JP2013171716A - 有機el装置およびその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】耐久性および歩留まりを向上させた有機EL装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板10と、基板上に配置された第1電極層12と、第1電極層上に配置された有機EL層40と、有機EL層上に配置された第2電極層20と、第2電極層上に配置される封止用ガラス板50とを少なくとも備える有機EL装置において、第2電極層の表面の全部または一部を保護層25によって被覆した。
【選択図】図1

Description

本発明は、有機EL装置およびその製造方法に関し、特に耐久性および歩留まりを向上させた有機EL装置およびその製造方法に関する。
近年、有機発光素子として有機EL(EL:Electroluminescence)素子を用いた表示装置や照明装置が実用化に向けて開発が進められている。
ところで、有機EL素子は、水分による劣化が著しいため、素子内への水分の侵入を防ぐために固形状または液状の樹脂、ゲル材あるいは不活性ガス等の充填材が用いられる。
例えば、ガラス基板上に陽極となる透明電極、有機EL層および陰極となる背面電極を順次積層して有機EL素子を形成し、この有機EL素子を覆うガラス基板と封止部材とで得られる空間内に紫外線硬化樹脂を充填する技術が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2011−113737号公報
しかし、上記従来技術のように、紫外線硬化樹脂を充填する場合において、硬化前の液状の樹脂が有機EL層と反応して、有機EL層自体を溶解させたり、膨潤させる現象を生じる。
特に、端部において有機EL層上に電極が形成されていない部分や、電極にピンホール等の欠陥を生じている部位では、欠陥を介して浸入した液状の樹脂が有機EL層と接触して反応し、有機EL層に溶解や膨潤を生じさせ発光性能を低下させるという問題があった。
本発明の目的は、耐久性および歩留まりを向上させた有機EL装置およびその製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するための本発明の一態様によれば、基板と、前記基板上に配置された第1電極層と、前記第1電極層上に配置された有機EL層と、前記有機EL層上に配置された第2電極層と、前記第2電極層上に配置される封止用ガラス板と、前記第2電極層の表面の全部または一部を被覆する保護層とを備える有機EL装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、基板を準備する工程と、前記基板上に第1電極層を形成する工程と、前記第1電極層上に有機EL層を形成する工程と、前記有機EL層上に第2電極層を形成する工程と、前記第2電極層の表面の全部または一部に保護層を形成する工程と、前記第2電極層上に所定の隙間を挟んで封止用ガラス板を対向させる工程と、前記基板と前記封止用ガラス板との間に周辺封止材を形成する工程と、前記基板と前記封止用ガラス板との間に形成される空間に充填材を充填する工程とを有する有機EL装置の製造方法が提供される。
本発明によれば、耐久性および歩留まりを向上させることができる有機EL装置およびその製造方法を提供することができる。
実施の形態に係る有機EL装置の模式的断面構造図。 図1に示された有機EL装置のA部の拡大図。 比較例に係る有機EL装置の模式的断面構造図。 (a)図3に示された有機EL装置のP部の拡大図、(b)充填材と反応して有機EL層が溶解した状態を示すP部の拡大図。 (a)図3に示された有機EL装置のQ部の拡大図、(b)充填材と反応して有機EL層が溶解した状態を示すQ部の拡大図。 (a)第2電極層に異物(パーティクル)が混入した状態を示す模式的断面図、(b)自己修復後の状態を示す模式的断面図。 (a)有機EL層および第2電極層を覆うように液状のフッ素コーティング剤を滴下した状態示す説明図、(b)逆バイアスを印加した状態を示す説明図、(c)保護層を形成した状態を示す説明図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、有機EL素子を形成した基板を示す断面図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、有機EL素子をフッ素コーティング剤に浸漬させた状態を示す説明図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、有機EL素子にフッ素コーティング剤を盛った状態を示す説明図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、保護層が形成された状態を示す断面図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、液状の充填材を盛った状態を示す断面図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、封止用ガラス板を対向させた状態を示す断面図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、基板と封止用ガラス板とが大気圧で加圧されて密着された状態を示す断面図。 