JP2013158919A - Laminator - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施形態は、ラミネート装置に関し、特に、太陽電池モジュールなどの薄板形状の被ラミネート体の製造に適したラミネート装置に関する。 Embodiments described herein relate generally to a laminating apparatus, and more particularly, to a laminating apparatus suitable for manufacturing a thin plate-shaped object to be laminated such as a solar cell module.
太陽電池の形態として、単結晶シリコン又は多結晶シリコンを用いた結晶型太陽電池、及びアモルファスシリコン(非結晶シリコン)を用いたアモルファス型太陽電池が知られている。 As a form of the solar cell, a crystalline solar cell using single crystal silicon or polycrystalline silicon and an amorphous solar cell using amorphous silicon (amorphous silicon) are known.
しかしながら、いずれの形態の太陽電池も、化学変化を起こしやすく、物理的な衝撃に弱い。従って、一般には、透明のビニルフィルム、強化ガラス、又は耐熱ガラスなどのラミネート部材で太陽電池をラミネートしたモジュール(以下「太陽電池モジュール」という)が利用されている。この太陽電池モジュールに対するラミネート加工は、ラミネート部材とバックシートとの間に充填材(例えば、EVA(エチレンビニルアセテート)樹脂)を介して太陽電池を挟み込み、真空下で加熱して充填材を溶かすことにより、行われる。 However, any form of solar cell is susceptible to chemical changes and is vulnerable to physical shock. Therefore, in general, a module in which a solar cell is laminated with a laminate member such as a transparent vinyl film, tempered glass, or heat-resistant glass (hereinafter referred to as “solar cell module”) is used. In the lamination process for the solar cell module, the solar cell is sandwiched between the laminate member and the back sheet via a filler (for example, EVA (ethylene vinyl acetate) resin), and heated under vacuum to melt the filler. This is done.
従来、このようなラミネート加工を行うラミネート装置として、下方に向かって膨張自在なダイアフラムを備えた上チャンバと、ヒータ盤を備えた下チャンバのラミネート部において、被ラミネート体内の充填材を融解させてダイアフラムを真空狭圧することにより、ラミネート加工を行う装置が知られている。このようなラミネート装置では、太陽電池を挟んだ積層体である被ラミネート体がヒータ盤に載置される。次いで、上チャンバと下チャンバとを密閉減圧して真空状態にするための真空引きが行われる。次いで、ダイアフラム内に空気を導入することにより、ダイアフラムとヒータ盤との間で被ラミネート体が狭圧される。次いで、ヒータ盤により狭圧された被ラミネート体が加熱される。 Conventionally, as a laminating apparatus for performing such a laminating process, a filler in a laminated body is melted in a laminating portion of an upper chamber having a diaphragm that is expandable downward and a lower chamber having a heater panel. There is known an apparatus for laminating a diaphragm by vacuuming the diaphragm. In such a laminating apparatus, an object to be laminated, which is a laminated body sandwiching solar cells, is placed on a heater panel. Next, vacuuming is performed for hermetically reducing the pressure in the upper chamber and the lower chamber so as to obtain a vacuum state. Next, by introducing air into the diaphragm, the object to be laminated is narrowed between the diaphragm and the heater panel. Next, the object to be laminated that has been narrowed by the heater panel is heated.
しかしながら、近年、被ラミネート体の寸法が大型化し、且つ、生産効率を向上させるために複数の被ラミネート体に対してラミネート加工が同時に実行される傾向にある。従って、ヒータ盤上で被ラミネート体を移動させる時間が長期化する。その結果、被ラミネート体がヒータ盤上で待機する時間も長期化する。 However, in recent years, the size of the laminates has increased, and there is a tendency that laminating is simultaneously performed on a plurality of laminates in order to improve production efficiency. Therefore, the time for moving the object to be laminated on the heater panel is prolonged. As a result, the time for which the object to be laminated waits on the heater panel is also prolonged.
被ラミネート体がヒータ盤上で待機する時間が長期化すると、被ラミネート体が、ラミネート加工の前に、長時間にわたって不均一に加熱されるという問題がある。 When the time for which the object to be laminated waits on the heater board becomes longer, there is a problem that the object to be laminated is heated non-uniformly for a long time before laminating.
さらに、ラミネート加工の前に被ラミネート体が加熱されると、被ラミネート体内部の充填材が真空引きの前に融解する場合がある。この場合には、被ラミネート体内部に気泡が発生するので、太陽電池モジュールの品質を低下させる、という問題がある。 Furthermore, if the object to be laminated is heated before laminating, the filler inside the object to be laminated may be melted before vacuuming. In this case, since bubbles are generated inside the laminate, there is a problem that the quality of the solar cell module is deteriorated.
