JP2013167621A - バンドラインナップ装置及びその測定方法 - Google Patents
バンドラインナップ装置及びその測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013167621A JP2013167621A JP2012170994A JP2012170994A JP2013167621A JP 2013167621 A JP2013167621 A JP 2013167621A JP 2012170994 A JP2012170994 A JP 2012170994A JP 2012170994 A JP2012170994 A JP 2012170994A JP 2013167621 A JP2013167621 A JP 2013167621A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- sample
- measurement
- band
- band lineup
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 183
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 58
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 35
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 26
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 16
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 12
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 7
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 29
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 30
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 9
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 8
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- -1 Me-TPD Chemical compound 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 5
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 4
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000002361 inverse photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 3
- 238000004402 ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- MVIXNQZIMMIGEL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-[4-[4-(4-methyl-n-(4-methylphenyl)anilino)phenyl]phenyl]-n-(4-methylphenyl)aniline Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(C)=CC=1)C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 MVIXNQZIMMIGEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000009429 electrical wiring Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 1
- 238000010353 genetic engineering Methods 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 125000005543 phthalimide group Chemical class 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
- 150000003518 tetracenes Chemical class 0.000 description 1
Abstract
【解決手段】同一の光源及び照射光学系と試料ホルダーを用い、照射による生じる電流及び光量の同時測定を行う。光源1から出た光は分光器4によって単色化されフォトンエネルギーで掃引し、試料31に照射される。照射によって生じた光電子は電流計で、反射光は光量計で計測する。透過性を有する材料の場合は、透過した光を光量計72で測定する。照射フォトンエネルギーに対して電流値の立ち上がり位置からイオン化ポテンシャルを求め、また、反射又は透過測定からバンドギャップを求め、この2つの値からイオン化ポテンシャルのエネルギー位置及び電子親和力のエネルギー位置のバンドラインナップを求める。
【選択図】図2
Description
第1に、UPSではHeの放電による紫外光源と電子分光器、IPESでは低速エネルギー可変電子源と光検出器が必要でありそれぞれ超高真空中での動作環境が必要なことから、試料を超高真空中にいれなければならない。そのため、当該測定法では水を含んだ有機物や蒸気圧の高い物質などを測定できない。