実施の形態に係る有機EL装置の製造工程の一工程であって、紫外線を照射して充填材を硬化させる状態を示す断面図。 有機EL素子のセルをマトリクス状に複数形成したユニットをフッ素コーティング剤に浸漬させた状態を示す説明図。 実施の形態に係る有機EL素子のセルCijをマトリクス状に複数形成した状態を示す模式的鳥瞰図。 第2電極上の一部に保護層を形成した有機EL装置の模式的断面構造図。 図18に示された有機EL装置のS部の拡大図。 有機EL装置の発光面を顕微鏡観察した状態の撮像図であり、(a)保護層を形成しない場合の撮像図、(b)実施の形態に係る保護層を形成した場合の撮像図。 有機EL装置の発光面のピンホール密度を示す撮像図。 有機EL装置の固体封止強度の測定装置を示す模式図であり、(a)直径14mmの加重ヘッドを用いる場合の模式図、(b)直径1mmの加重ヘッドを用いる場合の模式図。 実施の形態に係る有機EL装置の固体封止強度の評価結果を示すグラフ。
次に、図面を参照して、実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚みや寸法は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることはもちろんである。
又、以下に示す実施の形態は、この発明の技術的思想を具体化するための装置や方法を例示するものであって、この発明の実施の形態は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。この発明の実施の形態は、特許請求の範囲において、種々の変更を加えることができる。
以下の実施の形態に係る有機EL装置において、「透明」とは、透過率が約50%以上であるものと定義する。また「透明」とは、実施の形態に係る有機EL装置において、可視光線に対して、無色透明という意味でも使用する。可視光線は波長約360nm〜830nm程度、エネルギー約3.45eV〜1.49eV程度に相当し、この領域で透過率が50%以上あれば透明である。
[実施の形態]
(有機EL装置)
実施の形態に係る有機EL装置1の模式的断面構造は、図1に示すように表される。
実施の形態に係る有機EL装置1は、図1に示すように、基板10と、基板10上に配置された第1電極層12と、第1電極層12上に配置された有機EL層40と、有機EL層40上に配置された第2電極層20と、第2電極層20上に配置される封止用ガラス板50と、第2電極層20の表面の全部または一部を被覆する保護層25とを備える。
これにより、有機EL層40が液状の充填材(例えば、紫外線照射前の紫外線硬化樹脂)80と接触して反応し、有機EL層40が溶解する事態が防止される。
また、基板10と封止用ガラス板50との間を所定のギャップを挟んで封止する周辺封止材100と、基板10と封止用ガラス板50との間に形成される空間に充填される充填材80とを備える。
なお、図1に示すように、保護層25は、有機EL層40の端部を覆うように形成されている。
これにより、有機EL層40の端部が液状の充填材(例えば、紫外線照射前の紫外線硬化樹脂)80と反応し、有機EL層40に溶解や膨潤を生じる事態が防止され、発光性能が低下することが回避される。
図2に示すように、有機EL層40は、基板10側から、例えば、正孔輸送層14、発光層16および電子輸送層18が順次積層されている。また、積層順序を逆にして、電子輸送層18、発光層16および正孔輸送層14の順序で積層されていても良い。
正孔輸送層14は、第1電極層12から注入された正孔を円滑に発光層に輸送するための層であり、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル−1−)N−フェニル−アミノ]−ビフェニルなどで形成することができる。
発光層16は、注入された正孔および電子が再結合して発光するための層であり、例えば、ドーパントとして、ルブレンや、遷移金属原子を含む錯体がドーピングされたアルミニウム(8−ヒドロキシ)キノリネートで形成することができる。
電子輸送層は、第2電極層20から注入された電子を円滑に発光層に輸送するための層であり、例えば、アルミニウム(8−ヒドロキシ)キノリネートで形成することができる。
なお、有機EL層40は、上記正孔輸送層、電子輸送層以外の層、例えば、正孔注入層、電子注入層等を用いて構成しても良い。
保護層25は、撥水性もしくは撥油性を備える樹脂等で構成すると良い。具体的には、保護層25を、フッ素樹脂などのフッ素化合物で構成することができる。
なお、フッ素樹脂とは、フッ素を含むオレフィンを重合して得られる合成樹脂の総称をいう。
