902との間で、含まれるモノマーは同じ組成のものでも、異なる組成のものでもよい。なお、同じ組成のものを用いることで、相互のモノマーの拡散移動が確実に生じるため、上述した屈折率分布Tをより明確化することができる。その結果、特性に優れた光導波路1が得られる。
The monomer contained between the optical
また、光導波路形成用組成物901がモノマーを含む一方、光導波路形成用組成物902がモノマーを含まないようにしてもよい。この場合、各クラッド層11、12では、層内でのモノマーの拡散移動が生じないので、各クラッド層11、12の層内の屈折率を均一にすることができる。
Further, the optical
((重合開始剤))
重合開始剤は、活性放射線の照射に伴ってモノマーに作用し、モノマーの反応を促すものである。
((Polymerization initiator))
The polymerization initiator acts on the monomer with irradiation of actinic radiation and promotes the reaction of the monomer.
用いる重合開始剤としては、モノマーの重合反応または架橋反応の種類に応じて適宜選択される。例えば、アクリル酸(メタクリル酸)系モノマー、スチレン系モノマーには専らラジカル重合開始剤が、エポキシ系モノマー、オキセタン系モノマー、ビニルエーテル系モノマーには専らカチオン重合開始剤が好ましく用いられる。 The polymerization initiator to be used is appropriately selected according to the type of monomer polymerization reaction or crosslinking reaction. For example, radical polymerization initiators are preferably used exclusively for acrylic acid (methacrylic acid) monomers and styrene monomers, and cationic polymerization initiators are preferably used exclusively for epoxy monomers, oxetane monomers, and vinyl ether monomers.
ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類等が挙げられる。具体的には、イルガキュア651、イルガキュア184(以上、BASFジャパン製)等が挙げられる。 Examples of the radical polymerization initiator include benzophenones and acetophenones. Specifically, Irgacure 651, Irgacure 184 (above, manufactured by BASF Japan) and the like can be mentioned.
一方、カチオン重合開始剤としては、例えば、ジアゾニウム塩のようなルイス酸発生型のもの、ヨードニウム塩、スルホニウム塩のようなブレンステッド酸発生型のもの等が挙げられる。具体的には、アデカオプトマーSP−170(ADEKA製)、サンエイドSI−100L(三新化学工業製)、Rhodorsil2074(ローディアジャパン製)等が挙げられる。 On the other hand, examples of the cationic polymerization initiator include a Lewis acid generating type such as a diazonium salt, and a Bronsted acid generating type such as an iodonium salt and a sulfonium salt. Specifically, Adekaoptomer SP-170 (manufactured by ADEKA), Sun-Aid SI-100L (manufactured by Sanshin Chemical Industry), Rhodorsil 2074 (manufactured by Rhodia Japan) and the like can be mentioned.
特に、モノマーとして環状エーテル基を有するモノマーを用いる場合には、以下のようなカチオン重合開始剤(光酸発生剤)が好ましく用いられる。 In particular, when a monomer having a cyclic ether group is used as the monomer, the following cationic polymerization initiator (photoacid generator) is preferably used.
例えば、トリフェニルスルフォニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリス(4−t−ブチルフェニル)スルホニウム−トリフルオロメタンスルホネートなどのスルホニウム塩類、p−ニトロフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェートなどのジアゾニウム塩類、アンモニウム塩類、ホスホニウム塩類、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、(トリキュミル)ヨードニウム−テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートなどのヨードニウム塩類、キノンジアジド類、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタンなどのジアゾメタン類、1−フェニル−1−(4−メチルフェニル)スルホニルオキシ−1−ベンゾイルメタン、N−ヒドロキシナフタルイミド−トリフルオロメタンサルホネートなどのスルホン酸エステル類、ジフェニルジスルホンなどのジスルホン類、トリス(2,4,6−トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(3.4−メチレンジオキシフェニル)−4,6−ビス−(トリクロロメチル)−s−トリアジンなどのトリアジン類等の化合物が、光酸発生剤として用いられる。なお、これらの光酸発生剤は、単独または複数を組み合わせて用いられる。 For example, sulfonium salts such as triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate, tris (4-t-butylphenyl) sulfonium-trifluoromethanesulfonate, diazonium salts such as p-nitrophenyldiazonium hexafluorophosphate, ammonium salts, phosphonium salts, diphenyliodonium Trifluoromethanesulfonate, iodonium salts such as (tricumyl) iodonium-tetrakis (pentafluorophenyl) borate, quinonediazides, diazomethanes such as bis (phenylsulfonyl) diazomethane, 1-phenyl-1- (4-methylphenyl) sulfonyloxy- Sulfones such as 1-benzoylmethane and N-hydroxynaphthalimide-trifluoromethanesulfonate Esters, disulfones such as diphenyldisulfone, tris (2,4,6-trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3.4-methylenedioxyphenyl) -4,6-bis- (trichloromethyl)- Compounds such as triazines such as s-triazine are used as photoacid generators. These photoacid generators may be used alone or in combination.
この他に、各種架橋剤を用いることができる。例えば、(メタ)アクリル系モノマーの架橋には、水性(メタ)アクリレート用架橋剤としてカルボジライトV−02−L2(日清紡ケミカル製)を使用することができる。 In addition, various crosslinking agents can be used. For example, carbodilite V-02-L2 (manufactured by Nisshinbo Chemical Co., Ltd.) can be used as a crosslinking agent for aqueous (meth) acrylates for crosslinking of (meth) acrylic monomers.
重合開始剤の含有量は、ポリマー100質量部に対し0.01質量部以上0.3質量部以下であることが好ましく、0.02質量部以上0.2質量部以下であることがより好ましい。これにより、反応性の向上という効果がある。 The content of the polymerization initiator is preferably 0.01 parts by mass or more and 0.3 parts by mass or less, more preferably 0.02 parts by mass or more and 0.2 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer. . Thereby, there exists an effect of a reactive improvement.
なお、本実施形態では、上述したように、光導波路形成用組成物901中の添加剤920が重合開始剤を含んでいる一方、光導波路形成用組成物902中の添加剤920は重合開始剤を含んでいないため、コア層13においてのみ、層内でモノマーの重合反応が促進され、クラッド層11、12では、モノマーの重合反応が促進されない。したがって、クラッド層11、12では屈折率の変化が抑えられ、層内での屈折率を比較的均一にすることができる。
In the present embodiment, as described above, the additive 920 in the optical
ただし、重合開始剤の添加については、上記の場合に限定されず、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902の双方が重合開始剤を含んでいてもよい。この場合、クラッド層11、12ではできるだけモノマーの重合反応を抑えることが好ましいので、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とで含まれる重合開始剤の種類や添加量を異ならせるようにすればよい。具体的には、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の高いものを用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として後述する活性放射線930の波長に対して反応性の低いものを用いればよい。また、同じ種類の重合開始剤を用いる場合には、光導波路形成用組成物901に比べて光導波路形成用組成物902への添加量を少なくすればよい。
However, the addition of the polymerization initiator is not limited to the above case, and both the optical
さらに、光導波路形成用組成物901に含まれる重合開始剤として光酸発生剤を用い、光導波路形成用組成物902に含まれる重合開始剤として熱酸発生剤を用いるようにしてもよい。これにより、活性放射線930の照射に伴って主にコア層13の層内でのみモノマーの重合反応が促進され、屈折率分布Wが形成される一方、クラッド層11、12ではモノマーの重合反応が促進されない。屈折率分布Wが形成された後、層910に熱を加えることにより、今度はクラッド層11、12においてモノマーの重合反応が促進される。その結果、層910では、厚さ方向の屈折率分布Tが固定される。
Furthermore, a photoacid generator may be used as the polymerization initiator contained in the optical
熱酸発生剤としては、例えば、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなスルホニウム塩型化合物、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ジフェニルヨードニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなヨードニウム塩型化合物、ペンタフェニルホスニウムトリフルオロメタンスルフォン酸、ペンタフェニルホスニウムノナフルオロブタンスルフォン酸のようなホスニウム塩型化合物等が挙げられる。
また、添加剤920は、モノマーや重合開始剤に加え、増感剤等を含んでいてもよい。
Examples of the thermal acid generator include sulfonium salt type compounds such as triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonic acid and triphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonic acid, diphenyliodonium trifluoromethanesulfonic acid, and diphenyliodonium nonafluorobutanesulfonic acid. Examples thereof include iodonium salt type compounds, phosnium salt type compounds such as pentaphenylphosnium trifluoromethanesulfonic acid, pentaphenylphosnium nonafluorobutanesulfonic acid, and the like.
Further, the additive 920 may contain a sensitizer and the like in addition to the monomer and the polymerization initiator.
このうち、増感剤は、光に対する重合開始剤の感度を増大して、重合開始剤の活性化(反応または分解)に要する時間やエネルギーを減少させる機能や、重合開始剤の活性化に適する波長に光の波長を変化させる機能を有するものである。 Among these, the sensitizer increases the sensitivity of the polymerization initiator to light and is suitable for the function of reducing the time and energy required for the activation (reaction or decomposition) of the polymerization initiator and for the activation of the polymerization initiator. It has a function of changing the wavelength of light to a wavelength.
このような増感剤としては、重合開始剤の感度や増感剤の吸収のピーク波長に応じて適宜選択され、特に限定されないが、たとえば、9,10−ジブトキシアントラセン(CAS番号第76275−14−4番)のようなアントラセン類、キサントン類、アントラキノン類、フェナントレン類、クリセン類、ベンツピレン類、フルオラセン類(fluoranthenes)、ルブレン類、ピレン類、インダンスリーン類、チオキサンテン−9−オン類(thioxanthen-9-ones)等が挙げられ、これらを単独または混合物として用いることができる。 Such a sensitizer is appropriately selected according to the sensitivity of the polymerization initiator and the peak wavelength of absorption of the sensitizer, and is not particularly limited. For example, 9,10-dibutoxyanthracene (CAS No. 76275) is selected. 14-4) anthracenes, xanthones, anthraquinones, phenanthrenes, chrysene, benzpyrenes, fluoranthenes, rubrenes, pyrenes, indanthrines, thioxanthen-9-ones (Thioxanthen-9-ones) and the like, and these can be used alone or as a mixture.
