JP2013169677A - Metal mask, and method of forming recognition mark of metal mask - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、認識マークを備えたメタルマスク及びメタルマスクの認識マーク形成方法に関するものである。 The present invention relates to a metal mask having a recognition mark and a method for forming a recognition mark on the metal mask.
従来、メタルマスクに認識マークを形成するに際し、半田ペースト等をプリント配線板に塗布するための開口部(開口パターン)をメタルマスクに形成した後、メタルマスクの所定位置にエッチング液を用いて凹部を形成(ハーフエッチング)し、この凹部にトナー(カーボンの微粉末と接着剤との混合物)を詰めて乾燥させる方法が採用されていた。 Conventionally, when forming a recognition mark on a metal mask, an opening (opening pattern) for applying a solder paste or the like to a printed wiring board is formed on the metal mask, and then a recess is formed in a predetermined position of the metal mask using an etching solution. Is formed (half-etching), and a toner (mixture of fine carbon powder and adhesive) is filled in the recesses and dried.
また、メタルマスクに認識マークを形成するための従来技術として、電鋳法によって製
造されるメタルマスクにおいて、開口部の形成と同時に認識マークの凹部を形成するもの
が提案されている(例えば、特許文献1参照)。なお、特許文献1記載の方法は開口部と
認識マークとの相対位置精度を向上させるためのものであるが、上記方法によってメタル
マスクの所定位置に凹部を形成した場合であっても、認識マークを完成させるためには、
この凹部にトナーを充填して乾燥させる工程が更に必要であった。
Further, as a conventional technique for forming a recognition mark on a metal mask, a metal mask manufactured by electroforming has been proposed in which a concave portion of a recognition mark is formed simultaneously with the formation of an opening (for example, a patent). Reference 1). The method described in
A step of filling the recess with toner and drying it was further necessary.
また、メタルマスクに認識マークを形成するための他の従来技術として、電鋳法やレーザー加工により製造されたメタルマスクの所定位置(認識マーク形成部)に、認識マークを電解処理によって刻印(電解マーキング)するものが提案されている(例えば、特許文献1参照)。 In addition, as another conventional technique for forming a recognition mark on a metal mask, the recognition mark is engraved by electrolytic treatment at a predetermined position (recognition mark forming portion) of a metal mask manufactured by electroforming or laser processing (electrolysis). Marking) has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
従来のメタルマスクの所定位置にエッチング液を用いて凹部を形成(ハーフエッチング)し、この凹部にトナー(カーボンの微粉末と接着剤との混合物)を詰めて乾燥させる方法では、板厚が50μm以下、又は100μm以下の箔物のメタルマスクの場合においては、エッチング液により孔が開いてしまうことがある。 In a conventional method in which a concave portion is formed by using an etching solution at a predetermined position of a metal mask (half etching), and the concave portion is filled with toner (a mixture of fine carbon powder and adhesive) and dried, the plate thickness is 50 μm. In the case of a metal mask made of a foil having a thickness of 100 μm or less, a hole may be opened by the etching solution.
また、特許文献1記載のトナーを用いて認識マークを形成する従来のメタルマスクでは、認識マークの凹部からトナーが取れてしまう場合があり、かかる場合に、プリント配線板への位置合わせができなくなるといった問題が生じていた。
Further, in the conventional metal mask in which the recognition mark is formed using the toner described in
なお、上記トナーの凹部からの脱落は、メタルマスクの洗浄時に発生することが多い。
特に近年では、メタルマスクの開口部が密集しているため、半田ペースト等の除去に超音
波洗浄が多く用いられている。このため、キャビテーション効果等によってトナーが凹部
から脱落し易くなり、上記問題が多発する要因となっていた。
In many cases, the toner drops from the recesses when the metal mask is cleaned.
Particularly in recent years, since the openings of the metal mask are densely packed, ultrasonic cleaning is often used to remove solder paste and the like. For this reason, the toner easily falls off from the concave portion due to the cavitation effect or the like, which is a cause of frequent occurrence of the above problems.
また、メタルマスクが製造ラインに組み込まれた後に、認識マークのトナーが脱落して
しまうと、製造ラインを停止させて、トナーを再度凹部に充填する作業が必要となってし
まう。更に、メタルマスクの使用者が上記充填作業を行うことができない場合には、例え
ば、メタルマスクの製造元の技術者を呼び寄せて上記充填作業を行ってもらう必要がある
。このため、一旦トナーの脱落が発生すると、メタルマスクをその一部に含む製造ライン
の生産性が著しく低下するといった問題もあった。
Further, if the toner of the recognition mark falls off after the metal mask is incorporated into the production line, it is necessary to stop the production line and refill the recess with the toner. Furthermore, when the user of the metal mask cannot perform the filling operation, for example, it is necessary to call an engineer of the metal mask manufacturer to perform the filling operation. For this reason, once the toner has dropped out, there has been a problem that the productivity of the production line including the metal mask as a part thereof is significantly reduced.