このような問題に対して、特許文献1のラミネート装置が知られている。特許文献1のラミネート装置は、ラミネート部に搬入された被ラミネート体を上昇及び下降させる複数のピンを備える。この複数のピンにより、被ラミネート体は、真空引きが完了するまでヒータ盤から離される。
For such a problem, a laminating apparatus of
特許文献1のラミネート装置の複数のピンは、ヒータ盤に穿設された貫通孔内を貫通するように配置される。例えば、複数のピンは、ピン下端に配置された昇降板の上昇駆動に応じてピン下端が一度に押し上げられることにより、ヒータ盤上面より突き出した状態になり、昇降板の下降駆動に応じてピンの自重で下降することにより、ピン上端がヒータ盤上面とほぼ同じ高さの状態となる。
The plurality of pins of the laminating apparatus of
しかしながら、ヒータ盤の有効加熱面積の減少を抑えること、又は、ピンの揺動を抑えることを考慮すると、ピン外径とヒータ盤の貫通孔内径との間のクリアランスは、極めて小さい(例えば、十分の数ミリ程度である)。その結果、組み立て時の僅かな位置ズレ、ヒータ盤の熱膨張、又はごみ噛みにより、複数のピンが貫通孔につまって下降しない場合がある。即ち、特許文献1のラミネート装置には、被ラミネート体を保持する保持機構の下降阻害要因がある場合に、保持機構が下降できなくなる、という問題がある。
However, in consideration of suppressing the decrease in the effective heating area of the heater panel or suppressing the swing of the pin, the clearance between the outer diameter of the pin and the inner diameter of the through hole of the heater panel is extremely small (for example, sufficient Of several millimeters). As a result, there are cases where a plurality of pins are stuck in the through holes and do not descend due to slight misalignment during assembly, thermal expansion of the heater panel, or dust biting. That is, the laminating apparatus of
本発明は、このような観点に鑑みてなされたものである。本発明の解決しようとする課題は、保持機構の下降阻害要因があったとしても、保持機構を下降可能にすることである。 The present invention has been made in view of such a viewpoint. The problem to be solved by the present invention is to enable the holding mechanism to be lowered even if there is a factor that inhibits the lowering of the holding mechanism.
本発明の実施形態のラミネート装置は、被ラミネート体に対してラミネート加工を行う装置である。ラミネート装置は、上ケースと、上面が開放された内部空間を有する下ケースと、前記上ケースに取り付けられたダイアフラムと、貫通孔を有し、且つ、前記被ラミネート体を加熱するヒータ盤と、昇降可能な昇降板と、前記昇降板上に載置され、前記貫通孔を挿通するように設けられ、且つ、前記被ラミネート体を保持する保持機構と、前記昇降板を昇降させる昇降機構と、前記昇降機構が下降したときに、前記保持機構に対して下方に力を加えることにより、前記保持機構を下降させる下降機構と、を備える。 A laminating apparatus according to an embodiment of the present invention is an apparatus that performs a laminating process on an object to be laminated. The laminating apparatus includes an upper case, a lower case having an internal space with an open upper surface, a diaphragm attached to the upper case, a through hole, and a heater panel for heating the object to be laminated, An elevating plate that can be raised and lowered, a holding mechanism that is placed on the elevating plate and is inserted through the through hole, and that holds the object to be laminated; an elevating mechanism that raises and lowers the elevating plate; A lowering mechanism for lowering the holding mechanism by applying a downward force to the holding mechanism when the lifting mechanism is lowered.
本発明によれば、保持機構の下降阻害要因があったとしても、保持機構を下降させることができる。 According to the present invention, the holding mechanism can be lowered even if there is a factor that inhibits the lowering of the holding mechanism.
本実施形態について、図面を参照して説明する。 The present embodiment will be described with reference to the drawings.