増感剤の具体例としては、例えば、2−イソプロピル−9H−チオキサンテン−9−オン、4−イソプロピル−9H−チオキサンテン−9−オン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、フェノチアジン(phenothiazine)またはこれらの混合物が挙げられる。 Specific examples of the sensitizer include, for example, 2-isopropyl-9H-thioxanthen-9-one, 4-isopropyl-9H-thioxanthen-9-one, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, phenothiazine. Or a mixture thereof.
増感剤の含有量は、光導波路形成用組成物901、902中で、0.01質量%以上であるのが好ましく、0.5質量%以上であるのがより好ましく、1質量%以上であるのがさらに好ましい。なお、上限値は、5質量%以下であるのが好ましい。
The content of the sensitizer is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.5% by mass or more in the optical
なお、添加剤920はこの他に、触媒前駆体、助触媒、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、フィラー、無機粒子、老化防止剤、濡れ性改良剤、帯電防止剤等を含んでいてもよい。 In addition, the additive 920 includes a catalyst precursor, a co-catalyst, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, a coating surface improver, a thermal polymerization inhibitor, a leveling agent, and a surfactant. , Colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, fillers, inorganic particles, anti-aging agents, wettability improvers, antistatic agents, and the like.
以上のようなポリマー915と添加剤920とを含有する層910は、ポリマー915中に一様に分散する添加剤920の作用により、所定の屈折率を有している。
The
[2]次に、開口(窓)9351が形成されたマスク(マスキング)935を用意し、このマスク935を介して、層910に対して活性放射線930を照射する(図16参照)。
[2] Next, a mask (masking) 935 in which an opening (window) 9351 is formed is prepared, and the
以下では、モノマーとして、ポリマー915より低い屈折率を有するものを用いる場合を一例に説明する。また、これに対応して、層910を形成するために用いた光導波路形成用組成物901、902において、ポリマー915の組成が、(光導波路形成用組成物901の屈折率)>(光導波路形成用組成物902の屈折率)の関係を満足するよう設定されている。これにより、層910では、厚さ方向の中央部が最も屈折率が高く、そこから層910の表面および裏面との間にそれぞれ極小値が存在し、かつ、屈折率が連続的に変化する屈折率分布が形成されている。
Below, the case where what has a refractive index lower than the
また、ここで示す例では、活性放射線930の照射領域925が主に側面クラッド部15となる。
In the example shown here, the
したがって、ここで示す例では、マスク935には、主に、形成すべき側面クラッド部15のパターンと等価な開口(窓)9351が形成される。この開口9351は、照射する活性放射線930が透過する透過部を有するものである。なお、コア部14や側面クラッド部15のパターンは、活性放射線930の照射に応じて形成される屈折率分布Wに基づいて決まるため、開口9351のパターンと側面クラッド部15のパターンとは完全に一致するものではなく、前記両パターンには多少のずれが生じる場合もある。
Therefore, in the example shown here, an opening (window) 9351 equivalent to the pattern of the
マスク935は、予め形成(別途形成)されたもの(例えばプレート状のもの)でも、層910上に例えば気相成膜法や塗布法により形成されたものでもよい。
The
マスク935として好ましいものの例としては、石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスク、ステンシルマスク、気相成膜法(蒸着、スパッタリング等)により形成された金属薄膜等が挙げられるが、これらの中でもフォトマスクやステンシルマスクを用いるのが特に好ましい。微細なパターンを精度良く形成することができるとともに、ハンドリングがし易く、生産性の向上に有利であるからである。
Preferred examples of the
また、図16においては、マスク935の開口(窓)9351は、活性放射線930の照射領域925のパターンに沿ってマスクを部分的に除去したものを示したが、前記石英ガラスやPET基材等で作製されたフォトマスクを用いる場合、該フォトマスク上に例えばクロム等の金属による遮蔽材で構成された活性放射線930の遮蔽部を設けたものを用いることもできる。このマスクでは、遮蔽部以外の部分が前記窓(透過部)となる。
Further, in FIG. 16, the opening (window) 9351 of the
用いる活性放射線930は、重合開始剤に対して光化学的な反応(変化)を生じさせ得るもの、および、ポリマー915に含まれる離脱性基を離脱させ得るものであればよく、例えば、可視光、紫外光、赤外光、レーザー光の他、電子線やX線等を用いることもできる。
The
これらの中でも、活性放射線930は、重合開始剤や離脱性基の種類、増感剤を含有する場合には、増感剤の種類等によって適宜選択され、特に限定されないが、波長200〜450nmの範囲にピーク波長を有するものであるのが好ましい。これにより、重合開始剤を比較的容易に活性化させるとともに、離脱性基を比較的容易に離脱させることができる。
Among these, the
また、活性放射線930の照射量は、0.1〜9J/cm2程度であるのが好ましく、0.2〜6J/cm2程度であるのがより好ましく、0.2〜3J/cm2程度であるのがさらに好ましい。
The irradiation dose of the
マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、照射領域925のうち、コア層13における照射領域9253において重合開始剤が活性化される。これにより、照射領域9253においてモノマーが重合する。モノマーが重合すると、照射領域9253におけるモノマーの量が減少するため、それに応じて未照射領域940のうち、コア層13における未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動する。前述したように、ポリマー915とモノマーは、互いに屈折率差が生じるように適宜選択されるため、モノマーの拡散移動に伴ってコア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間に屈折率差が生じる。一方、クラッド層11、12における照射領域9251、9252では、重合開始剤が含まれていないので、モノマーの重合反応が抑えられる。
When the
図18は、コア層13の照射領域9253と未照射領域9403との間で屈折率差が生じる様子を説明するための図であり、層910の横断面の幅方向の位置を横軸にとり、横断面の屈折率を縦軸にとったときの屈折率分布を示す図である。
FIG. 18 is a diagram for explaining a state in which a difference in refractive index occurs between the
本実施形態では、モノマーとしてポリマー915より屈折率が小さいものを用いているため、モノマーの拡散移動に伴い、未照射領域9403の屈折率が高くなるとともに、照射領域9253の屈折率は低くなる(図18(a)参照)。
In this embodiment, since a monomer having a refractive index smaller than that of the
モノマーの拡散移動は、照射領域9253においてモノマーが消費され、それに応じて形成されたモノマーの濃度勾配がきっかけとなって起こると考えられる。このため、未照射領域9403全体のモノマーが一斉に照射領域9253に向かうのではなく、照射領域9253に近い部分から徐々に移動が始まり、これを補うように未照射領域9403の中央部から外側へのモノマーの移動も生起される。その結果、図18(a)に示すように、照射領域9253と未照射領域9403との境界を挟んで、未照射領域9403側に高屈折率部H、照射領域9253側に低屈折率部Lが形成される。これら高屈折率部Hおよび低屈折率部Lは、それぞれ上述したようなモノマーの拡散移動に伴って形成されるため、必然的に滑らかな曲線で構成されることとなる。具体的には、高屈折率部Hは、例えば上に凸の略U字状となり、低屈折率部Lは、例えば下に凸の略U字状となる。
It is considered that the monomer diffusion movement is caused by the consumption of the monomer in the
なお、上述したようなモノマーが重合してなるポリマーの屈折率は、重合前のモノマーの屈折率とほぼ同じ(屈折率差が0〜0.001程度)であるため、照射領域9253では、モノマーの重合が進むにつれ、モノマーの量およびモノマー由来の物質の量に応じて屈折率の低下が進むこととなる。したがって、ポリマーに対するモノマーの量あるいは重合開始剤の量等を適宜調整することにより、屈折率分布Wの形状を制御することができる。 The refractive index of the polymer obtained by polymerizing the monomers as described above is almost the same as the refractive index of the monomer before polymerization (difference in refractive index is about 0 to 0.001). As the polymerization proceeds, the refractive index decreases according to the amount of the monomer and the amount of the substance derived from the monomer. Therefore, the shape of the refractive index distribution W can be controlled by appropriately adjusting the amount of monomer or polymerization initiator relative to the polymer.