第2に、測定中に試料の帯電によって電子分光器のエネルギー基準がずれるために、当該測定法では比較的導電性の高い試料しか測定できない。
(a)EVBMの測定に光電子収量分光装置(別名イオン化ポテンシャル測定装置)(非特許文献2)によるイオン化ポテンシャル測定、
(b)分光光度計を用いた光の反射、透過、並びに吸収測定によるバンドギャップの測定。
上記2つの計測法を用いることで、ECBMとEVBMを求めることができる。これらの計測法は、光源及び検出器は真空環境を必要としないため、大気中での計測が行えるため、水を含む有機物や蒸気圧の高い物質も測定が行えるほか、帯電の影響をあまり受けないため(非特許文献3)、導電性の低い材料(絶縁物)に対しても計測でき、測定対象材料が格段に広い。
なお、イオン化ポテンシャル測定装置は、特許文献2、4にも開示されている。特許文献2には、試料に分光された紫外光を照射し、放出される光電子の収量を測定することにより、試料の仕事関数またはイオン化ポテンシャルを測定する仕事関数またはイオン化ポテンシャル測定装置が提案されている。また、特許文献4には、試料に紫外光を照射することで得られる電流値からイオン化ポテンシャルを測定するためのイオン化ポテンシャル測定装置が提案されている。
第1に各々の測定装置の光学特性が異なる。例えば、光源ランプの出力や種類による波長範囲、光量や透過率及び特性線の違い、光学レンズの配置による入射光量変化、分光器の特性による二次光や迷光といった課題がある。
第2に、別々の光学装置では試料の形状や測定面を鉛直にするか水平にするかといった測定器への設置態様が異なる。そのため別々の装置では、試料のホルダーへの設置や、形状の加工など装置によって対応を変える必要が生じ、測定作業が複雑になるという課題がある。
第3に別々の光学装置では、同じ試料に対してエネルギーの高い紫外光を少なくとも2回照射することになり、エネルギーの高い紫外光に対して、ダメージを受けやすい有機物材料では照射によって試料状態が変わってしまい正確に測れないという課題がある。
しかし、特許文献1、3によれば、各光学装置ごとに校正を行う必要があるという課題がある。そして個々の光学装置の誤差により、最終的な値の誤差範囲は広がり、精度を落とすことになる。また、別々の装置であるため、光量や分光器の波長精度は各光学装置に強く依存しているために別々の光学装置では同じ条件に合わせることが難しいという課題がある。
IP=EVAC−EVBM (i)
また、バンドギャップEgは次式で算出される。
Eg=ECBM−EVBM (ii)
そこで、イオン化ポテンシャルIPとバンドギャップEgの測定結果を合わせることで、EVAC、EVBM、ECBMのバンドラインナップが決定される。これによりバンドラインナップの測定精度を向上させることができる。
本発明のバンドラインナップ装置において、好ましくは、光照射部(5、9)は、さらに、分光器4の取りだす特定波長の光から参照光を分ける、ハーフミラー52を含む光学系、又はファイバー9を含む光学系を有すると共に、光量測定部は、光照射の一部を取り出し参照光として測定する参照部(57)を有するとよい。このように構成すると、分光器4の取りだす特定波長の光から参照光が照射光及び反射光と同一の光路から得られるため、連続光から特定波長の光を取りだす際の条件が時間的に実質的に同じと同視でき、ノイズの影響を受け難く正確な測定が行える。
本発明のバンドラインナップ装置において、光照射部5は照射光用光ファイバー59を有すると共に、照射光用光ファイバー59をグランド電位にすることで、コレクター電極に相当する機能を持たせることもできる。この場合には、コレクター電極を照射光用光ファイバーが兼用する。
IP=EVAC−EVBM (i)
Eg=ECBM−EVBM (ii)
(a)反射測定又は透過測定の少なくとも一方に必要なバックグラウンド(dark)スペクトルと参照(ref)スペクトルを取得するステップ(S302、S304)。
(b)試料又はコレクター電極の少なくとも一方に直流電圧を印加するステップ(S308)。
(c)分光器で分離された特定波長の単色光を試料に照射するステップ(S310)。
(d)当該単色光を試料に照射したときにコレクター電極と試料間に流れる電流値を電流計で計測するステップ(S314)。
(e)試料の表面で反射した反射光又は前記試料を透過した透過光の少なくとも一方を光量計で計測するステップ(S312)。
(f)前記測定された電流値及び前記反射光又は前記透過光の計測光量を用いて、試料のイオン化ポテンシャル、バンドギャップ及びバンドラインナップの少なくとも一つを決定するステップ(S324、S326、S328)。
好ましくは、ステップ(c)は、分光器で分離された特定波長の単色光のうち、ハーフミラーを含む光学系又は分岐ファイバーを用いて、一部を参照光として測定し、参照光以外の単色光を試料に照射するステップとしてもよい。
(g)光源部より射出される赤外域から紫外域までの波長のうちから、制御装置からの制御信号により前記分光器を操作して、所望の波長の光だけを単色光に分離するステップ(S310)。
(h)測定波長範囲の測定が終了したか否かを判断し、終了していない場合は、分光器を操作して単色光の波長を変更するステップ(S318・S322)。
(i)終了した場合には試料又はコレクター電極に印加されている直流電圧をオフするステップ(S320)。
(j)単色光が照射された試料の表面上の位置と共に、測定された電流値及び反射光又は透過光の計測光量値を記憶装置に記録するステップ(S316)。
(k)単色光を試料に照射する位置を変更するステップ(S332)。
(l)好ましくは、測定位置の変更を行うかどうかを判断し、変更を行う場合ステージユニットを操作して測定場所を変更するステップ(S330)も設けると良い。
本発明のバンドラインナップ装置において、さらに光照射部5に対して試料の反射光を測定する側に設けられた蛍光用分光器(CCD付分光器または、CCD付マルチチャンネル分光器)を有する、蛍光測定機能を有するバンドラインナップ測定装置を提供することを特徴とする。