本実施形態のラミネート装置の全体構成について説明する。図1は、本実施形態のラミネート装置100の全体構成を示す構成図である。図2は、本実施形態の図1のラミネート装置100の部分拡大図である。
The overall configuration of the laminating apparatus of this embodiment will be described. FIG. 1 is a configuration diagram showing the overall configuration of a
図1に示すように、ラミネート装置100は、被ラミネート体Mに対してラミネート加工を行う装置である。
As shown in FIG. 1, the
上ケース10には、内部空間の下面を水平方向(図1のH方向)に仕切るように、ダイアフラム31が装着される。ダイアフラム31と上ケース10の内壁面とで囲まれた空間には、上チャンバ13が形成される。例えば、ダイアフラム31の材料は、シリコン系材料やブチル系材料である。
A
上ケース10の側面又は上面には、上チャンバ13に連通するように、吸排気口32が設けられる。吸排気口32を介して、上チャンバ13内の真空引きと、上チャンバ13内への大気の導入と、が行われる。
An intake /
下ケース12は、上面が解放された内部空間を有する。この内部空間には、ヒータ盤7が設けられる。ヒータ盤7は、被ラミネート体Mを加熱する。例えば、ヒータ盤7は、アルミ製の金属板の内部にヒータが設けられたものである。ヒータ盤7には複数の貫通孔6が設けられる(図2(A)を参照)。
The
保持機構1は、ヒータ盤7の貫通孔6を挿通するように設けられる(図2(B)を参照)。保持機構1は、その上端面において、被ラミネート体M(例えば、太陽電池モジュール)を保持する。例えば、保持機構1は、円柱状の金属である。
The
保持機構1の下端は、昇降板35上に載置される。例えば、昇降板35は、厚さ25mmのアルミ板である。昇降板35の中央部の下面は、シリンダ37のピストンロッド38の先端に連結される。例えば、シリンダ37は、油圧式シリンダである。
The lower end of the
シリンダ37が稼働すると、ピストンロッド38が伸縮する。昇降板35は、ピストンロッド38の伸縮に応じて、V方向に昇降可能である。即ち、シリンダ37及びピストンロッド38は、昇降板35を昇降させる昇降機構である。例えば、ピストンロッド38が伸張すると、昇降板35は、V方向に上昇(即ち、V方向の矢印と同じ向きに移動)し、ピストンロッド38が短縮すると、昇降板35は、V方向に下降(即ち、V方向の矢印と反対向きに移動)する。昇降板35の昇降に応じて、保持機構1の上端面とヒータ盤7の表面との間の距離が変わる。昇降板35が上昇すると、保持機構1の上端面とヒータ盤7の表面との間の距離が長くなる。昇降板35が下降すると、保持機構1の上端面とヒータ盤7の表面との間の距離が短くなる。
When the
下ケース12の側面又は底面には、吸排気口39が設けられる。上ケース10と下ケース12とが密着した場合には、ダイアフラム31と下ケース12の内壁面とで囲まれた空間に、下チャンバ14が形成される。吸排気口39を介して、下チャンバ14内の真空引きと、下チャンバ14内への大気の導入と、が行われる。
An intake /
本実施形態の昇降機構の構成について説明する。図3は、本実施形態の昇降機構の側断面の部分拡大図である。 The structure of the raising / lowering mechanism of this embodiment is demonstrated. FIG. 3 is a partially enlarged view of a side cross section of the lifting mechanism of the present embodiment.
図3(A)及び(B)に示すように、保持機構1は、昇降板35に載置される。保持機構1の下部には、スナップピン3がピン溝1Aにはまることにより、第1下降部2(例えば、ワッシャ等の保持機構1に対する凸型部材)が設けられる。昇降板35には、第2下降部(例えば、押さえ部材)4が螺子止めされる。第2下降部4は、昇降板35と共に、V方向に昇降する。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the
貫通孔6の内壁と保持機構1との間には、内面が滑らかな直管6Aが設けられる。直管6Aにより、保持機構1は、滑らかに昇降することができる。即ち、直管6Aは、保持機構1の昇降を円滑化する昇降円滑化部材である。なお、直管6Aは省略可能である。
Between the inner wall of the through-
保持機構1は、着脱可能に構成される。例えば、スナップピン3がピン溝1Aから脱する程度の力で、貫通孔6を通して保持機構1をV方向に引き抜くと、第1下降部2を脱して、保持機構1を取り出すことができる。また、保持機構1の上端には、保持機構1を貫通孔6から引き抜くための螺子部1Bが切られる。ユーザは、螺子棒を用いて、この螺子部1Bを介して保持機構1を引き抜くこともできる。これにより、保持機構1及び貫通孔6のメンテナンス(例えば、保持機構1の下降阻害要因の解消)を容易に実行できる。
The
換言すると、第1下降部2、スナップピン3、及び第2下降部4は、下降機構を形成する。下降機構は、昇降機構が下降したときに、保持機構1に対して下方(V方向の矢印に対して逆方向)に力を加えることにより、保持機構1を強制的に下降させる。
In other words, the first lowering
本実施形態の昇降機構の動作について説明する。図4〜8は、本実施形態のラミネート加工における昇降機構の動作の説明図である。 The operation of the lifting mechanism of this embodiment will be described. 4-8 is explanatory drawing of operation | movement of the raising / lowering mechanism in the lamination process of this embodiment.