また、特許文献2記載の認識マークを電解処理によって刻印(電解マーキング)するものでは、メタルマスクがレーザー加工により製造されたレーザー版の場合は問題ないが、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの認識マークの寄与面が無光沢面又は半光沢面の場合は、コントラストが取りづらく、読み取りエラーが発生する恐れがあり、認識マークの色をもっと濃く(黒く)したいとの改善要望がある。また、スキージングにより認識マークが、かすれることを防止したいとの改善要望がある。
Further, in the case where the recognition mark described in
この発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの認識マークの寄与面が無光沢面又は半光沢面の場合であっても、認識マークの読み取りエラーが発生しない認識マークを備えたメタルマスク及びメタルマスクの認識マーク形成方法を提供するものである。また、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクが光沢面の場合は、簡単かつ安価に形成できる認識マークを備えたメタルマスク及びメタルマスクの認識マーク形成方法を提供するものである。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a case where the contribution surface of the recognition mark of an additive-type metal mask manufactured by electroforming is a non-glossy surface or a semi-glossy surface. The present invention also provides a metal mask having a recognition mark that does not cause a recognition mark reading error and a method for forming a recognition mark on the metal mask. In addition, when an additive-made metal mask manufactured by electroforming is a glossy surface, a metal mask having a recognition mark that can be formed easily and inexpensively and a method for forming a recognition mark for the metal mask are provided.
この発明に係るメタルマスクにおいては、印刷材料を被印刷板に印刷するために形成された印刷開口パターンと、被印刷板への位置合わせ用のために印刷開口パターンに近接して形成された複数の認識マークとを備えた電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクであって、アディティブ版のメタルマスクの認識マークの寄与面の光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により無光沢化(粗く)されており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、該凹部を認識マークとするものである。 In the metal mask according to the present invention, a printing opening pattern formed for printing the printing material on the printing plate and a plurality of printing openings formed in proximity to the printing opening pattern for alignment with the printing plate. An additive-type metal mask manufactured by an electroforming method with a recognition mark of the additive plate, and the impregnated body impregnated with an etching solution is pressed against the glossy surface of the recognition mark contributing surface of the additive-type metal mask As a result, the surface is matted (roughened) with an etching solution, and a recessed portion having a depth of about 1 to several μm is formed, and the recessed portion serves as a recognition mark.
また、アディティブ版のメタルマスクの無光沢面又は半光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により無光沢化(粗く)されており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に筆めっきの原理を応用した方法で黒色めっき液を含ませた含浸体(陽極)を押し当てることにより、凹部の表面(陰極)に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成するものである。 Moreover, the impregnated body impregnated with the etching solution is pressed against the matte surface or semi-glossy surface of the metal mask of the additive plate so that the surface is matted (roughened) with the etching solution, and 1 to several A recess is formed with a depth of about μm, and an impregnation body (anode) containing a black plating solution is pressed onto the surface of the recess by a method applying the principle of brush plating. A black recognition mark is formed by performing black plating on the surface (cathode).
また、アディティブ版のメタルマスクの光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により無光沢化(粗く)されており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、該凹部を認識マークとし、一方、アディティブ版のメタルマスクの無光沢面又は半光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により無光沢化(粗く)されており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成するものである。 Moreover, the impregnated body impregnated with the etching solution is pressed against the glossy surface of the metal mask of the additive plate so that the surface is made non-glossy (rough) with the etching solution and has a depth of about 1 to several μm. The concave portion is formed as a recognition mark, and on the other hand, the impregnated body containing the etching solution is pressed against the matte or semi-glossy surface of the metal mask of the additive plate so that the surface is A recess that has been matted (roughened) with an etching solution and has a depth of about 1 to several μm is formed, and the surface of the recess is pressed with an impregnated body containing a black plating solution. By applying, a black recognition mark is formed by performing black plating on the surface of the recess.
また、アディティブ版のメタルマスクの両面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により無光沢化(粗く)されており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成するものである。 Moreover, the impregnated body impregnated with the etching solution is pressed against both surfaces of the metal mask of the additive plate, so that the surface is matted (roughened) with the etching solution and has a depth of about 1 to several μm. A concave portion that is depressed is formed, and further, a black recognition mark is formed on the surface of the concave portion by pressing an impregnated body containing a black plating solution on the surface of the concave portion. is there.
また、ニッケル電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクであって、板厚が100μm以下の箔物である。 Moreover, it is an additive-type metal mask manufactured by a nickel electroforming method, and is a foil having a plate thickness of 100 μm or less.
また、この発明に係るメタルマスクの認識マーク形成方法においては、印刷材料を被印刷板に印刷するための開口パターンが形成された電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの光沢面上に、薄膜状のレジストを形成する第1の工程と、メタルマスクの光沢面上から、認識マークを形成する部分のレジストを除去する第2の工程と、メタルマスクの光沢面の認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する認識マークとなる凹部を形成する第3の工程と、凹部を形成した後、メタルマスクの光沢面上からレジストを除去する第4の工程とを備えたものである。 Further, in the metal mask recognition mark forming method according to the present invention, on the glossy surface of the metal mask of the additive plate manufactured by the electroforming method in which the opening pattern for printing the printing material on the printing plate is formed. A first step of forming a thin-film resist, a second step of removing a portion of the resist on which the recognition mark is to be formed from the glossy surface of the metal mask, and forming a recognition mark on the glossy surface of the metal mask. By pressing an impregnated body containing an etching solution on the portion, the surface is roughened by the etching solution, and a concave portion serving as a recognition mark is formed with a depth of about 1 to several μm. And the fourth step of removing the resist from the glossy surface of the metal mask after forming the recess.