また、光と電子の同時測定機能を合わせ持つ装置になり、試料を保持する場所も同じであるため、試料取扱の変更が不要になり、試料取扱に伴うヒューマンエラーを減らすことができる。また、別の測定器で測定する際の測定のタイムラグを減らすことができ同じ条件で測定が行えることから、より精度の高い測定が可能となる。
さらに、測定解析装置の解析ソフトに計算アルゴリズムを組み込むことで、直接EVBMやバンドギャップの値を元にバンドラインナップの値を得ることができ、実験担当者の測定データ解析が容易に行える。
図2は本発明の第1の実施形態を示すバンドラインナップ測定装置の要部構成図である。図2において、バンドラインナップ測定装置は、光源部1、電気系測定部2、試料設置部3、分光器4、照射・参照・反射光学系5、透過光学系7、論理制御部8を備えている。
論理制御部8は、電流計23、参照光用光量計57、反射光用光量計58、透過光用光量計72の各種測定データを記憶する記憶装置81と、この記憶装置81から各種測定データを入力して解析する解析装置82と、記憶装置81と解析装置82のデータに基づいて分光器4及び、ステージユニット33に操作信号を出力する制御装置83を有する。
光源部1から放出された連続光は、分光器4にて特定の波長の光が選択されて、照射・参照・反射光学系5に送られる。照射・参照・反射光学系5では、ハーフミラー52によって通過した単色光の一部(数%)を参照光用光量計57にある方向に反射させ、残りの多くの単色光を照射及び反射用光ファイバー59へ導く。そして、試料31で散乱、反射した単色光を反射光用光量計58に導く。また、試料が光透過性を有する材料の場合は、透過光を透過光学系7の透過光用光量計72に導く。なお、図2の実施例では、反射用光ファイバー59と透過用光ファイバー71を用いているが、光ファイバーを用いないでレンズを使用して構成してもよい。また、試料が光透過性を有しない材料の場合は、バンドラインナップ装置において、透過光学系7と透過光用光量計72を省略しても良い。
次に、バンドラインナップの測定方法について、図及びフローチャートを用いて説明する。図3は、バンドラインナップ測定手順の一例を示すフローチャートである。
初めに、光源部1から出射する赤外域から紫外域の光のうち、制御装置83からの制御信号により、分光器4を操作し所望の波長の光だけを単色光として出力する(S01)。照射・参照・反射光学系5を用いて、分光器4から出力された単色光の一部を参照光として測定し、その余は照射及び反射光用光ファイバー59を通じて試料31に照射する(S02)。
ここで、制御装置83は、最初に設定した測定波長範囲の測定が終了したか否かを判断し(S05)、全測定波長による測定が終了していない場合(S05において、NO)、分光器4を操作し、波長を変更する(S06)。また、S06の処理が終了後は、S02に戻り、S02以降の処理を行う。
また、S10の処理において、測定位置の変更しない場合(S10において、NO)、測定を終了する。
このように、同一の光源及び光学系を用いて、そして、同一試料で同一の場所の電流値及び光量の測定を同時に行える機能設備を有し、記録した複数の測定結果を解析することにより、バンドラインナップの測定精度を向上させることができる。
図4は、図3のS08のバンドギャップを決定するアルゴリズムの詳細図で、図2の装置におけるバンドラインナップ演算手順を説明するフローチャートである。図4のバンドギャップ決定アルゴリズムは、得られた反射光量、参照光量または透過光量からバンドギャップを決定するアルゴリズムになる。光量の測定はフォトダイオードを用いる。フォトダイオードは波長によって感度係数が異なるので、感度係数で校正する必要がある。また、測定材料によっては、透過測定ができないものもある。
C−rPD=rPD/rSENS (1)
また、反射光量(fPD)は、測定器の波長感度特性(fSENS)を用いて、校正された光量に変換される(S104)。
C−fPD=fPD/fSENS (2)
その際、透過光がある場合とない場合によって、解析装置82での、その後の処理が変わる(S106)。透過光がある場合は、透過光光量(tPD)も波長感度係数(tSENS)によって校正される(S108)。
C−tPD=tPD/tSENS (3)
次に、解析装置82は校正透過光量を校正参照光量で割り、透過率(Trans)を求める(S110)。
Trans=C−tPD/C−rPD (4)
そして、入射フォトンエネルギーに対する透過率のグラフを作成し(S112)、当該グラフの透過率からバンドギャップが得られる(S114)。
Refl=C−fPD/C−rPD (5)
次に、解析装置82は、Kubelka−Munk変換を用いて相対反射率から相対吸収率(abs)に変換する(S118)(非特許文献4、6)。
abs=(1−Refl)2/(2xRefl) (6)
そして、解析装置82は、横軸が照射エネルギー(E)、縦軸がabsの入射フォトンエネルギーに対するグラフを作成し(S120)、そのグラフの吸収率からバンドギャップが得られる(S122)。
C−rPD=rPD/rSENS (7)
そして光子数に変換するために、校正光量C−rPDを各波長での光子のエネルギー(E)で割り相対光子数(NP)にする(S204)。
NP=(C−rPD)/E (8)
1光子あたりの収量(PYS)にするために、電流値(CI)を相対光子数で割る(S206)。
PYS=CI/NP (9)
Fowler関数で閾値を求めるために、S206で得られた値の平方根を取る(S208)。グラフを作成し(S210)、イオン化ポテンシャルを決定する(S212)。
図7の実施形態は、図2の実施形態の改良型である。電気系測定部2には、さらに正電圧源Vcc24及び電流計25が設けられている。照射・参照・反射光学系5には、さらに二次光・迷光フィルター60と集光レンズユニット61が設けてある。