一方、未照射領域9403では、重合開始剤が活性化されないため、モノマーの重合は促進されない。
On the other hand, in the
また、照射領域9253ではモノマーの重合が進むにつれてモノマーの拡散移動の容易性が徐々に低下する。これにより、照射領域9253では、未照射領域9403に近いほど自ずとモノマーの濃度が高くなり、屈折率の低下量が大きくなる。その結果、照射領域9253に形成される低屈折率部Lの分布形状は、左右非対称になり易く、未照射領域9403側の勾配はより急峻なものとなる。これにより、本発明に係る光導波路が有する屈折率分布Wが形成される。
In addition, in the
また、ポリマー915は前述したように離脱性基を有しているのが好ましい。この離脱性基は活性放射線930の照射に伴って離脱し、ポリマー915の屈折率を低下させる。したがって、照射領域9253に活性放射線930が照射されると、前述したモノマーの拡散移動が開始されるとともに、ポリマー915から離脱性基が離脱し、照射領域9253の屈折率は照射前から低下することとなる(図18(b)参照)。
The
この屈折率の低下は、照射領域9253全体で一律に生じるため、前述した高屈折率部Hと低屈折率部Lの屈折率差は、より拡大される。その結果、図18(b)に示す屈折率分布Wが得られる。なお、図18(a)における屈折率の変化と、図18(b)における屈折率の変化は、ほぼ同時に起こる。このような屈折率変化によってこの屈折率差はさらに拡大することとなる。
Since this decrease in refractive index occurs uniformly in the
なお、活性放射線930の照射量を調整することにより、形成される屈折率差および屈折率分布の形状を制御することができ、例えば、照射量を多くすることで、屈折率差を拡大することができる。また、活性放射線930の照射前に層910を乾燥させてもよいが、その際の乾燥の程度を調整することにより、屈折率分布の形状を制御することもできる。例えば、乾燥の程度を大きくすることで、モノマーの拡散移動量を抑えることができる。
In addition, the refractive index difference and the shape of the refractive index distribution to be formed can be controlled by adjusting the irradiation amount of the
また、照射領域9253では、コア層13中の未照射領域9403からのモノマーの拡散移動のみならず、照射領域925のうち、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252からのモノマーの拡散移動も生じる。これにより、照射領域9253では、さらに屈折率の低下が生じることとなる。一方、照射領域9251および照射領域9252では、モノマーの拡散移動に伴って屈折率の上昇が生じるが、この領域ではそもそも屈折率が低くなるようポリマー915の組成等が設定されているので、屈折率の上昇が生じても光導波路1の機能を損なうことはない。
In the
また、クラッド層11における照射領域9251およびクラッド層12における照射領域9252では、コア層13における照射領域9253と同様、離脱性基の離脱が生じ、ポリマー915の屈折率が低下する。その結果、照射領域9251および照射領域9252においても、さらなる屈折率の低下が生じる。
Further, in the
以上のような原理で、屈折率分布Wを有する光導波路1が得られる(図17参照)。このような光導波路1は、ポリマー915中にモノマーが分散してなる光導波路形成用組成物で構成された層910に対して部分的に活性放射線930を照射し、モノマーを拡散移動、偏在させることにより、層910内に屈折率の偏りを生じさせてなる屈折率分布Wを有するものである。また、このような光導波路1は、単に活性放射線930を部分的に照射するのみで形成可能であり、しかも伝送効率の高いものとなるので、コア部14や側面クラッド部15の幅やピッチが狭くても、高品質な光通信が可能なものとなる。したがって、光導波路1は、多チャンネル化および高密度化が容易なものとなる。
Based on the above principle, the
なお、屈折率分布Wにおいては、低屈折率部Lが転化した極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4が存在しており(図4(b)参照)、これらの極小値の位置がコア部14と側面クラッド部15との界面に相当する。
In the refractive index distribution W, there are minimum values Ws1, Ws2, Ws3, and Ws4 converted from the low refractive index portion L (see FIG. 4B), and the positions of these minimum values are the
また、モノマーとしてポリマー915より高い屈折率を有するものを用いる場合には、上記と反対に、モノマーの拡散移動に伴って移動先の屈折率が高くなるため、それに応じて、照射領域925および未照射領域940を設定するようにすればよい。
In addition, when a monomer having a higher refractive index than that of the
また、ポリマー915のショアD硬度は、35〜95程度であるのが好ましく、40〜90程度であるのがより好ましく、45〜85程度であるのがさらに好ましい。このような硬度のポリマー915は、光導波路1に必要かつ十分な可撓性と抗折性とを付与しつつ、モノマーを確実に拡散移動させ、十分な屈折率差の形成に寄与する。したがって、得られた光導波路1は、折り曲げ使用に適した十分な柔軟性と機械的強度とを備えるとともに、折り曲げた状態でも優れた光学特性を有するものとなる。
The Shore D hardness of the
同様に、ポリマー915のロックウェル硬度は、Mスケールで40〜125程度であるのが好ましく、50〜115程度であるのがより好ましく、60〜110程度であるのがさらに好ましい。
Similarly, the Rockwell hardness of the
また、ポリマー915の軟化点は、90℃以上、300℃以下であるのが好ましく、より好ましくは、95〜280℃であり、特に好ましくは、100〜260℃である。これにより、得られた光導波路1は、屈折率分布Wを確実に形成し、かつ形成された屈折率分布Wを長期にわたって確実に維持し得るとともに、折り曲げた状態で使用しても断線を防止し得る十分な機械的強度を備えたものとなる。したがって、光導波路1は、光学特性に優れた信頼性の高いものとなる。なお、ポリマー915の軟化点は、ポリマー915のガラス転移温度または融点であり、双方あるときは低い方を指す。
Moreover, it is preferable that the softening point of the
なお、活性放射線930の照射は、必要に応じて、窒素雰囲気、アルゴン雰囲気のような不活性ガス雰囲気下で行うようにしてもよい。これにより、ポリマー915やモノマーの酸化、変性を抑制することができ、より光学特性の高い光導波路1を得ることができる。
Note that the irradiation with the
一方、活性放射線930を照射する前の層910には、図19(a)に示すように、その厚さ方向において、屈折率分布T’が形成されている。この屈折率分布T’は、前述したように、互いに屈折率の異なる光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とを用い、多色成形法によって層910を得たことにより形成されたものである。
On the other hand, as shown in FIG. 19A, a refractive index distribution T ′ is formed in the
ここで、マスク935を介して層910に活性放射線930を照射すると、光導波路形成用組成物901と光導波路形成用組成物902とでモノマーの含有率に差がある場合、未照射領域9403中のモノマーが照射領域9253に拡散移動するため、コア部14の厚さ方向における屈折率分布T’においても、コア部14に対応する領域の屈折率が高くなる。一方、コア部14の上下に位置するクラッド層11、12では、屈折率が変化しないため、結果的に、コア部14とその上下のクラッド層11、12との間で屈折率差が拡大することとなる。
Here, when the
以上のような原理で、極大値と極小値との間で屈折率差の大きい屈折率分布Tを有する光導波路1が得られる(図19(b)参照)。なお、屈折率分布T’において、すでに十分な効果が認められるような屈折率分布の形状が実現されている場合には、上述した屈折率分布T’から屈折率分布Tへの変化は省略されてもよい。
Based on the principle as described above, the
なお、屈折率分布Wは、コア層13中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Wを間接的に特定することが可能である。
The refractive index distribution W has a certain correlation with the monomer-derived structure concentration in the
同様に、屈折率分布Tは、光導波路1中のモノマー由来の構造体濃度に一定の相関関係を有している。したがって、このモノマー由来の構造体の濃度を測定することにより、光導波路1が有する屈折率分布Tを間接的に特定することが可能である。
Similarly, the refractive index distribution T has a certain correlation with the monomer-derived structure concentration in the
なお、モノマー由来の構造体とは、モノマー、モノマーが反応してなるオリゴマー、およびモノマーが反応してなるポリマー等、モノマーの未反応物か反応に伴って形成される構造体のことである。 The monomer-derived structure refers to a structure formed by reaction of an unreacted monomer or a monomer such as a monomer, an oligomer obtained by reacting the monomer, and a polymer obtained by reacting the monomer.
構造体の濃度の測定は、例えば、FT−IR、TOF−SIMSの線分析、面分析等を用いて行うことができる。 The concentration of the structure can be measured using, for example, FT-IR, TOF-SIMS line analysis, surface analysis, or the like.
さらには、光導波路1の出射光の強度分布が、屈折率分布Wあるいは屈折率分布Tと一定の相関関係を有していることを利用しても、屈折率分布Wおよび屈折率分布Tを間接的に特定することができる。
Further, the refractive index distribution W and the refractive index distribution T can be obtained by utilizing the fact that the intensity distribution of the emitted light from the
また、例えば、(1)干渉顕微鏡(dual−beam interference microscope)を用いて屈折率依存の干渉縞を観測し、その干渉縞から屈折率分布を算出するという方法、(2)屈折ニアフィールド法(Refracted Near Field method;RNF)により直接測定することが可能である。このうち、屈折ニアフィールド法は、例えば特開平5−332880号公報に記載の測定条件を採用することができる。一方、干渉顕微鏡は、屈折率分布の測定を簡便に行い得る点で好ましく用いられる。 In addition, for example, (1) a method of observing a refractive index dependent interference fringe using a dual-beam interference microscope and calculating a refractive index distribution from the interference fringe, (2) a refractive near field method ( It is possible to measure directly by means of a refractionated near field method (RNF). Among these, the refractive near field method can employ the measurement conditions described in, for example, JP-A-5-332880. On the other hand, the interference microscope is preferably used in that the refractive index distribution can be easily measured.
以下、干渉顕微鏡を使用した屈折率分布の測定手順の一例について説明する。まず、断面方向(幅方向)に光導波路をスライスして、光導波路断片を得る。例えば、光導波路の長さが200〜300μmとなるようにスライスする。次いで、2つのスライドガラスで囲まれた空間に、屈折率1.536のオイルで充填したチャンバーを作製する。そして、チャンバー内の空間に、光導波路断片を挟み込んで測定サンプル部と、光導波路断片を入れていないブランクサンプル部とを作製する。次いで、干渉顕微鏡を使用し、2つに分けた光をそれぞれ測定サンプル部とブランクサンプル部に照射した後、透過光を統合することによって干渉縞写真を得る。干渉縞は光導波路断片の屈折率分布(位相分布)に伴って発生するものであるので、得られた干渉縞写真を画像解析することにより、光導波路の幅方向の屈折率分布Wを得ることができる。なお、屈折率分布Wを取得する際には、複数の干渉縞写真を画像解析することで屈折率分布Wの精度を高めることができる。複数の干渉縞写真を得るときには、干渉顕微鏡内のプリズムを移動させることにより、光路長を変化させ、干渉縞の間隔や干渉縞のできる箇所を互いに異ならせた写真を得るようにすればよい。また、干渉縞写真を画像解析する際には、例えば2.5μmの間隔で解析点を設定すればよい。 Hereinafter, an example of a procedure for measuring the refractive index distribution using an interference microscope will be described. First, the optical waveguide is sliced in the cross-sectional direction (width direction) to obtain an optical waveguide fragment. For example, the optical waveguide is sliced so that the length is 200 to 300 μm. Next, a chamber filled with oil having a refractive index of 1.536 is produced in a space surrounded by two glass slides. And a measurement sample part and a blank sample part which does not put an optical waveguide fragment are produced by inserting an optical waveguide fragment in a space in the chamber. Next, using an interference microscope, the measurement sample portion and the blank sample portion are respectively irradiated with the light divided into two, and then the transmitted light is integrated to obtain an interference fringe photograph. Since the interference fringes are generated with the refractive index distribution (phase distribution) of the optical waveguide fragment, the refractive index distribution W in the width direction of the optical waveguide is obtained by image analysis of the obtained interference fringe photograph. Can do. In addition, when acquiring the refractive index distribution W, the accuracy of the refractive index distribution W can be improved by image analysis of a plurality of interference fringe photographs. When obtaining a plurality of interference fringe photographs, it is only necessary to change the optical path length by moving the prism in the interference microscope to obtain photographs having different interference fringe spacings and interference fringe spots. Further, when image analysis is performed on the interference fringe photograph, for example, analysis points may be set at intervals of 2.5 μm.