また、印刷材料を被印刷板に印刷するための開口パターンが形成された電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの無光沢面又は半光沢面上に、薄膜状のレジストを形成する第1の工程と、メタルマスクの無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分のレジストを除去する第2の工程と、メタルマスクの無光沢面又は半光沢面の認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成する第3の工程と、凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、黒色の認識マークを形成した後、メタルマスクの無光沢面又は半光沢面上からレジストを除去する第5の工程とを備えたものである。 In addition, a thin film resist is formed on the non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask of the additive plate manufactured by the electroforming method in which the opening pattern for printing the printing material on the printing plate is formed. 1st step, the second step of removing the resist in the portion where the recognition mark is to be formed from the non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask, and the formation of the recognition mark on the non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask A third step of forming a concave portion whose surface is roughened by the etching solution and depressed with a depth of about 1 to several μm by pressing an impregnated body containing an etching solution on the portion to be And a fourth step of forming a black recognition mark by applying a black plating treatment to the surface of the recess by pressing an impregnated body containing a black plating solution on the surface of the recess, and forming a black recognition mark Shi After, in which a fifth step of removing the resist from the matte side or semi-gloss surface on the metal mask.
また、印刷材料を被印刷板に印刷するための開口パターンが形成された電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上に、薄膜状のレジストを形成する第1の工程と、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分のレジストを除去する第2の工程と、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面の認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部をメタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面にそれぞれ形成する第3の工程と、メタルマスクの無光沢面又は半光沢面に形成された凹部の表面にのみ、黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、黒色の認識マークを形成した後、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上からレジストを除去する第5の工程とを備えたものである。 In addition, a thin-film resist is applied on the glossy, matte or semi-glossy surface of an additive-made metal mask manufactured by an electroforming method in which an opening pattern for printing a printing material on a printing plate is formed. A first step of forming, a second step of removing a resist in a portion where a recognition mark is to be formed, from a glossy surface and a matte surface or a semi-glossy surface of the metal mask, and a glossy surface and a matte surface of the metal mask Alternatively, the surface of the semi-glossy surface on which the recognition mark is formed is pressed with an impregnated body containing an etchant so that the surface is roughened by the etchant and is depressed with a depth of about 1 to several μm. A black plating solution only on the surface of the recess formed on the non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask, and the third step of forming the recess to be formed on the glossy surface and non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask, respectively. A fourth step of forming a black recognition mark with a black plating treatment applied to the surface of the recess by pressing the impregnated body, and after forming the black recognition mark, And a fifth step of removing the resist from the glossy or semi-glossy surface.
また、印刷材料を被印刷板に印刷するための開口パターンが形成された電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上に、薄膜状のレジストを形成する第1の工程と、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分のレジストを除去する第2の工程と、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面の認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部をメタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面にそれぞれ形成する第3の工程と、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面に形成された凹部の表面に、黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、黒色の認識マークを形成した後、メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上からレジストを除去する第5の工程とを備えたものである。 In addition, a thin-film resist is applied on the glossy, matte or semi-glossy surface of an additive-made metal mask manufactured by an electroforming method in which an opening pattern for printing a printing material on a printing plate is formed. A first step of forming, a second step of removing a resist in a portion where a recognition mark is to be formed, from a glossy surface and a matte surface or a semi-glossy surface of the metal mask, and a glossy surface and a matte surface of the metal mask Alternatively, the surface of the semi-glossy surface on which the recognition mark is formed is pressed with an impregnated body containing an etchant so that the surface is roughened by the etchant and is depressed with a depth of about 1 to several μm. A third step of forming concave portions to be formed on the glossy surface and non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask, respectively, and the surface of the recesses formed on the glossy surface and non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask. A fourth step of forming a black recognition mark by applying a black plating treatment to the surface of the recess by pressing the impregnated material containing the liquid, and after forming the black recognition mark, the gloss of the metal mask And a fifth step of removing the resist from the non-glossy or semi-glossy surface.
この発明によれば、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクが無光沢面又は半光沢面の場合であっても、認識マークの読み取りエラーが発生しない認識マークを備えたメタルマスクを得ることができる。また、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクが光沢面の場合は、簡単かつ安価に形成できる認識マークを備えたメタルマスクを得ることができる。更に、箔物に対しても容易に認識マークを形成することができる。
また、認識マーク部が凹形状の為、スキージングによる擦れの発生も防げる効果もある。
According to the present invention, a metal mask having a recognition mark that does not cause an error in reading a recognition mark is obtained even if the additive-made metal mask manufactured by electroforming is a non-glossy or semi-glossy surface. be able to. Moreover, when the additive-made metal mask manufactured by the electroforming method has a glossy surface, a metal mask having a recognition mark that can be formed easily and inexpensively can be obtained. Furthermore, a recognition mark can be easily formed on a foil.