二次光・迷光フィルター60は、ノイズとなる二次光や迷光を除去して、信号成分の光からより正確な測定値が得られるようにするもので、分光器4から出力された単色光を透過して、ハーフミラー52に送る。集光レンズユニット61は、照射及び反射用光ファイバー59の先端部に設けられ、照射光を試料31の表面に集光すると共に、試料表面からの反射光が反射用光ファイバー59に入射しやすいようにする。
第2の実施形態によれば、別々の測定装置で測定する場合における、試料のセッティングなどの測定環境や装置特性の影響が除去でき、高精度なバンドラインナップの測定を実現することができる。
図8の実施形態は、図2や図7の実施形態における照射・参照・反射光学系の光学部品を分岐ファイバーで置き換えたものである。分岐ファイバー9は、分光器側ファイバー91、参照光ファイバー92、反射光ファイバー93、照射光ファイバー94、ファイバー分岐部95で構成される。
このように構成された分岐ファイバーにおいて、試料上で反射した光は、照射光ファイバー94とバンドルされている反射光ファイバー93を通り、ファイバー分岐部95で分岐され、反射光ファイバー93を通って、反射光用光量計58へと導かれる。
次に、バンドラインナップの測定方法について、図及びフローチャートを用いて説明する。図12はバンドラインナップ測定における全体測定の手順を示すフローチャートである。
初めに、制御装置83は、透過及び反射測定に必要なバックグラウンド(Dark)スペクトル及び、参照(Ref)スペクトルをすでに取得しているかどうかを判断する(S302)。取得していなければ、後述のバックグラウンド・参照スペクトル測定フローチャートに従い取得する(S304)。取得していた場合は、試料ホルダー32に測定試料31をセットする(S306)。試料31もしくは電極21あるいは両方に、電圧を印加する(S308)。光源部1から出射する赤外域から紫外域の光のうち、制御装置83からの制御信号により、分光器4を操作し所望の波長の光だけを単色光として出力する(S310)。分光器4から出力された単色光はハーフミラー52を含む光学系5または、分岐ファイバー9を用いて、一部は参照光として残りは照射光として、そして試料で反射した光を分離する。参照光用光量計57、反射光用光量計58、透過光用光量計72は、それぞれ参照光、反射光、試料が光透過性を有する材料の場合は透過光の光量を測定する(S312)。
ここで、最初に設定した測定波長範囲の測定が終了したか否かを判断し(S318)、全測定波長による測定が終了していない場合(S318において、NO)、制御装置83は分光器4を操作し、単色光の波長を変更する(S322)。また、S322の処理が終了した後は、S312に戻り、S312以降の処理を行う。
他方、S330の処理において、測定位置の変更しない場合(S330において、NO)、測定を終了する。
相対透過率及び相対反射率を求めるためには、バックグラウンドスペクトル・参照スペクトルの両方を測定しなければならない。まず、制御装置83はバックグランド(Dark)スペクトルを測定するか、それとも参照(Ref)スペクトルのどちらを測定するかを判断する(S402)。バックグランドスペクトルの場合には、試料ホルダー32には、何もセットしない(S404)。参照スペクトルの場合には、試料ホルダー32に参照物質をセットする(S406)。その後の操作は同じであり、光源部1から出射する赤外域から紫外域の光のうち、制御装置83からの制御信号により、分光器1を操作し所望の波長の光だけを単色光として出力する(S408)。参照光用光量計57、反射光用光量計58、透過光用光量計72は、それぞれ参照光、反射光、試料が光透過性を有する材料の場合は透過光の光量を測定する(S410)。測定された光量は記憶装置81に記録される(S412)。
記憶装置81は、図12のフローチャートに従って、波長を走査しながら測定される光量と電流値を記録する。得られたスペクトルから、解析装置82によってイオン化ポテンシャル決定フローチャート、バンドギャップ決定フローチャートおよびバンドラインナップ決定フローチャートに従ってバンドラインナップを決定する。
NP=(C−rPD)/E (10)
PYS=CI/NP (11)
Fowler関数を仮定して閾値を求めるために、S504で得られた値の平方根を取る(S506)。
S−PYS=(PYS)1/2 (12)
解析装置82は、横軸を照射エネルギー、縦軸をS−PYSとしてグラフを作成する(S508)。そして、グラフにおける変曲点の位置で接線を引き、バックグラウンドのラインとの交点におけるエネルギーをイオン化ポテンシャルと決定する(S510)。
解析装置82は、測定装置に透過測定の設備が取り付けられているか、又は、透過性のある試料かによって透過測定があるかないかを判断する(S602)。透過測定がある場合は、透過測定データ(TM)からバックグランドデータ(Tdark)と参照データ(Tref)を用いて相対透過率(RT)を求める(S604)。
RT=(TM−Tdark)/(Tref−Tdark) (13)
その次に、縦軸:RT、横軸:Eのグラフを作成する(S620)。グラフより吸収端を求める(S622)。
RR=(RM−Rdark)/(Rref−Rdark) (14)
相対反射率RRを求めてからは2つの計算方法を使って吸収係数(a)を求めることになる。RRを用いてKramers - Kronig変換(非特許文献5)を用いて屈折率(n)と消光係数(k)を求める(S608)。そして消光係数を用いて吸収係数(a)を求める(S612)。
a=4πk/λ (15)
ここでλは波長である。
一方で、Kubelka - Munk変換(非特許文献6)を用いて吸収係数(a)を求める(S610)。
a/s=(1−RR)(1−RR)/(2RR) (16)
ここで、s=1とする。
a=A・(E−Eg)1/2/E (17)
間接遷移を仮定した場合、次式の関係より縦軸:(aE)1/2、横軸:Eのグラフを作成する(S616)。
a=B・(E−Eg)2/E (18)