このようなフッ素樹脂で保護層25を形成した場合には、フッ素樹脂の優れた撥水性および撥油性により、液状の充填材80と有機EL層40との接触が防止される。従って、有機EL層40と反応し易い液状の紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂を充填材として使用することが可能となり、耐久性を向上させることができる。
なお、保護層25をフッ素樹脂のコーティング膜で構成する場合には、その厚さは1nm〜10μmとすることが望ましい。フッ素樹脂のコーティング膜の成膜には、ディッピング法やパドル法を適用することができる(詳細については後述する)。
なお、図1に示すように、実施の形態に係る有機EL装置1は、発光層16で発光した光(hν)が基板10側から出射されるボトムエミッション構成となっている。
また、保護層25は、SiN等の窒化膜で構成するようにしても良い。この場合には化学蒸着(CVD:Chemical Vapor Deposition)により効率的に成膜することができる。
また、第2電極層がピンホール等の欠陥箇所を有する場合に、欠陥箇所を保護層25で覆うようにしても良い。詳細については後述する。
(比較例)
図3〜5を参照して、比較例としての有機EL装置1aについて述べる。なお、実施の形態に係る有機EL装置1と同一の構成については同一符号を付して、重複した説明は省略する。
比較例としての有機EL装置1aは、図1に示す実施の形態に係る有機EL装置1と異なり、第2電極層20上に保護層が形成されていない。
そのため、例えば、図4(a)に示すように、第2電極層20に欠陥の一種であるピンホール21が生じている場合には、このピンホール21から液状の充填材(例えば、紫外線照射前の紫外線硬化樹脂)80が浸入する。
そして、ピンホール21から浸入した液状の充填材80が有機EL層40と反応し、有機EL層40を溶解してしまう(図4(b)参照)。これにより、有機EL層40の発電特性が損なわれてしまう。
また、図5(a)に示すように、有機EL層40の端部には、第2電極層20が設けられていないため、露出した状態となっている。
そのため、有機EL層40の端部と液状の充填材80が反応し、有機EL層40aを溶解してしまう(図5(b)参照)。これにより、有機EL層40全体の発電特性が損なわれてしまう。
一方、実施の形態に係る有機EL装置1によれば、保護層25によって液状の充填材80と有機EL層40との接触が防止される。従って、有機EL層40と反応し易い液状の紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂を充填材として使用することが可能となり、有機EL装置の耐久性が向上される。
(自己修復)
図6および図7を参照して、電極の自己修復(セルフリペア)について説明する。
図6(a)に示すように、第2電極層20等に異物(パーティクル)500が混入した場合には、この異物によって第1電極層12と第2電極層20との間でリークパスが発生してしまう。
この場合に、液体に浸漬させた状態で逆バイアスを印加すると、電流集中により、図6(b)に示すようにリークパスの発生箇所501が焼き切れて修復される。
ここで、充填材80が液体や気体の場合には上記のような自己修復を行うことができたが、充填材80を固体化した紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂とした場合には、このような自己修復はできなかった。
即ち、固体の場合には、ショート箇所(リペア箇所)を焼き切る際に周辺まで破壊が及んでしまうという不都合があった。
そこで、本発明では、図7に示す手法により、充填材80として紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等を用いる場合においても自己修復を可能としている。
即ち、図7(a)に示すように、有機EL層40および第2電極層20を覆うように液状のフッ素コーティング剤90を滴下する。
なお、フッ素コーティング剤90としては、フッ素化合物を揮発性の溶媒に添加したものが用いられる。より具体的には、メチルノナフルオロイソブチルエーテル(20〜80%)、メチルノナフルオロブチルエーテル(20〜80%)の溶媒にフッ素系樹脂(1〜3%)を添加したものなどが適用される。
そして、前記溶媒が揮発する前に、図7(b)に示すように、第1電極層12をマイナス、第2電極層20をプラスとして、例えば駆動電圧の3〜4倍の逆バイアス電圧(例えば、10〜15V)を印加する。
これにより、第2電極層20にリーク箇所が存在する場合には、そのリーク箇所(リペア箇所)Rで電流集中を起こし、リーク箇所が焼き切られる。
次いで、フッ素コーティング剤90の溶媒を揮発させることにより、図7(c)に示すようにフッ素化合物から成る保護層25が形成される。
この場合に、自己修復されたリペア痕26が保護層25によって被覆されるので、硬化前の液状の紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等を充填材80として用いても有機EL層40と充填材80が反応する事態が回避される。