In addition, since the recognition mark portion has a concave shape, there is an effect of preventing the occurrence of rubbing due to squeezing.
この発明をより詳細に説明するため、添付の図面に従ってこれを説明する。なお、各図
中、同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に簡略化な
いし省略する。
In order to explain the present invention in more detail, it will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same code | symbol is attached | subjected to the part which is the same or it corresponds, The duplication description is simplified or abbreviate | omitted suitably.
図1乃至図10は本発明の実施例1におけるメタルマスクの製造工程を示す図である。図1乃至図10に基づいて、メタルマスクの両面に認識マークを形成する工程について詳細に説明する。
1 to 10 are views showing a metal mask manufacturing process in
先ず、ニッケル電鋳法により、メタルマスク1の所定位置に、半田ペースト等をプリント配線板等の被印刷板に塗布形成するための印刷開口部(印刷開口パターン)(図1乃至図10においては図示せず)を形成する。そして、印刷開口部の加工が終了したニッケル電鋳法で製造したアディティブ版のメタルマスク1を準備する(図1参照)。このアディティブ版のメタルマスク1は、板厚が50μm以下又は100μm以下の比較的薄い箔物のメタルマスクであり、無光沢面又は半光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなり、電解マーキングにて認識マークを形成した場合、読み取りエラーが発生することが心配されるものである。また、光沢面では、コントラストが取りづらくなるようなことはないことがある。次に、メタルマスク1の両面(認識マークを形成する面)上に、レジスト液を塗布或いはドライフィルムをラミネートして、それぞれ薄膜状のレジスト2(感光膜)を形成する(図2参照)。
First, a printing opening (printing opening pattern) for applying and forming a solder paste or the like on a printed board such as a printed wiring board at a predetermined position of the
次に、アディティブ版のメタルマスク1の両面に形成された各レジスト2上に、ポジタイプ用の円形の認識マーク部3aが設けられたフィルム3を乗せて焼き付ける(図3参照)。なお、上記工程においては、当然のことながら、フィルム3に設けられた認識マーク部3aをメタルマスク1の認識マークを形成する位置に合わせてフィルム3を配置し、その後、露光する。ここで、認識マーク部3aの黒い部分は露光の際に光が透過しないため、認識マーク部3aの下方に位置する部分のレジスト2は硬化しない。一方、フィルム3のうち認識マーク部3a以外の部分では露光の際に光が透過するため、上記認識マーク部3a以外の部分の下方に位置するレジスト2は硬化する。
Next, the
なお、図3はネガタイプのレジスト2を用いた場合の露光工程を示したものである。一
方、ポジタイプのレジスト2を用いた場合には、ネガタイプ用の認識マーク部3aが設け
られたフィルム3を使用すれば良い。かかる場合、上記の場合とは逆に、認識マーク部3
aのみ光が透過し、認識マーク部3aの下方に位置する部分のレジスト2が溶解すること
になる。
FIG. 3 shows an exposure process when a negative type resist 2 is used. On the other hand, when the positive type resist 2 is used, the
Only light a is transmitted, and the resist 2 in the portion located below the
上記露光工程が終了した後、フィルム3を各レジスト2上から剥離し、レジスト2のう
ち、上記露光工程において硬化しなかった部分(未硬化レジスト部2a)のみを現像液に
よってメタルマスク1の両面上から除去する(図4参照)。以上の工程により、アディティブ版のメタルマスク1の両面上から、認識マークを形成する部分(認識マーク形成部1a)のレジスト2を除去することができ、アディティブ版のメタルマスク1の両面上に、円形の認識マーク形成部1aの部分のみ開口したレジスト2が完成する。この開口した認識マーク形成部1aは、直径が約1mm程度であり、レジストが覆われておらずニッケルが露出した部分となっており、また認識マーキング形成部1a以外の個所(後述のエッチングや黒ニッケルめっきをしない個所)は、レジスト2でマスキングされていることになる(図5参照)。
After the exposure step is completed, the
次に、75%硝酸400cc、リン酸50ccからなるエッチング液を用意する。そして、例えば、綿棒等から成るエッチング用含浸体4に用意した上記エッチング液を含ませ、アディティブ版のメタルマスク1の円形の認識マーク形成部1aに、エッチング液を含ませた含浸体4を押し当てる(図6参照)。そして、エッチング液を含ませた含浸体4を動かして、新しいエッチング液がメタルマスク1の円形の認識マーク形成部1aの全体に行き渡るようにする。このエッチングに要する時間は約7〜10秒前後程度である。次に、約7〜10秒経過したら、直ちにエッチング液を紙等で拭き取り、水洗いする。これにより、アディティブ版のメタルマスク1の円形の認識マーク形成部1aに、表面がエッチング液により粗くされており、かつ若干の深さ約1〜2μm程度の深さを持って陥没する円形凹部5が形成される(図7参照)。この円形凹部5は、精々数μm程度の深さで十分であり、表面がエッチング液により粗くされているので、電鋳法により製造されたアディティブ版が光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるようなことはないので、このままでも簡単かつ安価に形成できる認識マーク6として用いることができる(図8参照)。一方、電鋳法により製造されたアディティブ版が無光沢面又は半光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるので、読み取りエラーが発生することが考えられる。したがって、アディティブ版の無光沢面又は半光沢面の円形凹部5の表面には、後述の黒ニッケルめっきを形成する。この際、円形凹部5は陥没されており、かつ表面がエッチング液により粗くされているので、めっきの喰い付きが良くなり、黒ニッケルめっきとの密着性が良好になる。