グラフにおけるもっとも低いエネルギーでの変曲点の位置で接線を引き、バックグラウンドのラインとの交点におけるエネルギーをバンドギャップとする(S618)。それぞれよりバンドギャップが求まるが、測定対象の材料特性などを考慮して、どの値を使用するかを決め、バンドギャップを決定する(S624)。
χ=IP−Eg (19)
そして、真空準位、χ、IP、Egを表示した図表を作成する(S706)。
測定に用いたサンプルでは、粉状物質であり、透過測定ができないために反射測定からバンドギャップを求める。前述の通り、反射測定の結果である図17より、バンドギャップはRubrene、Me−TPD、Alq3及びCuPCの其々について、2.2eV、3.1eV、2.9eV、1.6eVと得られる。図18より其々のイオン化ポテンシャルは、5.35eV、5.5eV、5.9eV、5.25eVと得られる。従って、図19のように其々の価電子帯上端EVBMはイオン化ポテンシャルと等しくなり、其々の伝導帯下端ECBMは3.15eV、2.4eV、3.0eV、3.65eVと求めることができる。
蛍光機能測定を有するバンドラインナップ装置は、図7または、図8に示す装置をベースとし、反射測定部58に蛍光用分光器を設置する。蛍光用分光器は、CCD付分光器または、CCD付マルチチャンネル分光器を用いることができる。蛍光測定は、分光器4の分光した入射波長とは別の波長を測定する。試料が蛍光物質である場合には、紫外光を照射したときに、照射した紫外光の波長とは異なる別の波長の反射光又は発光が観測されるので、この蛍光をCCD付分光器または、CCD付マルチチャンネル分光器で測定する。
また、上記の実施形態においては、透過光測定部と反射光測定部の双方を備える場合を示しているが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、測定対象試料が光透過性を有する場合には、透過光測定部だけでもよい。また、測定対象試料が光透過性のない場合には、反射光測定部だけを用いてもよい。
さらに、上記の実施形態においては、バンドラインナップ測定装置としてバッチ処理で試料の特性値を測定する場合を示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、製造ラインに設置して製造される試料を連続的に測定するように構成されてもよい。
2 電気系測定部
21 コレクター電極
22、24 電圧源
23、25 電流計
3 試料設置部
31 試料
32 試料ホルダー
33 ステージユニット、移動機構、試料台
4 分光器
5 光照射部、照射光学系、照射・参照・反射光学系
52 ハーフミラー
57 参照光用光量計、参照光測定部
58 反射光用光量計又はCCD付きマルチチャンネル分光器、反射光測定部
59 照射及び反射用光ファイバー
60 二次光・迷光フィルター
61 集光レンズ
7 透過光学系
71 透過用光ファイバー又はレンズ
72 透過光用光量計又はCCD付きマルチチャンネル分光器、透過光測定部
8 論理制御部
81 記憶装置
82 解析装置
83 制御装置
9 光照射部、照射及び反射用光分岐ファイバー
Claims (15)
- 赤外域の波長、可視光域の波長、紫外域の波長の少なくとも1種類を含む連続光を放射する光源部と、
前記連続光から特定波長の光を取りだす分光器と、
前記特定波長の光を試料に照射する光照射部と、
前記照射光に起因する、前記試料の表面より反射する光を測定する反射光測定部と、前記試料を透過する光を測定する透過光測定部の少なくとも一方を備える光量測定部と、
前記光照射部と前記試料との間に設けられたコレクター電極と、
前記照射光に起因する、前記試料と前記コレクター電極との間に流れる電流を測定する電流測定部と、
前記分光器の取りだす特定波長を制御する制御装置と、
を具備し、前記光量測定部と前記電流測定部の測定結果から前記試料の価電子帯上端エネルギー(EVBM)と伝導帯下端エネルギー(ECBM)を算出できることを特徴とするバンドラインナップ装置。 - さらに、前記試料を照射する光の光軸に対し、垂直方向又は平行方向の少なくとも一方を含んで移動する移動機構を有し、
前記制御装置は前記移動機構を制御して、前記光照射部が照射する前記試料の表面の位置を制御することを特徴とする請求項1に記載のバンドラインナップ装置。 - さらに、前記試料を設置する試料ホルダーと、
前記試料と前記光照射部との間に設けられる前記コレクター電極と、
前記試料ホルダーと前記コレクター電極の少なくとも一方に直流電圧を印加する直流電圧源とを有することを特徴とする請求項1又は2に記載のバンドラインナップ装置。 - 前記コレクター電極は金属製であり、前記コレクター電極と前記試料との間の距離が大気圧下の測定では1.0mm以下であることを特徴とする請求項3に記載のバンドラインナップ装置。
- 前記コレクター電極形状は、前記照射光の光路上で前記照射光のビーム径を邪魔しないリング状、前記照射光のビーム径の一部にかかる短針状、又は照射光のビーム径と同程度のメッシュ状の少なくとも1つであることを特徴とする請求項3又は4に記載のバンドラインナップ装置。
- 前記光源部がハロゲン光源と重水素光源の両方を有することを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載のバンドラインナップ装置。
- 前記光照射部は、前記分光器の取りだす特定波長の光から、前記照射光及び前記反射光を分けるハーフミラーを含む光学系、又は前記照射光及び前記反射光のそれぞれを分岐するファイバーを含む光学系を有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載のバンドラインナップ装置。
- 前記光照射部は、さらに、前記分光器の取りだす特定波長の光から参照光を分ける、ハーフミラーを含む前記光学系、又はファイバーを含む前記光学系を有すると共に、