即ち、リペア痕26を介して液状の充填材80が有機EL層40が接触することが無いので、有機EL層40と充填材80が反応して溶解する事態が回避される。
このように、本発明によれば、充填材80として紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等を用いる場合にも、リーク箇所(リペア箇所)の自己修復を行うことができ、歩留まりを向上することができる。また、固体化した紫外線硬化樹脂や熱硬化樹脂等により有機EL装置1の耐久性を高めることができる。
なお、上述のような自己修復を行った後に、SiN等の窒化膜を保護層25としてCVD等により成膜するようにしても良い。
(本実施の形態に係る有機EL装置の製造方法)
図8〜図19を参照して、図1に示す実施の形態に係る有機EL装置1の製造方法について説明する。
製造方法の工程は以下の通りである。
(a)ガラス板から成る基板10を準備する工程、
(b)基板10上に第1電極層12を形成する工程、
(c)第1電極層12上に有機EL層40を形成する工程、
(d)有機EL層40上に第2電極層20を形成する工程、
(e)第2電極層20の表面の全部または一部に保護層25を形成する工程(図9〜図11参照)、
(f)第2電極層20上に所定の隙間を挟んで封止用ガラス板50を対向させる工程(図13参照)、
(g)基板10と封止用ガラス板50との間に周辺封止材100を形成する工程(図12参照)、
(h)基板10と封止用ガラス板50との間に形成される空間に充填材80を充填する工程(図14、図15参照)
を有する。
工程(e)は、より詳細には、次の工程を有する。即ち、
(e−1)フッ素化合物を揮発性の溶媒に添加した液体(フッ素コーティング剤)90を第2電極層の表面の全面に塗布する工程、
(e−2)溶媒が揮発する前に、有機EL層40に対して逆バイアスを印加する工程、
(e−3)溶媒を揮発させてフッ素化合物を含む保護層25を形成する工程
を有する。
フッ素化合物を揮発性の溶媒に添加した液体(フッ素コーティング剤)90を第2電極層20の表面の全部または一部に塗布する方法としては、図9に示すディッピング法と、図10に示すパドル法が挙げられる。
ディッピング法は、図9に示すように、容器300に入れられたフッ素コーティング剤90に、有機EL素子200を浸漬して行われる。
そして、有機EL素子200をフッ素コーティング剤90に浸漬した状態で、有機EL素子200に逆バイアス電圧を印加する。
これにより、第2電極層20にリーク箇所が存在する場合には、そのリーク箇所(リペア箇所)で電流集中を起こし、リーク箇所が焼き切られる。
次いで、有機EL素子200をフッ素コーティング剤90から引き上げて、溶媒を揮発させることにより、図11に示すようなフッ素化合物から成る保護層25が形成される。
なお、フッ素コーティング剤90の溶媒の揮発は、常温で行なっても良いし、或いは60℃程度に加熱して揮発を促進するようにしても良い。
一方、パドル法は、図10に示すように、有機EL素子200の上に、フッ素コーティング剤90を盛るような形で滴下する。
そして、フッ素コーティング剤90の溶媒が揮発する前に、有機EL素子200に逆バイアス電圧を印加する。
これにより、第2電極層20にリーク箇所が存在する場合には、そのリーク箇所(リペア箇所)で電流集中を起こし、リーク箇所が焼き切られる。
次いで、フッ素コーティング剤90の溶媒を揮発させることにより、図11に示すようなフッ素化合物から成る保護層25が形成される。
なお、フッ素コーティング剤90の溶媒の揮発は、常温で行なっても良いし、或いは60℃程度に加熱して揮発を促進するようにしても良い。
前記工程(f)〜(h)は、図12〜図15のように示される。
即ち、まず、図12に示すように、有機EL素子200の周縁部に、周辺封止材100を形成する。周辺封止材100は、例えば紫外線硬化樹脂やガラスフリットで構成できる。
また、図12に示すように、有機EL素子200の上に、充填材80として、液状の紫外線硬化樹脂を滴下する。
紫外線硬化樹脂としては、例えば次のような組成のものが用いられる。
(1)ポリエチレングリコールジメタクリレート(25〜50%)、(2)エチレングリコールジメタクリレート(10〜25%)、(3)トリエチレングリコールジメタクリレート(10〜25%)、(4)テトラエチレングリコールジメタクリレート(10〜25%)、(5)過塩素酸マグネシウム(10〜25%)、(6)過塩素酸リチウム(2.5〜10%)、(7)トリメチロールプロパントリメタクリレート(<2.5%)。
ここで、上記成分(1)〜(4)および(7)が紫外線硬化性の樹脂成分、成分(5)、(6)は水分を化学吸着させる成分である。
次いで、図13に示すように、封止用ガラス板50を対向させ、真空チャンバにおいて真空状態で有機EL素子200と封止用ガラス板50とを貼り合わせる。
続いて、大気圧に開放すると、図14に示すように、基板10と封止用ガラス板50が大気圧Pによって均等に加圧されて密着される。
次に、封止用ガラス板50側から紫外線を照射して、充填材80としての紫外線硬化樹脂を硬化させる。この際に、周辺封止材100も紫外線硬化樹脂で形成される場合には、紫外線により同時に硬化される。
また、周辺封止材100をガラスフリットで形成した場合には、周辺封止材100にレーザ光を照射して、ガラスフリットを溶融させて封止用ガラス板50と基板10とを密封する。
充填材80は、紫外線硬化樹脂に限らず、固形状または液状の樹脂、ガラス、フッ素系などの不活性オイルまたはゲル材あるいは窒素ガス、Heガス等の不活性ガスで構成することができる。固形状の樹脂としては、紫外線硬化樹脂以外に光硬化樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化樹脂を用いることができる。
液状の樹脂としては、液状プラスチック、液状エポキシ樹脂等を用いることができる。 また、オイルとしては、フッ素系オイルやシリコン系オイルを用いることができる。フッ素系オイルやシリコン系オイルは、有機EL層40と反応せず、耐熱性、不燃性、耐薬品性に優れているからである。ゲル材としては、シリコン系やフッ素系のゲル材を用いることができる。不活性ガスとしては、窒素ガス等を用いることができる。これらの充填材は、有機EL層40と反応せず、耐熱性、不燃性、耐薬品性に優れているからである。
また、充填材80に、所定の吸湿材料をフィラーとして加えるようにしても良い。
吸湿材料としては、例えば、シリカゲル、ゼオライト、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム等が挙げられる。
吸湿材料を用いる場合には、有機EL素子の内部の残留水分等を吸着させて、有機EL素子へのダメージを軽減することができ、寿命を向上させることができる。
また、充填材80が液状の樹脂、ガラス、オイルまたはゲル材である場合において、周辺封止材100の内側に、充填材80の漏出を防止するダム材を配置するようにしても良い。
ダム材としては、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等の接着性を有する材料を用いることができる。
また、ダム材に、所定の吸湿材料をフィラーとして加えるようにしても良い。
吸湿材料としては、例えば、シリカゲル、ゼオライト、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、硫酸カルシウム等が挙げられる。
図16および図17は、複数の有機EL素子のセルCに対して、まとめて自己修復と保護層25を形成する場合を示す。
即ち、図17に示すように、有機EL素子のセルCijをマトリクス状に複数形成したユニット200aを、図16に示すように、容器300に入れられたフッ素コーティング剤90に浸漬させる。なお、各セルCijは、並列に接続されている。
そして、それぞれのセルCijに逆バイアス電圧を印加することにより、各セルCijの第2電極層20にリーク箇所が存在する場合には、そのリーク箇所(リペア箇所)で電流集中を起こし、リーク箇所が焼き切られる。
次いで、フッ素コーティング剤90の溶媒を揮発させることにより、図17に示すように、各セルCijの表面に保護層25が形成される。
このように、図16に示す例では、複数の有機EL素子のセルCijについて、一挙に自己修復を行うことができると共に、各セルCijの表面に保護層25を一度に形成することができる。
この後、スクライブラインSLに沿って各セルCijに分離することにより、有機EL素子を効率的に生産することができる。
(保護層の部分的形成)
図18および図19は、第2電極層20の一部に保護層25aを形成する場合を示す。
即ち、図18に示すように、第2電極層20の端部を覆うように保護層25aを設けたり、図19に示すように第2電極層20のピンホール等の欠陥箇所26を覆うように保護層25aを設ける。
欠陥箇所26を覆う場合には、例えば顕微鏡で欠陥箇所26を特定し、その欠陥箇所26にフッ素コーティング剤90をディスペンサにより塗布して形成することができる。
これにより、有機EL層40と充填材80が反応して溶解や膨潤が発生する事態が回避される。
(本実施の形態に係る有機EL装置の性能)
図20は、有機EL装置の発光面を顕微鏡観察した状態の撮像図であり、図20(a)は保護層を形成しない場合、図20(b)は本実施の形態に係る保護層25を形成した場合を示す。
図20(a)に示すように、保護層を形成しない場合には、丸で囲むように、数カ所においてピンホールから浸入した充填材と有機EL層とが反応して溶解あるいは膨潤した状態が観察される。
なお、有機EL装置の発光面におけるピンホール密度は、図21に示す例では、23.8個/mmであり、一般的には約1〜100個/mm程度である。
一方、本実施の形態に係る保護層25を形成した場合、即ち、第2電極層20の全部または一部に保護層25を形成した場合には、図20(b)に示すように、有機EL層が溶解あるいは膨潤した箇所は観察されなかった。