Next, an etching solution consisting of 400 cc of 75% nitric acid and 50 cc of phosphoric acid is prepared. Then, for example, the prepared etching solution is contained in an etching impregnation body 4 made of a cotton swab or the like, and the impregnation body 4 containing the etching solution is pushed into the circular recognition
次に、塩化ニッケル(工業用薬品)75g/L、塩化アンモニウム(試薬一級)30g/L、塩化亜鉛(試薬一級)30g/L及びチオシアン酸ナトリウム(試薬一級)15g/Lと、蒸留水約750ccとからなる黒ニッケルめっき液を用意する。そして、例えば、金属製のピンセット型把持体から成るめっき専用電極7の先端部間に綿棒等から成るめっき用含浸体8を把持するようにセットし、このめっき用含浸体8に用意した上記黒ニッケルめっき液を含ませ、めっき専用電極7を直流電源の+側に、またメタルマスク1を−側にそれぞれ接続する。そして、アディティブ版のメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面に形成された円形凹部5の表面に、黒ニッケルめっき液を含ませためっき用含浸体8を2〜3秒間程度強く押し当てる(図9参照)。これにより、黒ニッケルめっき液が円形凹部5の表面に滲み出る。そして、黒ニッケルめっき液を含ませためっき用含浸体8を動かして、新しい黒ニッケルめっき液がメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面の円形凹部5の全体に行き渡るようにする。この黒ニッケルめっき処理に要する時間は約20秒前後程度である。次に、約20秒経過したら、ピンセット型把持体から成るめっき専用電極7を無光沢面又は半光沢面の円形凹部5から引き上げ、黒ニッケルめっき液を紙等で拭き取り、水洗いする。これにより、アディティブ版のメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面の円形凹部5の表面に、黒色又は色を濃く(黒く)した認識マーク9が形成される(図10参照)。この黒色又は色を濃く(黒く)した認識マーク9は、電鋳法により製造されたアディティブ版が無光沢面又は半光沢面であっても、認識マークの読み取りエラーが発生しない認識マークを備えたメタルマスクを得ることができる。また、凹部5は陥没されており、かつ表面がエッチング液により粗くされているので、喰い付きが良くなり、黒ニッケルめっきとの密着性が良好になる。また、凹部5の表面に、黒色又は色を濃く(黒く)した認識マーク9が形成されているので、スキージングにより、認識マーク9が擦れることがない。
Next, nickel chloride (industrial chemical) 75g / L, ammonium chloride (reagent primary) 30g / L, zinc chloride (reagent primary) 30g / L and sodium thiocyanate (reagent primary) 15g / L, distilled water about 750cc Prepare a black nickel plating solution consisting of Then, for example, the
上記工程によって、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクが光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるようなことはないので、表面がエッチング液により粗くされており、かつ若干の深さ1〜2μm程度の深さを持って陥没する円形凹部5を、そのまま認識マーク6として使用することができる。そして、アディティブ版のメタルマスクが無光沢面又は半光沢面の場合は、円形凹部5の表面に、更に黒色又は色を濃く(黒く)した認識マーク9を形成した後、剥離液によってメタルマスク1の両面上から全てのレジスト2を除去することにより、メタルマスク1を完成させる(図示しない)。
If the additive-made metal mask manufactured by the electroforming method has a glossy surface, the surface is not roughened by the etching solution, and the depth is slightly deep. The
なお、上記実施例1では、円形凹部5として説明したが、円形に限られない。また、ニッケル電鋳法により作製したメタルマスクを用いて説明したが、ニッケルに限らず、ステンレスであっても構わない。
In addition, in the said Example 1, although demonstrated as the circular recessed
図11乃至図18は本発明の実施例2におけるメタルマスクの製造工程を示す図である。図1、図2の製造工程は実施例1と同様であるため、説明を省略する。 11 to 18 are views showing a metal mask manufacturing process according to the second embodiment of the present invention. The manufacturing process of FIGS. 1 and 2 is the same as that of the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.