前記光量測定部は、光照射の一部を取り出し参照光として測定する参照部を有することを特徴とする請求項7に記載のバンドラインナップ装置。 - 前記光照射部は、照射光用光ファイバーを有すると共に、当該照射光用光ファイバーをグランド電位にすることで、前記コレクター電極に相当する機能を持たせることを特徴とする請求項1乃至8の何れか1項に記載のバンドラインナップ装置。
- 前記試料の価電子帯上端エネルギー(EVBM)と伝導帯下端エネルギー(ECBM)を用いて、イオン化ポテンシャルの値(IP)とバンドギャップの値(Eg)についての下記の式(i)、(ii)から、バンドラインナップ(EVAC、EVBM、ECBM)を演算することを特徴とする請求項1に記載のバンドラインナップ装置。
IP=EVAC−EVBM (i)
Eg=ECBM−EVBM (ii) - 請求項1に記載のバンドラインナップ装置によるバンドラインナップ測定方法であって、
反射測定又は透過測定の少なくとも一方に必要なバックグラウンド(dark)スペクトルと参照(ref)スペクトルを取得するステップと、
試料又はコレクター電極の少なくとも一方に直流電圧を印加するステップと、
分光器で分離された特定波長の単色光を前記試料に照射するステップと、
当該単色光を前記試料に照射したときに前記コレクター電極と前記試料間に流れる電流値を電流計で計測するステップと、
前記試料の表面で反射した反射光又は前記試料を透過した透過光の少なくとも一方を光量計で計測するステップと、
前記測定された電流値及び前記反射光又は前記透過光の計測光量を用いて、前記試料のイオン化ポテンシャル、バンドギャップ及びバンドラインナップの少なくとも一つを決定するステップと、
を有することを特徴とするバンドラインナップ測定方法。 - 請求項11に記載のバンドラインナップ装置によるバンドラインナップ測定方法であって、
前記試料に照射するステップは、分光器で分離された特定波長の単色光のうち、ハーフミラーを含む光学系又は分岐ファイバーを用いて、一部を参照光として測定し、当該参照光以外の単色光を前記試料に照射するステップであることを特徴とするバンドラインナップ測定方法。 - 請求項11又は12に記載のバンドラインナップ装置によるバンドラインナップ測定方法であって、さらに、
光源部より射出される赤外域から紫外域までの波長のうちから、制御装置からの制御信号により前記分光器を操作して、所望の波長の光だけを単色光に分離するステップと、
測定波長範囲の測定が終了したか否かを判断し、終了していない場合は、前記分光器を操作して単色光の波長を変更し、終了した場合には前記試料又は前記コレクター電極の少なくとも一方の直流電圧印加をオフするステップと、
を有し、前記イオン化ポテンシャル値と前記バンドギャップ値からバンドラインナップの演算をすることを特徴とするバンドラインナップ測定方法。 - 請求項11乃至13の何れか1項に記載のバンドラインナップ装置によるバンドラインナップ測定方法であって、さらに、
前記単色光が照射された前記試料の表面上の位置と共に、前記測定された電流値及び前記反射光又は前記透過光の計測光量値を記憶装置に記録するステップと、
前記単色光を前記試料に照射する位置を変更するステップと、
を有し、前記試料の測定位置の変更が行うようにしたことを特徴とするバンドラインナップ測定方法。 - 請求項1乃至10の何れか1項に記載のバンドラインナップ装置において、
さらに前記光照射部に対して前記試料の反射光を測定する側に設けられた蛍光用分光器を有することを特徴とする蛍光測定機能を有するバンドラインナップ測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012170994A JP6095043B2 (ja) | 2012-01-17 | 2012-08-01 | バンドラインナップ装置及びその測定方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012006887 | 2012-01-17 | ||
JP2012006887 | 2012-01-17 | ||
JP2012170994A JP6095043B2 (ja) | 2012-01-17 | 2012-08-01 | バンドラインナップ装置及びその測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013167621A true JP2013167621A (ja) | 2013-08-29 |
JP6095043B2 JP6095043B2 (ja) | 2017-03-15 |
Family
ID=49178111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012170994A Active JP6095043B2 (ja) | 2012-01-17 | 2012-08-01 | バンドラインナップ装置及びその測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6095043B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101493836B1 (ko) | 2013-11-26 | 2015-02-17 | 포항공과대학교 산학협력단 | 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 |
KR101493837B1 (ko) | 2013-11-26 | 2015-02-17 | 포항공과대학교 산학협력단 | 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 |
JP2021021602A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツングRobert Bosch Gmbh | 測定装置及び測定方法 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61148329A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-07 | Shimadzu Corp | 可視紫外用分光光度計 |