被ラミネート体Mがラミネート装置100の所定位置に搬入されると、シリンダ37が稼働する。シリンダ37が稼働すると、ピストンロッド38が伸張する。ピストンロッド38が伸張すると、図3(A)の破線矢印3aの方向に、昇降板35がV方向に上昇(即ち、V方向の矢印と同じ向きに移動)する。昇降板35が上昇すると、保持機構1が押し上げられる。保持機構1が押し上げられると、図4に示すように、保持機構1がヒータ盤7より突出した状態(以下「突出状態」という)になる。
When the object to be laminated M is carried into a predetermined position of the
突出状態になると、図5に示すように、被ラミネート体Mが、ヒータ盤7より上方に突出した保持機構1の上端に、載置される(即ち、被ラミネート体Mが、保持機構1の上端により保持される)。被ラミネート体Mが載置されると、次いで、図6に示すように、上ケース10が下降する。上ケース10の下端と下ケース12の上端とが密着するまで上ケース10が下降すると、ラミネート装置100が密閉状態になる。
In the protruding state, as shown in FIG. 5, the object to be laminated M is placed on the upper end of the
密閉状態になると、上チャンバ13内及び下チャンバ14内の真空引きが行われる。例えば、真空引きは、上チャンバ13内及び下チャンバ14内の圧力が0.7〜1.0Torrになるまで行われる。
When in a sealed state, evacuation is performed in the
次いで、シリンダ37が稼働する。シリンダ37が稼働すると、図4の破線矢印4aの方向に、昇降板35がV方向に下降(即ち、V方向の矢印と反対向きに移動)する。昇降板35が下降すると、図7に示すように、第2下降部4が、第1下降部2を強制的に押し下げながら、昇降板35と共に、図7の破線矢印7aの方向に下降(即ち、V方向の矢印と反対向きに移動)する。このとき、保持機構1の下降阻害要因(例えば、組み立て時の僅かな位置ズレ、ヒータ盤7の熱膨張、及びごみ噛みの少なくとも1つ)があったとしても、第1下降部2が強制的に押し下げられるので、保持機構1は、第1下降部2と共に、押し下げられる。
Next, the
次いで、図8に示すように、保持機構1の上端により保持されていた被ラミネート体Mが、ヒータ盤7の上面に接触した状態(以下「接触状態」という)になる。
Next, as shown in FIG. 8, the laminated body M held by the upper end of the
接触状態になると、被ラミネート体Mが加熱され、内部の封止材が溶融される。 If it will be in a contact state, the to-be-laminated body M will be heated and an internal sealing material will be fuse | melted.
次いで、吸排気口32を介して、上チャンバ13内に大気が導入される。上チャンバ13内に大気が導入されると、ダイアフラム31が下方(V方向の矢印の反対方向)に膨張する。ダイアフラム31が膨張すると、被ラミネート体Mは、膨張したダイアフラム31により狭圧封止される。これにより、被ラミネート体Mに対するラミネート加工完了する。
Next, the atmosphere is introduced into the
次いで、ラミネート装置100内の圧力が大気圧になるまで、吸排気口32及び39を介して、上チャンバ13内及び下チャンバ14内の空気を排出する。
Next, the air in the
こうしてラミネート加工が完了すると、上ケース10と下ケース12が離開し、被ラミネート体Mがラミネート装置100から搬出される。
When the laminating process is thus completed, the
本実施形態によれば、昇降板35が下降すると、第2下降部4が、第1下降部2に対して下方(即ち、V方向の矢印と反対向き)に力を加えながら(即ち、第1下降部2を強制的に押し下げながら)下降する。これにより、図4の状態(即ち、保持機構1がヒータ盤7より突出した状態)において、保持機構1の下降阻害要因があったとしても、保持機構1を下降させることができる。
According to this embodiment, when the elevating
本実施形態の比較例について説明する。図9〜11は、本実施形態の比較例のラミネート加工における昇降機構の動作の説明図である。 A comparative example of this embodiment will be described. 9-11 is explanatory drawing of operation | movement of the raising / lowering mechanism in the lamination process of the comparative example of this embodiment.