アディティブ版のメタルマスク1の両面に形成された各レジスト2上に、ポジタイプ用のリング状の認識マーク部3aが設けられたフィルム3を乗せて焼き付ける(図11参照)。
A
上記露光工程が終了した後、フィルム3を各レジスト2上から剥離し、レジスト2のう
ち、上記露光工程において硬化しなかった部分(未硬化レジスト部2a)のみを現像液に
よってメタルマスク1の両面上から除去する(図12参照)。以上の工程により、アディティブ版のメタルマスク1の両面上から、リング状の認識マークを形成する部分(認識マーク形成部1a)のレジスト2を除去することができ、アディティブ版のメタルマスク1の両面上に、リング状の認識マーク形成部1aの部分のみ開口したレジスト2が完成する。この開口したリング状の認識マーク形成部1aは、直径が約1mm程度であり、レジストが覆われておらずニッケルが露出した部分となっており、また認識マーキング形成部1a以外の個所(後述のエッチングや黒ニッケルめっきをしない個所、及びリング状の認識マーキング形成部1aの中央凸部)は、レジスト2でマスキングされていることになる(図13参照)。
After the exposure step is completed, the
次に、75%硝酸400cc、リン酸50ccからなるエッチング液を用意する。そして、例えば、綿棒等から成るエッチング用含浸体4に用意した上記エッチング液を含ませ、アディティブ版のメタルマスク1のリング状の認識マーク形成部1aの中央凸部のレジスト2に、エッチング液を含ませた含浸体4を押し当てる(図14参照)。すると、含浸体4からエッチング液が周囲に広がって流下する。そして、エッチング液を含ませた含浸体4を動かして、新しいエッチング液がメタルマスク1のリング状の認識マーク形成部1aの全体に行き渡るようにする。このエッチングに要する時間は約7〜10秒前後程度である。次に、約7〜10秒経過したら、直ちにエッチング液を紙等で拭き取り、水洗いする。これにより、アディティブ版のメタルマスク1のリング状の認識マーク形成部1aに、表面がエッチング液により粗くされており、かつ若干の深さ約1〜2μm程度の深さを持って陥没するリング状の凹部5が形成される(図15参照)。このリング状の凹部5は、精々数μm程度の深さで十分であり、表面がエッチング液により粗くされているので、電鋳法により製造されたアディティブ版が光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるようなことはないので、このままでも簡単かつ安価に形成できる認識マーク6として用いることができる(図16参照)。一方、電鋳法により製造されたアディティブ版が無光沢面又は半光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるので、読み取りエラーが発生することが考えられる。したがって、アディティブ版の無光沢面又は半光沢面のリング状の凹部5の表面には、後述の黒ニッケルめっきを形成する。この際、リング状の凹部5は陥没されており、かつ表面がエッチング液により粗くされているので、めっきの喰い付きが良くなり、黒ニッケルめっきとの密着性が良好になる。
Next, an etching solution consisting of 400 cc of 75% nitric acid and 50 cc of phosphoric acid is prepared. Then, for example, the etching solution prepared in the etching impregnating body 4 made of a cotton swab or the like is included, and the etching solution is applied to the resist 2 on the central convex portion of the ring-shaped recognition
次に、塩化ニッケル(工業用薬品)75g/L、塩化アンモニウム(試薬一級)30g/L、塩化亜鉛(試薬一級)30g/L及びチオシアン酸ナトリウム(試薬一級)15g/Lと、蒸留水約750ccとからなる黒ニッケルめっき液を用意する。そして、例えば、金属製のピンセット型把持体から成るめっき専用電極7の先端部間に綿棒等から成るめっき用含浸体8を把持するようにセットし、このめっき用含浸体8に用意した上記黒ニッケルめっき液を含ませ、めっき専用電極7を直流電源の+側に、またメタルマスク1を−側にそれぞれ接続する。そして、アディティブ版のメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面のリング状の認識マーク形成部1aの中央凸部のレジスト2に、黒ニッケルめっき液を含ませためっき用含浸体8を2〜3秒間程度強く押し当てる(図17参照)。これにより、含浸体8から黒ニッケルめっき液が滲み出て、周囲に広がってリング状の凹部5に流下する。そして、黒ニッケルめっき液を含ませためっき用含浸体8を動かして、新しい黒ニッケルめっき液がメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面のリング状の凹部5の全体に行き渡るようにする。この黒ニッケルめっき処理に要する時間は約20秒前後程度である。次に、約20秒経過したら、ピンセット型把持体のめっき専用電極7を無光沢面又は半光沢面のリング状の凹部5から引き上げ、黒ニッケルめっき液を紙等で拭き取り、水洗いする。これにより、アディティブ版のメタルマスク1の無光沢面又は半光沢面のリング状の凹部5の表面に、黒色又は色を濃く(黒く)したリング状の認識マーク9が形成される(図18参照)。この黒色又は色を濃く(黒く)したリング状の認識マーク9は、電鋳法により製造されたアディティブ版が無光沢面又は半光沢面であっても、認識マークの読み取りエラーが発生しない認識マークを備えたメタルマスクを得ることができる。また、リング状の凹部5は陥没されており、かつ表面がエッチング液により粗くされているので、喰い付きが良くなり、黒ニッケルめっきとの密着性が良好になる。また、リング状の凹部5の中央部が突出しているので、スキージングにより、認識マーク9が擦れることがない。
Next, nickel chloride (industrial chemical) 75g / L, ammonium chloride (reagent primary) 30g / L, zinc chloride (reagent primary) 30g / L and sodium thiocyanate (reagent primary) 15g / L, distilled water about 750cc Prepare a black nickel plating solution consisting of Then, for example, the
上記工程によって、電鋳法により製造されたアディティブ版のメタルマスクが光沢面の場合は、コントラストが取りづらくなるようなことはないので、表面がエッチング液により粗くされており、かつ若干の深さ1〜2μm程度の深さを持って陥没するリング状の凹部5を、そのまま認識マーク6として使用する。そして、アディティブ版のメタルマスクが無光沢面又は半光沢面の場合は、リング状の凹部5の表面に、更に黒色又は色を濃く(黒く)した認識マーク9を形成した後、剥離液によってメタルマスク1の両面上から全てのレジスト2を除去することにより、メタルマスク1を完成させるものである(図示しない)。
If the additive-made metal mask manufactured by the electroforming method has a glossy surface, the surface is not roughened by the etching solution, and the depth is slightly deep. A ring-shaped
1 メタルマスク
1a 認識マーク形成部
2 レジスト
2a 未硬化レジスト部
3 フィルム
3a 認識マーク部
4 エッチング液を含ませた綿棒等から成るエッチング用含浸体
5 凹部
6 認識マーク
7 金属製ピンセット型把持体から成るめっき専用電極
8 綿棒等からなるめっき用含浸体
9 色を濃く(黒く)した黒色の認識マーク
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記アディティブ版のメタルマスクの光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、該凹部を認識マークとすることを特徴とするメタルマスク。 A printing opening pattern formed for printing a printing material on a printing plate, and a plurality of recognition marks formed in proximity to the printing opening pattern for alignment with the printing plate An additive version of a metal mask manufactured by electroforming,
A concave portion whose surface is roughened with an etching solution by pressing an impregnated body containing an etching solution against the glossy surface of the metal mask of the additive plate and having a depth of about 1 to several μm. A metal mask characterized in that the concave portion is used as a recognition mark.
前記アディティブ版のメタルマスクの無光沢面又は半光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成することを特徴とするメタルマスク。 A printing opening pattern formed for printing a printing material on a printing plate, and a plurality of recognition marks formed in proximity to the printing opening pattern for alignment with the printing plate An additive version of a metal mask manufactured by electroforming,
The impregnated body impregnated with an etching solution is pressed against the matte surface or semi-glossy surface of the metal mask of the additive plate so that the surface is roughened by the etching solution and has a depth of about 1 to several μm. Forming a recessed portion that is depressed, and forming a black recognition mark on the surface of the recessed portion by pressing an impregnated body containing a black plating solution on the surface of the recessed portion. A metal mask characterized by
前記アディティブ版のメタルマスクの光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、該凹部を認識マークとし、一方、前記アディティブ版のメタルマスクの無光沢面又は半光沢面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成することを特徴とするメタルマスク。 A printing opening pattern formed for printing a printing material on a printing plate, and a plurality of recognition marks formed in proximity to the printing opening pattern for alignment with the printing plate An additive version of a metal mask manufactured by electroforming,
A concave portion whose surface is roughened with an etching solution by pressing an impregnated body containing an etching solution against the glossy surface of the metal mask of the additive plate and having a depth of about 1 to several μm. The concave portion is used as a recognition mark, and the impregnated body impregnated with an etching solution is pressed against the matte or semi-glossy surface of the metal mask of the additive plate, so that the surface is roughened by the etching solution. And forming a recessed portion having a depth of about 1 to several μm, and further pressing the impregnated body impregnated with a black plating solution onto the surface of the recessed portion, thereby forming a black surface on the surface of the recessed portion. A metal mask characterized by forming a black recognition mark that has been plated.
前記アディティブ版のメタルマスクの両面に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成し、更に、該凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成することを特徴とするメタルマスク。 A printing opening pattern formed for printing a printing material on a printing plate, and a plurality of recognition marks formed in proximity to the printing opening pattern for alignment with the printing plate An additive version of a metal mask manufactured by electroforming,
By pressing an impregnated body containing an etchant on both surfaces of the metal mask of the additive plate, the surface is roughened by the etchant, and recessed portions having a depth of about 1 to several μm are depressed. And forming a black recognition mark having a black plating treatment on the surface of the concave portion by pressing an impregnated body containing a black plating solution on the surface of the concave portion. .