また、活性放射線930として、レーザー光のように指向性の高い光を用いる場合には、マスク935の使用を省略してもよい。
In addition, when light having high directivity such as laser light is used as the
次に、必要に応じて、層910に加熱処理を施す。この加熱処理において、光を照射したコア層13の照射領域9253中のモノマーがさらに重合する。
Next, heat treatment is performed on the
この加熱処理における加熱温度は、特に限定されないが、30〜180℃程度であるのが好ましく、40〜160℃程度であるのがより好ましい。 The heating temperature in this heat treatment is not particularly limited, but is preferably about 30 to 180 ° C, and more preferably about 40 to 160 ° C.
また、加熱時間は、照射領域925のモノマーの重合反応がほぼ完了するように設定するのが好ましく、具体的には、0.1〜2時間程度であるのが好ましく、0.1〜1時間程度であるのがより好ましい。
Further, the heating time is preferably set so that the polymerization reaction of the monomer in the
なお、この加熱処理は必要に応じて行えばよく、省略してもよい。
以上により、光導波路1が得られる。
Note that this heat treatment may be performed as necessary and may be omitted.
Thus, the
その後、必要に応じて、支持基板951から光導波路1を剥離するとともに、光導波路1の下面に支持フィルム2を積層し、上面にカバーフィルム3を積層する。
Thereafter, if necessary, the
また、コア層13を複数層含むように層910を形成した場合、これに活性放射線930を照射すると、1回の照射で複数のコア層13に対して一括にコア部14および側面クラッド部15を形成することができる。このため、複数のコア層13を有する光導波路1を少ない工程で製造することができる。またこの場合、複数のコア層13の間においてコア部14の位置ずれはほとんど起こり得ない。したがって、寸法精度が極めて高い光導波路1が得られる。このような光導波路1は、受発光素子等との光結合に際して、光結合効率が特に高いものとなる。
Further, when the
<電子機器>
上述したような本発明の光導波路モジュールが備える光導波路は、光伝送効率に優れたものである。このため、このような光導波路を備えることにより、2点間で高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器(本発明の電子機器)が得られる。
<Electronic equipment>
The optical waveguide provided in the optical waveguide module of the present invention as described above is excellent in light transmission efficiency. For this reason, by providing such an optical waveguide, a highly reliable electronic device (electronic device of the present invention) capable of performing high-quality optical communication between two points can be obtained.
本発明の光導波路モジュールを備える電子機器としては、例えば、携帯電話、ゲーム機、ルーター装置、WDM装置、パソコン、テレビ、ホーム・サーバー等の電子機器類が挙げられる。これらの電子機器では、いずれも、例えばLSI等の演算装置とRAM等の記憶装置との間で、大容量のデータを高速に伝送する必要がある。したがって、このような電子機器が本発明の光導波路モジュールを備えることにより、電気配線に特有なノイズ、信号劣化等の不具合が解消され、その性能の飛躍的な向上が期待できる。 Examples of the electronic device including the optical waveguide module of the present invention include electronic devices such as a mobile phone, a game machine, a router device, a WDM device, a personal computer, a television, and a home server. In any of these electronic devices, it is necessary to transmit a large amount of data at high speed between an arithmetic device such as an LSI and a storage device such as a RAM. Therefore, by providing such an electronic device with the optical waveguide module of the present invention, problems such as noise and signal degradation peculiar to electric wiring are eliminated, and a dramatic improvement in performance can be expected.
さらに、光導波路部分では、電気配線に比べて発熱量が大幅に削減される。このため、冷却に要する電力を削減することができ、電子機器全体の消費電力を削減することができる。 In addition, the amount of heat generated in the optical waveguide portion is greatly reduced compared to electrical wiring. For this reason, the electric power required for cooling can be reduced and the power consumption of the whole electronic device can be reduced.
また、本発明の光導波路モジュールは、伝送損失およびパルス信号の鈍りが小さく、多チャンネル化および高密度化してもクロストークが生じ難い。このため、高密度かつ小面積でも信頼性の高い光導波路モジュールが得られ、この光導波路モジュールを搭載することで、電子機器の信頼性向上および小型化が図られる。 Further, the optical waveguide module of the present invention has small transmission loss and pulse signal dullness, and crosstalk hardly occurs even when the number of channels is increased and the density is increased. For this reason, an optical waveguide module with high density and small area and high reliability can be obtained. By mounting this optical waveguide module, the reliability of electronic equipment can be improved and the size can be reduced.
以上、本発明の光導波路モジュールおよび電子機器について説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、例えば光導波路には、任意の構成物が付加されていてもよい。 The optical waveguide module and the electronic device of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to this, and for example, an arbitrary component may be added to the optical waveguide.
また、本発明に係る光導波路を製造する方法は、上記の方法に限定されず、例えば、活性放射線の照射により分子結合を切断し、屈折率を変化させる方法(フォトブリーチ法)、コア層を形成する組成物に光異性化または光二量化可能な不飽和結合を有する光架橋性ポリマーを含有させ、これに活性放射線を照射して分子構造を変化させるとともに屈折率を変化させる方法(光異性化法・光二量化法)等の方法を用いることもできる。 In addition, the method of manufacturing the optical waveguide according to the present invention is not limited to the above method. For example, a method of cutting molecular bonds by irradiation with active radiation and changing a refractive index (photo bleach method), a core layer A method in which a photocrosslinkable polymer having an unsaturated bond capable of photoisomerization or photodimerization is contained in the composition to be formed, and this is irradiated with actinic radiation to change the molecular structure and change the refractive index (photoisomerization). Or other methods such as photodimerization method).
これらの方法では、活性放射線の照射量に応じて屈折率の変化量を調整することができるので、目的とする屈折率分布Wの形状に応じて層の各部に照射する活性放射線の照射量を異ならせることにより、屈折率分布Wを有するコア層を形成することができる。 In these methods, since the amount of change in the refractive index can be adjusted according to the irradiation amount of the active radiation, the irradiation amount of the active radiation applied to each part of the layer according to the shape of the target refractive index distribution W is set. By making them different, a core layer having a refractive index distribution W can be formed.
次に、本発明の実施例について説明する。
1.光導波路の製造
(実施例1)
(1)クラッド層形成用樹脂組成物の製造
ダイセル化学工業(株)製の脂環式エポキシ樹脂、セロキサイド2081 20g、(株)ADEKA製のカチオン重合開始剤、アデカオプトマーSP−170 0.6g、およびメチルイソブチルケトン80gを撹拌混合して溶液を調製した。
Next, examples of the present invention will be described.
1. Production of optical waveguide (Example 1)
(1) Production of Cladding Layer Forming Resin Composition Daicel Chemical Industries, Ltd. Alicyclic Epoxy Resin, Celoxide 2081 20 g, ADEKA Co., Ltd. Cationic Polymerization Initiator, Adekaoptomer SP-170 0.6 g A solution was prepared by stirring and mixing 80 g of methyl isobutyl ketone.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物E1を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered through a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean and colorless and transparent resin composition E1 for forming a cladding layer.
(2)感光性樹脂組成物の製造
エポキシ系ポリマーとして新日鐵化学(株)製のフェノキシ樹脂、YP−50S 20g、モノマーとしてダイセル化学工業(株)製のセロキサイド2021P 5g、および重合開始剤として(株)ADEKA製のアデカオプトマーSP−170 0.4gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解して溶液を調製した。
(2) Production of photosensitive resin composition As an epoxy polymer, phenoxy resin manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., 20 g of YP-50S, 5 g of Celoxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. as a monomer, and a polymerization initiator Adekaoptomer SP-170 (0.4 g) manufactured by ADEKA Co., Ltd. was charged into 80 g of methyl isobutyl ketone, and dissolved by stirring to prepare a solution.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物F1を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean and colorless photosensitive resin composition F1.
(3)下側クラッド層の作製
クラッド層形成用樹脂組成物E1をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した樹脂組成物E1を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。
(3) Production of lower clad layer The clad layer-forming resin composition E1 was uniformly applied onto a polyimide film having a thickness of 25 µm by a doctor blade, and then placed in a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent, the entire surface was irradiated with ultraviolet rays with a UV exposure machine to cure the applied resin composition E1. As a result, a colorless and transparent lower cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .
(4)コア層の作製
作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物F1をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン(コア部の幅)、スペース(クラッド部の幅)の直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は800mJ/cm2とした。
(4) Production of core layer After the photosensitive resin composition F1 was uniformly applied by a doctor blade on the produced lower clad layer, it was put into a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask having a linear pattern of lines (core portion width) and spaces (cladding portion width) drawn on the entire surface was pressure-bonded onto the obtained film. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask with a parallel exposure machine. The cumulative amount of ultraviolet light was 800 mJ / cm 2 .
次いで、フォトマスクを取り去り、150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。コア部の平均幅WCOと側面クラッド部の平均幅WCLとをそれぞれ表1に示す。また、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。 Next, the photomask was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern appeared on the coating. Table 1 shows the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portion. Further, the thickness of the obtained core layer was 50 μm, and the number of core portions was eight.
(5)上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、(3)と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物E1を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。
(5) Production of upper clad layer On the produced core layer, the clad layer forming resin composition E1 was applied in the same manner as in (3) to obtain a colorless and transparent upper clad layer having a thickness of 10 µm. An optical waveguide was obtained as described above.
(6)屈折率分布の評価
そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。
(6) Evaluation of refractive index distribution And about the cross section of the core layer of the obtained optical waveguide, the refractive index distribution W of the width direction was acquired with the interference microscope. As a result, the refractive index distribution W had a plurality of minimum values and maximum values, and the refractive index changed continuously.
(実施例2〜9)
ポリマーの組成、モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表1に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表1に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例1と同様にして光導波路を得た。
(Examples 2-9)
The composition of the polymer, the composition and content of the monomer, and the cumulative amount of ultraviolet light are set as shown in Table 1, and the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions are the values shown in Table 1, respectively. An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 1 except that the photomask pattern was set as described above.
(実施例10)
(1)(メタ)アクリル系ポリマーの合成
メタクリル酸メチル(MMA)20.0g、ベンジルメタクリレート(BzMA)30.0g、およびメチルイソブチルケトン450gをセパラブルフラスコに投入し、撹拌混合したのち、窒素ガスで置換してモノマー溶液を調製した。
(Example 10)
(1) Synthesis of (meth) acrylic polymer 20.0 g of methyl methacrylate (MMA), 30.0 g of benzyl methacrylate (BzMA), and 450 g of methyl isobutyl ketone were put into a separable flask and mixed with stirring. To prepare a monomer solution.
一方、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル0.25gをメチルイソブチルケトン10gに溶解したのち、窒素ガスで置換して開始剤溶液を調製した。 On the other hand, 0.25 g of azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator was dissolved in 10 g of methyl isobutyl ketone and then substituted with nitrogen gas to prepare an initiator solution.
そして、前記モノマー溶液を80℃に加熱した状態で撹拌しつつ、シリンジを用いて前記開始剤溶液を前記モノマー溶液に添加した。そのまま80℃で1時間撹拌したのちに冷却し、重合体溶液を調製した。その後、5Lのイソプロパノールをビーカーに準備し、攪拌機により常温下で撹拌しつつ、ビーカー内に前記重合体溶液を滴下した。滴下が完了してからも引き続き30分間撹拌し、その後沈殿したポリマーを取り出し、真空乾燥機にて減圧下60℃で8時間乾燥させた。これにより、アクリル系ポリマーA1を得た。 And the said initiator solution was added to the said monomer solution using the syringe, stirring the said monomer solution in the state heated at 80 degreeC. The mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour and then cooled to prepare a polymer solution. Thereafter, 5 L of isopropanol was prepared in a beaker, and the polymer solution was dropped into the beaker while stirring at room temperature with a stirrer. After completion of dropping, the mixture was further stirred for 30 minutes, and then the precipitated polymer was taken out and dried at 60 ° C. under reduced pressure for 8 hours in a vacuum dryer. Thereby, acrylic polymer A1 was obtained.
(2)クラッド層形成用樹脂組成物の製造
互応化学工業(株)製の水性アクリレート樹脂溶液RD−180 20g、イソプロパノール20g、および重合開始剤として日清紡ケミカル(株)カルボジライトV−02−L2 0.4gを撹拌混合して溶液を調製した。
(2) Manufacture of resin composition for forming clad layer 20 g of aqueous acrylate resin solution RD-180 manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., 20 g of isopropanol, and Nisshinbo Chemical Co., Ltd. Carbodilite V-02-L2 4 g was stirred and mixed to prepare a solution.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明なクラッド層形成用樹脂組成物B1を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean, colorless and transparent resin composition B1 for forming a cladding layer.
(3)感光性樹脂組成物の製造
合成したアクリル系ポリマーA1 20gと、モノマーとしてメタクリル酸シクロヘキシル5gと、重合開始剤としてBASFジャパン(株)製イルガキュア651 0.4gを、メチルイソブチルケトン80g中に投入し、撹拌溶解し溶液を調製した。
(3) Production of photosensitive resin composition 20 g of synthesized acrylic polymer A1, 5 g of cyclohexyl methacrylate as a monomer, 0.4 g of Irgacure 651 manufactured by BASF Japan Ltd. as a polymerization initiator, in 80 g of methyl isobutyl ketone The solution was stirred and dissolved to prepare a solution.
次いで、得られた溶液を0.2μm孔径のPTFEフィルターでろ過して清浄で無色透明な感光性樹脂組成物C1を得た。 Subsequently, the obtained solution was filtered with a PTFE filter having a pore size of 0.2 μm to obtain a clean and colorless photosensitive resin composition C1.
(4)下側クラッド層の作製
クラッド層形成用樹脂組成物B1をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、80℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、さらに150℃のオーブンに10分間投入し、硬化させて厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。
(4) Production of lower clad layer The clad layer-forming resin composition B1 was uniformly applied onto a polyimide film having a thickness of 25 µm by a doctor blade, and then placed in a dryer at 80 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent, it was further put into an oven at 150 ° C. for 10 minutes and cured to obtain a colorless and transparent lower clad layer having a thickness of 10 μm.
(5)コア層の作製
作製した下側クラッド層上に感光性樹脂組成物C1をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は700mJ/cm2とした。
(5) Production of core layer After the photosensitive resin composition C1 was uniformly applied by a doctor blade on the produced lower clad layer, it was put into a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask having a linear pattern of lines and spaces drawn on the entire surface was pressure-bonded onto the obtained film. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask with a parallel exposure machine. The cumulative amount of ultraviolet light was 700 mJ / cm 2 .
次いで、フォトマスクを取り去り、150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。コア部の平均幅WCOと側面クラッド部の平均幅WCLとをそれぞれ表2に示す。また、得られたコア層の厚さは50μm、コア部の本数は8本とした。 Next, the photomask was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern appeared on the coating. Table 2 shows the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions. Further, the thickness of the obtained core layer was 50 μm, and the number of core portions was eight.
(6)上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、(4)と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物B1を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。
(6) Production of upper clad layer On the produced core layer, the clad layer-forming resin composition B1 was applied in the same manner as in (4) to obtain a colorless and transparent upper clad layer having a thickness of 10 µm. An optical waveguide was obtained as described above.
(7)屈折率分布の評価
そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。
(7) Evaluation of refractive index distribution And about the cross section of the core layer of the obtained optical waveguide, the refractive index distribution W of the width direction was acquired with the interference microscope. As a result, the refractive index distribution W had a plurality of minimum values and maximum values, and the refractive index changed continuously.
(実施例11〜13)
モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表2に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表2に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例10と同様にして光導波路を得た。
(Examples 11 to 13)
The composition and content of the monomer and the integrated light quantity of ultraviolet rays are set as shown in Table 2, and the photomask is set so that the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions are the values shown in Table 2, respectively. An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 10 except that the above pattern was set.
(実施例14)
(1)離脱性基を有するポリオレフィン系樹脂の合成
水分および酸素濃度がいずれも1ppm以下に制御され、乾燥窒素で満たされたグローブボックス中において、ヘキシルノルボルネン(HxNB)7.2g(40.1mmol)、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン12.9g(40.1mmol)を500mLバイアル瓶に計量し、脱水トルエン60gと酢酸エチル11gを加え、シリコン製のシーラーを被せて上部を密栓した。
(Example 14)
(1) Synthesis of polyolefin-based resin having a leaving group In a glove box filled with dry nitrogen, both moisture and oxygen concentrations are controlled to 1 ppm or less, and 7.2 g (40.1 mmol) of hexylnorbornene (HxNB) Then, 12.9 g (40.1 mmol) of diphenylmethylnorbornenemethoxysilane was weighed into a 500 mL vial, 60 g of dehydrated toluene and 11 g of ethyl acetate were added, and the top was sealed with a silicon sealer.
次に、100mLバイアルビン中にNi触媒1.56g(3.2mmol)と脱水トルエン10mLを計量し、スターラーチップを入れて密栓し、触媒を十分に撹拌して完全に溶解させた。 Next, 1.56 g (3.2 mmol) of Ni catalyst and 10 mL of dehydrated toluene were weighed in a 100 mL vial, and a stirrer chip was placed and sealed, and the catalyst was thoroughly stirred to dissolve completely.
このNi触媒溶液1mLをシリンジで正確に計量し、上記2種のノルボルネンを溶解させたバイアル瓶中に定量的に注入し室温で1時間撹拌したところ、著しい粘度上昇が確認された。この時点で栓を抜き、テトラヒドロフラン(THF)60gを加えて撹拌を行い、反応溶液を得た。 When 1 mL of this Ni catalyst solution was accurately weighed with a syringe, and quantitatively injected into the vial bottle in which the two kinds of norbornene were dissolved and stirred at room temperature for 1 hour, a marked increase in viscosity was confirmed. At this point, the stopper was removed, 60 g of tetrahydrofuran (THF) was added, and the mixture was stirred to obtain a reaction solution.
100mLビーカーに無水酢酸9.5g、過酸化水素水18g(濃度30%)、イオン交換水30gを加えて撹拌し、その場で過酢酸水溶液を調製した。次にこの水溶液全量を上記反応溶液に加えて12時間撹拌してNiの還元処理を行った。
In a 100 mL beaker, 9.5 g of acetic anhydride, 18 g of hydrogen peroxide (
次に、処理の完了した反応溶液を分液ロートに移し替え、下部の水層を除去した後、イソプロピルアルコールの30%水溶液を100mL加えて激しく撹拌を行った。静置して完全に二層分離が行われた後で水層を除去した。この水洗プロセスを合計で3回繰り返した後、油層を大過剰のアセトン中に滴下して生成したポリマーを再沈殿させ、ろ過によりろ液と分別した後、60℃に設定した真空乾燥機中で12時間加熱乾燥を行うことにより、ポリマー#1を得た。ポリマー#1の分子量分布は、GPC測定により、Mw=10万、Mn=4万であった。また、ポリマー#1中の各構造単位のモル比は、NMRによる同定により、ヘキシルノルボルネン構造単位が50mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位が50mol%であった。
Next, the treated reaction solution was transferred to a separatory funnel, the lower aqueous layer was removed, and then 100 mL of a 30% aqueous solution of isopropyl alcohol was added and vigorously stirred. The aqueous layer was removed after standing and completely separating the two layers. After repeating this water washing process three times in total, the oil layer was dropped into a large excess of acetone to reprecipitate the polymer produced, separated from the filtrate by filtration, and then in a vacuum dryer set at 60 °
(2)コア層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1 10gを100mLのガラス容器に秤量し、これにメシチレン40g、酸化防止剤Irganox1076(チバガイギー社製)0.01g、シクロヘキシルオキセタンモノマー(東亜合成製 CHOX、CAS#483303−25−9、分子量186、沸点125℃/1.33kPa)2g、重合開始剤(光酸発生剤) RhodorsilPhotoinitiator 2074(Rhodia社製、CAS# 178233−72−2)(0.025g、酢酸エチル0.1mL中)を加え均一に溶解させた後、0.2μmのPTFEフィルターによりろ過を行い、清浄なコア層形成用組成物を得た。なお、ポリマー#1は、活性放射線の照射により離脱性基が離脱する機能を有しており、いわゆるフォトブリーチング現象が生じるものである。また、前記重合開始剤は、表3中においてPI 2074と表記する。
(2) Production of composition for forming core layer 10 g of the above-mentioned
(3)クラッド層形成用組成物の製造
精製した上記ポリマー#1の各構造単位のモル比を、ヘキシルノルボルネン構造単位80mol%、ジフェニルメチルノルボルネンメトキシシラン構造単位20mol%にそれぞれ変更したものを、前記ポリマー#1に代えて用いるようにした以外はコア層形成用組成物と同様にしてクラッド層形成用組成物を得た。
(3) Manufacture of the composition for forming a clad layer The molar ratio of each structural unit of the purified
(4)下側クラッド層の作製
クラッド層形成用組成物をドクターブレードにより厚さ25μmのポリイミドフィルム上に均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去した後、UV露光機で全面に紫外線を照射し、塗布した組成物を硬化させた。これにより、厚さ10μmの無色透明な下側クラッド層を得た。なお、紫外線の積算光量は500mJ/cm2とした。
(4) Production of lower clad layer The clad layer forming composition was uniformly applied onto a polyimide film having a thickness of 25 µm by a doctor blade, and then placed in a dryer at 50 ° C for 10 minutes. After completely removing the solvent, the entire surface was irradiated with UV light by a UV exposure machine to cure the applied composition. As a result, a colorless and transparent lower cladding layer having a thickness of 10 μm was obtained. The cumulative amount of ultraviolet light was 500 mJ / cm 2 .