このように、本実施の形態に係る保護層25を第2電極層20の全部または一部に保護層25に形成することで、ピンホール等の欠陥を介した充填材と有機EL層との接触が有効に防止され、充填材と有機EL層とが反応して溶解あるいは膨潤する事態が回避され、発光性能が低下することが防止される。
図22は、有機EL装置の固体封止強度の測定装置を示す模式図であり、図22(a)は直径14mmの加重ヘッドを用いる場合、図22(b)は直径1mmの加重ヘッドを用いる場合を示す。
図22に示すように、フラット台600と加重ヘッド602、603との間に、有機EL装置としてのパネル601を挟み込んで圧力Pを付加して固体封止強度の測定(加重リーク電流測定)を行った。
図23は、本実施の形態に係る紫外線硬化樹脂を固化させて充填材80として用いた有機EL装置1の固体封止強度の評価結果を示すグラフである。
この測定試験では、80mm角の発光部を有する有機EL装置1の中央部に、直径14mmの加重ヘッド602による加重(a)または直径1mmの加重ヘッド603による加重(b)を2分間付与した後にリーク電流密度を測定した。
そして、0〜20kgf(0〜128N/cm(φ14mm)、0〜25000N/cm(φ1mm))まで加重したが、図23に示すようにリーク電流に変化は見られなかった。
ここで、例えば、押し圧により有機EL装置1が破壊されるとリーク電流は一気に急増してしまう。したがって、図23に示すようにリーク電流に変化は見られないことから、紫外線硬化樹脂を固化させて充填材80として用いた有機EL装置1は、この加重試験において破壊されることがなく、優れた耐圧性、耐久性を備えることが分かった。
以上述べたように、本実施の形態に係る有機EL装置1によれば、フッ素化合物から成る保護層25が有機EL層40を保護し、充填材との反応を防止するため、充填材80の材質の選択度が向上する。特に、従来において紫外線硬化樹脂や熱効果樹脂を充填材として用いた場合は、有機EL層40が溶解したり、膨潤させることがあったが、これらの材料を充填材として使用可能となる。
また、フッ素コーティング剤90をコーティング工程で、液体のコーティング剤を使用するので、有機EL素子の自己修復(セルフリペア)を行うことができる。セルフリペアを行い、有機EL素子に欠陥が無い状態でフッ素コーティング剤90がコーティングされるので、固体封止する場合にも高い歩留まりを確保することができる。
また、紫外線硬化樹脂や熱効果樹脂を充填材として用いて固体封止にすれば、フレキシブル性を備えた有機EL装置を作製することできる。
また、液体や固体の充填材80を用いることにより、有機EL素子から発生する熱を外部に逃がすことが容易となる。この結果、有機EL素子の温度上昇を抑制することができる。有機EL素子は高温環境下で寿命が短くなる性質があるため、このような温度上昇の抑制により寿命を向上させることができる。
また、紫外線硬化樹脂や熱効果樹脂など固化した充填材80を用いる場合には、上述のように耐圧性や耐久性を高めることができる。
[その他の実施の形態]
上記のように、本発明は実施の形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述および図面は例示的なものであり、この発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態などを含む。
本発明の有機EL装置は、高輝度有機EL照明分野、高輝度有機ELディスプレイ分野などに適用可能である。
1…有機EL装置
10…基板
12…第1電極層
14…正孔輸送層
16…発光層
18…電子輸送層
20…第2電極層
21…ピンホール
25、25a…保護層
26…リペア痕(欠陥箇所)
40…有機EL層
50…封止用ガラス板
80…充填材
90…フッ素コーティング剤
100…周辺封止材
200…有機EL素子
200a…有機EL素子のユニット
300…容器
500…異物(パーティクル)
501…リークパスの発生箇所
600…フラット台
601…パネル
602、603…加重ヘッド
SL…スクライブライン

Claims (21)

  1. 基板と、
    前記基板上に配置された第1電極層と、
    前記第1電極層上に配置された有機EL層と、
    前記有機EL層上に配置された第2電極層と、
    前記第2電極層上に配置される封止用ガラス板と、
    前記第2電極層の表面の全部または一部を被覆する保護層と
    を備えることを特徴とする有機EL装置。
  2. 前記基板と前記封止用ガラス板との間を所定のギャップを挟んで封止する周辺封止材と、
    前記基板と前記封止用ガラス板との間に形成される空間に充填される充填材と
    を備えることを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
  3. 前記保護層は、前記有機EL層の端部を覆うことを特徴とする請求項1または2に記載の有機EL装置。
  4. 前記保護層は、撥水性もしくは撥油性を備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  5. 前記保護層は、フッ素化合物で構成されることを特徴とする請求項4に記載の有機EL装置。
  6. 前記保護層は、窒化膜で構成されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  7. 前記第2電極層が欠陥箇所を有する場合に、前記欠陥箇所を前記保護層で覆うことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  8. 前記充填材は、固形状または液状の樹脂、ガラス、オイルまたはゲル材あるいは不活性ガスで構成されることを特徴とする請求項2〜7のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  9. 前記固形状の樹脂は、光硬化樹脂または熱硬化樹脂で構成されることを特徴とする請求項8に記載の有機EL装置。
  10. 前記周辺封止材は、ガラスフリットであることを特徴とする請求項2〜9のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  11. 前記充填材が液状の樹脂、ガラス、オイルまたはゲル材である場合において、前記周辺封止材の内側に、前記充填材の漏出を防止するダム材が配置されていることを特徴とする請求項2〜10のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  12. 前記ダム材もしくは前記充填材の一方もしくは両方は、吸湿機能を有することを特徴とする請求項11に記載の有機EL装置。
  13. 前記周辺封止材は、光硬化樹脂で構成されることを特徴とする請求項2〜12のいずれか1項に記載の有機EL装置。
  14. 基板を準備する工程と、
    前記基板上に第1電極層を形成する工程と、
    前記第1電極層上に有機EL層を形成する工程と、
    前記有機EL層上に第2電極層を形成する工程と、
    前記第2電極層の表面の全部または一部に保護層を形成する工程と、
    前記第2電極層上に所定の隙間を挟んで封止用ガラス板を対向させる工程と、
    前記基板と前記封止用ガラス板との間に周辺封止材を形成する工程と、
    前記基板と前記封止用ガラス板との間に形成される空間に充填材を充填する工程と
    を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。
  15. 前記保護層を形成する工程は、前記保護層によって前記有機EL層の一部を覆う工程を含むことを特徴とする請求項14に記載の有機EL装置の製造方法。
  16. 前記保護層を形成する工程は、撥水性もしくは撥油性を備える物質を塗布する工程で構成されることを特徴とする請求項14または15に記載の有機EL装置の製造方法。
  17. 前記撥水性もしくは撥油性を備える物質は、フッ素化合物を揮発性の溶媒に添加した液体であることを特徴とする請求項16に記載の有機EL装置の製造方法。
  18. 前記保護層を形成する工程は、
    前記フッ素化合物を揮発性の溶媒に添加した液体を前記第2電極層の表面の全部または一部に塗布する工程と、
    前記溶媒が揮発する前に、前記有機EL層に対して逆バイアスを印加する工程と、
    前記溶媒を揮発させて前記フッ素化合物を含む保護層を形成する工程と
    を有することを特徴とする請求項17に記載の有機EL装置の製造方法。
  19. 前記保護層を形成する工程は、前記第2電極層の表面の全部または一部に窒化膜を形成する工程で構成されることを特徴とする請求項14または15に記載の有機EL装置の製造方法。
  20. 前記保護層を形成する工程は、前記第2電極層が欠陥箇所を有する場合に、前記欠陥箇所を前記保護層で覆う工程を含むことを特徴とする請求項14〜19のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
  21. 前記充填材を充填する工程は、
    前記基板と前記封止用ガラス板との間に、液状の光硬化樹脂または熱硬化樹脂を入れる工程と、
    前記液状の光硬化樹脂または熱硬化樹脂を硬化させる工程と
    を有することを特徴とする請求項14〜20のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
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KR20150064555A (ko) * 2013-12-03 2015-06-11 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 장치
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