前記メタルマスクの光沢面上から、認識マークを形成する部分の前記レジストを除去する第2の工程と、
前記メタルマスクの光沢面の前記認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する認識マークとなる凹部を形成する第3の工程と、
前記凹部を形成した後、前記メタルマスクの光沢面上から前記レジストを除去する第4の工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの認識マーク形成方法。 A first step of forming a thin-film resist on the glossy surface of the metal mask of an additive plate manufactured by an electroforming method in which an opening pattern for printing a printing material on a printing plate is formed;
A second step of removing the resist in a portion for forming a recognition mark from the glossy surface of the metal mask;
By pressing an impregnated body containing an etchant against the portion of the glossy surface of the metal mask that forms the recognition mark, the surface is roughened by the etchant and has a depth of about 1 to several μm. A third step of forming a concave portion that becomes a recognition mark to be depressed;
A fourth step of removing the resist from the glossy surface of the metal mask after forming the recess;
A method of forming a recognition mark for a metal mask, comprising:
前記メタルマスクの無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分の前記レジストを除去する第2の工程と、
前記メタルマスクの無光沢面又は半光沢面の前記認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を形成する第3の工程と、
前記凹部の表面に黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、
前記黒色の認識マークを形成した後、前記メタルマスクの無光沢面又は半光沢面上から前記レジストを除去する第5の工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの認識マーク形成方法。 A first resist is formed on a matte or semi-glossy surface of an additive-type metal mask manufactured by an electroforming method in which an opening pattern for printing a printing material on a printing plate is formed. Process,
A second step of removing the resist in a portion for forming a recognition mark from the non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask;
The surface of the metal mask is roughened with an etching solution by pressing an impregnated body containing an etching solution against the portion of the metal mask that forms the recognition mark on the matte or semi-glossy surface, and 1 to several μm. A third step of forming a recess that is depressed with a certain depth;
A fourth step of forming a black recognition mark having been subjected to black plating treatment on the surface of the recess by pressing an impregnated body containing a black plating solution on the surface of the recess;
A fifth step of removing the resist from the non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask after forming the black recognition mark;
A method of forming a recognition mark for a metal mask, comprising:
前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分の前記レジストを除去する第2の工程と、
前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面の前記認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面にそれぞれ形成する第3の工程と、
前記メタルマスクの無光沢面又は半光沢面に形成された前記凹部の表面にのみ、黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、
前記黒色の認識マークを形成した後、前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から前記レジストを除去する第5の工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの認識マーク形成方法。 A thin-film resist is formed on the glossy and matte or semi-glossy surface of an additive-type metal mask manufactured by electroforming with an opening pattern for printing a printing material on a printing plate. A first step;
A second step of removing the resist in a portion for forming a recognition mark from the glossy surface and the non-glossy surface or the semi-glossy surface of the metal mask;
The surface of the metal mask is roughened with an etching solution by pressing an impregnated body containing an etching solution against the glossy and non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask where the recognition mark is formed. A third step of forming concave portions recessed with a depth of about several μm on the glossy surface and the non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask,
Only the surface of the recess formed on the matte surface or semi-gloss surface of the metal mask is pressed against an impregnated body containing a black plating solution, whereby the surface of the recess is subjected to black plating treatment. A fourth step of forming a recognition mark;
A fifth step of removing the resist from the glossy and matte or semi-glossy surfaces of the metal mask after forming the black recognition mark;
A method of forming a recognition mark for a metal mask, comprising:
前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から、認識マークを形成する部分の前記レジストを除去する第2の工程と、
前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面の前記認識マークを形成する部分に、エッチング液を含ませた含浸体を押し当てることにより、表面がエッチング液により粗くされており、かつ1〜数μm程度の深さを持って陥没する凹部を前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面にそれぞれ形成する第3の工程と、
前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面に形成された前記凹部の表面に、黒色めっき液を含ませた含浸体を押し当てることにより、前記凹部の表面に黒めっき処理を施した黒色の認識マークを形成する第4の工程と、
前記黒色の認識マークを形成した後、前記メタルマスクの光沢面及び無光沢面又は半光沢面上から前記レジストを除去する第5の工程と、
を備えたことを特徴とするメタルマスクの認識マーク形成方法。 A thin-film resist is formed on the glossy and matte or semi-glossy surface of an additive-type metal mask manufactured by electroforming with an opening pattern for printing a printing material on a printing plate. A first step;
A second step of removing the resist in a portion for forming a recognition mark from the glossy surface and the non-glossy surface or the semi-glossy surface of the metal mask;
The surface of the metal mask is roughened with an etching solution by pressing an impregnated body containing an etching solution against the glossy and non-glossy or semi-glossy surface of the metal mask where the recognition mark is formed. A third step of forming concave portions recessed with a depth of about several μm on the glossy surface and the non-glossy surface or semi-glossy surface of the metal mask,
The surface of the recess was subjected to black plating treatment by pressing an impregnated body containing a black plating solution against the surface of the recess formed on the glossy surface and the matte surface or semi-glossy surface of the metal mask. A fourth step of forming a black recognition mark;
A fifth step of removing the resist from the glossy and matte or semi-glossy surfaces of the metal mask after forming the black recognition mark;
A method of forming a recognition mark for a metal mask, comprising:
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110337193A (en) * | 2019-05-05 | 2019-10-15 | 天津光韵达光电科技有限公司 | A kind of the MARK point and its processing method of SMT laser template |
CN112445061A (en) * | 2020-09-15 | 2021-03-05 | 阿德文泰克全球有限公司 | Positioning point manufacturing method of mask plate and mask plate |
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- 2012-02-20 JP JP2012034042A patent/JP2013169677A/en active Pending
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