(5)コア層の作製
作製した下側クラッド層上にコア層樹脂組成物をドクターブレードにより均一に塗布した後、50℃の乾燥機に10分間投入した。溶媒を完全に除去して被膜とした後、得られた被膜上に、ライン、スペースの直線パターンが全面に描かれたフォトマスクを圧着した。そして、フォトマスク上から平行露光機により紫外線を照射した。なお、紫外線の積算光量は1300mJ/cm2とした。
(5) Preparation of core layer After apply | coating the core layer resin composition uniformly with a doctor blade on the produced lower clad layer, it injected | thrown-in to the 50 degreeC drying machine for 10 minutes. After completely removing the solvent to form a film, a photomask having a linear pattern of lines and spaces drawn on the entire surface was pressure-bonded onto the obtained film. Then, ultraviolet rays were irradiated from above the photomask with a parallel exposure machine. The integrated light quantity of ultraviolet rays was 1300 mJ / cm 2 .
次いで、フォトマスクを取り去り、150℃のオーブンに30分間投入した。オーブンから取り出すと、被膜には鮮明な導波路パターンが現れているのが確認された。得られたコア層の厚さは50μmであった。また、コア部の本数は8本とした。 Next, the photomask was removed and placed in an oven at 150 ° C. for 30 minutes. Upon removal from the oven, it was confirmed that a clear waveguide pattern appeared on the coating. The thickness of the obtained core layer was 50 μm. The number of core portions was eight.
(6)上側クラッド層の作製
作製したコア層上に、(3)と同様にしてクラッド層形成用樹脂組成物を塗布し、厚さ10μmの無色透明な上側クラッド層を得た。以上のようにして光導波路を得た。
(6) Production of upper clad layer A clad layer-forming resin composition was applied to the produced core layer in the same manner as in (3) to obtain a colorless and transparent upper clad layer having a thickness of 10 µm. An optical waveguide was obtained as described above.
(7)屈折率分布の評価
そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、屈折率が連続的に変化したものであった。
(7) Evaluation of refractive index distribution And about the cross section of the core layer of the obtained optical waveguide, the refractive index distribution W of the width direction was acquired with the interference microscope. As a result, the refractive index distribution W had a plurality of minimum values and maximum values, and the refractive index changed continuously.
(実施例15、16)
モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表3に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表3に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例14と同様にして光導波路を得た。
(Examples 15 and 16)
The composition and content of the monomer and the integrated light quantity of ultraviolet rays are set as shown in Table 3, and the photomask is set so that the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions are values shown in Table 3, respectively. An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 14 except that the above pattern was set.
(実施例17)
(1)光導波路の製造
実施例14に用いた光導波路形成用組成物を用い、図13に示すダイコーターにより、ポリエーテルスルホン(PES)フィルム上に多色押出成形を行った。これにより、コア層形成用組成物を中間層とし、クラッド層形成用組成物を下層および上層とする多色成形体を得た。これを60℃の乾燥器に15分間投入し、溶剤を完全に除去した後、フォトマスクを圧着して紫外線を1500mJ/cm2で選択的に照射した。マスクを取り去り、乾燥機中で150℃、1.5時間の加熱を行った。加熱後、鮮明な導波路パターンが現れており、コア部および側面クラッド部が形成されているのが確認された。その後、得られた光導波路から、長さ10cm分を切り出した。なお、形成された光導波路は、コア部が8本並列に形成されたものである。また、光導波路の全体の厚さを100μmとした。
(Example 17)
(1) Production of optical waveguide Using the composition for forming an optical waveguide used in Example 14, multicolor extrusion molding was performed on a polyethersulfone (PES) film by a die coater shown in FIG. As a result, a multicolor molded body having the core layer forming composition as an intermediate layer and the cladding layer forming composition as a lower layer and an upper layer was obtained. This was put into a dryer at 60 ° C. for 15 minutes to completely remove the solvent, and then a photomask was pressed and selectively irradiated with ultraviolet rays at 1500 mJ / cm 2 . The mask was removed, and heating was performed at 150 ° C. for 1.5 hours in a dryer. After heating, a clear waveguide pattern appeared, and it was confirmed that a core portion and a side cladding portion were formed. Thereafter, a length of 10 cm was cut out from the obtained optical waveguide. Note that the formed optical waveguide has eight core portions formed in parallel. The total thickness of the optical waveguide was 100 μm.
(2)屈折率分布の評価
そして、得られた光導波路のコア層の横断面について、干渉顕微鏡により幅方向の屈折率分布Wを取得した。その結果、屈折率分布Wは、極大値と極小値とが繰り返し含まれ、屈折率が連続的に変化したものであった。
(2) Evaluation of refractive index distribution And about the cross section of the core layer of the obtained optical waveguide, the refractive index distribution W of the width direction was acquired with the interference microscope. As a result, the refractive index distribution W included a maximum value and a minimum value repeatedly, and the refractive index changed continuously.
一方、光導波路の横断面について、そのコア部の幅の中心を上下方向に通過する中心線に沿って干渉顕微鏡により厚さ方向の屈折率分布Tを取得した。その結果、屈折率分布Tは、その中央部に屈折率が連続的に変化している領域と、その両側に、前記領域より屈折率が低く、かつほぼ一定の値の領域を有していた。すなわち、得られた光導波路の厚さ方向の屈折率分布Tは、いわゆるグレーデッドインデックス型になっていた。 On the other hand, regarding the cross section of the optical waveguide, a refractive index distribution T in the thickness direction was obtained by an interference microscope along a center line passing through the center of the width of the core portion in the vertical direction. As a result, the refractive index distribution T had a region where the refractive index continuously changed at the center thereof, and a region having a refractive index lower than that of the region and a substantially constant value on both sides thereof. . That is, the refractive index distribution T in the thickness direction of the obtained optical waveguide was a so-called graded index type.
(実施例18、19)
モノマーの組成と含有率、および紫外線の積算光量を表3に示すように設定するとともに、コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表3に示す値になるようにフォトマスクのパターンを設定するようにした以外は、それぞれ実施例17と同様にして光導波路を得た。
(Examples 18 and 19)
The composition and content of the monomer and the integrated light quantity of ultraviolet rays are set as shown in Table 3, and the photomask is set so that the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions are values shown in Table 3, respectively. An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 17 except that the above pattern was set.
(比較例1)
コア形成用組成物およびクラッド形成用組成物について、CHOXを添加せず、PI2074の添加量を0.01gとした以外は、実施例14と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 1)
An optical waveguide was obtained in the same manner as in Example 14 except that CHO was not added to the core forming composition and the clad forming composition and the amount of PI2074 added was 0.01 g.
なお、得られた光導波路では、コア部の屈折率は一定であり、側面クラッド部の屈折率も一定であり、コア部とクラッド部との屈折率は不連続であった。すなわち、得られた光導波路のコア層の屈折率分布は、いわゆるステップインデックス(SI)型の分布になっていた。 In the obtained optical waveguide, the refractive index of the core part was constant, the refractive index of the side cladding part was also constant, and the refractive index of the core part and the cladding part was discontinuous. That is, the refractive index distribution of the core layer of the obtained optical waveguide was a so-called step index (SI) type distribution.
(比較例2)
露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光(graded露光)するようにした以外は、比較例1と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 2)
The optical waveguide was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that exposure (graded exposure) was performed using a photomask whose transmittance was continuously changed so that the exposure amount continuously changed during exposure. Obtained.
なお、得られた光導波路では、側面クラッド部の屈折率がほぼ一定である一方、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下していた。すなわち、得られた光導波路のコア層の屈折率分布は、いわゆるグレーデッドインデックス(GI)型になっていた。 In the obtained optical waveguide, the refractive index of the side clad portion was substantially constant, while the refractive index of the core portion continuously decreased from the central portion toward the periphery. That is, the refractive index distribution of the core layer of the obtained optical waveguide was a so-called graded index (GI) type.
(比較例3)
露光の際に、露光量が連続的に変化するよう、透過率が連続的に変化したフォトマスクを用いて露光(graded露光)するようにした以外は、比較例1と同様にして光導波路を得た。
(Comparative Example 3)
The optical waveguide was formed in the same manner as in Comparative Example 1 except that exposure (graded exposure) was performed using a photomask whose transmittance was continuously changed so that the exposure amount continuously changed during exposure. Obtained.