図9に示すように、図3(A)及び(B)の第1下降部2、スナップピン3、及び第2下降部4に相当する部材が設けられていない。
As shown in FIG. 9, members corresponding to the
保持機構1´は、昇降板35´に載置される。保持機構1´は、ヒータ盤7´に穿設された貫通孔6´を通じて、ヒータ盤7´を貫通するように設けられる。保持機構1´は、昇降板35´が昇降すると、昇降板35´と共に昇降するように構成される。
The
昇降板35´が上昇すると、保持機構1´は、昇降板35´と共に上昇し、保持機構1´の上端がヒータ盤7´の上面より突き出した状態(突出状態)となる(図10を参照)。
When the elevating
一方、保持機構1´の下降阻害要因がある場合には、昇降板35´が下降したとしても、保持機構1´は下降しない。その結果、保持機構1´の下端と昇降板35´の上面とが離れた状態となる(図11を参照)。
On the other hand, when there is a factor that inhibits the lowering of the
これに対して、本実施形態によれば、上述のとおり、昇降板35が下降すると、保持機構1に設けられた第2下降部4が、第1下降部2を強制的に押し下げながら下降するので、保持機構1の下降阻害要因があったとしても、保持機構1を下降させることができる。
On the other hand, according to the present embodiment, as described above, when the elevating
なお、本実施形態では、下降機構が、第1下降部2、スナップピン3、及び第2下降部4によって形成される例について説明したが、本発明の範囲は、これに限られるものではない。例えば、下降機構は、保持機構1を挟持しながら下方に力を加える機構であっても良いし、保持機構1の下端以外の部分(例えば、上端)に対して下方に力を加える機構であっても良いし、非接触手段(例えば、磁力)を用いて保持機構に対して下方に力を加える機構であっても良い。
In the present embodiment, the example in which the lowering mechanism is formed by the first lowering
また、本実施形態では、第1下降部2が保持機構1に対する凸型部材である例について説明したが、本発明の範囲は、これに限られるものではない。例えば、第1下降部2は、保持機構1に対する凹型部材(例えば、保持機構1の側面に掘られた溝)であり、第2下降部4は、凹型部材に対して下方に力を加えても良い。
In the present embodiment, the example in which the first lowering
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化される。また、上述した実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明が形成可能である。例えば、上述した実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。 In addition, this invention is not limited to embodiment mentioned above, It deform | transforms and implements a component in the range which does not deviate from the summary. Various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of constituent elements disclosed in the above-described embodiments. For example, you may delete a some component from all the components shown by embodiment mentioned above. Furthermore, constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.
1 保持機構
1A ピン溝
1B 螺子部
2 第1下降部
3 スナップピン
4 第2下降部
6 貫通孔
6A 直管
7 ヒータ盤
10 上ケース
12 下ケース
13 上チャンバ
14 下チャンバ
31 ダイアフラム
32,39 吸排気口
35 昇降板
37 シリンダ
38 ピストンロッド
100 ラミネート装置
M 被ラミネート体
DESCRIPTION OF
Claims (6)
上ケースと、
上面が開放された内部空間を有する下ケースと、
前記上ケースに取り付けられたダイアフラムと、
貫通孔を有し、且つ、前記被ラミネート体を加熱するヒータ盤と、
昇降可能な昇降板と、
前記昇降板上に載置され、前記貫通孔を挿通するように設けられ、且つ、前記被ラミネート体を保持する保持機構と、
前記昇降板を昇降させる昇降機構と、
前記昇降機構が下降したときに、前記保持機構に対して下方に力を加えることにより、前記保持機構を下降させる下降機構と、を備えることを特徴とするラミネート装置。 A laminating apparatus that performs laminating on a material to be laminated,
Upper case,
A lower case having an internal space with an open upper surface;
A diaphragm attached to the upper case;
A heater panel that has a through hole and that heats the object to be laminated;
A lifting plate that can be raised and lowered;
A holding mechanism mounted on the elevating plate, provided so as to be inserted through the through-hole, and holding the laminated body;
An elevating mechanism for elevating the elevating plate;
And a lowering mechanism for lowering the holding mechanism by applying a downward force to the holding mechanism when the lifting mechanism is lowered.
前記保持機構に設けられた第1下降部と、
前記第1下降部に対して下方に力を加える第2下降部と、を備える、請求項1に記載のラミネート装置。 The lowering mechanism is
A first descending portion provided in the holding mechanism;
The laminating apparatus according to claim 1, further comprising: a second descending portion that applies a downward force to the first descending portion.
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