JPH01113643A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-02 | Seiko Instr & Electron Ltd | 仕事関数測定装置 |
US4841150A (en) * | 1987-12-28 | 1989-06-20 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Reflection technique for thermal mapping of semiconductors |
JPH02247543A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 変調光吸収測定法 |
JPH08122150A (ja) * | 1994-10-26 | 1996-05-17 | Shimadzu Corp | マルチチャンネル型分光光度計 |
JP2690572B2 (ja) * | 1989-09-22 | 1997-12-10 | 株式会社日立製作所 | 表面状態評価方法およびその装置 |
JP2003042939A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
JP2007303924A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Sumitomo Jukikai Advanced Machinery Kk | イオン化ポテンシャル測定装置 |
JP2009121841A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Kobelco Kaken:Kk | 電子分光分析複合装置、及び電子分光分析方法 |
-
2012
- 2012-08-01 JP JP2012170994A patent/JP6095043B2/ja active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61148329A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-07 | Shimadzu Corp | 可視紫外用分光光度計 |
JPH01113643A (ja) * | 1987-10-27 | 1989-05-02 | Seiko Instr & Electron Ltd | 仕事関数測定装置 |
US4841150A (en) * | 1987-12-28 | 1989-06-20 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Reflection technique for thermal mapping of semiconductors |
JPH02247543A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 変調光吸収測定法 |
JP2690572B2 (ja) * | 1989-09-22 | 1997-12-10 | 株式会社日立製作所 | 表面状態評価方法およびその装置 |
JPH08122150A (ja) * | 1994-10-26 | 1996-05-17 | Shimadzu Corp | マルチチャンネル型分光光度計 |
JP2003042939A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-13 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
JP2007303924A (ja) * | 2006-05-10 | 2007-11-22 | Sumitomo Jukikai Advanced Machinery Kk | イオン化ポテンシャル測定装置 |
JP2009121841A (ja) * | 2007-11-12 | 2009-06-04 | Kobelco Kaken:Kk | 電子分光分析複合装置、及び電子分光分析方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JPN6009022541; 中島嘉之: '大気中紫外線光電子分析装置AC-1有機エレクトロルミネッセンス素子への応用' 月刊新素材 第7巻,第5号, 19960501, P.37-39 * |
JPN6016026303; 石井久夫、外5名: '「光電子収量分光による有機エレクトロニクス材料・界面の電子構造評価」' 表面化学 vol.28,No.5, 20070603, p.264-270 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101493836B1 (ko) | 2013-11-26 | 2015-02-17 | 포항공과대학교 산학협력단 | 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 |
KR101493837B1 (ko) | 2013-11-26 | 2015-02-17 | 포항공과대학교 산학협력단 | 저온에서 광전류 및 광전압을 측정하고 이미징하는 장치 |
JP2021021602A (ja) * | 2019-07-26 | 2021-02-18 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツングRobert Bosch Gmbh | 測定装置及び測定方法 |