なお、得られた光導波路では、屈折率分布が複数の極小値および極大値を有し、コア部の屈折率は中央部から周辺に向かって連続的に低下し、極小値に至っており、一方、側面クラッド部では極小値から離れるにつれて屈折率が連続的に増加していた。なお、極小値では、屈折率分布の形状がV字状をなしており、その近傍における屈折率の変化は不連続的であった。 In the obtained optical waveguide, the refractive index distribution has a plurality of minimum values and maximum values, and the refractive index of the core portion continuously decreases from the central portion toward the periphery, reaching a minimum value. In the side cladding portion, the refractive index continuously increased as the distance from the minimum value increased. At the minimum value, the shape of the refractive index distribution was V-shaped, and the change in the refractive index in the vicinity thereof was discontinuous.
(参考例1、2)
コア部の平均幅WCO、側面クラッド部の平均幅WCLおよびコア層形成時の紫外線露光量がそれぞれ表1に示す値になるようにフォトマスクのパターンおよび紫外線照射条件を変更するようにした以外は、それぞれ実施例1、2と同様にして光導波路を得た。
(Reference Examples 1 and 2)
Except that the average width WCO of the core part, the average width WCL of the side cladding part, and the UV exposure amount at the time of forming the core layer are changed to the values shown in Table 1, respectively, except that the photomask pattern and the UV irradiation conditions are changed. In the same manner as in Examples 1 and 2, optical waveguides were obtained.
(参考例3、4)
コア部の平均幅WCOおよび側面クラッド部の平均幅WCLがそれぞれ表2に示す値になるようにフォトマスクのパターンを変更するようにした以外は、それぞれ実施例10、11と同様にして光導波路を得た。
(Reference Examples 3 and 4)
Optical waveguides in the same manner as in Examples 10 and 11, except that the photomask pattern was changed so that the average width WCO of the core portion and the average width WCL of the side cladding portions were values shown in Table 2, respectively. Got.
以上の各実施例、各比較例および各参考例で得られた光導波路について、製造条件を表1、2、3に示す。 Tables 1, 2, and 3 show the manufacturing conditions for the optical waveguides obtained in the above Examples, Comparative Examples, and Reference Examples.
2.光導波路の評価
2.1 光導波路の屈折率分布
得られた光導波路のコア層の横断面について、その厚さ方向の中心線に沿って干渉顕微鏡により屈折率分布を測定し、コア層の横断面の幅方向の屈折率分布を得た。なお、得られた屈折率分布は、コア部ごとに同様の屈折率分布パターンが繰り返されているので、得られた屈折率分布から一部を切り出し、これを屈折率分布Wとした。また、同様にして屈折率分布Tを得た。
2. 2. Evaluation of optical waveguide 2.1 Refractive index distribution of optical waveguide With respect to the cross section of the core layer of the obtained optical waveguide, the refractive index distribution is measured by an interference microscope along the center line in the thickness direction, A refractive index profile in the width direction of the surface was obtained. In addition, since the obtained refractive index distribution has the same refractive index distribution pattern repeated for every core part, a part was cut out from the obtained refractive index distribution, and this was made into the refractive index distribution W. Similarly, a refractive index distribution T was obtained.
屈折率分布Wのうち、表1、2、3において「W型」とした分布の形状は、図4に示すような、4つの極小値と5つの極大値とが交互に並んだ形状であった。このW型の屈折率分布Wから、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4および各極大値Wm1、Wm2、Wm3、Wm4、Wm5を求めるとともに、クラッド部における平均屈折率WAを求めた。 Of the refractive index distribution W, the distribution shape of “W type” in Tables 1, 2, and 3 is a shape in which four minimum values and five maximum values are alternately arranged as shown in FIG. It was. From this W-type refractive index distribution W, each minimum value Ws1, Ws2, Ws3, Ws4 and each maximum value Wm1, Wm2, Wm3, Wm4, Wm5 were obtained, and an average refractive index WA in the cladding part was obtained.
また、このW型の屈折率分布Wにおいて、コア部に形成された極大値Wm2、Wm4近傍における屈折率が、平均屈折率WA以上の値を有している部分の幅a[μm]、および、各極小値Ws1、Ws2、Ws3、Ws4近傍における屈折率が、平均屈折率WA未満の値を有している部分の幅b[μm]をそれぞれ測定した。
以上の測定結果を表4〜7に示す。
Further, in this W-type refractive index distribution W, the width a [μm] of the portion where the refractive index in the vicinity of the maximum values Wm2 and Wm4 formed in the core portion is equal to or greater than the average refractive index WA, and The width b [μm] of the portion where the refractive index in the vicinity of each local minimum value Ws1, Ws2, Ws3, Ws4 has a value less than the average refractive index WA was measured.
The above measurement results are shown in Tables 4-7.
その結果、各実施例および各参考例で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、それぞれ、その全体において屈折率の変化が連続的であった。 As a result, the refractive index distribution W in the width direction of the optical waveguide obtained in each example and each reference example had a continuous change in refractive index as a whole.
また、比較例1で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、ステップインデックス型であった。また、比較例2で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、グレーデッドインデックス型であった。さらに、比較例3で得られた光導波路の幅方向の屈折率分布Wは、複数の極小値および極大値を有し、かつ、コア部と側面クラッド部との間で屈折率が不連続的に変化していた。 The refractive index distribution W in the width direction of the optical waveguide obtained in Comparative Example 1 was a step index type. Further, the refractive index distribution W in the width direction of the optical waveguide obtained in Comparative Example 2 was a graded index type. Further, the refractive index distribution W in the width direction of the optical waveguide obtained in Comparative Example 3 has a plurality of minimum values and maximum values, and the refractive index is discontinuous between the core portion and the side cladding portion. Had changed.
一方、各実施例1〜16、各参考例および各比較例で得られた光導波路の厚さ方向の屈折率分布Tは、いずれもステップインデックス型であり、実施例17〜19で得られた光導波路の厚さ方向の屈折率分布Tは、いずれもグレーデッドインデックス型であった。 On the other hand, the refractive index distribution T in the thickness direction of the optical waveguide obtained in each of Examples 1 to 16, each reference example, and each comparative example is a step index type, and was obtained in Examples 17 to 19. The refractive index distribution T in the thickness direction of the optical waveguide was a graded index type.
2.2 光導波路の伝送損失
850nmVCSEL(面発光レーザー)より発せられた光を50μmφの光ファイバーを経由して、各実施例、各比較例および各参考例で得られた光導波路に導入し、出射光を200μmφの光ファイバーで受光し、光の強度を測定した。なお、伝送損失の測定にはカットバック法を採用した。そして、光導波路の長手方向を横軸にとり、挿入損失を縦軸にとって測定値をプロットしたところ、測定値は直線上に並んだ。そこで、その直線の傾きから伝送損失を算出した。
2.2 Transmission loss of optical waveguide Light emitted from an 850 nm VCSEL (surface emitting laser) is introduced into the optical waveguide obtained in each example, each comparative example, and each reference example via a 50 μmφ optical fiber, and then output. The incident light was received by an optical fiber of 200 μmφ, and the light intensity was measured. Note that the cutback method was used to measure the transmission loss. Then, when the measured values were plotted with the longitudinal direction of the optical waveguide taken on the horizontal axis and the insertion loss on the vertical axis, the measured values were arranged on a straight line. Therefore, the transmission loss was calculated from the slope of the straight line.
2.3 パルス信号の波形の保持性
得られた光導波路に対して、レーザーパルス光源からパルス幅1nsのパルス信号を入射し、出射光のパルス幅を測定した。
2.3 Retention of pulse signal waveform A pulse signal having a pulse width of 1 ns was incident on the obtained optical waveguide from a laser pulse light source, and the pulse width of the emitted light was measured.
そして、測定した出射光のパルス幅について、比較例1で得られた光導波路(ステップインデックス型の光導波路)の測定値を1としたときの相対値を算出し、これを以下の評価基準にしたがって評価した。 And the relative value when the measured value of the optical waveguide (step index type optical waveguide) obtained in Comparative Example 1 is set to 1 is calculated for the measured pulse width of the emitted light, and this is used as the following evaluation criteria. Therefore, it was evaluated.
<パルス幅の評価基準>
◎:パルス幅の相対値が0.5未満である
○:パルス幅の相対値が0.5以上0.8未満である
△:パルス幅の相対値が0.8以上1未満である
×:パルス幅の相対値が1以上である
以上、2.2および2.3の評価結果を表8〜10に示す。
<Evaluation criteria for pulse width>
A: Relative value of pulse width is less than 0.5 B: Relative value of pulse width is 0.5 or more and less than 0.8 Δ: Relative value of pulse width is 0.8 or more and less than 1 ×: The relative value of the pulse width is 1 or more. Tables 8 to 10 show the evaluation results of 2.2 and 2.3.
表8〜10から明らかなように、各実施例で得られた光導波路では、各比較例および各参考例で得られた光導波路に比べ、伝送損失およびパルス信号の鈍りがそれぞれ抑えられていることが認められた。 As is clear from Tables 8 to 10, in the optical waveguides obtained in each example, transmission loss and blunting of the pulse signal are suppressed as compared with the optical waveguides obtained in each comparative example and each reference example. It was recognized that
なお、比較例1で使用したフォトブリーチング現象が生じるコア層形成用組成物は、照射光量に応じて屈折率の変調量を調整することができるので、それを利用し、積算光量が徐々に変化するよう設定したフォトマスクを使用して屈折率分布Wを形成することを試みた。得られた光導波路に対して上述したように屈折率分布を評価したところ、極大値や極小値が確認されたが、屈折率の変化は各実施例ほど連続的ではなかった。また、得られた光導波路については、各実施例に比べて伝送損失が大きく、パルス信号の波形の保持性も低かった。
2.4 光導波路の出射光の強度分布
また、得られた光導波路の出射側端面について、8本のコア部のうちの1つに光を入射したときの出射光の強度分布を測定した。
なお、出射光の強度分布の測定は、以下のようにして行った。
In addition, since the composition for core layer formation in which the photobleaching phenomenon used in the comparative example 1 can adjust the modulation amount of the refractive index according to the irradiation light amount, the integrated light amount gradually increases. An attempt was made to form the refractive index profile W using a photomask set to change. When the refractive index distribution was evaluated for the obtained optical waveguide as described above, the maximum value and the minimum value were confirmed, but the change in the refractive index was not as continuous as in each example. In addition, the obtained optical waveguide had a larger transmission loss than the respective examples, and the retention of the pulse signal waveform was also low.
2.4 Intensity Distribution of Emitted Light from Optical Waveguide Further, the intensity distribution of the emitted light when the light was incident on one of the eight core portions was measured on the end face on the emission side of the obtained optical waveguide.
The intensity distribution of the emitted light was measured as follows.
図20は、光導波路の出射側端面における出射光の強度分布を測定する方法を説明するための図である。 FIG. 20 is a diagram for explaining a method of measuring the intensity distribution of outgoing light on the outgoing side end face of the optical waveguide.
図20に示す方法では、まず、測定対象の光導波路1の入射側端面1aのコア部14の1つに対向するように、直径50μmの入射側光ファイバー21を配置する。この入射側光ファイバー21は、光導波路1に光を入射するための発光素子(図示せず)に接続されており、その光軸と、コア部14の光軸とが一致するように配置されている。
In the method shown in FIG. 20, first, the incident-side
一方、光導波路1の出射側端面1bには、これに対向するように直径62.5μmの出射側光ファイバー22を配置した。この出射側光ファイバー22は、光導波路1から出射した出射光を受光するための受光素子(図示せず)に接続されており、その光軸は、光導波路1のコア層の厚さ方向の中心線に合わせてある。そして、出射側光ファイバー22は、出射側端面1bとの離間距離を一定に維持しつつ、この中心線を含む面内を走査し得るよう構成されている。
On the other hand, an exit side
そして、入射側光ファイバー21からコア部の1つに光を入射しつつ、出射側光ファイバー22を走査させる。そして、出射側光ファイバー22の位置に対して受光素子で測定された出射光の強度を測定することにより、出射側端面1bの位置に対する出射光の強度分布を取得することができる。
Then, the emission side
以上のようにして測定した出射光の強度分布を図21に示す。なお、図21には、実施例1、比較例1および比較例2で得られた光導波路で測定された出射光の強度分布を代表に示す。 FIG. 21 shows the intensity distribution of the emitted light measured as described above. FIG. 21 representatively shows the intensity distribution of the emitted light measured with the optical waveguides obtained in Example 1, Comparative Example 1, and Comparative Example 2.
図21から明らかなように、実施例1で得られた光導波路では、クロストークが十分に抑えられていることが認められた。また、実施例1で得られた光導波路では、光を入射したコア部14(図21の中央のコア部14)に隣り合うコア部14における出射光の強度は、そのコア部14に隣接した、前記光を入射したコア部14とは反対側に位置する側面クラッド部15における出射光の強度より小さいことが認められた。これは、実施例1で得られた光導波路では、側面クラッド部15に、コア部14より小さい値の極大値を有しており、かつ、屈折率分布が連続的に変化しているため、従来であれば隣り合うコア部14に漏れ出て「クロストーク」になってしまう光が、側面クラッド部15に集まり、結果的にクロストークの発生を防止しているためであると推察される。したがって、実施例1で得られた光導波路では、チャンネル間でのクロストークを防止することができる。
As is clear from FIG. 21, it was confirmed that the crosstalk was sufficiently suppressed in the optical waveguide obtained in Example 1. Further, in the optical waveguide obtained in Example 1, the intensity of the emitted light in the
なお、実施例1で得られた光導波路では、出射光の一部が側面クラッド部15に集まっている様子が観測されたが、通常、光導波路に接続される受光素子は、各コア部14の出射側端面に対向するように接続され、側面クラッド部15には接続されない。よって、側面クラッド部15に光が集まったとしても、クロストークとはならない。
In the optical waveguide obtained in Example 1, it was observed that a part of the emitted light was collected in the side clad
また、図示していないが、他の実施例で得られた光導波路でも、実施例1と同様、幅方向におけるクロストークが十分に抑えられていた。 Although not shown, the crosstalk in the width direction was sufficiently suppressed in the optical waveguides obtained in the other examples as in the first example.
一方、比較例1、2で得られた光導波路では、光を入射したコア部14に隣り合うコア部14において、出射光の強度分布の極大値が位置しており、漏れ出た光、すなわちクロストークが観測された。
On the other hand, in the optical waveguides obtained in Comparative Examples 1 and 2, the maximum value of the intensity distribution of the emitted light is located in the
また、図示していないが、比較例3で得られた光導波路でも、クロストークが観測された。 Although not shown, crosstalk was also observed in the optical waveguide obtained in Comparative Example 3.
3.光導波路モジュールの評価
次いで、各実施例、各比較例および各参考例で得られた光導波路に対してレーザー光を照射し、ミラーを形成した。その後、光導波路と図1に示す多心光コネクターと受発光素子とを接続し、光導波路モジュールを得た。この際、多心光コネクターの光路接続部の配列方向と光導波路のコア部の長手方向とがなす角度は30°とした。そして、得られた光導波路モジュールについて、光導波路に入射した入射光と多心光コネクターから出射し受光素子で受光した出射光とを比較して光結合損失を測定、評価した。
3. Evaluation of Optical Waveguide Module Next, laser light was irradiated to the optical waveguides obtained in each Example, each Comparative Example, and each Reference Example to form a mirror. Thereafter, the optical waveguide, the multi-core optical connector shown in FIG. 1, and the light emitting / receiving element were connected to obtain an optical waveguide module. At this time, the angle formed by the arrangement direction of the optical path connecting portions of the multi-fiber optical connector and the longitudinal direction of the core portion of the optical waveguide was 30 °. And about the obtained optical waveguide module, the optical coupling loss was measured and evaluated by comparing the incident light which injected into the optical waveguide, and the emitted light which radiate | emitted from the multi-core optical connector and received with the light receiving element.
その結果、各実施例で得られた光導波路モジュールは、各比較例および各参考例で得られた光導波路モジュールに比べて、光結合損失が小さくクロストークも少ないことが認められた。また、各実施例で得られた光導波路モジュールでは、光導波路の伝送損失が小さいものほど光結合損失も小さいことが明らかとなった。 As a result, it was confirmed that the optical waveguide module obtained in each example had lower optical coupling loss and less crosstalk than the optical waveguide module obtained in each comparative example and each reference example. Moreover, in the optical waveguide module obtained in each Example, it became clear that an optical waveguide loss is so small that the transmission loss of an optical waveguide is small.
1 光導波路
1a 入射側端面
1b 出射側端面
10 光導波路モジュール
101 多心光コネクター
101a 上面
101b 下面
104 光路接続部
105 固定用孔
107 ガイドピン
108 受発光素子
109 受発光部
114、116 アライメント用孔
115 電気回路基板
11、12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
141、142 コア部
15 側面クラッド部
151、152、153 側面クラッド部
16 コア部欠損部
17 ミラー
170 凹部
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
800 ダイコーター(多色押出成形装置)
810 ダイヘッド
811 上リップ部
812 下リップ部
820 マニホールド
821 スリット
830 ミキシングユニット
831 第1の供給管
832 第2の供給管
833 第3の供給管
835 接続部
836 ピン
840 搬送部
841 ローラー
842 搬送フィルム
901,902 光導波路形成用組成物
910 層
914 多色成形体
914a 第1成形層
914b 第2成形層
914c 第3成形層
914d 第4成形層
914e 第5成形層
914f 第6成形層
914g 第7成形層
914h 第8成形層
914i 第9成形層
915 ポリマー
920 添加剤
930 活性放射線
935 マスク(マスキング)
9351 開口(窓)
925 照射領域
9251、9252、9253 照射領域
940 未照射領域
9403 未照射領域
951 支持基板
21 入射側光ファイバー
22 出射側光ファイバー
C1、C2 中心線
W 屈折率分布
WA クラッド部における平均屈折率
T、T’ 屈折率分布
H 高屈折率部
L 低屈折率部
DESCRIPTION OF
810
9351 opening (window)
925
Claims (11)
所定のピッチで配列した受発光部の列を複数段有する光素子と、を有し、
前記光導波路の横断面における幅方向の屈折率分布Wは、2つの極小値と、1つの第1の極大値と、前記第1の極大値より小さい2つの第2の極大値と、を有し、これらが、第2の極大値、極小値、第1の極大値、極小値、第2の極大値の順で並ぶ領域を有しており、前記領域のうち、前記第1の極大値を含むように前記2つの極小値で挟まれる領域が前記各コア部に対応しており、前記各極小値から前記第2の極大値側の領域が前記各側面クラッド部に対応しており、前記屈折率分布W全体で屈折率が連続的に変化しており、
前記複数のコア部のうち、隣り合う2つのコア部またはその延長線上にそれぞれ設けられた前記光路変換部は、その位置が互いに前記コア部の長手方向にずれた位置になるよう構成されていることを特徴とする光導波路モジュール。 A plurality of core portions, a plurality of side clad portions provided so as to be adjacent to both side surfaces of each core portion, and an optical path conversion portion provided on each core portion or an extension line thereof to bend the optical path of the core portion. And an optical waveguide comprising:
An optical element having a plurality of rows of light receiving and emitting units arranged at a predetermined pitch,
The refractive index distribution W in the width direction in the cross section of the optical waveguide has two minimum values, one first maximum value, and two second maximum values smaller than the first maximum value. These have regions arranged in the order of the second maximum value, the minimum value, the first maximum value, the minimum value, and the second maximum value, and among the regions, the first maximum value A region sandwiched between the two minimum values so as to include each of the core portions, the region from the minimum value to the second maximum value side corresponds to each of the side cladding portions, The refractive index continuously changes throughout the refractive index distribution W,
Among the plurality of core portions, the two adjacent core portions or the optical path conversion portions provided on the extension lines thereof are configured such that their positions are shifted from each other in the longitudinal direction of the core portion. An optical waveguide module characterized by that.
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