JP7313221B2 (ja) | 2019-07-26 | 2023-07-24 | ロベルト・ボッシュ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 測定装置及び測定方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6095043B2 (ja) | 2017-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Hayee et al. | Revealing multiple classes of stable quantum emitters in hexagonal boron nitride with correlated optical and electron microscopy | |
Sommer | Analytical absorption spectrophotometry in the visible and ultraviolet: the principles | |
JP5555621B2 (ja) | 障害検出及びプロセスモニタリングのために使用される放射分析光学モニタリングシステムのキャリブレーション | |
KR101716902B1 (ko) | 분광 측정 장치, 분광 측정 방법, 및 분광 측정 프로그램 | |
Sodhi et al. | Surface and buried interface layer studies on challenging structures as studied by ARXPS | |
JP6095043B2 (ja) | バンドラインナップ装置及びその測定方法 | |
US10436712B2 (en) | Devices and methods for spectroscopic analysis | |
CN109642875A (zh) | 用于原位工艺监测和控制的光谱反射测量法 | |
GB2447252A (en) | X-ray diffraction and X-ray fluorescence instrument | |
US20120275568A1 (en) | Combining X-ray and VUV Analysis of Thin Film Layers | |
KR101987506B1 (ko) | 측정 장치 및 측정 방법 | |
De Sanctis et al. | An integrated and multi-purpose microscope for the characterization of atomically thin optoelectronic devices | |
Wussler et al. | Tapered Cross‐Section Photoelectron Spectroscopy of State‐of‐the‐Art Mixed Ion Perovskite Solar Cells: Band Bending Profile in the Dark, Photopotential Profile Under Open Circuit Illumination, and Band Diagram | |
CN103698005A (zh) | 自校准光源光谱调谐器 | |
Glöckler et al. | Characterization of metal oxide gas sensors via optical techniques | |
Pahlke | Quo Vadis total reflection X-ray fluorescence? | |
Iida et al. | Time‐of‐flight secondary ion tandem mass spectrometry depth profiling of organic light‐emitting diode devices for elucidating the degradation process | |
CN111856235A (zh) | 真空紫外光电倍增管测试装置 | |
CN115003981A (zh) | 组合ocd与光反射的方法及系统 | |
Reese et al. | Reliably measuring the performance of emerging photovoltaic solar cells | |
US20160131526A1 (en) | Spectroscopic Analysis System and Method | |
JP5979666B2 (ja) | 有機el素子の製造装置及び方法、cvd薄膜の製造装置及び方法 | |
CN112146581A (zh) | 薄膜厚度的测量方法及装置 | |
Das et al. | Development of photophysics beamline at Indus-1 synchrotron radiation source | |
Holch et al. | New set-up for high-quality soft-X-ray absorption spectroscopy of large organic molecules in the gas phase |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150701 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160628 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160712 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160901 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6095043 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |